JP7340437B2 - Private cleaning device and flush toilet - Google Patents

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Description

本開示は、局部洗浄装置及びこれを備えた水洗便器に関する。 The present disclosure relates to a private parts cleaning device and a flush toilet equipped with the same.

従来、水洗便器には、用便後に局部を洗浄するための局部洗浄装置を備えたものがある。局部洗浄装置は、リモコン操作などに応じ、ノズル開口部を通じて便器本体の内側とケーシング(カバーケース)及びノズルカバーの間で進退・出没する局部洗浄ノズルを備えている(例えば、特許文献1参照)。そして、例えば、局部洗浄ノズルが進出とともにノズル開口部を開閉するシャッタを押圧傾動させて開き、便器本体の内側に進出した局部洗浄ノズルの先端部から洗浄水が吐出することによって局部を洗浄することができる。 Conventionally, some flush toilets are equipped with a private parts cleaning device for cleaning private parts after using the toilet. The private parts cleaning device includes a private part cleaning nozzle that moves forward and backward between the inside of the toilet bowl body, a casing (cover case), and a nozzle cover through a nozzle opening in response to remote control operation (for example, see Patent Document 1). . For example, as the private parts cleaning nozzle advances, a shutter that opens and closes the nozzle opening is pressed and tilted to open, and the private parts are cleaned by discharging cleansing water from the tip of the private parts cleaning nozzle that has advanced inside the toilet bowl body. I can do it.

特開2016-37763号公報Japanese Patent Application Publication No. 2016-37763

しかしながら、上記従来の水洗便器においては、シャッタに汚れが発生した場合に、拭き掃除などを行ってシャッタをきれいにするという手間と労力が必要になる。 However, in the above-mentioned conventional flush toilet bowl, when dirt occurs on the shutter, it is necessary to take time and effort to clean the shutter by wiping it.

本開示の局部洗浄装置の一態様は、退避状態においてケーシングに収納され、前記ケーシングに設けられたノズル開口部を通じて前方に進出した状態において先端部から局部用の洗浄水を吐出する局部洗浄ノズルと、前記ノズル開口部を開閉し、前記ノズル開口部を開くと、自身の少なくとも一部が前記ケーシングの内部に引き込まれるシャッタと、前記ケーシングの内部に設けられ、前記ケーシングの内部に引き込まれた前記シャッタの少なくとも一部を対象としたクリーニングを実行するクリーニング機構と、を備える構成とした。 One aspect of the private part cleaning device of the present disclosure includes a private part cleaning nozzle that is housed in a casing in a retracted state and discharges private part cleansing water from a tip part in a state that advances forward through a nozzle opening provided in the casing. a shutter that is provided inside the casing and that is drawn into the casing; The present invention is configured to include a cleaning mechanism that performs cleaning on at least a portion of the shutter.

本開示の水洗便器の一態様は、上記の一態様の局部洗浄装置を備える構成とした。 One embodiment of the flush toilet of the present disclosure is configured to include the private part cleaning device of one embodiment described above.

なお、本開示において、「クリーニング」とは、例えば局部洗浄装置を普通に使用する上で「きれいな状態にする動作」を意味する。 Note that in the present disclosure, "cleaning" means, for example, "an operation to clean the private parts cleaning device" in normal use.

一実施形態の水洗便器を示す斜視図である。It is a perspective view showing a flush toilet of one embodiment. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す側面図であり、シャッタがノズル開口部を閉じた状態を示す図である。FIG. 2 is a side view showing the private part cleaning device for a flush toilet according to one embodiment, and is a diagram showing a state in which a shutter closes a nozzle opening. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す側面図であり、シャッタがノズル開口部を開いた状態を示す図である。FIG. 2 is a side view showing a private part cleaning device for a flush toilet according to an embodiment, and is a diagram showing a state in which a shutter opens a nozzle opening. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す上方側からの斜視図であり、ノズル開口部を開き、シャッタ収納部に収納されたシャッタを洗浄している状態を示す図である。FIG. 2 is a perspective view from above showing the private part cleaning device for a flush toilet according to one embodiment, and is a view showing a state in which the nozzle opening is opened and the shutter stored in the shutter storage section is being cleaned. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す上方側からの斜視図であり、ノズル開口部を閉じたシャッタの裏面を洗浄している状態を示す図である。It is a perspective view from the upper side which shows the private part washing device of the flush toilet of one embodiment, and is a figure showing the state where the back side of the shutter with the nozzle opening closed is being washed. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す前方側からの斜視図であり、ノズル開口部をシャッタで閉じた状態を示す図である。FIG. 2 is a perspective view from the front side showing a private part cleaning device for a flush toilet according to an embodiment, and is a view showing a state in which a nozzle opening is closed with a shutter. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す前方側からの斜視図であり、シャッタを開動してノズル開口部を徐々に開いた状態、及びこの開動時にシャッタを洗浄している状態を示す図である。FIG. 2 is a perspective view from the front side showing a private part washing device for a flush toilet according to an embodiment, and shows a state in which the shutter is opened to gradually open the nozzle opening, and a state in which the shutter is being cleaned during this opening movement. It is. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す前方側からの斜視図であり、シャッタを開動してノズル開口部を徐々に開いた状態、及びこの開動時にシャッタを洗浄している状態を示す図である。FIG. 2 is a perspective view from the front side showing a private part washing device for a flush toilet according to an embodiment, and shows a state in which the shutter is opened to gradually open the nozzle opening, and a state in which the shutter is being cleaned during this opening movement. It is. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す前方側からの斜視図であり、シャッタを開動してシャッタ収納部に収納した状態を示す図である。FIG. 2 is a perspective view from the front side showing the private part cleaning device for the flush toilet according to one embodiment, and is a view showing a state in which the shutter is opened and stored in the shutter storage section. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置のガイド部、及びガイド部で案内されるシャッタの移動軌跡を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a guide section of a private part cleaning device for a flush toilet according to an embodiment, and a movement locus of a shutter guided by the guide section. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置のガイド部、及びガイド部で案内されるシャッタの円弧状の移動軌跡を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a guide portion of a private part cleaning device for a flush toilet according to an embodiment, and an arcuate locus of movement of a shutter guided by the guide portion. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す上方側からの斜視図であり、ノズル開口部を開き、シャッタ収納部に収納されたシャッタを洗浄している状態を示す図である。FIG. 2 is a perspective view from above showing the private part cleaning device for a flush toilet according to one embodiment, and is a view showing a state in which the nozzle opening is opened and the shutter stored in the shutter storage section is being cleaned. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置を示す側面図であり、ノズル開口部を開き、シャッタ収納部に収納されたシャッタを洗浄している状態を示す図である。FIG. 2 is a side view showing the private part cleaning device for a flush toilet according to one embodiment, and is a view showing a state in which the nozzle opening is opened and the shutter stored in the shutter storage section is being cleaned. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置の変更例を示す前方側からの斜視図である。It is a perspective view from the front side showing a modification of the private part cleaning device of the flush toilet of one embodiment. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置の変更例を示す上方側からの斜視図である。It is a perspective view from the upper side which shows the example of a change of the private part cleaning device of the flush toilet of one embodiment. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置の変更例を示す前方側からの斜視図である。It is a perspective view from the front side showing a modification of the private part cleaning device of the flush toilet of one embodiment. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置の変更例を示す上方側からの斜視図である。It is a perspective view from the upper side which shows the example of a change of the private part cleaning device of the flush toilet of one embodiment. 一実施形態の水洗便器の局部洗浄装置の変更例を示す側面図である。It is a side view which shows the example of a change of the private parts washing|cleaning device of the flush toilet of one Embodiment.

