JP7327130B2 - イオン分析装置 - Google Patents
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Description
イオン化室と、
両端壁及び周壁を有する管状部材と、前記両端壁のいずれか若しくは双方又は前記周壁に設けられた複数のヒーティングガス流入口と、前記両端壁若しくは前記周壁のいずれかに直接、又は前記両端壁のいずれか若しくは前記周壁に一端が接続された第2管状部材の他端若しくは該第2管状部材の周壁である第2周壁に設けられ、前記イオン化室に挿入されたヒーティングガス流出口と、を有するヒーティングガスノズルと、
前記周壁よりも内側、該周壁の内部又は該周壁の周囲に設けられたヒータと
を備える。
イオン化室と、
両端壁及び周壁を有する管状部材と、前記両端壁のいずれか又は前記周壁に設けられたヒーティングガス流入口と、前記両端壁のいずれか又は前記周壁に一端が接続され、前記管状部材の長手方向とは異なる方向に延びる第2管状部材と、前記第2管状部材の他端又は該第2管状部材の周壁である第2周壁に設けられ、前記イオン化室に挿入されたヒーティングガス流出口と、を有するヒーティングガスノズルと、
前記周壁よりも内側、該周壁の内部又は該周壁の周囲に設けられたヒータと
を備える。
図1に、本実施形態のイオン分析装置である質量分析装置10の概略構成を示す。この質量分析装置10は、略大気圧であるイオン化室11と、真空ポンプにより真空排気された高真空の分析室14と、それらイオン化室11と分析室14との間に段階的に真空度が高められるように設けられた第1中間真空室12及び第2中間真空室13とを備えた多段差動排気系の構成を有している。イオン化室11と第1中間真空室12の間は細径のキャピラリ112を介して連通している。第1中間真空室12と第2中間真空室13との間は、頂部に小孔を有するスキマー123で隔てられている。第1中間真空室12と第2中間真空室13にはそれぞれ、イオンを収束させつつ後段へ輸送するためのイオンガイド121、131が設置されている。分析室14には、四重極マスフィルタ141とイオン検出器142が設置されている。
本実施形態の質量分析装置10は、ヒーティングガスノズル20の構成を除いて、従来の質量分析装置と同様の構成を有する。そのため以下では、ヒーティングガスノズル20の動作を中心に説明し、ヒーティングガスノズル20以外の質量分析装置10の構成要素の動作は、ヒーティングガスノズル20の動作と関連する点を除いて、概略のみを説明する。
本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。
上述した例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。
第1項に係るイオン分析装置は、
イオン化室と、
両端壁及び周壁を有する管状部材と、前記両端壁のいずれか若しくは双方又は前記周壁に設けられた複数のヒーティングガス流入口と、前記両端壁若しくは前記周壁のいずれかに直接、又は前記両端壁のいずれか若しくは前記周壁に一端が接続された第2管状部材の他端若しくは該第2管状部材の周壁である第2周壁に設けられ、前記イオン化室に挿入されたヒーティングガス流出口と、を有するヒーティングガスノズルと、
前記周壁よりも内側、該周壁の内部又は該周壁の周囲に設けられたヒータと
を備える。
第2項に係るイオン分析装置は、第1項に係るイオン分析装置において、前記ヒーティングガス流出口は、前記管状部材の長手方向とは異なる方向に延びる前記第2管状部材に設けられている。
第3項に係るイオン分析装置は、第2項に係るイオン分析装置において、
前記第2管状部材は前記管状部材の周壁に接続されており、
前記管状部材と前記第2管状部材の接続部よりも該管状部材の長手方向の一方の側に前記複数のヒーティングガス流入口のうちの一部のものが設けられ、該長手方向の他方の側に該複数のヒーティングガス流入口のうちの他のものが設けられている。
第4項に係るイオン分析装置は、第3項に係るイオン分析装置において、前記接続部は、前記管状部材を長手方向に等分割した3つの領域のうち中央の領域に設けられ、前記複数のヒーティングガス流入口のうちの一部のものが該3つの領域のうち一方の端側の領域に設けられ、該複数のヒーティングガス流入口のうちの他のものが該3つの領域のうち他方の端側の領域に設けられている。
第5項に係るイオン分析装置は、
イオン化室と、
両端壁及び周壁を有する管状部材と、前記両端壁のいずれか又は前記周壁に設けられたヒーティングガス流入口と、前記両端壁のいずれか又は前記周壁に一端が接続され、前記管状部材の長手方向とは異なる方向に延びる第2管状部材と、前記第2管状部材の他端又は該第2管状部材の周壁である第2周壁に設けられ、前記イオン化室に挿入されたヒーティングガス流出口と、を有するヒーティングガスノズルと、
前記周壁よりも内側、該周壁の内部又は該周壁の周囲に設けられたヒータと
を備える。
11…イオン化室
110…イオン化室の壁
112…キャピラリ
12…第1中間真空室
121…イオンガイド
123…スキマー
13…第2中間真空室
14…分析室
141…四重極マスフィルタ
142…イオン検出器
15…イオン化プローブ
151…キャピラリ
152…ネブライザガスノズル
153…ガスボンベ
20…ヒーティングガスノズル
21、91…管状部材
211…周壁
212…両端壁
2121、2122…端壁
2123…突起
221、222、223、224、92…ヒーティングガス流入口
23…第2管状部材
231…接続部
232…第2管状部材の周壁
233…第2管状部材の端壁
234…屈曲部
24、94…ヒーティングガス流出口
25、95…ヒータ
251…芯材
26…ガスボンベ
30…液体クロマトグラフ
31…移動相容器
32…ポンプ
33…インジェクタ
34…カラム
35…オートサンプラ
Claims (5)
- イオン化室と、
前記イオン化室内に液体試料を噴霧する試料噴霧ノズルと、
