JP2002162403A - 自動分析装置 - Google Patents

自動分析装置

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JP2002162403A
JP2002162403A JP2000356464A JP2000356464A JP2002162403A JP 2002162403 A JP2002162403 A JP 2002162403A JP 2000356464 A JP2000356464 A JP 2000356464A JP 2000356464 A JP2000356464 A JP 2000356464A JP 2002162403 A JP2002162403 A JP 2002162403A
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reagent
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Yoichiro Suzuki
洋一郎 鈴木
Hiroyasu Uchida
裕康 内田
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • B01L13/00Cleaning or rinsing apparatus
    • B01L13/02Cleaning or rinsing apparatus for receptacle or instruments
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/10Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices
    • G01N35/1004Cleaning sample transfer devices

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Abstract

(57)【要約】 【課題】ノズルの汚染範囲が広くなる穿孔方式の試薬容
器を用いる自動分析装置において、ノズルの有効な洗浄
を維持しながら、洗浄液の消費量低減と洗浄時間の短縮
が可能な自動分析装置を実現する。 【解決手段】制御部101は、穿孔方式の試薬容器11
2の穿孔穴から侵入したノズルの長さ、つまり、汚染領
域203を算出し、算出した汚染領域203に応じて、
洗浄機構109へのノズルの下降位置を決定する。これ
により、この下降位置にてノズルを停止することによ
り、洗浄機構109内にて汚染領域203のみ、有効に
洗浄され、汚染領域以外の部分洗浄されることが回避さ
れる。したがって、ノズルの汚染範囲が広くなる穿孔方
式の試薬容器を用いる自動分析装置において、ノズルの
有効な洗浄を維持しながら、洗浄液の消費量低減と洗浄
時間の短縮が可能な自動分析装置を実現することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、試薬等を使用して
検体の成分分析を行う自動分析装置に係わり、特に分注
機構のノズル洗浄に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の自動分析装置におけるノズル洗浄
方法としては、洗浄液を分注ノズルに噴出させて洗浄す
る方法や洗浄槽に浸漬させる方法がある。
【0003】また、特開平5−87703号公報には、
超音波振動を用いてノズルを振動させることにより、キ
ャビテーション、直進流、加速度の作用によって、分注
ノズルの外側及び内側に付着した検体試薬等の汚れを洗
浄する方法が記載されている。
【0004】また、特開平6−288879号公報に
は、分注ノズルを洗浄槽に所定深度侵入させ、オゾン発
生器からオゾンガスを供給するとともに、洗浄液の吸排
動作をさせて、分注ノズルの内外壁を洗浄する方法が記
載され、特開平8−271522号公報には、生体関連
成分に電荷を与えると共に、分注ノズル表面に生体関連
成分に与えられた電荷と逆極性の電位を与えることによ
り、電気的反発力を利用して生体関連成分を分注ノズル
から除去する方法が記載されている。
【0005】また、特開平11−38016号公報に
