JP7330816B2 - ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法 - Google Patents

ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法 Download PDF

Info

Publication number
JP7330816B2
JP7330816B2 JP2019153381A JP2019153381A JP7330816B2 JP 7330816 B2 JP7330816 B2 JP 7330816B2 JP 2019153381 A JP2019153381 A JP 2019153381A JP 2019153381 A JP2019153381 A JP 2019153381A JP 7330816 B2 JP7330816 B2 JP 7330816B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
pair
torque
input data
attitude estimation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019153381A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2021033068A (ja
Inventor
宏昭 臼本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Holdings Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Holdings Co Ltd filed Critical Screen Holdings Co Ltd
Priority to JP2019153381A priority Critical patent/JP7330816B2/ja
Publication of JP2021033068A publication Critical patent/JP2021033068A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7330816B2 publication Critical patent/JP7330816B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/10Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、平板状のステージを一対の直進機構により水平方向に搬送する搬送装置において、ステージのヨーイング角度を把握する技術に関する。
従来、平板状のステージを搬送しつつ、ステージに保持された基板に対して種々の処理を行う装置が知られている。例えば、特許文献1には、基板(W)を載置したステージ(10)をステージ移動機構(20)により移動させつつ、基板(W)の上面に露光パターンを描画する装置が記載されている。
特開2016-72434号公報
この種の装置に搭載されるステージの搬送装置は、一対の直進機構を備えていえる場合がある。具体的には、互いに平行に設けられた一対のリニアモータにより、ステージを所定の方向に搬送する機構が知られている。
当該搬送装置では、ステージを一定の姿勢で移動させるために、一対の直進機構を均等に動作させる必要がある。しかしながら、一対の直進機構の微小な駆動誤差、リニアモータのガイドの間隙内のエア圧変動、加工誤差等によって、ステージの鉛直軸周りの回転角度(いわゆる「ヨーイング角度」)が僅かに変動する場合がある。このようなヨーイング角度の変動が生じると、ステージに保持された基板に対して、精密な処理を行うことが困難となる。
従来の搬送装置には、上記のヨーイング角度の変動を把握するために、大掛かりな計測装置が搭載されていた。そして、計測装置の計測結果に基づいて、搬送装置の動作が補正されていた。しかしながら、大掛かりな計測装置を搭載すると、搬送装置の小型化が困難となる。また、計測装置を搭載することにより、搬送装置の製造コストも上昇する。
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、大掛かりな計測装置を常時設置することなく、ステージのヨーイング角度を把握できる技術を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本願の第1発明は、平板状のステージを一対の直進機構により水平方向に搬送する搬送装置に搭載されるステージ姿勢推定装置であって、前記一対の直進機構の各々のトルク値を取得するトルク取得部と、前記トルク取得部により取得される一対のトルク値の差分を算出して、入力データを生成する入力データ生成部と、前記入力データから前記ステージのヨーイング角度を推定するための機械学習により得られた学習済みモデルに、前記入力データを入力し、前記ヨーイング角度の推定値を出力する姿勢推定部と、を備える。
本願の第2発明は、第1発明のステージ姿勢推定装置であって、前記入力データ生成部は、前記トルク値の時系列データまたは前記一対のトルク値の差分の時系列データから不要な周波数成分を除去するフィルタ処理を行う。
