JP7325809B2 - 錯体、錯体集積体、ガス吸着剤、ガス吸着方法およびガス脱離方法 - Google Patents
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特許法第３０条第２項適用 平成３０年１０月２３日「第８回ＣＳＪ化学フェスタ２０１８」にて発表、その予稿集を平成３０年９月２６日「ｈｔｔｐｓ：／／ｆｅｓｔａ．ｃｓｊ．ｊｐ／ｐｒｏｇｒａｍ＿ｌｉｓｔ．ｐｈｐ？ｅｎｔｙ＝２０１８」を通じて発表、平成３０年１０月３０日「Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ｏｎ Ｐｕｒｅ ＆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌａｎｇｋａｗｉ ２０１８」にて発表、その予稿集を平成３０年１０月２９日「Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｇｒｅｓｓ ｏｎ Ｐｕｒｅ ＆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌａｎｇｋａｗｉ ２０１８、予稿集、第２６１頁、マレーシア化学会」にて発表、平成３０年１２月８日「弘前大学農学生命科学部公開シンポジウム「地域未利用資源を考えるＩＮ八戸」」にて発表、平成３０年１２月１４日「第２回小山高専－弘前大－長岡技科大合同研究発表会」にて発表、平成３１年２月５日「平成３０年度弘前大学戦略１プロジェクト研究成果報告会」にて発表、平成３１年２月２８日「平成３０年度弘前大学理工学部物質創成化学科卒業研究発表会」にて発表、その要旨を平成３１年２月２６日「平成３０年度弘前大学理工学部物質創成化学科卒業研究発表会 要旨」にて発表
特許法第３０条第２項適用 平成３１年３月８日「平成３０年度弘前大学機関研究・異分野連携型若手研究支援事業・青森ブランド価値創造研究・グロウカルファンド研究成果発表会」にて発表、その成果集を平成３１年３月８日「平成３０年度 研究成果集 弘前大学異分野連携型若手研究支援事業 弘前大学グロウカル（Ｇｒｏｗ×Ｌｏｃａｌ）ファンド 弘前大学機関研究、第１０頁、編集・発行 弘前大学研究推進部研究推進課」にて発表、平成３１年３月１６日「日本化学会第９９春季年会」にて発表、その予稿集を平成３１年３月１日「ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｃｓｊ．ｊｐ／ｎｅｎｋａｉ／９９ｈａｒｕ／」を通じて発表、平成３１年３月１７日「日本化学会第９９春季年会」にて発表、その予稿集を、平成３１年３月１日「ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｃｓｊ．ｊｐ／ｎｅｎｋａｉ／９９ｈａｒｕ／」を通じて発表、令和１年５月３０日「第６８回高分子学会年次大会」にて発表、その予稿集を、令和１年５月１４日「ｈｔｔｐ：／／ｍａｉｎ．ｓｐｓｊ．ｏｒ．ｊｐ／ｎｅｎｋａｉ．ｈｔｍｌ」を通じて発表、令和１年８月９日「化学系学協会東北大会予稿集
本発明は、錯体、錯体集積体、ガス吸着剤、ガス吸着方法およびガス脱離方法に関する。
従来、排ガス処理等の分野でガスを吸着するガス吸着剤について開発が行われてきた。特にガスの吸着および分離等の機能を持つ多孔性材料、例えば多孔性配位高分子について強い興味が持たれてきた。多孔性配位高分子は金属イオンと有機物との配位結合を利用して、内部に空間（細孔）を持つ結晶性の高分子構造（多孔性構造）を形成する。
特許文献１には多孔性配位高分子金属錯体を用いたガス吸着剤について記載されている。同文献の００７２段落には、ガスの吸着圧力および吸着温度について「例えば、吸着圧力は０．０１～１０ＭＰａが好ましく、０．１～３．５ＭＰａがより好ましい。また、吸着温度は１９５Ｋ～３４３Ｋが好ましく、２７３～３１３Ｋがより好ましい。」と記載されている。
本発明は、新たなガス吸着剤を提供することを目的とし、前記ガス吸着剤として用いることが可能な錯体集積体、および前記錯体集積体を構成する錯体を提供することを目的とする。また、前記ガス吸着剤を用いた、ガス吸着方法、ガス脱離方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意検討した結果、以下の錯体、錯体集積体、ガス吸着剤を見出し、前記ガス吸着剤を用いたガス吸着方法およびガス脱離方法も見出した。すなわち、本発明は、例えば以下の［１］～［１２］に関する。
［１］ 下記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体。
Ｍは、周期律表１～３族および７～１５族から選択される原子であり、
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ1が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ2が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
ｐは、１～４の整数である。
但し、「Ｍがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体」および「Ｍがニッケル原子、コバルト原子、銅原子、または亜鉛原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3およびＲ4が共に水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２である錯体」を含まない。）
Ｒ5は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、または炭素数２～５のアルキニル基から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に、下記一般式（５）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
Ｘ-はハロゲンアニオンである。）
Ｘ3は、下記一般式（６）で表される配位子であり、
Ｘ4は、下記一般式（７）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
Ｘ-はハロゲンアニオンである。）
Ｘ5は、下記一般式（８）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子である。）
Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ6が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ7が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｑ、ｒはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ8は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ａは、一般式（２）における酸素原子との結合位置を示し、
波線ｂは、一般式（２）における一方のＦｅ原子との結合位置を示し、
波線ｃは、一般式（２）における他方のＦｅ原子との結合位置を示す。）
Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ9が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ10が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく
ｓ、ｔはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ11は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｄは、一般式（３）における酸素原子との結合位置を示し、
波線ｅは、一般式（３）における一方のＣｕ原子との結合位置を示し、
波線ｆは、一般式（３）における他方のＣｕ原子との結合位置を示す。）
Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ12が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ13が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｕ、ｖはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ14およびＲ15は互いに結合し環を形成してもよく
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｇは、一般式（３）における一方のＣｕ原子との結合位置を示し、
波線ｈは、波線ｇで結合するＣｕ原子と同一のＣｕ原子との結合位置を示す。）
Ｒ16～Ｒ19は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ16が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ17が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ18が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ19が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ20およびＲ21は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｉおよびｊは、一般式（４）における一方のＣｏ原子との結合位置を示し、
波線ｋ、ｌは、一般式（４）における前記波線ｉおよびｊで結合するＣｏ原子と別のＣｏ原子との結合位置を示す。）
［２］ 前記一般式（１）において、前記Ｍは、周期律表３族および８～１２族から選択される原子である、［１］に記載の錯体。
［３］ 前記一般式（１）において、前記Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｐは、２または３であり、
前記一般式（２）において、前記Ｒ5は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、または炭素数２～５のアルキニル基から選択される基であり、
前記一般式（５）において、前記Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｑ、ｒはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ8は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
前記一般式（６）において、前記Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｓ、ｔはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ11は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
前記一般式（７）において、前記Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｕ、ｖはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
前記一般式（８）において、前記Ｒ16～Ｒ19は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｗ、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基である、
［１］または［２］に記載の錯体。
［３］ 前記一般式（１）において、前記Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｐは、２または３であり、
前記一般式（２）において、前記Ｒ5は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、または炭素数２～５のアルキニル基から選択される基であり、
前記一般式（５）において、前記Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｑ、ｒはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ8は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
前記一般式（６）において、前記Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｓ、ｔはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ11は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
前記一般式（７）において、前記Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｕ、ｖはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
前記一般式（８）において、前記Ｒ16～Ｒ19は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｗ、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基である、
［１］または［２］に記載の錯体。
［４］ 下記化学式（１－１）～（１－７）、（２－１）、（３－１）、または（４－１）で表される、［１］～［３］のいずれかに記載の錯体。
［５］ ［１］～［４］のいずれかに記載の錯体が複数集積化した、錯体集積体。
［６］ 下記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体が、複数集積化した錯体集積体から構成される、ガス吸着剤。（但し、ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、ジエチルエーテルであり、錯体が下記一般式（１）で表される錯体であり、かつ一般式（１）においてＭがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体である場合を除く。）
［６］ 下記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体が、複数集積化した錯体集積体から構成される、ガス吸着剤。（但し、ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、ジエチルエーテルであり、錯体が下記一般式（１）で表される錯体であり、かつ一般式（１）においてＭがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体である場合を除く。）
Ｍは、周期律表１～３族および７～１５族から選択される原子であり、
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ1が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ2が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
ｐは、１～４の整数である。）
Ｒ5は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、または炭素数２～５のアルキニル基から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に、下記一般式（５）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
Ｘ-はハロゲンアニオンである。）
Ｘ3は、下記一般式（６）で表される配位子であり、
Ｘ4は、下記一般式（７）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
Ｘ-はハロゲンアニオンである。）
Ｘ5は、下記一般式（８）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子である。）
Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ6が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ7が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｑ、ｒはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ8は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ａは、一般式（２）における酸素原子との結合位置を示し、
波線ｂは、一般式（２）における一方のＦｅ原子との結合位置を示し、
波線ｃは、一般式（２）における他方のＦｅ原子との結合位置を示す。）
Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ9が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ10が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく
ｓ、ｔはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ11は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｄは、一般式（３）における酸素原子との結合位置を示し、
波線ｅは、一般式（３）における一方のＣｕ原子との結合位置を示し、
波線ｆは、一般式（３）における他方のＣｕ原子との結合位置を示す。）
Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ12が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ13が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｕ、ｖはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ14およびＲ15は互いに結合し環を形成してもよく
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｇは、一般式（３）における一方のＣｕ原子との結合位置を示し、
波線ｈは、波線ｇで結合するＣｕ原子と同一のＣｕ原子との結合位置を示す。）
Ｒ16～Ｒ19は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ16が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ17が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ18が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ19が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ20およびＲ21は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｉおよびｊは、一般式（４）における一方のＣｏ原子との結合位置を示し、
波線ｋ、ｌは、一般式（４）における前記波線ｉおよびｊで結合するＣｏ原子と別のＣｏ原子との結合位置を示す。）
［７］ ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、Ｒi－Ｏ－Ｒi、ＮＲii
3、ＣＨnＸ4-n、１～３個のハロゲン原子で置換されたエタン、Ｒii－ＣＯ－Ｒii、Ｒii－Ｓ－Ｒii、Ｒii－ＳＯ－Ｒii、ＲiiＣＯＯＲii、および二酸化炭素から選択される少なくとも１種であり、
Ｒiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、２つのＲiは互いに結合し環を形成してもよく、Ｒiiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０～３の整数である、［６］に記載のガス吸着剤。
Ｒiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、２つのＲiは互いに結合し環を形成してもよく、Ｒiiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０～３の整数である、［６］に記載のガス吸着剤。
［８］ ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、水、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アンモニア、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、アセトン、プロピオンアルデヒド、酢酸、および酢酸エチルから選択される少なくとも１種である、［６］に記載のガス吸着剤。
［９］ ［６］～［８］のいずれか一項に記載のガス吸着剤を用いてガス状分子を吸着する、ガス吸着方法。
［１０］ ［６］～［８］のいずれか一項に記載のガス吸着剤に吸着されたガス状分子を、加熱することにより脱離する、ガス脱離方法。
［１１］ ［６］～［８］のいずれか一項に記載のガス吸着剤に吸着されたガス状分子を、減圧乾燥させることにより脱離する、ガス脱離方法。
［１２］ 前記減圧乾燥が、圧力が０．１Ｐａ～１００００Ｐａ、温度が５５℃～３００℃、時間が３５分～２４時間の条件下で行われる、［１１］に記載のガス脱離方法。
本発明の錯体の分子が複数集積化することにより得られる錯体集積体は、ガス吸着剤として用いることができる。本発明のガス吸着方法は、前記ガス吸着剤を用いることにより、ガス状分子を吸着する際に、大きな圧力を必要とせず、大気圧中に微量にガス状分子が存在する場合でも吸着することが可能である。また、吸着されたガス状分子は、ガス脱離方法により脱離することが可能である。
次に本発明について具体的に説明する。
［錯体、錯体集積体］
本発明の錯体は、下記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体である。なお、一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体を、本発明の錯体とも記す。
［錯体、錯体集積体］
本発明の錯体は、下記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体である。なお、一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体を、本発明の錯体とも記す。
Ｍは、周期律表１～３族および７～１５族から選択される原子であり、
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ1が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ2が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
ｐは、１～４の整数である。
但し、「Ｍがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体」および「Ｍがニッケル原子、コバルト原子、銅原子、または亜鉛原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3およびＲ4が共に水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２である錯体」を含まない。）
Ｒ5は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、または炭素数２～５のアルキニル基から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に、下記一般式（５）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
Ｘ-はハロゲンアニオンである。）
Ｘ3は、下記一般式（６）で表される配位子であり、
Ｘ4は、下記一般式（７）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
Ｘ-はハロゲンアニオンである。）
Ｘ5は、下記一般式（８）で表される配位子であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子である。）
Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ6が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ7が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｑ、ｒはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ8は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ａは、一般式（２）における酸素原子との結合位置を示し、
波線ｂは、一般式（２）における一方のＦｅ原子との結合位置を示し、
波線ｃは、一般式（２）における他方のＦｅ原子との結合位置を示す。）
Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ9が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ10が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく
ｓ、ｔはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ11は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｄは、一般式（３）における酸素原子との結合位置を示し、
波線ｅは、一般式（３）における一方のＣｕ原子との結合位置を示し、
波線ｆは、一般式（３）における他方のＣｕ原子との結合位置を示す。）
Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ12が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ13が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｕ、ｖはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ14およびＲ15は互いに結合し環を形成してもよく
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｇは、一般式（３）における一方のＣｕ原子との結合位置を示し、
波線ｈは、波線ｇで結合するＣｕ原子と同一のＣｕ原子との結合位置を示す。）
Ｒ16～Ｒ19は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ16が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ17が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ18が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ19が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｗ、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ20およびＲ21は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
波線ｉおよびｊは、一般式（４）における一方のＣｏ原子との結合位置を示し、
波線ｋ、ｌは、一般式（４）における前記波線ｉおよびｊで結合するＣｏ原子と別のＣｏ原子との結合位置を示す。）
なお、本発明において、「置換されていてもよいＸＸ基」との記載があるが、該記載は、「ＸＸ基」を構成する水素原子が、置換されていてもよいことを意味する。
一般式（１）において、Ｍは、周期律表１～３族および７～１５族から選択される原子であり、好ましくは周期律表３族および８～１２族から選択される原子である。Ｍの具体例としては、Ｙ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｐｄが挙げられ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎから選択される金属原子が、価格の観点からより好ましい。
前記炭素数１～５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル基、ｓ‐ブチル基、ｔ‐ブチル基、ｎ-ペンチル基が挙げられ、メチル基、エチル基、またはｎ‐プロピル基が、短く、また、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
前記炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基としては、フェニル基、ｏ‐トリル基、ｍ‐トリル基、ｐ‐トリル基、２，４，６‐トリメチルフェニル基、４‐ｔｅｒｔ‐ブチルフェニル基が挙げられ、フェニル基が、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
炭素数１～５のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ‐プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ‐ブトキシ基、ｓ‐ブトキシ基、ｔ‐ブトキシ基、ｎ-ペンチルオキシ基が挙げられ、メトキシ基、エトキシ基、またはｎ‐プロポキシ基が、短く、また、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基としては、ビニル基および、前記炭素数１～５のアルキル基で例示したアルキル基（メチル基、エチル基等）で水素原子が置換されたビニル基が挙げられ、ビニル基、またはメチル基で一つの水素原子が置換されたビニル基が、短く、また、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基としては、‐ＳＯ3Ｈ基、‐ＳＯ3Ｒz基［ここでＲzは、炭素数１～５のアルキル基である］が挙げられ、‐ＳＯ3Ｈ基、または‐ＳＯ3Ｒz'基［ここでＲz'は、メチル基またはエチル基である］が、短く、また、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基としては、‐ＮＨ2基、‐Ｎ（Ｒy）2基［ここでＲyは、それぞれ独立に水素原子、炭素数１～５のアルキル基であり、Ｒyが同時に水素原子ではない。］が挙げられ、‐ＮＨ2基、または‐Ｎ（Ｒy'）2基［ここでＲy'は、それぞれ独立に水素原子、メチル基またはエチル基であり、Ｒy'が同時に水素原子ではない。］が、短く、また、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
炭素数２～５のアルケニル基としては、ビニル基、１‐プロペニル基、アリル基（２‐プロペニル基）、イソプロペニル基、１‐ブテニル基、２‐ブテニル基、３‐ブテニル基、ペンテニル基、２‐メチル‐２‐プロペニル基、１‐メチル‐２‐プロペニル基、２‐メチル‐１‐プロペニル基が挙げられ、ビニル基、またはアリル基が、短く、また、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
炭素数２～５のアルキニル基としては、エチニル基、１‐プロピニル基、２‐プロピニル基（プロパルギル基）、１‐ブチニル基、２‐ブチニル基、３‐ブチニル基、１‐ペンチニル基、２‐ペンチニル基、３‐ペンチニル基、４‐ペンチニル基、１‐メチル‐２‐プロピニル基、２‐メチル‐３‐ブチニル基、１‐メチル‐２‐ブチニル基、１，１‐ジメチル‐２‐プロピニルが挙げられ、エチニル基、１‐プロピニル基、または２‐プロピニル基（プロパルギル基）が、短く、また、かさ高くない方が、立体効果による影響を受けにくく、想定している結晶構造を形成しやすい観点から好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、原子半径の観点から、塩素原子または臭素原子が好ましい。また、ハロゲンアニオンとしては、前記ハロゲン原子の一価のアニオン（例えばＣｌ‐、Ｂｒ‐）が挙げられる。同一の分子（錯体）内に、複数のハロゲン原子が存在する場合には、各ハロゲン原子は同一でも異なっていてもよいが、合成容易の観点から、同一のハロゲン原子であることが好ましい。また、同一の分子（錯体）内に、ハロゲン原子と、ハロゲンアニオンとが存在する場合には、ハロゲンアニオンは、ハロゲン原子と同種のアニオンであることが好ましい。同種のアニオンとは、例えばハロゲン原子が塩素原子である場合には、Ｃｌ‐を意味し、ハロゲン原子が臭素原子である場合には、Ｂｒ‐を意味する。
前記一般式（１）において、前記Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、炭素数１～５のアルキル基であることがより好ましい。前記ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。また、前記ｍ、ｎは同一の整数であることが合成容易の観点から好ましい。前記Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、またはハロゲン原子から選択される基であることがより好ましい。前記ｐは、２または３であることが好ましく、２であることがより好ましい。
また、前記一般式（１）においては、前記Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｐは、２または３であることが、原料の入手容易性の観点から好ましい。
前記一般式（２）において、前記Ｒ5は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、または炭素数２～５のアルキニル基から選択される基であることが、原料の入手容易性の観点から好ましく、水素原子、炭素数１～５のアルキル基から選択される基であることがより好ましい。
前記一般式（５）において、前記Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、炭素数１～５のアルキル基であることがより好ましい。前記ｑ、ｒはそれぞれ独立に０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。また、前記ｑ、ｒは同一の整数であることが合成容易の観点から好ましい。前記Ｒ8は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることがより好ましい。