以下、図1から図17を参照し、本開示の一実施形態に係る局部洗浄装置及びこれを備えた水洗便器について説明する。ここで、本実施形態では、便器に着座した使用者から見た場合の前後の向きを前後方向、左右の向きを幅方向、上下の向きを上下方向として説明を行う。 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A private parts cleaning device and a flush toilet equipped with the same according to an embodiment of the present disclosure will be described below with reference to FIGS. 1 to 17. Here, in the present embodiment, the description will be given assuming that the front-rear direction is the front-back direction, the left-right direction is the width direction, and the up-down direction is the up-down direction when viewed from a user sitting on the toilet bowl.

本実施形態の水洗便器1は、図1に示すように、便器本体4と、便器本体4の前後方向T1の後部側に設けられ、例えば使用者によるリモコン操作を検知して便器本体4内に洗浄水を吐出させる洗浄機能部10と、便座11a、便蓋11bと、用便後に局部を洗浄するための局部洗浄装置2と、を備えて構成されている。 As shown in FIG. 1, the flush toilet 1 of this embodiment is provided with a toilet main body 4 and the rear side of the toilet main body 4 in the front-rear direction T1, and for example, detects a remote control operation by a user and flushes the inside of the toilet main body 4. It is configured to include a cleaning function section 10 that discharges cleaning water, a toilet seat 11a, a toilet lid 11b, and a private parts cleaning device 2 for cleaning private parts after using the toilet.

便器本体4は、便鉢のボウル部4aと、ボウル部4aの上部に設けられ、便器本体4の内側に突出しつつ外周縁を形成するリム部4bと、を備えて形成されている。 The toilet bowl main body 4 is formed to include a bowl portion 4a of the toilet bowl, and a rim portion 4b that is provided on the upper part of the bowl portion 4a and forms an outer peripheral edge while protruding inside the toilet bowl main body 4.

洗浄機能部10は、便器本体4の後部側に設けられ、且つケーシング(カバーケース)5内に収容して設けられている。洗浄機能部10は、例えばリモコン操作によって洗浄水流路を開閉制御するコントロールバルブ、電磁バルブなどの開閉弁を備え、この開閉弁によって便器本体4のリム部4bに洗浄水を流すリム吐水、便器本体4のボウル部4a、封水部4cに洗浄水を流すジェット吐水の切替、吐水流量の制御が行えるように構成されている。 The cleaning function section 10 is provided on the rear side of the toilet main body 4 and housed within a casing (cover case) 5. The cleaning function unit 10 includes an on-off valve such as a control valve or an electromagnetic valve that controls opening and closing of a wash water flow path by remote control operation, and a rim spout that flows wash water into the rim portion 4b of the toilet main body 4 by the on-off valve, and a toilet main body. It is configured such that the jet water discharging for flowing cleaning water into the bowl portion 4a and the water sealing portion 4c of No. 4 can be switched and the flow rate of the water spouted can be controlled.

便座11a及び便蓋11bはそれぞれ、ケーシング5に着脱可能に接続し、幅方向T2に延びる回動軸O1周り(上下方向)に回動自在に設けられている。 The toilet seat 11a and the toilet lid 11b are each removably connected to the casing 5 and are rotatably provided around a rotation axis O1 extending in the width direction T2 (up and down direction).

局部洗浄装置2は、図1、図2、図3に示すように、洗浄機能部10とともにケーシング5の内部に収納して設けられ、例えばリモコン操作によって便器本体4内に進出(出没)する局部洗浄ノズル7と、ケーシング5に設けられたノズル開口部3を開閉し、汚物、洗浄水の飛沫などが局部洗浄ノズル7にかかったり、内部に入り込むことを防止するためのシャッタ12と、を備えている。 As shown in FIGS. 1, 2, and 3, the private parts cleaning device 2 is housed inside a casing 5 together with a cleaning function unit 10, and is provided with a private part cleaning device 2 that moves into (or out of) the toilet main body 4 by remote control operation, for example. It includes a cleaning nozzle 7 and a shutter 12 for opening and closing the nozzle opening 3 provided in the casing 5 to prevent dirt, splashes of cleaning water, etc. from getting on the private cleaning nozzle 7 or entering inside. ing.

より具体的に、本実施形態の局部洗浄装置2は、ケーシング5のベース5aの前側の左右中央に配置されたノズルユニット13と、局部を洗浄するための温水をノズルユニット13に供給する温水供給ユニットと、温風によって洗浄後の局部を乾燥させるための温風乾燥ユニット(温風乾燥機構)と、脱臭ユニット(脱臭機構)と、を備えている。 More specifically, the private parts cleaning device 2 of the present embodiment includes a nozzle unit 13 arranged in the left and right center of the front side of the base 5a of the casing 5, and a hot water supply unit that supplies hot water to the nozzle unit 13 for cleaning private parts. unit, a warm air drying unit (warm air drying mechanism) for drying a private part after washing with hot air, and a deodorizing unit (deodorizing mechanism).

ノズルユニット13は、肛門洗浄用ノズル及びビデ用ノズルの一対の局部洗浄ノズル7と、一対の局部洗浄ノズル7を内包するノズルカバー6と、を備えている。本実施形態の一対の局部洗浄ノズル7は、前方に向かうに従い漸次下方に傾斜し、互いに軸線O2方向を同方向に向けて平行に配設されている。各局部洗浄ノズル7は、下方に位置する先端部に局部洗浄用の洗浄水を吐出する吐出孔16を備え、後端側から供給されて内部を流通した局部洗浄用の洗浄水が吐出孔16から所定の方向に吐出するように構成されている。 The nozzle unit 13 includes a pair of private part cleaning nozzles 7, which are an anus cleaning nozzle and a bidet nozzle, and a nozzle cover 6 containing the pair of private part cleaning nozzles 7. The pair of private part cleaning nozzles 7 of this embodiment are arranged in parallel with each other with their axes O2 facing in the same direction, and are gradually inclined downward toward the front. Each private part cleaning nozzle 7 is provided with a discharge hole 16 for discharging cleansing water for private part cleansing at the tip located below, and the cleansing water for private part cleansing that is supplied from the rear end side and circulated inside the discharge hole 16. It is configured to eject in a predetermined direction.

一対の局部洗浄ノズル7はそれぞれ、略円柱棒状に形成され、ベース5aの前面中央に形成されたノズル開口部3に対し、軸線O2方向(前方に向かうに従い漸次下方に傾斜する方向)に進退自在に設けられている。これら一対の局部洗浄ノズル7はそれぞれ、洗浄時にノズル開口部3から前方に進出して便器本体4の内側に突出し、洗浄後にノズル開口部3を通じてノズルカバー6及びケーシング5内に退避して保持される。 Each of the pair of local cleaning nozzles 7 is formed into a substantially cylindrical rod shape, and can move forward and backward in the direction of the axis O2 (a direction that gradually slopes downward as it goes forward) with respect to the nozzle opening 3 formed at the center of the front surface of the base 5a. It is set in. Each of these pair of private part cleaning nozzles 7 advances forward from the nozzle opening 3 and projects inside the toilet main body 4 during cleaning, and after cleaning, retreats through the nozzle opening 3 into the nozzle cover 6 and the casing 5 and is held there. Ru.

例えば、一対の局部洗浄ノズル7はそれぞれ個別に、ノズル進退機構によって軸線O2方向に進退する。本実施形態のノズル進退機構は、ラックとピニオンとモータとを備え、各局部洗浄ノズル7の下面にラックを一体に設け、このラックをモータの回転軸に取り付けたピニオンに噛合して構成されている。 For example, the pair of private part cleaning nozzles 7 are individually moved forward and backward in the direction of the axis O2 by a nozzle movement mechanism. The nozzle advancing/retracting mechanism of this embodiment includes a rack, a pinion, and a motor, and is constructed by integrally providing a rack on the lower surface of each local cleaning nozzle 7, and meshing this rack with a pinion attached to the rotating shaft of the motor. There is.

