JP7328008B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
出力端子と、を備え、前記入力端子と前記出力端子との間に介在する素子として前記対象素子が前記半導体集積回路内に設けられ、前記入力電圧に基づく電流が前記入力端子、前記対象素子及び前記出力端子を経由する対象電路を流れることで前記対象素子が発熱し、前記制御回路は、前記温度差保護信号に基づき前記対象素子を制御することで前記対象電路の形成又は遮断を行う構成(第2の構成)であっても良い。
本発明の実施形態においてICとは集積回路(Integrated Circuit)の略称である。
グランドとは、基準となる0V(ゼロボルト)の電位を有する導電部を指す又は0Vの電位そのものを指す。0Vの電位をグラント電位と称することもある。本発明の実施形態において、特に基準を設けずに示される電圧は、グランドから見た電位を表す。
レベルとは電位のレベルを指し、任意の信号又は電圧についてハイレベルはローレベルよりも高い電位を有する。或る任意の注目した信号について、注目した信号がハイレベルであるとき、当該注目した信号の反転信号はローレベルをとり、注目した信号がローレベルであるとき、当該注目した信号の反転信号はハイレベルをとる。
FET(電界効果トランジスタ)として構成された任意のトランジスタについて、オン状態とは、当該トランジスタのドレイン及びソース間が導通状態となっていることを指し、オフ状態とは、当該トランジスタのドレイン及びソース間が非導通状態(遮断状態)となっていることを指す。FETに分類されないトランジスタ(バイポーラトランジスタ等)についても同様である。以下、オン状態、オフ状態を、単に、オン、オフと表現することもある。任意のトランジスタについて、オフ状態からオン状態への切り替わりをターンオンと表現し、オン状態からオフ状態への切り替わりをターンオフと表現する。MOSFETは“metal-oxide-semiconductor field-effect transistor”の略称である。MOSFETは、特に記述無き限り、エンハンスメント型のMOSFETであると解して良い。
本発明の第1実施形態を説明する。図1は本発明の第1実施形態に係る半導体装置1の外観斜視図である。半導体装置1は、半導体集積回路が形成された半導体チップと、半導体チップを収容する筐体(パッケージ)と、筐体に取り付けられた複数の外部端子と、を備えた電子部品であり、半導体チップを樹脂にて構成された筐体(パッケージ)内に封入することで形成される。半導体装置1の筐体に複数の外部端子が露出して設けられている。尚、図1に示される半導体装置1の外部端子の数及び半導体装置1の外観は例示に過ぎず、それらを任意に設計可能である。
実施例EX1_1を説明する。図4は温度保護回路13に設けることのできる温度差検出回路20の回路図である。温度差検出回路20は温度差保護信号SDELTAを出力する回路であることから、当該回路20を温度差保護信号出力回路と称することもできる。
例えば、定電流ICC1及びICC2の値の比を適切に設定することで信号生成条件CND1を満たしても良い。トランジスタTr1及びTr2のサイズ比が “1:1”であっても、定電流ICC1及びICC2の値を異ならせることで、オフセット電圧VOFFSETを付与するのと同等の作用が得られる。
或いは例えば、温度検出用ダイオードD1及びD2の夫々を複数のダイオードの並列接続回路にて構成しておき、温度検出用ダイオードD1を構成するダイオードの並列接続数と温度検出用ダイオードD2を構成するダイオードの並列接続数を適切に設定することで信号生成条件CND1を満たしても良い。トランジスタTr1及びTr2のサイズ比が “1:1”であって且つ定電流ICC1及びICC2の値が同じであっても、温度検出用ダイオードD1を構成するダイオードの並列接続数と温度検出用ダイオードD2を構成するダイオードの並列接続数とを異ならせることで、オフセット電圧VOFFSETを付与するのと同等の作用が得られる。
実施例EX1_2を説明する。図5は温度保護回路13に設けることのできる温度検出回路30の回路図である。温度検出回路30は温度保護信号SABSを出力する回路であることから、当該回路30を温度保護信号出力回路と称することもできる。
