JP7259043B2 - 弾性ガイドデバイス、位置決めデバイス、ブレード及びリソグラフィ装置 - Google Patents

Description

関連出願の相互参照
[001] 本願は２０１９年１月１１日に提出された欧州出願第１９１５１３０７．６号及び２０１９年１０月８日に提出された欧州出願第１９２０１９３０．５号の優先権を主張するものであり、これらの出願は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。

[002] 本発明は、弾性ガイドデバイスと、位置決めデバイスと、そのような位置決めデバイスを備えるリソグラフィ装置と、に関する。

[003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又はいくつかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナと、を含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。

[004] 位置決めデバイスは、対象物、例えば基板を、プロセシングツール、例えばリソグラフィ装置又はｅビームインスペクションツールの内部に位置決めするために用いられ得る。一実施形態においては、位置決めデバイスは、対象物を支持するための可動ステージを備える。ステージ及びその上に支持された対象物を基準に対して水平の移動方向で移動させるために、アクチュエータが提供されてもよい。基準とアクチュエータとの間には、バランス・マスが配置され得る。そのようなバランス・マスは、アクチュエータから基準への反力の伝達を低減させるために提供される。バランス・マスは、バランス・マスと基準との間に配置された支持デバイスと共に基準上に支持されてもよい。

[005] バランス・マスは、典型的には、ステージの移動方向とは反対の移動方向に移動する。つまり、ステージが例えば水平方向に沿って正の方向に移動するとき、バランス・マスは同じ水平方向の負の方向に移動するであろう。また、バランス・マスは典型的にはステージの質量よりも実質的に高い質量を有し、例えば５：１の質量比が適用され得る。こうした質量の差の結果、移動方向におけるバランス・マスの変位とステージの変位との比は逆になり、したがってバランス・マスの変位はステージと比べて小さくなるが、依然として基準への反力の伝達は低減させる。例えば、バランス・マスとステージとの質量比が５：１であれば、移動方向の変位比は１：５になるであろう。

[006] バランス・マスを支持するための支持デバイスは、基準とバランス・マスとの間に配置された複数の板バネを備え得る。バランス・マスの通常動作の間、板バネは、垂直方向の十分な剛性を提供して、重力に打ち勝つように垂直方向でバランス・マスを支持する。板バネは更に、板バネの剛性によって引き起こされるバランス・マスの移動方向における板バネの撹乱効果を低減させるために、ステージの水平の移動方向には相対的に低い剛性を有するように設計される。

[007] また、板バネの到達可能なストロークは、位置決めデバイスの通常動作の際に発生する板バネの材料の応力及び疲労に起因して限定され得る。この応力及び疲労はバランス・マスの質量の低減によって低減され得るが、このバランス・マスの質量の低減の結果、ステージの移動に追従するためにバランス・マスに要求されるストロークが大きくなるであろう。より大きなストロークは、それ自体、より高い応力及び潜在的な疲労の問題に繋がり得る。

[008] 増大された質量を支持すること及び／又は増大されたストロークに対応することのできる改良された弾性ガイドデバイス、例えば板バネデバイスを提供することが、本発明の目的である。

[009] 本発明の一態様によれば、
第１の平面内に延伸する第１のブレードと、
第２の平面内に延伸する第２のブレードと、
を備える、ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスが提供され、
第１の平面及び第２の平面はいずれも支持方向に延伸し、
第１のブレードの第１の側はベースに接続されており、第１のブレードの第１の側とは反対の第１のブレードの第２の側は第２のブレードの第１の側に接続されており、第２のブレードの第１の側とは反対の第２のブレードの第２の側は質量に接続されており、
第１のブレードは少なくとも１つの不撓性要素と少なくとも１つの板バネ要素とを備え、少なくとも１つの板バネ要素は第１のブレードの全長にわたって支持方向に延伸し、第２のブレードは少なくとも１つの不撓性要素と少なくとも１つの板バネ要素とを備え、少なくとも１つの板バネ要素は第２のブレードの全長にわたって支持方向に延伸し、
第１のブレードの第２の側はクロスフレクシャによって第２のブレードの第１の側に接続されている。

[010] 本発明の一態様によれば、
第１の平面内に延伸する第１のブレードと、
第２の平面内に延伸する第２のブレードと、
を備える、ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスが提供され、
第１の平面及び第２の平面はいずれも支持方向に延伸し、
第１のブレードの第１の側はベースに接続されており、第１のブレードの第１の側とは反対の第１のブレードの第２の側は第２のブレードの第１の側に接続されており、第２のブレードの第１の側とは反対の第２のブレードの第２の側は質量に接続されており、
第１のブレードと第２のブレードとのうち少なくとも一方は、いずれも第１のブレード及び／又は第２のブレードのそれぞれ全長にわたって支持方向に延伸する第１の不撓性要素及び第２の不撓性要素と、各々が第１の不撓性要素と第２の不撓性要素との間に延伸する少なくとも２つの平行な板バネ要素とを備えている。

[011] 本発明の一態様によれば、少なくとも１つの板バネ要素を備える、ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスが提供され、
少なくとも１つの板バネ要素は支持方向に延伸し、
少なくとも１つの板バネ要素は支持方向に底端と天端とを備え、
底端と天端とのうち少なくとも一方は、少なくとも１つの板バネ要素の材料における応力ピークを底端及び天端でそれぞれ低減させるための丸みを帯びた凹部を備えている。

[012] 本発明の一態様によれば、
支持方向に延伸する支持ロッドと、
中間支持要素であって、支持ロッドの上端が質量に接続され支持ロッドの下端が中間支持要素上に支持される、中間支持要素と、
ベースに取り付けられると共に中間支持要素を吊り下げるように及び少なくとも支持方向に垂直な第１の方向での中間支持要素の移動を可能にするように配置された吊り下げデバイスと、
を備える、ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスが提供される。

[013] 本発明の一態様によれば、弾性支持デバイスにおいて用いられるブレードが提供され、ブレードは、平面内に延伸すると共に、
ブレードを第１の構造に接続するための第１のインターフェイスと、
ブレードを第２の構造に接続するための第２のインターフェイスと、
第１の板バネ要素と、不撓性要素と、第２の板バネ要素と、を備えており、
第１の板バネは第１のインターフェイスを不撓性要素の第１の側に接続するように配置され、
第２の板バネは第２のインターフェイスを不撓性要素の反対の第２の側に接続するように配置され、
板バネのうち少なくとも１つは弾性支持デバイスの支持方向に対して非ゼロの角度にわたって傾斜した縦軸を有する。

[014] 本発明の一態様によれば、
対象物を支持するためのステージと、
ステージを基準に対して移動方向で移動させるためのアクチュエータと、
アクチュエータから基準への反力の伝達を低減させるためにアクチュエータと基準との間に配置されたバランス・マスと、
バランス・マスを支持するために基準とバランス・マスとの間に配置された支持デバイスであって、本発明による少なくとも１つの弾性ガイドデバイスを備える、支持デバイスと、
を備える、対象物を変位させるように構成された位置決めデバイスが提供される。

[015] 本発明の一態様によれば、本発明による位置決めデバイスを備えるリソグラフィ装置が提供される。

[016] 対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。

内部に本発明の実施形態が提供され得るリソグラフィ装置を図示する。 位置決めデバイスの一実施形態を概略的に図示する。 バランス・マス及びバランス・マスを支持する弾性ガイドデバイスの上面図を概略的に示す。 弾性ガイドデバイスの第１の実施形態の側面図を示す。 図４の第１の実施形態の上面図を示す。 弾性ガイドデバイスの第２の実施形態の側面図を示す。 図６の第２の実施形態の上面図を示す。 図６の第２の実施形態の断面Ａ－Ａを示す。 図６の第２の実施形態の断面Ｂ－Ｂを示す。 弾性ガイドデバイスの第３の実施形態の側面図を示す。 図１０の第３の実施形態の上面図を示す。 弾性ガイドデバイスの第４の実施形態の第１の側面図を示す。 図１２の第４の実施形態の第２の側面図を示す。 図１２の第４の実施形態の断面Ｃ－Ｃを示す。 図１２の第４の実施形態の断面Ｄ－Ｄを示す。 本発明の一実施形態による断面Ａ－Ａを示す。 本発明の更なる一実施形態の側面図を示す。 当該技術分野において既知のブレードの側面図を示す。 当該技術分野において既知のブレードの上面図を示す。 本発明の一実施形態によるブレードを示す。

[017] 図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示している。本装置は、照明システムＩＬ、支持構造ＭＴ、基板テーブルＷＴ及び投影システムＰＳを備える。

