JP7209477B2 - Private cleaning device - Google Patents

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Description

本発明は、局部洗浄装置に関する。 The present invention relates to a private cleansing device.

下記特許文献1には、用便後に局部洗浄ノズルをノズル開口部から便器本体の内側に進出させ、当該局部洗浄ノズルの先端から洗浄水を吐出させることで、人体の局部を洗浄(局部洗浄)する局部洗浄装置が開示されている。 In Patent Document 1 below, after using the toilet, a private part washing nozzle is advanced into the inside of the toilet bowl body from the nozzle opening, and washing water is discharged from the tip of the private part washing nozzle to wash the private part of the human body (private part washing). A personal cleansing device is disclosed.

上記局部洗浄装置には、汚水や汚物がノズル開口部を介して局部洗浄装置内に流入することを防止するために、ノズル開口部を開閉するシャッタが設けられている。 The private parts washing device is provided with a shutter for opening and closing the nozzle opening in order to prevent dirty water and dirt from flowing into the private parts washing device through the nozzle opening.

特開2017-125375号公報JP 2017-125375 A

ところで、ノズル開口部をシャッタで閉状態に制御している場合には、このシャッタの表面に汚水や汚物が付着する可能性がある。また、ノズル開口部を開状態に制御している場合には、シャッタが上方に回動しているため、汚水や汚物がシャッタの裏面にも付着する可能性がある。そのため、シャッタを衛生的に保つことが望まれている。 By the way, when the nozzle opening is controlled to be in a closed state by a shutter, there is a possibility that dirty water and filth will adhere to the surface of this shutter. Further, when the nozzle opening is controlled to be open, the shutter rotates upward, so there is a possibility that sewage and dirt may adhere to the back surface of the shutter. Therefore, it is desired to keep the shutter sanitary.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その目的は、シャッタに汚水や汚物が付着することを抑制することである。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to prevent dirty water and dirt from adhering to the shutter.

本発明の一態様は、開口部から進出させた局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させることで局部洗浄を行う局部洗浄装置であって、前記開口部を開閉可能なシャッタと、前記シャッタに水を流す洗浄部と、を備えることを特徴とする局部洗浄装置である。 One aspect of the present invention is a private parts washing apparatus for washing private parts by discharging washing water from a private part washing nozzle advanced from an opening, comprising: a shutter capable of opening and closing the opening; and a flushing washing unit.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、前記シャッタが前記開口部を開状態とした場合に、前記シャッタに水を流す。 One aspect of the present invention is the above-described private parts washing apparatus, wherein the washing unit causes water to flow through the shutter when the shutter opens the opening.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記シャッタは、前記開口部に対して回動可能に取り付けられており、局部洗浄ノズルが前進すると当該局部洗浄ノズルに押されて前記開口部を開状態とし、前記局部洗浄ノズルを後退させると前記開口部を閉状態とし、前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から前進して前記開口部を開状態とした場合において、前記局部洗浄ノズルの表面に水を吐出することで前記シャッタに水を流す。 One aspect of the present invention is the private parts washing apparatus described above, wherein the shutter is rotatably attached to the opening, and when the private parts washing nozzle advances, the shutter pushes the private parts washing nozzle to move the shutter. When the opening is opened and the private parts washing nozzle is retracted, the opening is closed, and the washing unit moves the private parts washing nozzle forward from the opening to open the opening. and discharging water onto the surface of the private parts washing nozzle to flow the shutter.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、前記開口部を開状態とした場合において、前記局部洗浄ノズルの表面に水を吐出することで、前記局部洗浄ノズルの表面と前記シャッタの背面との双方において水膜を形成する。 One aspect of the present invention is the above-described private parts washing apparatus, wherein the washing part discharges water onto the surface of the private parts washing nozzle when the opening is in an open state, thereby and the back surface of the shutter.

以上説明したように、本発明によれば、シャッタに汚水や汚物が付着することを抑制することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to suppress adhesion of dirty water and dirt to the shutter.

本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9を備えるトイレシステムAの概略構成の一例を示す図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows an example of schematic structure of the toilet system A provided with the private-parts washing apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る局部洗浄ノズル10の進退動作を説明する図である。4A and 4B are diagrams for explaining an advancing and retreating operation of the private parts washing nozzle 10 according to the embodiment of the present invention; FIG. 本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9の概略構成の一例を示す図である。1 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a private parts washing device 9 according to an embodiment of the present invention; FIG. 本発明の一実施形態に係る水膜形成の動作のフロー図である。FIG. 4 is a flow diagram of the operation of forming a water film according to one embodiment of the present invention; 本発明の一実施形態に係る局部洗浄の際の水膜形成の動作のフロー図である。FIG. 4 is a flow diagram of the operation of forming a water film when washing the private parts according to one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る水膜口171の位置を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the position of a water film port 171 according to one embodiment of the present invention; 本発明の一実施形態に係るシャッタ12の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the shutter 12 which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。なお、図面において、同一又は類似の部分には同一の符号を付して、重複する説明を省く場合がある。また、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。 Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. Also, not all combinations of features described in the embodiments are essential for the solution of the invention. In addition, in the drawings, the same or similar parts may be denoted by the same reference numerals, and duplicate description may be omitted. Also, the shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer explanation.

図1は、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置を備えるトイレシステムAの概略構成の一例を示す図である。図1に示すように、トイレシステムAは、トイレ装置1及びリモコン装置2を備える。 FIG. 1 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a toilet system A equipped with a private parts washing device according to one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the toilet system A includes a toilet device 1 and a remote control device 2. As shown in FIG.

トイレ装置1は、トイレルームに設けられており、リモコン装置2と有線又は無線通信することで情報を送受する。 The toilet device 1 is provided in a toilet room, and transmits and receives information through wired or wireless communication with the remote control device 2 .

