JP7316095B2 - Vacuum dryer - Google Patents
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Description
本開示は、減圧乾燥装置に関する。 The present disclosure relates to a vacuum drying apparatus.
特許文献1には、チャンバ内に収納された基板上の溶液を減圧状態で乾燥させる減圧乾燥装置が開示されている。この減圧乾燥装置には、溶媒捕集網が設けられている。溶媒捕集網は、網状板からなり、基板から気化した溶液中の溶媒を一時的に捕集するものであり、チャンバ内において基板に対向するように設けられている。特許文献1に開示の減圧乾燥装置では、この溶媒捕集網を設けることにより、乾燥時間が基板の面内で均一となるようにしている。
本開示にかかる技術は、沸点が互いに異なる複数の溶媒を含む溶液の乾燥時間を基板の面内で均一にする。 The technology according to the present disclosure makes the drying time of a solution containing a plurality of solvents with different boiling points uniform over the surface of the substrate.
本開示の一態様は、基板上の溶液を減圧下で乾燥させる減圧乾燥装置であって、前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、前記減圧乾燥装置は、前記基板を収容する容器を有し、前記容器内に、前記基板が載置される載置台と、前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、前記溶媒捕集部を上下方向に移動させる移動機構と、を有し、前記容器は、前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、前記溶媒捕集部は、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において前記移動機構により上下方向に移動され、制御部をさらに有し、前記制御部は、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒が前記溶媒捕集部で捕集された後、当該溶媒捕集部が下方に移動され、下方に移動された前記当該溶媒捕集部から前記低沸点の溶媒が脱離された後、当該溶媒捕集部が上方に移動されるよう、前記移動機構を制御するように構成されている。
One aspect of the present disclosure is a reduced-pressure drying apparatus that dries a solution on a substrate under reduced pressure, wherein the solution contains a plurality of solvents having different boiling points, and the reduced-pressure drying apparatus is a container that accommodates the substrate. and a mounting table on which the substrate is mounted, and a solvent collecting part for temporarily collecting a solvent in the solution vaporized from the substrate mounted on the mounting table, in the container. and a moving mechanism for vertically moving the solvent collecting part, and the container is connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container below the mounting table in the vicinity of the mounting table. The solvent collector is provided outside the substrate placed on the mounting table in a plan view, and is moved up and down outside the substrate by the moving mechanism. , further comprising a controller, wherein the controller moves the solvent collector downward after the solvent with a low boiling point contained in the solution is collected by the solvent collector. After the low boiling point solvent is desorbed from the solvent trapping part, the moving mechanism is controlled such that the solvent trapping part is moved upward.
本発明によれば、沸点が互いに異なる複数の溶媒を含む溶液の乾燥時間を基板の面内で均一にすることができる。 According to the present invention, the drying time of a solution containing a plurality of solvents having different boiling points can be made uniform within the surface of the substrate.
従来、有機EL(Electroluminescence)の発光を利用した発光ダイオードである有機発光ダイオード(OLED:Organic Light Emitting Diode)が知られている。かかる有機発光ダイオードを用いた有機ELディスプレイは、薄型軽量かつ低消費電力であるうえ、応答速度や視野角、コントラスト比の面で優れているといった利点を有していることから、次世代のフラットパネルディスプレイ(FPD)として近年注目されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, an organic light emitting diode (OLED), which is a light emitting diode using organic EL (Electroluminescence) light emission, is known. Organic EL displays using such organic light-emitting diodes are thin, light, and low power consumption. In addition, they have advantages such as excellent response speed, viewing angle, and contrast ratio. In recent years, it has attracted attention as a panel display (FPD).
有機発光ダイオードは、基板上の陽極と陰極の間に有機EL層を挟んだ構造を有している。有機EL層は、例えば陽極側から順に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層及び電子注入層が積層されて形成される。これらの有機EL層の各層(特に正孔注入層、正孔輸送層及び発光層)を形成するにあたっては、例えばインクジェット方式で有機材料の液滴を基板上に離散的に配置された各色の画素に対応するバンクに吐出することにより、バンク内にその画素の有機材料の膜を塗布するといった方法が用いられる。 An organic light-emitting diode has a structure in which an organic EL layer is sandwiched between an anode and a cathode on a substrate. The organic EL layer is formed by stacking, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer and an electron injection layer in this order from the anode side. In forming each layer of these organic EL layers (especially a hole injection layer, a hole transport layer and a light emitting layer), for example, droplets of an organic material are dispersedly arranged on a substrate by an inkjet method, and pixels of each color are formed. A method is used in which the organic material film of the pixel is applied in the bank by discharging the ink to the bank corresponding to the pixel.
インクジェット方式で基板上に吐出された有機材料中には、多量の溶媒が含まれている。そのため、溶媒を除去することを目的として、基板が収容された容器内を減圧させ当該基板上の溶液を乾燥する減圧乾燥処理が行われている。
この減圧乾燥処理の際、例えば、基板角部より基板中央部の方が、溶媒の乾燥時間が長くなってしまう等、乾燥時間が基板の面内で不均一になる場合がある。この場合、例えば、例えば、先に乾燥が完了して基板角部に形成された塗布膜が、乾燥が完了していない基板中央部で気化した溶媒によって溶けてしまう。特許文献1では、上述のような、基板面内における溶液の乾燥時間の不均一性を解消するため、基板上の有機材料膜から揮発する溶媒を当該溶媒捕集網で捕集する溶媒捕集網を基板に対向するように設けている。
A large amount of solvent is contained in the organic material ejected onto the substrate by the inkjet method. Therefore, for the purpose of removing the solvent, a reduced-pressure drying process is performed to dry the solution on the substrate by reducing the pressure in the container containing the substrate.
During this reduced-pressure drying process, the drying time may become uneven within the surface of the substrate. In this case, for example, the coating film that has been dried and formed on the corners of the substrate is dissolved by the vaporized solvent in the central portion of the substrate that has not been dried. In
ところで、基板上に吐出される有機材料には、低沸点の溶媒と高沸点の溶媒との両方が含まれる場合がある。この場合、減圧乾燥処理の過程において、図1(A)に示すように、低沸点溶媒S1が気化してから、図1(B)に示すように、高沸点溶媒S2が気化する。そのため、特許文献1のように、基板Wに対向するように溶媒捕集網Nを設けると、高沸点溶媒S2が気化する段階では、溶媒捕集網Nに低沸点の溶媒S1が残っており、当該溶媒捕集網Nは高沸点溶媒S2を吸着できない状態にある。したがって、高沸点溶媒S2にとっては、溶媒捕集網Nが存在しない状態に等しいため、溶液の乾燥に要する時間が、基板面内で不均一になることがある。
By the way, the organic material discharged onto the substrate may contain both a low boiling point solvent and a high boiling point solvent. In this case, in the process of drying under reduced pressure, as shown in FIG. 1A, the low boiling point solvent S1 is vaporized, and then, as shown in FIG. 1B, the high boiling point solvent S2 is vaporized. Therefore, when the solvent collection net N is provided so as to face the substrate W as in
そこで、本開示にかかる技術は、沸点が互いに異なる複数の溶媒を含む溶液の乾燥時間を基板の面内で均一にする。 Therefore, the technology according to the present disclosure makes the drying time of a solution containing a plurality of solvents with different boiling points uniform within the surface of the substrate.
