JP7061907B2 - Local cleaning equipment - Google Patents

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Description

本発明は、局部洗浄装置に関する。 The present invention relates to a local cleaning device.

下記特許文献1には、用便後に局部洗浄ノズルを開口部から便器本体の内側に進出させ、当該局部洗浄ノズルの先端から洗浄水を吐出させることで、人体の局部を洗浄する局部洗浄装置が開示されている。 The following Patent Document 1 describes a local cleaning device for cleaning a local part of a human body by advancing a local cleaning nozzle from an opening to the inside of the toilet body and discharging cleaning water from the tip of the local cleaning nozzle. It has been disclosed.

ところで、局部洗浄ノズルの清浄性を向上させることを目的として、局部洗浄ノズルの胴体回りに付着した汚れを落とすために、局部洗浄装置の本体内にノズル洗浄室を設け、そのノズル洗浄室内に局部洗浄ノズルを通過させることで局部洗浄ノズルを洗浄することが知られている。 By the way, for the purpose of improving the cleanliness of the local cleaning nozzle, in order to remove the dirt adhering to the body of the local cleaning nozzle, a nozzle cleaning chamber is provided in the main body of the local cleaning device, and the nozzle cleaning chamber is locally occupied. It is known that the local cleaning nozzle is cleaned by passing it through the cleaning nozzle.

より具体的には、上記局部洗浄装置は、ノズル洗浄室内に洗浄水を噴射させ、このノズル洗浄室内に局部洗浄後の局部洗浄ノズルを通過させることで、局部洗浄ノズルを洗浄水で洗浄する。 More specifically, the local cleaning device injects cleaning water into the nozzle cleaning chamber and passes the local cleaning nozzle after the local cleaning through the nozzle cleaning chamber to clean the local cleaning nozzle with the cleaning water.

特開2007-231719号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-231719

ただし、局部洗浄ノズルに向けて洗浄水を噴射すると、局部洗浄ノズルに付着していた汚物がノズル洗浄室内に飛散してしまい、衛生的に問題がある場合がある。 However, when the cleaning water is sprayed toward the local cleaning nozzle, the filth adhering to the local cleaning nozzle is scattered in the nozzle cleaning chamber, which may cause a hygienic problem.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その目的は、ノズル洗浄室を設けることなく、局部洗浄ノズルの清浄性を向上させることである。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to improve the cleanliness of a local cleaning nozzle without providing a nozzle cleaning chamber.

本発明の一態様は、開口部から進出させた局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させることで局部を洗浄する局部洗浄装置であって、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態において、当該局部洗浄ノズルの表面に温水で水膜を形成する洗浄部を備えることを特徴とする局部洗浄装置である。 One aspect of the present invention is a local cleaning device that cleans a local area by discharging cleaning water from a local cleaning nozzle that is advanced from the opening, in a state where the local cleaning nozzle is advanced from the opening. The local cleaning apparatus is provided with a cleaning portion that forms a water film with warm water on the surface of the local cleaning nozzle.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、給水源から供給された水を第1の温度に加熱することで温水を生成する温水生成部を更に備え、前記洗浄部は、前記温水生成部で生成された温水を、局部洗浄のための前記洗浄水と前記水膜の形成のための前記温水との双方に用いる。 One aspect of the present invention is the above-mentioned local cleaning device, further comprising a hot water generating unit that generates hot water by heating water supplied from a water supply source to a first temperature, and the cleaning unit is the above-mentioned cleaning unit. The hot water generated by the hot water generation unit is used for both the washing water for local washing and the hot water for forming the water film.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記温水生成部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態であって、局部洗浄ノズルから洗浄水が吐出していない場合には、前記給水源から供給された水を第1の温度よりも高い第2の温度に加熱する。 One aspect of the present invention is the above-mentioned local cleaning device, in which the hot water generating unit is in a state where the local cleaning nozzle is advanced from the opening, and cleaning water is discharged from the local cleaning nozzle. If not, the water supplied from the water supply source is heated to a second temperature higher than the first temperature.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、前記給水源から前記温水生成部に供給される水の温度に応じて、前記水膜を形成するために前記局部洗浄ノズルの表面に吐出する温水の量を制御する。 One aspect of the present invention is the above-mentioned local cleaning device, in which the cleaning unit is used to form the water film according to the temperature of water supplied from the water supply source to the hot water generation unit. Controls the amount of hot water discharged to the surface of the cleaning nozzle.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、前記洗浄部は、前記温水生成部で生成された温水を洗浄水として前記局部洗浄ノズルから吐出させる第1のモードと、前記温水生成部で加熱されず前記給水源から供給された冷水を洗浄水として前記局部洗浄ノズルから吐出させる第2のモードとを切り替え可能な構成を備える。 One aspect of the present invention is the above-mentioned local cleaning device, wherein the cleaning unit has a first mode in which hot water generated by the hot water generation unit is discharged as cleaning water from the local cleaning nozzle, and the hot water generation unit. It is provided with a configuration capable of switching between a second mode in which cold water supplied from the water supply source without being heated by the unit is discharged from the local cleaning nozzle as cleaning water.

本発明の一態様は、上述の局部洗浄装置であって、給水源から供給された水を第1の温度に加熱することで前記温水を生成する第1の温水生成部と、前記給水源から供給された水を前記第1の温度よりも高い第2の温度に加熱することで前記温水を生成する第2の温水生成部と、を備え、前記洗浄部は、前記第1の温水生成部で生成された温水を前記洗浄水として用い、前記第2の温水生成部で生成された温水を前記水膜の形成のための前記温水として用いる。 One aspect of the present invention is the above-mentioned local cleaning device, from the first hot water generation unit that generates the hot water by heating the water supplied from the water supply source to the first temperature, and from the water supply source. A second hot water generation unit that generates the hot water by heating the supplied water to a second temperature higher than the first temperature is provided, and the cleaning unit is the first hot water generation unit. The hot water generated in the above is used as the washing water, and the hot water generated in the second hot water generation unit is used as the hot water for forming the water film.

以上説明したように、本発明によれば、ノズル洗浄室を設けることなく、局部洗浄ノズルの清浄性を向上させることができる。 As described above, according to the present invention, the cleanliness of the local cleaning nozzle can be improved without providing the nozzle cleaning chamber.

本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9を備えるトイレシステムAの概略構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the schematic structure of the toilet system A provided with the local cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9の概略構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the schematic structure of the local cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る水膜形成の動作のフロー図である。It is a flow chart of the operation of water film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る水膜形成の動作の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the operation of water film formation which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9の概略構成の第1の変形例(変形例4)を示す図である。It is a figure which shows the 1st modification (modification 4) of the schematic structure of the local cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9の概略構成の第2の変形例(変形例5)を示す図である。It is a figure which shows the 2nd modification (modification 5) of the schematic structure of the local cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9の概略構成の第3の変形例(変形例6)を示す図である。It is a figure which shows the 3rd modification (modification 6) of the schematic structure of the local cleaning apparatus 9 which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る水膜口171の位置を示す図である。It is a figure which shows the position of the water film mouth 171 which concerns on one Embodiment of this invention.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。なお、図面において、同一又は類似の部分には同一の符号を付して、重複する説明を省く場合がある。また、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。 Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention to which the claims are made. Also, not all combinations of features described in the embodiments are essential to the means of solving the invention. In the drawings, the same or similar parts may be designated by the same reference numerals to omit duplicate explanations. In addition, the shape and size of elements in the drawings may be exaggerated for a clearer explanation.

図1は、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置を備えるトイレシステムAの概略構成の一例を示す図である。図1に示すように、トイレシステムAは、トイレ装置1及びリモコン装置2を備える。 FIG. 1 is a diagram showing an example of a schematic configuration of a toilet system A including a local cleaning device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the toilet system A includes a toilet device 1 and a remote control device 2.

トイレ装置1は、トイレルームに設けられており、リモコン装置2と有線又は無線通信することで情報を送受する。 The toilet device 1 is provided in the toilet room, and transmits / receives information by wire or wireless communication with the remote control device 2.

リモコン装置2は、トイレルームの所定位置に設置されている。例えば、この所定位置とは、トイレルームの壁面である。リモコン装置2には、複数の操作スイッチが設けられており、使用者は、例えば、便器洗浄や局部洗浄に対応した操作スイッチを押下操作することで、トイレ装置1に対して便器洗浄や局部洗浄を実行させることができる。 The remote control device 2 is installed at a predetermined position in the toilet room. For example, this predetermined position is the wall surface of the toilet room. The remote controller 2 is provided with a plurality of operation switches, and the user can, for example, press and operate the operation switch corresponding to the toilet bowl cleaning and the local cleaning to perform the toilet bowl cleaning and the local cleaning with respect to the toilet device 1. Can be executed.