これにより、リモコン操作などに応じてモータ及びピニオンが一方向に回転すると、局部洗浄ノズル7が軸線O2方向前方に進出移動し、ノズル開口部3を通じて便器本体4の内側に突出する。リモコン操作などに応じてモータ及びピニオンが他方向に回転すると、局部洗浄ノズル7が軸線O2方向後方であり、ケーシング5の内側に退避移動し、ノズル開口部3を通じて局部洗浄ノズル7がノズルカバー6及びケーシング5内に収容される。 As a result, when the motor and pinion rotate in one direction in response to a remote control operation or the like, the private part cleaning nozzle 7 moves forward in the direction of the axis O2 and projects into the inside of the toilet main body 4 through the nozzle opening 3. When the motor and pinion rotate in the other direction in response to remote control operation, etc., the private part cleaning nozzle 7 is located at the rear in the direction of the axis O2 and moves to the inside of the casing 5, and the private part cleaning nozzle 7 is connected to the nozzle cover 6 through the nozzle opening 3. and housed in the casing 5.

局部洗浄装置2は、シャッタユニット20を備え、シャッタユニット20には、一対の局部洗浄ノズル7がケーシング5内に退避した状態でノズル開口部3を閉じて(図2参照)、汚物、洗浄水の飛沫などが局部洗浄ノズル7にかかったり、内部に入り込むことを防止し、局部洗浄ノズル7が進出する際にノズル開口部3を開く(図3参照)シャッタ12が具備されている。 The private parts cleaning device 2 includes a shutter unit 20, in which a pair of private parts cleaning nozzles 7 are retracted into the casing 5 and the nozzle openings 3 are closed (see FIG. 2) to remove dirt and cleaning water. A shutter 12 is provided to prevent droplets from splashing onto the private part cleaning nozzle 7 or entering the inside thereof, and to open the nozzle opening 3 when the private part cleaning nozzle 7 advances (see FIG. 3).

本実施形態のシャッタユニット20は、図2から図9に示すように、ケーシング5に設けられ、例えば、ラックとピニオンとモータを備えたシャッタ進退機構によって局部洗浄ノズル7の軸線O2方向に沿う略前後方向T1に進退する進退部材21と、ヒンジ22によって進退部材21の先端部側に回転自在に接続されたシャッタ12と、ケーシング5の内部に設けられ、進退部材21とともに後退したシャッタ12を収納するシャッタ収納部23と、シャッタ収納部23に一体に設けられたクリーニング機構24と、を備えて構成されている。 As shown in FIGS. 2 to 9, the shutter unit 20 of the present embodiment is provided in the casing 5, and is moved approximately along the axis O2 direction of the private part cleaning nozzle 7 by a shutter movement mechanism including, for example, a rack, a pinion, and a motor. A reciprocating member 21 that moves back and forth in the front-back direction T1, a shutter 12 rotatably connected to the tip end of the retracting member 21 by a hinge 22, and a shutter 12 that is provided inside the casing 5 and retreats together with the retracting member 21 is housed. The cleaning mechanism 24 is provided integrally with the shutter storage section 23.

本実施形態の進退部材21は、第1進退部材21aと第2進退部材21bとからなり、シャッタ進退機構の駆動によって局部洗浄ノズル7の軸線O2方向に沿って進退する第1進退部材21aの先端部に第2進退部材21bの後端部を回転可能にピン接続して構成されている。進退部材21は、第2進退部材21bの先端部をヒンジ22によってシャッタ12の後端部の幅方向T2中央に回転可能に接続して配設されている。 The advancing/retracting member 21 of this embodiment is composed of a first advancing/retracting member 21a and a second advancing/retracting member 21b, and the tip of the first advancing/retracting member 21a moves back and forth along the axis O2 direction of the private part cleaning nozzle 7 by driving the shutter advancing/retracting mechanism. The rear end portion of the second reciprocating member 21b is rotatably connected to the rear end portion by a pin. The advancing/retracting member 21 is arranged such that the tip of the second advancing/retracting member 21b is rotatably connected to the center of the rear end of the shutter 12 in the width direction T2 by a hinge 22.

シャッタ進退機構は、例えば、ラックとピニオンとモータとを備え、第1進退部材21aにラックを一体に設け、ラックをモータの回転軸に取り付けたピニオンに噛合して構成されている。なお、本実施形態のシャッタユニット20は、シャッタ進退機構が故障などした場合であっても、ノズル7が進出してシャッタ12を押圧するなどしてシャッタ12を開動可能に構成されていることが好ましい。 The shutter advancing/retracting mechanism includes, for example, a rack, a pinion, and a motor, and is constructed by integrally providing the rack with the first advancing/retracting member 21a, and meshing the rack with a pinion attached to the rotating shaft of the motor. Note that the shutter unit 20 of the present embodiment is configured such that even if the shutter advancing/retracting mechanism malfunctions, the nozzle 7 can advance and press the shutter 12 to open the shutter 12. preferable.

これにより、リモコン操作などに応じてモータ及びピニオンが一方向に回転すると、図9、図8、図7、図6の順で示すように、第1進退部材21aが軸線O2方向前方に進出移動し、第1進退部材21aにピン接続した第2進退部材21bが進出移動し、シャッタ収納部23からシャッタ12が外側に押し出されるとともに幅方向T2に延びる回動軸O3周りに回動してノズル開口部3を閉じる。 As a result, when the motor and pinion rotate in one direction in response to remote control operation, the first advancing/retracting member 21a moves forward in the direction of the axis O2, as shown in the order of FIGS. 9, 8, 7, and 6. Then, the second advancing/retracting member 21b pin-connected to the first advancing/retracting member 21a advances and moves, and the shutter 12 is pushed out from the shutter storage portion 23 and rotates around the rotation axis O3 extending in the width direction T2, thereby opening the nozzle. Close opening 3.

リモコン操作などに応じてモータ及びピニオンが他方向に回転すると、図6、図7、図8、図9の順で示すように、第1進退部材21aが軸線O2方向後方に退避移動し、第1進退部材21aにピン接続した第2進退部材21bが退避移動し、シャッタ12が幅方向T2に延びる回動軸O3周りに回動しつつシャッタ収納部23の内部に引き込まれて収納される。 When the motor and pinion rotate in the other direction in response to remote control operation, the first retractable member 21a retracts backward in the axis O2 direction, as shown in the order of FIGS. 6, 7, 8, and 9. The second advancing/retracting member 21b pin-connected to the first advancing/retracting member 21a is retracted, and the shutter 12 is drawn into and stored in the shutter storage portion 23 while rotating around a rotation axis O3 extending in the width direction T2.

本実施形態において、シャッタ12は、図5、図9に示すように、シャッタ収納部23に引き込まれて収容した状態で、局部洗浄ノズル7の軸線O2方向に沿うように、表面12aを上方に、裏面を下方にそれぞれ向けて配設される。 In this embodiment, as shown in FIGS. 5 and 9, the shutter 12 is pulled in and housed in the shutter housing 23, with its surface 12a facing upward along the axis O2 direction of the private part cleaning nozzle 7. , are arranged with their backs facing downward.

ここで、シャッタ進退機構は、図10に示すように、シャッタ12の開閉移動(や第2進退部材21bの進退移動)をガイドするガイド部25を備えることが好ましい。 Here, as shown in FIG. 10, the shutter advancing/retracting mechanism preferably includes a guide portion 25 that guides the opening/closing movement of the shutter 12 (and the advancing/retracting movement of the second advancing/retracting member 21b).