本願の第3発明は、第1発明または第2発明のステージ姿勢推定装置であって、前記一対の直進機構は、互いに平行に配置された一対のリニアモータを含む。
本願の第4発明は、第3発明のステージ姿勢推定装置であって、前記搬送装置は、制御部と、前記制御部からの指令に従って、前記リニアモータにおいて発生させるべきトルク値を算出し、算出されたトルク値に応じた駆動信号を、前記リニアモータへ供給する制御基板と、を有し、前記トルク取得部は、前記制御基板から、前記トルク値を取得する。
本願の第5発明は、搬送装置であって、第1発明から第4発明までのいずれか1発明のステージ姿勢推定装置と、前記ステージと、前記一対の直進機構と、を備える。
本願の第6発明は、平板状のステージを一対の直進機構により水平方向に搬送する搬送装置において、前記ステージの姿勢を推定するステージ姿勢推定方法であって、a)前記一対の直進機構の各々のトルク値を取得する工程と、b)前記工程a)により取得される一対のトルク値の差分を算出して、入力データを生成する工程と、c)前記入力データから前記ステージのヨーイング角度を推定するための機械学習により得られた学習済みモデルに、前記入力データを入力し、前記ヨーイング角度の推定値を出力する工程と、を有する。
本願の第7発明は、第6発明のステージ姿勢推定方法であって、前記工程b)では、前記トルク値の時系列データまたは前記一対のトルク値の差分の時系列データから不要な周波数成分を除去するフィルタ処理を行う。
本願の第8発明は、第6発明または第7発明のステージ姿勢推定方法であって、前記一対の直進機構は、互いに平行に配置された一対のリニアモータを含む。
本願の第9発明は、第8発明のステージ姿勢推定方法であって、前記搬送装置は、制御部と、前記制御部からの指令に従って、前記リニアモータにおいて発生させるべきトルク値を算出し、算出されたトルク値に応じた駆動信号を、前記リニアモータへ供給する制御基板と、を有し、前記工程a)では、前記制御基板から、前記トルク値を取得する。
本願の第10発明は、搬送方法であって、第6発明から第9発明までのいずれか1発明のステージ姿勢推定方法により推定された前記ヨーイング角度に基づいて、前記搬送装置の動作を補正しつつ、前記ステージを搬送する。
本願の第1発明から第10発明によれば、一対の直進機構のトルク値の差分に基づいて、ステージのヨーイング角度を推定できる。したがって、大掛かりな計測装置を常時設置することなく、ステージのヨーイング角度を把握できる。
特に、本願の第2発明によれば、時系列データから不要な周波数成分を除去することにより、入力データのノイズを低減できる。したがって、ステージのヨーイング角度を、より精度よく推定できる。
特に、本願の第4発明によれば、リニアモータを制御する制御基板とは別に、トルク値を検出するためのセンサを設ける必要がない。
搬送装置を備えた描画装置の斜視図である。 搬送装置を備えた描画装置の概略上面図である。 制御部と描画装置内の各部との電気的接続を示したブロック図である。 搬送装置の一部分を、主走査方向に対して垂直な面で切断したときの部分断面図である。 ステージ姿勢推定装置の構成を示したブロック図である。 事前学習処理の流れを示すフローチャートである。 ステージ姿勢推定装置による推定処理の流れを示したフローチャートである。 搬送装置において取得可能な種々のパラメータと、ステージのヨーイング角度との相関を調べた実験結果のグラフである。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
なお、以下では、水平方向のうち、一対の直進機構によりステージが移動する方向を「主走査方向」と称し、主走査方向に直交する方向を「副走査方向」と称する。
<1.描画装置の構成>
図1は、本発明の一実施形態に係る搬送装置10を備えた描画装置1の斜視図である。図2は、描画装置1の概略上面図である。この描画装置1は、感光材料が塗布された半導体基板やガラス基板等の基板Wの上面に、空間変調された光を照射して、基板Wの上面に露光パターンを描画する装置である。図1および図2に示すように、描画装置1は、搬送装置10、フレーム20、描画処理部30、および制御部40を備える。
搬送装置10は、基台11の上面において、平板状のステージ12を、略一定の姿勢で水平方向に搬送する装置である。搬送装置10は、主走査機構13と副走査機構14とを有する。主走査機構13は、ステージ12を主走査方向に搬送するための機構である。副走査機構14は、ステージ12を副走査方向に搬送するための機構である。基板Wは、ステージ12の上面に水平姿勢で保持され、ステージ12とともに主走査方向および副走査方向に移動する。
搬送装置10のより詳細な構成については、後述する。
フレーム20は、基台11の上方において、描画処理部30を保持するための構造である。フレーム20は、一対の支柱部21と架橋部22とを有する。一対の支柱部21は、副走査方向に間隔をあけて立設されている。各支柱部21は、基台11の上面から上方へ向けて延びる。架橋部22は、2本の支柱部21の上端部の間において、副走査方向に延びる。基板Wを保持したステージ12は、一対の支柱部21の間、かつ、架橋部22の下方を通過する。
