JP7331571B2 - Resin encapsulation mold and resin encapsulation method - Google Patents

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本発明は、樹脂封止用金型及び樹脂封止方法に関するものである。 The present invention relates to a resin encapsulation mold and a resin encapsulation method.

半導体素子の樹脂封止において、樹脂封止される半導体素子等の電子部品の種類によっては、半導体素子の表面に樹脂で封止しない箇所を形成する露出成形が行われる。この露出成形では、例えば、半導体素子の表面の一部が樹脂で覆われず、外部に露出される。 2. Description of the Related Art In resin sealing of a semiconductor element, depending on the type of electronic component such as a semiconductor element to be resin-sealed, exposure molding is performed to form a portion not sealed with resin on the surface of the semiconductor element. In this exposure molding, for example, part of the surface of the semiconductor element is not covered with resin and is exposed to the outside.

また、露出成形では、半導体素子の高さのばらつきや傾きが原因となり、露出させたい表面に樹脂が漏れることがあり、この樹脂漏れを抑止する必要がある。 In addition, in exposure molding, the resin may leak to the surface to be exposed due to variations in the height and inclination of the semiconductor element, and it is necessary to prevent this resin leakage.

そこで、露出させたい半導体素子の表面への樹脂漏れを抑止するために、例えば、金型のキャビティ凹部に固定した中子の先端に、所要の弾性と耐熱性を有するマスキング体を設けた樹脂封止用金型が提案されている(特許文献1参照)。 Therefore, in order to prevent resin from leaking onto the surface of the semiconductor element to be exposed, for example, a masking body having required elasticity and heat resistance is provided at the tip of the core fixed to the concave portion of the cavity of the mold. A fixing die has been proposed (see Patent Document 1).

この特許文献1に記載の樹脂封止用金型では、マスキング体の先端面が半導体素子の表面に対し液密に密着して半導体素子を押圧し、半導体素子の表面に露出成形を行うと共に、半導体素子が受ける機械的な影響が軽減される。 In the mold for resin encapsulation described in Patent Document 1, the front end surface of the masking body is liquid-tightly adhered to the surface of the semiconductor element and presses the semiconductor element to perform exposure molding on the surface of the semiconductor element. Mechanical influence on the semiconductor element is reduced.

特許第6086166号公報Japanese Patent No. 6086166

しかしながら、特許文献1に記載の樹脂封止用金型では、マスキング体の側面と樹脂が広く接触して、樹脂がマスキング体に張り付いてしまう問題があった。 However, in the mold for resin sealing described in Patent Document 1, there is a problem that the side surface of the masking body and the resin come into wide contact, and the resin sticks to the masking body.

このように、樹脂がマスキング体に張り付くことで、離形時に、マスキング体の樹脂に接着した部分がちぎれて、マスキング体が破損するおそれがあった。 Since the resin sticks to the masking body in this manner, there is a risk that the part of the masking body that is adhered to the resin will be torn off during demolding, resulting in damage to the masking body.

また、マスキング体と樹脂が接触する箇所で摩擦が発生して、離形性が悪くなり、かつ、マスキング体が破損しやすくなる不都合があった。 In addition, friction is generated at the point where the masking body and the resin come into contact with each other, resulting in poor releasability and the masking body being easily damaged.

本発明は、以上の点を鑑みて創案されたものであり、露出成形を行う半導体素子の樹脂封止において、マスキング体に相当する押圧部の破損を抑止できる樹脂封止用金型及び樹脂封封止方法を提供することを目的とする。 DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been devised in view of the above points. An object of the present invention is to provide a sealing method.

上記の目的を達成するために本発明の樹脂封止用金型は、半導体素子が載置された基板が置かれる第一の金型と、前記第一の金型に対向する面に樹脂を充填し、前記半導体素子を封止するキャビティが形成されると共に、前記半導体素子の表面の一部を押圧する入れ子が設けられた第二の金型と、を備える樹脂封止用金型であって、前記入れ子は、前記対向する方向において、前記半導体素子に向けて前記第二の金型から突出して形成され、かつ、前記半導体素子との間で第一の間隙を設けて配置される囲み部と、前記囲み部に囲まれて配置され、所要の弾性を有し、前記半導体素子の表面を押圧する、前記対向する方向における先端が前記囲み部よりも前記半導体素子に近いところに位置する押圧部とを備える。 In order to achieve the above object, the mold for resin encapsulation of the present invention comprises a first mold on which a substrate on which a semiconductor element is mounted is placed, and a resin on the surface facing the first mold. a mold for resin encapsulation, comprising: a second mold formed with a cavity for filling and sealing the semiconductor element, and provided with an insert for pressing a part of the surface of the semiconductor element; and the insert is formed so as to protrude from the second mold toward the semiconductor element in the facing direction, and is arranged with a first gap from the semiconductor element. and the enclosing portion, has a required elasticity, and has a tip in the opposing direction that presses the surface of the semiconductor element located closer to the semiconductor element than the enclosing portion. and a pressing portion.

ここで、囲み部が、第一の金型と第二の金型が対向する方向において、半導体素子に向けて第二の金型から突出して形成され、かつ、半導体素子との間で第一の間隙を設けて配置され、押圧部の半導体素子の表面を押圧する先端が、囲み部よりも半導体素子に近いところに位置することによって、押圧部の先端で半導体素子の表面を押圧する際に、囲み部が半導体素子の表面に当たることがなく、その衝撃により半導体素子が破損することを防止できる。 Here, the surrounding part is formed so as to protrude from the second mold toward the semiconductor element in the direction in which the first mold and the second mold face each other, and is formed between the semiconductor element and the first mold. The tip of the pressing portion for pressing the surface of the semiconductor element is positioned closer to the semiconductor element than the enclosing portion, so that when the tip of the pressing portion presses the surface of the semiconductor element , the enclosing portion does not come into contact with the surface of the semiconductor element, and the semiconductor element can be prevented from being damaged by the impact.

また、囲み部と半導体素子の表面が接触しないことによって、囲み部と半導体素子との間の第一の間隙に樹脂を流れ込ませて、溶融した樹脂の圧力損失を生じさせることができる。この結果、溶融した樹脂の圧力が弱くなり、押圧部の先端と、半導体素子の表面との間に、樹脂が浸入して薄いバリが生じることを抑止できる。 Further, since the surrounding portion and the surface of the semiconductor element are not in contact with each other, the resin can flow into the first gap between the surrounding portion and the semiconductor element, and pressure loss of the melted resin can be caused. As a result, the pressure of the melted resin is weakened, and it is possible to prevent the resin from entering between the tip of the pressing portion and the surface of the semiconductor element, thereby preventing thin burrs from being formed.

また、所要の弾性を有する押圧部が、囲み部に囲まれて配置されたことによって、押圧部と、溶融した樹脂が接着することを抑止できる。即ち、押圧部の囲み部で囲まれた範囲では、硬化した樹脂が押圧部に張り付くことを抑止可能となる。また、樹脂が押圧部に張り付く力が低減され、押圧部の樹脂に接着した部分がちぎれにくくなり、押圧部が破損することを抑止できる。また、成形品を金型から抜く際の離形性を良くすることができる。さらに、離形時に、樹脂と押圧部との間に生じる摩擦が少なくなることで、押圧部が破損しにくくなり、耐久性を向上させることができる。 In addition, since the pressing portion having the required elasticity is arranged so as to be surrounded by the enclosing portion, it is possible to prevent the pressing portion from adhering to the molten resin. That is, it is possible to prevent the hardened resin from sticking to the pressing portion in the range surrounded by the enclosing portion of the pressing portion. In addition, the force with which the resin sticks to the pressing portion is reduced, and the portion of the pressing portion that is adhered to the resin is less likely to break, thereby preventing damage to the pressing portion. In addition, it is possible to improve the releasability of the molded article when it is removed from the mold. Furthermore, since the friction generated between the resin and the pressing portion is reduced at the time of mold release, the pressing portion is less likely to be damaged and the durability can be improved.

また、押圧部が、押圧による弾性変形で、第一の金型と第二の金型が対向する方向における先端と囲み部との間の、第一の金型と第二の金型が対向する方向と直交する方向における第二の間隙を閉塞する場合には、第二の間隙への樹脂の浸入を抑止でき、縦バリを生じにくくできる。 In addition, the pressing part is elastically deformed by pressing, and the first mold and the second mold are opposed between the tip and the surrounding part in the direction in which the first mold and the second mold are opposed. When the second gap is closed in the direction perpendicular to the direction in which the second gap is formed, it is possible to prevent the resin from entering the second gap, thereby making it difficult for vertical burrs to occur.

また、囲み部が、押圧部の弾性変形による外力を受けたときに、その形状が維持可能な硬さを有する場合には、囲み部が弾性変形した押圧部を支持可能となり、囲み部と押圧部の密着性が担保され、縦バリの発生を抑止できる。 Further, if the surrounding portion has a hardness that allows it to maintain its shape when subjected to an external force due to elastic deformation of the pressing portion, the surrounding portion can support the elastically deformed pressing portion. The adhesion of the part is guaranteed, and the occurrence of vertical burrs can be suppressed.

また、押圧部が、第一の金型と第二の金型が対向する方向において先端に向けて外周径が小さくなる許容部が形成されることで、囲み部で囲まれた範囲を第一の金型と第二の金型が対向する方向に延長した範囲内に、弾性変形した押圧部が収まるように構成されている場合には、第一の金型と第二の金型を型締めした際に、押圧により弾性変形した押圧部の一部が、囲み部と半導体素子との間の第一の間隙に向けてはみ出すことがない。これにより、押圧部のはみ出した部分に樹脂が接着することがなく、成形品を金型から抜く際の離形性が悪くなることを抑止できると共に、離形時に、半導体素子を樹脂封止した部分や押圧部が破損することを抑止できる。 In addition, the pressing portion is formed with an allowance portion whose outer diameter decreases toward the tip in the direction in which the first mold and the second mold face each other, so that the range surrounded by the surrounding portion is the first mold. When the elastically deformed pressing part is configured to fit within the range where the mold and the second mold are extended in the direction facing each other, the first mold and the second mold When tightened, a part of the pressing portion elastically deformed by pressing does not protrude toward the first gap between the enclosing portion and the semiconductor element. As a result, the resin does not adhere to the protruding portion of the pressing portion, and it is possible to prevent deterioration of the releasability when the molded product is removed from the mold. It is possible to prevent the parts and the pressing part from being damaged.

また、押圧部は第一の金型と第二の金型が対向する方向に沿って孔部が形成され、押圧部を支持可能な芯部を有し、芯部が、第一の金型と第二の金型が対向する方向において、半導体素子と相対する面が押圧部よりも半導体素子から離れて位置するように孔部に収容される場合には、弾性変形した押圧部が芯部で支持されて反力が生じる。この反力は、第一の金型と第二の金型が対向する方向と直交する方向において、弾性変形した押圧部が第二の間隙を閉塞する力として加わり、より一層、第二の間隙に、樹脂が浸入することを抑止できる。 Further, the pressing part has a hole formed along the direction in which the first mold and the second mold face each other, and has a core capable of supporting the pressing part. In the direction in which the second mold faces the second mold, if the surface facing the semiconductor element is accommodated in the hole so that the surface facing the semiconductor element is positioned further away from the semiconductor element than the pressing portion, the elastically deformed pressing portion will be the core portion is supported by and a reaction force is generated. This reaction force is applied as a force that closes the second gap by the elastically deformed pressing portion in a direction perpendicular to the direction in which the first mold and the second mold face each other, and further increases the second gap. In addition, the intrusion of resin can be suppressed.