[018] 照明システムＩＬは、放射ビームＢを調整するように構成される。支持構造ＭＴ（例えばマスクテーブル）は、パターニングデバイスＭＡ（例えばマスク）を支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続される。基板テーブルＷＴ（例えばウェーハテーブル）は、基板Ｗ（例えばレジストコートウェーハ）を保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続される。投影システムＰＳは、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つ以上のダイを含む）に投影するように構成される。

[019] 照明システムＩＬは、放射を誘導し、整形し、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらの任意の組み合わせなどの様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。

[020] 本明細書で使用する「放射ビーム」という用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、３５５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍもしくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ～２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。

[021] 支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡを支持、すなわちその重量を支えている。支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡの配向、リソグラフィ装置の設計及び、例えばパターニングデバイスＭＡが真空環境で保持されているか否か等の条件に応じた手法でパターニングデバイスＭＡを保持する。支持構造ＭＴは、機械式、真空式、静電式又はその他のクランプ技術を用いて、パターニングデバイスＭＡを保持することができる。支持構造ＭＴは、例えば、必要に応じて固定又は可動式にできるフレーム又はテーブルであってもよい。支持構造ＭＴは、パターニングデバイスＭＡが例えば投影システムＰＳに対して確実に所望の位置に来るようにしてもよい。

[022] 本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板Ｗのターゲット部分Ｃにパターンを生成するように、放射ビームＢの断面にパターンを付与するために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームＢに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板Ｗのターゲット部分Ｃにおける所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などのターゲット部分Ｃに生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。

[023] パターニングデバイスＭＡは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型（alternating）位相シフトマスク、ハーフトーン型（attenuated）位相シフトマスクのようなマスクタイプ、更には様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小型ミラーのマトリクス配列を使用し、ミラーは各々、入射する放射ビームＢを異なる方向に反射するように個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームＢにパターンを付与する。

[024] 本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電光学システム、又はその任意の組み合わせを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。

[025] 本明細書で示すように、本装置は、（例えば透過型マスクを使用する）透過タイプである。あるいは、装置は、（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射型マスクを使用する）反射タイプでもよい。

[026] リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブルＷＴ（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つ以上の他のテーブルを露光に使用している間に１つ以上のテーブルで予備工程を実行することができる。１つ以上の基板テーブルＷＴに加え、リソグラフィ装置は、基板テーブルＷＴがその位置から離れているときに投影システムＰＳの下の位置にあるように配置される測定ステージを備えていてもよい。基板Ｗを支持する代わりに、測定ステージには、リソグラフィ装置の特性を測定するためのセンサが設けられていてもよい。例えば、投影システムは、画質を決定するために、測定ステージ上のセンサに画像を投影してもよい。

[027] リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板Ｗの少なくとも一部が相対的に高い屈折率を有する液体、例えば水によって覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばパターニングデバイスＭＡと投影システムＰＳとの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増やすために当技術分野では周知である。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板Ｗなどの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムＰＳと基板Ｗとの間に液体が存在するというほどの意味である。

[028] 図１を参照すると、照明システムＩＬは放射源ＳＯから放射ビームＢを受ける。放射源ＳＯ及びリソグラフィ装置は、例えば、放射源ＳＯがエキシマレーザである場合、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームＢは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯから照明システムＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源ＳＯが水銀ランプの場合は、放射源ＳＯがリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。

[029] 照明システムＩＬは、放射ビームＢの角度強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを備えていてもよい。一般に、照明システムの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、照明システムＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。照明システムＩＬを用いて放射ビームＢを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。

[030] 放射ビームＢは、支持構造ＭＴ上に保持されたパターニングデバイスＭＴに入射し、パターニングデバイスＭＡによってパターン形成される。パターニングデバイスＭＡを横断した放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに合焦させる。第２のポジショナＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は静電容量センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴを、例えば様々なターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路に位置決めするように正確に移動できる。同様に、第１のポジショナＰＭ及び別の位置センサ（図１には明示されていない）を用いて、マスクライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めできる。一般に、支持構造ＭＴの移動は、第１のポジショナＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールの助けにより実現できる。ロングストロークモジュールは、広い範囲の動きにわたってショートストロークモジュールの粗動位置決めを提供できる。ショートストロークモジュールは、狭い範囲の動きにわたってロングストロークモジュールに対して支持構造ＭＴの微動位置決めを提供できる。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２のポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを使用して実現できる。ロングストロークモジュールは、広い範囲の動きにわたってショートストロークモジュールの粗動位置決めを提供できる。ショートストロークモジュールは、狭い範囲の動きにわたってロングストロークモジュールに対して基板テーブルＷＴの微動位置決めを提供できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、支持構造ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイスＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示されている基板アライメントマークＰ１、Ｐ２は専用のターゲット部分を占有するが、それらはターゲット部分Ｃの間の空間に位置付けることも可能である（これらはスクライブラインアライメントマークとして知られている）。同様に、パターニングデバイスＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２をダイ間に配置してもよい。

[031] 図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。

[032] 第１のモード、いわゆるステップモードでは、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームＢに付与されたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。

[033] 第２のモード、いわゆるスキャンモードでは、支持構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームＢに付与されるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。支持構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。

[034] 第３のモードでは、支持構造ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。

[035] 上述した使用モードの組み合わせ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。

[036] 図２は、位置決めデバイス１０の一実施形態を概略的に図示している。この位置決めデバイス１０は、対象物１、例えば基板又はウェーハを支持するように配置されたステージ１１を備える。ステージ１１と、それと共に対象物１と、を基準２０に対して水平移動方向ｙで移動させるために、アクチュエータ１２が設けられている。

[037] ステージ１１は、リニア又は平面ベアリング１３、例えば永久磁石又は電磁石を有する磁気ベアリング、エアベアリング、又はローラベアリングによって支持される。平面ベアリング１３は、移動方向ｙの剛性なしに又は相対的に非常に低い剛性をもって、ステージ１１を垂直方向（ｚ方向）で支持する。

[038] アクチュエータ１２と基準２０との間には、アクチュエータ１２から基準２０への反力の伝達を低減させるために、バランス・マス１４が配置される。基準２０は、例えば、リソグラフィ装置のベースフレーム又はメトロロジフレームなどのフレームである。

[039] ステージ１１がアクチュエータ１２によってステージ１１を正のｙ方向（例えば図２の右）に移動させるように作動されると、バランス・マス１４は、アクチュエータ１２の反力によって、負のｙ方向（例えば図２の左）に移動するであろう。典型的には、バランス・マス１４の質量はステージ１１の質量よりも実質的に大きく、例えば５：１の質量比である。こうした質量の差の結果、バランス・マス１４の負のｙ方向での変位は、ステージ１１の正のｙ方向での変位よりも実質的に小さくなるであろう。例えば、バランス・マス１４の質量とステージ１１の質量との質量比が５：１であれば、バランス・マス１４の変位とステージ１１の変位との変位比は１：５になるであろう。

[040] バランス・マス１４は、バランス・マス１４と基準２０に取り付けられたベース２１との間に複数の弾性ガイドデバイス３０を備える支持システムによって支持されている。図３は、バランス・マス１４及びバランス・マス１４を支持する弾性ガイドデバイス３０の上面図を示す。

[041] 複数の弾性ガイドデバイス３０は、バランス・マス１４を垂直なｚ方向で支持するように構築されている。すなわち、複数の弾性ガイドデバイス３０は、バランス・マス１４に作用する重力を相殺するための重力支持力を提供する。通常動作の際に垂直なｚ方向の揚力を提供するために、弾性ガイドデバイス３０はｚ方向に適当な剛性を有している。

[042] 移動方向ｙでのバランス・マス１４の移動に対応するために、弾性ガイドデバイス３０は、移動方向ｙでのバランス・マス１４の変位を許容すべきである。したがって、弾性ガイドデバイス３０は、バランス・マス１４の移動方向ｙには相対的に低い剛性を有するように設計されている。この、弾性ガイドデバイス３０の水平移動方向の相対的に低い剛性は、アクチュエータ１２の移動方向の反力を基準２０に最小限に伝達するために提供される。もっとも、弾性ガイドデバイス３０は、移動方向ｙにいくらかの剛性は有するであろう。

[043] ｙ方向の剛性を移動方向ｙの変位で乗算すると、バランス・マス１４にかかる静的撹乱力が求められる。バランス・マス１４を必要なときに移動範囲内の位置に維持するため、特に、弾性ガイドデバイス３０のこの静的撹乱力の結果としてバランス・マス１４が中央位置に戻るのを防止するために、バランス・マス・アクチュエータ１５が提供されてもよい。バランス・マス・アクチュエータ１５は、典型的には、バランス・マス１４の移動方向ｙに全く剛性を有さないか又は非常に低い剛性を有するアクチュエータ、例えばローレンツアクチュエータである。