トイレ装置1は、便器本体3及び便座装置4を備える。 The toilet device 1 includes a toilet bowl main body 3 and a toilet seat device 4.

便器本体3は、トイレルーム内の床面に設置されている。便器本体3の上部には、便座装置4が設置されている。 The toilet body 3 is installed on the floor in the toilet room. A toilet seat device 4 is installed on the upper part of the toilet body 3.

便座装置4は、本体カバー5、便座6、便蓋7、便器洗浄装置8及び局部洗浄装置9を備える。 The toilet seat device 4 includes a main body cover 5, a toilet seat 6, a toilet lid 7, a toilet bowl cleaning device 8, and a local cleaning device 9.

本体カバー5は、便器本体3の後部かつ上部に載置された便器洗浄装置8及び局部洗浄装置9を収容するように便器洗浄装置8及び局部洗浄装置9を上側から覆うカバーである。 The main body cover 5 is a cover that covers the toilet bowl cleaning device 8 and the local cleaning device 9 from above so as to accommodate the toilet bowl cleaning device 8 and the local cleaning device 9 mounted on the rear and upper parts of the toilet bowl main body 3.

便座6は、本体カバー5に対して上下方向に回動可能に支持されている。すなわち、便座6は、本体カバー5に軸支されており、便器本体3に対して起立状態と倒伏状態との間で回動自在である。 The toilet seat 6 is rotatably supported in the vertical direction with respect to the main body cover 5. That is, the toilet seat 6 is pivotally supported by the main body cover 5 and is rotatable between an upright state and an inverted state with respect to the toilet body 3.

便蓋7は、本体カバー5に対して上下方向に回動可能に支持されている。すなわち、便蓋7は、本体カバー5に軸支されており、便器本体3に対して起立状態と倒伏状態との間で回動自在である。 The toilet lid 7 is rotatably supported in the vertical direction with respect to the main body cover 5. That is, the toilet lid 7 is pivotally supported by the main body cover 5 and is rotatable between an upright state and an inverted state with respect to the toilet bowl main body 3.

便器洗浄装置8は、本体カバー5内に収容して設けられ、例えば使用者により便器洗浄に対応する操作スイッチが操作されることで、便器本体3内に洗浄水を吐出させる便器洗浄を実行する。 The toilet bowl cleaning device 8 is housed in the main body cover 5, and for example, when the user operates an operation switch corresponding to the toilet bowl cleaning, the toilet bowl cleaning is executed to discharge the cleaning water into the toilet bowl main body 3. ..

局部洗浄装置9は、局部洗浄ノズル10、ノズル開口部11、及びシャッタユニット12を備える。なお、ノズル開口部11は、本発明の「開口部」の一例である。
局部洗浄装置9は、用便後に局部洗浄ノズル10をノズル開口部11から便器本体3の内側に進出させ、当該局部洗浄ノズル10の先端から洗浄水を吐出することで、人体の局部を洗浄する局部洗浄を実行する。なお、シャッタユニット12は、局部洗浄ノズル10が本体カバー5内に退避した状態でノズル開口部11を閉じることで、汚物、洗浄水の飛沫などが局部洗浄ノズル10にかかったり、本体カバー5の内部に入り込むことを防止する。また、シャッタユニット12は、局部洗浄ノズル10の進出とともに回動してノズル開口部11を開く。
The local cleaning device 9 includes a local cleaning nozzle 10, a nozzle opening 11, and a shutter unit 12. The nozzle opening 11 is an example of the "opening" of the present invention.
The local cleaning device 9 advances the local cleaning nozzle 10 from the nozzle opening 11 to the inside of the toilet body 3 after stool, and discharges cleaning water from the tip of the local cleaning nozzle 10 to clean the local part of the human body. Perform a local wash. The shutter unit 12 closes the nozzle opening 11 in a state where the local cleaning nozzle 10 is retracted into the main body cover 5, so that filth, splashes of cleaning water, etc. may be applied to the local cleaning nozzle 10 or the main body cover 5 may be covered. Prevent it from getting inside. Further, the shutter unit 12 rotates with the advance of the local cleaning nozzle 10 to open the nozzle opening 11.

さらに、局部洗浄装置9は、局部洗浄ノズル10がノズル開口部11から進出している状態において、当該局部洗浄ノズル10の表面に温水で水膜(以下、「温水膜」という。)を形成する機能を備える。以下に、本実施形態に係る局部洗浄装置9の構成について、図2を用いて具体的に説明する。 Further, the local cleaning device 9 forms a water film (hereinafter referred to as “warm water film”) on the surface of the local cleaning nozzle 10 with hot water in a state where the local cleaning nozzle 10 is advanced from the nozzle opening 11. It has a function. Hereinafter, the configuration of the local cleaning device 9 according to the present embodiment will be specifically described with reference to FIG.

図2に示すように、局部洗浄装置9は、第1の流路13、第2の流路14、給水バルブ15、温水生成部16、及び洗浄部17を備える。 As shown in FIG. 2, the local cleaning device 9 includes a first flow path 13, a second flow path 14, a water supply valve 15, a hot water generation unit 16, and a cleaning unit 17.

第1の流路13は、給水源Sからの水を、給水バルブ15を介して温水生成部16に流入させる流路である。なお、本実施形態において「水」とは、冷水でもよいし、温水でもよい。
第2の流路14は、温水生成部16からの温水を洗浄部17に送水するための流路である。
The first flow path 13 is a flow path through which water from the water supply source S flows into the hot water generation unit 16 via the water supply valve 15. In the present embodiment, the "water" may be cold water or hot water.
The second flow path 14 is a flow path for sending hot water from the hot water generation unit 16 to the cleaning unit 17.

給水バルブ15は、第1の流路13に設けられ、その第1の流路13を開放又は閉塞することで、給水源Sから温水生成部16への給水を制御する。具体的には、給水バルブ15は、洗浄部17の制御により開状態に制御された場合には、第1の流路13を開放する。これにより、給水源Sからの水が第1の流路13を介して温水生成部16に流入する。一方、給水バルブ15は、洗浄部17の制御により閉状態に制御された場合には、第1の流路13を閉塞する。これにより、温水生成部16への水の流入が停止される。 The water supply valve 15 is provided in the first flow path 13, and by opening or closing the first flow path 13, the water supply from the water supply source S to the hot water generation unit 16 is controlled. Specifically, the water supply valve 15 opens the first flow path 13 when it is controlled to be in the open state by the control of the cleaning unit 17. As a result, the water from the water supply source S flows into the hot water generation unit 16 via the first flow path 13. On the other hand, when the water supply valve 15 is controlled to be closed by the control of the cleaning unit 17, the water supply valve 15 closes the first flow path 13. As a result, the inflow of water into the hot water generation unit 16 is stopped.

温水生成部16は、第1の流路13を介して流入してきた水を所定の温度に加熱して温水を生成する。そして、温水生成部16は、所定の温度に加熱した温水を第2の流路14を介して洗浄部17に送水する。以下に、温水生成部16の構成について、具体的に説明する。 The hot water generation unit 16 heats the water flowing in through the first flow path 13 to a predetermined temperature to generate hot water. Then, the hot water generation unit 16 sends the hot water heated to a predetermined temperature to the cleaning unit 17 via the second flow path 14. The configuration of the hot water generation unit 16 will be specifically described below.

温水生成部16は、ヒータ161、温度センサ162、及び温度制御部163を備える。 The hot water generation unit 16 includes a heater 161, a temperature sensor 162, and a temperature control unit 163.

ヒータ161は、第1の流路13を介して流入してきた水を、温度制御部163の制御に基づいて所定の温度に加熱する。そして、ヒータ161により加熱されて生成された温水は、第2の流路14を介して洗浄部17に供給される。 The heater 161 heats the water flowing in through the first flow path 13 to a predetermined temperature under the control of the temperature control unit 163. Then, the hot water generated by being heated by the heater 161 is supplied to the cleaning unit 17 via the second flow path 14.

温度センサ162は、第2の流路14に設けられ、ヒータ161により加熱された温水の温度を測定するセンサであって、例えば、サーミスタである。温度センサ162は、測定した温度を温度制御部163に出力する。 The temperature sensor 162 is a sensor provided in the second flow path 14 and measuring the temperature of the hot water heated by the heater 161, and is, for example, a thermistor. The temperature sensor 162 outputs the measured temperature to the temperature control unit 163.

温度制御部163は、温度センサ162で測定された温度が上記所定の温度になるようにヒータ161の出力を制御する。なお、温度制御部163は、第2の流路14に供給する温水の温度を任意の温度に制御可能である。 The temperature control unit 163 controls the output of the heater 161 so that the temperature measured by the temperature sensor 162 becomes the predetermined temperature. The temperature control unit 163 can control the temperature of the hot water supplied to the second flow path 14 to an arbitrary temperature.