さらに、芯部が設けられた分、半導体素子の表面を押圧する押圧部の面積が狭くなる。これにより、押圧部が半導体素子の表面を押圧した際に、その表面に圧力の影響が及びにくくなり、半導体素子が損傷する可能性を低減できる。 Furthermore, the area of the pressing portion that presses the surface of the semiconductor element is reduced by the provision of the core portion. As a result, when the pressing portion presses the surface of the semiconductor element, the surface is less likely to be affected by the pressure, and the possibility of damaging the semiconductor element can be reduced.

また、押圧部の先端に凹部が形成され、先端かつ凹部の周辺の面が半導体素子の表面を押圧する場合には、凹部が設けられた分、半導体素子の表面を押圧する押圧部の面積が狭くなる。これにより、押圧部が半導体素子の表面を押圧した際に、その表面に圧力の影響が及びにくくなり、半導体素子が損傷する可能性を低減できる。 Further, in the case where a recess is formed at the tip of the pressing portion and the surface of the tip and the periphery of the recess presses the surface of the semiconductor element, the area of the pressing portion that presses the surface of the semiconductor element is increased by the amount of the recess provided. narrow. As a result, when the pressing portion presses the surface of the semiconductor element, the surface is less likely to be affected by the pressure, and the possibility of damaging the semiconductor element can be reduced.

また、押圧部に第一の金型と第二の金型が対向する方向に沿って貫通孔が形成され、先端かつ貫通孔の周辺の面が半導体素子の表面を押圧する場合には、貫通孔が設けられた分、半導体素子の表面を押圧する押圧部の面積が狭くなる。これにより、押圧部が半導体素子の表面を押圧した際に、その表面に圧力の影響が及びにくくなり、半導体素子が損傷する可能性を低減できる。 In addition, when a through hole is formed in the pressing portion along the direction in which the first mold and the second mold face each other, and the surface of the tip and the periphery of the through hole presses the surface of the semiconductor element, the through hole is formed. The area of the pressing portion that presses the surface of the semiconductor element is reduced by the amount of the holes. As a result, when the pressing portion presses the surface of the semiconductor element, the surface is less likely to be affected by the pressure, and the possibility of damaging the semiconductor element can be reduced.

また、上記の目的を達成するために、本発明の樹脂封止方法は、第一の金型に置かれた基板に載置された半導体素子の表面を覆って、前記第一の金型及び前記第一の金型と対向する第二の金型を型合わせし、前記第二の金型に形成されたキャビティに樹脂を充填して、前記半導体素子を封止する樹脂封止方法であって、前記第二の金型に設けられた所要の弾性を有する押圧部で前記半導体素子の表面を押圧する工程と、前記キャビティに樹脂を充填する際に、前記対向する方向において、前記押圧部を囲む囲み部の前記半導体素子の表面から離間した先端及び前記半導体素子の表面により形成される第一の間隙に樹脂を流し込む工程と、を備える。 Further, in order to achieve the above object, the resin sealing method of the present invention includes covering the surface of a semiconductor element mounted on a substrate placed on a first mold, the first mold and A resin encapsulation method for encapsulating the semiconductor element by matching a second mold facing the first mold and filling resin into a cavity formed in the second mold. a step of pressing the surface of the semiconductor element with a pressing portion having required elasticity provided in the second mold; and a step of pouring resin into a first gap formed by the front end of the enclosing portion surrounding the semiconductor element separated from the surface of the semiconductor element and the surface of the semiconductor element.

ここで、キャビティに樹脂を充填する際に、第一の金型と第二の金型が対向する方向において、押圧部を囲む囲み部の半導体素子の表面から離間した先端及び半導体素子の表面により形成される第一の間隙に樹脂を流し込む工程によって、この第一の間隙に樹脂を流し込ませて、溶融した樹脂の圧力損失を生じさせることができる。この結果、溶融した樹脂の圧力が弱くなり、押圧部の先端と、半導体素子の表面との間に、樹脂が浸入して薄いバリが生じることを抑止できる。 Here, when the cavity is filled with the resin, in the direction in which the first mold and the second mold face each other, the tip of the enclosing part surrounding the pressing part separated from the surface of the semiconductor element and the surface of the semiconductor element The step of pouring the resin into the formed first gap can cause the resin to flow into the first gap and cause a pressure drop in the molten resin. As a result, the pressure of the melted resin is weakened, and it is possible to prevent the resin from entering between the tip of the pressing portion and the surface of the semiconductor element, thereby preventing thin burrs from being formed.

また、所要の弾性を有する押圧部が、囲み部に囲まれたことによって、押圧部と、溶融した樹脂が接着することを抑止できる。即ち、押圧部の囲み部で囲まれた範囲では、硬化した樹脂が押圧部に張り付くことを抑止可能となる。また、樹脂が押圧部に張り付く力が低減され、押圧部の樹脂に接着した部分がちぎれにくくなり、押圧部が破損することを抑止できる。また、成形品を金型から抜く際の離形性を良くすることができる。さらに、離形時に、樹脂と押圧部との間に生じる摩擦が少なくなることで、押圧部が破損しにくくなり、耐久性を向上させることができる。 Moreover, since the pressing portion having the required elasticity is surrounded by the enclosing portion, it is possible to prevent the pressing portion from adhering to the molten resin. That is, it is possible to prevent the hardened resin from sticking to the pressing portion in the range surrounded by the enclosing portion of the pressing portion. In addition, the force with which the resin sticks to the pressing portion is reduced, and the portion of the pressing portion that is adhered to the resin is less likely to break, thereby preventing damage to the pressing portion. In addition, it is possible to improve the releasability of the molded article when it is removed from the mold. Furthermore, since the friction generated between the resin and the pressing portion is reduced at the time of mold release, the pressing portion is less likely to be damaged and the durability can be improved.

また、第一の間隙に樹脂を流し込む工程を、押圧により押圧部を弾性変形させ、押圧部と囲み部の先端との間の、第一の金型と第二の金型が対向する方向と直交する方向における第二の間隙を閉塞した状態で行う場合には、第二の間隙への樹脂の浸入を抑止でき、縦バリを生じにくくできる。 In addition, the step of pouring the resin into the first gap is performed by elastically deforming the pressing portion by pressing, and the direction in which the first mold and the second mold face each other between the pressing portion and the tip of the surrounding portion. When the second gap in the orthogonal direction is closed, the resin can be prevented from entering the second gap, and vertical burrs are less likely to occur.

また、半導体素子の表面を押圧する工程で、押圧により押圧部を、囲み部で囲まれた範囲を第一の金型と第二の金型が対向する方向に延長した範囲内で弾性変形させる場合には、第一の金型と第二の金型を型締めした際に、押圧により弾性変形した押圧部の一部が、囲み部の先端と半導体素子との第一の間隙に向けてはみ出すことがない。これにより、押圧部のはみ出した部分に樹脂が接着することがなく、成形品を金型から抜く際の離形性が悪くなることを抑止できると共に、離形時に、半導体素子を樹脂封止した部分や押圧部が破損することを抑止できる。 Further, in the step of pressing the surface of the semiconductor element, the pressing portion is elastically deformed by pressing within a range where the range surrounded by the enclosing portion is extended in the direction in which the first mold and the second mold face each other. In this case, when the first mold and the second mold are clamped, a part of the pressing portion elastically deformed by pressing is directed toward the first gap between the tip of the enclosing portion and the semiconductor element. It never sticks out. As a result, the resin does not adhere to the protruding portion of the pressing portion, and it is possible to prevent deterioration of the releasability when the molded product is removed from the mold. It is possible to prevent the parts and the pressing part from being damaged.

本発明に係る樹脂封止用金型及び樹脂封封止方法は、露出成形を行う半導体素子の樹脂封止において、押圧部の破損を抑止できるものとなっている。 INDUSTRIAL APPLICABILITY A resin encapsulation mold and a resin encapsulation method according to the present invention can suppress breakage of a pressing portion in resin encapsulation of a semiconductor element that is subjected to exposure molding.

本発明の樹脂封止用金型を構成する上金型と下金型の型合わせ面側の構造を示す説明図であり、(a)は上金型の図、(b)は下金型の図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing which shows the structure of the mold-matching surface side of the upper mold and lower mold which comprise the resin sealing mold of this invention, (a) is a figure of an upper mold, (b) is a lower mold. is a diagram. 図1に示す樹脂封止用金型において、(a)は、型締め前の状態を示す概略断面図であり、(b)は、成形時の状態を示す概略断面図である。In the resin sealing mold shown in FIG. 1, (a) is a schematic cross-sectional view showing a state before mold clamping, and (b) is a schematic cross-sectional view showing a state during molding. マスキング体とその周辺構造を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows a masking body and its peripheral structure. 図3に示すマスキング体において、(a)は底面図、(b)は、側断面図、及び、(c)は、平面図である。In the masking body shown in FIG. 3, (a) is a bottom view, (b) is a side sectional view, and (c) is a plan view. 図3に示すマスキング体において、(a)は、ソケットの概略斜視図、(b)は、押圧体の概略斜視図、及び、(c)は、ピンの概略斜視図である。In the masking body shown in FIG. 3, (a) is a schematic perspective view of a socket, (b) is a schematic perspective view of a pressing body, and (c) is a schematic perspective view of a pin. 押圧体が半導体素子の表面を押圧する前の、押圧体の形状を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing the shape of the pressing body before the pressing body presses the surface of the semiconductor element; 押圧体が半導体素子の表面に接触する前の状態を示す図であり、(a)は、マスキング体とその周辺構造の概略断面図であり、(b)は、半導体素子表面とその周辺領域を示す概略拡大断面図である。1A is a schematic cross-sectional view of a masking body and its peripheral structure, and FIG. It is a schematic enlarged cross-sectional view showing. 押圧体が半導体素子の表面に接触した状態を示す図であり、(a)は、マスキング体とその周辺構造の概略断面図であり、(b)は、半導体素子表面とその周辺領域を示す概略拡大断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view of a masking body and its peripheral structure, and FIG. 4B is a schematic showing the surface of the semiconductor device and its peripheral region. It is an expanded sectional view. 押圧体が半導体素子の表面を押圧した状態を示す図であり、(a)は、マスキング体とその周辺構造の概略断面図であり、(b)は、半導体素子表面とその周辺領域を示す概略拡大断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view of a masking body and its peripheral structure, and FIG. 4B is a schematic diagram showing the semiconductor device surface and its peripheral region. It is an expanded sectional view. 押圧体が弾性変形した状態を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a state in which a pressing body is elastically deformed; 他の形状を採用した押圧体を有するマスキング体とその周辺構造を示す概略断面図である。FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a masking body having a pressing body adopting another shape and its peripheral structure; 図11に示すマスキング体において、(a)は底面図、(b)は、側断面図、及び、(c)は、平面図である。In the masking body shown in FIG. 11, (a) is a bottom view, (b) is a side sectional view, and (c) is a plan view. 図11に示すマスキング体において、(a)は、ソケットの概略斜視図、(b)は、押圧体の概略斜視図である。In the masking body shown in FIG. 11, (a) is a schematic perspective view of a socket, and (b) is a schematic perspective view of a pressing body. 押圧体が半導体素子の表面に接触する前の状態を示す図であり、(a)は、マスキング体とその周辺構造の概略断面図であり、(b)は、半導体素子表面とその周辺領域を示す概略拡大断面図である。1A is a schematic cross-sectional view of a masking body and its peripheral structure, and FIG. It is a schematic enlarged cross-sectional view showing. 押圧体が半導体素子の表面に接触した状態を示す図であり、(a)は、マスキング体とその周辺構造の概略断面図であり、(b)は、半導体素子表面とその周辺領域を示す概略拡大断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view of a masking body and its peripheral structure, and FIG. 4B is a schematic showing the surface of the semiconductor device and its peripheral region. It is an expanded sectional view. 押圧体が半導体素子の表面を押圧した状態を示す図であり、(a)は、マスキング体とその周辺構造の概略断面図であり、(b)は、半導体素子表面とその周辺領域を示す概略拡大断面図である。FIG. 4A is a schematic cross-sectional view of a masking body and its peripheral structure, and FIG. 4B is a schematic diagram showing the semiconductor device surface and its peripheral region. It is an expanded sectional view. 他の形状を採用した押圧体が弾性変形した状態を示す概略図である。FIG. 11 is a schematic diagram showing a state in which a pressing body adopting another shape is elastically deformed;

以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態(以下、「実施の形態」と称する。)を説明する。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereafter, with reference to drawings, the form for implementing this invention (it is called "embodiment" hereafter) is demonstrated.

