JP7329047B2 - 衝撃荷重を分配するための複数パッド型レチクルバンパー - Google Patents
衝撃荷重を分配するための複数パッド型レチクルバンパー Download PDFInfo
- Publication number
- JP7329047B2 JP7329047B2 JP2021526546A JP2021526546A JP7329047B2 JP 7329047 B2 JP7329047 B2 JP 7329047B2 JP 2021526546 A JP2021526546 A JP 2021526546A JP 2021526546 A JP2021526546 A JP 2021526546A JP 7329047 B2 JP7329047 B2 JP 7329047B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bumper
- reticle
- arm
- stiffness
- rigid linkage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70983—Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Vibration Dampers (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
関連出願の相互参照
本出願は、2018年11月16日に出願された米国仮出願62/768,161号の優先権を主張し、その全体が本明細書に援用される。
本出願は、2018年11月16日に出願された米国仮出願62/768,161号の優先権を主張し、その全体が本明細書に援用される。
本開示は、リソグラフィ装置およびシステムにおけるレチクルのための安全機構たとえばバンパー装置に関する。
リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に与えるように構築される機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路(IC)の製造に用いられる。リソグラフィ装置は、例えば、基板に設けられた放射感応性材料(レジスト)層へとパターニングデバイス(例えばマスク、レチクル)のパターンを投影してもよい。
パターンを基板に投影するために、リソグラフィ装置は電磁放射を使用してもよい。この放射の波長が基板に形成することのできるフィーチャの最小サイズを定める。4~20nmの範囲内(例えば6.7nmまたは13.5nm)の波長をもつ極紫外(EUV)放射を使用するリソグラフィ装置が、例えば193nmの波長をもつ放射を使用するリソグラフィ装置よりも小さいフィーチャを基板に形成するために使用されてもよい。
レチクルクランプ機能の喪失、例えば、電源の喪失または真空の喪失の間、レチクルは、レチクルステージの他の構成要素に衝突し、レチクルおよび/または他の近傍の構成要素に損傷を与えるかもしれない。レチクルは、レチクルステージの衝突前の動きおよび運動量に依存するが、大きな力(すなわち高加速度)で衝突する可能性がある。レチクル周囲の構成要素が強すぎる場合、衝突によってレチクルに損傷(例えば、亀裂、傷、粒子汚染など)が生じうる。レチクル周囲の構成要素が弱すぎる場合、衝突によってレチクルの衝撃力に起因してそれら構成要素が損傷または破壊されうる。信頼性が高く、均一かつ効率的な方法で、衝突時のレチクルおよび/または他の近傍の構成要素への損傷を軽減する必要がある。
いくつかの実施形態では、レチクルのためのバンパー装置は、第1アームと第2アームを含む。いくつかの実施形態では、第1アームは、第1方向に沿ってレチクルに接触するように構成されている。いくつかの実施形態では、第2アームは、第2方向に沿ってレチクルに接触するように構成されている。いくつかの実施形態では、第1アームは、第1アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーを含む。いくつかの実施形態では、第1アームは、第1バンパーに隣接し、第1アームの近位端に向かって配置された第2バンパーを含む。いくつかの実施形態では、第1バンパーは、第1剛性リンケージを含む。いくつかの実施形態では、第2バンパーは、第2剛性リンケージを含む。いくつかの実施形態では、第1バンパーおよび第2バンパーは、レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されている。
いくつかの実施形態では、第2アームは、第2アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーを含む。いくつかの実施形態では、第2アームは、第1バンパーに隣接し、第2アームの近位端に向かって配置された第2バンパーを含む。いくつかの実施形態では、第2アームの第1バンパーは、第1剛性リンケージを含む。いくつかの実施形態では、第2アームの第2バンパーは、第2剛性リンケージを含む。
いくつかの実施形態では、第1剛性リンケージの剛性は、第2剛性リンケージの剛性に等しい。いくつかの実施形態では、第1剛性リンケージの剛性は、第2剛性リンケージの剛性よりも小さい。いくつかの実施形態では、第1方向は、第2方向と直交している。いくつかの実施形態では、第1アームおよび第2アームは、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金を含む。
いくつかの実施形態では、リソグラフィ装置は、レチクルステージと、レチクルステージ上に配置されたレチクルと、レチクルに隣接して配置されたレチクルケージとを含む。いくつかの実施形態では、レチクルケージは、レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されている。いくつかの実施形態では、レチクルケージは、レチクルに接触するように構成されたアームを含む。いくつかの実施形態では、アームは、アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、第1バンパーに隣接し、アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを含む。いくつかの実施形態では、第1バンパーは、第1剛性リンケージを含み、第2バンパーは、第2剛性リンケージを含む。
いくつかの実施形態では、アームは、第2バンパーに隣接し、アームの近位端に向かって配置された第3バンパーを含む。いくつかの実施形態では、第3バンパーは、第3剛性リンケージを含む。いくつかの実施形態では、第1剛性リンケージの剛性は、第2剛性リンケージの剛性よりも小さく、第2剛性リンケージの剛性は、第3剛性リンケージの剛性よりも小さい。いくつかの実施形態では、第1剛性リンケージの剛性、第2剛性リンケージの剛性、および第3剛性リンケージの剛性が等しい。
いくつかの実施形態では、アームは、複数の追加バンパーを含む。いくつかの実施形態では、複数の追加バンパーは、複数の剛性リンケージを含む。いくつかの実施形態では、複数の剛性リンケージの剛性は、アームの遠位端から近位端に向かって増加する。いくつかの実施形態では、レチクルケージは、レチクルの外周に沿って配置されるとともに、レチクルの衝撃力を複数の衝撃位置に均一に分配するように構成されている。いくつかの実施形態では、アームの第1剛性リンケージおよび第2剛性リンケージは、レチクルの衝撃力が第1バンパーと第2バンパーの間で均等に分配されるように、制御された剛性分布を有する。
いくつかの実施形態では、レチクルの衝撃力を低減する方法は、バンパー装置をレチクルに隣接して配置することを含む。いくつかの実施形態では、バンパー装置は、アームによってレチクルに接触する。いくつかの実施形態では、アームは、アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、第1バンパーに隣接し、アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを含む。いくつかの実施形態では、第1バンパーが第1剛性リンケージを含み、第2バンパーが第2剛性リンケージを含む。いくつかの実施形態では、レチクルの衝撃力を低減する方法は、さらに、レチクルの衝撃力を第1バンパーと第2バンパーの間で均一に分配することを含む。
いくつかの実施形態では、レチクルの衝撃力を低減する方法は、レチクルの衝撃力を第1剛性リンケージおよび第2剛性リンケージに沿って再分配するように第1バンパーおよび第2バンパーを屈曲させることをさらに含む。いくつかの実施形態では、レチクルの衝撃力を低減する方法は、レチクルの衝撃力が低減されるように、レチクルとバンパー装置との間を最小のギャップ距離とするようにバンパー装置を位置決めすることをさらに含む。
本発明の更なる特徴および利点は、本発明の種々の実施形態の構造および動作とともに、付属の図面を参照しつつ以下に詳しく説明される。本発明は本明細書に述べる特定の実施形態には限定されないものと留意されたい。こうした実施形態は例示の目的のために提示されるにすぎない。付加的な実施形態は、本明細書に含まれる教示に基づいて関連技術分野の当業者には明らかであろう。
付属の図面は本明細書に組み込まれてその一部をなし、本発明を図示するものであり、発明の詳細な説明とともに本発明の原理を説明し本発明を関連技術分野の当業者が製造し使用可能とするために供されるものである。本発明のいくつかの実施形態が添付の図面を参照して以下に説明されるがこれらは例示に過ぎない。
本発明の特徴および利点は、同様の参照文字が対応する要素を特定する本図面に関連付けて後述される発明の詳細な説明によって、より明らかとなろう。図面において同様の参照番号は大概、同一の要素、機能的に類似の要素、および/または、構造的に類似の要素を指し示す。また、一般に、参照番号の左端の桁は、その参照番号が最初に現れる図面を表す。そうではないと指示されない限り、本開示を通じて提供される図面は原寸通りの図面であると解すべきではない。
この明細書は、この発明の特徴を組み込んだ1つ又は複数の実施形態を開示する。開示された実施形態は単に本発明を例示するにすぎない。本発明の範囲は開示された実施形態には限定されない。本発明は添付の特許請求の範囲により定義される。
説明される実施形態、および本明細書での「一つの実施形態」、「ある実施形態」、「例示的な実施形態」等への言及は、説明される実施形態が特定の特徴、構造または特性を備えてもよいが、必ずしもあらゆる実施形態がその特定の特徴、構造または特性を備える必要はないことを示している。また、このような表現は同一の実施形態を必ずしも指し示すものではない。さらに、ある実施形態に関連してある特定の特徴、構造または特性が説明される場合、明示的に述べたか否かに関わらず、そのような特徴、構造または特性を他の実施形態に結び付けて実現することは当業者の知識内であると理解されたい。
本書では説明を容易にするために、「下方」、「下部」、「上方」、「上部」などの空間的に相対的な用語を使用して、図面に示されるある要素または特徴と別の要素または特徴との関係を説明することがある。このような空間的に相対的な用語は、図示される向きに加えて、使用時や動作時における装置の異なる向きを包含することを意図している。本装置は、他の向き(90度回転した状態や他の向き)とされてもよく、本書で使用される空間的に相対的な説明もそれに応じて同様に解釈されうる。
本書で使用される「約」という用語は、特定の技術に基づいて変化しうる所与の量の値を示すものである。特定の技術に基づいて、「約」という用語は、例えば、値の10~30%(例えば、値の±10%、±20%、または±30%)の範囲内で変化する所与の量の値を示すことができる。