また、前記一般式（５）においては、前記Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｑ、ｒはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ8は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが、原料の入手容易性の観点から好ましい。
前記一般式（６）において、前記Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、炭素数１～５のアルキル基であることがより好ましい。前記ｓ、ｔはそれぞれ独立に０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。また、前記ｓ、ｔは同一の整数であることが合成容易の観点から好ましい。前記Ｒ11は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることがより好ましい。
また、前記一般式（６）においては、前記Ｒ9およびＲ10は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｓ、ｔはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ11は、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが、原料の入手容易性の観点から好ましい。
前記一般式（７）において、前記Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、炭素数１～５のアルキル基であることがより好ましい。前記ｕ、ｖはそれぞれ独立に０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。また、前記ｕ、ｖは同一の整数であることが合成容易の観点から好ましい。前記Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることがより好ましい。
また、前記一般式（７）においては、前記Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｕ、ｖはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ14およびＲ15は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが、原料の入手容易性の観点から好ましい。
前記一般式（８）において、前記Ｒ16～Ｒ19は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、炭素数１～５のアルキル基であることがより好ましい。前記ｗ、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。また、前記ｗ、ｘ、ｙ、ｚは同一の整数であることが合成容易の観点から好ましい。前記Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが好ましく、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることがより好ましい。
また、前記一般式（８）においては、前記Ｒ16～Ｒ19は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｗ、ｘ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ20およびＲ21は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であることが、原料の入手容易性の観点から好ましい。
本発明の錯体は、前記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体であり、構造の単純さの観点から前記一般式（１）で表される錯体が好ましい。
本発明の錯体は、具体的には、下記化学式（１－１）～（１－７）、（２－１）、（３－１）、または（４－１）で表されることが好ましい。これらの錯体は、安価な金属を中心に持つため好ましい。中でも、本発明の錯体は、化学式（１－１）～（１－７）のいずれかで表されることが構造の単純さの観点から好ましい。
本発明の錯体は、具体的には、下記化学式（１－１）～（１－７）、（２－１）、（３－１）、または（４－１）で表されることが好ましい。これらの錯体は、安価な金属を中心に持つため好ましい。中でも、本発明の錯体は、化学式（１－１）～（１－７）のいずれかで表されることが構造の単純さの観点から好ましい。
本発明の錯体は、通常は下記化学式（α）で表される化合物が、配位子として金属原子に配位している。なお、本発明の錯体は、化学式（α）で表される化合物が、金属原子に配位する前、同時、または後に、反応系中の溶媒等の反応系中の物質と反応し、化学式（α）で表される化合物の構造が一部変化した状態で、金属原子に配位していてもよい。また、化学式（α）で表される化合物が、金属原子に配位する前、同時、または後に、化学式（α）で表される化合物同士が結合してもよい。言い換えると化学式（α）で表される化合物の誘導体が、金属原子に配位していてもよい。後述の実施例では、使用した配位子が有さないヒドロキシ基、エトキシ基、塩素原子等が導入された配位子が、錯体を構成している場合や、二つの配位子が結合し、一つの配位子として錯体を構成している場合があった。
本発明の錯体は、金属原子に配位する配位子が、原則ベンゾイミダゾール（Ｃ7Ｈ6Ｎ2）の２位の水素が脱離したベンゾイミダゾリル基（Ｃ7Ｈ5Ｎ2）を２つ有し、該ベンゾイミダゾリル基は炭素原子を介して連結されていることを特徴の一つとしている。本発明の錯体は、同一錯体（分子内）で、ベンゾイミダゾリル基の窒素原子が、金属原子に配位するだけでなく、錯体間（分子間）でも、ハロゲン原子と、ベンゾイミダゾリル基を構成するＮＨ部分の水素原子とが、水素結合を形成することにより、錯体集積体を構成することが可能である。また、ガス状分子と、ベンゾイミダゾリル基を構成するＮＨ部分の水素原子とが、水素結合を形成することが可能であるため、本発明の錯体集積体は、後述のガス吸着剤として使用することができる。
ＲaおよびＲbは、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒaが複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒbが複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
Ａ、Ｂはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
ＲcおよびＲdは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、ＲcおよびＲdは互いに結合し環を形成してもよく、Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基である。）
一般式（α）における、各基の例示としては、前述の基が挙げられる。また、ＲaおよびＲbの好適態様としては、前記Ｒ1およびＲ2の好適態様と同様であり、ＡおよびＢの好適範囲は、前記ｍ、ｎの好適範囲と同様であり、ＲcおよびＲdの好適態様としては、前記Ｒ3およびＲ4の好適態様と同様である。
化学式（α）で表される化合物の製法に関しては、例えば以下の文献を参照することができる（Antonia Albers, Serhiy Demeshko, Sebastian Dechert, Eckhard Bill, Eberhard Bothe, and Franc Meyer, “The Complete Characterization of a Reduced Biomimetic [2Fe-2S] Cluster", Angewandte Chemie International Edition, 2011年50巻9191-9194ページ, DOI:10.1002/anie.201100727）。
本発明の錯体の製造方法としては、特に限定はないが、例えば以下の方法で製造することが可能である。
（Ｉ）：化学式（α）で表される化合物等の、本発明の錯体において金属原子に配位する配位子に相当する化合物を用意する。該化合物の用意は、合成により行っても、購入することにより行ってもよい。
（ＩＩ）：ハロゲン化金属等の金属化合物と、前記配位子に相当する化合物とを、溶媒中で反応させ、錯体を合成する。
（ＩＩＩ）：（ＩＩ）で得られた錯体を、必要に応じて精製する。
（Ｉ）：化学式（α）で表される化合物等の、本発明の錯体において金属原子に配位する配位子に相当する化合物を用意する。該化合物の用意は、合成により行っても、購入することにより行ってもよい。
（ＩＩ）：ハロゲン化金属等の金属化合物と、前記配位子に相当する化合物とを、溶媒中で反応させ、錯体を合成する。
（ＩＩＩ）：（ＩＩ）で得られた錯体を、必要に応じて精製する。
本発明の錯体の単結晶（錯体集積体）を溶液中より作製する場合には、溶媒分子が、結晶中にとりこまれていてもよい。この溶媒分子を、結晶化溶媒という。結晶化溶媒を用いた場合には、得られる錯体の単結晶（錯体集積体）には、結晶化溶媒が含まれていてもよい。結晶化溶媒は、乾燥、減圧乾燥等の方法により除去することが可能であり、例えば結晶化溶媒を、後述のガス脱離方法に従って除去することが可能である。
本発明の錯体の製造方法の詳細としては、例えば、後述の実施例に記載の方法で行うことが可能である。
前記金属化合物としては、例えば、塩化ニッケル六水和物（ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）、塩化亜鉛（ＺｎＣｌ2）、塩化コバルト六水和物（ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）、塩化銅（ＣｕＣｌ2）、塩化鉄四水和物（ＦｅＣｌ2・４Ｈ2Ｏ）、塩化鉄（ＦｅＣｌ3）が挙げられる。
前記金属化合物としては、例えば、塩化ニッケル六水和物（ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）、塩化亜鉛（ＺｎＣｌ2）、塩化コバルト六水和物（ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）、塩化銅（ＣｕＣｌ2）、塩化鉄四水和物（ＦｅＣｌ2・４Ｈ2Ｏ）、塩化鉄（ＦｅＣｌ3）が挙げられる。
前記溶媒としては、例えば、エタノールが挙げられる。
本発明の錯体は、その分子が複数集積することにより、集積体を構成することが可能である。すなわち、本発明の錯体集積体は、前記錯体が複数集積化した、錯体集積体である。
本発明の錯体は、その分子が複数集積することにより、集積体を構成することが可能である。すなわち、本発明の錯体集積体は、前記錯体が複数集積化した、錯体集積体である。
前記錯体集積体は、錯体を構成するベンゾイミダゾリル基の窒素原子に結合する水素原子と、別の錯体を構成するハロゲン原子との水素結合により集積化した錯体集積体が好ましい。
本発明者らは、錯体を構成するベンゾイミダゾリル基の窒素原子に結合する水素原子と、別の錯体を構成するハロゲン原子との水素結合は、錯体が集積化する際に秩序立った配列を作るための駆動力として働いているものと考えている。すなわち、錯体集積体の製造方法は、錯体を構成するベンゾイミダゾリル基の窒素原子に結合する水素原子と、別の錯体を構成するハロゲン原子とが水素結合により結合して集積化することを特徴とする。
図１に、実施例１で得られたジメチルスルホキシドを結晶化溶媒としてとりこんだ化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）の単結晶Ｘ線構造解析の結果から作成した、三次元構造を示す。図１では、集積化に寄与していると考えられる錯体を構成するベンゾイミダゾリル基の窒素原子に結合する水素原子と、別の錯体を構成する塩素原子との水素結合、および、ジメチルスルホキシドを構成する酸素原子と、錯体を構成するベンゾイミダゾリル基の窒素原子に結合する水素原子との水素結合が図示されている。図１に示されるように、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）は、錯体がジグザグ型に配列することにより構成される。
［ガス吸着剤、ガス吸着方法、ガス脱離方法］
本発明のガス吸着剤は、前記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体が、複数集積化した錯体集積体から構成される。
本発明のガス吸着剤は、前記一般式（１）～（４）のいずれかで表される錯体が、複数集積化した錯体集積体から構成される。
なお、本発明の錯体においては、一般式（１）で表される錯体から、「Ｍがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体」および「Ｍがニッケル原子、コバルト原子、銅原子、または亜鉛原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3およびＲ4が共に水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２である錯体」は除かれているが、本発明のガス吸着剤においては、一般式（１）で表される錯体が、「Ｍがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体」および「Ｍがニッケル原子、コバルト原子、銅原子、または亜鉛原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3およびＲ4が共に水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２である錯体」であってもよい。但し、ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、ジエチルエーテルであり、錯体が下記一般式（１）で表される錯体であり、かつ一般式（１）においてＭがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体である場合は本発明に含まれない。なお、一般式（１）においてＭがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体とは、下記化学式（１’－８）で表される錯体である。
また、本発明のガス吸着剤においては、一般式（１）表される錯体において、Ｍがニッケル原子、コバルト原子、銅原子、または亜鉛原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3およびＲ4が共に水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２である錯体でないことが好ましい。
ガス吸着剤として用いられる錯体集積体の構造について、図２等を参照しつつ説明する。なお、図１～４では、錯体が、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）である場合を図示しており、ガス吸着剤、ガス吸着方法、およびガス脱離方法については、錯体が、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）である場合を中心に説明する。錯体が、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）以外の場合でも、上述の錯体であれば、同様にガス吸着剤として使用することができ、ガス吸着方法、およびガス脱離方法についても問題なく実施することができる。
図２は、実施例１で得られたジメチルスルホキシドを結晶化溶媒としてとりこんだ化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）の単結晶Ｘ線構造解析の結果から作成した、三次元構造を示す。図２に示されるように、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）は単結晶状態で細孔ＣＨ（チャネル。図２では点線円で示す。）を持っている。本発明のガス吸着剤は、この細孔ＣＨ内にガス状分子を吸着することにより、吸着剤として作用する。図２右図は、ジメチルスルホキシドが、細孔ＣＨに保持されている状況を図示している。