以下、本実施形態に係る減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法を、図面を参照して説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。 Hereinafter, a reduced pressure drying apparatus and a reduced pressure drying method according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. In the present specification and drawings, elements having substantially the same functional configuration are denoted by the same reference numerals, thereby omitting redundant description.
(第1実施形態)
図2及び図3は、第1実施形態に係る減圧乾燥装置の概略構成を示す図であり、図2は断面図、図3は上面図である。なお、図3では後述の天板等の図示は省略されている。
(First embodiment)
2 and 3 are diagrams showing a schematic configuration of the reduced-pressure drying apparatus according to the first embodiment, FIG. 2 being a cross-sectional view and FIG. 3 being a top view. In addition, in FIG. 3, the illustration of the top plate etc. mentioned later is abbreviate|omitted.
図2の減圧乾燥装置1は、基板W上に例えばインクジェット方式で塗布された溶液を、減圧状態で乾燥させるものである。また、減圧乾燥装置1の処理対象の基板Wは例えば有機ELディスプレイ用の大型のガラス基板であり、その平面サイズは、例えば2.2m×2.5mmである。
The reduced-
処理対象の基板Wに塗布されている溶液は、溶質と溶媒からなり、減圧乾燥処理の対象となる成分は主に溶媒である。
また、上記溶液には、溶媒として、低沸点溶媒と高沸点溶媒が混合されたものが用いられている。
本実施形態では、低沸点が例えば200~230℃であり、高沸点が250℃以上であるとする。この場合、低沸点溶媒としては、例えば4-tert-ブチルアニソールを挙げることができる。また、高沸点溶媒としては、例えばドデシルベンゼンを挙げることができる。
なお、低沸点及び高沸点は、相対的なものであり、実験等から様々な決定方法があり、その決定結果に応じて、低沸点溶媒及び高沸点溶媒は、例えば以下に記載の材料等から、適宜選択して用いることができる。
1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン(1,3-dimethyl-2-imidazolidinone、沸点220℃、融点8℃)、4-tert-ブチルアニソール(4-tert-Butylanisole、沸点222℃、融点18℃)、Trans-アネトール(Trans-Anethole、沸点235℃、融点20℃)、1,2-ジメトキシベンゼン(1,2-Dimethoxybenzene、沸点206.7℃、融点22.5℃)、2-メトキシビフェニル(2-Methoxybiphenyl、沸点274℃、融点28℃)、フェニルエーテル(Phenyl Ether、沸点258.3℃、融点28℃)、2-エトキシナフタレン(2-Ethoxynaphthalene、沸点282℃、融点35℃)、ベンジルフェニルエーテル(Benzyl Phenyl Ether、沸点288℃、融点39℃)、2,6-ジメトキシトルエン(2,6-Dimethoxytoluene、沸点222℃、融点39℃)、2-プロポキシナフタレン(2-Propoxynaphthalene、沸点305℃、融点40℃)、1,2,3-トリメトキシベンゼン(1,2,3-Trimethoxybenzene、沸点235℃、融点45℃)、シクロヘキシルベンゼン(cyclohexylbenzene、沸点237.5℃、融点5℃)、ドデシルベンゼン(dodecylbenzene、沸点288℃、融点-7℃)、1,2,3,4-テトラメチルベンゼン(1,2,3,4-tetramethylbenzene、沸点203℃、融点76℃)
The solution applied to the substrate W to be processed is composed of a solute and a solvent, and the component to be dried under reduced pressure is mainly the solvent.
In addition, a mixture of a low boiling point solvent and a high boiling point solvent is used as a solvent in the solution.
In this embodiment, the low boiling point is, for example, 200 to 230° C., and the high boiling point is 250° C. or higher. In this case, examples of the low boiling point solvent include 4-tert-butylanisole. Moreover, as a high boiling point solvent, dodecylbenzene can be mentioned, for example.
In addition, the low boiling point and the high boiling point are relative, and there are various determination methods from experiments and the like. , can be appropriately selected and used.