は、反応容器の設置位置の上方にノズル洗浄ケースを設
け、このケース内で分注ノズルの洗浄を行う方法が記載
され、特開平11−94843号公報には、分注ノズル
の近傍及び分注ノズルに通じる配管流路に高温加熱装置
を設け、高温加熱装置により洗浄液を加熱して瞬時に沸
騰させ、急激に膨脹する体積変化によって生じる高い圧
力及び蒸気、気泡により、分注ノズル内に残留している
洗浄液および検体、試薬の排出を行う方法が記載されて
いる。
【0006】また、特開平4−169851号公報に
は、洗浄しようとする被洗浄部材(プローブ)が使用さ
れた測定項目に対して、最適な洗浄条件、例えば、洗浄
液の量、洗浄時間を決定し、決定した条件に従って、洗
浄を行うことにより、洗浄部容器内に吐出される洗浄液
を最低限必要な量に止め、洗浄液を無駄に使用すること
が無い方法が記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、試薬の蒸発
を防止するため、試薬容器に蓋が施され、使用に際して
しこの試薬容器の蓋をノズルにより、穿孔し、容器内の
試薬を吸引することが可能な穿孔方式の試薬容器があ
る。
【0008】この穿孔方式の試薬容器を用いる場合、分
注時において分注ノズルが試薬容器の穿孔された開口部
に侵入する際に、必然的に試薬容器開口部と分注ノズル
が接触するため、分注ノズルの試薬による汚染範囲が広
がる。
【0009】特に、穿孔方式の試薬容器内の試薬液量が
少ない場合、分注ノズルの下降距離は大きくなり、試薬
容器開口部に接触する範囲も広くなる。
【0010】この場合、最大汚染範囲に合わせてノズル
洗浄を行おうとすると、洗浄範囲が広いことから、洗浄
液の消費量および洗浄に要する時間が増大するため、廃
液の増加および自動分析装置のスループット低下を引き
起こす。
【0011】そこで、特開平4−169851号公報に
記載された技術のように、ノズルが使用された測定項目
に応じて洗浄条件を決定することが考えられるが、この
公報記載の技術は、穿孔方式の試薬容器を用いた場合の
ノズルの洗浄は考慮しておらず、試薬容器へノズルが侵
入する範囲は一定に保たれるため、この公報に記載され
た技術を穿孔方式の試薬容器を用いたとしても、ノズル
の汚れを有効に洗浄することは困難である。
【0012】本発明の目的は、ノズルの汚染範囲が広く
なる穿孔方式の試薬容器を用いる自動分析装置におい
て、ノズルの有効な洗浄を維持しながら、洗浄液の消費
量低減と洗浄時間の短縮が可能な自動分析装置を実現す
ることである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は次のように構成される。 (1)液体容器の開口部が穿孔方式の液体容器から液体
を液体分注手段により分注して、分析対象物を分析する
自動分析装置において、上記液体容器内の液体残量また
は液体消費量を検出する液体量検出手段と、上記液体量
検出手段の液体消費量の検出結果から上記液体分注手段
における液体による汚染領域を決定し、上記液体分注手
段を洗浄する洗浄範囲を決定し、上記液体分注手段に対
する洗浄動作の制御を行う制御部とを備える。
【0014】(2)好ましくは、上記(1)において、
液体量検出手段は、上記液体分注手段による液体分注量
を検出するカウンタである。
【0015】(3)また、好ましくは、上記(1)にお
いて、液体残量を検出する手段として、液面センサーを
備える。
【0016】(4)また、好ましくは、上記(1)にお
いて、超音波を用いて洗浄効果を高める、液体分注手段
の洗浄機構を備える。
【0017】(5)また、好ましくは、上記(1)〜
(4)において、上記液体は試薬である。
【0018】制御部は、穿孔方式の液体容器に侵入した
液体分注手段の長さ、つまり、汚染域を算出し、算出し
た汚染領域に応じて、洗浄手段への液体分注手段の下降
位置を決定する。これにより、この下降位置にて液体分
注手段を停止することにより、洗浄手段内にて汚染領域
のみ、有効に洗浄され、汚染領域以外の部分を洗浄され
ることが回避される。
【0019】したがって、液体分注手段の汚染範囲が広
くなる穿孔方式の液体容器を用いる自動分析装置におい
て、液体分注手段の有効な洗浄を維持しながら、洗浄液
の消費量低減と洗浄時間の短縮が可能な自動分析装置を