次にガス吸着剤として用いられる化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）の構造について、図３を参照しつつ説明する。図３は、実施例１で得られたジメチルスルホキシドを結晶化溶媒としてとりこんだ化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）の単結晶Ｘ線構造解析の結果から作成した、三次元構造を示す。図３は、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）が既にジメチルスルホキシドをとりこんでいる状態、すなわち前記細孔ＣＨ内にジメチルスルホキシドがとりこまれている状態を示す。図３左図は化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）内にジメチルスルホキシドが取り込まれ、Ｎ－Ｈ・・・Ｏ水素結合によりジメチルスルホキシドが細孔内に保持されている様子を示す。一例として、図３左図の細孔ＣＨ（点線四角で示す。）内を拡大した図を図３右図に示す。図３右図に示されるように、二つの化学式（１－１）で表される錯体に由来する二つのベンゼン環（ベンゾイミダゾリル基を構成しないベンゼン環、すなわち、ベンゾイミダゾリル基を連結する炭素原子に直接結合するベンゼン環）が２つのジメチルスルホキシド分子の間に入り込んでいる様子がわかる。図４は、図２、３に示した細孔ＣＨの模式図を示す。図４で、黒色の長方形は、水素結合により、図面奥に向かって、１次元に配列した化学式（１－１）で表される錯体（但し、錯体が有するベンゼン環を除く）を示す。黒色の長方形から伸びるベンゼン環は、化学式（１－１）で表される錯体に由来するベンゼン環（ベンゾイミダゾリル基を構成しないベンゼン環、すなわち、ベンゾイミダゾリル基を連結する炭素原子に直接結合するベンゼン環）を示す。黒色の長方形同士を繋ぐ点線は、前記化学式（１－１）で表される錯体がつくる一次元鎖間に働く、ベンゾイミダゾリル基同士のπ－π相互作用を示す。また、点線四角で表される空間は、細孔ＣＨを示す。図２～４に示されるように、ジメチルスルホキシド分子は、１次元に配列した化学式（１－１）で表される錯体が、ベンゼン環等により形成する細孔ＣＨ中に保持されている。化学式（１－１）で表される錯体が形成する細孔ＣＨは、ジメチルスルホキシドの吸着だけでなく、取り込んだジメチルスルホキシド分子の効率的な引き抜き（脱離）を促進している可能性が考えられる。つまり、細孔ＣＨにより、ジメチルスルホキシドが周りの化学式（１－１）で表される錯体に完全に覆われてしまうことを防いでいる可能性が考えられる。
本発明のガス吸着剤が吸着するガス状分子が、Ｒi－Ｏ－Ｒi、ＮＲii
3、ＣＨnＸ4-n、１～３個のハロゲン原子で置換されたエタン、Ｒii－ＣＯ－Ｒii、Ｒii－Ｓ－Ｒii、Ｒii－ＳＯ－Ｒii、ＲiiＣＯＯＲii、および二酸化炭素から選択される少なくとも１種であることが好ましい。ここで、前記Ｒiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、２つのＲiは互いに結合し環を形成してもよく、Ｒiiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０～３の整数である。
本発明のガス吸着剤が吸着するガス状分子としては、水（水蒸気）、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アンモニア、トリメチルアミン、トリエチルアミン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、二酸化炭素、アセトン、メチルイソブチルアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ノルマルブチルアルデヒド、イソバレルアルデヒド、ジエチルスルフィド、酢酸、プロピオン酸、ノルマル酪酸、ノルマル吉草酸、イソ吉草酸、および酢酸エチルから選択される少なくとも１種であることがより好ましく、水、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アンモニア、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、アセトン、プロピオンアルデヒド、酢酸、および酢酸エチルから選択される少なくとも１種であることが特に好ましい。
前記ガス状分子であれば、本発明のガス吸着剤が効率的に吸着を行うことができるため好ましい。
本発明のガス吸着方法は、前記ガス吸着剤を用いてガス状分子を吸着する。ガス状分子としては、前述の物が好ましい。
本発明のガス吸着方法は、前記ガス吸着剤を用いてガス状分子を吸着する。ガス状分子としては、前述の物が好ましい。
本発明のガス吸着方法は、圧力としては、大気圧（常圧）または加圧下で行われることが好ましい。温度としては、０℃以上の条件下で行うことが好ましく、１０℃以上の条件下で行うことがより好ましく、２０℃以上の条件下で行うことがさらに好ましい。温度の上限としては特に限定はないが、通常は４０℃以下で行われる。本発明のガス吸着方法は、大気圧の空気内に含まれる微量のガス状分子でさえ、吸着することができる。
ガス状分子の分子量によっても異なるが、本発明のガス吸着方法は、ガス状分子を吸着する前のガス吸着剤５０ｍｇに対して、１ｍｇ～２０ｍｇのガス状分子を吸収することができ、好ましくは５ｍｇ～１５ｍｇのガス状分子を吸収することができる。
本発明のガス脱離方法は、前記ガス吸着剤に吸着されたガス状分子を、加熱することにより脱離する。また、本発明のガス脱離方法は、前記ガス吸着剤に吸着されたガス状分子を、減圧乾燥させることにより脱離してもよい。
前記減圧乾燥は、圧力が０．１Ｐａ～１００００Ｐａ、温度が５５℃～３００℃、時間が３５分間～２４時間の条件下で行われることが好ましく、圧力が０．１Ｐａ～５０００Ｐａ、温度が６０℃～１８０℃、時間が３５分間～１４時間の条件下で行われることがより好ましく、圧力が１．３Ｐａ～３０００Ｐａ、温度が８０℃～１２０℃、時間が１時間～３時間の条件下で行われることが特に好ましい。
また、本発明のガス脱離方法は、減圧を行わずに、常圧下で行ってもよい。前記加熱を行う際には、気体流通下で加熱することにより、ガス状分子を脱離してもよい。減圧を行わない場合には、温度が１００℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがより好ましく、１４０℃～３００℃の条件下で行われることが特に好ましい。また、時間は、５分以上であることが好ましく、１５分以上であることがより好ましく、３０分～３時間の条件下で行われることが特に好ましい。気体流通下で加熱することによってガス状分子を脱離する際には、気体として、大気を使用してもよいが、窒素、アルゴンなどの不活性ガスを用いることが好ましい。
次に本発明について実施例を示してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
〔製造例１〕
（化学式（Ｌ1）で表される化合物（配位子Ｌ1）の合成）
化学式（Ｌ1）で表される化合物は、下記スキームに従って合成した。
〔製造例１〕
（化学式（Ｌ1）で表される化合物（配位子Ｌ1）の合成）
化学式（Ｌ1）で表される化合物は、下記スキームに従って合成した。
（１）：ｏ－フェニレンジアミン（１７．２ｇ、１５９ｍｍｏｌ）に対して１，２，４－トリクロロベンゼン６５ｍＬを加え、１８０℃に加熱することにより、全てのｏ－フェニレンジアミンを溶解させた。
（２）：１８０℃を保ったまま、（１）で得られた溶液に、ジエチルフェニルマロネート８．６ｍＬ（３９．８ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。
（３）：（２）の滴下終了後、１８０℃で１時間撹拌を行った。１時間後加熱をやめ自然放冷により、室温まで冷却したところ、褐色固体が析出した。
（４）：（３）で得られた褐色固体をクロロホルム３００ｍＬで洗浄した後、６Ｍ塩酸１００ｍＬを加えたところ、固体の一部が溶解した。
（５）：（４）で得られた溶解物と、固体との混合物に対して、ろ過操作を行い、ろ液を回収し、そのろ液に対して、５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍＬを加えたところ、配位子Ｌ1で表される化合物の白色粉末が析出した。
（６）ろ過操作により、白色粉末を回収し、乾燥させることにより配位子Ｌ1で表される化合物を得た（５．０３ｇ、１５．５ｍｍｏｌ、収率３９％）。
（２）：１８０℃を保ったまま、（１）で得られた溶液に、ジエチルフェニルマロネート８．６ｍＬ（３９．８ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。
（３）：（２）の滴下終了後、１８０℃で１時間撹拌を行った。１時間後加熱をやめ自然放冷により、室温まで冷却したところ、褐色固体が析出した。
（４）：（３）で得られた褐色固体をクロロホルム３００ｍＬで洗浄した後、６Ｍ塩酸１００ｍＬを加えたところ、固体の一部が溶解した。
（５）：（４）で得られた溶解物と、固体との混合物に対して、ろ過操作を行い、ろ液を回収し、そのろ液に対して、５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍＬを加えたところ、配位子Ｌ1で表される化合物の白色粉末が析出した。
（６）ろ過操作により、白色粉末を回収し、乾燥させることにより配位子Ｌ1で表される化合物を得た（５．０３ｇ、１５．５ｍｍｏｌ、収率３９％）。
〔製造例２〕
（化学式（Ｌ2）で表される化合物（配位子Ｌ2）の合成）
化学式（Ｌ2）で表される化合物の合成手順（１）～（７）を下記に示す。
（化学式（Ｌ2）で表される化合物（配位子Ｌ2）の合成）
化学式（Ｌ2）で表される化合物の合成手順（１）～（７）を下記に示す。
（２）ｏ－フェニレンジアミン（５．８ｇ、５４ｍｍｏｌ）を入れ、そのほとんどが溶けるまで撹拌した。
（３）：２５０℃まで加熱し、ジエチルマロン酸ジエチル４ｍＬ（１８ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。
（４）：（３）の滴下終了後、２５０℃で８．５時間撹拌した。
（５）：自然放冷により、１９０℃まで自然放冷後、粘性のある溶液を、水２００ｍＬの入ったビーカーに入れた。
（６）：この混合液に対して、７．５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液１００ｍＬを加えたところ、固体が析出した。
（７）：ろ過操作により、析出した固体を回収し、ジエチルエーテルによる洗浄（２０ｍＬ×３回、１０ｍＬ×２回）と乾燥を行うことにより、配位子Ｌ2を含む赤紫がかった白色固体を得た（１．３０ｇ）。
得られた固体中に配位子Ｌ2が含まれていることは、ジメチルスルホキシド（Ｃ2Ｈ6ＳＯ）中で測定した1Ｈ ＮＭＲおよび質量スペクトルにより確認した。
［配位子Ｌ2のデータ］
1Ｈ ＮＭＲ（ジメチルスルホキシド（Ｃ2Ｈ6ＳＯ）、５００ＭＨｚ、２５℃、軽溶媒モード）δ７．４９（ｂｒ．２Ｈ）、７．４３（ｂｒ．２Ｈ）、７．１２～７．０４（ｂｒ．ｍ．４Ｈ）、１．６８（ｍ．４Ｈ）、０．７２（ｔ．3ＪHH＝７Ｈｚ、６Ｈ）
質量スペクトル（ＡＳＡＰ）ｍ／ｚ３０５（［Ｍ＋Ｈ］+）
〔製造例３〕
（化学式（Ｌ3）で表される化合物（配位子Ｌ3）の合成）
化学式（Ｌ3）で表される化合物の合成手順（１）～（７）を下記に示す。
（化学式（Ｌ3）で表される化合物（配位子Ｌ3）の合成）
化学式（Ｌ3）で表される化合物の合成手順（１）～（７）を下記に示す。
（２）：１８０℃を保ったまま、（１）で得られた溶液に、エチルマロン酸ジエチル３．４ｍＬ（１８ｍｍｏｌ）を１５分かけて滴下した。
（３）：（２）の滴下終了後、１８０℃で４時間撹拌した。
（４）：自然放冷により、室温まで冷却したところ、褐色粉末が析出した。
（５）：ろ過操作により、析出した褐色粉末を分離し、クロロホルムで洗浄（５０ｍＬ×３回）した後、６Ｍ塩酸５０ｍＬを加えたところ、固体の一部が溶解した。
（６）：ろ過操作を行い、ろ液を回収し、そのろ液に対して、５Ｍ水酸化ナトリウム水溶液１００ｍＬを加えたところ、白色粉末が析出した。
（７）ろ過操作により、白色粉末を回収し、乾燥させることにより配位子Ｌ3を得た（３．６６ｇ、１３ｍｍｏｌ、収率７４％）。
配位子Ｌ3が得られたことは、1Ｈ ＮＭＲおよび質量スペクトルにより確認した。
［配位子Ｌ3のデータ］
1Ｈ ＮＭＲ（重ジメチルスルホキシド（Ｃ2Ｄ6ＳＯ）、５００ＭＨｚ、２５℃）δ７．４３（ｂｒ．４Ｈ）、６．９９（ｂｒ．４Ｈ）、４．４７（ｔ．3ＪHH＝７Ｈｚ １Ｈ）、２．３０（ｄｑ．3ＪHH＝ｅａｃｈ ７Ｈｚ ２Ｈ）、０．８５（ｔ．3ＪHH＝７Ｈｚ ３Ｈ）
質量スペクトル（ＡＳＡＰ）ｍ／ｚ２７７（［Ｍ＋Ｈ］+）
〔製造例４〕
（化学式（１’－８）で表される錯体・錯体集積体の合成）
化学式（１’－８）で表される錯体は、下記スキームに従って合成した。
（化学式（１’－８）で表される錯体・錯体集積体の合成）
化学式（１’－８）で表される錯体は、下記スキームに従って合成した。
（スキーム（Ａ）～（Ｂ））
（１）２００ｍＬナスフラスコ中に、前記製造例１で得られた化学式（２）で表される化合物を８２０ｍｇ（２．５２ｍｍｏｌ）はかりとり、エタノール（ＥｔＯＨ）６０ｍＬを加えた。
（２）１００ｍＬナスフラスコ中に塩化ニッケル六水和物（ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）を６００ｍｇ（２．５２ｍｍｏｌ）はかりとり、エタノール３０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で３０分間撹拌したところ、紫色粉末が析出した。
（４）２０分間静置した後、上澄み液を捨て、残った紫色粉末をエタノール１０ｍＬで洗浄した。
（５）エバポレーターを用いて乾燥後、得られた紫色粉末を回収した（７８０ｍｇ、１．７１ｍｍｏｌ）。
（１）２００ｍＬナスフラスコ中に、前記製造例１で得られた化学式（２）で表される化合物を８２０ｍｇ（２．５２ｍｍｏｌ）はかりとり、エタノール（ＥｔＯＨ）６０ｍＬを加えた。
（２）１００ｍＬナスフラスコ中に塩化ニッケル六水和物（ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）を６００ｍｇ（２．５２ｍｍｏｌ）はかりとり、エタノール３０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で３０分間撹拌したところ、紫色粉末が析出した。
（４）２０分間静置した後、上澄み液を捨て、残った紫色粉末をエタノール１０ｍＬで洗浄した。
（５）エバポレーターを用いて乾燥後、得られた紫色粉末を回収した（７８０ｍｇ、１．７１ｍｍｏｌ）。
（スキーム（Ｂ）～（Ｃ））
（６）回収した紫色粉末に対して、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）とジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）混合溶媒（アセトニトリル：ジエチルエーテル＝６７．５ｍＬ：４０．５ｍＬ）を加えた後、ろ過し、ろ液を冷蔵庫（１０℃）で静置したところ、紫色単結晶が析出した。
（７）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、６２０ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ、収率４７％であった。
上記スキームで得られた（Ｃ）は、化学式（１’－８）で表される錯体の単結晶、すなわち、錯体集積体であり、かつジエチルエーテルを吸着した状態である。
ジエチルエーテルを吸着した錯体集積体が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
（６）回収した紫色粉末に対して、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）とジエチルエーテル（Ｅｔ2Ｏ）混合溶媒（アセトニトリル：ジエチルエーテル＝６７．５ｍＬ：４０．５ｍＬ）を加えた後、ろ過し、ろ液を冷蔵庫（１０℃）で静置したところ、紫色単結晶が析出した。
（７）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、６２０ｍｇ、１．１７ｍｍｏｌ、収率４７％であった。
上記スキームで得られた（Ｃ）は、化学式（１’－８）で表される錯体の単結晶、すなわち、錯体集積体であり、かつジエチルエーテルを吸着した状態である。
ジエチルエーテルを吸着した錯体集積体が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
〔単結晶Ｘ線構造解析〕
なお、本製造例および後述の実施例における錯体（錯体集積体）の単結晶Ｘ線構造解析は、以下の条件で行った。
装置名：Ｒ－ＡＸＩＳ ＲＡＰＩＤ ＩＩ
製造会社名：株式会社リガク（登録商標）
Ｘ線源：Ｍｏ－Ｋα、波長λ＝０．７１０６９Å
検出器：上記装置用の湾曲イメージングプレート
測定温度：－１５０℃
構造解析ソフトウェア：ＯｌｅｘＳｙｓ Ｌｔｄの “Ｏｌｅｘ2”
［化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ26Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ10Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．７７８５（７）Å
ｂ＝１４．６８４６（８）Å
ｃ＝１５．８３２１（８）Å
α＝９０°
β＝１０３．３１９（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２４３８．５（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０５１４
なお、本製造例および後述の実施例における錯体（錯体集積体）の単結晶Ｘ線構造解析は、以下の条件で行った。
装置名：Ｒ－ＡＸＩＳ ＲＡＰＩＤ ＩＩ
製造会社名：株式会社リガク（登録商標）
Ｘ線源：Ｍｏ－Ｋα、波長λ＝０．７１０６９Å
検出器：上記装置用の湾曲イメージングプレート
測定温度：－１５０℃
構造解析ソフトウェア：ＯｌｅｘＳｙｓ Ｌｔｄの “Ｏｌｅｘ2”
［化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ26Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ10Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．７７８５（７）Å
ｂ＝１４．６８４６（８）Å
ｃ＝１５．８３２１（８）Å
α＝９０°
