JP7316146B2 - 希硫酸製造装置及び希硫酸製造方法 - Google Patents
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以下、図1~図3を参照して、本発明の一実施形態に係る希硫酸製造装置及び希硫酸製造方法について説明する。図1は、希硫酸製造装置40の上流側工程を示す模式図であり、図2は、希硫酸製造装置40の下流側工程を示す模式図である。なお、本発明の「希硫酸」とは、硫酸濃度が90質量%未満の硫酸水溶液を意味し、JIS K1321で規定される「薄硫酸」(硫酸分60~80質量%)や「精製希硫酸」(硫酸分27~50質量%)を含む。
(1)希硫酸製造装置全体のシミュレーション
図1、図2の希硫酸製造装置40について、表1に示す設定値に基づき、電解質シミュレータ 「OLI Flowsheet: ESP」(OLI systems社)、汎用プロセスシミュレータ PRO/IITM(AVEVA社)、及び計算ソフトを使用し、シミュレーションを行った。
図3の燃焼炉51について、化学反応シミュレーションソフト「CHEMKIN」(ANSYS社)を使用し、シミュレーションを行った。条件は以下のとおりである。
<計算条件>
・液体の物質はすべて気体に置き換える。
・Sを含む化学種については不活性物質としてN2に置き換える。
・燃焼炉内はプラグフロー流れとする。
・燃焼に伴う発熱は考慮しない。
・PVSAありとPVSAなしのケースで解析を実施する。
Claims (18)
- 硫黄分と、窒素分と、40~80質量%以上の水分とを少なくとも含む原料を供給する原料供給手段と、
酸素濃度が25~40体積%の酸素含有ガスを生成する酸素含有ガス生成手段と、
前記酸素含有ガスで前記原料を燃焼して硫黄酸化物(SOx:ここで、1≦x<3)と10質量%以上の水分とを含む燃焼ガスを生成する燃焼手段と、
前記燃焼ガスを冷却する冷却手段と、
前記硫黄酸化物(SOx)を触媒により酸化して三酸化硫黄(SO3)を含む反応ガスを生成する反応手段と、
前記反応ガスを冷却して希硫酸を生成する希硫酸生成手段と、を含むことを特徴とする希硫酸製造装置。 - 前記燃焼手段が900~1100℃で前記原料を燃焼することを特徴とする請求項1に記載の希硫酸製造装置。
- 前記希硫酸生成手段における未反応の二酸化硫黄を除去するガス除去手段を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の希硫酸製造装置。
- 前記ガス除去手段は、前記未反応の二酸化硫黄とアンモニアとを反応させて亜硫酸アンモニウム(NH4HSO3:亜硫安)を生成させ、酸化により硫酸アンモニウム(NH4HSO4)として回収することを特徴とする請求項3に記載の希硫酸製造装置。
- 前記燃焼手段は、一部が開口した格子状レンガを内部に備えた燃焼炉であることを特徴とする請求項1に記載の希硫酸製造装置。
- 前記反応手段は、前記触媒が五酸化バナジウム(V2O5)であり、脱硝機能を兼ねることを特徴とする請求項1に記載の希硫酸製造装置。
- 前記反応手段は、前記触媒に加えて助触媒として酸化チタン(TiO2)及び/又は硫酸バナジウム(VOSO4)を含む脱硝触媒を更に備えることを特徴とする請求項6に記載の希硫酸製造装置。
- 前記反応手段は、複数段に設置した前記触媒を備え、複数段のうち前段の前記触媒により前記硫黄酸化物と前記酸素との発熱反応で昇温する転化後ガスに、外部から誘引した大気を直接混合させて、後段の触媒反応に適する温度にまで降下させることを特徴とする請求項1に記載の希硫酸製造装置。
- 前記燃焼手段は、5000kJ/kg未満の原料に前記酸素含有ガスを供給して燃焼し、5000kJ/kg以上の原料に空気を供給して燃焼することを特徴とする請求項1に記載の希硫酸製造装置。
- 硫黄分と、窒素分と、40~80質量%以上の水分とを少なくとも含む原料を供給する原料供給工程と、
酸素濃度が25~40体積%の酸素含有ガスを生成する酸素含有ガス生成工程と、
前記酸素含有ガスで前記原料を燃焼して硫黄酸化物(SOx:ここで、1≦x<3)と10質量%以上の水分とを含む燃焼ガスを生成する燃焼工程と、
前記燃焼ガスを冷却する冷却工程と、
前記硫黄酸化物(SOx)を触媒により酸化して三酸化硫黄(SO3)を含む反応ガスを生成する反応工程と、
前記反応ガスを冷却して希硫酸を生成する希硫酸生成工程と、を含むことを特徴とする希硫酸製造方法。 - 前記燃焼工程が900~1100℃で前記原料を燃焼することを特徴とする請求項10に記載の希硫酸製造方法。
- 前記希硫酸生成工程における未反応の二酸化硫黄を除去するガス除去工程を更に備えることを特徴とする請求項10に記載の希硫酸製造方法。
- 前記ガス除去工程は、前記未反応の二酸化硫黄とアンモニアとを反応させて亜硫酸アンモニウム(NH4HSO3:亜硫安)を生成させ、酸化により硫酸アンモニウム(NH4HSO4)として回収することを特徴とする請求項12に記載の希硫酸製造方法。
- 前記燃焼工程は、一部が開口した格子状レンガを内部に備えた燃焼炉を使用することを特徴とする請求項10に記載の希硫酸製造方法。
- 前記反応工程は、前記触媒が五酸化バナジウム(V2O5)であり、脱硝機能を兼ねることを特徴とする請求項10に記載の希硫酸製造方法。
- 前記反応工程は、前記触媒に加えて助触媒として酸化チタン(TiO2)及び/又は硫酸バナジウム(VOSO4)を含む脱硝触媒を更に備えることを特徴とする請求項15に記載の希硫酸製造方法。
- 前記反応工程は、複数段に設置した前記触媒を備え、複数段のうち前段の前記触媒により前記硫黄酸化物と前記酸素との発熱反応で昇温する転化後ガスに、外部から誘引した大気を直接混合させて、後段の触媒反応に適する温度にまで降下させることを特徴とする請求項10に記載の希硫酸製造方法。
- 前記燃焼工程は、5000kJ/kg未満の原料に前記酸素含有ガスを供給して燃焼し、5000kJ/kg以上の原料に空気を供給して燃焼することを特徴とする請求項10に記載の希硫酸製造方法。
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