リモコン装置2は、トイレルームの所定位置に設置されている。例えば、この所定位置とは、トイレルームの壁面である。リモコン装置2には、複数の操作スイッチが設けられており、使用者は、例えば、便器洗浄や局部洗浄に対応した操作スイッチを押下操作することで、トイレ装置1に対して便器洗浄や局部洗浄を実行させることができる。 The remote control device 2 is installed at a predetermined position in the toilet room. For example, this predetermined position is the wall surface of the toilet room. The remote control device 2 is provided with a plurality of operation switches, and the user presses, for example, the operation switches corresponding to the toilet bowl washing and the private part washing for the toilet device 1. can be executed.

トイレ装置1は、便器本体3及び便座装置4を備える。 The toilet device 1 includes a toilet body 3 and a toilet seat device 4 .

便器本体3は、トイレルーム内の床面に設置されている。便器本体3の上部には、便座装置4が設置されている。 The toilet body 3 is installed on the floor in the toilet room. A toilet seat device 4 is installed on the upper portion of the toilet body 3 .

便座装置4は、本体カバー5、便座6、便蓋7、便器洗浄装置8及び局部洗浄装置9を備える。 The toilet seat device 4 includes a body cover 5 , a toilet seat 6 , a toilet lid 7 , a toilet bowl cleaning device 8 and a private part cleaning device 9 .

本体カバー5は、便器本体3の後部かつ上部に載置された便器洗浄装置8及び局部洗浄装置9を収容するように便器洗浄装置8及び局部洗浄装置9を上側から覆うカバーである。 The main body cover 5 is a cover that covers the toilet bowl washing device 8 and the private part washing device 9 from above so as to accommodate the toilet bowl washing device 8 and the private part washing device 9 placed on the rear and upper part of the toilet body 3 .

便座6は、本体カバー5に対して上下方向に回動可能に支持されている。すなわち、便座6は、本体カバー5に軸支されており、便器本体3に対して起立状態と倒伏状態との間で回動自在である。 The toilet seat 6 is supported so as to be vertically rotatable with respect to the body cover 5 . That is, the toilet seat 6 is pivotally supported by the main body cover 5 and is rotatable with respect to the toilet body 3 between an upright state and a reclined state.

便蓋7は、本体カバー5に対して上下方向に回動可能に支持されている。すなわち、便蓋7は、本体カバー5に軸支されており、便器本体3に対して起立状態と倒伏状態との間で回動自在である。 The toilet lid 7 is supported so as to be vertically rotatable with respect to the body cover 5 . That is, the toilet lid 7 is pivotally supported by the body cover 5 and is rotatable with respect to the toilet bowl body 3 between an upright state and a laid-down state.

便器洗浄装置8は、本体カバー5内に収容して設けられ、例えば使用者により便器洗浄に対応する操作スイッチが操作されることで、便器本体3内に洗浄水を吐出させる便器洗浄を実行する。 The toilet bowl cleaning device 8 is housed inside the main body cover 5, and performs toilet cleaning by discharging cleaning water into the toilet bowl body 3, for example, when a user operates an operation switch corresponding to toilet bowl cleaning. .

局部洗浄装置9は、用便後に局部洗浄ノズル10をノズル開口部11から便器本体3の内側に進出させ、当該局部洗浄ノズル10の先端に形成された吐出孔10aから洗浄水を吐出することで、人体の局部を洗浄する局部洗浄を実行する。 The private parts washing device 9 advances the private parts washing nozzle 10 from the nozzle opening 11 into the toilet body 3 after using the toilet, and discharges washing water from the discharge hole 10a formed at the tip of the private parts washing nozzle 10. , to perform local cleansing for cleaning the private parts of the human body.

具体的には、局部洗浄装置9は、局部洗浄ノズル10、ノズル開口部11、及びシャッタ12を備える。なお、ノズル開口部11は、本発明の「開口部」の一例である。 Specifically, the private parts washing device 9 includes a private parts washing nozzle 10 , a nozzle opening 11 , and a shutter 12 . In addition, the nozzle opening 11 is an example of the "opening" of the present invention.

局部洗浄ノズル10は、本体カバー5に収納されており、先端部に洗浄水を吐出する吐出孔10aを備える。そして、局部洗浄ノズル10は、後端側から供給されて内部を流通した洗浄水が吐出孔10aから所定の方向に吐出するように構成されている。 The private part washing nozzle 10 is housed in the main body cover 5, and has a discharge hole 10a for discharging washing water at its tip. The private part washing nozzle 10 is configured so that washing water supplied from the rear end side and circulated inside is discharged from the discharge hole 10a in a predetermined direction.

ノズル開口部11は、局部洗浄ノズル10が前方に進出したときに局部洗浄ノズル10が挿通可能な大きさの開口である。 The nozzle opening 11 is an opening having a size that allows the private parts washing nozzle 10 to pass therethrough when the private parts washing nozzle 10 advances forward.

シャッタ12は、ノズル開口部11を開閉可能であって、例えば、ノズル開口部11に対して回動可能に取り付けられている。このシャッタ12は、局部洗浄ノズル10が前進するとその局部洗浄ノズル10に押圧されてノズル開口部11を開状態とし、局部洗浄ノズル10を後退させるとノズル開口部11を閉状態とする。 The shutter 12 can open and close the nozzle opening 11 , and is rotatably attached to the nozzle opening 11 , for example. The shutter 12 is pressed by the private parts washing nozzle 10 to open the nozzle opening 11 when the private parts washing nozzle 10 advances, and closes the nozzle opening 11 when the private parts washing nozzle 10 is retracted.

以下に、図2を用いて局部洗浄ノズル10の進退動作について説明する。 The advance and retreat operation of the private parts washing nozzle 10 will be described below with reference to FIG.

シャッタ12は、バネ部材(不図示)を介して局部洗浄装置9に連結されている。すなわち、シャッタ12には、バネ部材によってシャッタ12を閉じる方向に付勢する力が作用している。 The shutter 12 is connected to the private cleaning device 9 via a spring member (not shown). That is, the shutter 12 is biased by the spring member in the direction of closing the shutter 12 .