図11に示すように、シャッタ12の開閉移動(や第2進退部材21bの進退移動)をガイドするガイド部25を円弧状(円弧(及び直線)の組合せ)に形成し、シャッタ12(第2進退部材21b)の移動軌跡を円弧状(円弧(及び直線)の組合せ)としてもよい。なお、本実施形態のガイド部25は、シャッタ12の回動軸(回動軸O3)の移動をガイドするように構成されている。言い換えれば、本実施形態では、ガイド部25がシャッタ12の回動ではない移動をガイドするように構成されている。 As shown in FIG. 11, the guide portion 25 that guides the opening/closing movement of the shutter 12 (and the forward/backward movement of the second advancing/retracting member 21b) is formed in an arc shape (a combination of circular arcs (and straight lines)), and the shutter 12 (the second The moving locus of the advancing/retracting member 21b) may be arcuate (a combination of arcs (and straight lines)). Note that the guide portion 25 of this embodiment is configured to guide the movement of the rotation axis (rotation axis O3) of the shutter 12. In other words, in this embodiment, the guide portion 25 is configured to guide the movement of the shutter 12 rather than its rotation.

シャッタ進退機構は、進退部材21を進出させてシャッタ収納部23からシャッタ12を外側に押し出すとともに、シャッタ12の表面12aを押圧し、ノズル開口部3を閉じた閉状態(閉姿勢)でシャッタ12を保持するシャッタ閉保持機構を備えている。なお、シャッタ閉保持機構は、例えば、バネによってシャッタ12を閉状態に保持するように構成してもよく、特にその構成を限定する必要はない。必ずしもシャッタ12を閉状態でしっかりと強固に保持しなくてもよい。 The shutter advancing/retracting mechanism advances the advancing/retracting member 21 to push the shutter 12 outward from the shutter housing 23, and also presses the surface 12a of the shutter 12 to keep the shutter 12 in the closed state (closed posture) with the nozzle opening 3 closed. The camera is equipped with a shutter-closing mechanism that holds the shutter closed. Note that the shutter closing holding mechanism may be configured to hold the shutter 12 in the closed state using, for example, a spring, and there is no particular need to limit its configuration. The shutter 12 does not necessarily need to be firmly and firmly held in the closed state.

一方、本実施形態のクリーニング機構24は、図12及び図13(図4から図9)に示すように、シャッタ収納部23の上部に一体に設けられ、シャッタ収納空間を形成するシャッタ収納部23の内面に開口する複数の吐出口26と、複数の吐出口26に連通し、シャッタクリーニング用の洗浄水W1を給送する洗浄水流路27と、洗浄水流路27にホースなどを接続して洗浄水W1を供給する洗浄水供給手段と、を備えて構成されている。 On the other hand, as shown in FIGS. 12 and 13 (FIGS. 4 to 9), the cleaning mechanism 24 of this embodiment is provided integrally with the upper part of the shutter storage section 23, and forms a shutter storage space. A plurality of discharge ports 26 open to the inner surface of the shutter, a cleaning water channel 27 communicating with the plurality of discharge ports 26 and supplying cleaning water W1 for shutter cleaning, and a hose or the like connected to the cleaning water channel 27 for cleaning. A cleaning water supply means for supplying water W1.

本実施形態では、複数の吐出口26が幅方向T2に所定の間隔をあけてシャッタ収納部23の一側端から他側端まで整列して配設されている。 In this embodiment, the plurality of discharge ports 26 are arranged in a line from one end of the shutter storage section 23 to the other end at a predetermined interval in the width direction T2.

上記のように構成したクリーニング機構24は、例えば、シャッタ収納部23のシャッタ収納空間にシャッタ12が収納されると、自動的に洗浄水供給手段が駆動し、洗浄水流路27を通じて複数の吐出口26からシャッタクリーニング用の洗浄水W1が吐出される。 In the cleaning mechanism 24 configured as described above, for example, when the shutter 12 is stored in the shutter storage space of the shutter storage section 23, the cleaning water supply means is automatically driven, and the cleaning water supplying means is automatically driven to provide a plurality of discharge ports through the cleaning water flow path 27. Washing water W1 for shutter cleaning is discharged from 26.

そして、図4、図12、図13に示すように、吐出した洗浄水W1が、シャッタ12の上方を向く表面12aの略全面をシャッタ12の後端部側から先端部に向けて流れ、さらに、シャッタ12の下方を向く裏面12bの略全面に対してもシャッタ12の後端部側から先端部に向けて流れることにより、シャッタ12に付着した飛沫(汚物や洗浄水の飛沫)などが取り除かれ、シャッタ12をきれいにすることができる。 As shown in FIGS. 4, 12, and 13, the discharged cleaning water W1 flows over substantially the entire surface 12a facing upward of the shutter 12 from the rear end of the shutter 12 toward the front end, and further By flowing from the rear end of the shutter 12 toward the front end of almost the entire surface of the back surface 12b facing downward of the shutter 12, droplets (dirt and washing water droplets) adhering to the shutter 12 are removed. This allows the shutter 12 to be cleaned.

このとき、シャッタ12が収納された状態において、表面12aが前方に向かうに従い下方に傾斜していることによって、洗浄水W1が表面12a上を流れやすくなっている。シャッタ12の裏面12bとシャッタ収納部23の下面との間に所定の間隔の隙間が形成されていることにより、裏面12bに洗浄水W1を接触させて流すことができる。
これにより、シャッタの表面及び裏面の略全面を、クリーニング機構24から吐出した洗浄水W1によってきれいにすることができる。
At this time, in the state in which the shutter 12 is housed, the surface 12a is inclined downward as it goes forward, so that the cleaning water W1 easily flows on the surface 12a. By forming a gap at a predetermined interval between the back surface 12b of the shutter 12 and the lower surface of the shutter storage portion 23, the cleaning water W1 can be brought into contact with the back surface 12b and flowed.
Thereby, substantially the entire front and back surfaces of the shutter can be cleaned with the cleaning water W1 discharged from the cleaning mechanism 24.

なお、使用者の洗浄操作ボタンなどを操作することによって任意のタイミングで洗浄水W1を吐出し、シャッタ12をクリーニングするように構成してもよい。シャッタクリーニング用の洗浄水W1は、シャッタ12をクリーニングすることが可能な液体であれば、特に限定する必要はなく、水だけでなく、例えば、次亜塩素酸水やオゾン水、界面活性剤含有水など、殺菌(滅菌)剤や洗剤を含む水、液体などであってもよい。さらにこれらの組合せであってもよい。 Note that the shutter 12 may be configured to be cleaned by discharging the cleaning water W1 at an arbitrary timing by operating a cleaning operation button or the like by the user. The cleaning water W1 for shutter cleaning does not need to be particularly limited as long as it is a liquid that can clean the shutter 12, and includes not only water but also hypochlorous acid water, ozone water, surfactant-containing water, etc. Water or a liquid containing a disinfectant (sterilizing agent) or a detergent may be used. Furthermore, a combination of these may be used.

一方、クリーニング機構24は、図4、図5に示すように、シャッタ収納部23に収納した状態で、シャッタ12の表面12aに洗浄水W1を吐出して表面12aをきれいにし、シャッタ収納部23からシャッタ12を引き出した状態で、シャッタ12の裏面12bに洗浄水W1を吐出して裏面12bをきれいにするように構成してもよい。 On the other hand, as shown in FIG. 4 and FIG. It may be configured such that the cleaning water W1 is discharged onto the back surface 12b of the shutter 12 to clean the back surface 12b while the shutter 12 is pulled out from the shutter 12.