[第一の実施の形態]
図1乃至図10を参照して、本発明に係る樹脂封止用金型の第一の実施の形態を詳細に説明する。
図1及び図2に示すように、樹脂封止装置Mは、上金型1と下金型2から構成された金型Aを有している。金型Aは、本発明に係る樹脂封止用金型の一例である。樹脂封止装置Mは、半導体素子3が載置された基板30(図3参照)を上金型1と下金型2で挟んで型締めし、樹脂封止を行う装置である。
[First embodiment]
A first embodiment of a resin sealing mold according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 10. FIG.
As shown in FIGS. 1 and 2, the resin sealing device M has a mold A composed of an upper mold 1 and a lower mold 2 . The mold A is an example of a resin sealing mold according to the present invention. The resin sealing device M is a device that clamps a substrate 30 (see FIG. 3) on which a semiconductor element 3 is placed between an upper mold 1 and a lower mold 2 to perform resin sealing.

なお、以下の説明においては、図2(a)を基準に、上金型1に対する下金型2の位置を「下」又は「下方」と呼び、下金型2に対する上金型1の位置を「上」又は「上方」と呼ぶこととする。また、図3を基準に、押圧体5に対するピン7の位置を「内」又は「内方」と呼び、ピン7に対する押圧体5の位置を「外」又は「外方」と呼ぶこととする。 In the following description, with reference to FIG. shall be referred to as "above" or "above". 3, the position of the pin 7 with respect to the pressing body 5 is called "inside" or "inside", and the position of the pressing body 5 with respect to the pin 7 is called "outside" or "outside". .

図1(a)に示すように、上金型1は、型合わせ面に上型チェス10を有している。また、上型チェス10には、カル部11と、上部キャビティ12と、複数のマスキング体13が設けられている。なお、ここでいうマスキング体13が、本願請求項における入れ子に相当する。 As shown in FIG. 1(a), the upper die 1 has an upper die chess 10 on the die matching surface. Further, the upper die chess 10 is provided with a cull portion 11 , an upper cavity 12 and a plurality of masking bodies 13 . The masking body 13 referred to here corresponds to the nest in the claims of the present application.

また、図1(b)に示すように、下金型2は、型合わせ面に下型チェス20を有している。また、下型チェス20には、ポット部21と、フレーム載置面22が設けられている。 Further, as shown in FIG. 1(b), the lower die 2 has a lower die chess 20 on the die matching surface. Also, the lower die chess 20 is provided with a pot portion 21 and a frame mounting surface 22 .

また、図2(a)に示すように、上型チェス10のカル部11は、下型チェス20のポット部21と対向する位置に設けられている。カル部11は、上金型1及び下金型2を型合わせした状態で、ポット部21から押し出された樹脂40の樹脂溜まりとなる部分である(図2(b)参照)。 Further, as shown in FIG. 2( a ), the cull portion 11 of the upper die chess 10 is provided at a position facing the pot portion 21 of the lower die chess 20 . The cull portion 11 is a portion that becomes a resin reservoir for the resin 40 extruded from the pot portion 21 when the upper mold 1 and the lower mold 2 are mated (see FIG. 2B).

また、上型チェス10の上部キャビティ12は、上金型1及び下金型2を型合わせした状態で、キャビティ120(図2(b)参照)を形成する部分である。キャビティ120に樹脂が充填され、半導体素子3の表面に樹脂成形部が形成される。 Also, the upper cavity 12 of the upper die chess 10 is a portion that forms a cavity 120 (see FIG. 2(b)) in a state where the upper die 1 and the lower die 2 are mated. Cavity 120 is filled with resin, and a resin molded portion is formed on the surface of semiconductor element 3 .

また、下型チェス20のフレーム載置面22は、樹脂封止の対象となる半導体素子3が載置された基板30が置かれる部分である。また、型締めした状態で、基板30と上部キャビティ12により、キャビティ120が形成される。 A frame mounting surface 22 of the lower die chess 20 is a portion on which a substrate 30 on which a semiconductor element 3 to be sealed with resin is mounted is placed. Further, a cavity 120 is formed by the substrate 30 and the upper cavity 12 in a clamped state.

また、上型チェス10の複数のマスキング体13は、下型チェス20のフレーム載置面22と対向する位置に設けられている(図2(a)参照)。 A plurality of masking bodies 13 of the upper die chess 10 are provided at positions facing the frame mounting surface 22 of the lower die chess 20 (see FIG. 2(a)).

図2(a)に示すように、上型チェス10は、ホルダーベース14と、キャビティブロック15と、バックプレート16を有している。 As shown in FIG. 2( a ), the upper die chess 10 has a holder base 14 , a cavity block 15 and a back plate 16 .

また、マスキング体13は、ホルダーベース14、キャビティブロック15及びバックプレート16を介して支持されている。即ち、上金型1と下金型2の型締めの動きにおいて、マスキング体13は上型チェス10と一体的に動く構造となっている。 Also, the masking body 13 is supported via a holder base 14 , a cavity block 15 and a back plate 16 . That is, the masking body 13 is structured so as to move integrally with the upper die chess 10 when the upper die 1 and the lower die 2 are clamped.

また、ポット部21には、樹脂タブレット4が配置されている(図2(a)参照)。図2(b)に示すように、上金型1と下金型2を型締めした状態で、樹脂タブレット4を溶融させた樹脂40が、カル部11、ランナー及びゲート(符号省略)を介して、キャビティ120に流れ込むように構成されている。 A resin tablet 4 is arranged in the pot portion 21 (see FIG. 2(a)). As shown in FIG. 2(b), with the upper mold 1 and the lower mold 2 clamped, the resin 40 melted from the resin tablet 4 flows through the cull portion 11, runners and gates (reference numerals omitted). and is configured to flow into cavity 120 .

また、マスキング体13は、半導体素子3の表面の一部に露出部分を形成するための構造体である。マスキング体13は、型締めした状態で、半導体素子3の表面の一部を押圧するように配置されている。なお、マスキング体13の数は特に限定されるものではなく、樹脂封止の対象となる半導体素子の種類によって、適宜変更することができる。以下、マスキング体13の詳細な構造を説明する。 Moreover, the masking body 13 is a structure for forming an exposed portion on a part of the surface of the semiconductor element 3 . The masking body 13 is arranged so as to press part of the surface of the semiconductor element 3 in a clamped state. The number of masking bodies 13 is not particularly limited, and can be appropriately changed according to the type of semiconductor element to be resin-encapsulated. The detailed structure of the masking body 13 will be described below.

図3に示すように、1つのマスキング体13は、押圧体5と、ソケット6と、ピン7を有している。なお、ここでいう押圧体5が、本願請求項における押圧部に相当する。また、ここでいうソケット6が、本願請求項における囲み部に相当する。また、ここでいうピン7が、本願請求項における芯部に相当する。 As shown in FIG. 3, one masking body 13 has a pressing body 5, a socket 6 and a pin 7. As shown in FIG. The pressing body 5 referred to here corresponds to the pressing portion in the claims of the present application. Also, the socket 6 referred to here corresponds to the enclosing portion in the claims of the present application. Moreover, the pin 7 here corresponds to the core portion in the claims of the present application.

押圧体5は、型締めした状態で、半導体素子3の表面を押圧する部材である。押圧体5が半導体素子3の表面を部分的に押圧することで、半導体素子3の表面に樹脂封止が行われない部分をつくって、半導体素子3の表面の一部を露出させる。 The pressing body 5 is a member that presses the surface of the semiconductor element 3 in a clamped state. By partially pressing the surface of the semiconductor element 3 with the pressing body 5 , a part of the surface of the semiconductor element 3 is formed where resin sealing is not performed, and a part of the surface of the semiconductor element 3 is exposed.

また、押圧体5は、半導体素子3の表面を押圧する際に、全長が圧縮されて部分的に径が大きくなるように弾性変形する。そして、押圧体5の下方の先端に位置する押圧体5の外方面5aと、ソケット6の内方面6aとの間隙を、弾性変形した押圧体5により閉塞することができる(図3、図9(b)及び図10参照)。なお、ここでいう間隙が、本願請求項における第二の間隙に相当する。 When the pressing body 5 presses the surface of the semiconductor element 3, the pressing body 5 is elastically deformed such that the entire length is compressed and the diameter is partially increased. Then, the gap between the outer surface 5a of the pressing body 5 located at the lower tip of the pressing body 5 and the inner surface 6a of the socket 6 can be closed by the elastically deformed pressing body 5 (FIGS. 3 and 9). (b) and see FIG. 10). In addition, the gap referred to here corresponds to the second gap in the claims of the present application.

また、ソケット6は、押圧体5の外周面を、押圧体5の長手方向のほぼ全長に渡って取り囲む部材である。また、ピン7は、押圧体5の内方に配置される部材である。 The socket 6 is a member that surrounds the outer peripheral surface of the pressing body 5 over substantially the entire length of the pressing body 5 in the longitudinal direction. Also, the pin 7 is a member arranged inside the pressing body 5 .

より詳細には、押圧体5は、フッ素ゴム等で形成された弾性部材であり、型締めした状態で、その先端50が、半導体素子3の表面を押圧する(図3、図5(b)、図8(b)、図9(b)及び図10参照)。押圧体5は、その先端50が半導体素子3の表面を押圧した状態で、半導体素子3の表面から受ける反力により弾性変形するように構成されている。 More specifically, the pressing body 5 is an elastic member made of fluororubber or the like, and its tip 50 presses the surface of the semiconductor element 3 in a clamped state (FIGS. 3 and 5B). , FIGS. 8(b), 9(b) and 10). The pressing body 5 is configured to be elastically deformed by a reaction force received from the surface of the semiconductor element 3 in a state where the tip 50 presses the surface of the semiconductor element 3 .