描画処理部30は、2つの光学ヘッド31、照明光学系32、レーザ発振器33、およびレーザ駆動部34を有する。2つの光学ヘッド31は、副走査方向に間隔をあけて、架橋部22に固定される。照明光学系32、レーザ発振器33、およびレーザ駆動部34は、例えば、架橋部22の内部空間に収容される。レーザ駆動部34は、レーザ発振器33と電気的に接続されている。レーザ駆動部34を動作させると、レーザ発振器33からパルス光が出射される。そして、レーザ発振器33から出射されたパルス光が、照明光学系32を介して光学ヘッド31へ導入される。
光学ヘッド31の内部には、空間変調器を含む光学系が設けられている。空間変調器には、例えば、回折格子型の空間光変調器であるGLV(Grating Light Valve)(登録商標)が用いられる。光学ヘッド31へ導入されたパルス光は、空間変調器により所定のパターンに変調されて、基板Wの上面に照射される。これにより、基板Wの上面に塗布されたレジスト等の感光材料が露光される。
描画装置1の稼働時には、光学ヘッド31による露光と、搬送装置10による基板Wの搬送とが、繰り返し実行される。具体的には、副走査機構14によりステージ12を副走査方向に搬送しつつ、光学ヘッド31からのパルス光の照射を行うことにより、副走査方向に延びる帯状の領域(スワス)に露光を行った後、主走査機構13によりステージ12を主走査方向に1スワス分だけ搬送する。描画装置1は、このような副走査方向の露光と、主走査方向のステージ12の搬送とを繰り返すことにより、基板Wの上面全体にパターンを描画する。
制御部40は、描画装置1の各部を動作制御するための手段である。図3は、制御部40と、描画装置1内の各部との電気的接続を示したブロック図である。図3中に概念的に示すように、制御部40は、CPU等のプロセッサ41、RAM等のメモリ42、およびハードディスクドライブ等の記憶部43を有するコンピュータにより構成されている。記憶部43には、描画装置1を動作制御するためのコンピュータプログラムPが記憶されている。
また、図3に示すように、制御部40は、描画処理部30(上述した光学ヘッド31およびレーザ駆動部34を含む)、主走査機構13(後述するリニアモータ61およびエアガイド62を含む)、副走査機構14(後述するリニアモータ71を含む)、後述する回転機構15、および各種センサ50と、電気的に接続されている。制御部40は、記憶部43に記憶されたコンピュータプログラムPやデータDをメモリ42に読み出し、当該コンピュータプログラムPおよびデータDに基づいて、プロセッサ41が演算処理を行うことにより、描画装置1内の上記各部を動作制御する。これにより、描画装置1における描画処理が進行する。
<2.搬送装置の構成>
次に、搬送装置10の詳細な構成について、説明する。図4は、搬送装置10の一部分を、主走査方向に対して垂直な面で切断したときの部分断面図である。図1~図4に示すように、搬送装置10は、基台11、ステージ12、主走査機構13、副走査機構14、回転機構15、下段支持プレート16、中段支持プレート17、およびステージ姿勢推定装置18を有する。
基台11は、搬送装置10の各部を支持する支持台である。基台11は、主走査方向および副走査方向に広がる平板状の外形を有する。基台11の下面には、4つの脚部111および2つのダンパ112が設けられている。脚部111およびダンパ112の長さは、個別に調節可能である。したがって、脚部111およびダンパ112の長さを調節することにより、基台11の姿勢を水平に調整できる。
下段支持プレート16、中段支持プレート17、およびステージ12は、それぞれ、平板状の外形を有する。下段支持プレート16は、基台11上において、主走査機構13により主走査方向に移動可能に支持されている。中段支持プレート17は、下段支持プレート16上において、副走査機構14により副走査方向に移動可能に支持されている。ステージ12は、中段支持プレート17上において、回転機構15により鉛直軸周りに回転可能に支持されている。ステージ12は、基板Wを載置可能な上面を有する。また、ステージ12の上面には、基板Wを保持するためのチャックピンや、基板Wを吸着する複数の吸着孔が設けられている。
主走査機構13は、基台11に対して下段支持プレート16を、主走査方向に移動させる機構である。主走査機構13は、一対の直進機構60を有する。一対の直進機構60は、基台11の上面の副走査方向の両端部に設けられている。図2および図4に示すように、一対の直進機構60は、それぞれ、リニアモータ61とエアガイド62とを有する。
リニアモータ61は、固定子611および移動子612を有する。固定子611は、基台11の上面に、主走査方向に沿って敷設されている。すなわち、一対の固定子611は、互いに平行に配置されている。移動子612は、後述するエアベアリング622を介して、下段支持プレート16に固定されている。
また、主走査機構13は、リニアモータ61の動作を制御するための制御基板63を有する。制御基板63には、例えばサーボパック(登録商標)が用いられる。制御基板63は、制御部40と電気的に接続されている。リニアモータ61の駆動時には、制御部40からの指令に従って、制御基板63が、リニアモータ61において発生させるべきトルクを算出する。そして、算出されたトルクに応じた駆動信号を、各リニアモータ61の固定子611へ供給する。そうすると、固定子611と移動子612との間に生じる磁気的な吸引力および反発力によって、移動子612が、固定子611に沿って主走査方向に移動する。