実現することができる。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面を参照して詳細に説明する。 (第1の実施形態)図1は、本発明の第1の実施形態で
ある自動分析装置の概略構成図である。図1において、
自動分析装置は、制御部101と、検体ディスク102
と、試薬ディスク103と、反応ディスク104と、分
注機構105と、攪拌機構106と、分光器107と、
セル洗浄機構108と、ノズル洗浄機構109とを備え
ている。
【0021】制御部101は、各部の詳細な動作制御を
行う電子回路や記憶装置により構成され、装置の動作を
統括制御する。
【0022】また、検体ディスク102は、検体を入れ
た検体容器110を保持し、分析対象物となる検体を、
生化学反応を利用した比色分析を行うために、反応セル
111へ必要量移送する分注機構105が分注動作を行
えるポジションまで回転移送する。
【0023】また、試薬ディスク103は、試薬を入れ
た試薬容器112を保持し、分析対象となる検体中の成
分と反応する試薬とを、比色分析に必要な量だけ反応セ
ル111へ移送するために、分注機構105が分注動作
を行えるポジションまで回転移送する。
【0024】また、反応ディスク104は、水を代表と
する恒温媒体上に、検体中の成分と試薬とが化学反応し
ている間、両者の混合物である反応液を入れた反応セル
111を保持する。さらに、反応ディスク104は、比
色分析を行う分光器107や攪拌機構106、セル洗浄
機構108などの動作ポジションまで各動作の対象とな
る反応セル111を回転移送する。
【0025】また、反応攪拌機構106は、検体容器1
10から反応セル111に吐出された検体中の分析対象
成分と、試薬容器112から反応セル111に吐出され
た試薬の反応を促進するために、反応セル111中の反
応液の攪拌を行う。
【0026】また、分光器107は、攪拌機構106に
より攪拌され化学反応した反応液の吸光度測定による比
色分析を行う。
【0027】また、セル洗浄機構108は、比色分析を
終了した反応セル111から反応液の吸引を行い、洗剤
などを吐出し、反応セル111の洗浄を行う。
【0028】また、ノズル洗浄機構109は、検体や試
薬を分注した分注機構105のノズル先端を、残留物に
より次の分析対象に影響を及ぼさないように洗浄する。
【0029】図2は、本発明の第1の実施形態である自
動分析装置におけるノズル洗浄機構の概略構成図であ
る。
【0030】図2において、ノズル洗浄機構109は、
ノズルの先端での液残りを軽減するため、洗浄液204
をノズルの汚染領域203に対して洗浄液204が落下
するように噴出させることによりノズルの洗浄を行う。
【0031】洗浄効果を向上するため、超音波発生源2
05を洗浄液204の噴出軌道に合わせて配置し、超音
波206の照射を行う。この超音波206の発振周波数
として約1MHzを使用すると、キャビテーションによ
る洗浄効果の増大が見られ、更に高い周波数を用いると
キャビテーション効果は発生しないが微細な汚れを落と
すことができる。
【0032】また、超音波発生源205は、この超音波
発生源205と洗浄箇所との距離を、超音波206がつ
くる定在波の腹になるように配置することにより、洗浄
効果を高めることができる。
【0033】試薬容器112として穿孔方式の容器を使
用する場合、穿孔蓋に分注ノズルが接触することから、
穿孔蓋から試薬容器112内に分注ノズルを侵入させた
部分lWが汚染領域203となる。このため、次の分析
に影響を与えないように、汚染領域203を全て洗浄す
る必要がある。
【0034】穿孔方式の容器を試薬容器として使用する
場合には、試薬分注量が増えると、試薬201の液面l
Lは低下するため、試薬分注量に比例して分注ノズルの
汚染領域が拡大する。
【0035】このため、汚染領域が最も大きくなる領
域、つまり、穿孔式の容器にノズルが侵入し得る最大の
領域の洗浄を、毎回行うことは洗浄液及び洗浄時間を増
大させることとなる。
【0036】そこで、各試薬ごとに試薬分注量を記憶す
るカウンタ202を制御部101に接続して設けること
により、試薬の初期における量及び分注量が既知である
から、その試薬容器からの吸引回数をカウンタ202に