また、押圧体5にはフランジ部51が形成されている(図3、図4(b)及び図5(b)参照)。このフランジ部51が、ソケット6とバックプレート16に挟まれて、押圧体5が支持されている(図3参照)。 A flange portion 51 is formed on the pressing body 5 (see FIGS. 3, 4(b) and 5(b)). The flange portion 51 is sandwiched between the socket 6 and the back plate 16 to support the pressing body 5 (see FIG. 3).

また、押圧体5は、その内部の中心に、長手方向と平行な貫通孔52が形成されている。なお、ここでいう貫通孔52が、本願請求項における孔部に相当する。 Further, the pressing body 5 is formed with a through hole 52 parallel to the longitudinal direction at the center of the inside thereof. In addition, the through-hole 52 here corresponds to the hole in the claims of the present application.

また、押圧体5は、ソケット6で囲まれた範囲を下方向に延長した範囲内で弾性変形するように、その先端50の外周角部に許容部54が形成されている(図5(b)、図6、図7(b)及び図8(b)参照)。 Further, the pressing body 5 is formed with a permissive portion 54 at the outer peripheral corner of the tip 50 so that the pressing body 5 is elastically deformed within a range extending downward from the range surrounded by the socket 6 (Fig. 5(b)). ), see FIGS. 6, 7(b) and 8(b)).

この許容部54は、押圧体5の先端50の外周角部において、下方に向けて外周径が小さくなり、かつ、許容部54の端面が直線状に形成されている。 The permissible portion 54 has an outer peripheral diameter that decreases downward at the outer peripheral corner portion of the tip 50 of the pressing body 5, and the end surface of the permissible portion 54 is formed in a straight line.

また、押圧体5は、ピン7の外方面7a(図9(b)及び図10参照)で囲まれた範囲を下方向に延長した範囲より外側で弾性変形するように、その先端50の内周角部に許容部55が形成されている(図5(b)、図6、図7(b)及び図8(b)参照)。 In addition, the pressing body 5 is elastically deformed outside the range defined by the outer surface 7a (see FIGS. 9B and 10) of the pin 7 (see FIGS. 9B and 10). A permissive portion 55 is formed at the peripheral corner (see FIGS. 5(b), 6, 7(b) and 8(b)).

この許容部55は、押圧体5の先端50の内周角部において、下方に向けて内周径が大きくなり、かつ、許容部55の端面が直線状に形成されている。 The permissible portion 55 has an inner peripheral diameter that increases downward at the inner peripheral corner portion of the tip 50 of the pressing body 5, and the end surface of the permissible portion 55 is formed in a straight line.

ソケット6は、押圧体5よりも硬度が高い材質で形成された部材である。さらに言えば、ソケット6は、押圧体5が弾性変形することで生じる外力を受けたときに、ソケット6自身の形状が維持可能な硬度を有する材質で形成されている。 The socket 6 is a member made of a material having a hardness higher than that of the pressing body 5 . Furthermore, the socket 6 is made of a material having a hardness that allows the socket 6 to maintain its shape when subjected to an external force generated by elastic deformation of the pressing body 5 .

また、ソケット6の内部の中心に、長手方向と平行な孔である収容部60が形成されている(図5(a)参照)。この収容部60の内径は、押圧体5の外径よりも大きく形成され、押圧体5を配置可能に構成されている。 Further, an accommodating portion 60, which is a hole parallel to the longitudinal direction, is formed in the center of the inside of the socket 6 (see FIG. 5(a)). The inner diameter of the accommodating portion 60 is formed to be larger than the outer diameter of the pressing body 5 so that the pressing body 5 can be arranged.

また、型締めした状態では、ソケット6の先端62は、上下方向で半導体素子3の表面から離れて位置している(図10参照)。 Further, in the clamped state, the tip 62 of the socket 6 is located apart from the surface of the semiconductor element 3 in the vertical direction (see FIG. 10).

これにより、押圧体5の先端50が、半導体素子3の表面を押圧して弾性変形した状態では、ソケット6の先端62と、半導体素子3の表面との間に、所要の間隙S1が形成される(図10参照)。なお、ここでいう間隙S1が、本願請求項における第一の間隙に相当する。 As a result, a required gap S1 is formed between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 when the tip 50 of the pressing body 5 presses the surface of the semiconductor element 3 and is elastically deformed. (See FIG. 10). The gap S1 here corresponds to the first gap in the claims of the present application.

また、ソケット6には、フランジ部63が形成されている(図3、図4(b)及び図5(a)参照)。このフランジ部63が、キャビティブロック15とバックプレート16に挟まれて、ソケット6が支持されている(図3参照)。 A flange portion 63 is formed on the socket 6 (see FIGS. 3, 4(b) and 5(a)). The flange portion 63 is sandwiched between the cavity block 15 and the back plate 16 to support the socket 6 (see FIG. 3).

ピン7は、押圧体5よりも硬度が高い材質で形成された部材であり、径の大きさが異なる径大部70と径小部71で形成されている(図5(c)参照)。 The pin 7 is a member formed of a material having a higher hardness than the pressing body 5, and is formed of a large diameter portion 70 and a small diameter portion 71 having different diameters (see FIG. 5(c)).

また、型締めした状態では、ピン7の先端72は、半導体素子3の表面から上方に離れて位置している(図9(b)参照)。 Further, in the clamped state, the tip 72 of the pin 7 is located above the surface of the semiconductor element 3 (see FIG. 9B).

これにより、押圧体5の先端50が、半導体素子3の表面を押圧して弾性変形した状態では、ピン7の先端72と、半導体素子3の表面との間に、所要の間隙S12が形成される(図9(b)参照)。この間隙S12は、押圧体5の変形によって間隙S2より縮小した間隙である。なお、間隙S2は、押圧体5の先端50が、半導体素子3の表面に接触し、押圧する前の状態において、ピン7の先端72と、半導体素子3の表面との間に形成される間隙である。 As a result, a required gap S12 is formed between the tip 72 of the pin 7 and the surface of the semiconductor element 3 when the tip 50 of the pressing body 5 presses the surface of the semiconductor element 3 and is elastically deformed. (See FIG. 9(b)). This gap S<b>12 is a gap that is smaller than the gap S<b>2 due to the deformation of the pressing body 5 . The gap S2 is the gap formed between the tip 72 of the pin 7 and the surface of the semiconductor element 3 before the tip 50 of the pressing body 5 contacts and presses the surface of the semiconductor element 3. is.

ここで、必ずしも、マスキング体13がピン7を含んで構成される必要はなく、マスキング体は、押圧体5及びソケット6で構成されていてもよい。但し、後述するように、弾性変形した押圧体5がピン7に支持される構造とすることで、弾性変形した押圧体5がピン7の方向に逃げにくくなり、押圧体5の外方面5aと、ソケット6の内方面6aとの間隙をより一層閉塞しやすくなる。従って、マスキング体13がピン7を含んで構成されることが好ましい。 Here, the masking body 13 does not necessarily have to include the pin 7 , and the masking body may be composed of the pressing body 5 and the socket 6 . However, as will be described later, by adopting a structure in which the elastically deformed pressing body 5 is supported by the pin 7, the elastically deformed pressing body 5 is less likely to escape in the direction of the pin 7. , the gap with the inner surface 6a of the socket 6 can be more easily closed. Therefore, it is preferable that the masking body 13 includes the pin 7 .

また、必ずしも、押圧体5がフッ素ゴムで形成され、ソケット6が、押圧体5が弾性変形することで生じる外力を受けたときに、ソケット6自身の形状が維持可能な硬度を有する材質で形成される必要はない。但し、弾性変形した押圧体5が、押圧体5の外方面5aと、ソケット6の内方面6aとの間隙を閉塞しやすくなる点から、ソケット6が、押圧体5が弾性変形することで生じる外力を受けたときに、ソケット6自身の形状が維持可能な硬度を有する材質で形成されることが好ましい。また、溶融した樹脂と接触した際に、ソケット6に樹脂が張り付きにくくなり、これに伴い、押圧体5への樹脂の張り付きを防止または低減できる。その結果、離形時に、押圧体5の樹脂に接着した部分がちぎれにくくなり、押圧体5が破損することを抑止可能となる点から、ソケット6が押圧体5よりも硬度が高い材質で形成されることが好ましい。 In addition, the pressing body 5 is not necessarily made of fluororubber, and the socket 6 is made of a material having a hardness that allows the socket 6 to maintain its shape when subjected to an external force generated by elastic deformation of the pressing body 5. does not need to be However, since the elastically deformed pressing body 5 tends to close the gap between the outer surface 5a of the pressing body 5 and the inner surface 6a of the socket 6, the socket 6 is formed by the elastic deformation of the pressing body 5. It is preferable that the socket 6 is made of a material having a hardness that allows the socket 6 to maintain its shape when subjected to an external force. In addition, when the resin comes into contact with the molten resin, it becomes difficult for the resin to stick to the socket 6 , and accordingly, sticking of the resin to the pressing body 5 can be prevented or reduced. As a result, the portion of the pressing body 5 that is adhered to the resin is less likely to tear when the mold is released, and the pressing body 5 can be prevented from being damaged. preferably.

また、必ずしも、押圧体5は、ソケット6で囲まれた範囲を下方向に延長した範囲内で弾性変形するように、その先端50に許容部54が形成される必要はない。但し、後述するように、弾性変形した押圧体5の側面54a(図9(b)及び図10参照)が、間隙S1に向けて、はみ出ない形状となり、樹脂成形品の離形性が良くなり、かつ、樹脂成形部や押圧体5の破損を抑止できる。そのため、押圧体5は、ソケット6で囲まれた範囲を下方向に延長した範囲内で弾性変形するように、その先端50に許容部54が形成されることが好ましい。 Moreover, it is not always necessary for the pressing body 5 to be formed with the permissible portion 54 at the tip 50 so that the pressing body 5 is elastically deformed within a range extending downward from the range surrounded by the socket 6 . However, as will be described later, the side surface 54a (see FIGS. 9B and 10) of the elastically deformed pressing body 5 has a shape that does not protrude toward the gap S1, and the releasability of the resin molded product is improved. Moreover, breakage of the resin molded portion and the pressing body 5 can be suppressed. Therefore, it is preferable that the pressing body 5 is formed with a permissive portion 54 at the tip 50 so that the pressing body 5 is elastically deformed within a range extending downward from the range surrounded by the socket 6 .

なお、側面54aとは、弾性変形した押圧体5において、その外方面5aを下方に向けて同径のまま延長した線上に位置し、押圧体5の下方の先端の外周部に形成される面である。 Note that the side surface 54a is a surface formed on the outer peripheral portion of the lower tip of the pressing body 5, which is located on a line extending downward from the outer surface 5a of the pressing body 5 that has been elastically deformed while maintaining the same diameter. is.

また、必ずしも、許容部54の端面が直線状に形成される必要はなく、例えば、端面が曲面状に形成される形状となってもよい。 Moreover, the end surface of the allowance portion 54 does not necessarily have to be formed in a straight line, and for example, the end surface may be formed in a curved shape.