β＝１０３．３１９（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２４３８．５（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０５１４
〔実施例１〕
（化学式（１－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（１－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化亜鉛（ＺｎＣｌ2）１００ｍｇ（０．７３ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌したところ、白色懸濁液が得られた。
（４）デカンテーションにより、大部分の上澄み液を取り除いた後、エバポレーターを用いて乾燥したところ、白色粉末が得られた（３９０ｍｇ）。
（５）白色粉末を、ジメチルスルホキシド１７ｍＬに溶かし、そこにメタノールを３０ｍＬ加えた。
（６）空気中で少しずつメタノールを蒸発させたところ、化学式（１－１）で表される錯体の無色結晶（錯体集積体）が得られた。
（７）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、９０ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ、収率２３％であった。
化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のジメチルスルホキシドを含む
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ22Ｃｌ2Ｎ4ＯＳＺｎ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｚｎ・Ｃ2Ｈ6ＯＳ）
単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．７８１６（４）Å
ｂ＝１４．６３３８（５）Å
ｃ＝１６．４２９４（７）Å
α＝９０°
β＝９２．５２０（６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３４９．４６（１６）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０３４９
［化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のジメチルスルホキシドを含む
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ22Ｃｌ2Ｎ4ＯＳＺｎ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｚｎ・Ｃ2Ｈ6ＯＳ）
単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．７８１６（４）Å
ｂ＝１４．６３３８（５）Å
ｃ＝１６．４２９４（７）Å
α＝９０°
β＝９２．５２０（６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３４９．４６（１６）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０３４９
以下の実施例で合成した錯体では、原料として用いた前記配位子と、一部の構造が異なる配位子によって錯体が構成されているケースがあった。具体的には、前記配位子が有さない、ヒドロキシ基、エトキシ基、塩素原子等が導入された配位子が、錯体を構成している場合があった。これは、錯体合成反応中に、配位子が溶媒等の反応系中の物質と反応したためである。また、配位子同士が結合するケースもあった。
〔実施例２〕
（化学式（１－２）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（１－２）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化コバルト六水和物（ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）２００ｍｇ（０．８４ｍｍｏｌ）を、エタノール１５ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌したところ、青色懸濁液が得られた。
（４）１０分間静置した後、デカンテーションで上澄み液を捨て、残った紫色粉末をエタノール５ｍＬで洗浄した。
（５）エバポレーターを用いて乾燥後、得られた青色粉末を回収した（４５０ｍｇ）。
（６）回収した青色粉末に対して、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）を５０ｍＬ加えた後、７０℃で約２０分間撹拌することにより、青色粉末を完全に溶解させた。
（７）得られた青色溶液に対して、トルエン蒸気を拡散させたところ、化学式（１－２）で表される錯体の青色の単結晶（錯体集積体）が析出した。
（８）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、８０ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ、収率１９％であった。
化学式（１－２）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（１－２）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のアセトニトリルを含む
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ19Ｃｌ2ＣｏＮ5Ｏ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2ＣｏＮ4Ｏ・Ｃ2Ｈ3Ｎ）
結晶系：三斜晶系（ｔｒｉｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ－１（＃２）
格子定数：
ａ＝８．４１０４（８）Å
ｂ＝１１．５７０（１）Å
ｃ＝１３．２６０６（１１）Å
α＝１１３．２５７（８）°
β＝９０．１０６（６）°
γ＝１０４．５５７（７）°
単位格子体積：Ｖ＝１１４０．０２（１９）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０４４２
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のアセトニトリルを含む
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ19Ｃｌ2ＣｏＮ5Ｏ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2ＣｏＮ4Ｏ・Ｃ2Ｈ3Ｎ）
結晶系：三斜晶系（ｔｒｉｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ－１（＃２）
格子定数：
ａ＝８．４１０４（８）Å
ｂ＝１１．５７０（１）Å
ｃ＝１３．２６０６（１１）Å
α＝１１３．２５７（８）°
β＝９０．１０６（６）°
γ＝１０４．５５７（７）°
単位格子体積：Ｖ＝１１４０．０２（１９）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０４４２
〔実施例３〕
（化学式（１－３）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（１－３）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化ニッケル六水和物（ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）１００ｍｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌したところ、赤紫色懸濁液が得られた。
（４）エバポレーターを用いて乾燥後、得られた紫色粉末を回収した。
（５）回収した紫色粉末に対して、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）３５ｍＬを加え、次いで７０℃まで加熱することにより、紫色粉末を完全に溶解させた。
（６）得られた紫色溶液に対して、ジエチルエーテル蒸気を拡散させたところ、化学式（１－３）で表される錯体の紫色単結晶（錯体集積体）が析出した。
（７）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、２２ｍｇ、０．０４３ｍｍｏｌ、収率１０％であった。
化学式（１－３）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（１－３）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ0.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１２．７６５９（１２）Å
ｂ＝１０．７２５５（１０）Å
ｃ＝１７．３４２１（１９）Å
α＝９０°
β＝１１０．３７２（８）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２２６．０（４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０６６８
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ0.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１２．７６５９（１２）Å
ｂ＝１０．７２５５（１０）Å
ｃ＝１７．３４２１（１９）Å
α＝９０°
β＝１１０．３７２（８）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２２６．０（４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０６６８
〔実施例４〕
（化学式（１－４）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（１－４）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化コバルト六水和物（ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）１００ｍｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌した。
（４）少量の不溶物をろ過で取り除いた後、ろ液に対して、ジエチルエーテル蒸気を拡散させたところ、化学式（１－４）で表される錯体の青色単結晶（錯体集積体）が析出した。
（５）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、１２ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ、収率６％であった。
化学式（１－４）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（１－４）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｏＮ4Ｏ0.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2ＣｏＮ4・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１２．９２６２（１６）Å
ｂ＝１０．７８１１（１０）Å
ｃ＝１７．２３３４（１７）Å
α＝９０°
β＝１１０．４１５（８）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２５０．８（４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０５１６
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｏＮ4Ｏ0.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2ＣｏＮ4・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１２．９２６２（１６）Å
ｂ＝１０．７８１１（１０）Å
ｃ＝１７．２３３４（１７）Å
α＝９０°
β＝１１０．４１５（８）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２５０．８（４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０５１６
〔実施例５〕
（化学式（１－５）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（１－５）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化銅（ＣｕＣｌ2）１００ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌したところ、褐色懸濁液となった。
（４）エバポレーターを用いて乾燥後、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）を５０ｍＬ加えた後、６０℃まで加熱した。
（５）ろ過により不溶物を取り除き、ろ液を室温で静置したところ、橙色微結晶が６０ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ、１８％）得られた。
（６）橙色微結晶をアセトニトリル５０ｍＬに溶かし、ジエチルエーテル蒸気を拡散させたところ、化学式（１－５）で表される錯体の橙色単結晶（錯体集積体）が痕跡量析出した。
化学式（１－５）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（１－５）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｕＮ4Ｏ0.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2ＣｕＮ4・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１２．９９６７（１０）Å
ｂ＝１０．７７８１（８）Å
ｃ＝１６．９６１５（１０）Å
α＝９０°
β＝１０９．３６７（８）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２４１．５（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０４１３
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｕＮ4Ｏ0.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2ＣｕＮ4・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１２．９９６７（１０）Å
ｂ＝１０．７７８１（８）Å
ｃ＝１６．９６１５（１０）Å
α＝９０°
β＝１０９．３６７（８）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２４１．５（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０４１３
〔実施例６〕
（化学式（１－６）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（１－６）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化コバルト六水和物（ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）１００ｍｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌したところ、青緑色溶液が得られた。
（４）エバポレーターを用いて乾燥し、得られた青色粉末をテトラヒドロフランに溶解させた後、ジエチルエーテル蒸気を拡散させたところ、化学式（１－６）で表される錯体の青色単結晶（錯体集積体）が痕跡量析出した。
化学式（１－６）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（１－６）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のテトラヒドロフラン、および０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ29Ｃｌ2ＣｏＮ4Ｏ1.5（Ｃ17Ｈ16Ｃｌ2ＣｏＮ4Ｏ・（Ｃ4Ｈ8Ｏ）・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｃ２／ｃ（＃１５）
格子定数：
ａ＝２４．４４７（３）Å
ｂ＝１４．１１１４（１９）Å
ｃ＝３０．７８５（４）Å
α＝９０°
β＝９７．４３１（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝１０５３１（２）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１６５２