洗浄部17は、局部洗浄ノズル10、水膜口171、分岐流路172~174、流調バルブ175、駆動部176、及び制御装置177を備える。 The cleaning unit 17 includes a local cleaning nozzle 10, a water film port 171, branch flow paths 172 to 174, a flow control valve 175, a drive unit 176, and a control device 177.

局部洗浄ノズル10は、おしり洗浄用ノズル111及びビデ用ノズル112の一対の局部洗浄ノズルの少なくともいずれかである。なお、以下の説明において、おしり洗浄用ノズル111及びビデ用ノズル112のそれぞれを区別しない場合には、単に「局部洗浄ノズル10」と標記する。 The local cleaning nozzle 10 is at least one of a pair of local cleaning nozzles of the buttocks cleaning nozzle 111 and the bidet cleaning nozzle 112. In the following description, when each of the buttocks cleaning nozzle 111 and the bidet cleaning nozzle 112 is not distinguished, it is simply labeled as "local cleaning nozzle 10".

水膜口171は、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成するための開口部である。すなわち、洗浄部17は、水膜口171から局部洗浄ノズル10の表面に向けて温水を吐出させることで、ノズル開口部11から進出している局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成する。 The water film port 171 is an opening for forming a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10. That is, the cleaning unit 17 discharges hot water from the water film port 171 toward the surface of the local cleaning nozzle 10 to form a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 extending from the nozzle opening 11.

分岐流路172~174は、第2の流路14から分岐する流路である。 The branch flow paths 172 to 174 are flow paths that branch from the second flow path 14.

分岐流路172は、第2の流路14から分岐し、おしり洗浄用ノズル111の先端部に連通する。
分岐流路173は、第2の流路14から分岐し、ビデ用ノズル112の先端部に連通する。
分岐流路174は、第2の流路14から分岐し、水膜口171に連通する。
The branch flow path 172 branches from the second flow path 14 and communicates with the tip of the buttocks cleaning nozzle 111.
The branch flow path 173 branches from the second flow path 14 and communicates with the tip of the bidet nozzle 112.
The branch flow path 174 branches from the second flow path 14 and communicates with the water film port 171.

流調バルブ175は、複数の分岐流路172~174のうち、温水生成部16で生成された温水を流す分岐流路を一以上選択し、その選択した分岐流路(以下、「選択分岐流路」という。)に温水生成部16で生成された温水を供給する。ただし、流調バルブ175は、複数の分岐流路172~174のどの分岐流路にも、温水生成部16で生成された温水を流さない場合には、選択分岐流路を選択しないこともできる。
さらに、流調バルブ175は、その選択分岐流路に流れる温水の流量を調整可能である。なお、流調バルブ175における選択分岐流路の選択や選択分岐流路に流れる温水の流量調整は、制御装置177により制御される。
The flow control valve 175 selects one or more branch flow paths through which the hot water generated by the hot water generation unit 16 flows from the plurality of branch flow paths 172 to 174, and the selected branch flow paths (hereinafter, “selective branch flow flow”). The hot water generated by the hot water generation unit 16 is supplied to the road (referred to as "road"). However, the flow control valve 175 may not select the selective branch flow path when the hot water generated by the hot water generation unit 16 does not flow through any of the branch flow paths 172 to 174 of the plurality of branch flow paths 172 to 174. ..
Further, the flow control valve 175 can adjust the flow rate of hot water flowing in the selective branch flow path. The selection of the selective branch flow path in the flow control valve 175 and the flow rate adjustment of the hot water flowing in the selective branch flow path are controlled by the control device 177.

駆動部176は、制御装置177による制御に基づいて、一対のおしり洗浄用ノズル111とビデ用ノズル112を、それぞれ個別に進退させることが可能である。 The drive unit 176 can move the pair of the buttocks cleaning nozzles 111 and the bidet nozzles 112 individually, based on the control by the control device 177.

制御装置177は、給水バルブ15の駆動を制御することで、第1の流路13の開放又は閉塞を制御する。
また、制御装置177は、流調バルブ175における選択分岐流路の選択を制御することで、局部洗浄ノズル10による局部洗浄や、局部洗浄ノズル10の表面に対する温水膜の形成を制御する。なお、この温水による水膜は、局部洗浄ノズル10の進退動作に伴い形成される。
さらに、制御装置177は、温度制御部163と通信することで、第2の流路14に供給される温水の温度を調整可能である。
The control device 177 controls the opening or closing of the first flow path 13 by controlling the drive of the water supply valve 15.
Further, the control device 177 controls the local cleaning by the local cleaning nozzle 10 and the formation of the hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 by controlling the selection of the selective branch flow path in the flow control valve 175. The water film formed by the hot water is formed as the local cleaning nozzle 10 moves forward and backward.
Further, the control device 177 can adjust the temperature of the hot water supplied to the second flow path 14 by communicating with the temperature control unit 163.

以下に、本実施形態に係る局部洗浄装置9における温水膜の形成の動作について、図3を用いて説明する。図3は、本実施形態に係る温水膜の形成の動作のフロー図である。なお、以下の説明において、局部洗浄ノズル10の進退動作として、おしり洗浄用ノズル111の進退動作を例として説明する。 Hereinafter, the operation of forming the hot water film in the local cleaning device 9 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a flow chart of the operation of forming the hot water film according to the present embodiment. In the following description, as the advance / retreat operation of the local cleaning nozzle 10, the advancing / retreating operation of the buttocks cleaning nozzle 111 will be described as an example.

例えば、使用者がリモコン装置2における局部洗浄ボタンを操作すると、制御装置177は、当該操作を検出する。そして、制御装置177は、給水バルブ15を制御して第1の流路13を開放させるとともに、駆動部176の駆動を制御しておしり洗浄用ノズル111の進出動作を開始させる(ステップS101)。 For example, when the user operates the local cleaning button on the remote control device 2, the control device 177 detects the operation. Then, the control device 177 controls the water supply valve 15 to open the first flow path 13 and controls the drive of the drive unit 176 to start the advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111 (step S101).

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から進出すると、当該おしり洗浄用ノズル111の表面において温水膜を形成する(ステップS102)。具体的には、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から進出すると、流調バルブ175を制御して、選択分岐流路を分岐流路172とする。これにより、温水生成部16で生成された温水は分岐流路174を通り、水膜口171から吐出される。したがって、洗浄用ノズル111の表面において温水膜が形成される。 When the buttocks cleaning nozzle 111 advances from the nozzle opening 11, the control device 177 forms a hot water film on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111 (step S102). Specifically, the control device 177 controls the flow control valve 175 when the tail cleaning nozzle 111 advances from the nozzle opening 11, and makes the selective branch flow path the branch flow path 172. As a result, the hot water generated by the hot water generation unit 16 passes through the branch flow path 174 and is discharged from the water film port 171. Therefore, a hot water film is formed on the surface of the cleaning nozzle 111.

おしり洗浄用ノズル111が局部洗浄を行う所定の位置まで進出すると(ステップS103)、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111の進出動作を停止する。そして、制御装置177は、局部洗浄を実施するために、流調バルブ175を制御して、分岐流路174に加えて分岐流路172を選択分岐流路として選択する。これにより、温水生成部16で生成された温水は、分岐流路172及び分岐流路174に流入する。したがって、温水膜の形成を継続するとともに、おしり洗浄用ノズル111の先端部から上記温水が洗浄水として吐出して局部洗浄を開始する(ステップS104)。 When the buttocks cleaning nozzle 111 advances to a predetermined position for local cleaning (step S103), the control device 177 stops the advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111. Then, the control device 177 controls the flow control valve 175 to select the branch flow path 172 as the selective branch flow path in addition to the branch flow path 174 in order to carry out local cleaning. As a result, the hot water generated by the hot water generation unit 16 flows into the branch flow path 172 and the branch flow path 174. Therefore, while continuing to form the hot water film, the hot water is discharged as cleaning water from the tip of the buttocks cleaning nozzle 111 to start local cleaning (step S104).

ここで、おしり洗浄用ノズル111による局部洗浄中において、当該おしり洗浄用ノズル111の表面に温水膜が形成されている。これにより、局部洗浄中において、おしり洗浄用ノズル111の表面に汚物が付着することを防止することができる。さらに、おしり洗浄用ノズル111の表面に形成される水膜に温水を使用するため、油分を含んだ汚物に対しておしり洗浄用ノズル111のシールド性(防汚性)を高めることができる。 Here, a hot water film is formed on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111 during local cleaning by the buttocks cleaning nozzle 111. This makes it possible to prevent dirt from adhering to the surface of the buttocks cleaning nozzle 111 during local cleaning. Further, since warm water is used for the water film formed on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111, the shielding property (antifouling property) of the buttocks cleaning nozzle 111 can be improved against filth containing oil.