[044] バランス・マス１４のｘ方向の移動に対応するために、弾性ガイドデバイス３０は、バランス・マス１４のｘ方向の変位も許容し得る。したがって、弾性ガイドデバイス３０は、ｘ方向にも相対的に低い剛性を有するように設計されている。

[045] バランス・マス１４を適切に支持するために、弾性ガイドデバイス３０のｚ方向の十分な剛性を有することには一般的な必要があるが、バランス・マス１４の質量が低減されるときには、弾性ガイドデバイス３０のｚ方向の高い剛性の必要は低減され得る。しかしながら、バランス・マス１４のそのような低減された質量は、ステージ１１の変位に反応して、より大きな変位を必要とするであろう。それによって、より大きなストロークは、弾性ガイドデバイス３０におけるより高い応力及び潜在的な疲労にも繋がるであろう。

[046] バランス・マス１４の質量の低減が望ましくない、又はバランス・マス１４の質量の増大さえ必要であり得るときには、弾性ガイドデバイス３０のｚ方向の剛性も増大される必要があり得る。弾性ガイドデバイス３０のｘ方向及び／又はｙ方向の剛性は、ｘ方向及び／又はｙ方向の剛性がバランス・マスの移動の性能に対して悪影響を有することを避けるために、弾性ガイドデバイス３０のｚ方向の剛性を増大させるときには増大すべきではなく、又は、少なくともある特定の最大剛性レベルを下回ったままであるべきである。よって、弾性ガイドデバイス３０のｚ方向の剛性とｘ方向及び／又はｙ方向の剛性との剛性比は、増大させるのが望ましいであろう。

[047] 図４及び図５は、それぞれ本発明の一態様による弾性ガイドデバイス３０の第１の実施形態の側面図及び上面図を示す。図４及び図５に示される弾性ガイドデバイス３０は、ｙ－ｚ平面内に延伸する第１のブレード３１と、ｘ－ｚ平面内に延伸する第２のブレード３２と、を備えている。図４及び図５において、弾性ガイドデバイス３０は非ロード状態で示されており、この状態では、第１のブレード３１及び第２のブレード３２は直交する平面内に延伸し、弾性ガイドデバイス３０には何の力も作用していない。弾性ガイドデバイス３０に力が作用すると、第１のブレード３１及び／又は第２のブレード３２は曲がり得る。その結果、第１のブレード３１と第２のブレード３２との間の角度も、互いに対して例えば８５度と９５度との間で変化し得る。

[048] 図４及び図５の図示される実施形態は、バランス・マス１４の２つの対向する角、例えば図３の右上と左下の角に配置されるように構成されているが、２つの他の角における弾性ガイドデバイス３０の構成は、図４及び図５に示される実施形態に関しては、ｘ－ｚ平面に鏡像反転されるであろう。

[049] 第１のブレード３１の第１の側３３はベース２１に取り付けられるように構成されており、第１の側３３とは反対の第１のブレード３１の第２の側３４は第２のブレード３２の第１の側３５に接続されている。第１の側３４とは反対の第２のブレード３２の第２の側３６は、バランス・マス１４に取り付けられるように構成されている。

[050] 第１のブレード３１は、その第１の側３３に第１の板バネ要素３７を、及びその第２の側３４に第２の板バネ要素３８を備えている。第１の板バネ要素３７と第２の板バネ要素３８との間には、第１の不撓性板要素３９が提供されている。第１の板バネ要素３７、第２の板バネ要素３８、及び第１の不撓性板要素３９は、第１のブレード３１の全高にわたって、すなわち第１のブレード３１のｚ方向の全長にわたって、延伸している。

[051] 第２のブレード３２は、その第１の側３５に、第１のブレード３１の第２の板バネ要素３８に接続された第２の不撓性板要素４０を備えている。第２のブレード３２の第２の側３６には、第２の不撓性板要素４０に接続されると共にバランス・マス１４に取り付けられるように構成された第３の板バネ要素４１が提供されている。第３の板バネ要素４１及び第２の不撓性板要素４０は、第２のブレード３２の高さの少なくとも一部にわたって、すなわち第１のブレード３２のｚ方向の長さの少なくとも一部にわたって、延伸している。第３の板バネ要素４１及び第２の不撓性板要素４０は、第２のブレード３２の全高にわたって、すなわち第１のブレード３２のｚ方向の全長にわたって、延伸していてもよい。

[052] 弾性ガイドデバイス３０は１つ以上の板バネ要素を備えているので、弾性ガイドデバイス３０は板バネデバイスとも表示され得る。弾性ガイドデバイス３０は、ｚ方向、例えば垂直方向にはバランス・マス１４を支持するための相対的に高い剛性を提供し、ｘ方向及びｙ方向にはこれらの水平方向での移動を許容するための相対的に低い剛性を提供するように構築される。バランス・マス１４の移動の範囲は、例えば、ｘ方向では２０から８０ｍｍ及びｙ方向では４０から１６０ｍｍである。これらの移動は弾性ガイドデバイス３０によって促進されなければならない。

[053] 第１の不撓性板要素３９及び第２の不撓性板要素４０などの不撓性板要素は、６自由度の全てにおいて高い剛性を提供するように設計される。第１の板バネ要素３７、第２の板バネ要素３８、及び第３の板バネ要素４１などの板バネ要素は、板要素が延伸する平面内では相対的に高い剛性を提供し、板要素が延伸する平面に垂直な方向では相対的に低い剛性を提供する板要素として設計されてもよい。

[054] 第３の板バネ要素４１はｚ方向に底端４２及び天端４３を備えており、底端４２及び天端４３の各々は、第３の板バネ要素４１の材料における応力ピークを底端４２及び天端４３でそれぞれ低減させるための丸みを帯びた凹部を備えている。底端４２及び天端４３のこれらの丸みを帯びた凹部によって、第３の板バネ要素４１の応力レベルは、特に底端４２及び天端４３において、実質的に低減され得る。その結果、弾性ガイドデバイス３０の信頼性が高まり、すなわち、疲労による第３の板バネ要素４１の故障のリスクが実質的に低減される。

[055] 一実施形態においては、第１の板バネ要素３７及び第２の板バネ要素３８も、底端４２及び／又は天端４３に、底端４２及び／又は天端４３のそれぞれにおいて応力レベルを低減させるように設計された、丸みを帯びた凹部を備え得る。

[056] 図４及び図５に示される弾性ガイドデバイス３０は更に、第１の板バネ要素３７に関連付けられたねじれ補強要素４４を備える。ねじれ補強要素４４は、第１の板バネ要素３７のねじれを少なくとも部分的に防止するために配置される。ねじれ補強要素４４は互いに対して鋭角で接続された２枚の薄板を備えており、一方の薄板が第１の板バネ要素３７の一方の側に取り付けられると共に、他方の薄板が第１板バネ要素３７の他方の側に取り付けられている。ねじれ補強要素４４は、ねじれ効果に対する第１の板バネ要素３７の耐性を向上させる。

[057] 各板バネ要素のねじれを少なくとも部分的に防止するために、同様のねじれ補強要素が他の板バネ要素３８，４１と共に用いられてもよい。図４及び図５に示されるねじれ補強要素４４は、第１の板バネ要素３７の高さのうち低い部分にのみ延伸している。他の実施形態においては、ねじれ補強要素４４は、板バネ要素の全高にわたって、又は各板バネ要素の他の部分にわたって延伸していてもよい。

[058] 図６及び図７は、それぞれ本発明の一態様による弾性ガイドデバイス３０の第２の実施形態の非ロード状態での側面図と上面図とを示す。弾性ガイドデバイス３０は、第１のブレード３１であってその第１のブレード３１の第１の側３３と第２の側３４との間に延伸する第１のブレードと、第２のブレード３２であってその第２のブレード３２の第１の側３５と第２の側３６との間に延伸する第２のブレードとを備える。第１のブレード３１の第１の側３３はベース２１に取り付けられるように構成されており、第２のブレード３２の第２の側３６はバランス・マス１４に接続されるように構成されている。

[059] 第１のブレード３１は、その第１の側３３に、図４及び図５の実施形態の第１の板バネ要素３７と同様の第１の板バネ要素３７を備えている。第２のブレード３２は、その第２の側３６に、図４及び図５の実施形態の第３の板バネ４１と同様の第２の板バネ要素４１を備えている。第１の板バネ要素３７は第１のブレード３１の第１の不撓性板要素３９に接続されており、第２の板バネ要素４１は第２のブレード３２の第２の不撓性板要素４０に接続されている。