本開示の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、またはそれらの任意の組み合わせで実装されてもよい。また、本開示の実施形態は、1つ又は複数のプロセッサにより読み込まれ、実行されうる機械可読媒体に保存された命令として実装されてもよい。機械可読媒体は、機械(例えば、コンピュータデバイス)により読み取り可能な形式の情報を保存または伝送する任意のメカニズムを含んでもよい。例えば、機械可読媒体は、読み出し専用メモリ(ROM)、ランダムアクセスメモリ(RAM)、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリ装置、電気的、光学的、音響的またはその他の形式の伝搬信号(例えば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号)などである。さらに、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、および/または命令は、特定の動作を実行するものとして本書に説明されうる。しかしながら、このような説明は単に便宜上のためだけであり、このような動作は実際には、コンピュータデバイス、プロセッサ、コントローラ、またはその他のデバイスがファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行して、アクチュエータまたは他の装置に現実世界と相互作用を生じさせるものであると理解すべきである。
しかしながら、こうした実施形態をより詳細に説明する前に、本開示の実施形態を実装しうる例示的な環境を提示することは有益である。
例示的なリソグラフィシステム
図1は、放射源SOとリソグラフィ装置LAとを備えるリソグラフィシステムを示す。放射源SOは、EUV放射ビームBを生成し、リソグラフィ装置LAにEUV放射ビームBを供給するように構成されている。リソグラフィ装置LAは、照明システムILと、パターニングデバイスMA(例えば、マスク)を支持するように構成された支持構造MTと、投影システムPSと、基板Wを支持するように構成された基板テーブルWTとを備える。
照明システムILは、EUV放射ビームBがパターニングデバイスMAに入射する前に、EUV放射ビームBを調整するように構成されている。そのために、照明システムILは、ファセットフィールドミラーデバイス10およびファセット瞳ミラーデバイス11を含んでもよい。ファセットフィールドミラーデバイス10およびファセット瞳ミラーデバイス11は共に、所望の断面形状および所望の強度分布を有するEUV放射ビームBを提供する。照明システムILは、ファセットフィールドミラーデバイス10およびファセット瞳ミラーデバイス11に加えて、またはその代わりに、他のミラーまたはデバイスを含んでもよい。
このように調整された後、EUV放射ビームBは、パターニングデバイスMAと相互作用する。この相互作用の結果、パターニングされたEUV放射ビームB’が生成される。投影システムPSは,パターニングされたEUV放射ビームB’を基板Wに投影するように構成されている。そのために、投影システムPSは、パターニングされたEUV放射ビームB’を、基板テーブルWTによって保持された基板Wに投影するように構成された複数のミラー13、14を備えてもよい。投影システムPSは、パターニングされたEUV放射ビームB’に縮小率を適用して、パターニングデバイスMA上の対応するフィーチャよりも小さいフィーチャを有する像を形成してもよい。例えば、4倍または8倍の縮小率が適用されてもよい。図1では投影システムPSは2つのミラー13、14のみを有するものとして図示されているが、投影システムPSは異なる数のミラー(例えば6つまたは8つのミラー)を含んでもよい。
基板Wは、以前に形成されたパターンを含んでもよい。このような場合、リソグラフィ装置LAは、パターニングされたEUV放射ビームB’によって形成される像を、基板W上に以前に形成されたパターンと位置合わせする。
相対的な真空、すなわち、大気圧よりも十分に低い圧力の少量のガス(例えば水素)が、放射源SO、照明システムIL、および/または投影システムPSに与えられてもよい。
放射源SOは、レーザー生成プラズマ(LPP)源、放電生成プラズマ(DPP)源、自由電子レーザー(FEL)、またはEUV放射を生成することが可能な他の放射源であってもよい。
例示的なレチクルステージおよびレチクルケージシステム
図2から図4は、本開示のいくつかの実施形態に係り、例示的なレチクルステージ200の概略図である。レチクルステージ200は、トップステージ表面202、ボトムステージ表面204、サイドステージ表面206、レチクル208、およびレチクルケージ300を含むことができる。いくつかの実施形態では、レチクルケージ300の一部は、レチクル208およびレチクルケージ300への損傷を低減または完全に除去できるように、衝突によって発生する可能性のある力または衝撃を吸収するためにレチクル208の周囲で使用することができるショックアブソーバを有するバンパー装置400を含むことができる。いくつかの実施形態では、レチクル208を有するレチクルステージ200は、リソグラフィ装置LAに実装することができる。例えば、リソグラフィ装置LAにおいて、レチクルステージ200は、支持構造MTであってもよく、レチクル208は、パターニングデバイスMAであってもよい。いくつかの実施形態では、レチクル208およびレチクルケージ300は、トップステージ表面202上に配置されうる。例えば、図2に示すように、レチクル208は、レチクルケージ300がレチクル208の各角部に隣接して配置されるようにして、トップステージ表面202の中央に配置されうる。
いくつかのリソグラフィ装置、例えばリソグラフィ装置LAでは、レチクルステージまたはチャック200を使用して、走査またはパターニング動作のためにレチクル208を保持および位置決めすることができる。レチクルステージ200は、それを支持するために、強力な駆動装置、大きなバランスマス、および重いフレームを必要とする。レチクルステージ200は大きな慣性を持っており、約0.5kgのレチクル208を推進させ位置決めするために、500kg以上の重さになることがある。リソグラフィ走査またはパターニング動作で典型的に見られるレチクル208の往復運動を達成するために、加速力および減速力がレチクルステージ200を駆動するリニアモータによって提供されうる。
例えば大規模な電源喪失または深刻なシステム故障によるレチクルステージ200の壊滅的な故障の際、ステージが大きな加速力および減速力を受け続けている間に、レチクルがレチクルステージから離脱する可能性がある。レチクル208は、レチクルステージ200の他の構成要素に衝突し、レチクル208および/または他の近傍の構成要素に損傷を与える可能性がある。レチクル208は、レチクルステージ200の衝突前の動きおよび運動量に依存するが、大きな力(すなわち高加速度)で衝突する可能性がある。レチクル208を取り囲む構成要素(例えば、レチクルケージ300)が強すぎる場合、衝突によってレチクル208に損傷(例えば、亀裂、傷、粒子汚染など)が生じうる。レチクル208を取り囲む構成要素(例えば、レチクルケージ300)が弱すぎる場合、衝突によってレチクル208の衝撃力に起因してそれら構成要素が損傷または破壊されうる。現在の方法では、衝突時のレチクルの力を低減または減少させるために、何らかの形の安全機構を使用している。しかし、最悪のケースの衝突ではレチクルの衝撃応力(力)が大きいため、レチクルおよび/または現在の安全機構に損傷が発生する可能性がある。
1つの可能な解決策は、安全機構、例えば、レチクルケージ300をレチクル208の周りに配置して、衝突時にレチクル208の衝撃力を低減するためのショックアブソーバとして機能させることである。例えば、レチクル208およびレチクルケージ300への損傷を低減または完全に除去できるように、衝突によって発生する可能性のある力または衝撃を吸収するために、例えば、第1アーム410および第2アーム430などのショックアブソーバを有するバンパー装置400をレチクル208の周囲に使用することができる。そのようなショックアブソーバは、全体的または部分的に弾力性のある材料(例えば、高降伏強度)によって、および/または、例えば、バッファ、ダンパ、バネなどの能動的または受動的な衝撃吸収デバイスを設けることによって、実装することができる。例えば、レチクル208は、4つの安全機構、例えば、レチクル208の角に隣接して配置された独立したバンパー装置400を有するレチクルケージ300によって拘束されてもよい。
いくつかの実施形態では、図2および図3に示すように、レチクルステージ200は、位置決め動作のための第1エンコーダ212および第2エンコーダ214を含むことができる。例えば、第1および第2エンコーダ212、214は、干渉計とすることができる。第1エンコーダ212は、レチクルステージ200の第1方向、例えば横方向(すなわちX方向)に沿って取り付けられてもよく、第2エンコーダ214は、レチクルステージ200の第2方向、例えば縦方向(すなわちY方向)に沿って取り付けられてもよい。いくつかの実施形態では、図2および図3に示すように、第1エンコーダ212は、第2エンコーダ214と直交することができる。
図2から図4に示すように、レチクルステージ200は、1つ又は複数のレチクルケージ300を含むことができる。レチクルケージ300は、衝突時にレチクル208を固定し、損傷を低減するように構成されうる。レチクルケージ300は、衝突時のレチクル208の衝撃力を均一に分配するように構成されうる。いくつかの実施形態では、複数のレチクルケージ300が、トップステージ表面202に配置され、レチクル208の外周に沿って設けられうる。例えば、複数のレチクルケージ300は、レチクル208の衝撃力を複数の衝撃位置に均一に分配するように、レチクル208の各角部に隣接して配置されることができる。
例えば図4に示すように、レチクルケージ300は、本体302、固定機構304、安全ラッチ306、およびバンパー装置400を含むことができる。レチクルケージ300は、例えば、金属またはセラミックなどの剛性材料とすることができる。いくつかの実施形態では、レチクルケージ300の本体302は、レチクルステージ200の一部を通って延びていてもよい。例えば、本体302は、円筒形であり、レチクル208の角部との厳密な位置合わせのために、トップステージ表面202を通って延びていてもよい。いくつかの実施形態では、レチクルケージ300は、1つ又は複数の固定機構304を用いてトップステージ表面202に固定することができる。例えば、固定機構304は、ボルトとすることができる。いくつかの実施形態では、安全ラッチ306は、衝突時にレチクル208を固定(すなわち捕捉)して、レチクル208への損傷を低減するように構成されうる。例えば、安全ラッチ306は、レチクル208の上面の上で延在し、トップステージ表面202に垂直な方向(すなわちZ方向)へのレチクル208の移動を防止するように構成されてもよい。
例示的なバンパー装置
フックの法則では、バネ(エネルギーを蓄える弾性体)をある距離dだけ伸長または圧縮するのに必要な力(F)は、その距離に対して直線的に増減し、F=k・dである。ここで、kはバネの剛性(例えば、そのバネに固有の正の定数)である。剛性とは、力を加えたときに物体がどの程度変形しにくいかを示すものである。ばねに外力Fextが加わるとき、ばねには復元力が働き、Fext=k・Δdである。