1,3-dimethyl-2-imidazolidinone (boiling point 220°C, melting point 8°C), 4-tert-Butylanisole (boiling point 222°C, melting point 18) °C), Trans-Anethole (boiling point 235°C,
減圧乾燥装置1は、減圧可能に構成され、基板Wを収容する容器であるチャンバ10を備える。
The reduced-
チャンバ10は例えばステンレス等の金属材料から形成される。また、チャンバ10は上下に開口が形成された角筒状の本体部11を有する。
本体部11の側壁には、基板Wをチャンバ10内に搬入出するための搬入出口(図示せず)が設けられている。また、本体部11の上側の開口を塞ぐように天板12が取り付けられ、本体部11の下側の開口を塞ぐように底板13が取り付けられている。
The
A loading/unloading port (not shown) for loading/unloading the substrate W into/from the
チャンバ10内における略中央には、載置台20が設けられている。載置台20は、基板載置面20aであるその上面に、基板Wが水平に載置される。また、載置台20は、平面視において基板Wより寸法が大きい矩形状に形成されている。載置台20の下面中央部には、上下方向に延在する支持部材21の上端部が接続されている。支持部材21の下端部は、チャンバ10の底板13に接続されている。なお、載置台20に対して、当該載置台20を貫通するように昇降ピン(図示せず)が設けられている。昇降ピンは、チャンバ10の外部から当該チャンバ10内に挿入される基板搬送装置(図示せず)との間で基板Wを受け渡すためのものである。この昇降ピンは昇降機構(図示せず)により自在に上下動可能に構成されている。
A mounting table 20 is provided substantially in the center of the
また、チャンバ10内には、載置台20の周辺の位置であって当該載置台20の基板載置面20aより下側に、複数の排気口13aが形成されている。具体的には、例えば、図3に示すように、チャンバ10の底板13における、平面視において載置台20と重ならない領域(すなわち載置台20より外側)に、平面視における載置台20のそれぞれの長辺に沿って並ぶように、4個の排気口13aが形成されている。
In the
排気口13aそれぞれには図2に示すように排気管30の一端が接続されている。各排気管30の他端部には、チャンバ10の内部を排気し減圧する排気装置Pが接続されている。排気装置Pは、真空ポンプから構成され、例えば、ターボ分子ポンプとドライポンプとが例えば上流側からこの順に直列に接続されて構成される。排気管30における排気装置の上流側には自動圧力制御バルブ(APC(Adaptive Pressure Control)バルブ)31が設けられている。減圧乾燥装置1では、排気装置Pの真空ポンプを作動させた状態で、APCバルブ31の開度を調節することにより、減圧排気の際のチャンバ10内の真空度を制御することができる。
なお、APCバルブ31による上記真空度の制御のため、チャンバ10内の圧力を測定する圧力計(図示せず)が減圧乾燥装置1に設けられている。上記圧力計での計測結果は電気信号としてAPCバルブ31に入力される。
これら排気装置PやAPCバルブ31内に異物が入り込まないように、排気口13aには、保護カバー(図示せず)が取り付けられている。
One end of an
A pressure gauge (not shown) for measuring the pressure inside the
A protective cover (not shown) is attached to the
さらに、チャンバ10内には、載置台20に載置された基板Wから気化した溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部40が設けられている。溶媒捕集部40は、具体的には、基板W上にインクジェット方式により塗布された溶液から気化した溶媒を捕集する。溶媒捕集部40をチャンバ10内に設けることにより、当該チャンバ10内の雰囲気中の溶媒濃度を調節することができる。
Further, the
溶媒捕集部40は、平面視において、載置台20に載置された基板Wより外側の領域に位置するように配設されている。本実施形態では、溶媒捕集部40は、平面視において、載置台20の周辺に形成された排気口13aと重なる位置に配設されている。したがって、基板Wに対向する位置に配設される場合と比較して、溶媒捕集部40の網を通過して排気口13aに向かう気流が形成されやすく、溶媒の吸着と離脱が進みやすい。
The
溶媒捕集部40の形状は、例えば、平面視において、載置台20の外側を囲う角環状である。また、溶媒捕集部40は、例えば複数の平面視矩形状の部材(以下、「分割部材」という。)41を有し、図の例では、4つの分割部材41を有する。各分割部材41をチャンバ10の本体部11の側壁に沿って並べることで、溶媒捕集部40は全体として上述のような角環状を形成している。
溶媒捕集部40の各分割部材41は、厚さ方向に貫通する開口が平面視において格子状に規則的に形成された板状部材すなわち網状板である溶媒捕集網(図示せず)を有する。溶媒捕集網は例えばステンレスやアルミ、銅、金といった金属材料等の熱伝導性の良い材料から形成される。より具体的には、鋼板を冷間切延することにより製造されるエキスパンドメタルから構成される。また、溶媒捕集網は、その熱容量が小さくなるように形成されている。
なお、溶媒捕集部40の分割部材41はそれぞれ、後述の支持部材52により下方から支持される。
The shape of the
Each divided
The divided
さらにまた、チャンバ10内には、上述の溶媒捕集部40を上下方向に移動させる移動機構50を有する。
移動機構50は、レール51と支持部材52と駆動部53とを有する。
レール51は、上下方向に延在する部材であり、チャンバ10の本体部11の側壁に固定されている。
支持部材52は、水平方向(図の左右方向)に延在する部材であり、溶媒捕集部40を支持し、具体的には、溶媒捕集部40の分割部材41を支持する。この支持部材52は、駆動部53によってレール51に沿って移動自在である。この構成により、溶媒捕集部40は上下動可能となっている。
Furthermore, the
The moving
The
The
また、減圧乾燥装置1は、制御部Uを有する。この制御部Uは、例えばCPUやメモリ等を備えたコンピュータであり、プログラム格納部(図示せず)を有している。プログラム格納部には、減圧乾燥装置1における減圧乾燥処理を制御するプログラムが格納されている。なお、上記プログラムは、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、当該記憶媒体から上記制御部にインストールされたものであってもよい。プログラムの一部または全ては専用ハードウェア(回路基板)で実現してもよい。
The reduced-
続いて、減圧乾燥装置1を用いた減圧乾燥処理について図4を用いて説明する。図4は減圧乾燥処理時のチャンバ10内の状態を示す断面図である。
Subsequently, the reduced pressure drying process using the reduced
減圧乾燥装置1を用いた減圧乾燥処理では、まず、インクジェット方式で溶液が塗布された基板Wが載置台20に載置される。
次いで、排気装置Pのドライポンプが作動されチャンバ10内が減圧排気される。ドライポンプによる減圧排気はチャンバ10内の圧力が例えば10Paとなるまで行われる。
続いて、排気装置Pのターボ分子ポンプが作動され、チャンバ10内がさらに減圧排気される。
In the reduced-pressure drying process using the reduced-
Next, the dry pump of the evacuation device P is operated and the inside of the
Subsequently, the turbo-molecular pump of the evacuation device P is operated, and the inside of the
上述の減圧排気の際、断熱膨張によりチャンバ10内の気体が冷却され、そして、冷却された気体により、後述の吸着位置に位置する熱容量の小さい溶媒捕集部40が冷却される。その結果、溶媒捕集部40の温度が、各時点でのチャンバ10内の圧力における低沸点溶媒や高沸点溶媒の露点以下(例えば8~15℃)となる。
なお、溶媒捕集部40の温度は、基板W上の溶媒の蒸発が完了するまでの間、各時点でのチャンバ10内の圧力における上記露点以下に維持される。
During the evacuation, the gas in the
The temperature of the
また、上述の減圧排気によって、チャンバ10内の圧力が、低沸点溶媒の蒸気圧(そのときの基板Wの温度における蒸気圧を意味する。以下同様。)P1に到達すると、図4(A)に示すように、低沸点溶媒S1が気化する。気化した低沸点溶媒S1は、上述のように冷却されている吸着位置の溶媒捕集部40に吸着される。上記吸着位置とは、基板面内で均一に溶媒が均一に乾燥するよう当該溶媒を吸着し得る、上下方向に関する予め定められた位置である。
Further, when the pressure in the