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のテトラヒドロフラン、および０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ29Ｃｌ2ＣｏＮ4Ｏ1.5（Ｃ17Ｈ16Ｃｌ2ＣｏＮ4Ｏ・（Ｃ4Ｈ8Ｏ）・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｃ２／ｃ（＃１５）
格子定数：
ａ＝２４．４４７（３）Å
ｂ＝１４．１１１４（１９）Å
ｃ＝３０．７８５（４）Å
α＝９０°
β＝９７．４３１（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝１０５３１（２）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１６５２
〔実施例７〕
（化学式（１－７）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（１－７）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化銅（ＣｕＣｌ2）１００ｍｇ（０．７４ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌したところ、暗黄褐色懸濁液となった。
（４）ろ過により不溶物を取り除き、濾液に対して、ジエチルエーテル蒸気を拡散させたところ、化学式（１－７）で表される錯体の黄色単結晶（錯体集積体）が痕跡量析出した。
化学式（１－７）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（１－７）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｕＮ4Ｏ1.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2ＣｕＮ4Ｏ・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝８．７０２１（１０）Å
ｂ＝１１．２３８２（１５）Å
ｃ＝２３．８４４（３）Å
α＝９０°
β＝９７．４２５（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３１２．３（５）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１１９１
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として０．５分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｕＮ4Ｏ1.5（Ｃ19Ｈ20Ｃｌ2ＣｕＮ4Ｏ・（Ｃ4Ｈ10Ｏ）0.5）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝８．７０２１（１０）Å
ｂ＝１１．２３８２（１５）Å
ｃ＝２３．８４４（３）Å
α＝９０°
β＝９７．４２５（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３１２．３（５）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１１９１
〔実施例８〕
（化学式（２－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（２－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
［合成法１］
（１）配位子Ｌ1１６０ｍｇ（０．４９ｍｍｏｌ）を、エタノール（ＥｔＯＨ）２０ｍＬに溶解させた。
（２）塩化鉄四水和物（ＦｅＣｌ2・４Ｈ2Ｏ）１００ｍｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で５時間撹拌したところ、黄褐色懸濁液が得られた。
（４）１０分間静置した後、デカンテーションで上澄み液を捨て、エバポレーターを用いて乾燥したところ、黄褐色粉末９０ｍｇが残った。
（５）黄褐色粉末に対して、アセトニトリル４０ｍＬを加え、７０℃まで加熱した後、ろ過で不溶物を取り除き、ろ液を室温で静置したところ、化学式（２－１）で表される錯体の黄色の単結晶（錯体集積体）が痕跡量析出した。
（１）配位子Ｌ1１６０ｍｇ（０．４９ｍｍｏｌ）を、エタノール（ＥｔＯＨ）２０ｍＬに溶解させた。
（２）塩化鉄四水和物（ＦｅＣｌ2・４Ｈ2Ｏ）１００ｍｇ（０．５０ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で５時間撹拌したところ、黄褐色懸濁液が得られた。
（４）１０分間静置した後、デカンテーションで上澄み液を捨て、エバポレーターを用いて乾燥したところ、黄褐色粉末９０ｍｇが残った。
（５）黄褐色粉末に対して、アセトニトリル４０ｍＬを加え、７０℃まで加熱した後、ろ過で不溶物を取り除き、ろ液を室温で静置したところ、化学式（２－１）で表される錯体の黄色の単結晶（錯体集積体）が痕跡量析出した。
［合成法２］
（１）配位子Ｌ1２００ｍｇ（０．６１ｍｍｏｌ）を、エタノール（ＥｔＯＨ）１５ｍＬに溶解させた。
（２）塩化鉄（ＦｅＣｌ3）１００ｍｇ（０．６２ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で３０分間撹拌した。
（４）ろ過により少量の不溶物を取り除いた後、冷蔵庫（１０℃）で静置したところ、化学式（２－１）で表される錯体の黄色の単結晶（錯体集積体）が析出した。
（５）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、２５ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ、収率８％であった。
どちらの合成法においても、化学式（２－１）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
（１）配位子Ｌ1２００ｍｇ（０．６１ｍｍｏｌ）を、エタノール（ＥｔＯＨ）１５ｍＬに溶解させた。
（２）塩化鉄（ＦｅＣｌ3）１００ｍｇ（０．６２ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で３０分間撹拌した。
（４）ろ過により少量の不溶物を取り除いた後、冷蔵庫（１０℃）で静置したところ、化学式（２－１）で表される錯体の黄色の単結晶（錯体集積体）が析出した。
（５）析出した単結晶を回収し、乾燥後、収量を測定したところ、２５ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ、収率８％であった。
どちらの合成法においても、化学式（２－１）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［合成法２で得た化学式（２－１）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として２分子のエタノールを含む
結晶としての組成：Ｃ48Ｈ42Ｃｌ3Ｆｅ2Ｎ8Ｏ5（Ｃ44Ｈ30Ｃｌ3Ｆｅ2Ｎ8Ｏ3・（Ｃ2Ｈ6Ｏ）2
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．９２３６（４）Å
ｂ＝２２．８１６０（８）Å
ｃ＝１８．８７９７（８）Å
α＝９０°
β＝１００．９５５（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝４６１９．７（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０５８７
化学式（２－１）で表される錯体が、合成法１、２のいずれでも得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析の測定結果が、合成法１および２の場合で同じ空間群となったことより確認した。
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として２分子のエタノールを含む
結晶としての組成：Ｃ48Ｈ42Ｃｌ3Ｆｅ2Ｎ8Ｏ5（Ｃ44Ｈ30Ｃｌ3Ｆｅ2Ｎ8Ｏ3・（Ｃ2Ｈ6Ｏ）2
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．９２３６（４）Å
ｂ＝２２．８１６０（８）Å
ｃ＝１８．８７９７（８）Å
α＝９０°
β＝１００．９５５（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝４６１９．７（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０５８７
化学式（２－１）で表される錯体が、合成法１、２のいずれでも得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析の測定結果が、合成法１および２の場合で同じ空間群となったことより確認した。
〔実施例９〕
（化学式（３－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（３－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（１）配位子Ｌ1３６０ｍｇ（１．１１ｍｍｏｌ）を、エタノール（ＥｔＯＨ）２０ｍＬに溶解させた。
（２）塩化銅（ＣｕＣｌ2）１５０ｍｇ（１．１２ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で３０分間撹拌したところ、橙色粉末が析出した。
（４）１０分間静置した後、デカンテーションで上澄み液を捨て、残った橙色粉末を０℃において、エタノール５ｍＬで洗浄した。
（５）エバポレーターを用いて乾燥後、得られた橙色粉末を回収した（３７０ｍｇ）。
（６）回収した橙色粉末に対して、アセトニトリル（ＣＨ3ＣＮ）を４５ｍＬ加えた後、６０℃で撹拌することにより、橙色粉末を完全に溶解させた（緑色溶液となる）。
（７）緑色溶液を室温で静置したところ、化学式（３－１）で表される錯体の緑色単結晶（錯体集積体）が痕跡量析出した。
化学式（３－１）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（３－１）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のエタノールおよび２分子のアセトニトリルを含む
結晶としての組成：Ｃ48Ｈ42Ｃｌ4Ｃｕ2Ｎ10Ｏ2（Ｃ42Ｈ30Ｃｌ4Ｃｕ2Ｎ8Ｏ・（Ｃ2Ｈ3Ｎ）2・（Ｃ2Ｈ6Ｏ））
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１１，８１２７（９）Å
ｂ＝１８．５３８５（１５）Å
ｃ＝２１．５５４７（１４）Å
α＝９０°
β＝１０５．４１７（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝４５５０．４（６）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１１４３
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として１分子のエタノールおよび２分子のアセトニトリルを含む
結晶としての組成：Ｃ48Ｈ42Ｃｌ4Ｃｕ2Ｎ10Ｏ2（Ｃ42Ｈ30Ｃｌ4Ｃｕ2Ｎ8Ｏ・（Ｃ2Ｈ3Ｎ）2・（Ｃ2Ｈ6Ｏ））
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１１，８１２７（９）Å
ｂ＝１８．５３８５（１５）Å
ｃ＝２１．５５４７（１４）Å
α＝９０°
β＝１０５．４１７（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝４５５０．４（６）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１１４３
〔実施例１０〕
（化学式（４－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（化学式（４－１）で表される錯体・錯体集積体の合成）
（２）塩化コバルト六水和物（ＣｏＣｌ2・６Ｈ2Ｏ）１００ｍｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を、エタノール１０ｍＬに溶かした。
（３）（２）を（１）に加えた後、５５℃で１時間撹拌したところ、青緑色溶液が得られた。
（４）エバポレーターを用いて乾燥し、得られた青色粉末をテトラヒドロフランに溶解させた後、－３０℃でジエチルエーテル蒸気を拡散させたところ、化学式（４－１）で表される錯体の青色単結晶（錯体集積体）が痕跡量析出した。
化学式（４－１）で表される錯体（錯体集積体）が得られたことは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。
［化学式（４－１）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として６分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｕＮ4Ｏ0.5（Ｃ34Ｈ30Ｃｌ4Ｃｏ2Ｎ8・（Ｃ4Ｈ8Ｏ）6）
結晶系：三斜晶系（ｔｒｉｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ－１（＃２）
格子定数：
ａ＝１１．１０８（４）Å
ｂ＝１２．１９３（５）Å
ｃ＝１２．９２７（５）Å
α＝６４．３１１（９）°
β＝８４．２６８（８）°
γ＝８２．６８９（１０）°
単位格子体積：Ｖ＝１５６３．０（１０）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１５６８
錯体１分子当たり、結晶化溶媒として６分子のジエチルエーテルを含む
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ25Ｃｌ2Ｎ4ＣｕＮ4Ｏ0.5（Ｃ34Ｈ30Ｃｌ4Ｃｏ2Ｎ8・（Ｃ4Ｈ8Ｏ）6）
結晶系：三斜晶系（ｔｒｉｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ－１（＃２）
格子定数：
ａ＝１１．１０８（４）Å
ｂ＝１２．１９３（５）Å
ｃ＝１２．９２７（５）Å
α＝６４．３１１（９）°
β＝８４．２６８（８）°
γ＝８２．６８９（１０）°
単位格子体積：Ｖ＝１５６３．０（１０）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１５６８
〔実施例１１〕
化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）について、ガス脱離、ガス吸着について評価するために、以下の実験を行った。
（化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）からのジエチルエーテル脱離方法）
製造例４で得られた化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）５０ｍｇを真空検体乾燥機に入れ、ＵＬＶＡＣ（登録商標）社製真空ポンプＧ－５０ＤＡ（到達圧力１．３Ｐａ）を用いて、１００℃で１４時間、減圧乾燥させた。
その結果、ジエチルエーテルを含む単結晶が、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）へと変換されていることが、単結晶Ｘ線構造解析により確認された。
化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）について、ガス脱離、ガス吸着について評価するために、以下の実験を行った。
（化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）からのジエチルエーテル脱離方法）
製造例４で得られた化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）５０ｍｇを真空検体乾燥機に入れ、ＵＬＶＡＣ（登録商標）社製真空ポンプＧ－５０ＤＡ（到達圧力１．３Ｐａ）を用いて、１００℃で１４時間、減圧乾燥させた。
その結果、ジエチルエーテルを含む単結晶が、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）へと変換されていることが、単結晶Ｘ線構造解析により確認された。
［ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｎ（＃１４）
ａ ＝ １６．２７０（６）Å
ｂ ＝ １３．０４９（５）Å
ｃ ＝ １９．８１１（８）Å
α ＝ ９０°
β ＝ １０７．１３２（８）o
γ ＝ ９０°
単位格子体積：Ｖ＝４０１９（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１９６６
ジエチルエーテル分子を含まない単結晶のデータについては、Ｒ因子（信頼度因子）の値からみてデータの質にやや難点があるものと思われるものの、構造は確認できた。
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｎ（＃１４）
ａ ＝ １６．２７０（６）Å
ｂ ＝ １３．０４９（５）Å
ｃ ＝ １９．８１１（８）Å
α ＝ ９０°
β ＝ １０７．１３２（８）o
γ ＝ ９０°
単位格子体積：Ｖ＝４０１９（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１９６６
ジエチルエーテル分子を含まない単結晶のデータについては、Ｒ因子（信頼度因子）の値からみてデータの質にやや難点があるものと思われるものの、構造は確認できた。
（ガス吸着実験－１）