クリーニング機構24は、図6から図9に示すように、シャッタ収納部23からシャッタ12を押し出した閉姿勢の状態からシャッタ進退機構の駆動によってシャッタ収納部23にシャッタ12を引き込んで開姿勢の状態に移動する間に、あるいは開姿勢から閉姿勢に移動する間に、シャッタ12の動作、姿勢に応じてシャッタ12の表面12aに洗浄水W1を吐出し、シャッタ12の表面12a、裏面12bを順にきれいにするように構成してもよい。 As shown in FIGS. 6 to 9, the cleaning mechanism 24 moves the shutter 12 from the closed position in which it is pushed out from the shutter storage part 23 to the open position by retracting the shutter 12 into the shutter storage part 23 by driving the shutter advance/retraction mechanism. While moving from the open position to the closed position, the cleaning water W1 is discharged onto the front surface 12a of the shutter 12 according to the operation and posture of the shutter 12, and the front surface 12a and the back surface 12b of the shutter 12 are sequentially cleaned. It may be configured to clean.

なお、図4、図5では、シャッタ12を収納した状態でクリーニング機構24がシャッタ12の後端部に配置され、図6から図9では、クリーニング機構24がシャッタ12の前側に配置されている。 4 and 5, the cleaning mechanism 24 is arranged at the rear end of the shutter 12 when the shutter 12 is housed, and in FIGS. 6 to 9, the cleaning mechanism 24 is arranged at the front side of the shutter 12. .

クリーニング機構24は、トイレルームに入った使用者(人)を検知した使用者検知手段の検知結果を受けるとともに、水洗便器1を使用する前の段階で閉姿勢のシャッタ12をクリーニングし、シャッタ12を予め洗浄水W1で濡らしておくように構成してもよい。言い換えると、使用者検知手段によって検知した人が水洗便器1を使用する前に、シャッタを事前にクリーニングする事前クリーニング動作を行うように構成してもよい。表と裏の両面12a、12bを濡らしておくことが好ましいが、特に汚れが付着しやすい表面12aのみを濡らしてくようにしてもよく、裏面12bのみを濡らしておくようにしてもよい。同時にノズル7の事前クリーニングや便器の鉢面の事前クリーニングを行ってもよい。 The cleaning mechanism 24 receives the detection result of the user detection means that detected the user (person) entering the toilet room, and cleans the shutter 12 in the closed position before using the flush toilet 1. It may also be configured such that it is wetted with cleaning water W1 in advance. In other words, a pre-cleaning operation may be performed to clean the shutter before a person detected by the user detection means uses the flush toilet 1. Although it is preferable to wet both the front and back sides 12a and 12b, it is also possible to wet only the front side 12a, which is particularly susceptible to dirt, or only the back side 12b. At the same time, the nozzle 7 may be pre-cleaned and the toilet bowl surface may be pre-cleaned.

クリーニング機構24は、シャッタ収納部23にシャッタ12を収納した状態、及び/又はシャッタ収納部23からシャッタ12を押し出した状態で、共通の吐出口26から洗浄水W1を吐出し、シャッタ12だけでなく、シャッタ収納部23の内面をきれいにするように構成してもよい。但し、吐出口26を共通とせずに、それぞれの吐出口を設けるようにしてもよい。このように構成した場合には、シャッタ12を押し出した状態で、シャッタ収納部23の底面を伝って洗浄水W1がシャッタ12の裏面12bまで流れることによって、きれいにすることができる。 The cleaning mechanism 24 discharges the cleaning water W1 from the common discharge port 26 when the shutter 12 is stored in the shutter storage section 23 and/or when the shutter 12 is pushed out from the shutter storage section 23, so that the cleaning water W1 is cleaned only by the shutter 12. Alternatively, the inner surface of the shutter storage section 23 may be cleaned. However, instead of using a common discharge port 26, separate discharge ports may be provided. With this configuration, when the shutter 12 is pushed out, the cleaning water W1 flows along the bottom surface of the shutter housing 23 to the back surface 12b of the shutter 12, thereby making it possible to clean the shutter 12.

そして、本実施形態の局部洗浄装置2及びこれを備えた水洗便器1においては、まず、局部洗浄ノズル7を進退させるノズル進退機構と、シャッタ12を開閉するためのシャッタ進退機構とを備えることによって、局部洗浄ノズル7をシャッタ12に当接させないように、シャッタ12を自在に開閉制御することが可能になる。 The private parts cleaning device 2 and the flush toilet bowl 1 equipped with the same according to the present embodiment are first provided with a nozzle advance/retreat mechanism for advancing and retracting the private part cleansing nozzle 7 and a shutter advance/retreat mechanism for opening and closing the shutter 12. , it becomes possible to freely control opening and closing of the shutter 12 so that the private part cleaning nozzle 7 does not come into contact with the shutter 12.

これにより、局部洗浄ノズル7が当接することに起因してシャッタ12や局部洗浄ノズル7に汚れ等が付着するという不都合を解消することができる。なお、本実施形態のシャッタ12は、局部洗浄ノズル7の進退に連動し、局部洗浄ノズル7に非接触で開閉動するように構成されている。 This makes it possible to eliminate the inconvenience of dirt and the like adhering to the shutter 12 and the private part cleaning nozzle 7 due to the contact of the private part cleaning nozzle 7. Note that the shutter 12 of this embodiment is configured to open and close in conjunction with the advance and retreat of the private part cleaning nozzle 7 without contacting the private part cleaning nozzle 7.

本実施形態の局部洗浄装置2及び水洗便器1においては、クリーニング機構24を備え、シャッタ12に向けてシャッタクリーニング用の洗浄水W1を吐出し、シャッタ12に付着した飛沫などを流して除去したり、シャッタ12に対して殺菌処理(滅菌処理)などを施すことが可能になる。 The private part cleaning device 2 and the flush toilet bowl 1 of this embodiment include a cleaning mechanism 24, which discharges cleaning water W1 for shutter cleaning toward the shutter 12 to flush and remove droplets adhering to the shutter 12. , it becomes possible to perform sterilization treatment (sterilization treatment) on the shutter 12.

これにより、局部洗浄ノズル7のノズル開口部3を開閉し、飛沫などが付着しやすいシャッタ12(や局部洗浄ノズル7)をきれいな状態に保つことが可能になる。 This makes it possible to open and close the nozzle opening 3 of the private part cleaning nozzle 7 and keep the shutter 12 (and the private part cleaning nozzle 7), to which droplets and the like tend to adhere, in a clean state.

クリーニング機構24が、シャッタ収納部23に収納したシャッタ12の表面12aに洗浄水W1を吐出して表面12aをきれいにし、シャッタ収納部23からシャッタ12を引き出した状態で、シャッタ12の裏面12bに洗浄水W1を吐出して裏面12bをきれいにするように構成することで、シンプルな構成でシャッタ全体(両面)を好適に洗浄でき、シャッタ12をきれいな状態ですることができる。共通の吐出口26を利用することでシャッタ全体(両面)を好適に洗浄できることで、クリーニング機構24を省サイズにすることができる。 The cleaning mechanism 24 discharges cleaning water W1 onto the front surface 12a of the shutter 12 housed in the shutter housing 23 to clean the front surface 12a, and, with the shutter 12 pulled out from the shutter housing 23, cleans the front surface 12a of the shutter 12. By discharging the cleaning water W1 to clean the back surface 12b, the entire shutter (both sides) can be suitably cleaned with a simple configuration, and the shutter 12 can be kept in a clean state. By using the common discharge port 26, the entire shutter (both sides) can be suitably cleaned, and the size of the cleaning mechanism 24 can be reduced.