また、シャッタ12の背面には、局部洗浄ノズル10に対向する位置に突起12aが設けられている。この突起12aは、下方に向かうに従い漸次背面に近づく傾斜面を備える。このため、局部洗浄ノズル10が進出すると、当該局部洗浄ノズル10の先端部が突起12aに当接する(図2(a))。そして、局部洗浄ノズル10がさらに進出すると、局部洗浄ノズル10の先端部により突起12aの傾斜面が押圧される。これにより、シャッタ12は、背面12bを下方に向けるように上方に回動し、所定の位置に保持される(図2(b))。このように、ノズル開口部11が開き、本体カバー5から便器本体の内側に局部洗浄ノズル10を進出させることで、局部洗浄ノズル10の吐出孔10aから洗浄水の温水を吐出し使用者の局部を洗浄したり、局部洗浄装置9内に設けられた温風乾燥装置により便座6に着座した使用者の局部にノズル開口部11から温風を吹き出すことができる。 A projection 12 a is provided on the rear surface of the shutter 12 at a position facing the private parts washing nozzle 10 . This projection 12a has an inclined surface that gradually approaches the back as it goes downward. Therefore, when the private parts washing nozzle 10 advances, the tip of the private parts washing nozzle 10 comes into contact with the protrusion 12a (FIG. 2(a)). When the private parts washing nozzle 10 advances further, the tip of the private parts washing nozzle 10 presses the inclined surface of the projection 12a. As a result, the shutter 12 is rotated upward so that the rear surface 12b faces downward, and is held at a predetermined position (FIG. 2(b)). In this way, the nozzle opening 11 is opened and the private part washing nozzle 10 is advanced from the main body cover 5 to the inside of the toilet bowl body, so that the warm water for washing is discharged from the discharge hole 10a of the private part washing nozzle 10, and the user's private part is cleaned. , and hot air can be blown out from the nozzle opening 11 to the private parts of the user seated on the toilet seat 6 by a hot air drying device provided in the private parts washing device 9 .

また、局部洗浄ノズル10を後退させると、シャッタ12は、バネ部材の付勢力により後方に退避しつつ回動する。これにより、局部洗浄ノズル10の先端部が突起12aに当接する。そして、局部洗浄ノズル10がさらに後退すると、局部洗浄ノズル10の先端部が突起12aと離間し、シャッタ12がノズル開口部11を閉鎖(閉状態)する。 Further, when the private parts washing nozzle 10 is retracted, the shutter 12 rotates while retreating rearward by the biasing force of the spring member. As a result, the tip of the private parts washing nozzle 10 comes into contact with the projection 12a. Then, when the private parts washing nozzle 10 retreats further, the tip of the private parts washing nozzle 10 separates from the projection 12a, and the shutter 12 closes the nozzle opening 11 (closed state).

さらに、局部洗浄装置9は、局部洗浄ノズル10がノズル開口部11から進出している状態において、当該局部洗浄ノズル10の表面に水で水膜を形成することで、局部洗浄ノズル10及びシャッタ12に汚物や汚水が付着することを防止する機能を備える。なお、この水膜を形成するための水とは、冷水であってもよいし、温水であってもよい。本実施形態では、温水により水膜を形成する場合について説明する。
以下に、本実施形態に係る局部洗浄装置9の構成について、図3を用いて具体的に説明する。
Furthermore, the private parts washing device 9 forms a water film on the surface of the private parts washing nozzle 10 with water in a state where the private parts washing nozzle 10 is protruding from the nozzle opening 11 , so that the private parts washing nozzle 10 and the shutter 12 are separated from each other. It has a function to prevent dirt and sewage from adhering to the The water for forming this water film may be cold water or hot water. In this embodiment, a case where a water film is formed by hot water will be described.
The configuration of the private parts washing device 9 according to this embodiment will be specifically described below with reference to FIG.

図3に示すように、局部洗浄装置9は、第1の流路13、第2の流路14、給水バルブ15、温水生成部16、及び洗浄部17を備える。 As shown in FIG. 3 , the private parts washing device 9 includes a first flow path 13 , a second flow path 14 , a water supply valve 15 , a warm water generator 16 and a washing unit 17 .

第1の流路13は、給水源Sからの水を、給水バルブ15を介して温水生成部16に流入させる流路である。なお、本実施形態において「水」とは、冷水でもよいし、温水でもよい。
第2の流路14は、温水生成部16からの温水を洗浄部17に送水するための流路である。
The first flow path 13 is a flow path that allows water from the water supply source S to flow into the hot water generator 16 via the water supply valve 15 . In addition, cold water may be sufficient as "water" in this embodiment, and hot water may be sufficient as it.
The second flow path 14 is a flow path for sending hot water from the hot water generating section 16 to the washing section 17 .

給水バルブ15は、第1の流路13に設けられ、その第1の流路13を開放又は閉塞することで、給水源Sから温水生成部16への給水を制御する。具体的には、給水バルブ15は、洗浄部17の制御により開状態に制御された場合には、第1の流路13を開放する。これにより、給水源Sからの水が第1の流路13を介して温水生成部16に流入する。一方、給水バルブ15は、洗浄部17の制御により閉状態に制御された場合には、第1の流路13を閉塞する。これにより、温水生成部16への水の流入が停止される。 The water supply valve 15 is provided in the first flow path 13 and controls water supply from the water supply source S to the hot water generator 16 by opening or closing the first flow path 13 . Specifically, the water supply valve 15 opens the first flow path 13 when the cleaning unit 17 controls the water supply valve 15 to be in an open state. As a result, water from the water supply source S flows into the hot water generator 16 through the first flow path 13 . On the other hand, the water supply valve 15 closes the first flow path 13 when the cleaning unit 17 controls the water supply valve 15 to be closed. As a result, the inflow of water into the hot water generator 16 is stopped.