図4から図6は、本開示のいくつかの実施形態に係り、例示的なバンパー装置400の概略図である。バンパー装置400は、レチクル208に接触するように構成されてもよい。バンパー装置400は、衝突時にレチクル208の衝撃応力または衝撃力を正確かつ均一に(例えば、均等に)分配するように構成されてもよい。バンパー装置400は、衝突時のレチクル208および/またはレチクルケージ300の損傷を低減するように構成されてもよい。レチクル208に対する衝撃応力または衝撃力の低減を達成するために、様々な幾何学的形状およびバンパー材料を使用することができる。例えば、図4に示すように、バンパー装置400は、L字型または凹型の六角形に配置されてもよい。バンパー装置400は、例えば、金属またはセラミックなどの剛性材料とすることができる。いくつかの実施形態では、バンパー装置400は、高降伏強度材料とすることができる。例えば、バンパー装置400は、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))であってもよい。
いくつかの実施形態では、バンパー装置400は、衝突時のレチクル208の衝撃力を低減するために、レチクル208とバンパー装置400との間を最小のギャップ距離とするように位置決めされてもよい。例えば、レチクル208とバンパー装置400との間の最小ギャップ距離は、少なくとも1.0mmであってもよい。いくつかの実施形態では、バンパー装置400は、走査または位置決め動作の大部分において、レチクル208とバンパー装置400との間を最小ギャップ距離とするように位置決めされてもよい。例えば、バンパー装置400は、レチクル交換プロセスの間を除いて常に、最小ギャップ距離、例えば1.0mmにあってもよい。
図4に示すように、バンパー装置400は、延長部402、第1アーム410、および第2アーム430を含むことができる。いくつかの実施形態では、第1および第2アーム410、430は、延長部402によってレチクルケージ300の本体302に接続することができる。例えば、延長部402は、第1および第2アーム410、430と一体化されていてもよい。第1アーム410は、遠位端406および遠位端406とは反対側の近位端407を含むことができる。第2アーム430は、遠位端408および遠位端408とは反対側の近位端409を含むことができる。いくつかの実施形態では、第2アーム430は、バンパー装置400から省略されてもよい。第1および第2アーム410、430は、任意の形状またはサイズ、および任意の材料でありうる。いくつかの実施形態では、第1および第2アーム410、430は、高降伏強度材料とすることができる。例えば、第1および第2アーム410、430は、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))とすることができる。いくつかの実施形態では、第1アーム410は、レチクル208の第1方向に沿って延在してもよく、第2アーム430は、レチクル208の第2方向に沿って延在してもよい。例えば、図4に示すように、第1方向(すなわちX方向)は、第2方向(すなわちY方向)に直交してもよい。
図5および図6に示すように、バンパー装置400の第1アーム410は、第1バンパー412および第2バンパー414を含むことができる。第1バンパー412は、遠位端406に向かって配置されることができ、第2バンパー414は、第1バンパー412に隣接し、近位端407に向かって配置されることができる。第1バンパー412は、剛性k1を有する第1剛性リンケージ424を含むことができる。第2バンパー414は、剛性k2を有する第2剛性リンケージ426を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図6に示すように、第1および第2バンパー412、414は、第1および第2バンパーパッド418、420をそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2バンパーパッド418、420は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2剛性リンケージ424、426がそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
第1および第2バンパー412、414は、衝突時のレチクル208の衝撃力または衝撃エネルギーを、それぞれ第1および第2剛性リンケージ424、426に沿って均一に再分配または散逸させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1および第2剛性リンケージ424、426は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1および第2バンパー412、414の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、第1バンパー412に及ぼされる第1の力F1が、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2と等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を2分の1に低減することができるように設計されることができる。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))の単一片から製作されることができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工されることができる。
いくつかの実施形態では、図5および図6に示すように、第1アーム410は、第3バンパー416を含むことができる。例えば、第3バンパー416は、近位端407に向かって配置され、第2バンパー414に隣接することができる。第3バンパー416は、剛性k3を有する第3剛性リンケージ428を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1、剛性k2、および剛性k3は等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよく、剛性k2は、剛性k3よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図6に示すように、第3バンパー416は、第3バンパーパッド422を含むことができる。例えば、第3バンパーパッド422は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第3剛性リンケージ428がレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、第1、第2、および第3剛性リンケージ424、426、428は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1、第2、および第3バンパー412、414、416の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1、k2、およびk3)は、第1バンパー412に及ぼされる第1の力F1、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2、および第3バンパー416に及ぼされる第3の力F3が等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を3分の1に低減することができるように、設計することができる。この原理(例えば、ウィップルツリーまたはウィッフルツリーモデル)は、レチクル208の衝撃力をn’分の1に低減するように拡張することができる。ここで、n’は、第1アーム410上のバンパーの数である。
いくつかの実施形態では、第1アーム410は、複数のバンパー、またはバンパーのアレイを含むことができる。例えば、図5および図6に示すように、複数のバンパーまたはアレイは、第1バンパー412、第2バンパー414、および/または第3バンパー416を含むことができる。いくつかの実施形態では、複数のバンパーは、複数の剛性リンケージを含む。例えば、複数のバンパーは、第1剛性リンケージ424、第2剛性リンケージ426、および/または第3剛性リンケージ428を含むことができる。いくつかの実施形態では、複数の剛性リンケージの剛性は、第1アーム410の遠位端406から近位端407に向かって増加してもよい。例えば、図5および図6に示すように、第1剛性リンケージ424の剛性k1は、第2剛性リンケージ426の剛性k2よりも小さくてもよく、および/または、第2剛性リンケージ426の剛性k2は、第3剛性リンケージ428の剛性k3よりも小さくてもよい。
図5および図6に示すように、バンパー装置400の第2アーム430は、第1バンパー432および第2バンパー434を含むことができる。第1バンパー432は、遠位端408に向かって配置されることができ、第2バンパー434は、第1バンパー432に隣接し、近位端409に向かって配置されることができる。第1バンパー432は、剛性k1を有する第1剛性リンケージ444を含むことができる。第2バンパー434は、剛性k2を有する第2剛性リンケージ446を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図6に示すように、第1および第2バンパー432、434は、第1および第2バンパーパッド438、440をそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2バンパーパッド438、440は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2剛性リンケージ444、446がそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
第1および第2バンパー432、434は、衝突時のレチクル208の衝撃力または衝撃エネルギーを、それぞれ第1および第2剛性リンケージ444、446に沿って均一に再分配または散逸させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1および第2剛性リンケージ444、446は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1および第2バンパー432、434の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1が、第2バンパー434に及ぼされる第2の力F2と等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を2分の1に低減することができるように、設計することができる。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))の単一片から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工されることができる。
いくつかの実施形態では、図5および図6に示すように、第2アーム430は、第3バンパー436を含むことができる。例えば、第3バンパー436は、近位端409に向かって配置され、第2バンパー434に隣接することができる。第3バンパー436は、剛性k3を有する第3剛性リンケージ448を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1、剛性k2、および剛性k3は等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよく、剛性k2は、剛性k3よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図6に示すように、第3バンパー436は、第3バンパーパッド442を含むことができる。例えば、第3バンパーパッド442は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第3剛性リンケージ448がレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、第1、第2、および第3剛性リンケージ444、446、448は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1、第2、および第3バンパー432、434、436の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1、k2、k3)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1、第2バンパー434に及ぼされる第2の力F2、および第3バンパー436に及ぼされる第3の力F3が等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を3分の1に低減することができるように、設計することができる。この原理(例えば、ウィップルツリーまたはウィッフルツリーモデル)は、レチクル208の衝撃力をn”分の1に低減するように拡張することができる。ここで、n”は、第2アーム430上のバンパーの数である。