基板W上の低沸点溶媒S1の乾燥が完了したタイミングで、溶媒捕集部40が、図4(B)に示すように、載置台20より下方の、排気口13aの近くの乾燥位置へ下降される。溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1を当該溶媒捕集部40から除去するためである。上述のように下降させることにより、溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1が早く除去される。溶媒捕集部40から脱離された低沸点溶媒S1は、排気口13aを介して排出される。なお、「基板W上の低沸点溶媒S1の乾燥が完了したタイミング」とは、具体的には、例えば、排気装置Pのターボ分子ポンプの作動開始後予め定められた時間が経過したタイミングである。
At the timing when drying of the low boiling point solvent S1 on the substrate W is completed, the
そして、溶媒捕集部40により捕集された低沸点溶媒S1の除去が完了したタイミングで、溶媒捕集部40は、図4(C)に示すように、乾燥位置より上方の吸着位置に戻される。なお、「溶媒捕集部40により捕集された低沸点溶媒S1の除去が完了したタイミング」とは、例えば、排気装置Pのターボ分子ポンプの作動開始後予め定められた時間が経過したタイミングである。
Then, at the timing when the removal of the low boiling point solvent S1 collected by the
その後、チャンバ10内の圧力が低下し、高沸点溶媒S2の蒸気圧P2に到達すると、高沸点溶媒S2が気化する。この時点では、溶媒捕集部40から低沸点溶媒S1が除去されているため、気化した高沸点溶媒S2は、溶媒捕集部40に吸着される。つまり、高沸点溶媒S2に対しても溶媒捕集部40は機能する。したがって、高沸点溶媒S2の乾燥に要する時間が、基板面内で均一となる。
After that, when the pressure in the
基板W上の高沸点溶媒S2の除去が完了した後も排気装置Pのターボ分子ポンプでの排気は継続される。溶媒捕集部40により捕集された高沸点溶媒S2を当該溶媒捕集部40から除去するためである。溶媒捕集部40から脱離された高沸点溶媒S2は、排気口13aを介して排出される。
例えばターボ分子ポンプが作動されてから予め定められた時間が経過するまで、ターボ分子ポンプでの排気を継続することにより、溶媒捕集部40から高沸点溶媒を除去する工程が終了する。
なお、この工程の際に、排気口13aの近くの位置へ、溶媒捕集部40を下降させるようにしてもよい。
Even after the removal of the high boiling point solvent S2 on the substrate W is completed, the evacuation by the turbomolecular pump of the evacuation device P is continued. This is for removing the high boiling point solvent S2 collected by the
For example, the step of removing the high-boiling solvent from the
During this step, the
溶媒捕集部40から高沸点溶媒を除去する工程終了後、排気装置Pが停止される。その後、チャンバ10内の圧力が大気圧まで戻された後、基板Wがチャンバ10から搬出される。これで、減圧乾燥装置1を用いた減圧乾燥処理が終了する。
After the process of removing the high boiling point solvent from the
以上のように、本実施形態では、排気口13aが、載置台20の周辺における載置台20より下側に設けられており、溶媒捕集部40が、平面視における、載置台に載置された基板Wより外側の領域に設けられている。さらに、本実施形態では、溶媒捕集部40を上下方向に移動させる移動機構50が設けられている。そのため、基板W上の低沸点溶媒S1の除去が完了した後に溶媒捕集部40を排気口13a側に下降させること等により、当該溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1を当該溶媒捕集部40から早く除去することができる。したがって、基板Wから気化して溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1を、高沸点溶媒S2が気化する時点において、当該溶媒捕集部40から脱離させ排出させておくことができる。よって、基板W上の高沸点溶媒S2を気化させる際に、高沸点溶媒S2を溶媒捕集部40で吸着することができ、すなわち、溶媒捕集部40を機能させることができる。その結果、低沸点溶媒S1と高沸点溶媒S2の両方を含む溶液の乾燥に要する時間を、基板面内で均一にすることができる。また、これにより、画素内膜形状の基板W内でのばらつきや、基板W内での膜厚分布のばらつき、一画素内における膜厚分布のばらつきが生じるのを防ぐことができる。
As described above, in the present embodiment, the
さらに、本実施形態では、溶媒捕集部40から早く低沸点溶媒が除去されるため、チャンバ10内の圧力を、高沸点溶媒S2の蒸気圧に早く到達させることができる。したがって、基板Wからの高沸点溶媒の乾燥完了までの時間を短縮することができる。
Furthermore, in the present embodiment, the low boiling point solvent is quickly removed from the
さらにまた、溶媒捕集部40により捕集された高沸点溶媒の除去工程の際に、排気口13aの近くの乾燥位置へ、溶媒捕集部40を下降させることで、溶媒捕集部40から早く高沸点溶媒を除去することができる。そのため、溶媒捕集部40の乾燥を含めた、減圧乾燥処理全体に要する時間を短縮することができる。
Furthermore, during the step of removing the high-boiling-point solvent collected by the
なお、本実施形態では、溶媒捕集部40は、平面視において、排気口13aが設けられている領域である載置台20の長辺と対向する領域だけでなく、排気口13aが設けられていない領域である載置台20の短辺と対向する領域にも設けられている。しかし、溶媒捕集部40の、載置台20の短辺と対向する領域に設けられた部分は、省略してもよい。
また、本実施形態では、溶媒捕集部40は、平面視において、角環状を成すように設けられているが、溶媒捕集部40における上記角環の角部に対応する部分(図3の一点鎖線部K)は省略するようにしてもよい。早く乾燥する傾向にある基板角部が早く乾燥するのを抑制するためである。
In the present embodiment, the
Further, in the present embodiment, the
なお、溶媒捕集部40の各分割部材41が有する溶媒捕集網の開口は、例えば、その開口率が当該溶媒捕集網の面内で均一になるように形成されるが、これら開口は、当該溶媒捕集網の面内で不均一とし、場所に応じて熱容量が異なるようにしてもよい。例えば、溶媒捕集網における基板角部に近い位置部分は、開口率を小さくし熱容量を大きくし、その他の部分は、開口率を大きくし熱容量を小さくするようにしてもよい。熱容量が小さい方が冷却されやすく溶媒を吸着し易いため、上述のように構成することにより、早く乾燥する傾向にある基板角部が早く乾燥するのを抑制することができる。
The openings of the solvent collection nets of the divided
図2等の例では、溶媒捕集部40の各分割部材41は、水平方向に延在するように配設されているが、水平方向に対して傾いて配設されてもよいし、上下方向に延在するように配設されてもよい。
In the example shown in FIG. 2 and the like, each divided
また、以上の例では、排気口13aが底板13に設けられていたが、載置台20の下側周辺における当該載置台20より下側であれば、排気口は、チャンバ10の本体部11の側壁に設けられていてもよい。
Further, in the above example, the
なお、図の例では、溶媒捕集部40の位置としての上述の吸着位置は、載置台20より上方の位置であるが、上下方向に関する載置台20と排気口13aとの間の位置であってもよい。
In the illustrated example, the above-mentioned adsorption position as the position of the
(第2実施形態)
図5は、第2実施形態に係る減圧乾燥装置の概略構成を示す断面図である。
第2実施形態では、図5に示すように、減圧乾燥装置1aが、溶媒捕集部40と同様の溶媒捕集部60を有し、これら溶媒捕集部40、60が上下方向に積層されている。本実施形態では、溶媒捕集部40が下段に配設され、溶媒捕集部60が上段に配設されている。また、減圧乾燥装置1aは、溶媒捕集部60を上下方向に移動させる移動機構70をさらに有する。
(Second embodiment)
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a reduced-pressure drying apparatus according to the second embodiment.