温水生成部16は、第1の流路13を介して流入してきた水を所定の温度に加熱して温水を生成する。そして、温水生成部16は、所定の温度に加熱した温水を第2の流路14を介して洗浄部17に送水する。以下に、温水生成部16の構成について、具体的に説明する。 The hot water generator 16 heats the water flowing through the first flow path 13 to a predetermined temperature to generate hot water. Then, the hot water generator 16 feeds the hot water heated to a predetermined temperature to the cleaning unit 17 through the second flow path 14 . The configuration of the hot water generator 16 will be specifically described below.

温水生成部16は、ヒータ161、温度センサ162、及び温度制御部163を備える。 The hot water generator 16 includes a heater 161 , a temperature sensor 162 and a temperature controller 163 .

ヒータ161は、第1の流路13を介して流入してきた水を、温度制御部163の制御に基づいて所定の温度に加熱する。そして、ヒータ161により加熱されて生成された温水は、第2の流路14を介して洗浄部17に供給される。 The heater 161 heats the water flowing through the first flow path 13 to a predetermined temperature under the control of the temperature controller 163 . Hot water generated by being heated by the heater 161 is supplied to the cleaning section 17 through the second flow path 14 .

温度センサ162は、第2の流路14に設けられ、ヒータ161により加熱された温水の温度を測定するセンサであって、例えば、サーミスタである。温度センサ162は、測定した温度を温度制御部163に出力する。 The temperature sensor 162 is provided in the second flow path 14 and measures the temperature of hot water heated by the heater 161, and is, for example, a thermistor. Temperature sensor 162 outputs the measured temperature to temperature controller 163 .

温度制御部163は、温度センサ162で測定された温度が上記所定の温度になるようにヒータ161の出力を制御する。なお、温度制御部163は、第2の流路14に供給する温水の温度を任意の温度に制御可能である。 The temperature control unit 163 controls the output of the heater 161 so that the temperature measured by the temperature sensor 162 becomes the predetermined temperature. Note that the temperature control unit 163 can control the temperature of hot water supplied to the second flow path 14 to an arbitrary temperature.

洗浄部17は、局部洗浄ノズル10、水膜口171、分岐流路172~174、流調バルブ175、駆動部176、及び制御装置177を備える。 The washing unit 17 includes a private part washing nozzle 10 , a water film port 171 , branched flow paths 172 to 174 , a flow control valve 175 , a drive unit 176 and a control device 177 .

局部洗浄ノズル10は、おしり洗浄用ノズル111及びビデ用ノズル112の一対の局部洗浄ノズルの少なくともいずれかである。なお、以下の説明において、おしり洗浄用ノズル111及びビデ用ノズル112のそれぞれを区別しない場合には、単に「局部洗浄ノズル10」と標記する。 The private part washing nozzle 10 is at least one of a pair of private part washing nozzles of a bottom washing nozzle 111 and a bidet nozzle 112 . In the following description, the buttocks washing nozzle 111 and the bidet nozzle 112 are simply referred to as "the private part washing nozzle 10" when they are not distinguished from each other.

水膜口171は、局部洗浄ノズル10の表面に水膜を形成するための開口部である。すなわち、洗浄部17は、水膜口171から局部洗浄ノズル10の表面に向けて温水を吐出させることで、ノズル開口部11から進出している局部洗浄ノズル10の表面に水膜を形成する。 The water film opening 171 is an opening for forming a water film on the surface of the private parts washing nozzle 10 . That is, the washing unit 17 discharges hot water from the water film port 171 toward the surface of the private parts washing nozzle 10 to form a water film on the surface of the private parts washing nozzle 10 protruding from the nozzle opening 11 .

分岐流路172~174は、第2の流路14から分岐する流路である。 The branch channels 172 to 174 are channels branched from the second channel 14 .

分岐流路172は、第2の流路14から分岐し、おしり洗浄用ノズル111の先端部に連通する。
分岐流路173は、第2の流路14から分岐し、ビデ用ノズル112の先端部に連通する。
分岐流路174は、第2の流路14から分岐し、水膜口171に連通する。
The branch channel 172 branches off from the second channel 14 and communicates with the tip of the bottom washing nozzle 111 .
The branch channel 173 branches off from the second channel 14 and communicates with the tip of the bidet nozzle 112 .
The branch channel 174 branches off from the second channel 14 and communicates with the water film port 171 .

流調バルブ175は、複数の分岐流路172~174のうち、温水生成部16で生成された温水を流す分岐流路を一以上選択し、その選択した分岐流路(以下、「選択分岐流路」という。)に温水生成部16で生成された温水を供給する。ただし、流調バルブ175は、複数の分岐流路172~174のどの分岐流路にも、温水生成部16で生成された温水を流さない場合には、選択分岐流路を選択しないこともできる。
さらに、流調バルブ175は、その選択分岐流路に流れる温水の流量を調整可能である。なお、流調バルブ175における選択分岐流路の選択や選択分岐流路に流れる温水の流量調整は、制御装置177により制御される。
The flow adjustment valve 175 selects one or more branch flow paths through which the hot water generated by the hot water generator 16 flows from among the plurality of branch flow paths 172 to 174, and selects the selected branch flow path (hereinafter referred to as "selected branch flow The hot water generated by the hot water generator 16 is supplied to the hot water generating section 16. However, if the flow control valve 175 does not flow the hot water generated by the hot water generating unit 16 to any of the plurality of branch flow paths 172 to 174, the selected branch flow path may not be selected. .
Furthermore, the flow adjustment valve 175 can adjust the flow rate of hot water flowing through the selected branch flow path. The control device 177 controls the selection of the selected branch flow path in the flow adjustment valve 175 and the adjustment of the flow rate of the hot water flowing through the selected branch flow path.

駆動部176は、制御装置177による制御に基づいて、一対のおしり洗浄用ノズル111とビデ用ノズル112を、それぞれ個別に進退させることが可能である。 The drive unit 176 can individually move the pair of the bottom washing nozzle 111 and the bidet nozzle 112 back and forth under the control of the control device 177 .