また、必ずしも、押圧体5は、ピン7の外方面7aで囲まれた範囲を下方向に延長した範囲より外側で弾性変形するように、その先端50に許容部55が形成される必要はない。但し、後述するように、弾性変形した押圧体5の側面55b(図9(b)参照)が、間隙S12にはみ出ない形状となり、押圧体5の破損を抑止できる。そのため、押圧体5は、ピン7の外方面7aで囲まれた範囲を下方向に延長した範囲より外側で弾性変形するように、その先端50に許容部55が形成されることが好ましい。 Further, it is not always necessary to form the permissive portion 55 at the tip end 50 of the pressing body 5 so that the pressing body 5 is elastically deformed outside the downwardly extended range of the range surrounded by the outer surface 7a of the pin 7. . However, as will be described later, the elastically deformed side surface 55b (see FIG. 9B) of the pressing body 5 has a shape that does not protrude into the gap S12, and damage to the pressing body 5 can be suppressed. Therefore, it is preferable that the pressing body 5 is formed with a permissive portion 55 at its tip 50 so that the pressing body 5 is elastically deformed outside the downward extension of the range surrounded by the outer surface 7a of the pin 7 .

なお、側面55bとは、弾性変形した押圧体5において、外方面5aの内方にあり、かつ、ピン7の外方面7aと対向する内方面5bを、下方に向けて同径のまま延長した線上に位置し、押圧体5の下方の先端の内周部に形成される面である。 The side surface 55b is the inner surface 5b of the elastically deformed pressing body 5, which is located inside the outer surface 5a and faces the outer surface 7a of the pin 7, and extends downward with the same diameter. This surface is positioned on a line and is formed on the inner peripheral portion of the lower tip of the pressing body 5 .

また、必ずしも、許容部55の端面が直線状に形成される必要はなく、例えば、端面が曲面状に形成される形状となってもよい。 Moreover, the end face of the allowance portion 55 does not necessarily have to be formed in a straight line, and for example, the end face may be formed in a curved shape.

続いて、上金型1及び下金型2の型締めを行う際に、マスキング体13で半導体素子3の表面を押圧する一連の動作と本発明の作用を、図6乃至図10を用いて説明する。なお、以下の説明は、本発明を適用した樹脂封止方法の一例でもある。 Next, a series of operations for pressing the surface of the semiconductor element 3 with the masking body 13 when clamping the upper mold 1 and the lower mold 2 and the effects of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 to 10. explain. The following description is also an example of a resin sealing method to which the present invention is applied.

まず、型締め前の状態では、半導体素子3が載置された基板30が下型チェス20のフレーム載置面22の所定の位置に置かれ、半導体素子3の上方にマスキング体13が位置している(図7(a)参照)。 First, before mold clamping, the substrate 30 on which the semiconductor element 3 is mounted is placed at a predetermined position on the frame mounting surface 22 of the lower die chess 20, and the masking body 13 is positioned above the semiconductor element 3. (See FIG. 7(a)).

また、型締め前の状態では、押圧体5の先端50と、半導体素子3の表面との間には上下方向で所定の距離があり、外周縁部の許容部54及び内周縁部の許容部55の形状が維持されている(図6及び図7(b)参照)。 In addition, before mold clamping, there is a predetermined distance in the vertical direction between the tip 50 of the pressing body 5 and the surface of the semiconductor element 3, and the allowable portion 54 of the outer peripheral edge and the allowable portion of the inner peripheral edge. The shape of 55 is maintained (see FIGS. 6 and 7(b)).

続いて、図示しない型締め装置により、下金型2を上昇させ、上型チェス10と下型チェス20を当接させて、型締めを行う(図8(a)参照)。これにより、押圧体5の先端50が、半導体素子3の表面と接触する(図8(b)参照)。また、ピン7の先端72と、半導体素子3の表面との間には、間隙S2が形成される。 Subsequently, the lower die 2 is lifted by a die clamping device (not shown), and the upper die chess 10 and the lower die chess 20 are brought into contact with each other for die clamping (see FIG. 8(a)). As a result, the tip 50 of the pressing body 5 comes into contact with the surface of the semiconductor element 3 (see FIG. 8B). A gap S<b>2 is formed between the tip 72 of the pin 7 and the surface of the semiconductor element 3 .

型締めが完了した状態では、上型チェス10と下型チェス20に置かれた基板30との間にキャビティ120が形成される(図9(a)参照)。 A cavity 120 is formed between the upper die chess 10 and the substrate 30 placed on the lower die chess 20 (see FIG. 9A).

また、型締めが完了した状態では、型締めの力により、押圧体5が半導体素子3を押圧すると共に、半導体素子3から受ける反力により押圧体5が弾性変形する(図9(b)参照)。 In addition, when the mold clamping is completed, the pressing body 5 presses the semiconductor element 3 due to the clamping force, and the pressing body 5 is elastically deformed by the reaction force received from the semiconductor element 3 (see FIG. 9B). ).

この際、ソケット6の先端62と半導体素子3の表面との間には、間隙S1が形成される。また、ピン7の先端72と半導体素子3の表面との間には、間隙S12が形成される(図9(b)参照)。また、半導体素子3の表面のうち、間隙S12を形成する範囲は、マスキング体13で押圧されない部分となる。 At this time, a gap S<b>1 is formed between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 . A gap S12 is formed between the tip 72 of the pin 7 and the surface of the semiconductor element 3 (see FIG. 9B). Further, the area of the surface of the semiconductor element 3 where the gap S<b>12 is formed is a portion that is not pressed by the masking body 13 .

これにより、半導体素子3の表面の一部が押圧体5の先端50に押圧され、その表面のうち、押圧体50の先端50と当接する範囲及びその先端50に囲まれた範囲が、樹脂で封止しない露出させる部分となる(図9(a)、図9(b)及び図10参照)。 As a result, a part of the surface of the semiconductor element 3 is pressed by the tip 50 of the pressing body 5, and of the surface, the range in contact with the tip 50 of the pressing body 50 and the range surrounded by the tip 50 are made of resin. It becomes an exposed portion that is not sealed (see FIGS. 9(a), 9(b) and 10).

弾性変形した押圧体5は、半導体素子3の表面に密着して、溶融した樹脂が、押圧体5の先端と半導体素子3の表面との間や、間隙S12に浸入することを抑止できる。 The elastically deformed pressing member 5 is brought into close contact with the surface of the semiconductor element 3 to prevent the molten resin from entering between the tip of the pressing member 5 and the surface of the semiconductor element 3 and the gap S12.

また、押圧体5が弾性変形することで、半導体素子3の高さのばらつきや傾きを吸収して、密着性を担保することにより、半導体素子3の表面の露出させたい部分への樹脂の浸入を抑えることができる。この結果、半導体素子3の表面の一部を露出させた露出成形が可能となる。 In addition, by elastically deforming the pressing body 5, variations in height and inclination of the semiconductor element 3 are absorbed, and adhesion is ensured. can be suppressed. As a result, it is possible to carry out exposure molding in which a part of the surface of the semiconductor element 3 is exposed.

また、押圧体5が、外方に膨らむように弾性変形することで、押圧体5の外方面5aと、ソケット6の内方面6aとの間隙(図示及び符号省略)が、弾性変形した押圧体5により閉塞される(図9(b)及び図10参照)。 Further, the pressing body 5 is elastically deformed so as to swell outward, so that the gap (illustration and reference numerals omitted) between the outer surface 5a of the pressing body 5 and the inner surface 6a of the socket 6 is elastically deformed. 5 (see FIGS. 9(b) and 10).

これにより、押圧体5の下方の先端に位置する押圧体5の外方面5aと、ソケット6の内方面6aとの間隙に、溶融した樹脂が流れ込むことがなく、上方へのバリとなる、所謂縦バリが発生することを抑止できる。 As a result, the melted resin does not flow into the gap between the outer surface 5a of the pressing body 5 located at the lower tip of the pressing body 5 and the inner surface 6a of the socket 6, resulting in an upward burr. It is possible to suppress the occurrence of vertical burrs.

また、押圧体5が弾性変形することで、押圧体5の内方面5bが、ピン7の外方面7aに当接して、同部分で押圧体5がピン7に支持された状態となる(図9(b)及び図10参照)。また、ピン7に支持されたことで、押圧体5がピン7からの反力を受ける。 In addition, due to the elastic deformation of the pressing body 5, the inner surface 5b of the pressing body 5 comes into contact with the outer surface 7a of the pin 7, and the pressing body 5 is supported by the pin 7 at the same portion (Fig. 9(b) and FIG. 10). Further, the pressing body 5 receives a reaction force from the pin 7 because it is supported by the pin 7 .

そして、押圧体5がピン7から受ける反力は、弾性変形した押圧体5が、押圧体5の外方面5aと、ソケット6の内方面6aとの間隙を閉塞する力に加わるものとなる。 The reaction force that the pressing body 5 receives from the pin 7 is added to the force that causes the elastically deformed pressing body 5 to close the gap between the outer surface 5 a of the pressing body 5 and the inner surface 6 a of the socket 6 .

この結果、押圧体5の外方面5aと、ソケット6の内方面6aとの間隙に、溶融した樹脂が流れ込むことがなく、縦バリが発生することを抑止可能となる。なお、図10中では、弾性変形した押圧体5が、内外方向に向けて突っ張る向きを、符号Tを付した両端矢印で示している。 As a result, the melted resin does not flow into the gap between the outer surface 5a of the pressing body 5 and the inner surface 6a of the socket 6, and the occurrence of vertical burrs can be suppressed. In FIG. 10, the direction in which the elastically deformed pressing body 5 stretches inward and outward is indicated by a double-ended arrow with a symbol T. As shown in FIG.

また、型締めした状態で、ソケット6の先端62と半導体素子3の表面との間に、間隙S1が形成されることで、ソケット6の先端62が半導体素子3の表面に接触することが回避できる。これにより、ソケット6の先端62と半導体素子3の表面との接触に起因する半導体素子3の破損を防止できる。 In addition, by forming a gap S1 between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 in a clamped state, the tip 62 of the socket 6 is prevented from contacting the surface of the semiconductor element 3. can. As a result, damage to the semiconductor element 3 due to contact between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 can be prevented.

また、型締めした状態で、ソケット6の先端62と半導体素子3の表面との間に、間隙S1が形成されることで、押圧体5の先端50と半導体素子3の表面との間に、溶融した樹脂が浸入しにくくなり、薄いバリが発生することを抑止できる。 In addition, when the mold is clamped, a gap S1 is formed between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3, so that the tip 50 of the pressing body 5 and the surface of the semiconductor element 3 can be It becomes difficult for the molten resin to enter, and the generation of thin burrs can be suppressed.

即ち、溶融した樹脂が間隙S1に流れ込もうとすることで、溶融した樹脂の圧力損失が生じる。これにより、溶融した樹脂の圧力が弱くなり、半導体素子3の表面に密着した押圧体5の先端50と、半導体素子3の表面との間に、溶融した樹脂を浸入しにくくすることができる。 That is, when the molten resin tries to flow into the gap S1, pressure loss of the molten resin occurs. As a result, the pressure of the melted resin is weakened, making it difficult for the melted resin to enter between the front end 50 of the pressing body 5 in close contact with the surface of the semiconductor element 3 and the surface of the semiconductor element 3 .

また、ソケット6が押圧体5を囲んで配置されることで、弾性体で形成された押圧体5の外方面5aに溶融した樹脂が張り付く範囲は、間隙S1に面した範囲に限定される。 In addition, since the socket 6 surrounds the pressing body 5, the area where the molten resin sticks to the outer surface 5a of the pressing body 5 made of an elastic material is limited to the area facing the gap S1.