[060] 第１のブレード３１と第２のブレード３２とはクロスフレクシャ５０によって互いに接続されている。クロスフレクシャ５０は、上板バネ要素５１、中板バネ要素５２、及び下板バネ要素５３を備えている。

[061] 図８は弾性ガイドデバイス３０のこの第２の実施形態の断面Ａ－Ａを示し、図９は断面Ｂ－Ｂを示す。断面Ａ－Ａは中板バネ要素５２と交差し、断面Ｂ－Ｂは下板バネ要素５３と交差している。

[062] 上板バネ要素５１及び下板バネ要素５３は第１のブレード３１に配置され、したがってｙ－ｚ平面内に延伸している。中板バネ要素５２は第２のブレード３２に配置され、ｘ－ｚ平面内に延伸している。上板バネ要素５１、中板バネ要素５２、及び下板バネ要素５３は、第１のブレード３１の第１の不撓性板要素３９と第２のブレード３２の第２の不撓性板要素４０との間に配置されている。第１の不撓性板要素３９及び第２の不撓性板要素４０には、上板バネ要素５１、中板バネ要素５２，及び下板バネ要素５３を収容するための凹部が配置されている。

[063] 弾性ガイドデバイス３０にクロスフレクシャ５０を設けることは、ｚ方向の剛性を、ｘ方向及び／又はｙ方向の剛性の対応する増大なしに、実質的に増大させることがわかっている。

[064] 図６から図９のクロスフレクシャ５０は、第１の不撓性板要素３９と第２の不撓性板要素４０との間に配置された３つの板バネ要素５１，５２，５３を備えている。より一般的には、クロスフレクシャとは、２つの本体、例えば２つの不撓性本体が、少なくとも２つの板バネ要素によって互いに接続されたフレクシャ構造である。すなわち、両方の板バネ要素が、一方の側では一方の本体に接続され他方の側では他方の本体に接続されており、その少なくとも２つの板バネ要素は２つの異なる方向、例えば直交する２方向に延伸している。２つの本体が直交する２方向に延伸している一実施形態においては、クロスフレクシャは、例えば、一方の本体が延伸する方向に平行な一方の板バネ要素と、他方の本体が延伸する方向に平行な他方の板バネ要素とを備え得る。

[065] 図１０及び図１１は、それぞれ本発明の一態様による弾性ガイドデバイス３０の第３の実施形態の非ロード状態での側面図と上面図とを示す。弾性ガイドデバイス３０は、ｙ－ｚ平面内で第１の側３３と第２の側３４との間に延伸する第１のブレード３１と、ｘ－ｚ平面内で第１の側３５と第２の側３６との間に延伸する第２のブレード３２と、を備える。第１のブレード３１と第２のブレード３２とは、第１のブレード３１の第２の側３４と第２のブレード３２の第１の側３５との間のノッチフレクシャ６０によって互いに接続されている。ノッチフレクシャ６０は第１のブレード３１と第２のブレード３２との間に相対的に薄い確実な接続を提供し、これはｚ方向で弾性ガイドデバイス３０の略全高にわたって延伸している。ノッチフレクシャ６０は、第１のブレード３１と第２のブレード３２との間のｚ軸まわりの回転Ｒｚを可能にする。ノッチフレクシャ６０によって提供される回転の範囲は、例えば、Ｒｚ方向において０．５度から４度であってもよい。

[066] 第１のブレード３１は、その第１の側３３には第１の不撓性要素６１を、その第２の側３４には第２の不撓性要素６２を備えている。第１の不撓性要素６１と第２の不撓性要素６２との間には、各々が第１の不撓性要素６１及び第２の不撓性要素６２に接続された２つの平行な板バネ要素６３ａ，６３ｂが配置されている。これに対応して、第２のブレードの第１の側３５には第３の不撓性要素６４が配置され、第２のブレード３２の第２の側３６には第４の不撓性要素６５が配置されている。第３の不撓性要素６４と第４の不撓性要素６５との間には、各々が第３の不撓性要素６４及び第４の不撓性要素６５に接続された２つの平行な板バネ要素６６ａ，６６ｂが配置されている。

[067] 平行な板バネ要素の利点は、平行な板バネ要素６３ａ，６３ｂ及び６６ａ，６６ｂは、板バネ要素が延伸する平面内では相対的に大きな剛性を提供し、板バネ要素が延伸する平面に垂直な方向では相対的に低い剛性を提供するということである。つまり、第１のブレード３１の板バネ要素６３ａ，６３ｂは、ｚ方向及びｙ方向では高い剛性を提供し得るが、ｘ方向では低い剛性を提供し得る。これに対応して、第２のブレード３２の平行な板バネ要素６６ａ，６６ｂは、ｚ方向及びｘ方向では相対的に高い剛性を提供し得るが、ｙ方向では低い剛性を提供し得る。

[068] したがって、図１０及び図１１の弾性ガイドデバイス３０の平行な板バネ要素は、ＸＹ移動についてはより低い剛性レベルを提供し、所与のストローク及び所与の最小限の垂直剛性／平面内剛性についてはより低い平面外剛性を提供する。後者はＢＭ質量及び動的性能に関係する。

[069] 図１０及び図１１の実施形態においては、第１のブレード３１及び第２のブレード３２の各々が２つの平行な板バネ要素を備えている。代替的な実施形態においては、第１のブレード３１と第２のブレード３２とのうち一方のみに平行な板バネ要素が設けられてもよい。また、板バネ要素の平面内の剛性と板バネ要素の平面に垂直な剛性との比を更に向上させるために、板バネ要素のブレードのうち１つ以上に、３つ以上の平行な板バネ要素が設けられてもよい。更に、平行な板バネ要素６３ａ，６３ｂ及び６６ａ，６６ｂは、ｙ方向及びｘ方向のそれぞれに沿って変化する厚さを有し得ることが指摘できる。特に、板バネ要素は、例えば下記で図１６において説明するように変化する厚さを有する断面を有し得る。代替的には、適用される平行な板バネ要素の厚さは、板バネ要素の中央部がより厚くてもよい。そのようにすることで、板バネ要素をより頑丈にすることができる。ｙ方向又はｘ方向に沿った厚さの変化は、連続的であってもよく、又は不連続的、すなわち段階的であってもよい。更に、ブレード３１及び３２のようなブレードを形成するための平行な板バネ要素の適用は、図２から図９の実施形態において有利に適用され得ることが指摘できる。特に、上述した不撓性板要素３９及び４０は、２つ以上の平行な板バネ要素を備える平行な板バネ配置によって置換され得る。そのような配置においては、平行な板バネ要素は、例えば、要素６１，６２，６４，又は６５のような不撓性要素によって離されていてもよい。そのような配置においては、板バネ要素３７，３８，又は４１のような板バネ要素が、不撓性要素６１をベースに接続するために、不撓性要素６２と６４とを接続するために、そして不撓性要素６５をバランス・マスに接続するために、それぞれ適用され得る。

[070] 図２から図１５に記載される実施形態には、図１６に示されるような板バネ要素を設けることができる。図１６は、（Ａ－Ａ）に沿った第１の板バネ要素３７の断面を示す。断面は、本実施形態においてはｚ方向である支持方向に垂直である。断面は、中央部１６２と２つの端部１６４Ａ及び１６４Ｂとを有する。中央部１６２は２つの端部１６４Ａ及び１６４Ｂの間にある。中央部１６２は２つの端部１６４Ａ，１６４Ｂよりも薄い。つまり、中央部１６２における板バネ要素３７の厚さは２つの端部１６４Ａ，１６４Ｂにおける板バネ要素３７の厚さよりも薄い。例えば、中央部１６２の厚さは、２つの端部１６４Ａ，１６４Ｂの厚さの０．５又は０．３又は０．１又は０．０１であってもよい。中央部１６２は、２つの端部１６４Ａ，１６４Ｂの一方から２つの端部１６４Ａ，１６４Ｂの他方まで延伸していてもよい。端部１６４Ａは第１の不撓性板要素３９に連結されていてもよい。端部１６４Ｂは第１の側３３に隣接していてもよい。図１６に示されるように、中央部１６２は湾曲している。湾曲は、第１の板バネ要素３７における応力を低減させるのに役立ち得る。中央部１６２は円の一部の形状に湾曲していてもよい。代替的には、中央部１６２は、放物線又は楕円の形状に湾曲していてもよい。図１６には第１の板バネ要素３７が示されている。しかしながら、この断面及び湾曲した中央部１６２は、第１の板バネ要素３７、第２の板バネ要素３８、第３の板バネ要素４１、上板バネ要素５１、中板バネ要素５２、下板バネ要素５３、又は任意の他の板バネ要素のうち１つ以上に適用され得る。本発明の一実施形態においては、適用される１つ又は複数の板バネ要素はこのように変化する厚さを有し得る。特に、厚さは、板バネ要素の中央部の厚さが板バネ要素の端部におけるよりも小さくなるように変化し得る。１つよりも多くの板バネ要素が適用される場合には、各板バネ要素の厚さ及び／又は厚さ変化は異なってもよい。一例として、図５に示される実施形態の板バネ要素３７，３８，及び４１は、各々が専用の厚さ及び厚さ変化を有し得る。