制御装置177は、給水バルブ15の駆動を制御することで、第1の流路13の開放又は閉塞を制御する。
また、制御装置177は、流調バルブ175における選択分岐流路の選択を制御することで、局部洗浄ノズル10による局部洗浄や、局部洗浄ノズル10の表面に対する水膜の形成を制御する。なお、この温水による水膜は、局部洗浄ノズル10の進退動作に伴い形成される。
さらに、制御装置177は、温度制御部163と通信することで、第2の流路14に供給される温水の温度を調整可能である。
The control device 177 controls the opening or closing of the first flow path 13 by controlling the driving of the water supply valve 15 .
Further, the control device 177 controls the selection of the selective branch flow path in the flow adjustment valve 175 to control the washing of the private parts by the washing nozzle 10 and the formation of a water film on the surface of the washing nozzle 10 . It should be noted that the water film of this hot water is formed as the private parts washing nozzle 10 advances and retreats.
Furthermore, the controller 177 can adjust the temperature of the hot water supplied to the second flow path 14 by communicating with the temperature controller 163 .

以下に、本実施形態に係る局部洗浄装置9の動作の流れについて、図4を用いて説明する。なお、以下の説明において、局部洗浄ノズル10の進退動作として、おしり洗浄用ノズル111の進退動作を例として説明する。 The operation flow of the private parts washing device 9 according to this embodiment will be described below with reference to FIG. In addition, in the following description, as an advancing/retreating operation of the private parts washing nozzle 10, an advancing/retreating operation of the anterior part washing nozzle 111 will be described as an example.

ノズル開口部11を開状態にする場合には、制御装置177は、駆動部176の駆動を制御しておしり洗浄用ノズル111の進出動作を開始させる(ステップS101)。ここで、ノズル開口部11を開状態にする場合とは、例えば、局部洗浄を行う場合や温風乾燥を行う場合がある。 When the nozzle opening 11 is to be opened, the control device 177 controls driving of the drive unit 176 to start advancing the bottom washing nozzle 111 (step S101). Here, when the nozzle opening 11 is opened, for example, there is a case of washing a private part or a case of hot air drying.

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が進出すると、おしり洗浄用ノズル111がシャッタ12の背面12bを押圧することでシャッタ12を上方に回動させる。これにより、ノズル開口部11が開状態に制御され、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から所定の位置まで進出する(ステップS102)。 When the rear washing nozzle 111 advances, the controller 177 causes the rear washing nozzle 111 to press the rear surface 12b of the shutter 12, thereby rotating the shutter 12 upward. As a result, the nozzle opening 11 is controlled to be open, and the bottom washing nozzle 111 advances from the nozzle opening 11 to a predetermined position (step S102).

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から進出すると、当該おしり洗浄用ノズル111の表面において水膜を形成する(ステップS103)。具体的には、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から進出すると、流調バルブ175を制御して、選択分岐流路を分岐流路172とする。これにより、温水生成部16で生成された温水は分岐流路174を通り、水膜口171から吐出される。したがって、洗浄用ノズル111の表面において水膜が形成され、局部洗浄が実施される場合においては、洗浄用ノズル111の表面に汚物や汚水が付着することを防止することができる。 When the bottom washing nozzle 111 advances from the nozzle opening 11, the controller 177 forms a water film on the surface of the bottom washing nozzle 111 (step S103). Specifically, when the bottom washing nozzle 111 advances from the nozzle opening 11 , the control device 177 controls the flow adjustment valve 175 to set the selected branch flow path to the branch flow path 172 . As a result, the hot water generated by the hot water generator 16 passes through the branch channel 174 and is discharged from the water film port 171 . Therefore, a water film is formed on the surface of the cleaning nozzle 111, and dirt and dirty water can be prevented from adhering to the surface of the cleaning nozzle 111 when local cleaning is performed.

ここで、ノズル開口部11が開状態に制御されている場合には、おしり洗浄用ノズル111の表面は、シャッタ12の背面に接触している。そのため、おしり洗浄用ノズル111の表面に吐出された温水は、おしり洗浄用ノズル111の表面を伝ってシャッタ12の背面に流れる。これにより、シャッタ12の背面に水膜が形成され、汚物や汚水が付着することを抑制する。また、シャッタ12の背面に汚物や汚水が付着している場合には、その付着している汚物や汚水を洗い流すことができる。 Here, when the nozzle opening 11 is controlled to be open, the surface of the bottom washing nozzle 111 is in contact with the rear surface of the shutter 12 . Therefore, the hot water discharged onto the surface of the bottom washing nozzle 111 flows along the surface of the bottom washing nozzle 111 to the rear surface of the shutter 12 . As a result, a water film is formed on the back surface of the shutter 12 to suppress adhesion of dirt and dirty water. Further, when dirt or dirty water adheres to the rear surface of the shutter 12, the dirt or dirty water adhering thereto can be washed away.

このように、制御装置177は、ノズル開口部11が開状態に制御されている場合には、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面の双方に水膜を形成する。したがって、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面が汚物や汚水で汚れることを抑制することができる。 Thus, the control device 177 forms a water film on both the surface of the bottom washing nozzle 111 and the back surface of the shutter 12 when the nozzle opening 11 is controlled to be open. Therefore, it is possible to prevent the front surface of the bottom washing nozzle 111 and the back surface of the shutter 12 from becoming dirty with dirt and dirty water.

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面の双方に水膜を形成してから所定時間が経過したか否かを判定する(ステップS104)。
制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面の双方に水膜を形成してから所定時間が経過した場合には、当該水膜の形成を停止する(ステップS105)。具体的には、制御装置177は、流調バルブ175を制御することで第2の流路14から分岐流路174への温水の流入を停止することで、水膜の形成を停止する。または、制御装置177は、給水バルブ15を制御して第1の流路13を閉塞することで、水膜の形成を停止する。一方、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面の双方に水膜を形成してから所定時間が経過していない場合には、当該水膜の形成を継続する。
The control device 177 determines whether or not a predetermined time has passed since the water film was formed on both the surface of the bottom washing nozzle 111 and the back surface of the shutter 12 (step S104).
When a predetermined time has passed since the water film was formed on both the surface of the bottom washing nozzle 111 and the back surface of the shutter 12, the control device 177 stops forming the water film (step S105). Specifically, the control device 177 stops the inflow of hot water from the second channel 14 to the branch channel 174 by controlling the flow control valve 175, thereby stopping the formation of the water film. Alternatively, the control device 177 stops the formation of the water film by controlling the water supply valve 15 to close the first channel 13 . On the other hand, if the predetermined time has not passed since the water film was formed on both the surface of the bottom washing nozzle 111 and the back surface of the shutter 12, the control device 177 continues the formation of the water film.