両端壁及び周壁を有する管状部材と、前記両端壁のいずれか若しくは双方又は前記周壁に設けられた、前記管状部材内にヒーティングガスを流入させる複数のヒーティングガス流入口と、前記両端壁若しくは前記周壁のいずれかに直接、又は前記両端壁のいずれか若しくは前記周壁に一端が接続された第2管状部材の他端若しくは該第2管状部材の周壁である第2周壁に設けられ、前記イオン化室に挿入された、前記試料噴霧ノズルから前記液体試料が噴霧された前記イオン化室内の領域に前記ヒーティングガスを流出させるヒーティングガス流出口と、を有するヒーティングガスノズルと、
前記周壁よりも内側、該周壁の内部又は該周壁の周囲に設けられたヒータと
を備えるイオン分析装置。 - イオン化室と、
両端壁及び周壁を有する管状部材と、前記両端壁のいずれか若しくは双方又は前記周壁に設けられた複数のヒーティングガス流入口と、前記両端壁若しくは前記周壁のいずれかに直接、又は前記両端壁のいずれか若しくは前記周壁に一端が接続された第2管状部材の他端若しくは該第2管状部材の周壁である第2周壁に設けられ、前記管状部材の長手方向とは異なる方向に延びる前記第2管状部材に設けられている、前記イオン化室に挿入されたヒーティングガス流出口と、を有するヒーティングガスノズルと、
前記周壁よりも内側、該周壁の内部又は該周壁の周囲に設けられたヒータと
を備えるイオン分析装置。 - 前記第2管状部材は前記周壁に接続されており、
前記管状部材と前記第2管状部材の接続部よりも該管状部材の長手方向の一方の側に前記複数のヒーティングガス流入口のうちの一部のものが設けられ、該長手方向の他方の側に該複数のヒーティングガス流入口のうちの他のものが設けられている、
請求項2に記載のイオン分析装置。 - 前記接続部は、前記管状部材を長手方向に等分割した3つの領域のうち中央の領域に設けられ、
前記複数のヒーティングガス流入口のうちの一部のものが該3つの領域のうち一方の端側の領域に設けられ、
該複数のヒーティングガス流入口のうちの他のものが該3つの領域のうち他方の端側の領域に設けられている、
請求項3に記載のイオン分析装置。 - イオン化室と、
両端壁及び周壁を有する管状部材と、前記両端壁のいずれか又は前記周壁に設けられたヒーティングガス流入口と、前記両端壁のいずれか又は前記周壁に一端が接続され、前記管状部材の長手方向とは異なる方向に延びる第2管状部材と、前記第2管状部材の他端又は該第2管状部材の周壁である第2周壁に設けられ、前記イオン化室に挿入されたヒーティングガス流出口と、を有するヒーティングガスノズルと、
前記周壁よりも内側、該周壁の内部又は該周壁の周囲に設けられたヒータと
を備えるイオン分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019220232A JP7327130B2 (ja) | 2019-12-05 | 2019-12-05 | イオン分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019220232A JP7327130B2 (ja) | 2019-12-05 | 2019-12-05 | イオン分析装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021089227A JP2021089227A (ja) | 2021-06-10 |
JP2021089227A5 JP2021089227A5 (ja) | 2022-04-15 |
JP7327130B2 true JP7327130B2 (ja) | 2023-08-16 |
Family
ID=76220079
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019220232A Active JP7327130B2 (ja) | 2019-12-05 | 2019-12-05 | イオン分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7327130B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023162203A1 (ja) * | 2022-02-28 | 2023-08-31 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
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JP2002015697A (ja) | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Jeol Ltd | エレクトロスプレー・イオン源 |
WO2012105414A1 (ja) | 2011-02-03 | 2012-08-09 | Jnc株式会社 | ガス過熱器および過熱器連結体 |
JP2015049077A (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社島津製作所 | イオン化プローブ |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2633974B2 (ja) * | 1990-04-18 | 1997-07-23 | 株式会社日立製作所 | 試料のイオン化および質量分析のための装置 |
US5412208A (en) * | 1994-01-13 | 1995-05-02 | Mds Health Group Limited | Ion spray with intersecting flow |
-
2019
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015049077A (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社島津製作所 | イオン化プローブ |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021089227A (ja) | 2021-06-10 |
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