クリーニング機構24が、閉姿勢の状態から開姿勢の状態に移動する間に、あるいは開姿勢から閉姿勢に移動する間に、シャッタ12の動作、姿勢に応じてシャッタ12の表面12a、裏面12bに順に洗浄水W1を吐出し、シャッタ12の表面12a、裏面12bを順にきれいにするように構成することで、シャッタ12の開閉動に連動してシャッタ12の洗浄を行うことができる。 While the cleaning mechanism 24 moves from the closed position to the open position, or from the open position to the closed position, the cleaning mechanism 24 cleans the front surface 12a and the back surface 12b of the shutter 12 according to the operation and posture of the shutter 12. By discharging the cleaning water W1 in order to clean the front surface 12a and back surface 12b of the shutter 12 in that order, the shutter 12 can be cleaned in conjunction with the opening and closing movements of the shutter 12.

これにより、局部洗浄ノズル7を使用してシャッタ12に付着した飛沫などを速やかに洗浄、除去したり、速やかにシャッタ12を殺菌処理することができる。洗浄のための時間を別途必要としないで済む。さらに、シャッタ12の略全面に対して近距離から洗浄水W1を吐出できるため、優れた洗浄効果を得ることができる。よって、効果的且つ効率的にシャッタ12をクリーニングすることが可能になる。 Thereby, the private part cleaning nozzle 7 can be used to quickly wash and remove droplets adhering to the shutter 12, and the shutter 12 can be quickly sterilized. Separate time for cleaning is not required. Furthermore, since the cleaning water W1 can be discharged from a short distance over substantially the entire surface of the shutter 12, an excellent cleaning effect can be obtained. Therefore, it becomes possible to effectively and efficiently clean the shutter 12.

クリーニング機構24が、トイレルームに入った使用者(人)を検知した検知結果を受けるとともに、水洗便器1を使用する前の段階で閉姿勢のシャッタ12をクリーニングし、シャッタ12を予め濡らしておくように構成することによって、飛沫などをシャッタ12に付着しにくくすることができる。使用後のシャッタ12のクリーニングで飛沫などを除去しやすくすることができる。これにより、さらに効果的にシャッタ12をきれいな状態で保つことが可能になる。 The cleaning mechanism 24 receives the detection result of detecting a user (person) entering the toilet room, and cleans the shutter 12 in the closed position before using the flush toilet 1 to wet the shutter 12 in advance. With this configuration, droplets and the like can be prevented from adhering to the shutter 12. Splashes and the like can be easily removed by cleaning the shutter 12 after use. This makes it possible to keep the shutter 12 in a clean state more effectively.

クリーニング機構24が、シャッタ収納部23にシャッタ12を収納した状態、及び/又はシャッタ収納部23からシャッタ12を押し出した状態で、吐出口26から洗浄水W1を吐出し、シャッタ12だけでなく、シャッタ収納部23の内面をきれいにするように構成する。 The cleaning mechanism 24 discharges the cleaning water W1 from the discharge port 26 with the shutter 12 stored in the shutter housing 23 and/or with the shutter 12 pushed out from the shutter housing 23, and cleans not only the shutter 12 but also the shutter 12. The inner surface of the shutter housing part 23 is configured to be cleaned.

これにより、シャッタ12を洗浄してきれいにするとともに、ケーシング5内に設けたシャッタ収納部23もきれいにすることができる。よって、シャッタ12から取り除いた飛沫などがシャッタ収納部23に残ってしまうことを防止でき、シャッタ12とともにシャッタ収納部23もきれいな状態で保つことが可能になる。 Thereby, the shutter 12 can be washed and cleaned, and the shutter housing section 23 provided in the casing 5 can also be cleaned. Therefore, it is possible to prevent droplets removed from the shutter 12 from remaining in the shutter accommodating part 23, and it is possible to keep the shutter accommodating part 23 as well as the shutter 12 in a clean state.

本実施形態の局部洗浄装置2及び水洗便器1においては、シャッタ進退機構がシャッタ12や第2進退部材21bの開閉移動、進退移動をガイドするガイド部25を備えることによって、シャッタ12や第2進退部材21bの移動軌跡を安定させることができ、シャッタ12や第2進退部材21bを好適に開閉移動、進退移動させることが可能になる。 In the private parts cleaning device 2 and the flush toilet bowl 1 of the present embodiment, the shutter advancing/retracting mechanism includes the guide section 25 that guides the opening/closing movement and advancing/retracting movement of the shutter 12 and the second advancing/retracting member 21b. The movement locus of the member 21b can be stabilized, and the shutter 12 and the second advancing/retracting member 21b can be suitably opened/closed and advanced/retracted.

シャッタ12や第2進退部材21bの開閉移動、進退移動をガイドするガイド部25を円弧状(円弧の組合せ)に形成し、シャッタ12や第2進退部材21bの移動軌跡を円弧状(円弧の組合せ)とすることによって、シャッタ12や第2進退部材21bの移動領域、すなわち、シャッタ12の開閉に要する占有領域を小さく、省スペース化することができ、且つ、より円滑にシャッタ12や第2進退部材21bを開閉移動、進退移動させることが可能になる。 The guide portion 25 that guides the opening/closing movement and forward/backward movement of the shutter 12 and the second advancing/retracting member 21b is formed in an arc shape (a combination of arcs), and the movement locus of the shutter 12 and the second advancing/retracting member 21b is formed in an arc shape (a combination of arcs). ), the movement area of the shutter 12 and the second advancing/retracting member 21b, that is, the occupied area required for opening and closing the shutter 12, can be reduced and space-saving, and the shutter 12 and the second advancing/retracting member 21b can be moved more smoothly. It becomes possible to open and close the member 21b and move it forward and backward.

本実施形態の局部洗浄装置2及び水洗便器1においては、シャッタ進退機構がシャッタ12の表面12aを押圧し、ノズル開口部3を閉じる閉姿勢でシャッタ12を保持するシャッタ保持部を備えることにより、ノズル開口部3を閉じた閉姿勢の状態のシャッタ12が重力などの作用によって回動軸O3周りにゆらゆらと回動、揺動することを防止でき、しっかりとノズル開口部3を閉じることができる。 In the private part cleaning device 2 and the flush toilet bowl 1 of this embodiment, the shutter advancing/retracting mechanism presses the surface 12a of the shutter 12 and includes a shutter holding part that holds the shutter 12 in a closed position that closes the nozzle opening 3. The shutter 12 in the closed position with the nozzle opening 3 closed can be prevented from swinging and swinging around the rotation axis O3 due to the action of gravity, etc., and the nozzle opening 3 can be firmly closed. .

シャッタ保持部が、使用者の手動操作などによって、ノズル開口部3を閉じた閉姿勢のシャッタ12を保持した状態を解除し、閉姿勢の状態のシャッタ12が回動軸O2周りに回動自在(揺動自在)に切替できるように構成されている。 The shutter holding section releases the state of holding the shutter 12 in the closed position with the nozzle opening 3 closed by the user's manual operation, and the shutter 12 in the closed position can freely rotate around the rotation axis O2. (swingable).

これにより、局部洗浄ノズル7の進退に関わらず、使用者の手動操作などによって、シャッタ収納部23から外側に押し出されたシャッタ12を、ノズル開口部3を開閉するように自在に軸線O3周りに回動することが可能になる。これにより、使用者が自在にシャッタ12を開閉操作することができ、例えば、シャッタ12の動力故障によって局部洗浄ノズル7を使用できなくなることがなく、取扱性をよくすることができる。 As a result, regardless of the movement of the private part cleaning nozzle 7 back and forth, the shutter 12 pushed outward from the shutter housing 23 by the user's manual operation etc. can be moved freely around the axis O3 to open and close the nozzle opening 3. It becomes possible to rotate. As a result, the user can freely open and close the shutter 12, and the private part cleaning nozzle 7 will not become unusable due to, for example, a power failure of the shutter 12, and ease of handling can be improved.