In the second embodiment, as shown in FIG. 5, the
移動機構70は、支持部材71と駆動部72とを有する。レール51は、移動機構70と移動機構50とで共用している。
支持部材71は、水平方向(図の左右方向)に延在する部材であり、溶媒捕集部60を支持する。この支持部材71は、駆動部53より上方に設けられた駆動部62によってレール51に沿って移動自在である。この構成により、溶媒捕集部60は溶媒捕集部40の上方で上下動可能となっている。
The moving
The
続いて、減圧乾燥装置1aを用いた減圧乾燥処理について、第1実施形態の減圧乾燥装置1を用いた減圧乾燥処理と異なる点を、図6を用いて説明する。図6は減圧乾燥処理時の減圧乾燥装置1aのチャンバ10内の状態を示す断面図である。
Next, with regard to the reduced-pressure drying process using the reduced-
減圧乾燥装置1aを用いた減圧乾燥処理では、排気装置Pのドライポンプとターボ分子ポンプによってチャンバ10内が減圧排気され、チャンバ10内の圧力が低沸点溶媒の蒸気圧P1に到達すると、図6(A)に示すように低沸点溶媒S1が気化する。減圧排気による断熱膨張に伴って吸着位置の溶媒捕集部40が冷却されているため、気化した低沸点溶媒S1は当該溶媒捕集部40に吸着される。
なお、このとき、溶媒捕集部60は、吸着位置より上方の待機位置に位置し基板Wから遠く、また、溶媒捕集部40に比べて冷却されていないため、当該溶媒捕集部60には低沸点溶媒S1は吸着されない。
In the reduced pressure drying process using the reduced
At this time, the
基板W上の低沸点溶媒S1の乾燥が完了したタイミングで、溶媒捕集部40は、図6(B)に示すように、排気口13aの近くの乾燥位置へ下降され、それ共に、溶媒捕集部60が、吸着位置へ下降される。溶媒捕集部40の乾燥位置への下降により、溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1が除去される。また、溶媒捕集部60を吸着位置へ下降させることで、当該溶媒捕集部60が、減圧排気の際の断熱膨張で冷却されたチャンバ10内の気体により冷却される。
At the timing when drying of the low boiling point solvent S1 on the substrate W is completed, the
そして、チャンバ10内の圧力が低下し、高沸点溶媒S2の蒸気圧P2に到達すると、高沸点溶媒S2が気化する。気化した高沸点溶媒S2は、冷却された溶媒捕集部60に吸着される。
Then, when the pressure in the
基板W上の高沸点溶媒S2の乾燥が完了したタイミングで、排気装置Pによる減圧排気が継続されたまま、溶媒捕集部60が、図6(C)に示すように下方の位置に移動される。これにより、溶媒捕集部60に吸着された高沸点溶媒S2が早く除去される。なお、「基板W上の高沸点溶媒S2の乾燥が完了したタイミング」とは、具体的には、例えば、排気装置Pのターボ分子ポンプの作動開始後予め定められた時間が経過したタイミングである。
At the timing when the drying of the high boiling point solvent S2 on the substrate W is completed, the
以上のように、本実施形態では、溶媒捕集部40、60を積層させると共に、溶媒捕集部40、60を上下方向に移動させる移動機構50、70が設けられている。そのため、溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1を当該溶媒捕集部40から除去しながら、溶媒捕集部60で高沸点溶媒S2を吸着することができる。第1実施形態では、チャンバ10内の圧力が高沸点溶媒S2の蒸気圧P2に到達したときに溶媒捕集部40から低沸点溶媒S1は除去されているものとしたが、蒸気圧P2に到達したときにこの低沸点溶媒S1の除去が完了していない場合もある。この場合でも、本実施形態では、チャンバ10内の圧力が高沸点溶媒S2の蒸気圧P2に到達した段階から、溶媒捕集部60で高沸点溶媒S2を吸着することができるため、低沸点溶媒S1と高沸点溶媒S2の両方を含む溶液の乾燥に要する時間を、より確実に基板面内で均一にすることができる。
As described above, in the present embodiment, the
さらに、溶媒捕集部60により捕集された高沸点溶媒の乾燥工程の際に、排気口13aの近くの位置へ、溶媒捕集部60を下降させ、溶媒捕集部60に吸着された高沸点溶媒が早く除去されるようにしている。そのため、溶媒捕集部60の乾燥を含めた、減圧乾燥処理全体に要する時間を短縮することができる。
Furthermore, during the drying step of the high-boiling-point solvent collected by the
(第3実施形態)
図7は、第3実施形態に係る減圧乾燥装置の概略構成を示す断面図である。
第3実施形態では、図7に示すように、減圧乾燥装置1bが、溶媒捕集部40の他に、載置台20に載置された基板Wと対向するように設けられた別の溶媒捕集部80を有している。また、減圧乾燥装置1bは、溶媒捕集部80を上下方向に移動させる別の移動機構90をさらに有する。
(Third Embodiment)
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a vacuum drying apparatus according to the third embodiment.