エアガイド62は、ガイドレール621およびエアベアリング622を有する。ガイドレール621は、基台11の上面に、主走査方向に沿って敷設されている。すなわち、リニアモータ61の固定子611と、エアガイド62のガイドレール621とは、互いに平行に配置されている。エアベアリング622は、下段支持プレート16と移動子612とに、固定されている。また、エアベアリング622は、ガイドレール621の上方に配置されている。
図4に示すように、エアベアリング622の下面には、気体吹出口623が設けられている。搬送装置10の稼働時には、工場のユーティリティからエアベアリング622に常に気体が供給され、気体吹出口623からガイドレール621の上面に向けて、加圧された気体が吹き出される。これにより、エアベアリング622は、ガイドレール621上に非接触で浮上支持される。したがって、リニアモータ61を駆動させると、下段支持プレート16は、エアガイド62により浮上支持された状態で、主走査方向に沿って低摩擦で滑らかに移動する。
副走査機構14は、下段支持プレート16に対して中段支持プレート17を、副走査方向に移動させる機構である。副走査機構14は、リニアモータ71と、一対のガイド機構72とを有する。
リニアモータ71は、下段支持プレート16の上面の主走査方向の略中央に設けられている。リニアモータ71は、固定子711および移動子712を有する。固定子711は、下段支持プレート16の上面に、副走査方向に沿って敷設されている。移動子712は、中段支持プレート17に対して固定されている。リニアモータ71の駆動時には、固定子711と移動子712との間に生じる磁気的な吸引力および反発力により、移動子712が、固定子711に沿って副走査方向に移動する。
一対のガイド機構72は、下段支持プレート16の上面の主走査方向の両端部に設けられている。一対のガイド機構72は、それぞれ、ガイドレール721とボールベアリング722とを有する。ガイドレール721は、下段支持プレート16の上面に、副走査方向に沿って敷設されている。ボールベアリング722は、中段支持プレート17の下面に固定されている。また、ボールベアリング722は、ガイドレール721に沿って、副走査方向に移動可能である。したがって、リニアモータ71を駆動させると、中段支持プレート17は、下段支持プレート16に対して、副走査方向に移動する。
回転機構15は、中段支持プレート17に対するステージ12の鉛直軸周りの角度を調整する機構である。回転機構15には、例えばモータが用いられる。モータを動作させると、中段支持プレート17に対してステージ12が、鉛直軸周りに回転する。これにより、ステージ12の鉛直軸周りの角度(ヨーイング角度)θを調整することができる。
このように、ステージ12は、主走査機構13、副走査機構14、および回転機構15により、基台11に対して、主走査方向および副走査方向に移動可能であるとともに、ヨーイング角度θを調整することが可能となっている。
図1および図2に示すように、この搬送装置10には、姿勢計測装置80を設置することが可能である。姿勢計測装置80は、ステージ12のヨーイング角度θを計測するための装置である。姿勢計測装置80は、ステージ12に固定されるミラー81と、レーザ干渉計82とを有する。ミラー81は、ステージ12の主走査方向の端縁部に固定される。レーザ干渉計82は、基台11の上面に固定される。レーザ干渉計82は、ミラー81へ向けて2本のレーザ光を照射する。そして、ミラー81から反射する2本のレーザ光の干渉により、2本のレーザ光の光路差を検出する。そして、当該光路差に基づいて、ステージ12のヨーイング角度θを計測する。
姿勢計測装置80は、後述する事前学習処理を行う場合に設置される。事前学習が完了した後は、姿勢計測装置80を取り外して、搬送装置10を使用することができる。
<3.ステージ姿勢推定装置について>
<3-1.ステージ姿勢推定装置の構成>
続いて、搬送装置10に搭載されるステージ姿勢推定装置18について、説明する。図5は、ステージ姿勢推定装置18の構成を示したブロック図である。ステージ姿勢推定装置18は、主走査機構13の一対の直進機構60のトルク値の差分に基づいて、ステージ12のヨーイング角度θを推定する装置である。図5に示すように、ステージ姿勢推定装置18は、トルク取得部91、入力データ生成部92、および姿勢推定部93を備える。
ステージ姿勢推定装置18は、CPU等のプロセッサ、RAM等のメモリ、およびハードディスクドライブ等の記憶部を有するコンピュータにより構成される。トルク取得部91、入力データ生成部92、および姿勢推定部93の各機能は、記憶部に記憶されたコンピュータプログラムに従ってプロセッサが動作することにより、実現される。なお、ステージ姿勢推定装置18は、上述した制御部40と同一のコンピュータにより構成されていてもよく、制御部40とは別のコンピュータにより構成されていてもよい。