前記ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）を用いて、テトラヒドロフラン、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、プロピオンアルデヒド、酢酸エチル、酢酸に対する吸着実験を行った。
前記ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）を用いて、テトラヒドロフラン、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、プロピオンアルデヒド、酢酸エチル、酢酸に対する吸着実験を行った。
吸着実験は密閉系かつ、大気圧で行った。
図５のように、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）を５０ｍｇ用意して（図５の中央、正方形で記載）、そこにテトラヒドロフラン、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、プロピオンアルデヒド、酢酸エチル、または酢酸の蒸気を室温で約一晩拡散させるだけで、各ガス（分子）が吸着された。
図５のように、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）を５０ｍｇ用意して（図５の中央、正方形で記載）、そこにテトラヒドロフラン、アセトン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、プロピオンアルデヒド、酢酸エチル、または酢酸の蒸気を室温で約一晩拡散させるだけで、各ガス（分子）が吸着された。
一晩拡散させた単結晶が各分子を吸着していることは、単結晶Ｘ線構造解析により確認した。いずれの単結晶についても、単結晶Ｘ線構造解析では、吸着させた分子の占有率は１とおけた。この結果に基づくと、吸着剤基準での吸着効率は１００％といえる。
［テトラヒドロフランを吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ24Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ8Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．１７６（４）Å
ｂ＝１４．３１６（６）Å
ｃ＝１５．８９２（６）Å
α＝９０°
β＝９２．８４４（９）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３１２．２（１６）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．２４０２
このデータに問題ないことは、別途、化学式（１’－８）で表される錯体をアセトニトリルとテトラヒドロフランの混合溶液中から結晶化させることにより得たデータ（下記）と比較することで確認できた。
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ24Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ8Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．２３７３（１２）Å
ｂ＝１４．３６３２（１４）Å
ｃ＝１６．０６６０（１６）Å
α＝９０°
β＝９２．９６９（６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３５９．２（４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０６２５
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ24Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ8Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．１７６（４）Å
ｂ＝１４．３１６（６）Å
ｃ＝１５．８９２（６）Å
α＝９０°
β＝９２．８４４（９）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３１２．２（１６）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．２４０２
このデータに問題ないことは、別途、化学式（１’－８）で表される錯体をアセトニトリルとテトラヒドロフランの混合溶液中から結晶化させることにより得たデータ（下記）と比較することで確認できた。
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ24Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ8Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．２３７３（１２）Å
ｂ＝１４．３６３２（１４）Å
ｃ＝１６．０６６０（１６）Å
α＝９０°
β＝９２．９６９（６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３５９．２（４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．０６２５
［アセトンを吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ24Ｈ22Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ3Ｈ6Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．９２９（２）Å
ｂ＝１４．２５０（３）Å
ｃ＝１６．１３０（３）Å
α＝９０°
β＝９３．２１８（６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２７８．６（８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１３５２
結晶としての組成：Ｃ24Ｈ22Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ3Ｈ6Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．９２９（２）Å
ｂ＝１４．２５０（３）Å
ｃ＝１６．１３０（３）Å
α＝９０°
β＝９３．２１８（６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２７８．６（８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１３５２
［クロロホルムを吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ22Ｈ17Ｃｌ5Ｎ4Ｎｉ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・ＣＨＣｌ3）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．９４３（５）Å
ｂ＝１４．３４６（７）Å
ｃ＝１５．９５２（８）Å
α＝９０°
β＝９２．６６５（１３）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２７３（２）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１５６０
結晶としての組成：Ｃ22Ｈ17Ｃｌ5Ｎ4Ｎｉ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・ＣＨＣｌ3）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．９４３（５）Å
ｂ＝１４．３４６（７）Å
ｃ＝１５．９５２（８）Å
α＝９０°
β＝９２．６６５（１３）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２７３（２）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１５６０
［ジクロロメタンを吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ22Ｈ18Ｃｌ4Ｎ4Ｎｉ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・ＣＨ2Ｃｌ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．２８３６（１９）Å
ｂ＝１３．９５６（３）Å
ｃ＝１５．８００（３）Å
α＝９０°
β＝９５．８８１（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２５５．７（８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１０２２
結晶としての組成：Ｃ22Ｈ18Ｃｌ4Ｎ4Ｎｉ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・ＣＨ2Ｃｌ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．２８３６（１９）Å
ｂ＝１３．９５６（３）Å
ｃ＝１５．８００（３）Å
α＝９０°
β＝９５．８８１（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２２５５．７（８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１０２２
［１，２－ジクロロエタンを吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ20Ｃｌ4Ｎ4Ｎｉ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ2Ｈ4Ｃｌ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．４６５（４）Å
ｂ＝１４．０７２（６）Å
ｃ＝１５．９０８（７）Å
α＝９０°
β＝９７．９４６（１２）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３２０．２（１８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．２０７３
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ20Ｃｌ4Ｎ4Ｎｉ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ2Ｈ4Ｃｌ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．４６５（４）Å
ｂ＝１４．０７２（６）Å
ｃ＝１５．９０８（７）Å
α＝９０°
β＝９７．９４６（１２）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３２０．２（１８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．２０７３
［プロピオンアルデヒドを吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ24Ｈ22Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ3Ｈ6Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．１６１（８）Å
ｂ＝１４．３４６（１０）Å
ｃ＝１６．０９４（１１）Å
α＝９０°
β＝９５．５６４（１６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３３５（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１５００
結晶としての組成：Ｃ24Ｈ22Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ3Ｈ6Ｏ）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１０．１６１（８）Å
ｂ＝１４．３４６（１０）Å
ｃ＝１６．０９４（１１）Å
α＝９０°
β＝９５．５６４（１６）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３３５（３）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１５００
［酢酸エチルを吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ24Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ2（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ8Ｏ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１９．３１４（５）Å
ｂ＝１５．９０６（４）Å
ｃ＝１６．０３９（４）Å
α＝９０°
β＝９０．１３４（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝４９２７（２）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．２１６７
結晶としての組成：Ｃ25Ｈ24Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ2（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ4Ｈ8Ｏ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝１９．３１４（５）Å
ｂ＝１５．９０６（４）Å
ｃ＝１６．０３９（４）Å
α＝９０°
β＝９０．１３４（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝４９２７（２）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．２１６７
［酢酸を吸着した結晶のデータ］
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ20Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ2（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ2Ｈ4Ｏ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．８７２（２）Å
ｂ＝１５．１１９（３）Å
ｃ＝１６．２０５（３）Å
α＝９０°
β＝１０６．４７７（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３１９．４（８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１１４６
結晶としての組成：Ｃ23Ｈ20Ｃｌ2Ｎ4ＮｉＯ2（Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ・Ｃ2Ｈ4Ｏ2）
結晶系：単斜晶系（ｍｏｎｏｃｌｉｎｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐ２1／ｃ（＃１４）
格子定数：
ａ＝９．８７２（２）Å
ｂ＝１５．１１９（３）Å
ｃ＝１６．２０５（３）Å
α＝９０°
β＝１０６．４７７（７）°
γ＝９０°
単位格子体積：Ｖ＝２３１９．４（８）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１１４６
また、一晩拡散させた前後で、質量変化を測定したところ、下表に示す質量増加が確認された。単結晶Ｘ線構造解析の結果より、錯体１分子あたり、ガスは１分子吸着していると考えられるが、質量増加としては、その理論値を超えるものもあった。この理由としては、実験スケールが小さいことにより、実験誤差が大きいためだと考えられる。いずれにせよ、化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）が種々の分子を吸着していることが確認された。
（ガス吸着実験－２）
ジエチルエーテルを含む製造例４で得られた化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）を５０ｍｇ用意して、そこにアンモニアの蒸気を、室温で約一晩拡散させたところ、結晶の色が紫色から白色へと変化し、質量が８ｍｇ増加した。得られたサンプルは単結晶性が低く、単結晶構造解析はできなかったが、Ｘ線回折測定では、回折によるシグナルの変化が観測された。これらの結果より、アンモニアの吸着にも成功していると考えた（図６参照）。
Ｘ線回折測定はリガク製多目的Ｘ線回折装置 ＳｍａｒｔＬａｂ ２０８０Ａ２０２を用いて以下のように行った。
ジエチルエーテルを含む製造例４で得られた化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）を５０ｍｇ用意して、そこにアンモニアの蒸気を、室温で約一晩拡散させたところ、結晶の色が紫色から白色へと変化し、質量が８ｍｇ増加した。得られたサンプルは単結晶性が低く、単結晶構造解析はできなかったが、Ｘ線回折測定では、回折によるシグナルの変化が観測された。これらの結果より、アンモニアの吸着にも成功していると考えた（図６参照）。