リモコン装置2において、使用者により局部洗浄の停止を指示する操作が行われると、制御装置177は、当該操作を検出して、流調バルブ175における選択分岐流路を分岐流路174のみとする。すなわち、制御装置177は、第2の流路14から分岐流路172への温水の供給を停止することで、局部洗浄を停止する(ステップS105)。そして、制御装置177は、駆動部176の駆動を制御しておしり洗浄用ノズル111の退避動作を開始させる(ステップS106)。なお、おしり洗浄用ノズル111の退避動作を実施している場合においても、温水膜の形成は継続している。これにより、局部洗浄中において、おしり洗浄用ノズル111の表面に汚物が付着した場合があっても、その付着した汚物を温水で洗い流すことが可能となる。 When the user performs an operation instructing the remote control device 2 to stop the local cleaning, the control device 177 detects the operation and sets the selective branch flow path in the flow control valve 175 to only the branch flow path 174. .. That is, the control device 177 stops the local cleaning by stopping the supply of hot water from the second flow path 14 to the branch flow path 172 (step S105). Then, the control device 177 controls the drive of the drive unit 176 to start the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111 (step S106). Even when the buttocks cleaning nozzle 111 is retracted, the formation of the hot water film continues. As a result, even if filth adheres to the surface of the buttocks cleaning nozzle 111 during local cleaning, the adhered filth can be washed away with warm water.

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が本体カバー5内に退避されたか否かを判定する(ステップS107)。そして、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が本体カバー5内に退避したと判定した場合には、温水膜の形成を停止する(ステップS108)。具体的には、制御装置177は、流調バルブ175を制御することで第2の流路14から分岐流路174への温水の流入を停止することで、温水膜の形成を停止する。または、制御装置177は、給水バルブ15を制御して第1の流路13を閉塞することで、温水膜の形成を停止する。 The control device 177 determines whether or not the buttocks cleaning nozzle 111 has been retracted into the main body cover 5 (step S107). Then, when the control device 177 determines that the buttocks cleaning nozzle 111 has retracted into the main body cover 5, the control device 177 stops the formation of the hot water film (step S108). Specifically, the control device 177 stops the formation of the hot water film by stopping the inflow of hot water from the second flow path 14 to the branch flow path 174 by controlling the flow control valve 175. Alternatively, the control device 177 controls the water supply valve 15 to block the first flow path 13 to stop the formation of the hot water film.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は、上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。そのような変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 Although the present invention has been described above using the embodiments, the technical scope of the present invention is not limited to the scope described in the above embodiments. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or improvements can be made to the above embodiments. It is clear from the description of the claims that the form with such changes or improvements may be included in the technical scope of the present invention.

(変形例1)
上記実施形態では、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10の表面に対して、一定の温度の温水膜を形成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10による局部洗浄中においては、第1の温度での温水で局部洗浄と温水膜の形成とを行い、局部洗浄ノズル10による局部洗浄中でない場合には、第1の温度よりも高い第2の温度で温水膜の形成を行う。この第1の温度とは、局部洗浄における洗浄水の温度として使用者により設定され得る温度である。第2の温度とは、例えば、油分を溶解し得る温度である。以下に、局部洗浄中か否かで温水の温度を変更する具体的な動作について、図4を用いて説明する。
(Modification 1)
In the above embodiment, the cleaning unit 17 forms a hot water film having a constant temperature on the surface of the local cleaning nozzle 10, but the present invention is not limited to this. For example, the cleaning unit 17 performs local cleaning and formation of a hot water film with warm water at the first temperature during local cleaning by the local cleaning nozzle 10, and if it is not during local cleaning by the local cleaning nozzle 10, the cleaning unit 17 performs local cleaning. The hot water film is formed at a second temperature higher than the first temperature. The first temperature is a temperature that can be set by the user as the temperature of the washing water in the local washing. The second temperature is, for example, a temperature at which oil can be dissolved. Hereinafter, a specific operation of changing the temperature of the hot water depending on whether or not local cleaning is in progress will be described with reference to FIG.

例えば、使用者がリモコン装置2における局部洗浄ボタンを操作すると、制御装置177は、当該操作を検出する。そして、制御装置177は、給水バルブ15を制御して第1の流路13を開放させるとともに、駆動部176の駆動を制御して局部洗浄ノズル10の進出動作を開始させる(ステップS201)。 For example, when the user operates the local cleaning button on the remote control device 2, the control device 177 detects the operation. Then, the control device 177 controls the water supply valve 15 to open the first flow path 13 and controls the drive of the drive unit 176 to start the advance operation of the local cleaning nozzle 10 (step S201).

ここで、温水生成部16は、局部洗浄ノズル10が進出動作を行っている場合には、制御装置177から進出動作信号を取得する。したがって、温水生成部16は、制御装置177から進出動作信号を取得している場合には、第1の流路13を介して流入してきた水を第1の温度よりも高い第2の温度に加熱する。したがって、ヒータ161により加熱されて生成された第2の温度の温水は、第2の流路14を介して洗浄部17に供給される。 Here, the hot water generation unit 16 acquires the advance operation signal from the control device 177 when the local cleaning nozzle 10 is performing the advance operation. Therefore, when the hot water generation unit 16 has acquired the advance operation signal from the control device 177, the hot water generation unit 16 brings the water flowing in through the first flow path 13 to a second temperature higher than the first temperature. Heat. Therefore, the hot water having a second temperature generated by being heated by the heater 161 is supplied to the cleaning unit 17 via the second flow path 14.

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から進出すると、当該おしり洗浄用ノズル111の表面において第2の温度の温水膜を形成する(ステップS202)。具体的には、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111がノズル開口部11から進出すると、流調バルブ175を制御して、選択分岐流路を分岐流路172とする。これにより、温水生成部16で生成された第2の温度の温水は、分岐流路174を通り、水膜口171から吐出される。したがって、おしり洗浄用ノズル111の表面において第2の温度の温水膜が形成される。 When the tail cleaning nozzle 111 advances from the nozzle opening 11, the control device 177 forms a hot water film having a second temperature on the surface of the tail cleaning nozzle 111 (step S202). Specifically, the control device 177 controls the flow control valve 175 when the tail cleaning nozzle 111 advances from the nozzle opening 11, and makes the selective branch flow path the branch flow path 172. As a result, the hot water having a second temperature generated by the hot water generation unit 16 passes through the branch flow path 174 and is discharged from the water film port 171. Therefore, a hot water film having a second temperature is formed on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111.

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が所定の位置まで進出すると(ステップS203)、おしり洗浄用ノズル111の進出動作を停止する。そして、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111の進出動作を停止したことを示す進出動作停止信号を、温水生成部16に出力する。 When the buttocks cleaning nozzle 111 advances to a predetermined position (step S203), the control device 177 stops the advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111. Then, the control device 177 outputs an advance operation stop signal indicating that the advance operation of the buttocks cleaning nozzle 111 has been stopped to the hot water generation unit 16.

温水生成部16は、制御装置177から進出動作停止信号を取得すると、第1の流路13を介して流入してきた水を第2の温度ではなく、第2の温度よりも低い第1の温度に制御する(ステップS204)。そして、温水生成部16は、温度センサ162で測定された温度が第1の温度であることを確認した後、局部洗浄を許可する局部洗浄許可信号を制御装置177に出力する。 When the hot water generation unit 16 acquires the advance operation stop signal from the control device 177, the water flowing in through the first flow path 13 is not the second temperature but the first temperature lower than the second temperature. (Step S204). Then, after confirming that the temperature measured by the temperature sensor 162 is the first temperature, the hot water generation unit 16 outputs a local cleaning permission signal for permitting local cleaning to the control device 177.

制御装置177は、温水生成部16から局部洗浄許可信号を取得すると、局部洗浄を実施するために、流調バルブ175を制御して、分岐流路174に加えて分岐流路172を選択分岐流路として選択する。これにより、温水生成部16で生成された第1の温度の温水は、分岐流路172及び分岐流路174に流入する。したがって、第1の温度による温水膜が形成されるとともに、おしり洗浄用ノズル111の先端から第1の温度の温水が洗浄水として吐出され局部洗浄が開始される(ステップS205)。 When the control device 177 acquires the local cleaning permission signal from the hot water generation unit 16, it controls the flow control valve 175 to perform local cleaning, and selects the branch flow path 172 in addition to the branch flow path 174. Select as a road. As a result, the hot water having the first temperature generated by the hot water generation unit 16 flows into the branch flow path 172 and the branch flow path 174. Therefore, the hot water film having the first temperature is formed, and the hot water having the first temperature is discharged as the washing water from the tip of the buttocks washing nozzle 111, and the local washing is started (step S205).