[071] 第１の板バネ要素３７は、図１７に示されるように、複数のサブ要素に分割されてもよい。サブ要素は支持方向（ｚ）に沿って配置される。サブ要素３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃは、支持方向に沿って互いに分離されている。第１の板バネ要素３７は３つのサブ要素３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃに分割される。一実施形態においては、２つのサブ要素があるか、又は３つよりも多くのサブ要素がある。第１の板バネ要素３７を複数のサブ要素３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃに分割することによって、板バネ要素３７にかかる応力は低減され得る。サブ要素３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃの片側は第１の側３３にある。反対側では、サブ要素３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃは第１の不撓性板要素３９に連結されている。１つ以上の端部において、サブ要素３７Ａ，３７Ｂ，３７Ｃは、１つ以上の中間体を介して互いに連結されていてもよい。中間体のうち１つは第１の不撓性板要素３９に接続されていてもよい。第１の板バネ要素３７と同様に、第２の板バネ要素３８は、複数のサブ要素３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃに分割され得る。サブ要素３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃは支持方向（ｚ）に沿って配置される。サブ要素３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃは、支持方向に沿って互いに分離されている。第２の板バネ要素３８は3つのサブ要素３８Ａ，３８Ｂ，３８Ｃに分割される。一実施形態においては、２つのサブ要素があるか、又は３つよりも多くのサブ要素がある。

[072] 図１７には第１の板バネ要素３７及び第２の板バネ要素３８が示されている。しかしながら、サブ要素は、第１の板バネ要素３７、第２の板バネ要素３８、第３の板バネ要素４１、上板バネ要素５１、中板バネ要素５２、下板バネ要素５３、又は任意の他の板バネ要素のうち１つ以上に適用され得る。更に、複数のサブ要素を備える板バネ要素が適用される場合には、それらのサブ要素は異なる寸法又は材料特性を有し得ることが指摘できる。特に、サブ要素は同じ高さ又は幅又は厚さを有する必要はなく、同じ材料から作製される必要もない。更に、隣接するサブ要素間の間隙も同じ寸法を有する必要はないことが指摘できる。したがって、図１７を参照すると、サブ要素３７Ａとサブ要素３７Ｂとの間のｚ方向の間隙は、サブ要素３７Ｂとサブ要素３７Ｃとの間のｚ方向の間隙と同じである必要はない。本発明による弾性ガイドデバイスが複数の細分割された板バネ要素を含む場合、適用される細分割は、異なる板バネ要素については異なっていてもよい。

[073] 図１２及び図１３は、本発明の一態様による弾性ガイドデバイス７０の第４の実施形態の２つの側面図を示す。図１４は弾性ガイドデバイス７０の断面Ｃ－Ｃを示し、図１５は断面Ｄ－Ｄを示す。

[074] 本実施形態においては、質量、例えばバランス・マスを少なくとも部分的に支持方向で支持するために、逆振り子が用いられる。支持方向は、図示される実施形態においては、ｚ方向である。弾性ガイドデバイス７０は、支持方向に延伸する支持ロッド７１を備えている。弾性ガイドデバイス７０は更に、板状の中間支持要素７２を備えている。支持ロッド７１の上端は質量、例えばバランス・マスに接続されるように配置される。支持ロッド７１の下端は中間支持要素７２上に支持される。支持ロッド７１の上端に接続された質量を支持するように且つ少なくともｘ方向及びｙ方向での中間支持要素の移動を可能にするように中間支持要素７２を吊り下げ位置に保持するために、吊り下げデバイス７３が提供される。

[075] 弾性ガイドデバイス７０によって形成される逆振り子は低い安定性を有し得るので、弾性ガイドデバイス７０の安定性を高めるために、受動又は能動拘束不足エリミネータのような安定化要素が提供されてもよい。

[076] 吊り下げデバイス７３は、ベース２１に取り付けられる吊り下げフレーム７４を備えている。吊り下げデバイス７３は更に、第１対の板バネ要素７５及び第２対の板バネ要素７６と、穴を有する支持板７７と、を備えており、支持ロッド７１はその穴を通って延伸している。

[077] 第１対の板バネ要素７５の板バネ要素はｘ－ｚ平面内に延伸しており、第２対の板バネ要素７６の板バネ要素はｙ－ｚ平面内に延伸している。第１対の板バネ要素７５は吊り下げフレーム７４から吊り下げられており、支持板７７は第１対の板バネ要素７５の下端に取り付けられている。第２対の板バネ要素７６は支持板７７から吊り下げられており、中間支持要素７２は第２対の板バネ要素７６の下端に取り付けられている。

[078] 図１２から図１５に示される弾性ガイドデバイス７０の利点は、支持ロッドのｘ方向及び／又はｙ方向の移動によって引き起こされる支持ロッド７１の屈曲に起因する支持ロッド７１の上端のたるみが、吊り下げデバイス７３によって、少なくとも部分的に補償され得るということである。支持ロッド７１のｘ方向及び／又はｙ方向の移動は、中間支持要素７２のｘ方向及び／又はｙ方向の移動をもたらすであろう。この中間支持要素７２のｘ方向及び／又はｙ方向の移動は、吊り下げフレーム７４に対する中間支持要素７２の上昇をもたらすであろう。この中間支持要素７２の上昇は、少なくとも支持ロッドの下端も上昇させ、それによって支持ロッド７１の上端のたるみを少なくとも部分的に補償するであろう。

[079] 支持ロッド７１の上端には、上板７８、中板７９、及び下板８０が配置されている。上板７８と中板７０との間には、第１のノッチフレクシャ８１が設けられている。第１のノッチフレクシャ８１はｘ方向に延伸しており、したがって、ｘ方向に延伸する第１の回転軸（Ｒｘ）を中心とした回転を可能にする。中板７９と下板８０との間には、第２のノッチフレクシャ８２が設けられている。第２のノッチフレクシャ８２はｙ方向に延伸しており、したがって、ｙ方向に延伸する第２の回転軸（Ｒｙ）を中心とした回転を可能にする。Ｒｘ及び／又はＲｙ回転方向の可撓性が不要である場合には、第１のノッチフレクシャ８１及び／又は第２のノッチフレクシャ８２は省略されてもよい。

[080] 更に、支持ロッド７１は、ｚ方向に延伸する回転軸（Ｒｚ）まわりの回転における弾性ガイドデバイス７０の応力を低減させるために、支持ロッドの縦軸まわりのいくらかのねじれを許容するように構築され得る。

[081] 上述した板バネデバイスのような弾性ガイドデバイスの実施形態においては、適用されるブレードの板バネは、支持方向、例えば垂直方向に平行な軸まわりの回転を可能にするように配置される。そうするために、適用される板バネ、例えば図４及び図５の板バネ３７，３８，４１は、それらの縦軸が支持方向、例えば垂直方向に延伸するように構築される。そうすることによって、ブレードの不撓性要素は、支持方向まわりに旋回し得る。

[082] しかしながら、支持方向に平行な軸まわりの回転を可能にする板バネの適用は、支持される対象物又は質量の支持方向での望ましくない変位ももたらし得ることが観察されている。これは以下のように説明され得る。