In the third embodiment, as shown in FIG. 7, the reduced-
移動機構90は、支持部材91を有する。
支持部材91は、上下方向に伸縮自在に構成された部材であり、溶媒捕集部80を上方から支持する。支持部材91の一端は、溶媒捕集部80に接続され、他端は天板12に接続されている。この構成により、溶媒捕集部80は上下動可能となっている。
The moving
The
続いて、減圧乾燥装置1bを用いた減圧乾燥処理について、第1実施形態の減圧乾燥装置1や第2実施形態の減圧乾燥装置1aを用いた減圧乾燥処理と異なる点を、図8を用いて説明する。図8は減圧乾燥処理時の減圧乾燥装置1bのチャンバ10内の状態を示す断面図である。
Subsequently, with regard to the reduced-pressure drying process using the reduced-
減圧乾燥装置1bを用いた減圧乾燥処理では、排気装置Pのドライポンプとターボ分子ポンプによってチャンバ10内が減圧排気され、チャンバ10内の圧力が低沸点溶媒の蒸気圧P1に到達すると、図8(A)に示すように低沸点溶媒S1が気化する。減圧排気による断熱膨張に伴って吸着位置の溶媒捕集部40が冷却されているため、気化した低沸点溶媒S1は当該溶媒捕集部40に吸着される。
なお、このとき、溶媒捕集部80は、待機位置に位置し基板Wから遠く、また、溶媒捕集部40に比べて冷却されていないため、当該溶媒捕集部80には低沸点溶媒S1は吸着されない。
In the reduced-pressure drying process using the reduced-
At this time, the
基板W上の低沸点溶媒S1の乾燥が完了したタイミングで、溶媒捕集部40は、図8(B)に示すように、排気口13aの近くの乾燥位置へ下降され、それ共に、溶媒捕集部80が、吸着位置へ下降される。溶媒捕集部40の乾燥位置への下降により、溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1が除去される。また、溶媒捕集部80を吸着位置へ下降させることで、当該溶媒捕集部80が、減圧排気の際の断熱膨張で冷却されたチャンバ10内の気体により冷却される。
At the timing when the drying of the low boiling point solvent S1 on the substrate W is completed, the
そして、チャンバ10内の圧力が低下し、高沸点溶媒S2の蒸気圧P2に到達すると、高沸点溶媒S2が気化する。気化した高沸点溶媒S2は、冷却された溶媒捕集部80に吸着される。
Then, when the pressure in the
基板W上の高沸点溶媒S2の除去が完了した後も排気装置Pのターボ分子ポンプでの排気は継続される。図8(C)に示すように、溶媒捕集部80により捕集された高沸点溶媒S2を当該溶媒捕集部80から除去するためである。
Even after the removal of the high boiling point solvent S2 on the substrate W is completed, the evacuation by the turbomolecular pump of the evacuation device P is continued. This is to remove the high boiling point solvent S2 collected by the
以上のように、本実施形態では、載置台20に載置された基板Wと対向する溶媒捕集部80と、溶媒捕集部80を上下方向に移動させる別の移動機構90とが設けられている。そのため、溶媒捕集部40に吸着された低沸点溶媒S1を当該溶媒捕集部40から除去しながら、溶媒捕集部80で高沸点溶媒S2を吸着することができる。したがって、第2実施形態と同様に、低沸点溶媒S1と高沸点溶媒S2の両方を含む溶液の乾燥に要する時間を、より確実に基板面内で均一にすることができる。
As described above, in this embodiment, the
なお、本実施形態では、溶媒捕集部40で低沸点溶媒S1を吸着し、溶媒捕集部80で高沸点溶媒S2を吸着するようにしたが、溶媒捕集部40で高沸点溶媒S2を吸着し、溶媒捕集部80で低沸点溶媒S1を吸着するようにしてもよい。
In this embodiment, the
なお、以上の説明では、処理対象の基板に塗布されている溶液に含まれる溶媒は、低沸点溶媒と高沸点溶媒から成る2種類の溶媒の混合溶媒であるものとしたが、互いに沸点が異なる3種以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
上述の3種以上の溶媒の混合溶媒を用いる場合、例えば、第2実施形態では、溶媒捕集網が3段以上に積層され、第4実施形態では、平面視において載置台20上の基板Wの外側に位置する溶媒捕集部が2段以上に積層される。
In the above description, the solvent contained in the solution applied to the substrate to be processed is a mixed solvent of two types of solvents, a low boiling point solvent and a high boiling point solvent. A mixed solvent of three or more solvents may be used.
When using a mixed solvent of three or more solvents described above, for example, in the second embodiment, the solvent collection net is laminated in three or more stages, and in the fourth embodiment, the substrate W on the mounting table 20 in plan view The solvent collector positioned outside is laminated in two or more stages.
溶媒の乾燥時間の基板面内における不均一性は、基板Wが大型化するとさらに顕著となる。したがって、以上の各実施形態に係る減圧乾燥装置は、大型の基板Wを乾燥処理対象とする場合に特に有用である。 The non-uniformity of the drying time of the solvent within the substrate plane becomes more conspicuous as the substrate W increases in size. Therefore, the reduced-pressure drying apparatus according to each of the embodiments described above is particularly useful when a large-sized substrate W is to be subjected to drying processing.
今回開示された実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。上記の実施形態は、添付の請求の範囲及びその主旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。 It should be considered that the embodiments disclosed this time are illustrative in all respects and not restrictive. The embodiments described above may be omitted, substituted, or modified in various ways without departing from the scope and spirit of the appended claims.
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
(1)基板上の溶液を減圧下で乾燥させる減圧乾燥装置であって、
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、
前記溶媒捕集部を上下方向に移動させる移動機構と、
を有し、
前記容器は、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部は、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において前記移動機構により上下方向に移動される、減圧乾燥装置。
前記(1)によれば、排気口が、載置台の周辺における載置台より下側に設けられており、溶媒捕集部が、平面視における、載置台に載置された基板より外側の領域に設けられている。さらに、溶媒捕集部を上下方向に移動させる移動機構が設けられている。そのため、基板上の低沸点溶媒の除去が完了した後に溶媒捕集部を排気口側に下降させること等により、当該溶媒捕集部に吸着された低沸点溶媒を当該溶媒捕集部から早く除去することができる。したがって、低沸点溶媒に次いで高沸点溶媒を基板上から除去する際に、溶媒捕集部を機能させることができる。よって、低沸点溶媒と高沸点溶媒の両方を含む溶液の乾燥に要する時間を、基板面内で均一にすることができる。
また、前記(1)によれば、例えば、基板からの高沸点溶媒の乾燥完了までの時間を短縮することができる。
Note that the following configuration also belongs to the technical scope of the present disclosure.
(1) A vacuum drying apparatus for drying a solution on a substrate under reduced pressure,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The reduced-pressure drying device has a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part for temporarily collecting a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
a movement mechanism for vertically moving the solvent collector;
has
The container is
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
The reduced-pressure drying apparatus, wherein the solvent collecting section is provided outside the substrate placed on the mounting table in a plan view, and is vertically moved outside the substrate by the moving mechanism.