よりカウントすることにより、試薬の減少量を判断する
ことができる。
【0037】そして、判断した試薬の減少量から、試薬
容器112へのノズルの侵入領域、つまり、試薬汚染領
域203を決定し、制御部101により汚染領域203
のみを効率的に洗浄できるように、分注機構105の昇
降動作の制御を行う。
【0038】すなわち、ノズルの試薬汚染領域203の
大きさに比例してノズル洗浄機構109への降下位置を
低下させる。これにより、ノズルはその汚染領域のみ、
洗浄液によって十分洗浄可能となり、ノズルの洗浄不要
な部分にまで洗浄液が供給されることが回避される。
【0039】図3は、本発明の第1の実施形態である自
動分析装置の試薬分注動作およびノズル洗浄の動作フロ
ーチャートである。図3の動作ステップに従い、第1の
実施形態の動作を説明する。
【0040】制御部101は、試薬1の初期液量V1
(0)からノズル下降距離lD+α(図1に示すよう
に、lDは試薬容器112上におけるノズル先端の上死
点(最上昇位置)から試薬液面までの距離)を設定する
(ステップS301)。
【0041】ここで、突入距離αは、確実に試薬液の吸
引を行うために、ノズル先端部を試薬液中に侵入させる
ために必要な距離であるが、その他の外的因子による下
降距離なども含めた値とする。
【0042】次に、分注機構105を、目標とする試薬
1を分注できるポジションまで旋回後、設定したノズル
下降距離lD+αだけノズルを下降させ、試薬容器11
2から必要な量の試薬201を吸引する(ステップS3
02)。
【0043】そして、制御部101は、吸引した試薬量
Vcから試薬1の消費量Vncを記憶し、試薬容器11
2の穿孔穴から試薬液面までのノズルの汚染領域203
を洗浄範囲lWと決定する(ステップS303)。
【0044】次に、分注機構105を上死点lUDPま
で上昇させた後、試薬201を添加すべき検体が入れら
れた反応セル111のポジションまで旋回させ、下降さ
せて反応セル111に試薬を吐出する(ステップS30
4)試薬吐出後、分注機構105を、上死点lUDPま
で上昇させた後、洗浄機構109のポジションまで旋回
させ、上述したように、カウンタ202のカウント数か
ら、ノズルの汚染領域203を判断し、洗浄液204
が、その汚染領域203を完全に洗浄できるポジション
まで、洗浄機構109内にノズルを下降させる(ステッ
プS305)。
【0045】そして、洗浄液204をノズルに向けて噴
出させながら、超音波206をノズルに向けて照射し、
分注機構105を低速で、汚染領域に対応する距離lW
だけ、上昇させる。
【0046】全汚染領域203の洗浄が終了した時点
で、洗浄水204の噴出と、超音波206の照射を終了
させ、分注機構105を上死点lUDPまで上昇させる
(ステップS306)。
【0047】上記ステップS301からステップS30
6の動作ステップで、試薬1の分注とノズル洗浄とが終
了し、次に、他の検体に添加する試薬nの分注に移行す
る。
【0048】そして、試薬nの残量Vn(m)が、次に
使用する試薬量Vcに対して十分か否かを判定する(ス
テップS307)。
【0049】ステップS307において、試薬nの残量
Vn(m)が、試薬量Vcに対して不十分である場合、
ステップS311に進み、試薬残量不足の警告を発生
し、新しい試薬nの試薬容器112の補充を要求する。
【0050】ステップS307において、試薬nの残量
Vn(m)が、試薬量Vcに対して十分であれば、ステ
ップS308に進み、試薬nの残量Vn(m)からノズ
ル下降距離lD+αを設定する。
【0051】次に、分注機構105を、目標とする試薬
nを分注できるポジションまで旋回した後、設定したノ
ズル下降距離lD+αまで下降させ、試薬容器112か
ら必要な量の試薬201を吸引する(ステップS30
9)。
【0052】そして、吸引試薬量Vcから試薬nの消費
量Vncを記憶し、試薬容器112の穿孔穴から試薬液
面までの汚染領域203を洗浄範囲lWと決定し、試薬
消費量Vncをカウントする(ステップS310)。
【0053】続いて、ステップS304に戻り、以降、
試薬1の分注動作ステップS304からステップS31
1の動作を、上述と同様にして行う。
【0054】以上のように、本発明の第1の実施形態に