即ち、間隙S1に相当する範囲で、溶融した樹脂が押圧体5に張り付くことになるため、樹脂が押圧体5の外方面5aに張り付く力を低減させることができる。その結果、離形時に、押圧体5の外方面5aの樹脂に接着した部分がちぎれにくくなり、押圧体5が破損することを抑止できる。また、樹脂成形品の離形性を良くすることができる。また、樹脂が押圧体5の外方面5aに張り付くことに伴う、離形時の押圧体の破損を抑止できる。 That is, the melted resin sticks to the pressing body 5 in the range corresponding to the gap S1, so that the force with which the resin sticks to the outer surface 5a of the pressing body 5 can be reduced. As a result, the portion of the outer surface 5a of the pressing member 5 that is adhered to the resin is less likely to break when the pressing member 5 is released, and damage to the pressing member 5 can be suppressed. Moreover, the releasability of the resin molded product can be improved. Moreover, it is possible to prevent the pressing body from being damaged when the pressing body 5 is demolded due to the resin sticking to the outer surface 5 a of the pressing body 5 .

また、半導体素子3の表面のうち、間隙S12を形成する範囲は、押圧体5の先端50で押圧されない領域となる。これによれば、半導体素子3の表面のうち、押圧体5の先端50に囲まれた範囲についても押圧体で押圧するようなマスキング体の構造、例えば、ピン7を設けず、押圧体5に貫通孔52を設けず中実の形状にした構造、に比べて、押圧体で押圧する範囲の面積を小さくすることができる。 Further, of the surface of the semiconductor element 3 , the range where the gap S<b>12 is formed is a region that is not pressed by the tip 50 of the pressing body 5 . According to this, the masking body is structured such that the area surrounded by the tip 50 of the pressing body 5 on the surface of the semiconductor element 3 is also pressed by the pressing body. The area of the range to be pressed by the pressing body can be reduced as compared with a structure in which the through hole 52 is not provided and has a solid shape.

このように、半導体素子3の表面に対して、押圧体が押圧する範囲の面積を小さくすることで、押圧体5が半導体素子3の表面を押圧した際に、その表面を押圧体5により樹脂を浸入させない圧力で押圧しつつ、圧力が影響しない部分を広くとることで、半導体素子3が損傷する可能性を低減できる。 In this way, by reducing the area of the range where the pressing body presses the surface of the semiconductor element 3 , when the pressing body 5 presses the surface of the semiconductor element 3 , the surface is covered with the resin by the pressing body 5 . The possibility of damage to the semiconductor element 3 can be reduced by widening the portion unaffected by the pressure while pressing the semiconductor element 3 with a pressure that does not invade the semiconductor element 3 .

また、型締めが完了した状態で、押圧体5が弾性変形すると、押圧体5の先端50の外周縁部の許容部54が、押圧体5の外方面5aを下方に向けて同径のまま延長したような側面54aの形状となる(図9(b)及び図10参照)。 In addition, when the pressing body 5 is elastically deformed in a state in which mold clamping is completed, the permissible portion 54 on the outer peripheral edge of the tip 50 of the pressing body 5 is directed downward with the outer surface 5a of the pressing body 5 remaining the same diameter. The shape of the side surface 54a is extended (see FIGS. 9B and 10).

この押圧体5の側面54aの形状は、押圧体5の先端50の外周縁部において、ソケット6の先端62に近い部分で形成される。 The shape of the side surface 54 a of the pressing body 5 is formed at a portion near the tip 62 of the socket 6 at the outer peripheral edge of the tip 50 of the pressing body 5 .

また、ソケット6の先端62に近い、押圧体5の側面54aは、内外方向において、ソケット6の内方面6aよりも内方に位置している。つまり、押圧体5の側面54aは、側面54aよりも外方に位置する間隙S1に、はみ出ない形状となっている(図9(b)及び図10参照)。 Further, the side surface 54a of the pressing body 5, which is close to the tip 62 of the socket 6, is located inside the inner surface 6a of the socket 6 in the inside-outside direction. In other words, the side surface 54a of the pressing body 5 has a shape that does not protrude into the gap S1 located outside the side surface 54a (see FIGS. 9B and 10).

また、型締めが完了した状態で、押圧体5が弾性変形すると、押圧体5の先端50の内周縁部の許容部55が、ピン7の外方面7a(図9(b)参照)を下方に向けて同径のまま延長したような側面55bの形状となる(図9(b)及び図10参照)。 Further, when the pressing body 5 is elastically deformed in a state in which mold clamping is completed, the allowance portion 55 of the inner peripheral edge portion of the tip 50 of the pressing body 5 pushes the outer surface 7a (see FIG. 9B) of the pin 7 downward. The shape of the side surface 55b is such that the side surface 55b is extended toward the direction with the same diameter (see FIGS. 9B and 10).

この押圧体5の側面55bの形状は、押圧体5の先端50の内周縁部において、ピン7の先端72に近い部分で形成される。 The shape of the side surface 55 b of the pressing body 5 is formed at a portion near the tip 72 of the pin 7 at the inner peripheral edge of the tip 50 of the pressing body 5 .

また、上下方向において、ソケット6の先端62に近い、押圧体5の側面55bは、内外方向において、ピン7の外方面7aよりも外方に位置している。つまり、押圧体5の側面55bは、側面55bよりも内方に位置している間隙S12に、はみ出ない形状となっている(図9(b)及び図10参照)。 Further, the side surface 55b of the pressing body 5, which is close to the tip 62 of the socket 6 in the vertical direction, is positioned further outward than the outer surface 7a of the pin 7 in the internal and external directions. In other words, the side surface 55b of the pressing body 5 has a shape that does not protrude into the gap S12 located inside the side surface 55b (see FIGS. 9B and 10).

このように、型締めが完了した状態で、押圧体5の先端50の外周縁部の許容部54及び許容部55が、側面54a及び側面55bの形状となることで、以下のような作用が生じる。 In this way, in a state where mold clamping is completed, the permissible portion 54 and the permissible portion 55 of the outer peripheral edge portion of the tip 50 of the pressing body 5 are formed into the shapes of the side surfaces 54a and 55b, so that the following effects can be obtained. occur.

まず、ソケット6の先端62に近い、押圧体5の側面54aでは、仮に、側面54aが間隙S1にはみ出た形状となると、押圧体5の側面54aに対して、溶融した樹脂が付着する範囲が広くなり、付着力が強くなることで、樹脂成形品の離形性が悪くなってしまう。 First, on the side surface 54a of the pressing body 5 near the tip 62 of the socket 6, if the side surface 54a protrudes into the gap S1, the area where the molten resin adheres to the side surface 54a of the pressing body 5 is limited. As the area becomes wider and the adhesive force becomes stronger, the releasability of the resin molded product becomes worse.

また、樹脂が押圧体5に付着した力に抗して、樹脂成形品を金型から離形しようとすると、樹脂成形部が壊れてしまうおそれや、押圧体5がちぎれてしまうおそれがある。 Further, if the resin molded product is separated from the mold against the force of the resin adhering to the pressing body 5, there is a risk that the resin molded part will be broken or that the pressing body 5 will be torn off.

そのため、弾性変形した押圧体5の側面54aが、間隙S1にはみ出ない形状となることで、樹脂成形品の離形性を良くすると共に、樹脂成形部や押圧体5の破損を抑止できる。 Therefore, the elastically deformed side surface 54a of the pressing body 5 has a shape that does not protrude into the gap S1.

また、型締めした状態で、ソケット6の先端62と、半導体素子3の表面との間に、押圧体5の側面54aが挟まれにくくなる。これにより、押圧体5が、ソケット6の先端62と、半導体素子3の表面との間に挟まれることに起因する押圧体5の破損を抑止できる。 Moreover, the side surface 54a of the pressing body 5 is less likely to be caught between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 in the clamped state. As a result, it is possible to prevent damage to the pressing body 5 due to the pressing body 5 being sandwiched between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 .

また、ピン7の先端72に近い、押圧体5の側面55bは、間隙S12にはみ出ない形状となることで、ピン7の先端72と、半導体素子3の表面との間に、押圧体5の側面55bが挟まれにくくなる。これにより、押圧体5が、ピン7の先端72と、半導体素子3の表面との間に挟まれることに起因する押圧体5の破損を抑止できる。 Further, the side surface 55b of the pressing body 5 near the tip 72 of the pin 7 has a shape that does not protrude into the gap S12. The side surface 55b is less likely to be pinched. As a result, it is possible to prevent damage to the pressing body 5 due to the pressing body 5 being sandwiched between the tip 72 of the pin 7 and the surface of the semiconductor element 3 .

以上のように、本発明を適用した樹脂封止用金型の一例である金型Aは、押圧体5で半導体素子3の表面の一部に露出部分を形成しながら、縦バリの発生を抑止できる。 As described above, the mold A, which is an example of a mold for resin sealing to which the present invention is applied, forms an exposed portion on a part of the surface of the semiconductor element 3 with the pressing body 5, while preventing the generation of vertical burrs. can be suppressed.

[第二の実施の形態]
続いて、本発明の第二の実施の形態について説明する。第二の実施の形態における、第一の実施の形態からの変更点は、押圧体の形状が異なる点と、マスキング体の構成部材としてピンが含まれない点である。
[Second embodiment]
Next, a second embodiment of the invention will be described. The second embodiment differs from the first embodiment in that the shape of the pressing body is different and that pins are not included as constituent members of the masking body.

なお、以下では、既に説明を行った第一の実施の形態における内容と重複する構造については詳細な説明を省略して、第一の実施の形態と構造が異なる部分を中心に説明を行う。 In the following description, detailed descriptions of the structures that overlap with the contents of the first embodiment already described will be omitted, and the description will focus on the parts that are different in structure from the first embodiment.

第二の実施の形態である金型は、図11、図12及び図14に示すように、マスキング体130が、ソケット6と、押圧体105を有している。なお、ソケット6の構造を図13(a)に示すが、第一の実施の形態と同様の構造であるため、ソケット6の説明は省略する。 As shown in FIGS. 11, 12 and 14, the mold of the second embodiment has a masking body 130, a socket 6, and a pressing body 105. As shown in FIGS. The structure of the socket 6 is shown in FIG. 13(a), but since it is the same structure as in the first embodiment, the explanation of the socket 6 is omitted.

押圧体105はフッ素ゴムで形成された弾性部材であり、型締めした状態で、半導体素子3の表面を押圧する部材である。押圧体105の先端面150には、凹部152が形成されている(図11、図12及び図13(b)参照)。この先端面150が、半導体素子3の表面を押圧する部分となる。 The pressing member 105 is an elastic member made of fluororubber, and is a member that presses the surface of the semiconductor element 3 in a clamped state. A concave portion 152 is formed in the tip surface 150 of the pressing body 105 (see FIGS. 11, 12 and 13B). This tip surface 150 is a portion that presses the surface of the semiconductor element 3 .

また、押圧体105の凹部152が設けられたことで、その先端面150が半導体素子3の表面を押圧する際に、押圧体105と半導体素子3の表面との間に、間隙S3が形成される(図15(b)参照)。 Further, since the depression 152 of the pressing body 105 is provided, a gap S3 is formed between the pressing body 105 and the surface of the semiconductor element 3 when the tip surface 150 of the pressing body 105 presses the surface of the semiconductor element 3 . (See FIG. 15(b)).