姿勢推定部93は、機械学習により得られる学習済みモデルMを有する。学習済みモデルMを得るための機械学習アルゴリズムとしては、例えば、一層ニューラルネットワークやディープラーニング等を含むニューラルネットワーク、ランダムフォレストや勾配ブースティング等を含む決定木系アルゴリズム、サポートベクトルマシンといった教師あり機械学習アルゴリズムを用いることができる。
<3-2.ステージ姿勢推定装置の事前学習>
続いて、ステージ姿勢推定装置18において予め実行される事前学習処理について、説明する。図6は、事前学習処理の流れを示すフローチャートである。
事前学習処理を行うときには、搬送装置10に、上述した姿勢計測装置80を設置する(ステップS11)。そして、主走査機構13を動作させつつ、次のステップS12~S15を繰り返し実行する。まず、トルク取得部91が、一対の直進機構60の各々のトルク値を取得する(ステップS12)。本実施形態では、トルク取得部91は、上述した制御基板63から、各リニアモータ61のトルク値を取得する。すなわち、制御基板63からトルク取得部91へ、各リニアモータ61のトルク値を示す信号が入力される。
次に、入力データ生成部92が、トルク取得部91により取得された一対のトルク値の差分を算出する(ステップS13)。これにより、左右のリニアモータ61のトルク値の差分が、時系列データとして得られる。その後、入力データ生成部92は、トルク値の差分の時系列データから、不要な周波数成分を除去するフィルタ処理を行う(ステップS14)。例えば、ローパスフィルタにより、予め設定された周波数以上の高周波成分を除去する。これにより、ノイズが低減されたトルク値の差分の時系列データを得ることができる。
続いて、姿勢推定部93は、フィルタ処理後の時系列データを入力データとし、姿勢計測装置80の計測結果を教師データとして、機械学習を行う(ステップS15)。すなわち、姿勢推定部93は、上述した機械学習アルゴリズムにより、フィルタ処理後のトルク値の差分と、姿勢計測装置80の計測結果との関係を学習する。そして、以上のステップS12~S15を繰り返すことにより、フィルタ処理後のトルク値の差分からステージ12のヨーイング角度θを推定するための学習済みモデルMを生成する。
やがて、学習済みモデルMの推定精度が所望のレベルに達したと判断されると、姿勢推定部93は、機械学習を終了する(ステップS16:yes)。そして、搬送装置10から姿勢計測装置80が取り外される(ステップS17)。
<3-3.ステージ姿勢推定装置の推定処理>
続いて、ステージ姿勢推定装置18によるヨーイング角度θの推定処理について、説明する。この推定処理は、上述した事前学習処理が完了した後、搬送装置10を動作させるときに実行される。図7は、推定処理の流れを示したフローチャートである。
推定処理を行うときには、まず、トルク取得部91が、一対の直進機構60の各々のトルク値を取得する(ステップS21)。ここでは、上述したステップS12と同様に、トルク取得部91が、制御基板63から、各リニアモータ61のトルク値を取得する。すなわち、制御基板63からトルク取得部91へ、各リニアモータ61のトルク値を示す信号が入力される。
次に、入力データ生成部92が、トルク取得部91により取得された一対のトルク値の差分を算出する(ステップS22)。これにより、左右のリニアモータ61のトルク値の差分が、時系列データとして得られる。その後、入力データ生成部92は、トルク値の差分の時系列データから、不要な周波数成分を除去するフィルタ処理を行う(ステップS23)。例えば、ローパスフィルタにより、予め設定された周波数以上の高周波成分を除去する。これにより、ノイズが低減されたトルク値の差分の時系列データを得ることができる。
このステップS23のフィルタ処理は、上述した事前学習処理のステップS14のフィルタ処理と、同一の処理であることが好ましい。すなわち、推定処理のステップS21~23においては、制御基板63から得られる一対のトルク値に対して、事前学習処理のステップS12~S14と同一の処理を行うことにより、姿勢推定部93に入力すべき入力データを生成する。
続いて、姿勢推定部93は、生成された入力データを、学習済みモデルMに入力する。そうすると、学習済みモデルMにより、入力データに対応するステージ12のヨーイング角度θが得られる。姿勢推定部93は、このヨーイング角度θを、推定値として出力する(ステップS24)。すなわち、姿勢推定部93は、現時点におけるステージ12のヨーイング角度θを実測することなく、事前学習処理により生成された学習済みモデルMを用いて、ヨーイング角度θの推定値を出力することができる。
その後、制御部40は、姿勢推定部93から出力されるヨーイング角度θの推定値に基づいて、ステージ12のヨーイング角度θを補正する(ステップS25)。具体的には、制御部40は、回転機構15を動作させるか、あるいは、一対のリニアモータ61のいずれかのトルク値を調整する。これにより、ステージ12のヨーイング角度θが、所望の値に近づくように補正される。