よれば、穿孔方式の試薬容器112の穿孔穴から侵入し
たノズルの長さ、つまり、汚染領域203を算出し、算
出した汚染領域203に応じて、洗浄機構109へのノ
ズルの下降位置を決定する。この下降位置にてノズルを
停止することにより、洗浄機構109内にて汚染領域2
03のみ、有効に洗浄され、汚染領域以外の部分を洗浄
されることが回避される。
【0055】したがって、ノズルの汚染範囲が広くなる
穿孔方式の試薬容器を用いる自動分析装置において、ノ
ズルの有効な洗浄を維持しながら、洗浄液の消費量低減
と洗浄時間の短縮が可能な自動分析装置を実現すること
ができる。
【0056】なお、ノズルが洗浄機構109内の下降位
置まで下降した後、洗浄液204を流し始めて所定時間
経過後、上昇を開始し、所定位置まで上昇した時点で洗
浄液の供給を停止してもよいし、ノズルが下降位置に停
止した状態で洗浄液の供給を停止し、その後、ノズルを
上昇させてもよい。
【0057】また、洗浄液の供給時間を、洗浄機構10
9内のノズル下降位置に応じて変更することもできる。
【0058】(第2の実施形態)図4は、本発明の第2
の実施形態である自動分析装置の要部概略構成図であ
り、洗浄液を貯留しての洗浄する洗浄方法を採用する場
合の例を示す図である。なお、他の構成は第1の実施形
態と同様であるので、その図示及び詳細な説明は省略す
る。
【0059】図4において、分注ノズルを、洗浄液20
4を貯留したノズル洗浄機構109に、汚染領域203
が浸るように浸漬させることにより、ノズルの洗浄を行
う。
【0060】つまり、第1の実施形態と同様にして、穿
孔式の試薬容器112に挿入したノズルの汚染領域を決
定し、その液面位置及び液量が既知の洗浄液204にノ
ズルの汚染領域を浸漬させてノズルの洗浄を行う。
【0061】洗浄効果を向上するため、超音波発生源2
05をノズル洗浄機構109の底部に配置し、ノズルに
超音波206の照射を行う。
【0062】この第2の実施形態においても、第1の実
施形態と同様な効果を得ることができる。
【0063】(第3の実施形態)図5は、本発明の第3
の実施形態である自動分析装置の要部概略構成図であ
り、穿孔方式の試薬容器112内の試薬の液面を検知す
る液面センサを用いる場合の例を示す図である。なお、
他の構成は第1の実施形態と同様であるので、その図示
及び詳細な説明は省略する。
【0064】図5において、試薬容器112として穿孔
方式の試薬容器112を使用する場合、試薬分注量によ
り変化する汚染領域203を、分注機構105内の配置
された液面センサ501で検出した液面高さlLから決
定し、制御部101により汚染領域203のみを効率的
に洗浄できるように、分注機構105の昇降動作の制御
を行う。
【0065】液面センサ501には、ノズルを導電性の
物質で構成し、グランド電極502を試薬容器112よ
り下方に配置することにより、ノズル先端とグランド電
極502との間の誘電率の変化から液体への接触を検知
する静電容量方式のセンサなどが使用できる。
【0066】液面センサー501は、ノズルが液体に接
触することで検知信号を発生するため、穿孔方式の試薬
容器112を使用した場合、穿孔穴に付着した液滴に接
触した際にも検知信号を発生する。
【0067】この場合には、本来の液面は穿孔穴よりも
下方にあることから、分注機構105の下降動作中にお
いて、穿孔穴までの下降中は検知信号を無視するように
制御を行う。
【0068】また、分注機構105を最下降点まで下降
させるためにパルスモータへ送る総パルス数から、液面
を検知するまでにパルスモータへ送ったパルス数を差し
引いた残パルス数を、各試薬ごとに記憶しておくことに
より、次に同じ試薬の分注を行う際には、記憶しておい
た残パルス数までの分注機構105の下降動作を高速化
できる。
【0069】以上のように、本発明の第3の実施形態に
おいても、第1の実施形態と同様な効果を得ることがで
きる。
【0070】なお、上述した例においては、試薬をノズ
ルにより分注する例であるが、ノズル(液体分注手段)
により分注する対象は、試薬に限らず、例えば、検体で
もよく、この検体等を穿孔式の液体容器に収容する場合
にも、本発明は適用可能である。
【0071】