また、押圧体105は、ソケット6で囲まれた範囲を下方向に延長した範囲内で弾性変形するように、その先端150の外周角部に許容部154が形成されている(図13(b)、図14(b)及び図15(b)参照)。なお、上述した押圧体5とは異なり、押圧体105では、その先端150の内周角部に許容部が形成されていない。 In addition, the pushing body 105 is formed with a permissible portion 154 at the outer peripheral corner of the tip 150 so that the pressing body 105 is elastically deformed within a range extending downward from the range surrounded by the socket 6 (FIG. 13(b)). ), see FIGS. 14(b) and 15(b)). Unlike the pressing body 5 described above, the pressing body 105 does not have a permissive portion formed at the inner peripheral corner of the tip 150 thereof.

この許容部154は、押圧体105の先端150の外周角部において、下方に向けて外周径が小さくなり、かつ、許容部154の端面が直線状に形成されている。 The permissive portion 154 has an outer peripheral diameter that decreases downward at the outer peripheral corner portion of the tip 150 of the pressing body 105, and the end surface of the permissible portion 154 is formed in a straight line.

ここで、必ずしも、許容部154の端面が直線状に形成される必要はなく、例えば、端面が曲面状に形成される形状となってもよい。 Here, the end face of the allowance portion 154 does not necessarily have to be formed in a straight line, and for example, the end face may be formed in a curved shape.

マスキング体130は、キャビティブロック15及びバックプレート160を介して支持されている(図11参照)。また、押圧体105は、フランジ部151が形成されている(図13(b)参照)。このフランジ部151が、ソケット6とバックプレート160に挟まれて、押圧体105が支持されている。 Masking body 130 is supported via cavity block 15 and back plate 160 (see FIG. 11). A flange portion 151 is formed on the pressing body 105 (see FIG. 13(b)). The flange portion 151 is sandwiched between the socket 6 and the back plate 160 to support the pressing body 105 .

また、型締めした状態では、ソケット6の先端62は、上下方向で半導体素子3の表面から離れて位置している(図16(b)及び図17参照)。 Further, in the clamped state, the tip 62 of the socket 6 is located apart from the surface of the semiconductor element 3 in the vertical direction (see FIGS. 16(b) and 17).

これにより、押圧体5の先端50が、半導体素子3の表面を押圧して弾性変形した状態では、ソケット6の先端62と、半導体素子3の表面との間に、所要の間隙S4が形成される(図16(b)及び図17参照)。なお、ここでいう間隙S4が、本願請求項における第一の間隙に相当する。 As a result, a required gap S4 is formed between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 when the tip 50 of the pressing body 5 presses the surface of the semiconductor element 3 and is elastically deformed. (see FIGS. 16(b) and 17). The gap S4 here corresponds to the first gap in the claims of the present application.

続いて、上金型1及び下金型2の型締めを行う際に、マスキング体130で半導体素子3の表面を押圧する一連の動作と本発明の作用を、図14乃至図17を用いて説明する。 14 to 17, a series of operations for pressing the surface of the semiconductor element 3 with the masking body 130 and the effects of the present invention when the upper mold 1 and the lower mold 2 are clamped. explain.

まず、型締め前の状態では、半導体素子3が載置された基板30が下型チェス20のフレーム載置面22の所定の位置に置かれ、半導体素子3の上方にマスキング体130が位置している(図14(a)参照)。 First, before mold clamping, the substrate 30 on which the semiconductor element 3 is mounted is placed at a predetermined position on the frame mounting surface 22 of the lower die chess 20, and the masking body 130 is positioned above the semiconductor element 3. (See FIG. 14(a)).

また、型締め前の状態では、押圧体105の先端150と、半導体素子3の表面との間には上下方向で所定の距離があり、外周縁部の許容部154の形状が維持されている(図14(b)参照)。 In addition, before mold clamping, there is a predetermined distance in the vertical direction between the tip 150 of the pressing body 105 and the surface of the semiconductor element 3, and the shape of the permissible portion 154 on the outer peripheral edge is maintained. (See FIG. 14(b)).

続いて、図示しない型締め装置により、下金型2を上昇させ、上型チェス110と下型チェス20を当接させて、型締めを行い(図15(a)参照)、押圧体105の先端150が、半導体素子3の表面と接触する(図15(b)参照)。 Subsequently, the lower die 2 is lifted by a die clamping device (not shown), and the upper die chess 110 and the lower die chess 20 are brought into contact with each other to perform die clamping (see FIG. 15(a)). The tip 150 contacts the surface of the semiconductor element 3 (see FIG. 15(b)).

型締めが完了した状態では、上型チェス110と下型チェス20に置かれた基板30との間にキャビティ120が形成される(図16(a)参照)。 A cavity 120 is formed between the upper die chess 110 and the substrate 30 placed on the lower die chess 20 when the clamping is completed (see FIG. 16(a)).

また、型締めが完了した状態では、型締めの力により、押圧体105が半導体素子3を押圧すると共に、半導体素子3から受ける反力により押圧体105が弾性変形する(図16(b)参照)。 In addition, when the mold clamping is completed, the pressing body 105 presses the semiconductor element 3 due to the clamping force, and the pressing body 105 is elastically deformed by the reaction force received from the semiconductor element 3 (see FIG. 16B). ).

この際、ソケット6の先端62と半導体素子3の表面との間には、間隙S4が形成される(図16(b)参照)。また、押圧体105の凹部152と半導体素子3の表面により、間隙S13が形成される。この間隙S13は、押圧体5の変形によって間隙S3より縮小した間隙である。また、半導体素子3の表面のうち、間隙S13を形成する範囲は、マスキング体130で押圧されない部分となる。 At this time, a gap S4 is formed between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 (see FIG. 16(b)). A gap S<b>13 is formed by the concave portion 152 of the pressing body 105 and the surface of the semiconductor element 3 . This gap S<b>13 is a gap that is reduced from the gap S<b>3 due to the deformation of the pressing body 5 . Further, of the surface of the semiconductor element 3, the area where the gap S13 is formed is a portion that is not pressed by the masking member 130. As shown in FIG.

これにより、半導体素子3の表面の一部が、押圧体105の先端150に押圧され、その表面のうち、押圧体105の先端150と当接する範囲及びその先端150に囲まれた範囲が、樹脂で封止しない露出させる部分となる(図16(a)、図16(b)及び図17参照)。 As a result, a part of the surface of the semiconductor element 3 is pressed by the tip 150 of the pressing body 105, and of the surface, the range in contact with the tip 150 of the pressing body 105 and the range surrounded by the tip 150 are covered with the resin. 16(a), 16(b) and 17).

弾性変形した押圧体105は、半導体素子3の表面に密着して、溶融した樹脂が、押圧体105の先端150と半導体素子3の表面との間や、間隙S13に浸入することを抑止できる。 The elastically deformed pressing body 105 adheres to the surface of the semiconductor element 3, and can prevent the molten resin from entering between the tip 150 of the pressing body 105 and the surface of the semiconductor element 3 and the gap S13.

また、押圧体105が弾性変形することで、半導体素子3の高さのばらつきや傾きを吸収して、密着性を担保することにより、半導体素子3の表面の露出させたい部分への樹脂の浸入を抑えることができる。この結果、半導体素子3の表面の一部を露出させた露出成形が可能となる。 In addition, by elastically deforming the pressing body 105, variations in height and inclination of the semiconductor element 3 are absorbed, and adhesion is ensured, thereby preventing the resin from entering the portion of the surface of the semiconductor element 3 to be exposed. can be suppressed. As a result, it is possible to carry out exposure molding in which a part of the surface of the semiconductor element 3 is exposed.

また、押圧体105が弾性変形することで、押圧体105の下方の先端に位置する押圧体105の外方面105aと、ソケット6の内方面6aとの間隙(図示及び符号省略)が、弾性変形した押圧体105により閉塞される(図16(b)及び図17参照)。 In addition, due to the elastic deformation of the pressing body 105, the gap (illustration and reference numerals omitted) between the outer surface 105a of the pressing body 105 located at the lower tip of the pressing body 105 and the inner surface 6a of the socket 6 is elastically deformed. It is closed by the pressed pressing body 105 (see FIGS. 16(b) and 17).

これにより、押圧体105の下方の先端に位置する押圧体105の外方面105aと、ソケット6の内方面6aとの間隙に、溶融した樹脂が流れ込むことがなく、縦バリが発生することを抑止できる。なお、図17中では、弾性変形した押圧体105が、内外方向に向けて突っ張る向きを、符号Tを付した両端矢印で示している。 As a result, the melted resin does not flow into the gap between the outer surface 105a of the pressing body 105 located at the lower tip of the pressing body 105 and the inner surface 6a of the socket 6, thereby suppressing the occurrence of vertical burrs. can. In FIG. 17, the direction in which the elastically deformed pressing body 105 stretches inward and outward is indicated by a double-ended arrow with a symbol T. As shown in FIG.

また、半導体素子3の表面のうち、間隙S13を形成する範囲は、押圧体105の先端150で押圧されない領域となる。これにより、第一の実施の形態と同様に、半導体素子3の表面に対して、押圧体が押圧する範囲の面積を小さくすることができる。 Further, of the surface of the semiconductor element 3 , the range where the gap S 13 is formed is a region that is not pressed by the tip 150 of the pressing body 105 . As a result, as in the first embodiment, it is possible to reduce the area of the range in which the pressing body presses the surface of the semiconductor element 3 .

この結果、押圧体105が半導体素子3の表面を押圧した際に、その表面を押圧体5により樹脂を浸入させない圧力で押圧しつつ、圧力が影響しない部分を広くとることで、半導体素子3が損傷する可能性を低減できる。 As a result, when the pressing body 105 presses the surface of the semiconductor element 3 , the surface is pressed by the pressing body 5 with a pressure that does not allow the resin to penetrate, and the area where the pressure does not affect is widened, so that the semiconductor element 3 is It can reduce the possibility of damage.

ここで、押圧体105の形状として、凹部152が形成された形状の他に、凹部152の代わりに、押圧体105の内方に貫通孔を形成し、その貫通孔にピンを配置しない管状の構造を採用することもできる。この場合でも、半導体素子3の表面に対して、押圧体105が押圧する範囲の面積を小さくすることが可能となる。 Here, as the shape of the pressing body 105, in addition to the shape in which the recess 152 is formed, instead of the recess 152, a through hole is formed inside the pressing body 105, and a pin is not arranged in the through hole. Structures can also be employed. Even in this case, it is possible to reduce the area of the range where the pressing body 105 presses against the surface of the semiconductor element 3 .

また、型締めが完了した状態で、押圧体105が弾性変形すると、押圧体105の先端150の外周縁部の許容部154が、押圧体105の外方面105aを下方に向けて同径のまま延長したような側面154aの形状となる(図16(b)及び図17参照)。 In addition, when the pressing body 105 is elastically deformed in a state in which mold clamping is completed, the permissible portion 154 of the outer peripheral edge of the tip 150 of the pressing body 105 faces downward with the outer surface 105a of the pressing body 105 remaining the same diameter. The shape of the side surface 154a looks like an extension (see FIGS. 16(b) and 17).