いくつかの実施形態では、第2アーム430は、複数のバンパー、またはバンパーのアレイを含むことができる。例えば、図5および図6に示すように、複数のバンパーまたはアレイは、第1バンパー432、第2バンパー434、および/または第3バンパー436を含むことができる。いくつかの実施形態では、複数のバンパーは、複数の剛性リンケージを含む。例えば、複数のバンパーは、第1剛性リンケージ444、第2剛性リンケージ446、および/または第3剛性リンケージ448を含むことができる。いくつかの実施形態では、複数の剛性リンケージの剛性は、第2アーム430の遠位端408から近位端409に向かって増加してもよい。例えば、図5および図6に示すように、第1剛性リンケージ444の剛性k1は、第2剛性リンケージ446の剛性k2よりも小さくてもよく、および/または第2剛性リンケージ446の剛性k2は、第3剛性リンケージ448の剛性k3よりも小さくてもよい。
図7は、本開示のいくつかの実施形態に係り、例示的なバンパー装置400の概略図である。バンパー装置400は、第1アーム410、第2アーム430、および延長部402を含むことができる。バンパー装置400の第1アーム410は、第2バンパー414を含むことができる。バンパー装置400の第2アーム430は、第1バンパー432を含むことができる。第1バンパー432は、剛性k1を有する第1剛性リンケージ444を含むことができる。第2バンパー414は、剛性k2を有する第2剛性リンケージ426を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図7に示すように、第1および第2バンパー432、414は、第1および第2バンパーパッド438、420をそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2バンパーパッド438、420は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2剛性リンケージ444、426がそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
第1および第2バンパー438、420は、衝突時のレチクル208の衝撃力または衝撃エネルギーを、それぞれ第1および第2剛性リンケージ444、426に沿って均一に再分配または散逸させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1および第2剛性リンケージ444、426は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1および第2バンパー432、414の間に均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1が、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2と等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を2分の1に低減することができるように設計されうる。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、一片の高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工されることができる。
いくつかの実施形態では、図7に示すように、延長部402は、第3バンパーとすることができる。例えば、延長部402は、レチクルケージ300の本体302に接続し、第1および第2アーム410、430に接続することができ、例えば、延長部402は、第1および第2バンパー432、414の間に配置されることができる。延長部402は、剛性k3を有する延長部剛性リンケージ404を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1、剛性k2、および剛性k3は等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよく、剛性k2は、剛性k3よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図7に示すように、延長部402は、延長部バンパーパッド403を含むことができる。例えば、延長部バンパーパッド403は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、延長部剛性リンケージ404がレチクル208と接触しているとき屈曲するように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、第1、第2、および延長部剛性リンケージ444、426、404は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1、第2、および延長部バンパー432、414、402の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1、k2、およびk3)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2、および延長部402に及ぼされる第3の力F3が等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を3分の1に低減することができるように、設計することができる。この原理(例えば、ウィップルツリーまたはウィッフルツリーモデル)は、レチクル208の衝撃力をn’分の1に低減するように拡張することができる。ここで、n’は、バンパー装置400上のバンパーの数である。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k3)は、一片の高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k3)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工されることができる。
図8は、本開示のいくつかの実施形態に係り、例示的なバンパー装置400の概略図である。バンパー装置400は、第1アーム410および延長部402を含むことができる。バンパー装置400の第1アーム410は、第1バンパー412および第2バンパー414を含むことができる。第1バンパー412は、遠位端406に向かって配置されることができ、第2バンパー414は、第1バンパー412に隣接し、近位端407に向かって配置されることができる。第1バンパー412は、剛性k1を有する第1剛性リンケージ424を含むことができる。第2バンパー414は、剛性k2を有する第2剛性リンケージ426を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図8に示すように、第1および第2バンパー412、414は、第1および第2バンパーパッド418、420をそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2バンパーパッド418、420は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2剛性リンケージ424、426がそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
第1および第2バンパー412、414は、衝突時のレチクル208の衝撃力または衝撃エネルギーを、それぞれ第1および第2剛性リンケージ424、426に沿って均一に再分配または散逸させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1および第2剛性リンケージ424、426は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1および第2バンパー412、414の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、第1バンパー412に及ぼされる第1の力F1が、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2と等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を2分の1に低減することができるように設計されうる。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))の単一片から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工することができる。
いくつかの実施形態では、図8に示すように、延長部402は、第3バンパーとすることができる。例えば、延長部402は、レチクルケージ300の本体302に接続し、第1アーム410に接続することができる。延長部402は、剛性k3を有する延長部剛性リンケージ404を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1、剛性k2、および剛性k3は等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよく、剛性k2は、剛性k3よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図8に示すように、延長部402は、延長部バンパーパッド403を含むことができる。例えば、延長部バンパーパッド403は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、延長部剛性リンケージ404がレチクル208と接触しているとき屈曲するように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、第1、第2、および延長部剛性リンケージ424、426、404は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1、第2、および延長部バンパー412、414、402の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1、k2、およびk3)は、第1バンパー412に及ぼされる第1の力F1、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2、および延長部402に及ぼされる第3の力F3を等しくすることができ、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を3分の1に減らすことができるように、設計されうる。この原理(例えば、ウィップルツリーまたはウィッフルツリーモデル)は、レチクル208の衝撃力をn’分の1に低減するように拡張することができる。ここで、n’は、バンパー装置400上のバンパーの数である。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k3)は、一片の高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k3)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工することができる。