実施例EX1_3を説明する。図6に実施例EX1_3に係る温度保護回路13Aの構成を示す。温度保護回路13Aを図2の温度保護回路13として用いることができる。温度保護回路13Aは、実施例EX1_1に示した温度差検出回路20を有し、温度差検出回路20から出力される温度差保護信号SDELTAそのものをサーマルシャットダウン信号STSDとして制御回路12に出力する。
実施例EX1_4を説明する。図7に実施例EX1_4に係る温度保護回路13Bの構成を示す。温度保護回路13Bを図2の温度保護回路13として用いることができる。温度保護回路13Bは、実施例EX1_1に示した温度差検出回路20と、実施例EX1_2に示した温度検出回路30と、OR回路51と、を有する。OR回路51は、温度差検出回路20から出力される温度差保護信号SDELTAと温度検出回路30から出力される温度保護信号SABSとの論理和信号をサーマルシャットダウン信号STSDとして制御回路12に出力する。
温度差検出回路20は、第2温度検出領域Rt2における温度T[Rt2](即ち第2対象位置の温度)から見て第1温度検出領域Rt1における温度T[Rt1](即ち第1対象位置の温度)が所定の差分保護温度ΔTREF以上高くなったときに、温度差保護信号SDELTAをアサート状態とし(即ち温度差保護信号SDELTAの論理値を“1”とし)、
温度検出回路30は、特定位置PPの温度T[PP]が所定の保護温度TTH以上となったときに、温度保護信号SABSをアサート状態とし(即ち温度保護信号SABSの論理値を“1”とし)、
温度差保護信号SDELTA及び温度保護信号SABSの内、少なくとも一方がアサート状態であるときに、サーマルシャットダウン信号STSDがアサート状態となる(“1”の論理値を有する)。
実施例EX1_5を説明する。図8に実施例EX1_5に係る温度保護回路13Cの構成を示す。温度保護回路13Cを図2の温度保護回路13として用いることができる。温度保護回路13Cは、実施例EX1_1に示した温度差検出回路20を備えると共に、AND回路61及びOR回路62を備え、更に実施例EX1_2に示した温度検出回路30を2つ備える。
温度検出回路30[1]の温度検出用トランジスタTr11が配置される位置、即ち、温度検出回路30[1]にとっての特定位置PPを特定位置PP[1]と称する。同様に、温度検出回路30[2]の温度検出用トランジスタTr11が配置される位置、即ち、温度検出回路30[2]にとっての特定位置PPを特定位置PP[2]と称する。
また、温度検出回路30[1]における保護温度TTHを保護温度TTH[1]と称し、温度検出回路30[2]における保護温度TTHを保護温度TTH[2]と称する。後述されるように、保護温度TTH[2]は保護温度TTH[1]よりも高いと良い。
また、温度検出回路30[1]から出力される温度保護信号SABSを温度保護信号SABS[1]と称し、温度検出回路30[2]から出力される温度保護信号SABSを温度保護信号SABS[2]と称する。
温度差検出回路20は、第2温度検出領域Rt2における温度T[Rt2](即ち第2対象位置の温度)から見て第1温度検出領域Rt1における温度T[Rt1](即ち第1対象位置の温度)が所定の差分保護温度ΔTREF以上高くなったときに、温度差保護信号SDELTAをアサート状態とし(即ち温度差保護信号SDELTAの論理値を“1”とし)、
温度検出回路30[1]は、特定位置PP[1]の温度が所定の保護温度TTH[1]以上となったときに、温度保護信号SABS[1]をアサート状態とし(即ち温度保護信号SABS[1]の論理値を“1”とし)、
温度検出回路30[2]は、特定位置PP[2]の温度が所定の保護温度TTH[2]以上となったときに、温度保護信号SABS[2]をアサート状態とする(即ち温度保護信号SABS[2]の論理値を“1”とする)。
但し、特定位置PP[1]を第1対象位置と一致させる場合にあっては、第1対象位置の温度を検出するための温度検出素子及び特定位置PP[1]の温度を検出するための温度検出素子として、共通の温度検出素子を兼用するようにしても良い。但し、この兼用は必須では無い。
同様に、特定位置PP[2]を第1対象位置と一致させる場合にあっては、第1対象位置の温度を検出するための温度検出素子及び特定位置PP[2]の温度を検出するための温度検出素子として、共通の温度検出素子を兼用するようにしても良い。但し、この兼用は必須では無い。