本開示は上記の実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。 The present disclosure is not limited to the embodiments described above, and can be modified as appropriate without departing from the spirit thereof.

例えば、本実施形態では、シャッタ12の全体がケーシング5の内部に引き込まれて収納されるものとして説明、図示した。これとは異なり、開姿勢でシャッタ12の一部がケーシング5の内部に配されるように構成してもよい。この場合においても、本実施形態と同様の作用効果を得ることが可能である。 For example, in this embodiment, the entire shutter 12 is described and illustrated as being drawn into and housed inside the casing 5. Differently from this, a part of the shutter 12 may be arranged inside the casing 5 in the open position. Even in this case, it is possible to obtain the same effects as in this embodiment.

本実施形態では、クリーニング機構24がシャッタ12やシャッタ収納部23に洗浄水W1を吐出し、シャッタ12やシャッタ収納部23をきれいにするように構成されているものとした。これとは異なり、クリーニング機構24は、例えば、UV(紫外線)を照射し、殺菌(滅菌、除菌)することによってシャッタ12やシャッタ収納部23をきれいな状態で保つように構成してもよい。本実施形態のような洗浄水W1の吐水とUVの照射を併用してシャッタ12やシャッタ収納部23をきれいな状態で保つように構成してもよい。
この場合においても、本実施形態と同様にして、すなわち、閉姿勢、開姿勢のシャッタ12にUVを照射したり、開閉移動に連動してUVを照射することによって、本実施形態と同様の作用効果を得ることが可能である。
In the present embodiment, the cleaning mechanism 24 is configured to discharge cleaning water W1 to the shutter 12 and the shutter housing 23 to clean the shutter 12 and the shutter housing 23. On the other hand, the cleaning mechanism 24 may be configured to maintain the shutter 12 and the shutter housing 23 in a clean state by, for example, irradiating UV (ultraviolet light) and sterilizing (sterilizing, sterilizing). The shutter 12 and the shutter accommodating portion 23 may be kept in a clean state by using a combination of spraying the cleaning water W1 and UV irradiation as in this embodiment.
In this case, the same effect as in this embodiment can be obtained by irradiating UV to the shutter 12 in the closed position and open position, or by irradiating UV in conjunction with the opening/closing movement. It is possible to obtain the effect.

図14、図15に示すように、ビデ洗浄用と肛門洗浄用の2つの局部洗浄ノズル7、8と、ビデ洗浄用と肛門洗浄用の2つの局部洗浄ノズル7、8をそれぞれ進退させるための2つのノズル開口部3を設け、これら2つのノズル開口部3をそれぞれ開閉する2つのシャッタ12を設けて構成してもよい。この場合においても、本実施形態と同様に、それぞれのシャッタ12をクリーニング機構24できれいにできるように構成すればよい。このように構成することによって、一方の局部洗浄ノズル7(8)の使用時に他方の局部洗浄ノズル8(7)側のノズル開口部3からケーシング5内に飛沫などが入り込むことを防止できる。本実施形態では、ノズル用の開口部3が2つあるものとして説明を行ったが、開口部の1つは、温風乾燥や脱臭用の開口であってもよい。3つ以上の開口部とシャッタ12を備えて構成してもよい。 As shown in FIGS. 14 and 15, the two private part cleaning nozzles 7 and 8 for bidet cleaning and anal cleaning, and the two private part cleaning nozzles 7 and 8 for bidet cleaning and anal cleaning, respectively, are moved forward and backward. Two nozzle openings 3 may be provided, and two shutters 12 may be provided to open and close these two nozzle openings 3, respectively. In this case as well, the structure may be such that each shutter 12 can be cleaned by the cleaning mechanism 24, similarly to the present embodiment. With this configuration, when one private part cleaning nozzle 7 (8) is used, it is possible to prevent droplets from entering the casing 5 from the nozzle opening 3 on the other private part cleaning nozzle 8 (7) side. Although the present embodiment has been described as having two openings 3 for nozzles, one of the openings may be an opening for hot air drying or deodorization. The structure may include three or more openings and shutters 12.

図16、図17に示すように、ケーシング5の内部に収納して脱臭機構及び/又は温風乾燥機構を設け、脱臭機構及び/又は温風乾燥機構の動作時にシャッタ12が半開するように構成してもよい。なお、図16、図17において、符号30は脱臭機構の空気取り入れ口(開口部)、又は温風乾燥機構の温風吹き出し口(開口部)を示す。この場合には、脱臭機構及び/又は温風乾燥機構の動作時にケーシング5の内部に飛沫などが入り込むことを抑止できる。基本的に温風乾燥用の開口と脱臭用の開口は個別に設けられ、温風乾燥用の開口と脱臭用の開口を備える場合、ノズル(7、8)を挟んで一方の側に温風乾燥用の開口と脱臭用の開口の一方の開口、他方の側に他方の開口が配設される。 As shown in FIGS. 16 and 17, a deodorizing mechanism and/or a hot air drying mechanism is provided inside the casing 5, and the shutter 12 is configured to be half open when the deodorizing mechanism and/or the hot air drying mechanism is operated. You may. In FIGS. 16 and 17, the reference numeral 30 indicates an air intake (opening) of the deodorizing mechanism or a hot air outlet (opening) of the hot air drying mechanism. In this case, it is possible to prevent droplets from entering the inside of the casing 5 during the operation of the deodorizing mechanism and/or the hot air drying mechanism. Basically, the opening for hot air drying and the opening for deodorizing are provided separately, and when the opening for hot air drying and the opening for deodorizing are provided, the hot air is directed to one side with the nozzles (7, 8) in between. One of the drying opening and the deodorizing opening is provided, and the other opening is provided on the other side.

本実施形態では、局部洗浄ノズル7、8を進退させるノズル進退機構と、シャッタ12を開閉するためのシャッタ進退機構とがそれぞれ、ラックピニオン機構で構成されているものとしたが、ノズル進退機構とシャッタ進退機構とは、局部洗浄ノズル7、8、進退部材21を進退させることが可能であればよく、本実施形態のようにラックピニオン機構に限定しなくてもよい。例えば、ピストンシリンダ(直動アクチュエータ)などで構成してもよい。 In the present embodiment, the nozzle advancing/retracting mechanism for advancing and retracting the private part cleaning nozzles 7 and 8 and the shutter advancing/retracting mechanism for opening and closing the shutter 12 are each composed of a rack and pinion mechanism, but the nozzle advancing/retracting mechanism The shutter advancing/retracting mechanism may be any mechanism as long as it is capable of advancing and retracting the private part cleaning nozzles 7, 8 and the advancing/retracting member 21, and does not need to be limited to a rack and pinion mechanism as in this embodiment. For example, it may be configured with a piston cylinder (direct-acting actuator).

本実施形態では、ノズル進退機構とシャッタ進退機構がそれぞれ個別に設けられているものとしたが、構成要素を兼用してノズル進退機構とシャッタ進退機構を構成してもよい。 In this embodiment, the nozzle advancing/retracting mechanism and the shutter advancing/retracting mechanism are provided separately, but the nozzle advancing/retracting mechanism and the shutter advancing/retracting mechanism may be configured by using the same component.

本実施形態では、クリーニング機構24の吐出口26が幅方向T2に所定の間隔をあけて整列配置されているものとした。クリーニング機構24、この吐出口26、UV照射手段は、特にその数、位置を限定する必要はない。 In this embodiment, it is assumed that the discharge ports 26 of the cleaning mechanism 24 are aligned in the width direction T2 at predetermined intervals. There is no particular need to limit the number or position of the cleaning mechanism 24, this discharge port 26, and the UV irradiation means.