According to the above (1), the exhaust port is provided below the mounting table in the periphery of the mounting table, and the solvent collector is a region outside the substrate mounted on the mounting table in plan view. is provided in Further, a moving mechanism is provided for vertically moving the solvent collector. Therefore, after the removal of the low-boiling-point solvent on the substrate is completed, the low-boiling-point solvent adsorbed to the solvent-collecting portion is quickly removed from the solvent-collecting portion by, for example, moving the solvent-collecting portion downward toward the exhaust port side. can do. Therefore, the solvent collector can function when removing the high boiling point solvent next to the low boiling point solvent from the substrate. Therefore, the time required for drying the solution containing both the low boiling point solvent and the high boiling point solvent can be made uniform within the substrate surface.
Moreover, according to the above (1), for example, it is possible to shorten the time until the drying of the high boiling point solvent from the substrate is completed.
(2)制御部を有し、
前記制御部は、
前記溶液に含まれる低沸点の溶媒が前記溶媒捕集部で捕集された後、当該溶媒捕集部が下方に移動され、
下方に移動された前記当該溶媒捕集部から前記低沸点の溶媒が脱離された後、当該溶媒捕集部が上方に移動されるよう、前記移動機構を制御するように構成されている、前記(1)に記載の減圧乾燥装置。
(2) having a control unit;
The control unit
After the solvent with a low boiling point contained in the solution is collected by the solvent collector, the solvent collector is moved downward,
After the low boiling point solvent is desorbed from the downwardly moved solvent collector, the movement mechanism is controlled such that the solvent collector is moved upward. The vacuum drying apparatus according to (1) above.
(3)前記溶媒捕集部は、上下方向に複数積層され、
前記移動機構は、複数積層された前記溶媒捕集部を上下方向に移動させる、前記(1)に記載の減圧乾燥装置。
前記(3)によれば、低沸点溶媒と高沸点溶媒の両方を含む溶液の乾燥に要する時間を、より確実に基板面内で均一にすることができる。
また、溶媒捕集部の乾燥を含めた、減圧乾燥処理全体に要する時間を短縮することができる。
(3) a plurality of the solvent traps are stacked in the vertical direction;
The reduced-pressure drying apparatus according to (1), wherein the moving mechanism vertically moves the plurality of stacked solvent collecting portions.
According to the above (3), the time required for drying the solution containing both the low boiling point solvent and the high boiling point solvent can be more reliably made uniform within the substrate surface.
In addition, the time required for the entire vacuum drying process including drying of the solvent trap can be shortened.
(4)制御部を有し、
前記制御部は、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒が、複数積層された前記溶媒捕集部のうちの下段の前記溶媒捕集部で捕集された後、前記複数積層された前記溶媒捕集部が下方に移動されるよう、前記移動機構を制御するように構成されている、前記(3)に記載の減圧乾燥装置。
(4) having a control unit;
After the low-boiling-point solvent contained in the solution is collected by the lower solvent collection unit among the multiple-layered solvent collection units, the control unit controls the solvent-collection unit. The reduced-pressure drying apparatus according to (3) above, configured to control the moving mechanism such that the collecting portion is moved downward.
(5)前記載置台に載置された前記基板と対向するように設けられた別の溶媒捕集部を有する、前記(1)に記載の減圧乾燥装置。
前記(5)によれば、低沸点溶媒と高沸点溶媒の両方を含む溶液の乾燥に要する時間を、より確実に基板面内で均一にすることができる。
(5) The reduced-pressure drying apparatus according to (1) above, further comprising another solvent collector provided so as to face the substrate mounted on the mounting table.
According to the above (5), the time required for drying the solution containing both the low boiling point solvent and the high boiling point solvent can be more reliably made uniform within the substrate surface.
(6)前記別の溶媒捕集部を上下方向に移動させる別の移動機構と、
制御部を有し、
前記制御部は、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒が前記溶媒捕集部で捕集された後、前記別の溶媒捕集部が下方に移動されるよう、前記別の移動機構を制御するように構成されている、前記(5)に記載の減圧乾燥装置。
(6) another moving mechanism for vertically moving the another solvent collecting part;
having a control unit,
The control unit controls the another moving mechanism so that the another solvent collecting unit is moved downward after the low boiling point solvent contained in the solution is collected by the solvent collecting unit. The vacuum drying apparatus according to (5) above, which is configured as follows.
(7)減圧乾燥装置を用いて基板上の溶液を減圧下で乾燥させる減圧乾燥方法であって、
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、
前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、を有し、
前記容器には、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部が、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられ、
当該減圧乾燥方法は、
前記容器内を排気し、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒を前記溶媒捕集部で捕集する工程と、
前記低沸点の溶媒を捕集する工程に引き続いて前記容器内を排気し、前記溶媒捕集部に捕集された低沸点の溶媒を脱離する工程と、
前記低沸点の溶媒を脱離する工程に引き続いて前記容器内を排気し、前記溶液に含まれる高沸点の溶媒を前記溶媒捕集部で捕集する工程と、を有する、減圧乾燥方法。
(7) A reduced pressure drying method for drying the solution on the substrate under reduced pressure using a reduced pressure drying apparatus,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The vacuum drying device is
Having a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part that temporarily collects a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
The container has
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
The solvent collector is provided outside the substrate mounted on the mounting table in a plan view,
The reduced pressure drying method is
a step of evacuating the inside of the container and collecting a low boiling point solvent contained in the solution with the solvent collection unit;
A step of evacuating the container, following the step of collecting the low boiling point solvent, to desorb the low boiling point solvent collected in the solvent collecting portion;
a step of removing the low boiling point solvent, followed by the step of evacuating the inside of the container and collecting the high boiling point solvent contained in the solution with the solvent collection unit.
1、1a、1b 減圧乾燥装置
10 チャンバ
13a 排気口
20 載置台
40、60、80 溶媒捕集部
P 排気装置
S1 低沸点溶媒
S2 高沸点溶媒
W 基板
1, 1a, 1b
Claims (6)
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、
前記溶媒捕集部を上下方向に移動させる移動機構と、
を有し、
前記容器は、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部は、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において前記移動機構により上下方向に移動され、
制御部をさらに有し、
前記制御部は、
前記溶液に含まれる低沸点の溶媒が前記溶媒捕集部で捕集された後、当該溶媒捕集部が下方に移動され、
下方に移動された前記当該溶媒捕集部から前記低沸点の溶媒が脱離された後、当該溶媒捕集部が上方に移動されるよう、前記移動機構を制御するように構成されている、減圧乾燥装置。 A reduced pressure drying apparatus for drying a solution on a substrate under reduced pressure,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The reduced-pressure drying device has a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part for temporarily collecting a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
a movement mechanism for vertically moving the solvent collector;
has
The container is
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
The solvent collector is provided outside the substrate placed on the mounting table in a plan view, and is vertically moved outside the substrate by the movement mechanism ,
further comprising a control unit;
The control unit
After the solvent with a low boiling point contained in the solution is collected by the solvent collector, the solvent collector is moved downward,
After the low boiling point solvent is desorbed from the downwardly moved solvent collector, the movement mechanism is controlled such that the solvent collector is moved upward. Vacuum dryer.