リモコン装置2において、使用者により局部洗浄の停止を指示する操作が行われると、制御装置177は、当該操作を検出して、流調バルブ175における選択分岐流路を分岐流路174のみとする。すなわち、制御装置177は、第2の流路14から分岐流路172への温水の供給を停止することで、局部洗浄を停止する(ステップS206)。そして、制御装置177は、駆動部176の駆動を制御しておしり洗浄用ノズル111の退避動作を開始させる(ステップS207)。 When the user performs an operation instructing the remote control device 2 to stop the local cleaning, the control device 177 detects the operation and sets the selective branch flow path in the flow control valve 175 to only the branch flow path 174. .. That is, the control device 177 stops the local cleaning by stopping the supply of hot water from the second flow path 14 to the branch flow path 172 (step S206). Then, the control device 177 controls the drive of the drive unit 176 to start the retracting operation of the buttocks cleaning nozzle 111 (step S207).

ここで、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111の退避動作を開始させると、その旨を示す退避動作信号を温水生成部16に出力する。そして、温水生成部16は、制御装置177から退避動作信号を取得している場合には、第1の流路13を介して流入してきた水を第1の温度よりも高い第2の温度に制御する(ステップS208)。したがって、ヒータ161により加熱されて生成された第2の温度の温水は、第2の流路14を介して分岐流路174に供給される。そのため、第2の温度の温水が水膜口171から吐出され、第2の温度の水膜がおしり洗浄用ノズル111の表面に形成される。 Here, when the control device 177 starts the evacuation operation of the buttocks cleaning nozzle 111, the control device 177 outputs an evacuation operation signal to that effect to the hot water generation unit 16. Then, when the hot water generation unit 16 has acquired the evacuation operation signal from the control device 177, the hot water generation unit 16 brings the water flowing in through the first flow path 13 to a second temperature higher than the first temperature. Control (step S208). Therefore, the hot water having a second temperature generated by being heated by the heater 161 is supplied to the branch flow path 174 via the second flow path 14. Therefore, hot water having a second temperature is discharged from the water film port 171 and a water film having a second temperature is formed on the surface of the nozzle for cleaning the tail.

制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が本体カバー5内に退避されたか否かを判定する(ステップS209)。そして、制御装置177は、おしり洗浄用ノズル111が本体カバー5内に退避したと判定した場合には、第2の温度の温水膜の形成を停止する(ステップS210)。 The control device 177 determines whether or not the buttocks cleaning nozzle 111 has been retracted into the main body cover 5 (step S209). Then, when the control device 177 determines that the buttocks cleaning nozzle 111 has retracted into the main body cover 5, the control device 177 stops the formation of the hot water film having a second temperature (step S210).

上述したように、第1の変形例では、局部洗浄中では第1の温度で水膜を形成し、局部洗浄中以外において局部洗浄ノズル10が進出動作又は退避動作している場合には、第1の温度よりも高い温度の第2の温度(例えば、油分を溶解し得る温度)で温水膜を形成する。これにより、局部洗浄ノズル10が進出動作又は退避動作している場合において、局部洗浄ノズル10に付着した汚物を溶解して洗い流すことが可能となる。すなわち、油分を含んだ汚物に対して局部洗浄ノズル10の防汚性をさらに高めることができる。また、第2の温度の温水が局部洗浄に用いられることないため、安全性においても優れている。 As described above, in the first modification, when the water film is formed at the first temperature during the local cleaning and the local cleaning nozzle 10 is in the advanced operation or the retracting operation except during the local cleaning, the first modification is performed. A hot water film is formed at a second temperature (for example, a temperature at which oil can be dissolved) higher than the temperature of 1. This makes it possible to dissolve and wash away the filth adhering to the local cleaning nozzle 10 when the local cleaning nozzle 10 is in the advanced operation or the retracting operation. That is, the antifouling property of the local cleaning nozzle 10 can be further enhanced against filth containing oil. Further, since hot water having a second temperature is not used for local cleaning, it is also excellent in safety.

(変形例2)
上記実施形態では、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10がノズル開口部11から進出している状態にある場合には、局部洗浄ノズル10の表面に対して温水膜を形成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、洗浄部17は、局部洗浄中においては、局部洗浄ノズル10の表面に対する温水膜の形成を停止してもよい。具体的には、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10により局部洗浄が行われている場合では、流調バルブ175を制御して、水膜口171からの温水の吐出を停止する。すなわち、洗浄部17は、局部洗浄ノズル10がノズル開口部11から進出している状態において、進出動作又は退避動作中のみ局部洗浄ノズル10の表面に対して温水膜を形成する。なお、この場合において、温水膜に用いられる温水の温度は、第1の温度でもよいし、第2の温度でもよい。
(Modification 2)
In the above embodiment, the cleaning unit 17 forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 when the local cleaning nozzle 10 is in a state of advancing from the nozzle opening 11. Not limited to this. For example, the cleaning unit 17 may stop forming a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 during local cleaning. Specifically, the cleaning unit 17 controls the flow control valve 175 to stop the discharge of hot water from the water film port 171 when the local cleaning is performed by the local cleaning nozzle 10. That is, the cleaning unit 17 forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 only during the advance operation or the retracting operation in the state where the local cleaning nozzle 10 is advanced from the nozzle opening 11. In this case, the temperature of the hot water used for the hot water film may be the first temperature or the second temperature.

(変形例3)
上記実施形態において、洗浄部17は、温水生成部16に流入する水の温度に応じて、水膜口171から局部洗浄ノズル10の表面に吐出する温水の量を制御してもよい。
具体的には、温水生成部16に流入する水の温度が高いほど、温水生成部16において第1の温度又は第2の温度の温水を生成する流量を相対的に増やすことができる。そのため、例えば、局部洗浄装置9は、第1の流路13に流れる水の温度を測定する温度センサTxを備え、当該温度センサTxが測定した温度が高くなるにつれて、水膜口171から局部洗浄ノズルの表面に吐出する温水の流量が多くなるように、流調バルブ175を制御する。これにより、局部洗浄ノズル10の表面に形成する温水膜の膜厚を効率的に厚くすることでき、汚物に対して局部洗浄ノズル10の防汚性をさらに高めることができる。
(Modification 3)
In the above embodiment, the cleaning unit 17 may control the amount of hot water discharged from the water film port 171 to the surface of the local cleaning nozzle 10 according to the temperature of the water flowing into the hot water generation unit 16.
Specifically, the higher the temperature of the water flowing into the hot water generation unit 16, the more the flow rate of the hot water generation unit 16 for producing hot water having a first temperature or a second temperature can be relatively increased. Therefore, for example, the local cleaning device 9 includes a temperature sensor Tx that measures the temperature of the water flowing in the first flow path 13, and as the temperature measured by the temperature sensor Tx increases, the local cleaning device 9 is locally cleaned from the water film port 171. The flow control valve 175 is controlled so that the flow rate of the hot water discharged to the surface of the nozzle increases. As a result, the film thickness of the hot water film formed on the surface of the local cleaning nozzle 10 can be efficiently increased, and the antifouling property of the local cleaning nozzle 10 can be further enhanced against filth.

(変形例4)
上記実施形態では、局部洗浄装置9は、流調バルブ175により水膜口171からの温水の吐出を制御したが、本発明はこれに限定されない。例えば、局部洗浄装置9に電磁弁を追加し、当該電磁弁により水膜口171からの温水の吐出を制御してもよい。
より具体的には、図5に示すように、変形例4における分岐流路174は、第2の流路14の途中から分岐して、温水生成部16で生成された温水の一部を水膜口171に供給するための流路として構成される。この場合には、第2の流路14から分岐流路174に分岐する分岐点Nと流調バルブ175との間の第2の流路14(以下、「第2の流路14a」という。)には、電磁弁200が設けられている。この電磁弁200は、制御装置177により第2の流路14aを開放又は閉塞する。
(Modification example 4)
In the above embodiment, the local cleaning device 9 controls the discharge of hot water from the water film port 171 by the flow control valve 175, but the present invention is not limited to this. For example, a solenoid valve may be added to the local cleaning device 9 and the discharge of hot water from the water film port 171 may be controlled by the solenoid valve.
More specifically, as shown in FIG. 5, the branch flow path 174 in the modified example 4 branches from the middle of the second flow path 14, and a part of the hot water generated by the hot water generation unit 16 is water. It is configured as a flow path for supplying to the membrane opening 171. In this case, the second flow path 14 (hereinafter referred to as "second flow path 14a") between the branch point N branching from the second flow path 14 to the branch flow path 174 and the flow control valve 175 is referred to as "second flow path 14a". ) Is provided with a solenoid valve 200. The solenoid valve 200 opens or closes the second flow path 14a by the control device 177.