[083] ブレードが、基準、例えばベースフレームに対して質量を支持するために適用されると想定する。そのような配置が図１８に概略的に示されている。図１８は、対象物１８００とベース又はベースフレーム１８１０とを概略的に示しており、質量はブレード１８２０を介してベースフレーム１８１０によって支持され、ブレード１８２０は、ベース１８１０に接続された第１の板バネ要素１８２２と、対象物１８００に接続された第２の板バネ要素１８２４とを備えている。第１の板バネ要素１８２２と第２の板バネ要素１８２４との間には、第１の不撓性板要素１８２６が設けられている。本発明の意味においては、不撓性要素とは、概して板バネ又は板バネ要素よりも大きい又は実質的に大きい剛性を有する要素又はコンポーネントを指す。不撓性要素又は不撓性板要素は、本発明の意味においては、６自由度の全てにおいて高い剛性を有するであろうが、その一方で板バネ要素は、少なくとも１自由度で低い剛性を有するであろう。言い換えると、「不撓性」という特徴は、ブレードが、変形するように、例えば支持方向に垂直な平面内で歪むように作製される場合、その変形は、ブレードの不撓性要素においてではなく主に板バネ要素において生じることを指して用いられる。そのような不撓性要素は、補強要素とも称され得る。実用では、全ての機械的コンポーネントはある程度変形可能であり得、したがって絶対的な意味で不撓性ではないことが認識できる。ブレード１８２０の上面図を示す図１９に見られるように、板バネ要素１８２２及び１８２４は、不撓性又は補強板要素１８２６と比較して減少された厚さを有しており、このことは、不撓性又は補強板要素１８２６が垂直軸又はＺ方向まわりに旋回することを可能にする。なお、一実施形態においては、板バネ１８２２及び／又は１８２４は、図１６に概略的に示されるような断面を有し得る。図１８及び図１９において、参照番号１８３０は、ブレード１８２０がベースフレーム１８１０及び対象物１８００に接続されることを可能にする、ブレード１８２０のインターフェイス１８３０を指している。なお、そのようなインターフェイスは、ブレードと一体の部分であってもよいし、又は板バネの厚くなった端部であってもよい。図示される実施形態においては、第１の板バネ要素１８２２、第２の板バネ要素１８２４、及び第１の不撓性板要素１８２６は、ブレード１８２０の全高Ｈにわたって、すなわち第１のブレード１８２０の支持方向、すなわちＺ方向の全長にわたって、延伸している。言い換えると、図示される配置においては、板バネ１８２２，１８２４の縦軸１８２２．１，１８２４．１は、支持方向に延伸するか、又は支持方向、すなわちＺ方向に平行である。

[084] なお、図１８に概略的に示されるブレード１８２０の構造は、図４及び図５に示されるブレード３１の構造に実質的に対応している。

[085] ブレード１８２０が質量又は対象物１８００を垂直方向で支持するために用いられるとき、ブレード１８２０は垂直方向で変形するであろうことが観察され得る。対象物１８００の重さに起因して、ブレードは、対象物１８００が下降するように変形するであろう。図示される実施形態においては、ブレード１８２０は、例えば、垂直方向では、左側で、すなわちベースフレーム１８１０との接続で固定されていると考えられてもよく、その一方で、右側では対象物１８００の重さに対応する力がブレードに作用する。また、ブレードが水平面内でも歪むときには、ブレードの垂直方向の変形は一定のままではないことが、シミュレーションによって観察されている。

[086] 一例として、およそ４００ｍｍの長さとおよそ２００ｍｍの高さを有するブレードが、例えば２０００Ｎの対象物を支持するものと考える。そのような負荷は、水平面内で歪みがないときには、垂直方向で例えば７０μｍの変形を引き起こし得るが、その一方で、負荷が水平方向でも歪む、例えば水平方向で４０ｍｍを超えて歪むときには、垂直方向で例えば９０μｍの歪みを引き起こし得る。このように、対象物１８００とベースフレーム１８１０との間の水平方向において４０ｍｍを超える歪みが適用されるときには、およそ２０μｍの垂直変位の増大が起こる。

[087] 図１９は、対象物１８００がベースフレーム１８１０に対して水平方向、特に表示されるＸ方向で変位されるときの、ベースフレーム１８１０と対象物１８００との間に接続されたブレード１８２０の上面図を概略的に示す。ブレードが点線ｘｘで示される公称位置にあるときの位置と比べて、ブレードが水平面内で歪むときには、ブレード１８２０の垂直方向の変形は大きくなる。よって、対象物１８００、例えばセンサ又はカメラ又はステージは、水平方向で変位されるとき、直線に沿って変位するのではなく、垂直方向で放物線様の軌道を辿るであろう。本発明の意味において、水平方向の変位によって引き起こされる垂直方向又は支持方向の変化する変位は、寄生変形と称される。

[088] ブレード１８２０のそのような変化する変形は、水平面内での歪みに応じた対象物の可変垂直位置をもたらすので、望ましくないであろうことが指摘できる。

[089] また、変化する垂直変形は、ブレードが水平面内で移動する際のブレードの変化する剛性によって引き起こされることが指摘できる。

[090] 上記で挙げた例については、ブレード１８２０の剛性は、公称位置では２０００Ｎ／７０μｍであり、ブレード１８２０が水平面内で４０ｍｍを超えて歪められるときには２０００Ｎ／９０μｍである。

[091] 本発明の一態様によれば、ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスが提供され、弾性ガイドデバイスは、前述の悪影響を緩和することを可能にするブレードを含む。特に、本発明の一態様によれば、ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスが提供され、弾性ガイドデバイスは第１の平面内に延伸するブレードを含み、ブレードは板バネ要素を有し、板バネ要素は支持方向に対して非ゼロの角度にわたって傾斜した縦軸を有する。

[092] 一実施形態においては、縦軸は、ブレードが第１の平面に垂直な方向に歪むとき、支持方向のブレードの寄生変形を補償するように傾斜している。一実施形態においては、本発明は、弾性支持デバイスにおいて用いられるブレードを提供し、ブレードは、ブレードを第１の構造に接続するための第１のインターフェイスと、ブレードを第２の構造に接続するための第２のインターフェイスと、を備えている。ブレードは更に、第１の板バネ要素と、不撓性要素と、第２の板バネ要素と、を備えており、第１の板バネは第１のインターフェイスを不撓性要素の第１の側に接続するように配置され、第２の板バネは第２のインターフェイスを不撓性要素の反対の第２の側に接続するように配置され、板バネのうち少なくとも１つは弾性支持デバイスの支持方向に対して非ゼロの角度にわたって傾斜した縦軸を有する。

[093] そのようなブレードが図２０に概略的に示されている。図２０は、弾性支持デバイスにおいて用いられるブレード２０００を概略的に示す。図示される実施形態において、ブレード２０００は、図１８及び図１９に示されるブレード１８２０と同じように、ベースフレーム１８１０と対象物１８００との間に配置されている。図示される実施形態においては、ブレード２０００は、ブレード２０００を第１の構造、すなわちベース又はベースフレーム１８１０に接続するための第１のインターフェイス２０１０と、ブレード２０００を第２の構造、すなわち支持される対象物１８００に接続するための第２のインターフェイス２０２０と、を備えている。ブレードは更に、第１の板バネ要素２０３０と、不撓性要素２０４０と、第２の板バネ要素２０５０と、を備えており、第１の板バネ２０３０は第１のインターフェイス２０１０を不撓性要素２０４０の第１の側に接続するように配置され、第２の板バネ２０５０は第２のインターフェイス２０２０を不撓性要素２０４０の反対の第２の側に接続するように配置され、板バネのうち少なくとも１つは弾性支持デバイスの支持方向、特に図示されるＺ方向に対して非ゼロの角度にわたって傾斜した縦軸２０６０を有する。

[094] 支持方向に対する板バネの縦軸の非ゼロの角度の適当な選択によって、対象物１８００がベースフレーム１８１０に対して水平方向で変位されるときに発生する寄生変形が緩和又は軽減され得ることが、発明者によって観察されている。

[095] 図示される実施形態においては、板バネ２０３０及び２０５０の両方が、支持方向に対して非ゼロの角度αにわたって傾斜している、すなわちそれらの縦軸２０６０を傾斜させている。所与のブレード及びベースフレーム１８１０に対する対象物１８００の必要な水平変位について、発生するであろう寄生変形を実質的に軽減する角度αが決定され得ることが観察されている。上記で挙げたおよそ４００ｍｍの長さを有するブレード及びおよそ４０ｍｍの必要な水平変位の例については、０．０９度、又は１．６２ｍｒａｄの傾斜を選択することによって、寄生変形、すなわちおよそ２０μｍの増大された垂直変位が実質的に軽減され得ることが観察されている。よって、上記の傾斜が適用されるとき、対象物１８００は、放物線様の軌道を辿るのではなく、水平面内で変位するときの略直線状の線に沿って変位させることができる。

[096] 本発明の好適な一実施形態においては、本発明によるブレードにおいて適用される両方の板バネが、縦軸と支持方向との間で略同じ非ゼロの角度を有する。

[097] 例えば上述したもののような本発明によるブレードは、本発明による弾性ガイドデバイス又は位置決めデバイスにおいて有利に適用され得る。そのような位置決めデバイスにおける本発明によるブレードの適用は、上述したブレードと、ひいては位置決めされる対象物との寄生変形を緩和又は回避することを可能にする。本発明による位置決めデバイスを用いて位置決めすることのできる対象物の例は、ステージ、センサ、バランス・マス、又は質量一般を含む。