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、
前記溶媒捕集部を上下方向に移動させる移動機構と、
を有し、
前記容器は、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部は、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において前記移動機構により上下方向に移動され、且つ、上下方向に複数積層され、
前記移動機構は、複数積層された前記溶媒捕集部を上下方向に移動させ、
制御部をさらに有し、
前記制御部は、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒が、複数積層された前記溶媒捕集部のうちの下段の前記溶媒捕集部で捕集された後、前記複数積層された前記溶媒捕集部が下方に移動されるよう、前記移動機構を制御するように構成されている、減圧乾燥装置。 A reduced pressure drying apparatus for drying a solution on a substrate under reduced pressure,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The reduced-pressure drying device has a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part for temporarily collecting a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
a movement mechanism for vertically moving the solvent collector;
has
The container is
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
The solvent collector is provided outside the substrate placed on the mounting table in a plan view, is vertically moved by the moving mechanism outside the substrate, and has a plurality of solvent collectors in the vertical direction. laminated,
The moving mechanism moves the plurality of stacked solvent collectors in a vertical direction,
further comprising a control unit;
After the low-boiling-point solvent contained in the solution is collected by the lower solvent collection unit among the multiple-layered solvent collection units, the control unit controls the solvent-collection unit. A vacuum drying apparatus configured to control the moving mechanism such that the collecting portion is moved downward.
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、
前記溶媒捕集部を上下方向に移動させる移動機構と、
を有し、
前記容器は、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部は、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において前記移動機構により上下方向に移動され、
前記載置台に載置された前記基板と対向するように設けられた別の溶媒捕集部と、
前記別の溶媒捕集部を上下方向に移動させる別の移動機構と、
制御部と、をさらに有し、
前記制御部は、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒が前記溶媒捕集部で捕集された後、前記別の溶媒捕集部が下方に移動されるよう、前記別の移動機構を制御するように構成されている、減圧乾燥装置。 A reduced pressure drying apparatus for drying a solution on a substrate under reduced pressure,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The reduced-pressure drying device has a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part for temporarily collecting a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
a movement mechanism for vertically moving the solvent collector;
has
The container is
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
The solvent collector is provided outside the substrate placed on the mounting table in a plan view, and is vertically moved outside the substrate by the movement mechanism,
another solvent collector provided to face the substrate mounted on the mounting table;
another moving mechanism for vertically moving the another solvent collecting part;
further comprising a control unit ;
The control unit controls the another moving mechanism so that the another solvent collecting unit is moved downward after the low boiling point solvent contained in the solution is collected by the solvent collecting unit. A vacuum drying apparatus configured as follows.
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、
前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、を有し、
前記容器には、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部が、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において上下方向に移動され、
当該減圧乾燥方法は、
前記溶液に含まれる低沸点の溶媒を前記溶媒捕集部で捕集した後、当該溶媒捕集部を下方に移動させる工程と、
下方に移動された前記当該溶媒捕集部から前記低沸点の溶媒を脱離させた後、当該溶媒捕集部を上方に移動させる工程と、を有する、減圧乾燥方法。 A reduced pressure drying method for drying a solution on a substrate under reduced pressure using a reduced pressure drying apparatus,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The vacuum drying device is
Having a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part that temporarily collects a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
The container has
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
wherein the solvent collector is provided outside the substrate placed on the mounting table in a plan view, and is vertically moved outside the substrate;
The reduced pressure drying method is
a step of, after collecting the low-boiling-point solvent contained in the solution with the solvent collector, moving the solvent collector downward;
desorbing the low-boiling-point solvent from the downwardly moved solvent collecting portion, and then moving upwardly the solvent collecting portion.
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、
前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、を有し、
前記容器には、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部が、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において上下方向に移動され、且つ、上下方向に複数積層され、
当該減圧乾燥方法は、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒を、複数積層された前記溶媒捕集部のうちの下段の前記溶媒捕集部で捕集した後、前記複数積層された前記溶媒捕集部を下方に移動させる工程を有する、減圧乾燥方法。 A reduced pressure drying method for drying a solution on a substrate under reduced pressure using a reduced pressure drying apparatus,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The vacuum drying device is
Having a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part that temporarily collects a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
The container has
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
The solvent collecting part is provided outside the substrate placed on the mounting table in plan view, is moved in the vertical direction outside the substrate, and is stacked in a plurality in the vertical direction,
In the reduced-pressure drying method, a low-boiling-point solvent contained in the solution is collected by the lower solvent collection unit among the multiple-layered solvent collection units, and A reduced-pressure drying method comprising the step of moving the collecting portion downward .
前記溶液は、互いに沸点が異なる複数の溶媒を含み、
前記減圧乾燥装置は、
前記基板を収容する容器を有し、
前記容器内に、
前記基板が載置される載置台と、
前記載置台に載置された前記基板から気化した前記溶液中の溶媒を一時的に捕集する溶媒捕集部と、を有し、
前記容器には、
前記載置台の周辺における当該載置台より下側に、当該容器の内部を排気する排気装置に接続される排気口が設けられ、
前記溶媒捕集部が、平面視における、前記載置台に載置された前記基板より外側に設けられており、前記基板より外側において上下方向に移動され、
前記載置台に載置された前記基板と対向するように設けられた別の溶媒捕集部をさらに有し、
当該減圧乾燥方法は、前記溶液に含まれる低沸点の溶媒を前記溶媒捕集部で捕集した後、前記別の溶媒捕集部を下方に移動させる工程を有する、減圧乾燥方法。 A reduced pressure drying method for drying a solution on a substrate under reduced pressure using a reduced pressure drying apparatus,
The solution contains a plurality of solvents having different boiling points,
The vacuum drying device is
Having a container that accommodates the substrate,
in said container,
a mounting table on which the substrate is mounted;
a solvent collecting part that temporarily collects a solvent in the solution vaporized from the substrate placed on the mounting table;
The container has
An exhaust port connected to an exhaust device for exhausting the inside of the container is provided below the mounting table in the vicinity of the mounting table,
wherein the solvent collector is provided outside the substrate placed on the mounting table in a plan view, and is vertically moved outside the substrate;
further comprising another solvent collector provided to face the substrate mounted on the mounting table;
The reduced-pressure drying method includes a step of collecting a low-boiling-point solvent contained in the solution with the solvent collector, and then moving the separate solvent collector downward.
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