このような構成において、制御装置177は、局部洗浄を実施せずに、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成する場合には、給水バルブ15を開状態に制御して第1の流路13を開放するとともに、電磁弁200を閉状態にすることで第2の流路14aを閉塞する。また、制御装置177は、局部洗浄を実施し、かつ、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成する場合には、給水バルブ15を開状態に制御して第1の流路13を開放するとともに、電磁弁200を開状態にすることで第2の流路14aを開放する。 In such a configuration, when the control device 177 forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 without performing local cleaning, the control device 177 controls the water supply valve 15 to be in an open state to control the first flow path. The second flow path 14a is closed by opening the 13 and closing the solenoid valve 200. Further, when the control device 177 performs local cleaning and forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10, the control device 177 controls the water supply valve 15 to be in an open state to open the first flow path 13. At the same time, the second flow path 14a is opened by opening the solenoid valve 200.

(変形例5)
上記実施形態では、局部洗浄装置9は、局部洗浄の洗浄水として温水を使用したが、本発明はこれに限定されない。例えば、局部洗浄装置9は、局部洗浄の洗浄水として、給水源Sからの冷水を使用してもよい。すなわち、洗浄部17は、温水生成部16で生成された温水を洗浄水として局部洗浄ノズル10から吐出させる第1のモードと、温水生成部16で加熱されず給水源Sから供給された冷水を洗浄水として局部洗浄ノズル10から吐出させる第2のモードとを切り替え可能な構成を備えてもよい。
(Modification 5)
In the above embodiment, the local cleaning device 9 uses hot water as the cleaning water for local cleaning, but the present invention is not limited to this. For example, the local cleaning device 9 may use cold water from the water supply source S as the cleaning water for local cleaning. That is, the cleaning unit 17 has a first mode in which the hot water generated by the hot water generation unit 16 is discharged from the local cleaning nozzle 10 as cleaning water, and cold water supplied from the water supply source S without being heated by the hot water generation unit 16. A configuration capable of switching between a second mode in which the cleaning water is discharged from the local cleaning nozzle 10 may be provided.

より具体的には、図6に示すように、変形例5における分岐流路174は、第2の流路14の途中から分岐して、温水生成部16で生成された温水の一部を水膜口171に供給するための流路として構成される。そして、第2の流路14から分岐流路174に分岐する分岐点Nと流調バルブ175との間の第2の流路14、すなわち第2の流路14aには、電磁弁200を設ける。この電磁弁200は、制御装置177の制御により第2の流路14aを開放又は閉塞する。 More specifically, as shown in FIG. 6, the branch flow path 174 in the modified example 5 branches from the middle of the second flow path 14, and a part of the hot water generated by the hot water generation unit 16 is water. It is configured as a flow path for supplying to the membrane opening 171. Then, a solenoid valve 200 is provided in the second flow path 14 between the branch point N branching from the second flow path 14 to the branch flow path 174 and the flow control valve 175, that is, the second flow path 14a. .. The solenoid valve 200 opens or closes the second flow path 14a under the control of the control device 177.

さらに、局部洗浄装置9には、給水バルブ15及び温水生成部16の間における第1の流路13の途中から分岐して、給水バルブ15から温水生成部16に向かう冷水の一部を第2の流路14aに供給する分岐流路201を備える。すなわち、分岐流路201は一端が第1の流路13に連通され、他端が電磁弁200と流調バルブ175との間の第2の流路14aに連通される。そして、この分岐流路201には、電磁弁202が設けられている。この電磁弁202は、制御装置177の制御により分岐流路201を開放又は閉塞する。 Further, in the local cleaning device 9, a part of cold water branched from the middle of the first flow path 13 between the water supply valve 15 and the hot water generation unit 16 and directed from the water supply valve 15 to the hot water generation unit 16 is second. A branch flow path 201 for supplying to the flow path 14a of the above is provided. That is, one end of the branch flow path 201 communicates with the first flow path 13, and the other end communicates with the second flow path 14a between the solenoid valve 200 and the flow control valve 175. A solenoid valve 202 is provided in the branch flow path 201. The solenoid valve 202 opens or closes the branch flow path 201 under the control of the control device 177.

このような構成において、制御装置177は、局部洗浄を実施せずに、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成する場合には、給水バルブ15を開状態に制御して第1の流路13を開放するとともに、電磁弁200及び電磁弁202を閉状態にすることで第2の流路14a及び分岐流路201を閉塞する。
また、制御装置177は、温水により局部洗浄を実施し、かつ、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成する場合には、給水バルブ15を開状態に制御して第1の流路13を開放するとともに、電磁弁200を開状態にすることで第2の流路14aを開放する。さらに制御装置177は、電磁弁202を閉状態にすることで分岐流路201を閉塞する。
また、制御装置177は、冷水により局部洗浄を実施し、かつ、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成する場合には、給水バルブ15を開状態に制御して第1の流路13を開放するとともに、電磁弁200を閉状態にすることで第2の流路14aを閉塞する。さらに、制御装置177は、電磁弁202を開状態にすることで分岐流路201を開放する。これにより、給水源Sからの冷水の一部が温水生成部16を経由せずに洗浄部17に流入する。したがって、局部洗浄装置9は、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成するとともに、温水ではなく冷水による局部洗浄を実施することできる。
In such a configuration, when the control device 177 forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 without performing local cleaning, the control device 177 controls the water supply valve 15 to be in an open state to control the first flow path. The second flow path 14a and the branch flow path 201 are closed by opening the 13 and closing the solenoid valve 200 and the solenoid valve 202.
Further, when the control device 177 performs local cleaning with hot water and forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10, the control device 177 controls the water supply valve 15 to be in an open state to control the first flow path 13. The second flow path 14a is opened by opening the solenoid valve 200 and opening the solenoid valve 200. Further, the control device 177 closes the branch flow path 201 by closing the solenoid valve 202.
Further, when the control device 177 performs local cleaning with cold water and forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10, the control device 177 controls the water supply valve 15 to be in an open state to control the first flow path 13. The second flow path 14a is closed by opening and closing the solenoid valve 200. Further, the control device 177 opens the branch flow path 201 by opening the solenoid valve 202. As a result, a part of the cold water from the water supply source S flows into the cleaning unit 17 without passing through the hot water generation unit 16. Therefore, the local cleaning device 9 can form a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 and perform local cleaning with cold water instead of hot water.

(変形例6)
上記実施形態では、局部洗浄装置9は、一の温水生成部16により局部洗浄のための温水と温水膜の形成のための温水とを生成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、局部洗浄装置9は、複数の温水生成部16により局部洗浄のための温水と温水膜の形成のための温水とを生成してもよい。これにより、局部洗浄装置9は、局部洗浄のための温水の温度と温水膜の形成のための温水の温度とをそれぞれ独立に制御することができる。
(Modification 6)
In the above embodiment, the local cleaning device 9 produces hot water for local cleaning and hot water for forming a hot water film by one hot water generating unit 16, but the present invention is not limited thereto. For example, the local cleaning device 9 may generate hot water for local cleaning and hot water for forming a hot water film by a plurality of hot water generating units 16. Thereby, the local cleaning device 9 can independently control the temperature of the hot water for local cleaning and the temperature of the hot water for forming the hot water film.

より具体的には、図7に示すように、局部洗浄装置9は、二の温水生成部16(16a、16b)を備える。一方の温水生成部16(第1の温水生成部16a)は、給水源Sから第1の流路13を介して流入してきた冷水を第1の温度に加熱することで温水を生成し、当該生成した第1の温度の温水を第2の流路14を介して洗浄部17に送水する。他方の温水生成部16(第2の温水生成部16b)は、給水源Sから分岐流路203を介して流入してきた冷水を第1の温度よりも高い第2の温度に加熱することで温水を生成し、当該生成した第2の温度の温水を分岐流路174に送水する。ここで、分岐流路203とは、給水バルブ15及び温水生成部16の間における第1の流路13の途中から分岐して、給水バルブ15から第1の温水生成部16aに向かう水の一部を第2の温水生成部16bに供給する流路である。また、本変形例における分岐流路174は、一端が第2の温水生成部16bを介して分岐流路203に連通し、他端が水膜口171に連通している。さらに、分岐流路203には電磁弁204が設けられている。この電磁弁204は、制御装置177の制御により第2の流路14aを開放又は閉塞する。 More specifically, as shown in FIG. 7, the local cleaning device 9 includes a second hot water generating unit 16 (16a, 16b). On the other hand, the hot water generation unit 16 (first hot water generation unit 16a) generates hot water by heating the cold water flowing from the water supply source S through the first flow path 13 to the first temperature. The generated hot water having a first temperature is sent to the cleaning unit 17 via the second flow path 14. The other hot water generation unit 16 (second hot water generation unit 16b) heats the cold water flowing from the water supply source S through the branch flow path 203 to a second temperature higher than the first temperature, thereby causing hot water. Is generated, and the generated hot water at the second temperature is sent to the branch flow path 174. Here, the branch flow path 203 is one of the water that branches from the middle of the first flow path 13 between the water supply valve 15 and the hot water generation unit 16 and heads from the water supply valve 15 to the first hot water generation unit 16a. This is a flow path for supplying the unit to the second hot water generation unit 16b. Further, one end of the branch flow path 174 in this modification communicates with the branch flow path 203 via the second hot water generation unit 16b, and the other end communicates with the water film opening 171. Further, the branch flow path 203 is provided with a solenoid valve 204. The solenoid valve 204 opens or closes the second flow path 14a under the control of the control device 177.

このような構成において、制御装置177は、局部洗浄を実施せずに、局部洗浄ノズル10の表面に第2の温度の温水膜を形成する場合には、給水バルブ15を開状態に制御して第1の流路13を開放するとともに、電磁弁204を開状態にすることで分岐流路203を開放する。さらに、制御装置177は、第2の流路14からの温水が分岐流路172,173に流入しないように流調バルブ175を制御する。 In such a configuration, when the control device 177 forms a hot water film having a second temperature on the surface of the local cleaning nozzle 10 without performing local cleaning, the control device 177 controls the water supply valve 15 to be in an open state. The branch flow path 203 is opened by opening the first flow path 13 and opening the solenoid valve 204. Further, the control device 177 controls the flow control valve 175 so that the hot water from the second flow path 14 does not flow into the branch flow paths 172 and 173.

また、制御装置177は、第1の温度の温水により局部洗浄を実施し、かつ、局部洗浄ノズル10の表面に第2の温度の温水膜を形成する場合には、給水バルブ15を開状態に制御して第1の流路13を開放するとともに、電磁弁204を開状態にすることで分岐流路203を開放する。さらに、制御装置177は、局部洗浄としておしり洗浄用ノズル111から洗浄水を吐出する場合には、第2の流路14からの第1の温度の温水が分岐流路172に流入するように(選択分岐流路が分岐流路172となるように)流調バルブ175を制御する。これにより、第1の温度の温水がおしり洗浄用ノズル111から洗浄水として吐出される。また、第2の温度の温水が水膜口171から吐出されることで、おしり洗浄用ノズル111の表面に第2の温度の温水膜が形成される。 Further, when the control device 177 performs local cleaning with hot water having a first temperature and forms a hot water film having a second temperature on the surface of the local cleaning nozzle 10, the water supply valve 15 is opened. The first flow path 13 is controlled to be opened, and the branch flow path 203 is opened by opening the solenoid valve 204. Further, when the control device 177 discharges the cleaning water from the buttocks cleaning nozzle 111 for local cleaning, the hot water having the first temperature from the second flow path 14 flows into the branch flow path 172 ( The flow control valve 175 is controlled (so that the selective branch flow path becomes the branch flow path 172). As a result, hot water having a first temperature is discharged as cleaning water from the buttocks cleaning nozzle 111. Further, the hot water having a second temperature is discharged from the water film port 171 to form a hot water film having a second temperature on the surface of the buttocks cleaning nozzle 111.

(変形例7)
上記実施形態では、局部洗浄装置9は、給水バルブ15を通流した水を温水生成部16で加熱することで温水を生成する、所謂瞬間方式で温水を生成したが、本発明はこれに限定されない。例えば、局部洗浄装置9は、貯湯タンクに温水を貯留するとともに、常時ヒータに通電して所定の温度の温水に制御する方式である、所謂貯湯方式で温水を生成してもよい。
(Modification 7)
In the above embodiment, the local cleaning device 9 generates hot water by heating the water flowing through the water supply valve 15 with the hot water generation unit 16, which is a so-called instantaneous method, but the present invention is limited to this. Not done. For example, the local cleaning device 9 may store hot water in a hot water storage tank and generate hot water by a so-called hot water storage method, which is a method of constantly energizing a heater to control hot water at a predetermined temperature.

(変形例8)
なお、上記実施形態における水膜口171の位置は、温水生成部16で生成された温水の一部を水膜口171から局部洗浄ノズル10の表面に吐出できる位置であれば、特に限定されない。例えば、図8に示すように、水膜口171は、局部洗浄ノズル10を出し入れ可能な支持部本体300の上部に形成されてもよい。
(Modification 8)
The position of the water film port 171 in the above embodiment is not particularly limited as long as it is a position where a part of the hot water generated by the hot water generation unit 16 can be discharged from the water film port 171 to the surface of the local cleaning nozzle 10. For example, as shown in FIG. 8, the water film port 171 may be formed on the upper part of the support portion main body 300 into which the local cleaning nozzle 10 can be taken in and out.

(変形例9)
上記制御装置177に含まれる構成要素の少なくとも一部がソフトウエアにより実現される場合、当該構成要素は、一般的な構成の情報処理装置において、当該構成要素に関する動作を規定したソフトウエア又はプログラムを起動することにより実現されてよい。例えば、上記制御装置177は、CPU、GPUなどのプロセッサ、ROM、RAM、通信インタフェースなどを有して構成される。
(Modification 9)
When at least a part of the components included in the control device 177 is realized by software, the component is a software or program that defines the operation related to the component in an information processing device having a general configuration. It may be realized by starting. For example, the control device 177 includes a processor such as a CPU and a GPU, a ROM, a RAM, a communication interface, and the like.

以上、説明したように、本発明の一実施形態に係る局部洗浄装置9は、ノズル開口部11から進出させた局部洗浄ノズル10から洗浄水を吐出させることで局部を洗浄する局部洗浄装置である。そして、局部洗浄装置9は、局部洗浄ノズル10がノズル開口部11から進出している状態において、当該局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成する洗浄部17を備える。 As described above, the local cleaning device 9 according to the embodiment of the present invention is a local cleaning device that cleans a local area by discharging cleaning water from a local cleaning nozzle 10 advanced from a nozzle opening 11. .. The local cleaning device 9 includes a cleaning unit 17 that forms a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 in a state where the local cleaning nozzle 10 is advanced from the nozzle opening 11.

このような構成によれば、局部洗浄装置9は、ノズル洗浄室を設けることなく、局部洗浄ノズルの清浄性を向上させることができる。さらに、局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成するため、局部洗浄ノズル10の表面に冷水の水膜を形成する場合に比べて、油分を含んだ汚物に対して局部洗浄ノズル10の防汚性を向上させることができる。 According to such a configuration, the local cleaning device 9 can improve the cleanliness of the local cleaning nozzle without providing the nozzle cleaning chamber. Further, since a hot water film is formed on the surface of the local cleaning nozzle 10, the local cleaning nozzle 10 is antifouling against filth containing oil, as compared with the case where a cold water film is formed on the surface of the local cleaning nozzle 10. It is possible to improve the sex.

また、局部洗浄装置9は、給水源Sから供給された水を第1の温度に加熱することで温水を生成する温水生成部16を更に備えてもよい。そして、洗浄部17は、温水生成部16で生成された温水を、局部洗浄での洗浄水と温水膜の形成のための温水との双方に用いてもよい。 Further, the local cleaning device 9 may further include a hot water generation unit 16 that generates hot water by heating the water supplied from the water supply source S to the first temperature. Then, the cleaning unit 17 may use the hot water generated by the hot water generation unit 16 for both the cleaning water for local cleaning and the hot water for forming the hot water film.

このような構成によれば、局部洗浄装置9は、簡易な構成で局部洗浄ノズル10の表面に温水膜を形成することができる。 According to such a configuration, the local cleaning device 9 can form a hot water film on the surface of the local cleaning nozzle 10 with a simple configuration.

また、温水生成部16は、局部洗浄ノズル10がノズル開口部11から進出している状態であって、局部洗浄ノズル10から洗浄水が吐出していない場合には、水を第1の温度よりも高い第2の温度に加熱してもよい。 Further, in the hot water generation unit 16, when the local cleaning nozzle 10 is in a state of advancing from the nozzle opening 11 and the cleaning water is not discharged from the local cleaning nozzle 10, the water is discharged from the first temperature. May be heated to a higher second temperature.

このような構成によれば、局部洗浄ノズル10の表面に通常よりも高い温度(例えば、油分が溶解し得る温度)で温水膜を形成することができる。したがって、油分を含んだ汚物に対して局部洗浄ノズル10の防汚性をさらに向上させることができる。また、局部洗浄時においては、局部洗浄ノズル10から第2の温度の温水が吐出されることがなく、安全性においても優れている。 According to such a configuration, a hot water film can be formed on the surface of the local cleaning nozzle 10 at a temperature higher than usual (for example, a temperature at which oil can be dissolved). Therefore, the antifouling property of the local cleaning nozzle 10 can be further improved against filth containing oil. Further, at the time of local cleaning, hot water having a second temperature is not discharged from the local cleaning nozzle 10, which is excellent in safety.