図9は、本開示のいくつかの実施形態に係り、例示的なバンパー装置400の概略図である。図9のバンパー装置400は、図8のバンパー装置400と類似する。バンパー装置400は、第1アーム410および第1延長部402aを含むことができる。バンパー装置400の第1アーム410は、第1バンパー412および第2バンパー414を含むことができる。第1バンパー412は、遠位端406に向かって配置されることができ、第2バンパー414は、第1バンパー412に隣接し、近位端407に向かって配置されることができる。第1バンパー412は、剛性k1を有する第1剛性リンケージ424を含むことができる。第2バンパー414は、剛性k2を有する第2剛性リンケージ426を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図9に示すように、第1および第2バンパー412、414は、第1および第2バンパーパッド418、420をそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2バンパーパッド418、420は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2剛性リンケージ424、426がそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
第1および第2バンパー412、414は、衝突時のレチクル208の衝撃力または衝撃エネルギーを、それぞれ第1および第2剛性リンケージ424、426に沿って均一に再分配または散逸させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1および第2剛性リンケージ424、426は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1および第2バンパー412、414の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、第1バンパー412に及ぼされる第1の力F1が、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2と等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を2分の1に低減することができるように設計されうる。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))の単一片から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって設計または機械加工することができる。
いくつかの実施形態では、図9に示すように、第1延長部402aは、第1アーム410のための第3バンパーとすることができる。例えば、第1延長部402aは、レチクルケージ300の本体302に接続し、第1アーム410に接続することができる。第1延長部402aは、剛性k3を有する第1延長部剛性リンケージ404aを含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1、剛性k2、および剛性k3は等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよく、剛性k2は、剛性k3よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図9に示すように、第1延長部402aは、第1延長部バンパーパッド403aを含むことができる。例えば、第1延長部バンパーパッド403aは、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1延長部剛性リンケージ404aがレチクル208と接触しているとき屈曲することができるように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、第1、第2、および第1延長部剛性リンケージ424、426、404aは、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1、第2、および第1延長部バンパー412、414、402aの間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1、k2、k3)は、第1バンパー412に及ぼされる第1の力F1、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2、および第1延長部402aに及ぼされる第3の力F3が等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を3分の1に低減することができるように、設計されうる。この原理(例えば、ウィップルツリーまたはウィッフルツリーモデル)は、レチクル208の衝撃力をn’分の1に低減するように拡張することができる。ここで、n’は、バンパー装置400上のバンパーの数である。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k3)は、一片の高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k3)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工することができる。
図9に示すように、バンパー装置400は、第2アーム430および第2延長部402bを含むことができる。バンパー装置400の第2アーム430は、第1バンパー432および第2バンパー434を含むことができる。第1バンパー432は、遠位端408に向かって配置されることができ、第2バンパー434は、第1バンパー432に隣接し、近位端409に向かって配置されることができる。第1バンパー432は、剛性k1を有する第1剛性リンケージ444を含むことができる。第2バンパー434は、剛性k2を有する第2剛性リンケージ446を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図9に示すように、第1および第2バンパー432、434は、第1および第2バンパーパッド438、440をそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2バンパーパッド438、440は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2剛性リンケージ444、446がそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
第1および第2バンパー432、434は、衝突時のレチクル208の衝撃力または衝撃エネルギーを、それぞれ第1および第2剛性リンケージ444、446に沿って均一に再分配または散逸させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1および第2剛性リンケージ444、446は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1および第2バンパー432、434の間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1が、第2バンパー434に及ぼされる第2の力F2と等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を2分の1に低減することができるように設計されうる。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))の単一片から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって設計または機械加工することができる。
いくつかの実施形態では、図9に示すように、第2延長部402bは、第2アーム430のための第3バンパーとすることができる。例えば、第2延長部402bは、レチクルケージ300の本体302に接続し、第2アーム430に接続することができる。第2延長部402bは、剛性k3を有する第2延長部剛性リンケージ404bを含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1、剛性k2、および剛性k3は等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよく、剛性k2は、剛性k3よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図9に示すように、第2延長部402bは、第2延長部バンパーパッド403bを含むことができる。例えば、第2延長部バンパーパッド403bは、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第2延長部剛性リンケージ404bがレチクル208と接触しているとき屈曲することができるように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、第1、第2、および第2延長部剛性リンケージ444、446、404bは、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1、第2、および第2延長部バンパー432、434、402bの間で均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1、k2、k3)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1、第2バンパー434に及ぼされる第2の力F2、および第2延長部402bに及ぼされる第3の力F3が等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を3分の1に低減することができるように、設計することができる。この原理(例えば、ウィップルツリーまたはウィッフルツリーモデル)は、レチクル208の衝撃力をn’分の1に低減するように拡張することができる。ここで、n’は、バンパー装置400上のバンパーの数である。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k3)は、一片の高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k3)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工することができる。
図10は、本開示のいくつかの実施形態に係り、例示的なバンパー装置400の概略図である。図10のバンパー装置400は、図7のバンパー装置400と類似する。バンパー装置400は、第1バンパー部450、第1延長部402a、第2バンパー部460、および第2延長部402bを含むことができる。