更に、特定位置PP[1]及びPP[2]を共に第1対象位置と一致させる場合にあっては、第1対象位置の温度を検出するための温度検出素子、特定位置PP[1]の温度を検出するための温度検出素子及び特定位置PP[2]の温度を検出するための温度検出素子として、共通の温度検出素子を兼用するようにしても良い。但し、この兼用は必須では無い。
実施例EX1_6を説明する。温度差検出回路において、コンパレータの中に温度検出素子を組み込んでも良い。即ち例えば、図9に示すような温度差検出回路20Aを利用しても良い。図9は実施例EX1_6に係る温度差検出回路20Aの回路図である。上述の各実施例において、温度差検出回路20Aを上述の温度差検出回路20の代わりに温度保護回路13に組み込んでも良い。
実施例EX1_7を説明する。実施例EX1_7では、温度検出領域Rt1及びRt2の配置の具体例を説明する。図10に、実施例EX1_7に係る半導体チップCPの概略レイアウト図を示す。上述したように、説明の明確化及び具体化のため、半導体チップCPが長方形(正方形を含む)の外形形状を有していることを想定する。更に、半導体チップCPとの関係において、互いに直交するX軸及びY軸を以下のように定義する。
半導体チップCPにおける所定の辺に沿って第1~第k金属パッドが配置される。第1~第k金属パッドは、半導体チップCPに設けられる複数の金属パッドの一部又は全部である。図10の例では、“k=3”であって、金属パッドPAD1~PAD3が、夫々、第1~第3金属パッドに相当する。
そして、第1~第k金属パッドと出力トランジスタ領域Rpow(対象領域)との距離の内、第k金属パッドと出力トランジスタ領域Rpow(対象領域)との距離が最も長いと良い。
加えて、第1~第k金属パッドと第2温度検出領域Rt2(即ち第2温度検出素子)との距離の内、第k金属パッドと第2温度検出素子との距離が最も短いと良い。
実施例EX1_8を説明する。第1対象位置に相当する第1温度検出領域Rt1に配置される第1温度検出素子は、第1対象位置の温度に応じて電気的特性が変化する素子(例えば図4のダイオードD1又は図9のトランジスタTr21)である。第2対象位置に相当する第2温度検出領域Rt2に配置される第2温度検出素子は、第2対象位置の温度に応じて電気的特性が変化する素子(例えば図4のダイオードD2又は図9のトランジスタTr22)である。
本発明の第2実施形態を説明する。第2実施形態は第1実施形態を基礎とする実施形態であり、第2実施形態において特に述べない事項に関しては、矛盾の無い限り、第1実施形態の記載が第2実施形態にも適用される。第2実施形態の記載を解釈するにあたり、第1及び第2実施形態間で矛盾する事項については第2実施形態の記載が優先されて良い。
実施例EX2_1を説明する。上述の電源IC10の出力電圧Voutを任意の負荷装置に供給することができ、電源IC10及び負荷装置を含む任意の電気機器を構成して良い。電源IC10及び負荷装置を含む電気機器は、自動車等の車両に搭載される機器(即ち車載機器)であっても良いし、産業機器、事務機器、家電機器、情報端末を含むポータブル機器などであっても良い。
実施例EX2_2を説明する。電源IC10がリニアレギュレータとして機能することを想定して電源IC10の構成を説明したが、電源IC10は、スイッチングレギュレータを構成する電源ICであっても良い。電源IC10がスイッチングレギュレータを構成する電源ICである場合、入力電圧Vinが出力トランジスタ11にてスイッチングされることで出力電圧Voutが生成されることになる。
実施例EX2_3を説明する。
10 電源IC
11 出力トランジスタ(対象素子)
12 制御回路
13 温度保護回路
20、20A 温度差検出回路(温度差保護信号出力回路)
30、30[1]、30[2] 温度検出回路(温度保護信号出力回路)
D1、D2 温度検出用ダイオード(温度検出素子)
Tr11、Tr21、Tr22 温度検出用トランジスタ(温度検出素子)
SDELTA 温度差保護信号
SABS 温度保護信号
CP 半導体チップ
Rpow 出力トランジスタ領域(対象領域)
Rcnt 制御系領域
Rt1 第1温度検出領域(第1対象位置)