以上のように、この搬送装置10においては、ステージ姿勢推定装置18が、一対の直進機構60のトルク値の差分に基づいて、ステージ12のヨーイング角度θを推定する。このため、大掛かりな計測装置を常時設置することなく、ステージ12のヨーイング角度θを把握できる。上述のように、ステージ12のヨーイング角度θを実測する姿勢計測装置80は、事前学習処理を行うときにのみ設置すればよい。事前学習が完了した後の動作時においては、姿勢計測装置80を取り外して、装置のフットプリントを低減させることができる。また、姿勢計測装置80は、複数の搬送装置10で共有することができるため、姿勢計測装置80にかかるコストを低減できる。
特に、本実施形態のステージ姿勢推定装置18は、リニアモータ61を制御する制御基板63からトルク値の情報を取得する。このため、制御基板63とは別に、リニアモータ61のトルク値を計測するためのセンサを設ける必要がない。これにより、搬送装置10の構造をより簡略化できる。
また、本実施形態のステージ姿勢推定装置18は、事前学習処理および推定処理において、一対のトルク値の差分の時系列データから、不要な周波数成分を除去するフィルタ処理を行う(ステップS14,S23)。これにより、ノイズが低減された入力データを使用することができる。その結果、機械学習をより精度よく行うことができるとともに、推定処理においてステージ12のヨーイング角度θをより精度よく推定できる。
<4.トルク値の差分とヨーイング角度の相関について>
図8は、上述した搬送装置10と同等の構成を有する実際の装置において、取得可能な種々のパラメータと、ステージ12のヨーイング角度θとの相関を調べた実験結果のグラフである。具体的には、一対のリニアモータ61のトルク値の差分、1つのリニアモータ61のトルク値、移動子612の加速度、エアガイド62の空圧、および搬送装置10の動作音のそれぞれについて、姿勢計測装置80により計測されるステージ12のヨーイング角度θとの相関値を算出した。相関値としては、最大相互情報量(MIC)を用いた。
図8の結果を見ると、一対のリニアモータ61のトルク値の差分は、他のパラメータと比べて、ステージ12のヨーイング角度θとの相関が特に強いことが分かる。したがって、トルク値の差分を入力データとし、ステージ12のヨーイング角度θの実測値を教師データとして、機械学習を行えば、ヨーイング角度θを精度よく推定できる学習済みモデルMを得ることが可能であることが分かる。
<5.変形例>
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。
上記の実施形態では、トルク取得部91は、リニアモータ61のトルク値を、制御基板63から取得していた。しかしながら、トルク取得部91は、他の方法で、リニアモータ61のトルク値を取得してもよい。例えば、直進機構60の各リニアモータ61にトルクセンサを取り付け、そのトルクセンサからトルク値を取得してもよい。
また、上記の実施形態では、入力データ生成部92が、一対のトルク値の差分を算出した後、差分の時系列データに対してフィルタ処理を行っていた。しかしながら、入力データ生成部92は、一対のトルク値のそれぞれの時系列データに対してフィルタ処理を行い、フィルタ処理後に、一対のトルク値の差分を算出してもよい。また、フィルタ処理は省略してもよい。
また、上記実施形態の搬送装置10は、主走査機構13だけではなく、副走査機構14および回転機構15を備えていた。しかしながら、本発明は、副走査機構14および回転機構15を備えていない搬送装置を対象とするものであってもよい。
また、上記実施形態の搬送装置10は、描画装置1に搭載されていた。しかしながら、本発明は、描画装置1以外の装置に搭載される搬送装置を対象とするものであってもよい。例えば、搬送装置は、ステージ上に保持された基板に対して処理液を塗布する装置に搭載されるものであってもよい。また、搬送装置は、ステージ上に保持された記録媒体に対して印刷を行う装置に搭載されるものであってもよい。
また、上記の実施形態では、事前学習処理において、レーザ干渉計82により、ステージ12のヨーイング角度θを実測していた。しかしながら、ステージ12のヨーイング角度θは、他の方法で実測してもよい。例えば、カメラにより取得したステージ12の画像に基づいて、ステージ12のヨーイング角度θを実測してもよい。
また、上記の実施形態の直進機構60は、リニアモータ61を有するものであった。しかしながら、リニアモータ61に代えて、回転モータから出力される回転運動をボールネジにより直進運動に変換する機構を用いてもよい。
また、上記の実施形態や変形例に登場した各要素を、矛盾が生じない範囲で、適宜に組み合わせてもよい。
1 描画装置
10 搬送装置
11 基台
12 ステージ
13 主走査機構
14 副走査機構
15 回転機構
16 下段支持プレート
17 中段支持プレート
18 ステージ姿勢推定装置
20 フレーム
30 描画処理部
40 制御部
50 センサ
60 直進機構
61 リニアモータ
62 エアガイド
63 制御基板
80 姿勢計測装置
91 トルク取得部
92 入力データ生成部
93 姿勢推定部
611 固定子
612 移動子
W 基板
M 学習済みモデル
θ ヨーイング角度

Claims (10)

  1. 平板状のステージを一対の直進機構により水平方向に搬送する搬送装置に搭載されるステージ姿勢推定装置であって、
    前記一対の直進機構の各々のトルク値を取得するトルク取得部と、