第1バンパー部450は、第1アーム410および第2アーム430を含むことができる。第2バンパー部460は、第1アーム410および第2アーム430を含むことができる。第1アーム410は、第2バンパー414を含むことができる。バンパー装置400の第2アーム430は、第1バンパー432を含むことができる。第1バンパー432は、剛性k1を有する第1剛性リンケージ444を含むことができる。第2バンパー414は、剛性k2を有する第2剛性リンケージ426を含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2と等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図10に示すように、第1および第2バンパー432、414は、第1および第2バンパーパッド438、420をそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2バンパーパッド438、420は、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2剛性リンケージ444、426がそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
第1および第2バンパー438、420は、衝突時のレチクル208の衝撃力または衝撃エネルギーを、それぞれ第1および第2剛性リンケージ444、426に沿って均一に再分配または散逸させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1および第2剛性リンケージ444、426は、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1および第2バンパー432、414の間に均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1が、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2と等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を2分の1に低減することができるように設計されうる。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、一片の高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1およびk2)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって設計または機械加工することができる。
いくつかの実施形態では、図10に示すように、第1延長部402aおよび第2延長部402bはそれぞれ、第3バンパーとすることができる。例えば、第1および第2延長部402a、402bは、レチクルケージ300の本体302に接続し、第1および第2バンパー部450、460の第1および第2アーム410、430にそれぞれ接続することができる。例えば、第1および第2延長部402a、402bは、第1および第2バンパー432、414の間に配置されうる。第1および第2延長部402a、402bは、剛性k3を有する第1および第2延長部剛性リンケージ404a、404bをそれぞれ含むことができる。いくつかの実施形態では、剛性k1、剛性k2、および剛性k3は等しくてもよい。いくつかの実施形態では、剛性k1は、剛性k2よりも小さくてもよく、剛性k2は、剛性k3よりも小さくてもよい。いくつかの実施形態では、図10に示すように、第1および第2延長部402a、402bは、第1および第2延長部バンパーパッド403a、403bをそれぞれ含むことができる。例えば、第1および第2延長部バンパーパッド403a、403bは、衝突時にレチクル208の衝撃力を再分配または散逸させるために、レチクル208の外周に直接接触するとともに、第1および第2延長部剛性リンケージ404a、404bがそれぞれレチクル208と接触しているとき屈曲することを可能とするように構成されてもよい。
いくつかの実施形態では、第1、第2、および第1および第2延長部剛性リンケージ444、426、404a、404bは、衝突時のレチクル208の衝撃力が第1、第2、および第1および第2延長部バンパー432、414、402a、402bの間でそれぞれ均一に(例えば、均等に)分配されるように、制御された剛性分布を有することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k1、k2、k3)は、第1バンパー432に及ぼされる第1の力F1、第2バンパー414に及ぼされる第2の力F2、および第1および第2延長部402a、402bにそれぞれ及ぼされる第3の力F3が等しくなり、その結果、レチクル208の衝撃力(すなわち、Fext)を3分の1に低減することができるように、設計されうる。この原理(例えば、ウィップルツリーまたはウィッフルツリーモデル)は、レチクル208の衝撃力をn’分の1に低減するように拡張することができる。ここで、n’は、バンパー装置400上のバンパーの数である。いくつかの実施形態では、制御された剛性分布(例えば、k3)は、一片の高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))から製作することができる。例えば、制御された剛性分布(例えば、k3)は、ワイヤ放電加工(EDM)によって製作または加工することができる。
バンパー装置を動作させる方法は、本明細書に開示される動作の態様に従って達成することができる。いくつかの実施形態では、図5および図6に示すように、バンパー装置400は、L字型または凹型の六角形に配置され、レチクル208の角部に接触するように構成されうる。いくつかの実施形態では、これは、例えば、高降伏強度材料、例えば、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金(例えば、STAVAX(登録商標))をワイヤ放電加工し、レチクル208の各角部に隣接してバンパー装置400を有するレチクルケージ300を配置することによって達成することができる。いくつかの実施形態では、衝突時のレチクル208の衝撃力は、第1アーム410の第1および第2バンパー412、414および/または第2アーム430の第1および第2バンパー432、434の間で均一に(例えば、均等に)分配されることができる。例えば、第1および第2バンパー412、414および/または第1および第2バンパー432、434は、第1および第2剛性リンケージ424、426および/または第1および第2剛性リンケージ444、446に沿ってレチクル208の衝撃力をそれぞれ再分配または散逸させるために、屈曲することができる。いくつかの実施形態では、バンパー装置400は、レチクル208の衝撃力を低減するために、レチクル208とバンパー装置400の間を最小ギャップ距離とするように位置決めすることができる。例えば、バンパー装置400は、レチクル交換プロセスの間を除いて、常にレチクル208の外周から1.0mm以内に配置することができる。
実施形態は、さらに以下の項により記述されうる。
1.レチクルのためのバンパー装置であって、
第1方向に沿って前記レチクルに接触するように構成された第1アームと、
第2方向に沿って前記レチクルに接触するように構成された第2アームとを備え、
前記第1アームは、前記第1アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記第1アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備え、
前記第1バンパーは、第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーは、第2剛性リンケージを備え、
前記第1バンパーおよび前記第2バンパーは、前記レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されている、バンパー装置。
2.前記第2アームは、前記第2アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記第2アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備える、項1に記載のバンパー装置。
3.前記第2アームの第1バンパーは、第1剛性リンケージを備え、前記第2アームの第2バンパーは、第2剛性リンケージを備える、項2に記載のバンパー装置。
4.前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性に等しい、項1に記載のバンパー装置。
5.前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性よりも小さい、項1に記載のバンパー装置。
6.前記第1方向は、前記第2方向と直交している、項1に記載のバンパー装置。
7.前記第1アームおよび前記第2アームは、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金を備える、項1に記載のバンパー装置。
8.レチクルステージと、
前記レチクルステージ上に配置されたレチクルと、
前記レチクルに隣接して配置され、前記レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されたレチクルケージであって、
前記レチクルに接触するように構成されたアームを備え、
前記アームが、前記アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第2バンパーと、を備え、
前記第1バンパーが第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーが第2剛性リンケージを備えるレチクルケージと、を備えるリソグラフィ装置。
9.前記アームは、前記第2バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第3バンパーを備える、項8に記載のリソグラフィ装置。
10.前記第3バンパーは、第3剛性リンケージを備える、項9に記載のリソグラフィ装置。
11.前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性よりも小さく、前記第2剛性リンケージの剛性は、前記第3剛性リンケージの剛性よりも小さい、項10に記載のリソグラフィ装置。
12.前記第1剛性リンケージの剛性、前記第2剛性リンケージの剛性、および前記第3剛性リンケージの剛性が等しい、項10に記載のリソグラフィ装置。
13.前記アームは、複数の追加バンパーを備える、項8に記載のリソグラフィ装置。
14.前記複数の追加バンパーは、複数の剛性リンケージを備える、項13に記載のリソグラフィ装置。
15.前記複数の剛性リンケージの剛性は、前記アームの遠位端から近位端に向かって増加する、項14に記載のリソグラフィ装置。
16.前記レチクルケージは、前記レチクルの外周に沿って配置されるとともに、前記レチクルの衝撃力を複数の衝撃位置に均一に分配するように構成された複数のレチクルケージである、項8に記載のリソグラフィ装置。
17.前記アームの前記第1剛性リンケージおよび前記第2剛性リンケージは、前記レチクルの衝撃力が前記第1バンパーと前記第2バンパーの間で均等に分配されるように、制御された剛性分布を有する、項8に記載のリソグラフィ装置。
18.レチクルの衝撃力を低減する方法であって、
バンパー装置を前記レチクルに隣接して配置することを備え、前記バンパー装置は、アームによって前記レチクルに接触し、前記アームは、前記アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備え、前記第1バンパーが第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーが第2剛性リンケージを備えており、さらに、
前記レチクルの衝撃力を前記第1バンパーと前記第2バンパーの間で均一に分配することと、を備える方法。