Rt2 第2温度検出領域(第2対象位置)
Claims (5)
- 半導体集積回路を含む半導体装置において、
前記半導体集積回路内の互いに異なる第1及び第2対象位置に配置された第1及び第2温度検出素子を有し、前記第1及び第2温度検出素子を用いて前記第1対象位置における温度と前記第2対象位置における温度との温度差に応じた温度差保護信号を出力する温度差保護信号出力回路と、前記半導体集積回路内における第1特定位置の温度に応じた第1温度保護信号を出力する第1温度保護信号出力回路と、前記半導体集積回路内における第2特定位置の温度に応じた第2温度保護信号を出力する第2温度保護信号出力回路と、を有する温度保護回路を備えるとともに、
発熱源としての対象素子と、
制御回路と、
外部装置から入力電圧を受ける入力端子と、
出力端子と、を備え、
前記第1温度検出素子と前記対象素子との距離は、前記第2温度検出素子と前記対象素子との距離よりも短く、
前記入力端子と前記出力端子との間に介在する素子として前記対象素子が前記半導体集積回路内に設けられ、
前記入力電圧に基づく電流が前記入力端子、前記対象素子及び前記出力端子を経由する対象電路を流れることで前記対象素子が発熱し、
前記制御回路は、前記温度差保護信号、前記第1温度保護信号及び前記第2温度保護信号に基づき、前記対象素子を制御することで前記対象電路の形成又は遮断を行い、
前記温度差保護信号出力回路は、前記第2対象位置における温度から見て前記第1対象位置における温度が所定の差分保護温度以上高くなったとき、前記温度差保護信号をアサート状態とし、
前記第1温度保護信号出力回路は、前記第1特定位置の温度が所定の第1保護温度以上となったとき、前記第1温度保護信号をアサート状態とし、
前記第2温度保護信号出力回路は、前記第2特定位置の温度が前記第1保護温度よりも高い所定の第2保護温度以上となったとき、前記第2温度保護信号をアサート状態とし、
前記制御回路は、前記温度差保護信号及び前記第1温度保護信号が共にアサート状態であるとき、又は、前記第2温度保護信号がアサート状態であるとき、前記対象電路を遮断する
、半導体装置。 - 前記対象素子はトランジスタであり、
前記制御回路は、前記温度差保護信号、前記第1温度保護信号及び前記第2温度保護信号に基づき、前記トランジスタの状態を制御することで前記対象電路の形成又は遮断を行う
、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記半導体集積回路が形成された半導体チップと、
前記半導体チップを収容する筐体と、
前記筐体に取り付けられた複数の外部端子と、を備え、
前記複数の外部端子に前記入力端子及び前記出力端子が含まれ、
前記半導体チップにおける所定の対象領域に前記対象素子が形成され、
前記半導体チップ上には複数の金属パッドが設けられ、
各金属パッドは金属ワイヤを介して対応する外部端子に接続され、
前記第1温度検出素子と前記対象領域との距離は、前記第2温度検出素子と前記対象領域との距離よりも短く、
前記第2温度検出素子と前記複数の金属パッドとの距離の内の最小距離は、前記第1温度検出素子と前記複数の金属パッドとの距離の内の最小距離よりも短い
、請求項1又は2に記載の半導体装置。 - 前記半導体チップにおける所定の辺に沿って、前記複数の金属パッドに含まれる第1~第k金属パッドが配置され(kは2以上の整数)、
前記第1~第k金属パッドと前記対象領域との距離の内、前記第k金属パッドと前記対象領域との距離が最も長く、
前記第1~第k金属パッドと前記第2温度検出素子との距離の内、前記第k金属パッドと前記第2温度検出素子との距離が最も短い
、請求項3に記載の半導体装置。 - 前記第1温度検出素子は、前記第1対象位置の温度に応じて電気的特性が変化する素子であり、前記第2温度検出素子は、前記第2対象位置の温度に応じて電気的特性が変化する素子であり、
前記温度差保護信号出力回路は、前記第1対象位置の温度に応じた前記第1温度検出素子の電気的特性の変化と前記第2対象位置の温度に応じた前記第2温度検出素子の電気的特性の変化とを利用して、前記温度差に応じた前記温度差保護信号を生成する
、請求項1~4の何れかに記載の半導体装置。
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