    前記トルク取得部により取得される一対のトルク値の差分を算出して、入力データを生成する入力データ生成部と、
    前記入力データから前記ステージのヨーイング角度を推定するための機械学習により得られた学習済みモデルに、前記入力データを入力し、前記ヨーイング角度の推定値を出力する姿勢推定部と、
    を備えた、ステージ姿勢推定装置。
  2. 請求項1に記載のステージ姿勢推定装置であって、
    前記入力データ生成部は、前記トルク値の時系列データまたは前記一対のトルク値の差分の時系列データから不要な周波数成分を除去するフィルタ処理を行う、ステージ姿勢推定装置。
  3. 請求項1または請求項2に記載のステージ姿勢推定装置であって、
    前記一対の直進機構は、互いに平行に配置された一対のリニアモータを含む、ステージ姿勢推定装置。
  4. 請求項3に記載のステージ姿勢推定装置であって、
    前記搬送装置は、
    制御部と、
    前記制御部からの指令に従って、前記リニアモータにおいて発生させるべきトルク値を算出し、算出されたトルク値に応じた駆動信号を、前記リニアモータへ供給する制御基板と、
    を有し、
    前記トルク取得部は、前記制御基板から、前記トルク値を取得する、ステージ姿勢推定装置。
  5. 請求項1から請求項4までのいずれか1項に記載のステージ姿勢推定装置と、
    前記ステージと、
    前記一対の直進機構と、
    を備えた、前記搬送装置。
  6. 平板状のステージを一対の直進機構により水平方向に搬送する搬送装置において、前記ステージの姿勢を推定するステージ姿勢推定方法であって、
    a)前記一対の直進機構の各々のトルク値を取得する工程と、
    b)前記工程a)により取得される一対のトルク値の差分を算出して、入力データを生成する工程と、
    c)前記入力データから前記ステージのヨーイング角度を推定するための機械学習により得られた学習済みモデルに、前記入力データを入力し、前記ヨーイング角度の推定値を出力する工程と、
    を有する、ステージ姿勢推定方法。
  7. 請求項6に記載のステージ姿勢推定方法であって、
    前記工程b)では、前記トルク値の時系列データまたは前記一対のトルク値の差分の時系列データから不要な周波数成分を除去するフィルタ処理を行う、ステージ姿勢推定方法。
  8. 請求項6または請求項7に記載のステージ姿勢推定方法であって、
    前記一対の直進機構は、互いに平行に配置された一対のリニアモータを含む、ステージ姿勢推定方法。
  9. 請求項8に記載のステージ姿勢推定方法であって、
    前記搬送装置は、
    制御部と、
    前記制御部からの指令に従って、前記リニアモータにおいて発生させるべきトルク値を算出し、算出されたトルク値に応じた駆動信号を、前記リニアモータへ供給する制御基板と、
    を有し、
    前記工程a)では、前記制御基板から、前記トルク値を取得する、ステージ姿勢推定方法。
  10. 請求項6から請求項9までのいずれか1項に記載のステージ姿勢推定方法により推定された前記ヨーイング角度に基づいて、前記搬送装置の動作を補正しつつ、前記ステージを搬送する、搬送方法。
JP2019153381A 2019-08-26 2019-08-26 ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法 Active JP7330816B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019153381A JP7330816B2 (ja) 2019-08-26 2019-08-26 ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019153381A JP7330816B2 (ja) 2019-08-26 2019-08-26 ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021033068A JP2021033068A (ja) 2021-03-01
JP7330816B2 true JP7330816B2 (ja) 2023-08-22

Family

ID=74678187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019153381A Active JP7330816B2 (ja) 2019-08-26 2019-08-26 ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7330816B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7379183B2 (ja) 2020-01-28 2023-11-14 株式会社Screenホールディングス ステージ姿勢推定装置、搬送装置、およびステージ姿勢推定方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012235165A (ja) 2006-02-21 2012-11-29 Nikon Corp パターン形成装置及びパターン形成方法、移動体駆動システム及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03296208A (ja) * 1990-04-16 1991-12-26 Toshiba Corp テーブル送り制御装置