19.前記レチクルの衝撃力を前記第1剛性リンケージおよび前記第2剛性リンケージに沿って再分配するように前記第1バンパーおよび前記第2バンパーを屈曲させることをさらに備える、項18に記載の方法。
20.前記レチクルの衝撃力が低減されるように、前記レチクルと前記バンパー装置との間を最小のギャップ距離とするように前記バンパー装置を位置決めすることをさらに備える、項18に記載の方法。
1.レチクルのためのバンパー装置であって、
第1方向に沿って前記レチクルに接触するように構成された第1アームと、
第2方向に沿って前記レチクルに接触するように構成された第2アームとを備え、
前記第1アームは、前記第1アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記第1アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備え、
前記第1バンパーは、第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーは、第2剛性リンケージを備え、
前記第1バンパーおよび前記第2バンパーは、前記レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されている、バンパー装置。
2.前記第2アームは、前記第2アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記第2アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備える、項1に記載のバンパー装置。
3.前記第2アームの第1バンパーは、第1剛性リンケージを備え、前記第2アームの第2バンパーは、第2剛性リンケージを備える、項2に記載のバンパー装置。
4.前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性に等しい、項1に記載のバンパー装置。
5.前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性よりも小さい、項1に記載のバンパー装置。
6.前記第1方向は、前記第2方向と直交している、項1に記載のバンパー装置。
7.前記第1アームおよび前記第2アームは、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金を備える、項1に記載のバンパー装置。
8.レチクルステージと、
前記レチクルステージ上に配置されたレチクルと、
前記レチクルに隣接して配置され、前記レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されたレチクルケージであって、
前記レチクルに接触するように構成されたアームを備え、
前記アームが、前記アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第2バンパーと、を備え、
前記第1バンパーが第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーが第2剛性リンケージを備えるレチクルケージと、を備えるリソグラフィ装置。
9.前記アームは、前記第2バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第3バンパーを備える、項8に記載のリソグラフィ装置。
10.前記第3バンパーは、第3剛性リンケージを備える、項9に記載のリソグラフィ装置。
11.前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性よりも小さく、前記第2剛性リンケージの剛性は、前記第3剛性リンケージの剛性よりも小さい、項10に記載のリソグラフィ装置。
12.前記第1剛性リンケージの剛性、前記第2剛性リンケージの剛性、および前記第3剛性リンケージの剛性が等しい、項10に記載のリソグラフィ装置。
13.前記アームは、複数の追加バンパーを備える、項8に記載のリソグラフィ装置。
14.前記複数の追加バンパーは、複数の剛性リンケージを備える、項13に記載のリソグラフィ装置。
15.前記複数の剛性リンケージの剛性は、前記アームの遠位端から近位端に向かって増加する、項14に記載のリソグラフィ装置。
16.前記レチクルケージは、前記レチクルの外周に沿って配置されるとともに、前記レチクルの衝撃力を複数の衝撃位置に均一に分配するように構成された複数のレチクルケージである、項8に記載のリソグラフィ装置。
17.前記アームの前記第1剛性リンケージおよび前記第2剛性リンケージは、前記レチクルの衝撃力が前記第1バンパーと前記第2バンパーの間で均等に分配されるように、制御された剛性分布を有する、項8に記載のリソグラフィ装置。
18.レチクルの衝撃力を低減する方法であって、
バンパー装置を前記レチクルに隣接して配置することを備え、前記バンパー装置は、アームによって前記レチクルに接触し、前記アームは、前記アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備え、前記第1バンパーが第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーが第2剛性リンケージを備えており、さらに、
前記レチクルの衝撃力を前記第1バンパーと前記第2バンパーの間で均一に分配することと、を備える方法。
19.前記レチクルの衝撃力を前記第1剛性リンケージおよび前記第2剛性リンケージに沿って再分配するように前記第1バンパーおよび前記第2バンパーを屈曲させることをさらに備える、項18に記載の方法。
20.前記レチクルの衝撃力が低減されるように、前記レチクルと前記バンパー装置との間を最小のギャップ距離とするように前記バンパー装置を位置決めすることをさらに備える、項18に記載の方法。
本書ではICの製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、ここに説明したリソグラフィ装置は、その他の用途を有しうるものと理解されたい。ありうる他の用途には、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用案内パターンおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ(LCD)、薄膜磁気ヘッド等の製造が含まれる。
本書ではリソグラフィ装置の文脈における本開示の実施形態について具体的な言及がなされているが、本開示の実施形態は、他の装置にも使用されうる。本開示の実施形態は、マスク検査装置、メトロロジ装置、または、ウェーハ(またはその他の基板)またはマスク(またはその他のパターニングデバイス)などの物体を測定または処理する何らかの装置の一部を形成してもよい。これらの装置は、一般に、リソグラフィックツールとも呼ばれる。こうしたリソグラフィックツールは、真空条件または周囲(非真空)条件を使用してもよい。
上記では、光リソグラフィの文脈における本開示の実施形態の使用について具体的に言及がなされているが、文脈が許す限り、本開示は光リソグラフィに限定されず、例えばインプリントリソグラフィなどの他の用途に使用されうることが理解されるであろう。
本明細書の言葉遣いまたは専門用語は、限定ではなく説明を目的とするものであり、本書の教示を考慮して関連技術分野の当業者によって解釈されるべきものである。
上記の例は、本開示の実施形態を例示するものであるが、限定するものではない。関連技術分野の当業者にとって明らかであろう当該分野で通常遭遇する様々な条件およびパラメータについての他の適切な修正および適応は、本開示の精神および範囲内にある。
本開示の特定の実施形態が上述されたが、説明したもの以外の態様で本開示が実施されてもよい。上述の説明は例示であり、限定を意図しない。よって、後述の特許請求の範囲から逸脱することなく既述の本開示に変更を加えることができるということは、当業者には明らかなことである。
「発明の概要」および「要約」の欄ではなく、「詳細な説明」の欄が特許請求の範囲の解釈に使用されるよう意図されていることを認識されたい。「発明の概要」および「要約」の欄は、発明者によって考案された実施形態のうち一つまたは複数について述べているが、全ての例示的な実施形態について述べているわけではなく、したがって、本発明および添付の特許請求の範囲をいかなる方法によっても限定する意図はない。
上記では、本発明が特定の機能およびその関係の実装を示す機能ブロックを用いて説明されている。これらの機能ブロックの境界は、本書では説明の便宜上任意に定められている。特定の機能およびその関係が適切に実行される限り、代替の境界が定められてもよい。
特定の実施形態についての上記説明は本発明の一般的性質を完全に公開しており、したがって、当業者の知識を適用することによって、過度の実験をすることなく、および本発明の一般概念から逸脱することなく、こうした特定の実施形態を種々の応用に対して直ちに修正しおよび/または適応させることができる。したがって、そのような修正および適応は、本書に提示された教示および助言に基づき、開示された実施形態の意義および等価物の範囲内にあるものと意図されている。
本発明の広がりおよび範囲は、上述した例示的な実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、特許請求の範囲およびその等価物にしたがってのみ定められるべきである。
Claims (20)
- レチクルのためのバンパー装置であって、
第1方向に沿って前記レチクルに接触するように構成された第1アームと、
第2方向に沿って前記レチクルに接触するように構成された第2アームとを備え、
前記第1アームは、前記第1アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記第1アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備え、
前記第1バンパーは、第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーは、第2剛性リンケージを備え、
前記第1バンパーおよび前記第2バンパーは、前記レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されている、バンパー装置。 - 前記第2アームは、前記第2アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記第2アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備える、請求項1に記載のバンパー装置。
- 前記第2アームの第1バンパーは、第1剛性リンケージを備え、前記第2アームの第2バンパーは、第2剛性リンケージを備える、請求項2に記載のバンパー装置。
- 前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性に等しい、請求項1に記載のバンパー装置。
- 前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性よりも小さい、請求項1に記載のバンパー装置。
- 前記第1方向は、前記第2方向と直交している、請求項1に記載のバンパー装置。
- 前記第1アームおよび前記第2アームは、焼戻しマルテンサイト系ステンレス鋼合金を備える、請求項1に記載のバンパー装置。
- レチクルステージと、
前記レチクルステージ上に配置されたレチクルと、
前記レチクルに隣接して配置され、前記レチクルの衝撃力を均一に分配するように構成されたレチクルケージであって、
前記レチクルに接触するように構成されたアームを備え、