制御装置177は、水膜の形成を停止すると、駆動部176の駆動を制御して、おしり洗浄用ノズル111を、本体カバー5内に退避させる(ステップS106)。 After stopping the formation of the water film, the control device 177 controls the driving of the driving section 176 to retract the rear end washing nozzle 111 into the main body cover 5 (step S106).

次に、局部洗浄を行う際にシャッタ12に水膜を形成する動作について、図5を用いて説明する。 Next, the operation of forming a water film on the shutter 12 when washing the private parts will be described with reference to FIG.

例えば、使用者がリモコン装置2における局部洗浄ボタンを操作すると、制御装置177は、当該操作を検出する。そして、制御装置177は、給水バルブ15を制御して第1の流路13を開放させるとともに、駆動部176の駆動を制御しておしり洗浄用ノズル111の進出動作を開始させる(ステップS201)。 For example, when the user operates the private parts washing button on the remote control device 2, the control device 177 detects the operation. Then, the controller 177 controls the water supply valve 15 to open the first flow path 13, and controls the driving of the drive unit 176 to start advancing the bottom washing nozzle 111 (step S201).

おしり洗浄用ノズル111が進出するとノズル開口部11が開状態となる。したがって、制御装置177は、ノズル開口部11から進出すると、当該おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面において水膜を形成する(ステップS202)。具体的には、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から進出すると、流調バルブ175を制御して、選択分岐流路を分岐流路172とする。これにより、温水生成部16で生成された温水は分岐流路174を通り、水膜口171から吐出される。そのため、おしり洗浄用ノズル111の表面に温水が吐出される。また、おしり洗浄用ノズル111の表面に吐出された温水は、当該表面を伝ってシャッタ12の背面に流れる。これにより、洗浄用ノズル111の表面とシャッタ12の背面とにおいて水膜が形成される。 When the bottom washing nozzle 111 advances, the nozzle opening 11 is opened. Therefore, when the controller 177 advances from the nozzle opening 11, it forms a water film on the front surface of the bottom washing nozzle 111 and the rear surface of the shutter 12 (step S202). Specifically, when the bottom washing nozzle 111 advances from the nozzle opening 11 , the control device 177 controls the flow adjustment valve 175 to set the selected branch flow path to the branch flow path 172 . As a result, the hot water generated by the hot water generator 16 passes through the branch channel 174 and is discharged from the water film port 171 . Therefore, hot water is discharged onto the surface of the bottom washing nozzle 111 . Also, the warm water discharged onto the surface of the bottom washing nozzle 111 flows along the surface to the rear surface of the shutter 12 . Thereby, a water film is formed on the surface of the cleaning nozzle 111 and the back surface of the shutter 12 .

おしり洗浄用ノズル111が局部洗浄を行う所定の位置まで進出すると(ステップS203)、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111の進出動作を停止する。そして、制御装置177は、局部洗浄を実施するために、流調バルブ175を制御して、分岐流路174に加えて分岐流路172を選択分岐流路として選択する。これにより、温水生成部16で生成された温水は、分岐流路172及び分岐流路174に流入する。したがって、水膜の形成を継続するとともに、おしり洗浄用ノズル111の吐出孔10aから上記温水が洗浄水として吐出して局部洗浄を開始する(ステップS204)。 When the buttocks washing nozzle 111 advances to a predetermined position for washing the private parts (step S203), the control device 177 stops the advancing operation of the bottom washing nozzle 111 . Then, the control device 177 controls the flow adjustment valve 175 to select the branch flow path 172 in addition to the branch flow path 174 as the selected branch flow path in order to wash the private part. As a result, the hot water generated by the hot water generator 16 flows into the branch channel 172 and the branch channel 174 . Therefore, the formation of the water film is continued, and the warm water is discharged as washing water from the discharge hole 10a of the bottom washing nozzle 111 to start washing the private parts (step S204).

ここで、おしり洗浄用ノズル111による局部洗浄中において、当該おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面に水膜が形成されている。これにより、局部洗浄中において、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面に汚物が付着することを防止することができる。 Here, a water film is formed on the front surface of the rear washing nozzle 111 and the rear surface of the shutter 12 during washing of the private parts by the rear washing nozzle 111 . As a result, dirt can be prevented from adhering to the front surface of the bottom washing nozzle 111 and the rear surface of the shutter 12 during washing of the private parts.

リモコン装置2において、使用者により局部洗浄の停止を指示する操作が行われると、制御装置177は、当該操作を検出して、流調バルブ175における選択分岐流路を分岐流路174のみとする。すなわち、制御装置177は、第2の流路14から分岐流路172への温水の供給を停止することで、局部洗浄を停止する(ステップS205)。そして、制御装置177は、駆動部176の駆動を制御しておしり洗浄用ノズル111の退避動作を開始させる(ステップS206)。なお、おしり洗浄用ノズル111の退避動作を実施している場合においても、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面に対する水膜の形成は継続している。これにより、局部洗浄中において、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面の表面に汚物が付着した場合があっても、その付着した汚物を温水で洗い流すことが可能となる。 When the remote control device 2 is operated by the user to instruct to stop washing the private parts, the control device 177 detects the operation and sets only the branch flow path 174 as the selected branch flow path in the flow adjustment valve 175. . That is, the control device 177 stops the washing of the private parts by stopping the supply of warm water from the second channel 14 to the branch channel 172 (step S205). Then, the control device 177 controls the driving of the driving unit 176 to start the retraction operation of the rear end washing nozzle 111 (step S206). It should be noted that the formation of the water film on the front surface of the rear washing nozzle 111 and the rear surface of the shutter 12 continues even when the rear washing nozzle 111 is retracted. As a result, even if dirt adheres to the surface of the bottom washing nozzle 111 and the rear surface of the shutter 12 during washing, the adhered dirt can be washed away with warm water.