JPH0798256A (ja) * 1993-09-29 1995-04-11 Canon Inc 駆動力測定装置
JPH0836556A (ja) * 1994-07-26 1996-02-06 Mazda Motor Corp 車両のヨーレート推定方法及びその装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012235165A (ja) 2006-02-21 2012-11-29 Nikon Corp パターン形成装置及びパターン形成方法、移動体駆動システム及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021033068A (ja) 2021-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Heertjes et al. Constrained iterative feedback tuning for robust control of a wafer stage system
JP5247013B2 (ja) イオンビーム加工方法および装置
TW202043949A (zh) 微影裝置、元件製造方法及相關資料處理裝置與電腦程式產品
JP2006222312A (ja) ステージ制御装置及びその方法、ステージ装置並びに露光装置
TWI520807B (zh) 雷射加工裝置
JP7330816B2 (ja) ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法
TWI647739B (zh) 圖案形成裝置及圖案形成方法
US10804067B2 (en) Charged particle beam apparatus comprising a controller to set control parameters based on movement of the sample stage
US11480885B2 (en) Apparatus for and method cleaning a support inside a lithography apparatus
JP7379183B2 (ja) ステージ姿勢推定装置、搬送装置、およびステージ姿勢推定方法
JP7263121B2 (ja) データ収集方法、学習方法、データ収集システムおよび学習システム
JP2002126964A (ja) 位置決めステージの制御装置
WO2018020625A1 (ja) 荷電粒子線装置
JP7374790B2 (ja) 搬送装置および搬送方法
JP7242422B2 (ja) ステージ姿勢把握装置、ステージ移動装置、ステージ姿勢把握方法、およびステージ姿勢修正方法
WO2024135059A1 (ja) 露光装置、露光方法、および機械学習モデルの作成方法
KR20220046483A (ko) 위치결정 장치, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법
JP4580600B2 (ja) ガルバノスキャナの制御方法、装置、及び、ガルバノスキャナ
JP2022046317A (ja) 制御装置およびその調整方法、リソグラフィー装置、ならびに、物品製造方法
KR20200078390A (ko) 반송 장치, 기판 처리 장치, 및 물품 제조 방법
JP6316084B2 (ja) リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP6436521B2 (ja) ワーク溝検査装置及び検査方法
JP6438219B2 (ja) ステージ装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法、および決定方法
WO2022190706A1 (ja) 露光方法および露光装置
JP2007025888A (ja) 制御装置及び制御方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220617

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230307

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230502

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230801

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230809

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7330816

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150