この押圧体105の側面154aの形状は、第一の実施の形態における押圧体5の側面54aの形状と同様に、内外方向において、ソケット6の内方面6aよりも内方に位置している。つまり、押圧体105の側面154aは、側面154aよりも外方に位置している間隙S4に、はみ出ない形状となっている(図16(b)及び図17参照)。 The shape of the side surface 154a of the pressing body 105 is located inside the inner surface 6a of the socket 6 in the inside-outside direction, similar to the shape of the side surface 54a of the pressing body 5 in the first embodiment. In other words, the side surface 154a of the pressing body 105 has a shape that does not protrude into the gap S4 located outside the side surface 154a (see FIGS. 16B and 17).

このように、弾性変形した押圧体105の側面154aが、間隙S4にはみ出ない形状となることで、樹脂成形品の離形性を良くすると共に、樹脂成形部や押圧体5の破損を抑止できる。 In this way, the elastically deformed side surface 154a of the pressing body 105 has a shape that does not protrude into the gap S4. .

また、型締めした状態で、ソケット6の先端62と、半導体素子3の表面との間に、押圧体105の側面154aが挟まれにくくなる。これにより、押圧体105が、ソケット6の先端62と、半導体素子3の表面との間に挟まれることに起因する押圧体105の破損を抑止できる。 In addition, the side surface 154a of the pressing body 105 is less likely to be caught between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 in the clamped state. As a result, it is possible to prevent damage to the pressing body 105 due to the pressing body 105 being sandwiched between the tip 62 of the socket 6 and the surface of the semiconductor element 3 .

このように、第二の実施の形態についても、押圧体105で半導体素子3の表面の一部に露出部分を形成しながら、縦バリの発生を抑止できる。 Thus, in the second embodiment as well, the pressing body 105 forms an exposed portion on the surface of the semiconductor element 3 while suppressing the occurrence of vertical burrs.

以上のように、本発明に係る樹脂封止用金型は、露出成形を行う半導体素子の樹脂封止において、押圧部(マスキング体)の破損を抑止できるものとなっている。
また、本発明に係る樹脂封止方法は、露出成形を行う半導体素子の樹脂封止において、押圧部(マスキング体)の破損を抑止できる方法となっている。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the resin encapsulation mold according to the present invention can prevent the pressing portion (masking body) from being damaged in resin encapsulation of a semiconductor element that is subjected to exposure molding.
Further, the resin sealing method according to the present invention is a method capable of suppressing breakage of the pressing portion (masking body) in resin sealing of a semiconductor element that is subjected to exposure molding.

本明細書及び特許請求の範囲で使用している用語と表現は、あくまでも説明上のものであって、なんら限定的なものではなく、本明細書及び特許請求の範囲に記述された特徴およびその一部と等価の用語や表現を除外する意図はない。また、本発明の技術思想の範囲内で、種々の変形態様が可能であるということは言うまでもない。 The terms and expressions used in the specification and claims are for the purpose of description only and should not be regarded as limiting the features described and claimed herein. There is no intention to exclude some equivalent terms or expressions. Moreover, it goes without saying that various modifications are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

M 樹脂封止装置
1 上金型
10 上型チェス
11 カル部
12 上部キャビティ
120 キャビティ
13 マスキング体(入れ子)
14 ホルダーベース
15 キャビティブロック
16 バックプレート
2 下金型
21 ポット部
22 フレーム載置面
3 半導体素子
30 基板
4 樹脂タブレット
40 樹脂
5 押圧体(押圧部)
5a 外方面
5b 内方面
50 先端
51 フランジ部
52 貫通孔
54 許容部
54a 側面
55 許容部
55b 側面
6 ソケット(囲み部)
6a 内方面
60 収容部
62 先端
63 フランジ部
7 ピン(芯部)
7a 外方面
70 径大部
71 径小部
72 先端
S1 間隙
S2 間隙
S12 間隙
105 押圧体(押圧部)
105a 外方面
150 先端面
151 フランジ部
152 凹部
154 許容部
154a 側面
110 上型チェス
160 バックプレート
S3 間隙
S13 間隙
S4 間隙
M resin sealing device 1 upper mold 10 upper mold chess 11 cull part 12 upper cavity 120 cavity 13 masking body (insertion)
14 holder base 15 cavity block 16 back plate 2 lower mold 21 pot part 22 frame mounting surface 3 semiconductor element 30 substrate 4 resin tablet 40 resin 5 pressing body (pressing part)
5a outer surface 5b inner surface 50 tip 51 flange portion 52 through hole 54 allowance portion 54a side surface 55 allowance portion 55b side surface 6 socket (surrounding portion)
6a Inner surface 60 Receiving part 62 Tip 63 Flange part 7 Pin (core part)
7a outer surface 70 large diameter portion 71 small diameter portion 72 tip S1 gap S2 gap S12 gap 105 pressing member (pressing portion)
105a outer surface 150 tip surface 151 flange portion 152 recessed portion 154 allowance portion 154a side surface 110 upper die chess 160 back plate S3 gap S13 gap S4 gap

Claims (10)

半導体素子が載置された基板が置かれる第一の金型と、前記第一の金型に対向する面に樹脂を充填し、前記半導体素子を封止するキャビティが形成されると共に、前記半導体素子の表面の一部を押圧する入れ子が設けられた第二の金型と、を備える樹脂封止用金型であって、
前記入れ子は、
前記対向する方向において、前記半導体素子に向けて前記第二の金型から突出して形成され、かつ、前記半導体素子との間で第一の間隙を設けて配置される囲み部と、
前記囲み部に囲まれて配置され、所要の弾性を有し、前記半導体素子の表面を押圧する、前記対向する方向における先端が前記囲み部よりも前記半導体素子に近いところに位置する押圧部とを備える
樹脂封止用金型。
A first mold on which a substrate on which a semiconductor element is placed is placed, and a resin is filled in a surface facing the first mold to form a cavity for sealing the semiconductor element, and the semiconductor A resin sealing mold comprising: a second mold provided with an insert that presses a part of the surface of the element,
The nesting is
an enclosing portion protruding from the second mold toward the semiconductor element in the facing direction and arranged with a first gap from the semiconductor element;
a pressing portion that is surrounded by the enclosing portion, has a required elasticity, and presses the surface of the semiconductor element, the tip of which in the facing direction is positioned closer to the semiconductor element than the enclosing portion; A mold for resin sealing.
前記押圧部は、押圧による弾性変形で、前記先端と前記囲み部との間の前記対向する方向と直交する方向における第二の間隙を閉塞する
請求項1に記載の樹脂封止用金型。
The mold for resin sealing according to claim 1, wherein the pressing portion closes a second gap in a direction perpendicular to the opposing direction between the tip and the enclosing portion by elastic deformation due to pressing.
前記囲み部は、前記押圧部の弾性変形による外力を受けたときに、その形状が維持可能な硬さを有する
請求項1または請求項2に記載の樹脂封止用金型。
3. The mold for resin sealing according to claim 1, wherein the enclosing portion has a hardness capable of maintaining its shape when receiving an external force due to elastic deformation of the pressing portion.
前記押圧部は、前記対向する方向において前記先端に向けて外周径が小さくなる許容部が形成されることで、前記囲み部で囲まれた範囲を前記対向する方向に延長した範囲内に、弾性変形した前記押圧部が収まるように構成されている
請求項1、請求項2または請求項3に記載の樹脂封止用金型。
The pressing portion is provided with an allowance portion having an outer peripheral diameter that decreases toward the distal end in the facing direction, so that the pressing portion has an elastic range within a range obtained by extending the range surrounded by the surrounding portion in the facing direction. 4. The mold for resin sealing according to claim 1, wherein the deformed pressing portion is accommodated therein.
前記押圧部は、前記対向する方向に沿って孔部が形成され、
前記押圧部を支持可能な芯部を有し、
前記芯部は、前記対向する方向において、前記半導体素子と相対する面が前記押圧部よりも前記半導体素子から離れて位置するように前記孔部に収容される
請求項1、請求項2、請求項3または請求項4に記載の樹脂封止用金型。
The pressing portion has a hole formed along the facing direction,
Having a core portion capable of supporting the pressing portion,
The core portion is accommodated in the hole portion so that a surface facing the semiconductor element is located further away from the semiconductor element than the pressing portion in the facing direction. The mold for resin sealing according to claim 3 or 4.
前記押圧部は、前記先端に凹部が形成され、前記先端かつ前記凹部の周辺の面が前記半導体素子の表面を押圧する
請求項1、請求項2、請求項3または請求項4に記載の樹脂封止用金型。
5. The resin according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the pressing portion has a recess formed at the tip, and the surface of the tip and the periphery of the recess presses the surface of the semiconductor element. Mold for encapsulation.
前記押圧部は、前記対向する方向に沿って貫通孔が形成され、前記先端かつ前記貫通孔の周辺の面が前記半導体素子の表面を押圧する
請求項1、請求項2、請求項3または請求項4に記載の樹脂封止用金型。
1, 2, 3 or claim 1, wherein the pressing portion has a through hole formed along the facing direction, and the surface of the semiconductor element is pressed by the tip and a surface around the through hole. Item 5. The mold for resin sealing according to item 4.
第一の金型に置かれた基板に載置された半導体素子の表面を覆って、前記第一の金型及び前記第一の金型と対向する第二の金型を型合わせし、前記第二の金型に形成されたキャビティに樹脂を充填して、前記半導体素子を封止する樹脂封止方法であって、
前記第二の金型に設けられた所要の弾性を有する押圧部で前記半導体素子の表面を押圧する工程と、
前記キャビティに樹脂を充填する際に、前記対向する方向において、前記押圧部を囲む囲み部の前記半導体素子の表面から離間した先端及び前記半導体素子の表面により形成される第一の間隙に樹脂を流し込む工程と、を備える
樹脂封止方法。
covering the surface of the semiconductor element mounted on the substrate placed on the first mold, and matching the first mold and a second mold facing the first mold; A resin sealing method for sealing the semiconductor element by filling a resin into a cavity formed in a second mold,
a step of pressing the surface of the semiconductor element with a pressing portion having required elasticity provided in the second mold;
When the cavity is filled with resin, the first gap formed by the surface of the semiconductor element and the tip of the enclosing portion surrounding the pressing portion separated from the surface of the semiconductor element in the facing direction is filled with the resin. A resin sealing method, comprising: a step of pouring.
前記第一の間隙に樹脂を流し込む工程は、
押圧により前記押圧部を弾性変形させ、前記押圧部と前記先端との間の前記対向する方向と直交する方向における第二の間隙を閉塞した状態で行う
請求項8に記載の樹脂封止方法。
The step of pouring the resin into the first gap includes:
9. The resin sealing method according to claim 8, wherein the pressing portion is elastically deformed by pressing to close a second gap between the pressing portion and the tip in a direction orthogonal to the facing direction.
前記半導体素子の表面を押圧する工程は、
押圧により前記押圧部を、前記囲み部で囲まれた範囲を前記対向する方向に延長した範囲内で弾性変形させる
請求項8または請求項9に記載の樹脂封止方法。
The step of pressing the surface of the semiconductor element includes:
10. The resin sealing method according to claim 8, wherein the pressing portion is elastically deformed within a range obtained by extending the range surrounded by the enclosing portion in the facing direction.
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