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が本体カバー5内に退避されたか否かを判定する(ステップS207)。そして、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が本体カバー5内に退避したと判定した場合には、水膜の形成を停止する(ステップS208)。具体的には、制御装置177は、流調バルブ175を制御することで第2の流路14から分岐流路174への温水の流入を停止することで、水膜の形成を停止する。または、制御装置177は、給水バルブ15を制御して第1の流路13を閉塞することで、水膜の形成を停止する。 The control device 177 determines whether or not the bottom washing nozzle 111 has been retracted into the body cover 5 (step S207). When the controller 177 determines that the bottom washing nozzle 111 has retreated into the main body cover 5, it stops forming the water film (step S208). Specifically, the control device 177 stops the inflow of hot water from the second channel 14 to the branch channel 174 by controlling the flow control valve 175, thereby stopping the formation of the water film. Alternatively, the control device 177 stops the formation of the water film by controlling the water supply valve 15 to close the first channel 13 .

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は、上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 Although the present invention has been described above using the embodiments, the technical scope of the present invention is not limited to the scope described in the above embodiments. It is obvious to those skilled in the art that various modifications or improvements can be made to the above embodiments. It is clear from the description of the scope of claims that forms with such modifications or improvements can also be included in the technical scope of the present invention.

(変形例1)
上記実施形態において、局部洗浄中においても、おしり洗浄用ノズル111の表面及びシャッタ12の背面に対する水膜の形成を継続する場合について説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、図5に示す動作において、制御装置177は、局部洗浄中においては局部洗浄ノズル10の表面への温水の吐出を停止して、水膜の形成を停止してもよい。
(Modification 1)
In the above embodiment, the case where the formation of the water film on the surface of the bottom washing nozzle 111 and the back surface of the shutter 12 is continued even during washing of the private parts has been described, but the present invention is not limited to this. For example, in the operation shown in FIG. 5, the control device 177 may stop the discharge of hot water onto the surface of the private parts washing nozzle 10 during the washing of the private parts to stop the formation of the water film.

(変形例2)
上記実施形態では、局部洗浄ノズル10が進出すると、シャッタ12は、背面12bを下方に向けるように上方に回動したが、本発明はこれに限定されない。例えば、シャッタ12は、局部洗浄ノズル10が進出すると、背面12bを上方に向けるように下方に回動してもよい。
(Modification 2)
In the above embodiment, when the private parts washing nozzle 10 advances, the shutter 12 rotates upward so that the back surface 12b faces downward, but the present invention is not limited to this. For example, the shutter 12 may rotate downward so that the back surface 12b faces upward when the private parts washing nozzle 10 advances.

(変形例3)
上記実施形態では、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10がノズル開口部11から前進してノズル開口部11を開状態となっている場合において、局部洗浄ノズル10の表面に温水を吐出したが、本発明はこれに限定されない。例えば、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10の表面に水を吐出してもよい。すなわち、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10の表面に冷水又は温水の水を吐出すればよい。
(Modification 3)
In the above embodiment, the washing unit 17 discharges hot water onto the surface of the private parts washing nozzle 10 when the private parts washing nozzle 10 advances from the nozzle opening 11 and the nozzle opening 11 is in the open state. The invention is not limited to this. For example, the washing unit 17 may eject water onto the surface of the private parts washing nozzle 10 . That is, the washing unit 17 may discharge cold water or hot water onto the surface of the private part washing nozzle 10 .

(変形例4)
上記実施形態では、洗浄部17は、シャッタ12の背面に水膜を形成したが、本発明はこれに限定されず、シャッタ12の表面に水膜を形成してもよいし、シャッタ12の表面及び背面の双方に水膜を形成してもよい。
(Modification 4)
In the above embodiment, the cleaning unit 17 forms a water film on the back surface of the shutter 12, but the present invention is not limited to this, and the water film may be formed on the surface of the shutter 12, or the surface of the shutter 12 may be formed with water. A water film may be formed on both the surface and the rear surface.

(変形例5)
なお、上記実施形態における水膜口171の位置は、温水生成部16で生成された温水の一部を水膜口171から局部洗浄ノズル10の表面に吐出できる位置であれば、特に限定されない。例えば、図6に示すように、水膜口171は、局部洗浄ノズル10を出し入れ可能な支持部本体300の上部に形成されてもよい。
(Modification 5)
Note that the position of the water film port 171 in the above embodiment is not particularly limited as long as it is a position that allows part of the hot water generated by the hot water generator 16 to be discharged from the water film port 171 onto the surface of the private parts washing nozzle 10 . For example, as shown in FIG. 6, the water film port 171 may be formed in the upper part of the support body 300 through which the private part washing nozzle 10 can be put in and taken out.

(変形例6)
上記実施形態では、シャッタ12に突起12aが設けられている場合について説明したが、本発明はこれに限定されない。すなわち、図7に示すように、シャッタ12に突起12aを設けなくてもよい。これにより、シャッタ12の下端が局部洗浄ノズル10に接触するため、シャッタ12の背面だけでなくシャッタ12の下端まで洗浄することができる。
(Modification 6)
In the above embodiment, the case where the protrusion 12a is provided on the shutter 12 has been described, but the present invention is not limited to this. That is, as shown in FIG. 7, the protrusion 12a may not be provided on the shutter 12. FIG. As a result, the lower end of the shutter 12 contacts the private parts washing nozzle 10, so that not only the back surface of the shutter 12 but also the lower end of the shutter 12 can be washed.