【発明の効果】本発明によれば、ノズルの汚染範囲が広
くなる穿孔方式の液体容器(試薬容器)を用いる自動分
析装置において、ノズルの有効な洗浄を維持しながら、
洗浄液の消費量低減と洗浄時間の短縮が可能な自動分析
装置を実現することができる。
【0072】つまり、穿孔方式の液体容器を用いた自動
分析装置において、液体分注量を検出するカウンタなど
の液体消費量を検出する手段を設け、検出結果からノズ
ル汚染領域を決定し、汚染領域のみの洗浄を行うよう
に、ノズル洗浄範囲の制御を行う制御部を備え、ノズル
洗浄機構において超音波洗浄を行うことにより、分注ノ
ズルの洗浄における洗浄液の消費量と洗浄時間を増大さ
せることなく、洗浄効果を向上させ、効率的なノズル洗
浄を実現し、分析精度の確保および、スループットの向
上が図れる。
【0073】また、本発明によれば、穿孔方式に液体容
器を用いた自動分析装置において、液面センサーなどの
液体残量を検出する手段を設け、液体の液面高さを検出
することにより、ノズル汚染領域を決定し、洗浄範囲の
制御を行う制御部を備え、ノズル洗浄機構において超音
波洗浄を行うことにより、分注ノズルの洗浄における洗
浄液の消費量と洗浄時間を増大させることなく、洗浄効
果を向上させ、効率的なノズル洗浄を実現し、分析精度
の確保および、スループットの向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態である自動分析装置の
概略構成図である。
【図2】本発明の第1の実施形態である自動分析装置に
おけるノズル洗浄機構の概略構成図である。
【図3】本発明の第1の実施形態である自動分析装置の
試薬分注動作およびノズル洗浄の動作フローチャートで
ある。
【図4】本発明の第2の実施形態である自動分析装置の
要部概略構成図であり、洗浄液を貯留しての洗浄する洗
浄方法を採用する場合の例を示す図である。
【図5】本発明の第3の実施形態である自動分析装置の
要部概略構成図であり、穿孔方式の試薬容器112内の
試薬の液面を検知する液面センサを用いる場合の例を示
す図である。
【符号の説明】
101 制御部 102 検体ディスク 103 試薬ディスク 104 反応ディスク 105 分注機構 106 攪拌機構 107 分光器 108 セル洗浄機構 109 ノズル洗浄機構 110 検体容器 111 反応セル 112 試薬容器 201 試薬 202 カウンタ 203 汚染領域 204 洗浄液 205 超音波発生源 206 超音波 501 液面センサ 502 グランド電極
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Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】液体容器の開口部が穿孔式の液体容器から
    液体を液体分注手段により分注して、分析対象物を分析
    する自動分析装置において、 上記液体容器内の液体残量または液体消費量を検出する
    液体量検出手段と、 上記液体量検出手段の液体消費量の検出結果から上記液
    体分注手段における液体による汚染領域を決定し、上記
    液体分注手段を洗浄する洗浄範囲を決定し、上記液体分
    注手段に対する洗浄動作の制御を行う制御部と、 を備えることを特徴とする自動分析装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の自動分析装置において、液
    体量検出手段は、上記液体分注手段による液体分注量を
    検出するカウンタであることを特徴とする自動分析装
    置。
  3. 【請求項3】請求項1記載の自動分析装置において、液
    体残量を検出する手段として、液面センサーを備えるこ
    とを特徴とする自動分析装置。
  4. 【請求項4】請求項1記載の自動分析装置において、超
    音波を用いて洗浄効果を高める、液体分注手段の洗浄機
    構を備えることを特徴とする自動分析装置。
  5. 【請求項5】請求項1〜4のうちのいずれか一項記載の
    自動分析装置において、上記液体は試薬であることを特
    徴とする自動分析装置。
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