[098] 一実施形態においては、本発明による位置決めデバイスは、例えば、位置決めデバイスのアクチュエータから基準又は基準フレームへの反力の伝達を低減させるためのバランス・マス配置を有し得る。そのような実施形態においては、位置決めデバイスは更に、バランス・マスを支持するための支持デバイスを備えていてもよく、支持デバイスは、本発明によるブレードを含む少なくとも１つの弾性ガイドデバイスを備える。

[099] 有利なことには、そのような位置決めデバイスは、リソグラフィ装置、又は検査装置、例えば粒子ビーム装置など、他の装置において適用されてもよい。後者の一例としては、電子ビーム検査装置が挙げられる。よって、そのような電子ビーム検査装置において、位置決めデバイスは、バランス・マスと、バランス・マスを支持するための支持デバイスと、を含み得る。

[0100] 以上には、質量を支持するためのｚ方向、例えば垂直方向の相対的に高い剛性を、ｘ方向の移動を可能にするためのこの水平方向の相対的に低い剛性と組み合わせて提供するように構築された、板バネデバイスなど、弾性ガイドデバイスの様々な実施形態が記載されている。弾性ガイドデバイスは、位置決めデバイス、例えばリソグラフィ装置において基板を位置決めするための位置決めデバイスの、バランス・マスの支持に関して記載されている。弾性ガイドデバイスは、第１の方向、例えばｚ方向の相対的に大きな剛性と、少なくとも１つの他の方向、例えばｘ方向の相対的に低い剛性とが必要であるときに、任意の他の質量を支持するためにも用いられ得る。なお、記載される実施形態のうちいくつかは、ｙ方向にも相対的に低い剛性を有し、この水平方向の移動も可能にしている。

[0101] また、図４及び図５の実施形態に関して記載されるねじれ補強要素４４は、弾性ガイドデバイスの他の実施形態、例えば本願において示され記載される他の実施形態でも、そのようなねじれ補強要素に関連付けられた各板バネ要素のねじれを少なくとも部分的に防止するために、適用され得る。

[0102] 本発明の他の態様は、以下の条項に従って記載される。
１．ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスであって、
第１の平面内に延伸する第１のブレードと、
第２の平面内に延伸する第２のブレードと、を備えており、
第１の平面及び第２の平面は、いずれも支持方向に延伸し、
第１のブレードの第１の側は、ベースに接続されており、
第１のブレードの第１の側とは反対の第１のブレードの第２の側は、第２のブレードの第１の側に接続されており、
第２のブレードの第１の側とは反対の第２のブレードの第２の側は、質量に接続されており、
第１のブレードは、少なくとも１つの不撓性要素と少なくとも１つの板バネ要素とを備え、
少なくとも１つの板バネ要素は、第１のブレードの全長にわたって支持方向に延伸し、
第２のブレードは、少なくとも１つの不撓性要素と少なくとも１つの板バネ要素とを備え、
少なくとも１つの板バネ要素は、第２のブレードの全長にわたって支持方向に延伸し、
第１のブレードの第２の側は、クロスフレクシャによって第２のブレードの第１の側に接続されている、弾性ガイドデバイス。
２．クロスフレクシャは、第１のブレードに配置された第１の板バネ要素及び第２の板バネ要素と、第２のブレードにおける第３の板バネ要素と、を備えており、
支持方向で見ると、第３の板バネ要素は、第１の板バネ要素と第２の板バネ要素との間に配置されている、条項１に記載の弾性ガイドデバイス。
３．第１の平面及び第２の平面は、互いに対して略垂直である、条項１又は２に記載の弾性ガイドデバイス。
４．支持方向は、垂直方向である、条項１から３の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
５．弾性ガイドデバイスは、板バネ要素のうちの１つに関連付けられると共に各板バネ要素のねじれを少なくとも部分的に防止するように配置された少なくとも１つのねじれ補強要素を備える、条項１から４の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
６．板バネ要素は、支持方向に底端及び天端を備えており、
底端及び天端のうち少なくとも一方は、板バネ要素の材料における応力ピークを底端及び天端でそれぞれ低減させるための丸みを帯びた凹部を備える、条項１から５の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
７．ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスであって、
第１の平面内に延伸する第１のブレードと、
第２の平面内に延伸する第２のブレードと、を備えており、
第１の平面及び第２の平面は、いずれも支持方向に延伸し、
第１のブレードの第１の側は、ベースに接続されており、
第１のブレードの第１の側とは反対の第１のブレードの第２の側は、第２のブレードの第１の側に接続されており、
第２のブレードの第１の側とは反対の第２のブレードの第２の側は、質量に接続されており、
第１のブレード及び第２のブレードのうち少なくとも一方は、いずれも第１のブレード及び／又は第２のブレードのそれぞれ全長にわたって支持方向に延伸する第１の不撓性要素及び第２の不撓性要素と、各々が第１の不撓性要素と第２の不撓性要素との間に延伸する少なくとも２つの平行な板バネ要素と、を備えている、弾性ガイドデバイス。
８．第１のブレードは、いずれも第１のブレードの全長にわたって支持方向に延伸する第１の不撓性要素及び第２の不撓性要素と、各々が第１の不撓性要素と第２の不撓性との間に延伸する少なくとも２つの第１の板バネ要素と、を備えており、
第２のブレードは、いずれも第２のブレードの全長にわたって支持方向に延伸する第３の不撓性要素及び第４の不撓性要素と、各々が第３の不撓性要素と第４の不撓性要素との間に延伸する少なくとも２つの第２の板バネ要素と、を備えている、条項７に記載の弾性ガイドデバイス。
９．第１のブレードの第２の側は、支持方向に延伸するノッチフレクシャによって、第２のブレードの第１の側に接続されている、条項７又は８に記載の弾性ガイドデバイス。
１０．第１の平面及び第２の平面は、互いに対して略垂直である、条項７から９の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
１１．支持方向は、垂直方向である、条項７から１０の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
１２．弾性ガイドデバイスは、板バネ要素のうちの１つに関連付けられると共に各板バネ要素のねじれを少なくとも部分的に防止するように配置された少なくとも１つのねじれ補強要素を備える、条項７から１１の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
１３．板バネ要素は、支持方向に底端及び天端を備えており、
底端及び天端のうち少なくとも一方は、板バネ要素の材料における応力ピークを底端及び天端でそれぞれ低減させるための丸みを帯びた凹部を備える、条項７から１２の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
１４．ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスであって、少なくとも１つの板バネ要素を備えており、
少なくとも１つの板バネ要素は、支持方向に延伸し、
少なくとも１つの板バネ要素は、支持方向に底端と天端とを備え、
底端及び天端のうち少なくとも一方は、少なくとも１つの板バネ要素の材料における応力ピークを底端及び天端でそれぞれ低減させるための丸みを帯びた凹部を備えている、弾性ガイドデバイス。
１５．板バネ要素のうち少なくとも１つは、支持方向に垂直な断面を有しており、
断面は、中央部と２つの端部とを有しており、
中央部は、２つの端部の間にあり、
中央部は、２つの端部よりも薄い、条項１から１４の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
１６．中央部は、湾曲している、条項１５の弾性ガイドデバイス。
１７．中央部は、円の一部、放物線、又は楕円の形状に湾曲している、条項１６の弾性ガイドデバイス。
１８．板バネ要素のうち少なくとも１つは、複数のサブ要素に分割され、
サブ要素は、支持方向に沿って配置され、
サブ要素は、支持方向に沿って互いに分離されている、条項１から１７の何れか一項の弾性ガイドデバイス。
１９．板バネ要素のうち少なくとも１つは、３つのサブ要素に分割される、条項１８の弾性ガイドデバイス。
２０．ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスであって、
支持方向に延伸する支持ロッドと、
中間支持要素であって、支持ロッドの上端が質量に接続され支持ロッドの下端が中間支持要素上に支持される、中間支持要素と、
ベースに取り付けられると共に中間支持要素を吊り下げるように及び少なくとも支持方向に垂直な第１の方向での中間支持要素の移動を可能にするように配置された吊り下げデバイスと、
を備える、弾性ガイドデバイス。
２１．吊り下げデバイスは、少なくとも第１の方向及び支持方向の両方に垂直な第２の方向での中間支持要素の移動を可能にするように配置されている、条項２０に記載の弾性ガイドデバイス。
２２．支持ロッドの上端は、支持方向に垂直な第１の方向に延伸する第１のノッチフレクシャを備える、条項２０又は２１に記載の弾性ガイドデバイス。
２３．支持ロッドの上端は、第１の方向及び支持方向の両方に垂直な第２の方向に延伸する第２のノッチフレクシャを備える、条項２２に記載の弾性ガイドデバイス。
２４．支持方向は、垂直方向である、条項２０から２３の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
２５．対象物を変位させるように構成された位置決めデバイスであって、
対象物を支持するためのステージと、
ステージを基準に対して移動方向で移動させるためのアクチュエータと、
アクチュエータから基準への反力の伝達を低減させるためにアクチュエータと基準との間に配置されたバランス・マスと、
バランス・マスを支持するために基準とバランス・マスとの間に配置された支持デバイスであって、少なくとも１つの条項１から２４の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイスを備える、支持デバイスと、
を備える、位置決めデバイス。
２６．条項２５の位置決めデバイスを備える、リソグラフィ装置。
２７．弾性支持デバイスにおいて用いられるブレードであって、ブレードは、平面内に延伸すると共に、
ブレードを第１の構造に接続するための第１のインターフェイスと、
ブレードを第２の構造に接続するための第２のインターフェイスと、
第１の板バネ要素と、不撓性要素と、第２の板バネ要素と、を備えており、
第１の板バネは、第１のインターフェイスを不撓性要素の第１の側に接続するように配置され、
第２の板バネは、第２のインターフェイスを不撓性要素の反対の第２の側に接続するように配置され、
板バネのうち少なくとも１つは、弾性支持デバイスの支持方向に対して非ゼロの角度にわたって傾斜した縦軸を有する、ブレード。
２８．両方の板バネが大体同じ非ゼロの角度傾斜している、条項２７に記載のブレード。
２９．非ゼロの角度は、ブレードの寄生変形を少なくとも部分的に補償するように構成されている、条項２７又は２８に記載のブレード。
３０．ブレードの寄生変形は、第１の構造が第２の構造に対して平面に垂直な方向で変位されるときのブレードの支持方向の変形を備える、条項２９に記載のブレード。
３１．ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスであって、
条項２７から３０の何れか一項に記載の少なくとも１つのブレードを備えており、
ベースは、第１の構造を備え、
質量は、第２の構造を備える、弾性ガイドデバイス。
３２．対象物を変位させるように構成された位置決めデバイスであって、
対象物を支持するためのステージと、
ステージを基準に対して移動方向で移動させるためのアクチュエータと、
アクチュエータから基準への反力の伝達を低減させるためにアクチュエータと基準との間に配置されたバランス・マスと、
バランス・マスを支持するために基準とバランス・マスとの間に配置された支持デバイスであって、少なくとも１つの条項３１に記載の弾性ガイドデバイスを備える、支持デバイスと、
を備える、位置決めデバイス。
３３．条項３２に記載の位置決めデバイスを備える、粒子ビーム装置。
３４．粒子ビーム装置は、電子ビーム装置である、条項３３に記載の粒子ビーム装置。