以上、説明したように、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9は、ノズル開口部11を開閉可能なシャッタ12に水を流す洗浄部17を備える。 As described above, the private parts washing device 9 according to one embodiment of the present invention includes the washing unit 17 that allows water to flow through the shutter 12 that can open and close the nozzle opening 11 .

このような構成によれば、シャッタ12に汚水や汚物が付着することを抑制することができる。 According to such a configuration, it is possible to prevent dirty water and dirt from adhering to the shutter 12 .

また、洗浄部17は、シャッタ12がノズル開口部11を開状態にしている場合に、シャッタ12に水を流してもよい。 Further, the cleaning unit 17 may flow water to the shutter 12 when the shutter 12 is in the open state with the nozzle opening 11 .

このような構成によれば、シャッタ12の背面に汚水や汚物が付着することを抑制することができる。
ここで、シャッタ12の表面は、使用者により視認されやすいため、汚れている場合には使用者により容易に清掃することが可能である。ただし、シャッタ12の背面は、使用者により視認されにくく、かつ清掃が困難である。したがって、洗浄部17は、シャッタ12がノズル開口部11を開状態にしている場合に、シャッタ12に水を流すことで、シャッタ12の背面を清潔にして衛生的に保つことができる。
According to such a configuration, it is possible to prevent dirty water and dirt from adhering to the back surface of the shutter 12 .
Here, since the surface of the shutter 12 is easily visible by the user, it can be easily cleaned by the user when it is dirty. However, the back surface of the shutter 12 is difficult for the user to visually recognize and is difficult to clean. Therefore, when the shutter 12 is in the open state with the nozzle opening 11, the cleaning unit 17 can keep the back surface of the shutter 12 clean and hygienic by running water through the shutter 12. - 特許庁

また、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10がシャッタ12を押圧して前記ノズル開口部を開状態に制御している場合において、局部洗浄ノズル10の表面に水を吐出することでシャッタ12に水を流してもよい。 In addition, when the private parts washing nozzle 10 presses the shutter 12 to control the nozzle opening to be in an open state, the washing part 17 discharges water onto the surface of the private parts washing nozzle 10 to spray the shutter 12 with water. may flow.

このような構成によれば、局部洗浄ノズル10の表面とシャッタ12の背面との双方において、汚水や汚物が付着することを抑制することができる。 According to such a configuration, it is possible to prevent dirty water and dirt from adhering to both the surface of the private parts washing nozzle 10 and the back surface of the shutter 12 .

また、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9では、局部洗浄ノズル10の表面に吐出された温水は、局部洗浄ノズル10の表面を伝ってシャッタ12の背面に流れるように構成されているため、局部洗浄ノズル10の横幅より広い範囲においてシャッタ12の背面を洗浄できる。 Further, in the private parts washing device 9 according to one embodiment of the present invention, the hot water discharged onto the surface of the private parts washing nozzle 10 is configured to flow along the surface of the private parts washing nozzle 10 to the back surface of the shutter 12 . Therefore, the back surface of the shutter 12 can be cleaned in a range wider than the width of the private part cleaning nozzle 10 .

A トイレシステム
1 トイレ装置
2 リモコン装置
9 局部洗浄装置
10 局部洗浄ノズル
11 ノズル開口部(開口部)
12 シャッタ
17 洗浄部
S 給水源
A Toilet system 1 Toilet device 2 Remote control device 9 Private washing device 10 Private washing nozzle 11 Nozzle opening (opening)
12 shutter 17 cleaning part S water supply source

Claims (3)

開口部から進出させた局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させることで局部洗浄を行う局部洗浄装置であって、
前記開口部を開閉可能なシャッタと、
前記シャッタが前記開口部を開状態とした場合に、前記シャッタに水を流す洗浄部と、
を備え、
前記シャッタは、前記開口部に対して回動可能に取り付けられており、局部洗浄ノズルが前進すると当該局部洗浄ノズルに押されて前記開口部を開状態とし、前記局部洗浄ノズルを後退させると前記開口部を閉状態とし、
前記洗浄部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から前進して前記開口部を開状態とした場合において、前記局部洗浄ノズルの表面に水を吐出することで、前記開口部に対して回動可能に取り付けられた上端から下端に至る面である前記シャッタの背面に水を流し、前記局部洗浄ノズルの横幅より広い範囲において前記シャッタの背面を洗浄し、且つ前記シャッタの下端まで洗浄する、
ことを特徴とする局部洗浄装置。
A private parts washing device for washing a private part by ejecting washing water from a private part washing nozzle advanced from an opening,
a shutter capable of opening and closing the opening;
a washing unit for flowing water to the shutter when the shutter opens the opening;
with
The shutter is rotatably attached to the opening, and when the private-parts washing nozzle advances, it is pushed by the private-parts washing nozzle to open the opening. Close the opening,
The washing unit rotates with respect to the opening by ejecting water onto the surface of the private parts washing nozzle when the private parts washing nozzle advances from the opening to open the opening. Water is run on the rear surface of the shutter, which is the surface from the upper end to the lower end that is attached, and the rear surface of the shutter is washed in a range wider than the width of the private washing nozzle, and the lower end of the shutter is washed.
A private cleaning device characterized by:
前記洗浄部は、前記開口部を開状態とした場合において、前記局部洗浄ノズルの表面に水を吐出することで、前記局部洗浄ノズルの表面と前記シャッタの背面との双方において水膜を形成する、請求項1に記載の局部洗浄装置。 The washing unit forms a water film on both the surface of the private parts washing nozzle and the back surface of the shutter by ejecting water onto the surface of the private parts washing nozzle when the opening is in the open state. , a private cleansing device according to claim 1. 前記洗浄部が吐出した水は、前記局部洗浄ノズルの表面を介して前記局部洗浄ノズルの前面に供給される、請求項2に記載の局部洗浄装置。 3. The private parts washing apparatus according to claim 2, wherein water ejected from said washing part is supplied to a front surface of said private parts washing nozzle through a surface of said private parts washing nozzle.
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