Ｘ線回折測定はリガク製多目的Ｘ線回折装置 ＳｍａｒｔＬａｂ ２０８０Ａ２０２を用いて以下のように行った。
まず、ジエチルエーテルを含む製造例４で得られた化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）を、メノウ乳鉢ですりつぶした後、ガラス試料板（２０×２０×０．５ｍｍ3）に入れた。その試料板を試料室に入れ、Ｘ線回折測定を行った。その結果を図６（ａ）に示す。同様の測定を上記方法によりアンモニアと接触させたのちの錯体（錯体集積体）についてもおこなったところ、図６（ｂ）に示す結果を得た。両者を比較すると明らかに回折パターンに違いがあった。
（ガス脱離実験－１）
前記ガス吸着実験－１により得られた、ガス状分子を吸着した化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）から、ガス状分子の脱離を行った。
前記ガス吸着実験－１により得られた、ガス状分子を吸着した化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）から、ガス状分子の脱離を行った。
（ガス脱離実験－１－１、アセトンの脱離）
前記ガス吸着実験－１と同様の方法により得たアセトンを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）５６ｍｇを真空検体乾燥機に入れ、ＵＬＶＡＣ（登録商標）社製真空ポンプＧ－５０ＤＡ（到達圧力１．３Ｐａ）を用いて、１００℃で２時間、減圧乾燥させた。
前記ガス吸着実験－１と同様の方法により得たアセトンを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）５６ｍｇを真空検体乾燥機に入れ、ＵＬＶＡＣ（登録商標）社製真空ポンプＧ－５０ＤＡ（到達圧力１．３Ｐａ）を用いて、１００℃で２時間、減圧乾燥させた。
その結果、アセトンを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）が、アセトンを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）へと変換されていることが、単結晶Ｘ線構造解析により確認された。
アセトンを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）とは、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）と同じものである。
（ガス脱離実験－１－２、ジクロロメタンの脱離）
ガス脱離実験－１－１と同様の実験を、ガス吸着実験－１と同様の方法により得たジクロロメタンを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）６１ｍｇを用いて行なった。
ガス脱離実験－１－１と同様の実験を、ガス吸着実験－１と同様の方法により得たジクロロメタンを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）６１ｍｇを用いて行なった。
その結果、ジクロロメタンを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）が、ジクロロメタンを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）へと変換されていることが、単結晶Ｘ線構造解析により確認された。
ジクロロメタンを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）とは、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）と同じものである。
（ガス脱離実験－１－３、酢酸エチルの脱離）
ガス脱離実験－１－１と同様の実験を、ガス吸着実験－１と同様の方法により得た酢酸エチルを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）６０ｍｇを用いて行なった。
ガス脱離実験－１－１と同様の実験を、ガス吸着実験－１と同様の方法により得た酢酸エチルを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）６０ｍｇを用いて行なった。
その結果、酢酸エチルを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）が、酢酸エチルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）へと変換されていることが、単結晶Ｘ線構造解析により確認された。
酢酸エチルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）は、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）とは異なる結晶学的パラメータを持っていた。
酢酸エチルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）は、ジエチルエーテルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）（単結晶）とは異なる結晶学的パラメータを持っていた。
［酢酸エチルを含む化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）から、酢酸エチルを脱離させることにより得られた酢酸エチルを含まない化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）のデータ］
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ
結晶系：斜方晶系（ｏｒｔｈｏｒｈｏｍｂｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐｃａ２1（＃２９）
ａ ＝ １５．８１４（３）Å
ｂ ＝ １３．２７４（３）Å
ｃ ＝ １９．２７６（４）Å
α ＝ ９０°
β ＝ ９０°
γ ＝ ９０°
単位格子体積：Ｖ＝４０４６．３（１４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１４１６
前記ガス吸着実験－１およびガス脱離実験－１の結果より、化学式（１’－８）で表される錯体は、単結晶状態を保ちつつ、アセトン、ジクロロメタン、および酢酸エチルを、可逆的に吸脱着できることが明らかとなった。
結晶としての組成：Ｃ21Ｈ16Ｃｌ2Ｎ4Ｎｉ
結晶系：斜方晶系（ｏｒｔｈｏｒｈｏｍｂｉｃ ｓｙｓｔｅｍ）
空間群：Ｐｃａ２1（＃２９）
ａ ＝ １５．８１４（３）Å
ｂ ＝ １３．２７４（３）Å
ｃ ＝ １９．２７６（４）Å
α ＝ ９０°
β ＝ ９０°
γ ＝ ９０°
単位格子体積：Ｖ＝４０４６．３（１４）Å3
Ｒ因子：Ｒ1（Ｉ＞２σ（Ｉ））＝０．１４１６
前記ガス吸着実験－１およびガス脱離実験－１の結果より、化学式（１’－８）で表される錯体は、単結晶状態を保ちつつ、アセトン、ジクロロメタン、および酢酸エチルを、可逆的に吸脱着できることが明らかとなった。
（ガス吸着およびガス脱離実験（サイクル試験））
前記ガス吸着実験－１およびガス脱離実験－１の結果より、化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）は、アセトン、ジクロロメタンおよび酢酸エチルを、可逆的に吸脱着できることが明らかとなった。前記ガス吸着実験－１と同様の実験およびガス脱離実験－１を行なったときの質量の変化は、アセトンの場合、５０ｍｇ（図７の０）→５６ｍｇ（図７の吸着１）→４７ｍｇ（図７の脱離１）、ジクロロメタンの場合、５０ｍｇ（図７の０）→５６ｍｇ（図７の吸着１）→４９ｍｇ（図７の脱離１）、酢酸エチルの場合、５０ｍｇ→６０ｍｇ→４８ｍｇであったことから、質量をパラメータとすることで、簡便に、化学式（１’－８）で表されるニッケル錯体のリサイクル能力を評価できると考えた。
前記ガス吸着実験－１およびガス脱離実験－１の結果より、化学式（１’－８）で表される錯体（錯体集積体）は、アセトン、ジクロロメタンおよび酢酸エチルを、可逆的に吸脱着できることが明らかとなった。前記ガス吸着実験－１と同様の実験およびガス脱離実験－１を行なったときの質量の変化は、アセトンの場合、５０ｍｇ（図７の０）→５６ｍｇ（図７の吸着１）→４７ｍｇ（図７の脱離１）、ジクロロメタンの場合、５０ｍｇ（図７の０）→５６ｍｇ（図７の吸着１）→４９ｍｇ（図７の脱離１）、酢酸エチルの場合、５０ｍｇ→６０ｍｇ→４８ｍｇであったことから、質量をパラメータとすることで、簡便に、化学式（１’－８）で表されるニッケル錯体のリサイクル能力を評価できると考えた。
そこで、アセトンとジクロロメタンについて、吸着と脱離を前記ガス吸着実験－１およびガス脱離実験－１と同様の操作を繰り返し、質量の変化を調べたところ、図７に示す結果が得られ、比較的再現性の高い質量の増減が確認された。なお、結晶状態が保たれていることを、アセトンの５回目の脱離状態（図７の脱離５）および６回目の吸着状態（図７の吸着６）において確認した。
〔実施例１２〕
（化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）からのジメチルスルホキシド脱離方法－１）
実施例１で得られた化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）５０ｍｇを真空検体乾燥機に入れ、ＵＬＶＡＣ（登録商標）社製真空ポンプＧ－５０ＤＡ（到達圧力１．３Ｐａ）を用いて、１８０℃で６時間、減圧乾燥させた。
（化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）からのジメチルスルホキシド脱離方法－１）
実施例１で得られた化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）５０ｍｇを真空検体乾燥機に入れ、ＵＬＶＡＣ（登録商標）社製真空ポンプＧ－５０ＤＡ（到達圧力１．３Ｐａ）を用いて、１８０℃で６時間、減圧乾燥させた。
その結果、質量が３５ｍｇまで減少した。この結果より、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）からのジメチルスルホキシドの脱離に成功していると考えられる。
（化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）からのジメチルスルホキシド脱離方法－２）
減圧乾燥の条件を１５０℃で２時間に変更した以外は、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）からのジメチルスルホキシド脱離方法－１と同様に行った。
この場合も、質量が３６ｍｇまで減少したことから、この条件においてもジメチルスルホキシドは脱離できると考えた。
（化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）からのジメチルスルホキシド脱離方法－２）
減圧乾燥の条件を１５０℃で２時間に変更した以外は、化学式（１－１）で表される錯体（錯体集積体）からのジメチルスルホキシド脱離方法－１と同様に行った。
この場合も、質量が３６ｍｇまで減少したことから、この条件においてもジメチルスルホキシドは脱離できると考えた。
本発明のガス吸着剤は、大気圧の空気中に微量に存在する様々なガス状分子の吸着が可能である。本発明のガス吸着剤は、ベンゾイミダゾールと水素結合を作ることが可能なガス状分子であれば吸着することが可能である。
Claims (12)
- 下記一般式（１）で表される錯体。
Ｍは、周期律表１～３族および７～１５族から選択される原子であり、
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ1が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ2が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
ｐは、１～４の整数である。
但し、「Ｍがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体」および「Ｍがニッケル原子、コバルト原子、銅原子、または亜鉛原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3およびＲ4が共に水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２である錯体」を含まない。） - 前記一般式（１）において、前記Ｍは、周期律表３族および８～１２族から選択される原子である、請求項１に記載の錯体。
- 前記一般式（１）において、前記Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～２の整数であり、前記Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、前記ｐは、２または３である、
請求項１または２に記載の錯体。 - 下記化学式（１－１）～（１－７）のいずれかで表される、請求項１～３のいずれか一項に記載の錯体。
- 請求項１～４のいずれか一項に記載の錯体が複数集積化した、錯体集積体。
- 下記一般式（１）で表される錯体が、複数集積化した錯体集積体から構成される、ガス吸着剤。（但し、ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、ジエチルエーテルであり、錯体が下記一般式（１）で表される錯体であり、かつ一般式（１）においてＭがニッケル原子であり、ｍおよびｎが０であり、Ｒ3がフェニル基であり、Ｒ4が水素原子であり、Ｘが塩素原子であり、ｐが２であるニッケル錯体である場合を除く。）
Ｍは、周期律表１～３族および７～１５族から選択される原子であり、
Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ1が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、Ｒ2が複数存在する場合には、互いに結合し環を形成してもよく、
ｍ、ｎはそれぞれ独立に０～４の整数であり、
Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５のアルキル基、ヒドロキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基、炭素数１～５のアルコキシ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいビニル基、ホルミル基、－ＣＯ－Ｒz基、カルボキシ基、－ＣＯＯ－Ｒz基、－Ｏ－ＣＯ－Ｒz基、ニトロ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいスルホ基、炭素数１～５のアルキル基で置換されていてもよいアミノ基、シアノ基、炭素数２～５のアルケニル基、炭素数２～５のアルキニル基、またはハロゲン原子から選択される基であり、Ｒ3およびＲ4は互いに結合し環を形成してもよく、
Ｒzは、炭素数１～５のアルキル基であり、
Ｘはそれぞれ独立にハロゲン原子であり、
ｐは、１～４の整数である。） - ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、Ｒi－Ｏ－Ｒi、ＮＲii 3、ＣＨnＸ4-n、１～３個のハロゲン原子で置換されたエタン、Ｒii－ＣＯ－Ｒii、Ｒii－Ｓ－Ｒii、Ｒii－ＳＯ－Ｒii、ＲiiＣＯＯＲii、および二酸化炭素から選択される少なくとも１種であり、
Ｒiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、２つのＲiは互いに結合し環を形成してもよく、Ｒiiは、それぞれ独立に、水素原子、または炭素数１～５のアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは０～３の整数である、請求項６に記載のガス吸着剤。 - ガス吸着剤が吸着するガス状分子が、水、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アンモニア、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、アセトン、プロピオンアルデヒド、酢酸、および酢酸エチルから選択される少なくとも１種である、請求項６に記載のガス吸着剤。
- 請求項６～８のいずれか一項に記載のガス吸着剤を用いてガス状分子を吸着する、ガス吸着方法。
- 請求項６～８のいずれか一項に記載のガス吸着剤に吸着されたガス状分子を、加熱することにより脱離する、ガス脱離方法。
- 請求項６～８のいずれか一項に記載のガス吸着剤に吸着されたガス状分子を、減圧乾燥させることにより脱離する、ガス脱離方法。
- 前記減圧乾燥が、圧力が０．１Ｐａ～１００００Ｐａ、温度が５５℃～３００℃、時間が３５分～２４時間の条件下で行われる、請求項１１に記載のガス脱離方法。
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Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| European Polymer Journal，2015年，71，p.85-98 |
| Transition Metal Chemistry，1988年，Vol.13 No.6，p.423-425 |
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