[0103] 本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用ガイダンス及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板プロセスツールに適用することができる。更に基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。

[0104] 光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組み合わせを適用することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。

[0105] 以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ以上のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。上記の説明は例示的であり、限定的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。

Claims (15)

1. ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスであって、
   第１の平面内に延伸する第１のブレードと、
   第２の平面内に延伸する第２のブレードと、を備えており、
   前記第１の平面及び前記第２の平面は、いずれも前記支持方向に延伸し、
   前記第１のブレードの第１の側は、前記ベースに接続されており、
   前記第１のブレードの前記第１の側とは反対の前記第１のブレードの第２の側は、前記第２のブレードの第１の側に接続されており、
   前記第２のブレードの前記第１の側とは反対の前記第２のブレードの第２の側は、前記質量に接続されており、
   前記第１のブレードは、少なくとも１つの不撓性要素と少なくとも１つの板バネ要素とを備え、
   前記少なくとも１つの板バネ要素は、前記第１のブレードの全長にわたって前記支持方向に延伸し、
   前記第２のブレードは、前記少なくとも１つの不撓性要素と少なくとも１つの板バネ要素とを備え、
   前記少なくとも１つの板バネ要素は、前記第２のブレードの全長にわたって前記支持方向に延伸し、
   前記第１のブレードの前記第２の側は、クロスフレクシャによって前記第２のブレードの前記第１の側に接続されている、弾性ガイドデバイス。
2. 前記クロスフレクシャは、前記第１のブレードに配置された第１の板バネ要素及び第２の板バネ要素と、前記第２のブレードにおける第３の板バネ要素と、を備えており、
   前記支持方向で見ると、前記第３の板バネ要素は、前記第１の板バネ要素と前記第２の板バネ要素との間に配置されている、請求項１に記載の弾性ガイドデバイス。
3. 前記第１の平面及び前記第２の平面は、互いに対して略垂直である、請求項１又は２に記載の弾性ガイドデバイス。
4. 前記支持方向は、垂直方向である、請求項１から３の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
5. 前記弾性ガイドデバイスは、前記板バネ要素のうちの１つに関連付けられると共に前記各板バネ要素のねじれを少なくとも部分的に防止するように配置された少なくとも１つのねじれ補強要素を備える、請求項１から４の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
6. ベースに対して支持方向で質量を支持するための弾性ガイドデバイスであって、
   第１の平面内に延伸する第１のブレードと、
   第２の平面内に延伸する第２のブレードと、を備えており、
   前記第１の平面及び前記第２の平面は、いずれも前記支持方向に延伸し、
   前記第１のブレードの第１の側は、前記ベースに接続されており、
   前記第１のブレードの前記第１の側とは反対の前記第１のブレードの第２の側は、前記第２のブレードの第１の側に接続されており、
   前記第２のブレードの前記第１の側とは反対の前記第２のブレードの第２の側は、前記質量に接続されており、
   前記第１のブレード及び前記第２のブレードのうち少なくとも一方は、いずれも前記第１のブレード及び／又は第２のブレードのそれぞれ全長にわたって支持方向に延伸する第１の不撓性要素及び第２の不撓性要素と、各々が前記第１の不撓性要素と前記第２の不撓性要素との間に延伸する少なくとも２つの平行な板バネ要素と、を備えている、弾性ガイドデバイス。
7. 前記第１のブレードは、いずれも前記第１のブレードの全長にわたって支持方向に延伸する前記第１の不撓性要素及び前記第２の不撓性要素と、各々が前記第１の不撓性要素と前記第２の不撓性要素との間に延伸する少なくとも２つの第１の板バネ要素と、を備えており、
   前記第２のブレードは、いずれも前記第２のブレードの全長にわたって支持方向に延伸する第３の不撓性要素及び第４の不撓性要素と、各々が前記第３の不撓性要素と前記第４の不撓性要素との間に延伸する少なくとも２つの第２の板バネ要素と、を備えている、請求項６に記載の弾性ガイドデバイス。
8. 前記第１のブレードの前記第２の側は、前記支持方向に延伸するノッチフレクシャによって、前記第２のブレードの前記第１の側に接続されている、請求項６又は７に記載の弾性ガイドデバイス。
9. 前記板バネ要素のうち前記少なくとも１つは、前記支持方向に垂直な断面を有しており、
   前記断面は、中央部と２つの端部とを有しており、
   前記中央部は、前記２つの端部の間にあり、
   前記中央部は、前記２つの端部よりも薄い、請求項１から８の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイス。
10. 前記中央部は、湾曲している、請求項９の弾性ガイドデバイス。
11. 前記中央部は、円の一部、放物線、又は楕円の形状に湾曲している、請求項１０の弾性ガイドデバイス。
12. 前記板バネ要素のうち少なくとも１つは、複数のサブ要素に分割され、
    前記サブ要素は、前記支持方向に沿って配置され、
    前記サブ要素は、前記支持方向に沿って互いに分離されている、請求項１から１１の何れか一項の弾性ガイドデバイス。
13. 前記板バネ要素のうち前記少なくとも１つは、３つのサブ要素に分割される、請求項１２の弾性ガイドデバイス。
14. 対象物を変位させるように構成された位置決めデバイスであって、
    前記対象物を支持するためのステージと、
    前記ステージを基準に対して移動方向で移動させるためのアクチュエータと、
    前記アクチュエータから前記基準への反力の伝達を低減させるために前記アクチュエータと前記基準との間に配置されたバランス・マスと、
    前記バランス・マスを支持するために前記基準と前記バランス・マスとの間に配置された支持デバイスであって、少なくとも１つの請求項１から１３の何れか一項に記載の弾性ガイドデバイスを備える、支持デバイスと、
    を備える、位置決めデバイス。
15. 請求項１４の位置決めデバイスを備える、リソグラフィ装置。
    

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