JP7339142B2 - 自動分析装置 - Google Patents

Description

本発明は、自動分析装置に関する。

自動分析装置では、同一プローブを繰り返し使用してサンプルや試薬、あるいは両方を分注するため、別の液体を吸引する前にはプローブの洗浄を行う。プローブの洗浄が不十分であると、前の液体成分を次の液体に持ち込み（キャリーオーバ）してしまい、検査結果に影響する場合がある。また、洗浄が十分で吸引した液体の付着が除去できても、洗浄水がプローブに残留し、次に吸引する液体に洗浄水が持ち込まれる場合がある。洗浄水が持ち込まれた液体は、薄まってしまい検査に影響が出てしまう。

水持ち込みを防ぐことにより分注精度を高める技術としては、特許文献１が知られている。この特許文献１には「一度洗浄槽内で途中まで引上げた後一時ストップし水玉が下に降りて来る頃を見はからって上方まで引上げる二段モーション方法とした」と記載されている（第４頁）。

特開平４－６４６８号公報

プローブの外側に向けて洗浄水を吐出してプローブの外側を洗浄する場合、付着した洗浄水が水玉となって下に降りて来るまでは、一定の時間を要する。しかし、上記特許文献１に記載の自動分析装置では、この一定の時間の間も洗浄水を吐出し続けているため、使用水量が多くなってしまう。

本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、プローブの外側を洗浄するときの使用水量を低減した自動分析装置を提供することにある。

上記課題を解決するため、本発明は、サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、前記第１吐出工程と前記第２吐出工程との間に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程を設けた。

本発明によれば、プローブの外側を洗浄するときの使用水量を低減した自動分析装置を提供することができる。

本実施形態の自動分析装置の構成を示す上面図である。 本実施形態のサンプル用プローブの洗浄に関する流路の構成を示す図である。 本実施形態におけるサンプル用プローブの外側の洗浄方法を示す図である。 本実施形態におけるサンプル用プローブの外側を洗浄する際のタイムチャートである。 洗浄水の水流の範囲を確認する水流確認工程を示す図である。 本実施形態のプローブ洗浄及びプローブ位置調整を行うための制御ブロック図である。

以下、図１から図６を参照し、本発明の実施形態について詳細に説明する。

図１は本実施形態の自動分析装置の構成を示す図である。自動分析装置１０は、試薬容器１１を複数搭載する試薬ディスク１２と、試薬とサンプルを混ぜ合わせて反応を測定する反応ディスク１３と、試薬の吸引や吐出を行う試薬分注機構１４と、サンプルの吸引や吐出を行うサンプル分注機構１５などから構成される。試薬分注機構１４は試薬を分注するための試薬用プローブ（図示せず）を備え、サンプル分注機構１５はサンプルを分注するためのサンプル用プローブ２２を備える。自動分析装置に投入されたサンプルは、サンプル容器（試験管）２３に入った状態で、ラック２４に搭載されて搬送される。ラック２４には複数のサンプル容器２３が搭載される。なお、サンプルは血清や全血などの血液由来のサンプル又は尿などである。

サンプル分注機構１５は、サンプル用プローブ２２を、サンプル容器２３からサンプル吸引を行う吸引位置、セル２５に吐出を行う吐出位置、洗浄槽２６でサンプル用プローブ２２の先端を洗浄する洗浄位置へ回転動作によって移動させる。さらに、サンプル分注機構１５は、吸引位置、吐出位置、および、洗浄位置ではサンプル容器２３、セル２５、洗浄槽２６の高さの夫々に合わせて、サンプル用プローブ２２を下降させる。

サンプル用プローブ２２と試薬用プローブは、液面を検知する液接触検知センサ（静電容量の変化や圧力を利用したセンサがある）を備えており、対象の液（サンプルや試薬）に接触したことがセンサ信号から確認できる。プローブ洗浄では、対象の液との接触範囲が限定されることで、洗浄水量を低減できるため、一般的にプローブが対象の液に浸漬する範囲を制御している。浸漬範囲の限定により分注ばらつきを抑制する効果もある。

自動分析装置１０は、セル２５内に収容されたサンプルと試薬との混合液を測光することで、サンプル内の所定成分の濃度などを分析する。

本実施形態では、サンプル用プローブ２２の洗浄を例として説明するが、同一プローブを洗浄して繰り返し使用する試薬用プローブの場合も同様の実施方法で適用可能である。また、サンプルと試薬を１本のプローブで分注する装置においても同じく適用可能である。

図２は本実施形態のサンプル用プローブ２２の洗浄に関する流路の構成を示す図である。本実施形態の洗浄流路は、洗浄に利用する純水を貯める給水タンク２０１と、給水タンクからの純水を送液する給水ポンプ２０２と、プローブ外側洗浄用の電磁弁（以降、外洗電磁弁）２０３と、プローブ内側洗浄用の電磁弁（以降、内洗電磁弁）２０４と、分注時に液の吸引と吐出を行うシリンジポンプ２０５と、各流路部品を接続するチューブ２０６と、サンプル用プローブ２２の外側に水流を吐出する洗浄ノズル２０７と、洗浄水の廃液を回収する廃液タンク２０８から構成される。

サンプル用プローブ２２の内側の洗浄は、内洗電磁弁２０４を開けることで、サンプル用プローブ２２に接続したチューブ２０６から水が送液されて、内側の汚れを押し出して洗浄する。同じく、サンプル用プローブ２２の外側の洗浄は、外洗電磁弁２０３を開けることで給水ポンプ２０２から送液される水が、洗浄ノズル２０７より吐出され、洗浄ノズル２０７からの水流がサンプル用プローブ２２と接触することで、サンプル用プローブ２２に付着していた汚れを除去する。プローブに付着する汚れの種類は様々であるが、水に一定時間触れることで汚れは溶解して除去できる。

大型の装置になると、給水タンク２０１は純水設備の給水路から常に純水が供給され、廃液タンク２０８は専用排水設備に接続された排水路に排出される。小型の装置では、図２のようなタンクのみで運用されることが多い。

なお、給水ポンプ２０２は、常時運転して圧力がかかったままではポンプに負担がかかるため、サンプル用プローブ２２ンを洗浄するときだけ駆動するか、あるいは給水ポンプ２０２から出る流路の一部を給水タンク２０１に戻す流路を追加するなどが必要である。本実施形態は、どちらの方法でも洗浄ノズル２０７からの水流に影響がなければ実施に問題はない。

図３は本実施形態におけるサンプル用プローブ２２の外側の洗浄方法を示す図である。図３では、（ａ）から（ｆ）の順番で洗浄を行う。図３（ａ）は、サンプルを分注した後のサンプル用プローブ２２を洗浄槽２６に移動した状態を示す図である。サンプル用プローブ２２の外側には、サンプルの一定深さまで浸漬したため、サンプル残留物３０１が同範囲に残留している。ここで、洗浄水量を低減するには、流量が少なく流速が速い水流を吐出する小径の洗浄ノズル２０７が有効であるが、水流の幅が狭くなることで、サンプル用プローブ２２の洗浄範囲の全域を一度に洗浄できなくなる。本洗浄方法では、水流幅が洗浄範囲より狭い条件を想定した流れを説明する。

図３（ｂ）は、外洗電磁弁２０３を開けて、洗浄ノズル２０７から水流をサンプル用プローブ２２に向けて吐出した状態を示す。上述の通り、サンプルへの浸漬範囲より水流の幅（ここではＺ方向の距離）が狭いため、図３（ｂ）の時点では、サンプル用プローブ２２の先端が水流に触れず少し飛び出している。例えば、サンプル用プローブ２２の洗浄範囲が４ｍｍで水流の幅が３ｍｍの場合、サンプル用プローブ２２の先端１ｍｍ程度が飛び出す位置が良い。このとき重要なことは、洗浄ノズル２０７からの水流によって、サンプル用プローブ２２の洗浄範囲の上端側（プローブ基部側）が洗浄水で濡れることである。サンプル用プローブ２２に接触した洗浄水はサンプル用プローブ２２の表面に濡れ広がる（洗浄水で濡れる範囲３０２）ため、水流の幅より少し広い範囲が濡れる。

図３（ｃ）は、図３（ｂ）の状態から水流は出したままで、サンプル用プローブ２２の高さを数ミリメートル程度上げた状態である。サンプル用プローブ２２の高さを数ミリメートル上げることで、図３（ｂ）の状態で直接水流が当たっていなかったサンプル用プローブ２２の先端にも水流を当てて、サンプル残留物３０１を洗い落とす。図３（ｂ）から図３（ｃ）に遷移する際の、サンプル用プローブ２２の上昇動作では、移動時の加速度を利用してサンプル用プローブ２２の内外の汚れをサンプル用プローブ２２の先端側に集める効果を得ることもできる。図３（ｃ）の状態に達したときまでに、洗浄水で濡れた範囲３０２’が、洗浄範囲の全域となっている。

図３（ｄ）は、図３（ｃ）で停止したサンプル用プローブ２２の位置で、外洗電磁弁２０３を閉じて洗浄ノズル２０７からの水流を停止した状態である。図３（ｄ）の状態が一定時間継続すると、図３（ｂ）と図３（ｃ）でサンプル用プローブ２２に付着した洗浄水と、サンプル用プローブ２２の外側表面に残留した（洗浄により薄まっている）サンプル残留物３０１との混合物３０３が、サンプル用プローブ２２先端に集まる。サンプル残留物３０１が集まる理由は、洗浄水で濡れた範囲３０２’内に残留しているサンプル残留物３０１が水に溶解するためである。こうして、洗浄水とサンプル残留物の混合物３０３は、重力や表面張力によってサンプル用プローブ２２の先端に集まる。

図３（ｅ）は、図３（ｄ）で停止したサンプル用プローブ２２の位置で、再度外洗電磁弁２０３を開けて洗浄ノズル２０７から水流を吐出した状態である。サンプル用プローブ２２の先端に水流が当たることで、サンプル用プローブ２２の先端に集まった混合物３０３が除去される。図３（ｅ）での水流は、サンプル用プローブ２２の先端にだけ当てる点が重要である。そのため、図３（ｃ）でサンプル用プローブ２２の先端のみが水流に当たっている状態であることが望ましい。もし、図３（ｅ）でサンプル用プローブ２２の広い範囲に水流が当たると、サンプル用プローブ２２の表面に洗浄水が残留して、次に吸引する対象容器内に洗浄水を持ち込んで液を薄めてしまう。

なお、「サンプル用プローブ２２の先端のみが水流に当たる」とは、厳密な意味ではなく、サンプル用プローブ２２の先端近傍にも水流が当たることを許容するものである。ただし、サンプル用プローブ２２の先端は少なくとも水流の高さ中心よりも上方にあるものとし、水流の直接当たる高さ範囲がサンプル用プローブ２２の先端から１ｍｍ以下となるのが望ましい。

図３（ｆ）は、サンプル用プローブ２２の洗浄が終了して、サンプル用プローブ２２を上昇する状態であり、この状態で外洗電磁弁２０３を閉じて水流を停止する。サンプル用プローブ２２が水流から離れた後であれば、外洗電磁弁２０３の閉じるタイミングはいつでも良い。

上述の洗浄動作において、図３の（ｂ）と（ｃ）で洗浄ノズル２０７から水流を吐出する工程を第１吐出工程と呼び、図３（ｅ）で再び水流を吐出する工程を第２吐出工程と呼ぶ。第１吐出工程と第２吐出工程では洗浄の役割が異なるため、時間の比率では第１吐出工程の方を長くする必要がある。第１吐出工程での洗浄は、サンプル用プローブ２２の洗浄範囲全体を濡らし、サンプル残留物３０１のほとんどを水流によって除去するものである。一方、第２吐出工程での洗浄は、洗浄水と薄まったサンプルとの混合物３０３を瞬間的な水流で除去するものである。したがって、第２吐出工程では、洗浄水がサンプル用プローブ２２に濡れ広がるのをできる限り防ぐ必要があり、第２吐出工程の時間は数十ミリ秒程度と短い時間が望ましい。第１吐出工程の時間は、使用可能な水量に合わせて調整すればよく、第２吐出工程の１０倍程度の時間である数百ミリ秒以上が望ましい。

また、本実施形態では、サンプル用プローブ２２の停止位置として、図３（ａ）（ｂ）の第１高さ位置と、図３（ｃ）（ｄ）（ｅ）の第２高さ位置と、の２点がある。第１高さ位置から第２高さ位置に移動するタイミングは、図３（ｃ）以外にも洗浄水を停止した図３（ｄ）のタイミングでも良いが、移動中にプローブ先端を直接洗浄できる図３（ｃ）のタイミングが望ましい。

上記の洗浄動作では、吐出工程を２回で構成しているが、例えば洗浄範囲が１０ｍｍ程度で水流が４ｍｍ程度の場合、第１吐出工程を２回に分けて構成することも可能である。その場合、図３（ｂ）で１回目の第１吐出工程としてサンプル用プローブ２２の洗浄範囲（サンプル浸漬範囲）の上端側から洗い始め、２回目の第１吐出工程として洗浄範囲の中間から洗い始めるようにすれば良い。

ここで、上記の洗浄動作は、洗浄ノズル２０７から出る水流とサンプル用プローブ２２との相対位置の調整が重要である。例えば、洗浄の水流が円柱形状であるとすると、円柱の中心軸から水平方向にサンプル用プローブ２２の位置がずれると、洗浄範囲は減少する。さらに、サンプル用プローブ２２の停止高さが第１高さ位置からずれると、図３（ｂ）での洗浄範囲が増減し、増えれば水の付着量が増加し、減れば洗浄できない範囲が発生する。また、サンプル用プローブ２２の停止高さが第２高さ位置からずれると、図３（ｅ）での混合物３０３の除去ができなくなる。そのため、後述するように、サンプル用プローブ２２の洗浄位置の調整が重要となる。

なお、上記の洗浄動作は、サンプル用プローブ２２の内側洗浄の動作を省略したが、サンプル用プローブ２２の内側洗浄の有無によらず、実施可能である。サンプル用プローブ２２の内側洗浄をせずに次の液体を吸引する動作を行う場合、図３（ｂ）のようにサンプル用プローブ２２の先端を水流から出すことで、洗浄水がサンプル用プローブ２２の内部に侵入する量を抑えることができる。本効果をさらに得るには、図３（ｃ）の時間よりも図３（ｂ）の時間を長くすることが望ましい。

図４は本実施形態におけるサンプル用プローブ２２の外側を洗浄する際のタイムチャートである。図４は、図３の動作のタイミングをまとめたものである。まず、サンプル用プローブ２２の下降動作によって、サンプル用プローブ２２の先端が第１高さ位置まで移動するとサンプル用プローブ２２の下降動作を停止し、その後、洗浄ノズル２０７から洗浄水の吐出を開始して第１吐出工程を行う。ここで、本実施形態では使用水量を少なくすべく洗浄ノズル２０７からの水流の幅が狭いため、第１高さ位置は洗浄水の水流の下端よりも下方となっており、第１高さ位置には洗浄水が直接当たらない。また、サンプル用プローブ２２の先端が第１高さ位置にあるとき、洗浄ノズル２０７からの水流の上端は、洗浄すべきプローブ高さ範囲（サンプル等が付着する高さ範囲）のうちその上端付近とほぼ一致する。なお、第１吐出工程によってサンプル用プローブ２２の外側を洗浄しているときに、サンプル用プローブ２２の内側の洗浄を同時に行っても良い。

また、この第１吐出工程中に、サンプル用プローブ２２を微上昇させ、サンプル用プローブ２２の先端が第２高さ位置となった状態でサンプル用プローブ２２を停止させる。この第２高さ位置は、洗浄ノズル２０７からの洗浄水の水流の上端より僅かに下方であり、洗浄水がかろうじて直接当たるようになっている。

このように、第１吐出工程では、サンプル用プローブ２２の高さ方向広範囲に亘り、洗浄水が直接当たり、サンプル用プローブ２２の外側に付着しているサンプル等を洗い流す。そして、第１吐出工程が終了すると、洗浄ノズル２０７からの洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程を行う。この吐出停止工程では、サンプル用プローブ２２の移動も行わず、サンプル用プローブ２２の壁面に付着していたサンプル等を溶解しながら洗浄水が落ちてくるまで待機させる。

所定時間の吐出停止工程が終了すると、サンプル用プローブ２２の先端が第２高さ位置にある状態で、洗浄ノズル２０７からの吐出を再び開始して第２吐出工程を行う。この第２吐出工程は第１吐出工程よりも短時間であり、洗浄ノズル２０７からの吐出再開の直後に、サンプル用プローブ２２を上昇させてから、洗浄ノズル２０７からの吐出を停止する。なお、洗浄ノズル２０７から洗浄水を吐出しているときに、サンプル用プローブ２２の先端を水流から引き抜く（離す）動作を行うことにより、サンプル用プローブ２２内外に残留する洗浄水が表面張力によって引き落とされる効果が期待できる。また、サンプル用プローブ２２の先端が第２高さ位置にある状態から上昇させるときの加速度を、吸引吐出時にサンプル用プローブ２２を上昇させるときの加速度より高くすることで、慣性力により洗浄水を効率的に落下させることが可能である。さらに、第２高さ位置から上昇させるときの加速度を、第１高さ位置から上昇させるときの加速度より高くしても良い。第１高さ位置から上昇させるときの加速度を低くするのは、第１吐出工程におけるサンプル用プローブ２２外側の洗浄効果を高めるためである。

なお、本実施形態では、第１吐出工程が１回の場合を示したが、洗浄すべきプローブ高さ範囲が広い場合には、第１吐出工程を複数回に分け、最初にサンプル用プローブ２２の上方領域を洗浄し、その後、サンプル用プローブ２２の中間領域及び下方領域を洗浄することで、全範囲が洗浄水で濡れるようにしても良い。ここで、上方領域の洗浄から下方領域の洗浄までの間は、洗浄水の吐出を停止せずに吐出し続けても良いが、第２吐出工程の前に吐出を一時停止することが重要である。

本実施形態の洗浄方法によれば、第１吐出工程と第２吐出工程の間に吐出停止工程を設け、サンプル用プローブ２２の先端に洗浄水等が集まることを待った後、第２吐出工程でサンプル用プローブ２２の先端に向けて洗浄水を吐出することで、先端に集まった水と残留付着物を除去する。吐出停止工程では、洗浄水がサンプル用プローブ２２の先端に集まる間に残留付着物が水に溶け出す現象も利用できる。また、吐出停止工程では洗浄水の吐出が不要であるため、全体として少ない水で洗浄効果が得られる。

図５は本実施形態の洗浄ノズル２０７から吐出される洗浄水の水流の範囲を確認する水流確認工程を示す図である。図５（ａ）が水流の水平方向両端位置を確認するとき、図５（ｂ）が水流の鉛直方向上端位置を確認するとき、を示している。本実施形態では、サンプル用プローブ２２に静電容量式の液接触検知センサが内蔵されている場合を例に説明する。

洗浄ノズル２０７は円形の吐出口を有しているため、水流の断面は円形に近い形状である。まず、図５（ａ）では、サンプル用プローブ２２の高さは、洗浄ノズル２０７からの水流にサンプル用プローブ２２の先端が触れる高さ（例えば、第２高さ位置）とし、サンプル用プローブ２２を水平方向に回転させながら、サンプル用プローブ２２先端の洗浄水を検知し始めるタイミングを調べる。具体的には、ある基準位置から一定速度でサンプル分注機構１５のアームを回転させながら、液接触検知センサの信号が一定値以上変化するまでの時間あるいはモータの回転角度（ステッピングモータはパルス数、サーボモータはエンコーダのカウント値を利用）を確認する。この確認動作を水流の水平方向両側から行うことで、水流の中心位置５０１を把握することができる。

次に、図５（ｂ）では、サンプル用プローブ２２を水流の中心位置５０１の上方より鉛直方向に下降させながら、サンプル用プローブ２２先端の洗浄水を検知し始めるタイミングを調べる。具体的には、アームを一定速度で下降させながら、液接触検知センサの信号が一定値以上変化するまでの時間あるいはモータの回転角度を確認することで、水流と接触し始めた位置（水流の上端位置５０２）を把握することができる。

以上の２つの検出動作を行うことで、水流の幅を含む水流の形状を把握することができるが、少なくとも、水流の中心位置５０１と水流の上端位置５０２を確認できれば十分である。そして、こうした水流確認工程の結果を反映する形で、洗浄時のサンプル用プローブ２２が所定の位置となるように以下のように調整を行う。すなわち、サンプル用プローブ２２の外側の洗浄効果は、水流がサンプル用プローブ２２と当たる面が広いほど高くなるので、洗浄時のサンプル用プローブ２２の水平位置は、検出した水流の中心位置５０１と一致するように調整する。また、サンプル用プローブ２２の洗浄範囲の上端は、水流の上端位置５０２付近となる必要があるため、第１吐出工程を開始する際には、サンプル用プローブ２２の洗浄範囲の上端が、検出した水流の上端位置５０２と一致するように調整する。

なお、洗浄ノズル２０７の吐出口の形状が円形であれば、水流の断面形状もほぼ円形であるので、検出した水流の幅から水流の高さを推定することが可能である。この水流の高さを利用して、サンプル用プローブ２２先端の停止高さを決定しても良い。

また、水流の断面が円形のように高さと幅の長さがほぼ同じ形状であれば、水流の幅を検出することで水流の高さを推定することも可能である。例えば、サンプル用プローブ２２の高さを変えて複数回水流の幅の検知を行い、検出した水流の幅が最大となるサンプル用プローブ２２の高さが、水流の高さ方向の中心である。検出した水流の水平方向の幅がＸであれば、水流の高さ方向の幅もＸであり、水流の高さ方向の中心からＸ／２が水流の上端となる。

その他、サンプル用プローブ２２の水平方向の位置を変えていき、水流の高さの検出を繰り返す方法でも調整が可能である。この方法では、異なる水平位置でサンプル用プローブ２２を下降させて、最も短い時間（早い時間）で洗浄水を検出した水平位置が、水流の水平方向の中心位置である。この場合、水流の中心位置と水流の上端が同時に検知できるので、水平方向の水流幅を検知する必要はない。

上述の水流確認工程は、自動分析装置１０が検査動作に入る日々の調整動作で行う場合やメンテナンスのためサンプル用プローブ２２を交換した場合などに行われる。これにより、特に水流の幅を狭くした場合であっても、サンプル用プローブ２２の位置ずれによる洗浄効果の変化を低減することができる。

本実施形態では、水流の範囲を確認する際、洗浄水の有無を静電容量式の液接触検知センサで検知したが、これに限るものではない。例えば、サンプル用プローブ２２にチューブ２０６を介して接続した圧力センサや、洗浄槽２６付近に設置した画像センサ（カメラなど）を利用して、サンプル用プローブ２２と水流の接触位置やタイミングを検出しても良い。

圧力センサを利用する場合、シリンジポンプ２０５で吸引動作をしながらサンプル用プローブ２２を水平方向と鉛直方向のそれぞれに動かし、圧力センサの信号が一定値を超える位置を探す。シリンジポンプ２０５の動作と関係なく圧力値に変化があれば、水流の水を吸ったことになるので、水流の位置が把握できる。

画像センサを利用する場合、水流の水平方向と鉛直方向が観察できる位置にそれぞれ設置し、撮影画像から水流とプローブの相対位置を確認することで、サンプル用プローブ２２の位置調整が可能である。

本実施形態は、洗浄ノズル２０７の向きがサンプル用プローブ２２に対して横向きで、水平方向からの水流を利用したプローブ洗浄及びプローブ位置調整（水流確認工程）について説明したが、水流の吐出方向は、斜め上からや斜め下からでも可能である。また、本実施形態の水流確認工程は、吐出停止工程を設けない、一般的なプローブ洗浄を行う自動分析装置に対しても適用できる。そして、洗浄水の水流に対するサンプル用プローブ２２の位置ずれを定期的に調整することで、安定した洗浄性能を維持できる。

図６は本実施形態のプローブ洗浄及びプローブ位置調整を行うための制御ブロック図である。自動分析装置制御部６０１は、装置全体を制御するための中央処理部であり、ＧＵＩ６０２を介してユーザからの検査指示などを受け取る。通常の動作時は、分注動作制御手段６０３が分注機構制御手段６０４やシリンジ制御手段６０５を使い、分注動作を繰り返し行う。分注動作では、プローブ洗浄制御手段６０６や電磁弁制御手段６０７によって、サンプル用プローブ２２の洗浄が行われる。

洗浄ノズル２０７からの水流の範囲を確認し、この水流に対するサンプル用プローブ２２の位置を調整する際には、モード切替手段６０８によって水流検知用のモードに切り替える。水流検知制御手段６０９は、分注機構制御手段６０４、電磁弁制御手段６０７及び水流接触検知手段６１０を使いながら、上述の水流確認工程を実施する。水流確認工程により水流の範囲の確認が終わると、サンプル用プローブ２２の停止位置の調整が行われ、調整後の停止座標、モータ回転角あるいはパルス数が、プローブ停止位置データ６１１に記録される。サンプル用プローブ２２の先端における洗浄水の有無を液接触検知センサで行う場合、接触検知時間の基準データ６１２との比較により、水流の範囲を確認できる。

以上の実施形態によれば、少ない洗浄水で十分な洗浄効果が安定して得られるプローブ洗浄が実現できる。

１０ 自動分析装置
１１ 試薬容器
１２ 試薬ディスク
１３ 反応ディスク
１４ 試薬分注機構
１５ サンプル分注機構
２２ サンプル用プローブ
２３ サンプル容器
２４ ラック
２５ セル
２６ 洗浄槽
２０１ 給水タンク
２０２ 給水ポンプ
２０３ 外洗電磁弁
２０４ 内洗電磁弁
２０５ シリンジポンプ
２０６ チューブ
２０７ 洗浄ノズル
３０１ サンプル残留物
３０２ 洗浄水で濡れる範囲
３０３ 混合物
５０１ 水流の中心位置
５０２ 水流の上端位置
６０１ 自動分析装置制御部
６０２ ＧＵＩ
６０３ 分注動作制御手段
６０４ 分注機構制御手段
６０５ シリンジ制御手段
６０６ プローブ洗浄制御手段
６０７ 電磁弁制御手段
６０８ モード切替手段
６０９ 水流検知制御手段
６１０ 水流接触検知手段
６１１ プローブ停止位置データ
６１２ 接触検知時間の基準データ

Claims (8)

1. サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、
   前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、
   前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、
   前記第１吐出工程が開始してから前記第２吐出工程が開始するまで、前記プローブは、前記第１高さ位置、前記第２高さ位置、又はこれらの間の高さ位置、のいずれかに位置し、
   前記第１吐出工程の終了後であって前記第２吐出工程の開始前に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程が存在することを特徴とする自動分析装置。
2. 請求項１に記載の自動分析装置において、
   前記第２吐出工程では、前記プローブの先端のみに前記洗浄水が当たることを特徴とする自動分析装置。
3. サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、
   前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、
   前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、
   前記第１吐出工程と前記第２吐出工程との間に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程が存在し、
   前記第１高さ位置は、前記洗浄水の水流の下端よりも下方にあることを特徴とする自動分析装置。
4. サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、
   前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、
   前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、
   前記第１吐出工程と前記第２吐出工程との間に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程が存在し、
   前記第１吐出工程は、前記プローブの先端が前記第１高さ位置にあるときの吐出工程の他、前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方であって前記第２高さ位置よりも下方にあるときの吐出工程を１つ以上含むことを特徴とする自動分析装置。
5. サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、
   前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、
   前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、
   前記第１吐出工程と前記第２吐出工程との間に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程が存在し、
   前記第２吐出工程は、前記第１吐出工程より短時間であることを特徴とする自動分析装置。
6. サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、
   前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、
   前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、
   前記第１吐出工程と前記第２吐出工程との間に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程が存在し、
   前記第２吐出工程は、前記洗浄ノズルから前記洗浄水を吐出しているときに前記プローブを上昇させることで終了することを特徴とする自動分析装置。
7. サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、
   前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、
   前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、
   前記第１吐出工程と前記第２吐出工程との間に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程が存在し、
   前記プローブの先端が前記第２高さ位置にある状態から上昇するときの加速度は、前記プローブの先端が吸引吐出時に上昇するときの加速度より高いことを特徴とする自動分析装置。
8. サンプル又は試薬の吸引吐出を行うプローブと、前記プローブの外側に向けて洗浄水を吐出する洗浄ノズルと、を備えた自動分析装置であって、
   前記プローブの先端が第１高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第１吐出工程と、
   前記プローブの先端が前記第１高さ位置よりも上方の第２高さ位置にあるときに、前記洗浄ノズルから前記洗浄水の吐出を開始する第２吐出工程と、を有し、
   前記第１吐出工程と前記第２吐出工程との間に、前記洗浄ノズルからの前記洗浄水の吐出を停止する吐出停止工程が存在し、
   前記洗浄水の水流の範囲を確認する水流確認工程を有し、
   前記水流確認工程では、前記プローブを水平方向に移動させながら前記洗浄水の有無を検出することで水流の水平方向両端位置を確認するとともに、前記プローブを鉛直方向に移動させながら前記洗浄水の有無を検出することで水流の上端位置を確認することを特徴とする自動分析装置。

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