本実施形態では、シャッタ12の表面12aと裏面12bの両面をクリーニングするものとして説明を行ったが、シャッタ12の表面12aのみ、シャッタ12の裏面12bのみをクリーニングするように構成してもよい。 Although the present embodiment has been described as cleaning both the front surface 12a and the back surface 12b of the shutter 12, it may be configured to clean only the front surface 12a of the shutter 12 or only the back surface 12b of the shutter 12.

さらに、図18に示すように、シャッタ12の一部のみをケーシング5の内部に引き込んで収納し、シャッタ12の収納された部分にクリーニング機構24から洗浄水W1を吐水し、シャッタ12の全面(表面12aや裏面12b)のクリーニングを行うように構成してもよい。この場合には、シャッタ12の全てを収納する場合に比べ、構造の小型化、シンプル化を図ることができる。ちなみに、図18においては、シャッタ12の基端部の上方にクリーニング機構24が配置され、且つノズル7に押圧されてシャッタ12が開動するように構成されている。これとは異なり、ノズル7で押圧してシャッタ12を開動するように構成しなくもよい。クリーニング機構24の位置は、図18のように限定しなくてもよく、シャッタ12を好適にクリーニングすることができるように適宜設定すればよい。 Further, as shown in FIG. 18, only a part of the shutter 12 is drawn into the casing 5 and housed, and the cleaning mechanism 24 sprays cleaning water W1 onto the housed part of the shutter 12, and the entire surface of the shutter 12 ( It may be configured to clean the front surface 12a and the back surface 12b). In this case, the structure can be made smaller and simpler than in the case where the entire shutter 12 is housed. Incidentally, in FIG. 18, the cleaning mechanism 24 is arranged above the base end of the shutter 12, and the shutter 12 is configured to open when pressed by the nozzle 7. Unlike this, it is not necessary to configure the shutter 12 to be opened by pressing with the nozzle 7. The position of the cleaning mechanism 24 does not need to be limited as shown in FIG. 18, and may be appropriately set so that the shutter 12 can be cleaned appropriately.

1 水洗便器、2 局部洗浄装置、3 ノズル開口部、4 便器本体、5 ケーシング(カバーケース)、7 局部洗浄ノズル、10 洗浄機能部、11 便座部、12 シャッタ、12a 表面、12b 裏面、13 ノズルユニット、16 吐出孔、20 シャッタユニット(シャッタ開閉機構)、21 進退部材、22 ヒンジ、23 シャッタ収納部、24 クリーニング機構、25 ガイド部、26 吐出口、27 洗浄水流路、30 開口部、O1 軸線、O2 軸線、O3 軸線、T1 前後方向、T2 幅方向、W1 シャッタクリーニング用の洗浄水 1 flush toilet bowl, 2 private parts cleaning device, 3 nozzle opening, 4 toilet bowl body, 5 casing (cover case), 7 private parts cleaning nozzle, 10 cleaning function part, 11 toilet seat part, 12 shutter, 12a front surface, 12b back surface, 13 nozzle unit, 16 discharge hole, 20 shutter unit (shutter opening/closing mechanism), 21 advance/retreat member, 22 hinge, 23 shutter storage section, 24 cleaning mechanism, 25 guide section, 26 discharge port, 27 cleaning water flow path, 30 opening, O1 axis , O2 axis, O3 axis, T1 longitudinal direction, T2 width direction, W1 washing water for shutter cleaning

Claims (10)

退避状態においてケーシングに収納され、前記ケーシングに設けられたノズル開口部を通じて前方に進出した状態において先端部から局部用の洗浄水を吐出する局部洗浄ノズルと、
前記ノズル開口部を開閉し、前記ノズル開口部を開くと、自身の少なくとも一部が前記ケーシングの内部に引き込まれるシャッタと、
前記ケーシングの内部に設けられ、前記ケーシングの内部に引き込まれた前記シャッタの少なくとも一部を対象としたクリーニングを実行するクリーニング機構と、
を備える、局部洗浄装置。
a private part cleaning nozzle that is housed in a casing in a retracted state and discharges private part cleansing water from a tip part in a state that advances forward through a nozzle opening provided in the casing;
a shutter that opens and closes the nozzle opening, and when the nozzle opening is opened, at least a portion of the shutter is drawn into the inside of the casing;
a cleaning mechanism that is provided inside the casing and performs cleaning on at least a portion of the shutter that is drawn into the casing;
A private cleaning device equipped with:
前記クリーニング機構は、前記シャッタに向けて洗浄液を吐出してクリーニングを実行する、
請求項1に記載の局部洗浄装置。
The cleaning mechanism performs cleaning by discharging a cleaning liquid toward the shutter.
The private part cleaning device according to claim 1.
前記クリーニング機構は、
前記シャッタの表面と裏面をそれぞれクリーニングするように構成されている、
請求項1または請求項2に記載の局部洗浄装置。
The cleaning mechanism includes:
configured to clean the front and back surfaces of the shutter, respectively;
The private part cleaning device according to claim 1 or claim 2.
前記クリーニング機構は、
前記シャッタの開状態で、前記シャッタの表面をクリーニングし、
前記シャッタの閉状態で、前記シャッタの裏面をクリーニングするように構成されている、
請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。
The cleaning mechanism includes:
cleaning the surface of the shutter while the shutter is open;
configured to clean a back surface of the shutter when the shutter is in a closed state;
The private part cleaning device according to any one of claims 1 to 3.
前記ケーシングに設けられた2つの開口部をそれぞれ開閉する2つの前記シャッタが設けられ、
2つの前記シャッタをそれぞれクリーニングするクリーニング機構が設けられている、
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。
Two shutters are provided that respectively open and close two openings provided in the casing,
A cleaning mechanism is provided for cleaning each of the two shutters,
The private part cleaning device according to any one of claims 1 to 4.
前記シャッタを前記ケーシングの内部に移動させるように案内するガイド部が設けられている、
請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。
A guide portion is provided for guiding the shutter to move into the casing.
The private part cleaning device according to any one of claims 1 to 5.
人を検知する使用者検知手段を備え、
前記クリーニング機構は、
前記使用者検知手段によって検知した人が使用する前に、前記シャッタを事前にクリーニングする事前クリーニング動作を行うように構成されている、
請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。
Equipped with a user detection means to detect a person,
The cleaning mechanism includes:
The shutter is configured to perform a pre-cleaning operation of cleaning the shutter before the shutter is used by the person detected by the user detection means.
The private part cleaning device according to any one of claims 1 to 6.
前記ケーシングの内部に、開状態の前記シャッタを収納するシャッタ収納部が設けられ、
前記クリーニング機構は、
前記シャッタとともに前記シャッタ収納部をクリーニングするように構成されている、
請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。
A shutter storage section is provided inside the casing to store the shutter in an open state,
The cleaning mechanism includes:
configured to clean the shutter housing together with the shutter;
The private part cleaning device according to any one of claims 1 to 7.
前記局部洗浄ノズルの進退に連動して、前記シャッタが前記局部洗浄ノズルに非接触で開閉動するように構成されている、
請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の局部洗浄装置。
The shutter is configured to open and close in conjunction with the movement of the private part cleaning nozzle without contacting the private part cleaning nozzle.
The private part cleaning device according to any one of claims 1 to 8.
請求項1から請求項9のいずれか一項に記載の局部洗浄装置を備える、
水洗便器。
comprising the private part cleaning device according to any one of claims 1 to 9;
Flush toilet.
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