また、洗浄部17は、給水源Sから温水生成部16に供給される水の温度に応じて、膜を形成するために局部洗浄ノズル10の表面に吐出する温水の量を制御してもよい。 Further, the cleaning unit 17 may control the amount of hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle 10 in order to form a film according to the temperature of the water supplied from the water supply source S to the hot water generation unit 16. ..

このような構成によれば、局部洗浄ノズル10の表面に形成する温水膜の膜厚を効率よく厚くすることでき、汚物に対して局部洗浄ノズル10の防汚性をさらに高めることができる。 According to such a configuration, the film thickness of the hot water film formed on the surface of the local cleaning nozzle 10 can be efficiently increased, and the antifouling property of the local cleaning nozzle 10 can be further enhanced against filth.

また、洗浄部17は、温水生成部16で生成された温水を洗浄水として局部洗浄ノズル10から吐出させる第1のモードと、温水生成部16で加熱されず給水源Sから供給された水を洗浄水として局部洗浄ノズル10から吐出させる第2のモードとを切り替え可能な構成を備えてもよい。 Further, the cleaning unit 17 has a first mode in which the hot water generated by the hot water generation unit 16 is discharged from the local cleaning nozzle 10 as cleaning water, and water supplied from the water supply source S without being heated by the hot water generation unit 16. A configuration capable of switching between a second mode in which the cleaning water is discharged from the local cleaning nozzle 10 may be provided.

このような構成によれば、冷水を洗浄水として局部洗浄ノズル10から吐出させることで、より多くの温水を水膜口171から吐出させ、温水膜の形成に利用することができる。 According to such a configuration, by discharging the cold water as the cleaning water from the local cleaning nozzle 10, more hot water can be discharged from the water film port 171 and used for forming the hot water film.

また、局部洗浄装置9は、給水源Sから供給された水を第1の温度に加熱することで温水を生成する第1の温水生成部16aと、給水源Sから供給された水を第2の温度に加熱することで温水を生成する第2の温水生成部16bと、を備えてもよい。そして、洗浄部17は、第1の温水生成部16aで生成された温水を局部洗浄の洗浄水として用い、第2の温水生成部16bで生成された温水を温水膜の形成するための温水として用いてもよい。 Further, the local cleaning device 9 uses the first hot water generation unit 16a for generating hot water by heating the water supplied from the water supply source S to the first temperature, and the water supplied from the water supply source S for the second. A second hot water generation unit 16b, which generates hot water by heating to the temperature of the above, may be provided. Then, the cleaning unit 17 uses the hot water generated by the first hot water generation unit 16a as the cleaning water for local cleaning, and the hot water generated by the second hot water generation unit 16b as hot water for forming the hot water film. You may use it.

このような構成によれば、局部洗浄装置9は、局部洗浄のための温水の温度と温水膜の形成のための温水の温度とをそれぞれ独立に制御することができる。 According to such a configuration, the local cleaning device 9 can independently control the temperature of the hot water for local cleaning and the temperature of the hot water for forming the hot water film.

A トイレシステム
1 トイレ装置
2 リモコン装置
9 局部洗浄装置
10 局部洗浄ノズル
11 ノズル開口部(開口部)
16 温水生成部
17 洗浄部
S 給水源
A Toilet system 1 Toilet device 2 Remote control device 9 Local cleaning device 10 Local cleaning nozzle 11 Nozzle opening (opening)
16 Hot water generation unit 17 Cleaning unit S Water supply source

Claims (7)

開口部から進出させた局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させることで局部を洗浄する局部洗浄装置であって、
給水源から供給された水を第1の温度に加熱することで温水を生成する温水生成部と、
前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態において、当該局部洗浄ノズルの表面に、前記温水生成部で生成された温水で水膜を形成する洗浄部と、
備え
前記洗浄部は、前記温水生成部で生成された温水を洗浄水として前記局部洗浄ノズルから吐出させる第1のモードと、前記温水生成部で加熱されず前記給水源から供給された冷水を洗浄水として前記局部洗浄ノズルから吐出させる第2のモードとを切り替え可能な構成を備える、
ことを特徴とする局部洗浄装置。
It is a local cleaning device that cleans the local area by discharging cleaning water from the local cleaning nozzle that has advanced from the opening.
A hot water generator that generates hot water by heating the water supplied from the water supply source to the first temperature,
A cleaning unit that forms a water film with hot water generated by the hot water generation unit on the surface of the local cleaning nozzle in a state where the local cleaning nozzle is advanced from the opening .
Equipped with
The cleaning unit has a first mode in which hot water generated by the hot water generation unit is discharged from the local cleaning nozzle as cleaning water, and cold water that is not heated by the hot water generation unit and is supplied from the water supply source is cleaning water. It is provided with a configuration in which it is possible to switch between the second mode of discharging from the local cleaning nozzle.
A local cleaning device characterized by that .
開口部から進出させた局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させることで局部を洗浄する局部洗浄装置であって、 It is a local cleaning device that cleans the local area by discharging cleaning water from the local cleaning nozzle that has advanced from the opening.
前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態において、当該局部洗浄ノズルの表面に温水で水膜を形成する洗浄部を備え、 A cleaning unit for forming a water film with warm water is provided on the surface of the local cleaning nozzle in a state where the local cleaning nozzle is advanced from the opening.
前記洗浄部は、前記水膜の形成を継続するとともに、前記局部洗浄ノズルから洗浄水を吐出させる、 The cleaning unit continues to form the water film and discharges cleaning water from the local cleaning nozzle.
ことを特徴とする局部洗浄装置。 A local cleaning device characterized by that.
給水源から供給された水を第1の温度に加熱することで温水を生成する温水生成部を更に備え、
前記洗浄部は、前記温水生成部で生成された温水を、局部洗浄のための前記洗浄水と前記水膜の形成のための前記温水との双方に用いる請求項2に記載の局部洗浄装置。
It is further equipped with a hot water generation unit that generates hot water by heating the water supplied from the water supply source to the first temperature.
The local cleaning device according to claim 2 , wherein the cleaning unit uses the hot water generated by the hot water generation unit for both the cleaning water for local cleaning and the hot water for forming the water film.
前記温水生成部は、前記局部洗浄ノズルが前記開口部から進出している状態であって、前記局部洗浄ノズルから洗浄水が吐出していない場合には、前記給水源から供給された水を第1の温度よりも高い第2の温度に加熱する、請求項1又は3に記載の局部洗浄装置。 When the local cleaning nozzle is in a state of advancing from the opening and the cleaning water is not discharged from the local cleaning nozzle, the hot water generating unit uses the water supplied from the water supply source. The local cleaning apparatus according to claim 1 or 3 , which heats to a second temperature higher than the temperature of 1. 前記洗浄部は、前記給水源から前記温水生成部に供給される水の温度に応じて、前記水膜を形成するために前記局部洗浄ノズルの表面に吐出する温水の量を制御する請求項1、3又は4に記載の局部洗浄装置。 The cleaning unit controls the amount of hot water discharged to the surface of the local cleaning nozzle in order to form the water film according to the temperature of the water supplied from the water supply source to the hot water generation unit. 3, or the local cleaning apparatus according to 4 . 前記洗浄部は、前記温水生成部で生成された温水を洗浄水として前記局部洗浄ノズルから吐出させる第1のモードと、前記温水生成部で加熱されず前記給水源から供給された冷水を洗浄水として前記局部洗浄ノズルから吐出させる第2のモードとを切り替え可能な構成を備える請求項3に記載の局部洗浄装置。 The cleaning unit has a first mode in which hot water generated by the hot water generation unit is discharged from the local cleaning nozzle as cleaning water, and cold water that is not heated by the hot water generation unit and is supplied from the water supply source is cleaning water. The local cleaning device according to claim 3 , further comprising a configuration in which the second mode of discharging from the local cleaning nozzle can be switched. 給水源から供給された水を第1の温度に加熱することで前記温水を生成する第1の温水生成部と、
前記給水源から供給された水を前記第1の温度よりも高い第2の温度に加熱することで前記温水を生成する第2の温水生成部と、
を備え、
前記洗浄部は、前記第1の温水生成部で生成された温水を前記洗浄水として用い、前記第2の温水生成部で生成された温水を前記水膜の形成のための前記温水として用いる請求項2に記載の局部洗浄装置。
A first hot water generation unit that generates the hot water by heating the water supplied from the water supply source to the first temperature, and
A second hot water generation unit that generates the hot water by heating the water supplied from the water supply source to a second temperature higher than the first temperature.
Equipped with
The washing unit uses the hot water generated by the first hot water generation unit as the washing water, and uses the hot water generated by the second hot water generation unit as the hot water for forming the water film. Item 2. The local cleaning device according to Item 2.
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