前記アームが、前記アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第2バンパーと、を備え、
前記第1バンパーが第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーが第2剛性リンケージを備えるレチクルケージと、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記アームは、前記第2バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第3バンパーを備える、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第3バンパーは、第3剛性リンケージを備える、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1剛性リンケージの剛性は、前記第2剛性リンケージの剛性よりも小さく、前記第2剛性リンケージの剛性は、前記第3剛性リンケージの剛性よりも小さい、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1剛性リンケージの剛性、前記第2剛性リンケージの剛性、および前記第3剛性リンケージの剛性が等しい、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アームは、複数の追加バンパーを備える、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の追加バンパーは、複数の剛性リンケージを備える、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 前記複数の剛性リンケージの剛性は、前記アームの遠位端から近位端に向かって増加する、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レチクルケージは、前記レチクルの外周に沿って配置されるとともに、前記レチクルの衝撃力を複数の衝撃位置に均一に分配するように構成された複数のレチクルケージである、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アームの前記第1剛性リンケージおよび前記第2剛性リンケージは、前記レチクルの衝撃力が前記第1バンパーと前記第2バンパーの間で均等に分配されるように、制御された剛性分布を有する、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- レチクルの衝撃力を低減する方法であって、
バンパー装置を前記レチクルに隣接して配置することを備え、前記バンパー装置は、アームによって前記レチクルに接触し、前記アームは、前記アームの遠位端に向かって配置された第1バンパーと、前記第1バンパーに隣接し、前記アームの近位端に向かって配置された第2バンパーとを備え、前記第1バンパーが第1剛性リンケージを備え、前記第2バンパーが第2剛性リンケージを備えており、さらに、
前記レチクルの衝撃力を前記第1バンパーと前記第2バンパーの間で均一に分配することと、を備える方法。 - 前記レチクルの衝撃力を前記第1剛性リンケージおよび前記第2剛性リンケージに沿って再分配するように前記第1バンパーおよび前記第2バンパーを屈曲させることをさらに備える、請求項18に記載の方法。
- 前記レチクルの衝撃力が低減されるように、前記レチクルと前記バンパー装置との間を最小のギャップ距離とするように前記バンパー装置を位置決めすることをさらに備える、請求項18に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862768161P | 2018-11-16 | 2018-11-16 | |
US62/768,161 | 2018-11-16 | ||
PCT/EP2019/079558 WO2020099126A1 (en) | 2018-11-16 | 2019-10-29 | Multiple-pad reticle bumpers to distribute impact load |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022507522A JP2022507522A (ja) | 2022-01-18 |
JP7329047B2 true JP7329047B2 (ja) | 2023-08-17 |
Family
ID=68461765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021526546A Active JP7329047B2 (ja) | 2018-11-16 | 2019-10-29 | 衝撃荷重を分配するための複数パッド型レチクルバンパー |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7329047B2 (ja) |
KR (1) | KR20210090185A (ja) |
NL (1) | NL2024120A (ja) |
WO (1) | WO2020099126A1 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060066834A1 (en) | 2004-09-28 | 2006-03-30 | Phillips Alton H | EUV reticle handling system and method |
JP2011166065A (ja) | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Gugeng Precision Industrial Co Ltd | レチクルポッド |
JP2015534131A (ja) | 2012-10-26 | 2015-11-26 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | パターニングデバイス支持体及びリソグラフィ装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI245170B (en) * | 2003-07-22 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US10274844B1 (en) * | 2017-11-24 | 2019-04-30 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Lithography apparatus and method for protecting a reticle |
-
2019
- 2019-10-29 WO PCT/EP2019/079558 patent/WO2020099126A1/en active Application Filing
- 2019-10-29 JP JP2021526546A patent/JP7329047B2/ja active Active
- 2019-10-29 KR KR1020217014492A patent/KR20210090185A/ko unknown
- 2019-10-29 NL NL2024120A patent/NL2024120A/en unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060066834A1 (en) | 2004-09-28 | 2006-03-30 | Phillips Alton H | EUV reticle handling system and method |
JP2011166065A (ja) | 2010-02-15 | 2011-08-25 | Gugeng Precision Industrial Co Ltd | レチクルポッド |
JP2015534131A (ja) | 2012-10-26 | 2015-11-26 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | パターニングデバイス支持体及びリソグラフィ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022507522A (ja) | 2022-01-18 |
WO2020099126A1 (en) | 2020-05-22 |
NL2024120A (en) | 2020-05-20 |
KR20210090185A (ko) | 2021-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4686563B2 (ja) | 可動物体の位置依存信号を測定するための測定システム、リソグラフィ装置および方法 | |
US8416386B2 (en) | Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same | |
KR101325607B1 (ko) | 대상물 테이블을 위치시키는 스테이지 장치, 리소그래피 장치 및 방법 | |
KR100525655B1 (ko) | 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 그것에 의해제조된 디바이스 | |
EP1477858B1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP7329047B2 (ja) | 衝撃荷重を分配するための複数パッド型レチクルバンパー | |
JP7455844B2 (ja) | ダイレクトドライブのレチクル安全ラッチ | |
US20230075162A1 (en) | Reticle Gripper Damper and Isolation System for Lithographic Apparatuses | |
JP7259043B2 (ja) | 弾性ガイドデバイス、位置決めデバイス、ブレード及びリソグラフィ装置 | |
CN109196425B (zh) | 工作台系统、光刻装置和器件制造方法 | |
NL2025435A (en) | Reticle cage actuator with shape memory alloy and magnetic coupling mechanisms | |
JP6845305B2 (ja) | 位置決めシステムおよびリソグラフィ装置 | |
WO2020225151A1 (en) | Bumper apparatus | |
US11927889B2 (en) | Intermediate layer for mechanical interface | |
JP6856758B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
CN113544587A (zh) | 物体定位器装置及装置制造方法 | |
WO2024132409A1 (en) | Reticle handler isolation damper element |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221031 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230725 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230804 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7329047 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |