JP7315392B2 - 遊技機 - Google Patents

Description

本発明は、弾球遊技機（パチンコ機）に代表される遊技機に関する。

従来、遊技球の流下態様に多様性をもたせることや、遊技の公平性向上等を考慮して、遊技領域内において種々の遊技球流路を形成し、遊技の興趣の向上を図る遊技機が開示されている（例えば、特許文献１、２）。

特開２０１８－６１７７４号公報 特開２００８－８６５１７号公報

しかしながら、従来の遊技機は、遊技球が球通路を流下する際の円滑さが十分でなく、遊技者の遊技に対する興趣を向上できていないという問題がある。

本発明の目的は、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる遊技機を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明の一態様による遊技機は、遊技球を流下可能とする
遊技領域を形成する遊技盤と、前記遊技領域を流下する遊技球と接触可能に突起する突起
部と、を備え、前記遊技領域は、前記遊技盤と該遊技盤の前方に設けられた透過板との間に形成され、前記突起部は、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面状に形成
され前記遊技盤の前面から前記突起部の先端に向かって隆起する基端部を有し、
前記突起部が設けられた前記遊技盤の前方には前記透過板のみが配置されていることを特徴とする。

また、上記本発明の一態様による遊技機は、前記遊技領域において前記突起部を挟んで設けられ、前記突起部とともに遊技球が通過可能な球通路を形成する一対の側壁をさらに備え、前記一対の側壁のそれぞれは、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面状に形成され前記遊技盤の前面から隆起する側壁基端部を有していてもよい。

本発明によれば、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

扉が開放された状態を示す遊技機の斜視図である。 遊技機の正面図である。 遊技機に設けられた遊技盤の正面図である。 裏カバーを取り除いた状態の遊技機の裏面図である。 裏カバーを取り付けた状態の遊技機の裏面図である。 遊技機のブロック図である。 メインＲＡＭのメモリ領域の用途例を示す図である。 図３に示すルート振分ユニットを拡大した正面図である。 ルート振分ユニットの斜視図である。 図８に示すＡ－Ａ線で切断したルート振分ユニットの断面図である。 図８に示すＢ－Ｂ線で切断したルート振分ユニットの断面図である。 ルート振分ユニットの上流領域における遊技球の流下経路の一例を示す図である。 （ａ）は第１振分装置が閉状態の下流領域を流下する遊技球の流下経路の一例を示す図であり、（ｂ）は第１振分装置が開状態の下流領域を流下する遊技球の流下経路の一例を示す図である。

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値等は、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書および図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。また、以下、本実施形態による遊技機の説明において、遊技機に相対するようにして着席した遊技者から見て左側を左とし、遊技者から見て右側を右とし、遊技者から見て上側を上とし、遊技者から見て下側を下とし、遊技者から見て手前側を前とし、遊技者から見て奥側を後とする。

本発明の実施形態の理解を容易にするため、まず、遊技機の機械的構成および電気的構成を簡単に説明し、その後、各基板における具体的な処理を説明する。

図１は、本実施形態の遊技機１００の斜視図であり、扉が開放された状態を示している。図示のように、遊技機１００は、略矩形状に組まれた四辺によって囲繞空間が形成される外枠１０２と、外枠１０２にヒンジ機構によって開閉自在に取り付けられた内枠１０４と、内枠１０４に、ヒンジ機構によって開閉自在に取り付けられた前枠１０６と、を備えている。

内枠１０４は、外枠１０２と同様に、略矩形状に組まれた四辺によって囲繞空間が形成されており、囲繞空間に遊技盤１０８が保持されている。また、前枠１０６には、ガラス製または樹脂製の透過板１１０が保持されている。そして、これら内枠１０４および前枠１０６を外枠１０２に対して閉じると、遊技盤１０８と透過板１１０とが所定の間隔を維持して略平行に対面するとともに、遊技機１００の正面側から、透過板１１０を介して遊技盤１０８が視認可能となる。

（遊技機の詳細な構成）
次に、遊技機１００の詳細な構成について図２および図３を用いて説明する。図２は、遊技機１００の正面図である。図３は、遊技機１００に設けられた遊技盤１０８の正面図である。図３では、閉状態の第２始動口１２２、第１大入賞口１２６、第２大入賞口１２８及び特別領域１８０が図示されている。なお、図３は、後述する各入球口の配置や構成を明らかにするため、各入球口の前面を覆う部材を透過した状態で遊技盤１０８を図示している。

図２に示すように、前枠１０６の下部には、遊技機１００の正面側に突出する操作ハンドル１１２が設けられている。操作ハンドル１１２は、遊技者が回転操作可能に設けられており、遊技者が操作ハンドル１１２を回転させて発射操作を行うと、当該操作ハンドル１１２の回転角度に応じた強度で、不図示の発射機構によって遊技球が発射される。このようにして発射された遊技球は、遊技盤１０８（図３参照）に設けられたレール１１４ａ，１１４ｂ間を上昇して遊技領域１１６（図２では不図示）に導かれることとなる。

図３に示すように、遊技領域１１６は、遊技盤１０８と透過板１１０（図２参照）との間隔に形成される空間であって、遊技球が流下または転動可能な領域である。

図２および図３に示すように、遊技領域１１６は、発射機構の発射強度に応じて遊技球の進入度合いを互いに異にする第１遊技領域１１６ａおよび第２遊技領域１１６ｂを備えている。第１遊技領域１１６ａは、遊技機１００に正対した遊技者から見て遊技領域１１６の左側に位置し、第２遊技領域１１６ｂは、遊技機１００に正対した遊技者から見て遊技領域１１６の右側に位置している。レール１１４ａ，１１４ｂが遊技領域１１６の左側にあることから、発射機構によって所定の強度未満の発射強度で発射された遊技球は第１遊技領域１１６ａに進入し、所定の強度以上の発射強度で発射された遊技球は第２遊技領域１１６ｂに進入することとなる。

また、遊技領域１１６には、遊技球が入球可能な一般入賞口１１８、第１始動口１２０、第２始動口１２２（図２では不図示）が設けられており、一般入賞口１１８、第１始動口１２０、第２始動口１２２に遊技球が入球すると、それぞれ所定の賞球が遊技者に払い出される。遊技球の入球に基づいて払い出される賞球数は、入賞口ごとに異なっていてもよい。

なお、詳しくは後述するが、第１始動口１２０内には第１始動領域が設けられ、また、第２始動口１２２内には第２始動領域が設けられている。そして、第１始動口１２０または第２始動口１２２に遊技球が入球して第１始動領域または第２始動領域に遊技球が進入すると、予め設けられた複数の特別図柄の中からいずれか１の特別図柄を決定するための抽選が行われる。各特別図柄には、遊技者にとって有利な大役遊技や小当たり遊技の実行可否や、以後の遊技状態をどのような遊技状態にするかといった種々の遊技利益が対応付けられている。したがって、遊技者は、第１始動口１２０または第２始動口１２２に遊技球が入球すると、所定の賞球を獲得するのと同時に、種々の遊技利益を受ける権利獲得の機会を獲得することとなる。

第１始動口１２０は、遊技領域１１６の下部であって、第１遊技領域１１６ａを流下する遊技球のみが入球可能であるか、または、第１遊技領域１１６ａに進入した遊技球の方が、第２遊技領域１１６ｂに進入した遊技球よりも進入しやすい位置に配置されている。

また、図３に示すように、第２始動口１２２は、第１始動口１２０の右隣であって第２遊技領域１１６ｂに位置している。第２始動口１２２は、第２遊技領域１１６ｂを流下する遊技球のみが入球可能であるか、または、第２遊技領域１１６ｂに進入した遊技球の方が、第１遊技領域１１６ａに進入した遊技球よりも進入しやすい位置に配置されている。第２始動口１２２は、可動片１２２ａを有する始動可変入賞装置によって構成されており、第２始動口１２２への遊技球の進入容易性が可変するようになっている。具体的には、第２始動口１２２は、可動片１２２ａが開閉可能に設けられており、可動片１２２ａが閉状態にあるときには、第２始動口１２２への遊技球の進入が不可能または困難となっている。これに対して、第２遊技領域１１６ｂに設けられたゲート１２４を遊技球が通過すると、後述する普通図柄の抽選が行われ、この抽選によって当たりに当選すると、可動片１２２ａが所定時間、開状態に制御される。このように、可動片１２２ａが開状態になると、可動片１２２ａが遊技球を第２始動口１２２に導く受け皿として機能し、第２始動口１２２への遊技球の入球が容易となる。

さらに、第２遊技領域１１６ｂには、第２遊技領域１１６ｂを流下する遊技球のみが入球可能であるか、または、第２遊技領域１１６ｂに進入した遊技球の方が、第１遊技領域１１６ａに進入した遊技球よりも進入しやすい位置に第１大入賞口１２６および第２大入賞口１２８が設けられている。なお、以下、第１大入賞口１２６および第２大入賞口１２８をまとめて単に大入賞口ともよぶ。第１大入賞口１２６には、開閉扉１２６ａが開閉可能に設けられている。通常、開閉扉１２６ａが第１大入賞口１２６を閉鎖して、第１大入賞口１２６への遊技球の入球が不可能となっている（図３参照）。これにより、第１大入賞口１２６に遊技球が入球不可能な状態では、開閉扉１２６ａ上には、第２遊技領域１１６ｂを流下する遊技球が通過可能な特定通路５が生じる。特定通路５の詳細は後述する。これに対して、前述の小当たり遊技が実行されると、開閉扉１２６ａが開放される。このため、第２遊技領域１１６ｂを流下する遊技球は第１大入賞口１２６への入球が可能となる。そして、第１大入賞口１２６に遊技球が入球すると、所定の賞球が遊技者に払い出される。以下、小当たり遊技の実行に基づいて開放される第１大入賞口１２６を、小当たり入賞口と称する場合がある。

また、第１大入賞口１２６内の下方には、特別領域１８０が設けられている。特別領域１８０には、開閉部材１８０ａが開閉可能に設けられている。通常、開閉部材１８０ａが特別領域１８０を閉鎖して、特別領域１８０への遊技球の入球が不可能となっている（図３参照）。これに対して、前述の小当たり遊技が実行されて第１大入賞口１２６の開閉扉１２６ａが開放されると、これに伴って開閉部材１８０ａも開放される。このため、小当たり遊技中において第１大入賞口１２６に入球した遊技球は、特別領域１８０に入球可能となる。そして、遊技機１００は、小当たり遊技中に特別領域１８０へ遊技球が進入すると、大役遊技の実行が決定され、大役遊技が開始されるように構成されている。

また、第１大入賞口１２６内には、特別領域１８０の左側に隣接して大入賞口内排出口１３１が設けられている。大入賞口内排出口１３１により、第１大入賞口１２６には入賞したものの、特別領域１８０に入球しなかった遊技球が、第１大入賞口１２６内から遊技盤１０８の背面側に排出される。本実施形態による遊技機１００では、第１大入賞口１２６に入球した遊技球は極めて高確率で特別領域１８０に進入可能である。したがって、第１大入賞口１２６に入球した遊技球が大入賞口内排出口１３１から排出される確率は極めて低くなっている。

本実施形態による遊技機１００において、第１大入賞口１２６は第１大入賞口ユニット２６の構成要素として第２遊技領域１１６ｂに設けられている。第１大入賞口１２６は、第１大入賞口１２６、特定通路５、特別領域１８０および大入賞口内排出口１３１を組み合わせたユニット構造を有している。また図３に示すように、第１大入賞口ユニット２６の下方には、ＬＥＤ基板２６ａと、ＬＥＤ基板２６ａ上に設けられた複数のＬＥＤランプ２６ｂとを有する大入賞口照明装置６２２が設けられている。第１大入賞口ユニット２６および第１大入賞口ユニット２６を構成する各部材の詳細は後述する。

また、第２大入賞口１２８は、開閉扉１２８ａが開閉可能に設けられており、通常、開閉扉１２８ｂが第２大入賞口１２８を閉鎖して、第２大入賞口１２８への遊技球の入球が不可能となっている（図３参照）。これに対して、前述の大役遊技が実行されると、開閉扉１２８ａが開放されて、開閉扉１２８ａが受け皿として機能し、第２大入賞口１２８への遊技球の入球が可能となる。そして、第２大入賞口１２８に遊技球が入球すると、所定の賞球が遊技者に払い出される。大入賞口への遊技球の入球に基づいて払い出される賞球数は、大入賞口ごとに異なっていてもよい。

第１遊技領域１１６ａには、第１始動口１２０の左側に４つの一般入賞口１１８が設けられている。また、第２遊技領域１１６ｂには、ゲート１２４と第２始動口１２２との間に１つの一般入賞口１１８が設けられている。

図３に示すように、遊技領域１１６の最下部の中央領域には、遊技球を遊技領域１１６から遊技盤１０８の背面側に排出する排出口１３０が設けられている。排出口１３０により、一般入賞口１１８、第１始動口１２０、第２始動口１２２、第１大入賞口１２６、第２大入賞口１２８のいずれにも入球しなかった遊技球が、遊技領域１１６から遊技盤１０８の背面側に排出される。

遊技機１００において、遊技領域１１６に導かれた遊技球は、遊技盤１０８に設けられた構造物によって無作為に流下経路を振り分けられて各入球口（一般入賞口１１８、第１始動口１２０、第２始動口１２２、第１大入賞口１２６、第２大入賞口１２８）又は排出口１３０または大入賞口内排出口１３１に至る。ここで、第１遊技領域１１６ａにおける遊技球の流下経路の振分について説明する。

図３に示すように、例えば遊技盤１０８の第１遊技領域１１６ａには、第１遊技領域１１６ａに導かれた遊技球の流下経路（ルート）を振り分けるルート振分ユニット７が設けられている。

ルート振分ユニット７には、遊技領域１１６（本例では、第１遊技領域１１６ａ）を流下する遊技球と接触可能に突起する複数（本例では３つ）のボス７０が設けられている。ルート振分ユニット７は、ボス７０に接触した遊技球をボス７０の左右に振り分けることができる。ルート振分ユニット７を流下する遊技球は、ボス７０との接触によって上流側から下流側に至るまでに流下速度が減速される。また、ルート振分ユニット７において３つのボス７０の下流側には振分台７１０が設けられている。振分台７１０は、ルート振分ユニット７内を流下した遊技球を左右に振り分け可能な部材である。

振分台７１０の右下領域には、所定間隔で開閉可能な可動片である第１振分装置１９４が設けられている。第１振分装置１９４は、第１遊技領域１１６ａの右側縁部に設けられた球案内通路１９５への遊技球の進入容易性を切り替えることで、遊技球の流下経路を球案内通路１９５方向、または一般入賞口１１８および排出口１３０方向へ振り分ける装置である。球案内通路１９５は、上面視において螺旋形状を有する球通路であって、左斜め上方に開口部１９５ａを有している

第１振分装置１９４は、閉状態（図３参照）において球案内通路１９５の開口部１９５ａへの流下経路を閉鎖している。このため、第１振分装置１９４が閉状態の場合、球案内通路１９５への遊技球の進入が不可能または困難となっている。これに対し、第１振分装置１９４は開状態（不図示）において球案内通路１９５の開口部１９５ａへの流下経路を開放し、第１振分装置１９４が受け皿として機能する。このため、球案内通路１９５への遊技球の入球が可能（容易）となる。

開状態の第１振分装置１９４を介して球案内通路１９５内に流入した遊技球は、球案内通路１９５の内部を通過して転動ステージ１９７上に放出される。転動ステージ１９７の上面は滑らかな湾曲面を有している。転動ステージ１９７上では、遊技球が左右方向に転動自在である。転動ステージ１９７上で転動した遊技球は、やがて下方の第１遊技領域１１６ａ内に流下する。転動ステージ１９７の背面側の中央位置には球放出通路１９８が形成されている。球放出通路１９８の下部に設けられた放出口１９８ａから放出された遊技球は、放出口１９８ａの直下に配置された第１始動口１２０に流入し易くなる。

ここで、球放出通路１９８内には、放出口１９８ａに至る経路を開閉可能な第２振分装置１９９が設けられている。第２振分装置１９９は前後にスライド可能なスライド板１９９ａを有している。第２振分装置１９９は、閉状態（図３参照）において、スライド板１９９ａによって球放出通路１９８の下部を塞いでいる。このため、第２振分装置１９９が閉状態の場合、放出口１９８ａへの遊技球の流下が不可能となり、遊技球は第１始動口１２０への入球が困難となる。これに対し、第２振分装置１９９は開状態（後述の図１３（ｂ）参照）において球放出通路１９８の下部を開放し、放出口１９８ａへの遊技球の流下が可能となる。このため、遊技球は第１始動口１２０への入球が容易になる。

また、球案内通路１９５が閉状態の第１振分装置１９４に閉鎖されている場合、遊技球は球案内通路１９５に進入せずにさらに第１遊技領域１１６ａを流下する。そして、流下した遊技球は第１遊技領域１１６ａの右下領域に設けられた４つの一般入賞口１１８のいずれかに入球するか、または排出口１３０から排出される。

図３では図示を省略するが、第１遊技領域１１６ａには釘や風車が設けられており、遊技球はこれらに衝突して、不規則な方向に流下、転動するようになっている。ただし、遊技機１００の第１遊技領域１１６ａにおいて、少なくともルート振分ユニット７内には釘および風車は設けられていない。
ルート振分ユニット７の構成および作用についての詳細は、後述する。

また、第２遊技領域１１６ｂにも多数の釘（不図示）が設けられており、第２遊技領域１１６ｂ内において、遊技球が不規則な方向に流下、転動するようになっている。

そして、遊技機１００には、遊技の進行中等に演出を行う演出装置として、液晶表示装置からなる演出表示装置２００、可動装置からなる演出役物装置２０２、さまざまな点灯態様や発光色に制御されるランプからなる演出照明装置（例えば大入賞口照明装置６２２等）、スピーカからなる音声出力装置２０６、遊技者の操作を受け付ける演出操作装置２０８が設けられている。

演出表示装置２００は、画像を表示する画像表示部からなる演出表示部２００ａを備えており、この演出表示部２００ａを、遊技盤１０８の略中央部分において、遊技機１００の正面側から視認可能に配置している。演出表示部２００ａには、図３に示すように演出図柄２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃが変動表示され、これら各演出図柄２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃの停止表示態様によって大役抽選結果が遊技者に報知される変動演出が実行されることとなる。

演出役物装置２０２は、演出表示部２００ａよりも前面に配置され、通常、遊技盤１０８の背面側に退避しているが、上記の演出図柄２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃの変動表示中などに、演出表示部２００ａの前面まで可動して、遊技者に大当たりの期待感を付与するものである。

図２および図３では大入賞口照明装置６２２以外の図示を省略するが、演出照明装置は、演出役物装置２０２や遊技盤１０８等に設けられており、演出表示部２００ａに表示される画像等に合わせて、さまざまに点灯制御される。演出照明装置は例えばフルカラーＬＥＤ等を有している。

音声出力装置２０６は、前枠１０６の上部位置や外枠１０２の最下部位置に設けられ、演出表示部２００ａに表示される画像等に合わせて、遊技機１００の正面側に向けてさまざまな音声を出力する。

演出操作装置２０８は、遊技者の押下操作を受け付ける押下ボタン２０８ａと、遊技者による入力操作（例えば、手前側に引く操作）を受け付ける演出レバー２０８ｂと、演出レバー２０８ｂの入力操作に伴って回転する回転部２０８ｃとの複数の操作手段を有している。押下ボタン２０８ａおよび演出レバー２０８ｂは、遊技者が操作可能な操作装置に相当する。演出操作装置２０８は、遊技機１００の幅方向略中央位置であって、かつ、透過板１１０（図１参照）よりも下方位置に設けられている。演出操作装置２０８は、演出表示部２００ａに表示される画像等に合わせて有効化され、操作有効期間内に遊技者の操作を受け付けると、当該操作に応じて、さまざまな演出が実行される。

演出操作装置２０８の後ろ側（遊技盤１０８側）には、遊技機１００から払い出される賞球や、遊技球貸出装置から貸し出される遊技球が導かれる上皿１３２が設けられている。上皿１３２が遊技球で一杯になると、遊技球は下皿１３４に導かれることとなる。また、この下皿１３４の底面には、当該下皿１３４から遊技球を排出するための球抜き孔（不図示）が形成されている。この球抜き孔は、通常、開閉板（不図示）によって閉じられているが、球抜きつまみ１３４ａを図中左右方向にスライドさせることにより、当該球抜きつまみ１３４ａと一体となって開閉板がスライドし、球抜き孔から下皿１３４の下方に遊技球を排出することが可能となっている。

また、図３に示すように、遊技盤１０８には、遊技領域１１６の外方であって、かつ、透過板１１０を介して遊技者が視認可能な位置に、図柄表示部１０が設けられている。図柄表示部１０には、第１特別図柄表示器１６０、第２特別図柄表示器１６２、第１特別図柄保留表示器１６４、第２特別図柄保留表示器１６６、普通図柄表示器１６８、普通図柄保留表示器１７０、右打ち報知表示器１７２（いずれも図３では不図示、図６参照）が設けられている。これら各表示器１６０～１７２は、遊技に係る種々の状況を表示するための装置であるが、その詳細については後述する。

（遊技機裏面の構成）
図４は、裏カバー３０２を取り除いた状態の遊技機１００の裏面図である。図４では、理解を容易にするため、主制御基板３００に実装され且つ主制御基板ケース３１１で覆われた複数の構成要素のうちの性能表示器３００ｄが図示されている。図５は、裏カバー３０２を取り付けた状態の遊技機１００の裏面図である。

図４に示すように、遊技機１００の裏面側には、主制御基板ケース３１１、遊技情報出力端子板３１２、賞球貯留タンク３１５、賞球払出流路３１７、副制御基板ケース３１９、払出球計数スイッチ３１６ｓ、裏カバー３０２（図４では不図示、図５参照）、払出制御基板ケース３１３および内枠開放スイッチ１４５ｓ等が設置されている。この他に遊技機１００の裏側には、遊技機１００の電源系統や制御系統を構成する各種の電子機器類（図示しない制御コンピュータを含む）、電源プラグを備えた電源コード及び接続配線等（いずれも不図示）が設置されている。

遊技機１００の裏面側中央には、遊技機１００における遊技の基本動作を制御する主制御基板３００が一部分を露出した状態で主制御基板ケース（ケース部材の一例）３１１に収容されて配置されている。主制御基板３００の構成の詳細は後述する。主制御基板ケース３１１から露出した主制御基板３００の一部分には、有利度合いが段階的に設定された設定値に関する操作に用いられる設定値操作部３０１が設けられている。設定値に段階的に設定された有利度合いは、例えば大役抽選の当選確率である。つまり、遊技機１００では、設定中の設定値に応じて大役抽選が行われる。本実施形態において大役抽選は、設定値に応じて大当たりの当選確率が異なっており、設定値が高い場合の方が低い場合に比べて大当たりに当選しやすくなっている。設定値操作部３０１は、ＲＡＭクリアボタン３０５と、ＲＡＭクリアボタン３０５と隣り合わせて配置された設定キー差込口３０６とを有している。ＲＡＭクリアボタン３０５は、設定値に関する操作以外に、主制御基板３００に設けられたメインＲＡＭ３００ｃ（図４では不図示）の初期化などにも用いられる。一方、設定キー差込口３０６は、設定値の変更および参照という設定値に関する操作のみに用いられる。設定値操作部３０１の詳細は後述する。また、主制御基板ケース３１１から露出した主制御基板３００の一部分には、設定値操作部３０１以外に、主制御基板３００に実装されたメインＣＰＵ３００ａ（図４では不図示）などの電子部品に入力される所定信号や電力が供給される電子コネクタが設けられている。

主制御基板ケース３１１の上方には、副制御基板ケース３１９が配置されている。副制御基板ケース３１９は、主に遊技中や待機中等の各演出を制御する副制御基板３３０が一部分を露出した状態で副制御基板ケース３１９に収容されて配置されている。副制御基板ケース３１９から露出した副制御基板３３０の一部分には、副制御基板３３０に実装されたサブＣＰＵ３３０ａなどの電子部品に入力される所定信号や電力が供給される電子コネクタなどが設けられている。

遊技情報出力端子板３１２は、遊技機１００の外部の電子機器（例えばデータ表示装置、ホールコンピュータ等）に接続されている。遊技機１００の遊技進行状態やメンテナンス状態等を表す各種の外部情報信号（例えば賞球情報、エラー情報、大当たり情報、始動口情報等）は、遊技情報出力端子板３１２から外部の電子機器に向けて出力される。

賞球貯留タンク３１５は、図示しない補給経路から補給された遊技球を蓄えることができる。賞球の払出しが行われる際には、賞球貯留タンク３１５に蓄えられた遊技球は、賞球払出流路３１７を通って遊技機１００の前面側の上皿１３２（図２参照）に導かれる。払出球計数スイッチ３１６ｓは、賞球払出流路３１７を通って払い出される遊技球数を検出する。

払出制御基板ケース３１３は、遊技球を発射させるための制御、および、賞球を払い出すための制御を行う払出制御基板３１０が収められたケース部材である。副制御基板３３０及び払出制御基板３１０の詳細は後述する。

払出制御基板ケース３１３の左下領域には、内枠開放スイッチ１４５ｓが設けられている。内枠開放スイッチ１４５ｓについては後述する。また、電源コード（不図示）は、例えば遊技店の島設備に設置された電源装置（例えばＡＣ２４Ｖ）に接続される。これにより、遊技機１００の動作に必要な電源（電力）が確保される。

図５に示すように、遊技機１００は、主制御基板３００（いずれも図５では不図示、図４参照）を主制御基板ケース３１１ごと覆って設けられた裏カバー（カバー部材の一例）３０２を備えている。さらに、裏カバー３０２は、副制御基板３３０（いずれも図５では不図示、図４参照）を副制御基板ケース３１９ごと覆って設けられている。裏カバー３０２は、主制御基板３００および副制御基板３３０に容易に触れることができないように主制御基板ケース３１１および副制御基板ケース３１９を覆うカバー部材である。裏カバー３０２は、遊技機１００の背面側に着脱可能に取り付けられている。

遊技機１００は、設定値操作部３０１（図５では不図示、図４参照）が操作される場合に少なくとも、設定値操作部３０１を露出可能に覆う可動カバー（可動カバー部の一例）３０９を備えている。裏カバー３０２には、設定値操作部３０１を囲んで配置された開口部３２１が形成されている。可動カバー３０９は、開口部３２１が形成された場所に取り付けられている。これにより、可動カバー３０９は、設定値操作部３０１と対応する位置で裏カバー３０２に設けられる。可動カバー３０９は、左上角部に設けられた軸部３９２Ｌおよび右上角部に設けられた軸部３９２Ｒを回転軸として、回転可能に裏カバー３０２に取り付けられている。可動カバー３０９は、裏カバー３０２に形成された開口部３２１を覆うことができる大きさを有している。このため、可動カバー３０９は、閉じられた状態（閉状態）にあると、図５に示すように、設定値操作部３０１の後側に配置される。これにより、設定値操作部３０１に触れることができなくなる。一方、可動カバー３０９は、可動カバー３０９の軸部３９２Ｌ，３９２Ｒを回転軸として回転させられて開かれた状態（開状態）にあると、設定値操作部３０１の後側から退避される（図示は省略）。これにより、設定値操作部３０１は、裏カバー３０２の開口部３２１において露出されるので、設定値操作部３０１は、開口部３２１を介して操作可能になる。このため、作業者は、設定値操作部３０１に触れることができるので、設定値に関する操作を行うことができる。詳細は後述するが、設定値に関する操作には、設定値を変更するための操作と、設定値を確認するための操作がある。

（主制御基板の構成）
主制御基板３００上の左上領域には、性能表示器３００ｄが設けられている。本実施形態における性能表示器３００ｄは、４つのデシマルポイント付きの７セグメントＬＥＤ表示器で構成されている。具体的には、性能表示器３００ｄは、４つの表示領域３６１，３６２，３６３，３６４を有している。表示領域３６１～３６４の７セグメントＬＥＤ表示器を構成する各セグメントには番号（カウンタ値）が対応付けられている。表示領域３６１～３６４は、カウンタ値に対応する各セグメントを点灯制御することで数字およびアルファベットを表示できる。
したがって、性能表示器３００ｄは、最大４つの英数字を表示することができる。４つの表示領域３６１，３６２，３６３，３６４を有する性能表示器３００ｄは、後述する設定値や賞球数に基づく算出処理結果の値（例えば、ベース値等）を表示する。

性能表示器３００ｄは、例えばベース値を確認する者（警察官等）が表示内容を誤認なく確認できれば、図４に示す位置に限られず、主制御基板３００上における主制御基板３００の他の構成と重なり合うことのない確認容易な位置に設けられていてもよい。主制御基板ケース１０３は、内部に収容した主制御基板３００が外部から視認できるように透明の材料（例えばポリカーボネート）で形成されている。

性能表示器３００ｄの下側には、メインＩＣ３００ｘが配置されている。メインＩＣ３００ｘは、例えばＶ５チップであって、メインＣＰＵ３００ａ、メインＲＯＭ３００ｂ及びメインＲＡＭ３００ｃ（図４では不図示、図６参照）を内蔵している。メインＣＰＵ３００ａは、各検出スイッチやタイマからの入力信号に基づいて、メインＲＯＭ３００ｂに格納されたプログラムを読み出して演算処理を行うとともに、各装置や表示器を直接制御したり、あるいは演算処理の結果に応じて他の基板にコマンドを送信したりする。また、メインＲＡＭ３００ｃは、メインＣＰＵ３００ａの演算処理時におけるデータのワークエリアとして機能する。

主制御基板３００上の左下端部には、ＲＡＭクリアボタン３０５が設けられている。主制御基板ケース１０３を封止した状態でＲＡＭクリアボタン３０５が操作できるように、ＲＡＭクリアボタン３０５は主制御基板ケース１０３から外部に露出した状態で配置されている。ＲＡＭクリアボタン３０５が押圧操作されると、ＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓ（図６参照）がＲＡＭクリアボタン３０５の押圧操作を検出し、ＲＡＭクリア信号が出力される。ＲＡＭクリア信号は、例えば電源投入時において、メインＣＰＵ３００ａがメインＲＡＭ３００ｃの初期化を行うか否かの判定等に用いられる。

（設定キー操作）
主制御基板３００には、ＲＡＭクリアボタン３０５の他に設定キー差込口３０６が設けられている。設定キー差込口３０６は、後述する設定値の変更や設定値の参照に用いられる専用鍵（設定キー）を差し込むための差込口（鍵穴）である。本実施形態による遊技機１００は、設定キーの操作とともにＲＡＭクリアボタン３０５を押下することによって、設定値を１～６の６段階に設定可能に構成されている。詳しくは後述するが、遊技機１００は、設定中の設定値に応じて遊技が進行するものであり、設定値ごとに有利度合いが異なっている。

設定キー差込口３０６は、シリンダを有するシリンダ錠で構成されている。また、設定キー差込口３０６のシリンダは、主制御基板ケース１０３を貫通した状態（シリンダの周囲が主制御基板ケース１０３によって囲まれた状態）で設けられている。したがって、主制御基板３００が主制御基板ケース１０３に封止された状態のままで設定キー差込口３０６に設定キーを差し込んで回転操作をすることが可能である。

（制御手段の内部構成）
図６は、遊技の進行を制御する制御手段の内部構成を示すブロック図である。

主制御基板３００は遊技の基本動作を制御する。主制御基板３００は、メインＣＰＵ３００ａ、メインＲＯＭ３００ｂ、メインＲＡＭ３００ｃを備えている。メインＣＰＵ３００ａは、各検出スイッチやタイマからの入力信号に基づいて、メインＲＯＭ３００ｂに格納されたプログラムを読み出して演算処理を行うとともに、各装置や表示器を直接制御したり、あるいは演算処理の結果に応じて他の基板にコマンドを送信したりする。また、メインＣＰＵ３００ａは、演算処理時において、メインＲＡＭ３００ｃやメインＣＰＵ３００ａの内部レジスタ（不図示）をデータのワークエリアとして用いる。

ここで、メインＣＰＵ３００ａがワークエリアとして用いるメモリ領域のうち、メインＲＡＭ３００ｃに割り当てられたメモリ領域（Ｆ０００Ｈ～Ｆ３ＦＦＨ）の用途例について図７を参照して説明する。
図７に示すように、本実施形態による遊技機１００において、アドレスＦ０００Ｈ～Ｆ１ＦＦＨの領域は、格納するデータの種類に応じて第一領域から第四領域の４つの領域に分けられる。第一領域は、設定値に関連する情報（設定値関連情報）および遊技状態に関する情報（遊技状態関連情報）を格納する領域である。第二領域は、メインＣＰＵ３００ａの初期化処理において電源復帰に係る誤り検出に用いられるチェックサム関連情報およびバックアップ関連情報を格納する領域である。第三領域は、エラー関連情報および第一通常遊技状態情報を格納する領域である。第４領域は、第二通常遊技情報を格納する領域およびスタックエリアとして用いられる領域である。
第一領域から第４領域を含むアドレスＦ０００Ｈ～Ｆ１ＦＦＨの領域を、使用領域という。使用領域は、遊技機の進行に必須の情報（データ）を格納するメモリ領域であって、遊技規則によって使用容量が制限されている。

メインＲＡＭ３００ｃにおいて、アドレスＦ３００Ｈ～Ｆ３ＦＦＨの領域は、遊技の進行に必須でない情報の格納に用いる領域であって、使用外領域という。本例では、使用外領域には、性能表示器３００ｄの表示制御等に係る情報（性能表示関連情報）が格納される。また、使用外領域には、試験信号の出力制御に係る情報が格納されてもよい。試験信号は、遊技機１００の現在の内部状態（例えば、特別遊技管理フェーズ、普通遊技管理フェーズ、発射位置指定の状態、大役遊技の実行状況、遊技状態（高確率、低確率、時短、非時短）等）を即時的（リアルタイム）に主制御基板３００の外部に通知するために出力される信号である。

また、図７に示すように、使用領域と使用外領域との間の領域（アドレスＦ２００Ｈ～Ｆ２ＦＦの領域）は、データの格納に用いられない未使用領域である。
このように、遊技機１００において、メインＲＡＭ３００ｃは、使用領域、使用外領域および未使用領域で構成されている。本例において、メインＲＡＭ３００ｃには１バイトごとの領域にアドレス値が割り振られている。したがって、未使用領域として２５６バイトに相当する領域が割り当てられている。なお、未使用領域としては、少なくとも１６バイト以上の領域が割り当てられていればよい。

図６に戻って、本実施形態の遊技機１００が実行する遊技は主に、第１始動口１２０または第２始動口１２２への遊技球の入球によって開始される特別遊技と、ゲート１２４を遊技球が通過することによって開始される普通遊技とに大別される。そして、主制御基板３００のメインＲＯＭ３００ｂには、特別遊技および普通遊技を進行するための種々のプログラムや、各種の遊技に必要なデータ、テーブルが記憶されている。

上記主制御基板３００には、一般入賞口１１８に遊技球が入球したことを検出する一般入賞口検出スイッチ１１８ｓ、第１始動口１２０に遊技球が入球したことを検出する第１始動口検出スイッチ１２０ｓ、第２始動口１２２に遊技球が入球したことを検出する第２始動口検出スイッチ１２２ｓ、ゲート１２４を遊技球が通過したことを検出するゲート検出スイッチ１２４ｓ、第１大入賞口１２６に遊技球が入球したことを検出する第１大入賞口検出スイッチ１２６ｓ、第２大入賞口１２８に遊技球が入球したことを検出する第２大入賞口検出スイッチ１２８ｓが接続されており、これら各検出スイッチから主制御基板３００に検出信号が入力されるようになっている。
また、主制御基板３００には、上述の他にも、第１大入賞口１２６内の特別領域１８０に遊技球が進入したことを検出する特別領域検出スイッチ１８１ｓ、第１大入賞口１２６内の大入賞口内排出口１３１から遊技球が排出されたことを検出する排出口スイッチ１３１ｓ、第１振分装置１９４が開状態の場合に球案内通路１９５に進入する遊技球を検出する第１振分検出スイッチ１９４ｓが接続されており、各検出スイッチから主制御基板３００に検出信号が入力されるようになっている。

また、主制御基板３００には、第２始動口１２２の可動片１２２ｂを作動する普通電動役物ソレノイド１２２ｃと、第１大入賞口１２６を開閉する開閉扉１２６ａを作動する第１大入賞口ソレノイド１２６ｃと、第２大入賞口１２８を開閉する開閉扉１２８ｂを作動する第２大入賞口ソレノイド１２８ｃと、可動片である第１振分装置１９４を作動する第１振分装置ソレノイド１９４ｃと、第２振分装置１９９のスライド板１９９ａを作動する第２振分装置ソレノイド１９９ｃと、特別領域１８０を開閉する開閉部材１８０ａを作動する特別領域ソレノイド１８０ｃと、が接続されており、主制御基板３００によって、第２始動口１２２、第１大入賞口１２６および第２大入賞口１２８の開閉制御がなされるようになっている。

さらに、主制御基板３００には、第１特別図柄表示器１６０、第２特別図柄表示器１６２、第１特別図柄保留表示器１６４、第２特別図柄保留表示器１６６、普通図柄表示器１６８、普通図柄保留表示器１７０、右打ち報知表示器１７２が接続されており、主制御基板３００によって、これら各表示器の表示制御がなされるようになっている。

また、遊技機１００には、前枠開放スイッチ１４１ｓ、アウト検出スイッチ１４３ｓおよび内枠開放スイッチ１４５ｓが接続されている。以下、内枠開放スイッチ１４５ｓと前枠開放スイッチ１４１ｓとを総称して開閉枠部材開放スイッチと称する場合がある。開閉枠部材開放スイッチは、内枠１０４や前枠１０６といった開閉枠部材が開放されていることを遊技機１００に発生していることを検出するスイッチである。

前枠開放スイッチ１４１ｓは、前枠１０６が開放されていることを検出すると、主制御基板３００に開放検出信号（オン信号）を出力する。また、内枠開放スイッチ１４５ｓは、内枠１０４が外枠１０２に対して開放されていることを検出すると、主制御基板３００に開放検出信号（オン信号）を出力する。

また、図６には図示しないが、遊技機１００には、開閉枠部材開放スイッチの他にも、遊技機１００の各構成の異常または各構成に対する不正の可能性があることを検出する種々の異常検出スイッチが設けられていてもよい。例えば、遊技機１００には、異常検出スイッチとして、電波を検出する電波検出スイッチ、磁気を検出する磁気検出スイッチ等が設けられていてもよい。

アウト検出スイッチ１４３ｓは、遊技領域１１６へ発射された遊技球が遊技機１００の外部に排出されるときに通過する遊技球排出経路（不図示）を通過したことを検出すると、主制御基板３００にアウト球検出信号（オン信号）を出力する。
一般入賞口１１８、第１始動口１２０、第２始動口１２２、第１大入賞口１２６および第２大入賞口１２８の何れかに入球した遊技球、並びに何れの入賞口にも入球せずに排出口１３０へ入球した遊技球が、上述の遊技機球排出経路を通過する。つまり、遊技領域１１６へ発射された後に集約されて外部へ排出される全ての遊技球が、遊技球排出経路においてアウト検出スイッチ１４３ｓによって検出される。

さらに、遊技盤１０８の背面には、設定キースイッチ１８０ｓおよびＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓが設けられている。設定キースイッチ１８０ｓは、上述の設定キーによってアクセスが可能に構成されている。設定キースイッチ１８０ｓは、設定キー差込口３０６に差し込まれた設定キーの回転操作を検出すると、回転操作の状態（回転状態）を示す設定キー回転検出信号（オン信号）を主制御基板３００に出力する。
また、ＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓは、ＲＡＭクリアボタン３０５の押圧操作によってアクセス可能に構成されている。ＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓは、ＲＡＭクリアボタン３０５の押下（押圧操作）を検出すると、押圧検出信号（オン信号）を主制御基板３００に出力する。

本実施形態による遊技機１００は、設定キースイッチ１８０ｓにアクセス可能な設定キーおよびＲＡＭクリアボタン３０５を用いることで、設定値の変更が可能となっている。
ここで、設定値の変更手順について説明する。

（設定値変更手順）
設定値に関する操作のうちの設定値を変更するための操作の手順について説明する。
まず、遊技機１００の電源が未投入（電源断）の状態において、設定変更を行う作業者は、専用の鍵を用いて外枠１０２に対して内枠１０４を開放する。これにより、遊技機１００の裏面に配置された主制御基板３００等の構成要素が視認可能となる。
遊技機１００の裏面には、上述のように設定キーを挿入するための設定キー差込口３０６と、ＲＡＭクリアボタン３０５とが設けられている（図４参照）。作業者は設定キー差込口３０６に設定キーを挿入し、設定キーを一の方向（例えば、時計回り方向）に回転操作（変更操作）する。さらに、作業者は、ＲＡＭクリアボタン３０５を押下する。

次いで、作業者は、設定キーを回転操作し、かつＲＡＭクリアボタン３０５を押下した状態で遊技機１００に電源を投入する。
電源が投入されると、内枠１０４が外枠１０２に対して開放されていることが内枠開放スイッチ１４５ｓによって検出され、開放検出信号（オン信号）が主制御基板３００に入力される。また、電源投入によって設定キーが時計回りに回転される変更操作が行われたことが設定キースイッチ１８０ｓによって検出され、設定キー回転検出信号（オン信号）が主制御基板３００に入力される。さらに、電源投入によってＲＡＭクリアボタンが押下されたことがＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓによって検出され、押圧検出信号（オン信号）が主制御基板３００に入力される。内枠開放スイッチ１４５ｓ、設定キースイッチ１８０ｓおよびＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓによって、主制御基板３００にオン信号が入力されたことに基づいて、遊技機１００は設定値の変更（切替え）が可能な状態（設定変更状態）となる。

作業者は、設定変更状態においてＲＡＭクリアボタン３０５を任意の回数だけ押下し、ＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓにアクセスすることにより、複数段階（例えば６段階）のうちいずれかの段階に設定値を変更することができる。このとき、設定値は、例えば、性能表示器３００ｄの表示領域３６１～３６４に表示される。

作業者は、設定値を任意の値に変更すると、変更操作時に時計回りに回転させた設定キーを、反時計回りに回転させて元の位置に戻す（復帰操作）。復帰操作により、設定キーが元の位置に復帰したことが設定キースイッチ１８０ｓによって検出され、当該検出を示す信号（オフ信号）が設定キースイッチ１８０ｓから主制御基板３００に入力される。主制御基板３００は、当該オフ信号の入力に基づいて設定値の変更を確定する。なお、設定キースイッチ１８０ｓは、回転操作の検出に基づいて、定期的に設定キー回転検出信号（オン信号）を主制御基板３００に出力し、復帰操作が検出されるまではオン信号の出力を継続し、復帰操作を検出すると主制御基板３００への設定キー回転検出信号（オン信号）の出力を停止してもよい。この場合、主制御基板３００は、当該オン信号の入力が停止したことに基づいて、設定値の変更を確定すればよい。

設定値の変更が確定し、作業者が設定キーを設定キー差込口３０６から抜き取ると、性能表示器３００ｄに表示されていた設定値が消去され、設定値の表示が終了する（設定値が非表示となる）。最後に、作業者は、遊技機１００の内枠１０４を閉じて専用の鍵によって施錠する。これにより、設定の変更作業が完了する。設定の変更作業が完了すると、通常の遊技が開始される。

詳細は後述するが、設定値が変更された場合、主制御基板３００のメインＣＰＵ３００ａは、変更後の設定値をメインＲＡＭ３００ｃの所定の領域（例えば、バックアップの対象となる使用領域のうち第一領域）に記憶する。これにより、遊技中において設定中の設定値を参照することができる。

このように、遊技機１００は、電源投入時に設定キースイッチ１８０ｓにおいて設定キーの変更操作を検出（設定キーＯＮ）し、内枠開放スイッチ１４５ｓにおいて内枠１０４が解放されたこと（内枠開放状態）を検出し、かつＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓにおいてＲＡＭクリアボタン３０５が押圧操作されたことを検出（ＲＡＭクリア押下状態）した場合に、設定変更状態（設定変更モード）となる。
設定変更状態では、特別遊技および普通遊技等の情報を表示する各表示器１６０～１７２の表示は行われず、遊技球の発射や遊技球の賞球等の通常の遊技ができない状態となる。なお、設定変更状態において、各表示器１６０～１７２は、消灯状態を維持してもよいし、または設定変更状態中において専用の（特定の）点灯パターンを維持して通常の表示とは異なる表示態様にしてもよい。

（設定確認状態）
以上、設定値の変更について説明したが、遊技機１００では設定値に関する操作として、設定値を変更せずに現在設定中の設定値を確認する操作を行うことができる。
具体的には、上述の設定変更手順において設定キーを変更操作（時計回り方向に回転操作）した状態で、ＲＡＭクリアボタン３０５を押下せずに、遊技機１００に電源を投入すると、現在設定中の設定値の確認が可能な状態（設定確認状態）となる。

つまり、遊技機１００は、電源投入時に設定キースイッチ１８０ｓにおいて設定キーの変更操作を検出（設定キーＯＮ）し、内枠開放スイッチ１４５ｓにおいて内枠１０４画解放されたこと（内枠開放状態）を検出し、かつＲＡＭクリア検出スイッチ３０５ｓにおいてＲＡＭクリアボタン３０５が押圧操作されたことを検出していない（ＲＡＭクリア未押下状態）場合に、設定確認状態（設定確認モード）となる。
設定変更状態と同様に、設定確認状態では、各表示器１６０～１７２の表示は行われず、遊技球の発射や遊技球の賞球等の通常の遊技ができない状態となる。なお、設定確認状態において、各表示器１６０～１７２は、消灯状態を維持してもよいし、または設定確認中において専用の（特定の）点灯パターンを維持して通常の表示とは異なる表示態様にしてもよい。また、設定確認状態において、各表示器１６０～１７２は、専用の（特定の）点灯パターンを維持して設定変更状態とは異なる表示態様にしてもよい。

図６に示すように、主制御基板３００には、払出制御基板３１０および副制御基板３３０が接続されている。

払出制御基板３１０は、遊技球を発射させるための制御、および、賞球を払い出すための制御を行う。払出制御基板３１０も、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを備えており、主制御基板３００に対して双方向に通信可能に接続されている。払出制御基板３１０には遊技情報出力端子板３１２が接続されており、主制御基板３００から出力される遊技進行上の種々の情報が、払出制御基板３１０および遊技情報出力端子板３１２を介して、遊技店のホールコンピュータ等に出力されることとなる。

また、払出制御基板３１０には、貯留部に貯留された遊技球を賞球として遊技者に払い出すための払出モータ３１４が接続されている。払出制御基板３１０は、主制御基板３００から送信された払出個数指定コマンドに基づいて払出モータ３１４を制御して所定の賞球を遊技者に払い出すように制御する。このとき、遊技球の払い出しが払出検知スイッチ３１５ｓによって検出され、払い出された遊技球数が払出球計数スイッチ３１６ｓによって検出され、払い出すべき賞球が遊技者に払い出されたかが把握されるようになっている。払出モータ３１４の駆動により実際に賞球が払い出されると、その都度、払出検知スイッチ３１５ｓからの検知信号および払出球計数スイッチ３１６ｓからの計数信号が払出制御基板３１０に入力される。

また、払出制御基板３１０には、下皿１３４の満タン状態を検出する皿満タン検出スイッチ３１８ｓが接続されている。皿満タン検出スイッチ３１８ｓは、賞球として払い出される遊技球を下皿１３４に導く通路に設けられており、当該通路を遊技球が通過するたびに、遊技球検出信号が払出制御基板３１０に入力されるようになっている。

そして、下皿１３４に所定量以上の遊技球が貯留されて満タン状態になると、下皿１３４に向かう通路内に遊技球が滞留し、皿満タン検出スイッチ３１８ｓから払出制御基板３１０に向けて、遊技球検出信号が連続的に入力される。払出制御基板３１０は、遊技球検出信号が所定時間連続して入力された場合に、下皿１３４が満タン状態であると判断し、皿満タンコマンドを主制御基板３００に送信する。一方、皿満タンコマンドを送信した後、遊技球検出信号の連続入力が途絶えた場合には、満タン状態が解除されたと判断し、皿満タン解除コマンドを主制御基板３００に送信する。

また、払出制御基板３１０には、発射制御基板３２０が双方向に通信可能に接続されている。発射制御基板３２０は、払出制御基板３１０から発射制御データを受信すると発射の許可を行う。発射制御基板３２０は、操作ハンドル１１２に設けられ、操作ハンドル１１２に遊技者が触れたことを検出するタッチセンサ１１２ｓと、操作ハンドル１１２の操作角度を検出する操作ボリューム１１２ａと、が接続されている。そして、タッチセンサ１１２ｓおよび操作ボリューム１１２ａから信号が入力されると、発射制御基板３２０において、遊技球発射装置に設けられた発射用ソレノイド１１２ｃを通電して遊技球を発射させる制御がなされる。

副制御基板３３０は、主に遊技中や待機中等の各演出を制御する。副制御基板３３０は、サブＣＰＵ３３０ａ、サブＲＯＭ３３０ｂ、サブＲＡＭ３３０ｃ、画像制御部３４０、音声制御部３５０、照明制御部３６０および可動体制御部３７０を備えている。サブＣＰＵ３３０ａ、画像制御部３４０、音声制御部３５０、照明制御部３６０および可動体制御部３７０は、それぞれ個別の回路で構成されていてもよい。また、サブＣＰＵ３３０ａ、画像制御部３４０、音声制御部３５０、照明制御部３６０および可動体制御部３７０は、少なくとも２つ以上が１つの回路で構成（例えば１パッケージ化または１チップ化）され、この回路の機能ブロックとして構成されていてもよい。

副制御基板３３０は、主制御基板３００に対して、主制御基板３００から副制御基板３３０への一方向に通信可能に接続されている。サブＣＰＵ３３０ａは、主制御基板３００から送信されたコマンドやタイマからの入力信号等に基づいて、サブＲＯＭ３３０ｂに格納されたプログラムを読み出して演算処理を行うとともに、演出を実行するためのコマンドを、画像制御部３４０、音声制御部３５０、照明制御部３６０および可動体制御部３７０の少なくとも１つに送信する。このとき、サブＲＡＭ３３０ｃは、サブＣＰＵ３３０ａの演算処理時におけるデータのワークエリアとして機能する。

画像制御部３４０は、演出表示装置２００の演出表示部２００ａに画像を表示させる画像表示制御を行うものであり、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ＶＲＡＭを備えている。画像制御部３４０のＲＯＭには、演出表示部２００ａに表示される図柄や背景等の画像データが多数格納されており、副制御基板３３０から送信されたコマンドに基づいて、ＣＰＵが、画像データをＲＯＭからＶＲＡＭに読み出して、演出表示部２００ａの画像表示を制御する。

音声制御部３５０は、副制御基板３３０から送信されたコマンドに基づいて、音声出力装置２０６から音声を出力させる音声出力制御を行う。また、照明制御部３６０は、副制御基板３３０から送信されるコマンドに基づいて、大入賞口照明装置６２２を含む演出照明装置を点灯させる点灯制御を行う。例えば、照明制御部３６０は、副制御基板３３０を介して、第１大入賞口１２６に遊技球が入球したことを示す主制御コマンドである後述する大入賞口入球コマンドが送信されると、ＬＥＤ基板２６ａを有する大入賞口照明装置６２２に所定の信号（点灯信号）を送信してＬＥＤランプ２６ｂを点灯させる点灯制御を行う。これにより、遊技機１００は、第１大入賞口１２６への遊技球の入球を遊技者の視覚に訴える演出を行うことができる。可動体制御部３７０は、副制御基板３３０から送信されたコマンドに基づいて、演出役物装置２０２を可動したり、演出操作装置２０８の押下ボタン２０８ａを遊技者側に飛び出させて可動したりする動作制御を行う。また、可動体制御部３７０は、押下ボタン２０８ａが押下操作されたことを検出するボタン操作検出スイッチ２０８ｓ１または演出操作装置２０８の演出レバー２０８ｂが入力操作されたことを検知するレバー操作検出スイッチ２０８ｓ２から操作検出信号が入力された際に、所定のコマンドあるいは制御信号を副制御基板３３０に送信する。

なお、各基板には、不図示の電源基板が接続されており、電源基板を介して商用電源から各基板に電力供給がなされている。また、電源基板にはコンデンサからなるバックアップ電源が設けられている。

次に、本実施形態の遊技機１００における遊技について、メインＲＯＭ３００ｂに記憶されている各種テーブルと併せて説明する。

前述したように、本実施形態の遊技機１００は、特別遊技と普通遊技の２種類の遊技が並行して進行するものであり、これら両遊技を進行する際の遊技状態として、低確率遊技状態または高確率遊技状態のいずれかの遊技状態と、非時短遊技状態または時短遊技状態のいずれかの遊技状態と、が組み合わされたいずれかの遊技状態にて遊技が進行する。

各遊技状態の詳細については後述するが、低確率遊技状態というのは、第１大入賞口１２６および第２大入賞口１２８が開放される大役遊技を実行する権利獲得の確率が低く設定された遊技状態であり、高確率遊技状態というのは、大役遊技を実行する権利獲得の確率が高く設定された遊技状態である。

また、非時短遊技状態というのは、可動片１２２ｂが開状態になりにくく、第２始動口１２２に遊技球が入球しにくい遊技状態であり、時短遊技状態というのは、非時短遊技状態よりも可動片１２２ｂが開状態になりやすく、第２始動口１２２に遊技球が入球しやすい遊技状態である。なお、遊技機１００の初期状態は、低確率遊技状態および非時短遊技状態に設定され、この遊技状態を本実施形態では通常遊技状態と称する。

遊技者が操作ハンドル１１２を操作して遊技領域１１６に遊技球を発射させるとともに、遊技領域１１６を流下する遊技球が第１始動口１２０または第２始動口１２２に入球すると、遊技者に遊技利益を付与するか否かの抽選（以下、「大役抽選」という）が行われる。この大役抽選において、大当たりに当選すると、第１大入賞口１２６（または第２大入賞口１２８）が開放されるとともに第１大入賞口１２６（または第２大入賞口１２８）への遊技球の入球が可能となる大役遊技が実行され、また、当該大役遊技の終了後の遊技状態が、上記のいずれかの遊技状態に設定される。また、本実施形態では、大役抽選において小当たりに当選した場合、第１大入賞口１２６が開放される小当たり遊技が実行され、さらに第１大入賞口１２６内の特別領域１８０に遊技球が進入すると、小当たり遊技の終了後に第２大入賞口１２８が開放される大役遊技が実行される。しかしながら、小当たり遊技の実行後における、特別領域１８０への遊技球の進入に基づく大役遊技、すなわち大当たりの当選に伴わない大役遊技の終了後には、遊技状態の設定は実行されない。このように、本実施形態による遊技機１００における複数の当たり（大当たりおよび小当たり）は、遊技利益が異なるように設定されている。以下では、大役抽選方法について説明する。

詳しい説明は省略するが、第１始動口１２０または第２始動口１２２に遊技球が入球すると、この入球を契機に大役抽選に用いられる種々の乱数（大当たり決定乱数、当たり図柄乱数、リーチグループ決定乱数、リーチモード決定乱数、変動パターン乱数）の乱数値が取得されるとともに、これら各乱数値がメインＲＡＭ３００ｃの特図保留記憶領域に記憶される。以下では、第１始動口１２０に遊技球が入球して特図保留記憶領域に記憶された種々の乱数を総称して特１保留とよび、第２始動口１２２に遊技球が入球して特図保留記憶領域に記憶された種々の乱数を総称して特２保留とよぶ。

メインＲＡＭ３００ｃの特図保留記憶領域は、第１特図保留記憶領域と第２特図保留記憶領域とを備えている。第１特図保留記憶領域および第２特図保留記憶領域は、それぞれ４つの記憶部（第１～第４記憶部）を有している。そして、第１始動口１２０に遊技球が入球すると、特１保留を第１特図保留記憶領域の第１記憶部から順に記憶し、第２始動口１２２に遊技球が入球すると、特２保留を第２特図保留記憶領域の第１記憶部から順に記憶する。

例えば、第１始動口１２０に遊技球が入球したとき、第１特図保留記憶領域の第１～第４記憶部のいずれにも保留が記憶されていない場合には、第１記憶部に特１保留を記憶する。また、例えば、第１記憶部～第３記憶部に特１保留が記憶されている状態で、第１始動口１２０に遊技球が入球した場合には、特１保留を第４記憶部に記憶する。また、第２始動口１２２に遊技球が入球した場合にも、上記と同様に、第２特図保留記憶領域の第１記憶部～第４記憶部の中で、特２保留が記憶されていない、最も番号（序数）の小さい記憶部に特２保留が記憶される。

ただし、第１特図保留記憶領域および第２特図保留記憶領域に記憶可能な特１保留数（Ｘ１）および特２保留数（Ｘ２）は、それぞれ４つに設定されている。したがって、例えば、第１始動口１２０に遊技球が入球したときに、第１特図保留記憶領域に既に４つの特１保留が記憶されている場合には、当該第１始動口１２０への遊技球の入球によって新たに特１保留が記憶されることはない。同様に、第２始動口１２２に遊技球が入球したときに、第２特図保留記憶領域に既に４つの特２保留が記憶されている場合には、当該第２始動口１２２への遊技球の入球によって新たに特２保留が記憶されることはない。

上述のとおり、遊技機１００では、第１始動口１２０または第２始動口１２２（図３参照）への遊技球の入球を契機とする特別遊技と、ゲート１２４（図３参照）への遊技球の通過を契機とする普通遊技とが、同時並行して進行する。特別遊技に係る処理は、段階的に、かつ、繰り返し実行される。同様に、遊技機１００では、ゲート１２４への遊技球の通過を契機とする普通遊技に係る処理が、段階的に、かつ、繰り返し実行される。

遊技機１００では、主制御基板３００に設けられたメインＣＰＵ３００ａは、特別遊技に係る各処理および普通遊技に係る各処理を、ＣＰＵ初期化処理（詳細な説明は省略する）に所定の周期（本実施形態では４ミリ秒、以下「ミリ秒」を「ｍｓ」と表記する）で割り込むタイマ割込み処理において実行する。メインＣＰＵ３００ａは、このタイマ割込み処理における特別遊技に係る処理や普通遊技に係る処理の結果の情報を含むコマンドを副制御基板３３０に送信する。メインＣＰＵ３００ａは、例えば大役抽選の抽選結果の情報を含むコマンドや当該抽選結果を報知するために特別図柄を変動表示するための変動時間（変動パターン）の情報を含むコマンドなどを副制御基板３３０に送信する。

遊技機１００では、副制御基板３３０に設けられたサブＣＰＵ３３０ａは、サブＣＰＵ初期化処理（詳細な説明は省略する）に所定の周期（本実施形態では例えば２ｍｓ）でタイマ割込み処理プログラムを読み込んで当該サブタイマ割込み処理を実行する。サブＣＰＵ３３０ａは、サブタイマ割込み処理において、主制御基板３００から送信されるコマンドに基づいて、演出表示部２００ａに表示する演出図柄２１０ａ，２１０ｂ，２１０ｃの変動演出の表示パターン、演出役物装置２０２、音声出力装置２０６および演出照明装置２０４のそれぞれの動作パターンなどを決定する。さらに、サブＣＰＵ３３０ａは、サブタイマ割込み処理において、決定した動作パターンなどの情報を含む種々のコマンドを作成し、画像制御部３４０、音声制御部３５０、照明制御部３６０および可動体制御部３７０のうちの対応する制御部にこれらのコマンドを送信する。

（ルート振分ユニットの構成）
次に、第１遊技領域１１６ａにおける遊技球の流下経路（ルート）の振分けに係る構成であるルート振分ユニット７について、図３を参照しつつ図８から図１３を用いて説明する。

図８は、図３に示すルート振分ユニット７を拡大した正面図であり、図９は、ルート振分ユニット７の斜視図である。また、図１０は図８に示すＡ－Ａ線で切断したルート振分ユニット７の断面図である。理解を容易にするため、図１０には遊技球Ｂ１，Ｂ２を合わせて図示している。図１１は図８に示すＢ－Ｂ線で切断したルート振分ユニット７の断面図である。また、図１２はルート振分ユニット７の上流領域７ａにおける遊技球の流下経路の一例を示す図である。また、図１３はルート振分ユニット７の下流領域７ｂを流下する遊技球の流下経路の一例を示す図である。具体的には、図１３（ａ）は第１振分装置１９４が閉状態の下流領域７ｂを流下する遊技球の流下経路の一例を示す図であり、図１３（ｂ）は第１振分装置１９４が開状態の下流領域７ｂを流下する遊技球の流下経路の一例を示す図である。

図３に示すように、本実施形態による遊技機１００においてルート振分ユニット７は、遊技盤１０８の第１遊技領域１１６ａの上部（第１遊技領域１１６ａへの遊技球の進入口の近傍）から中央部にかけて配置されている。ルート振分ユニット７は、複数（本例では、３つ）のボス７０、振分台７１０、第１振分装置１９４および第１振分検出スイッチ１９４ｓを含んで構成され、遊技盤１０８の前面に取り付けられたユニット部材である。ルート振分ユニット７は、流下する遊技球が衝突可能に突出した複数のボス７０および振分台７１０や第１振分装置１９４の開閉によって、遊技球の流下態様に多様性を与え、第１遊技領域１１６ａに導かれた遊技球の流下経路（ルート）を振り分け可能に構成されている。

（ルート振分ユニットの構成要素）
まず図８および図９を用いてルート振分ユニット７の全体構成について説明する。
図８に示すように、ルート振分ユニット７は、遊技球の流下方向（本例では、上下方向）に延伸する薄板状のベース部材１７を有している。本実施形態による遊技機１００において、ベース部材１７は樹脂（例えば合成樹脂）を素材として形成されている。ルート振分ユニット７に進入した遊技球は、ベース部材１７の前面１７ａ側を流下空間としてルート振分ユニット７内を流下する。ルート振分ユニット７における各構成は、いずれもベース部材１７と一体に形成されているか、またはベース部材１７に取り付けられている。

上述のようにルート振分ユニット７は複数の構成要素で構成されたユニット部材であって、遊技盤１０８に取り付けられている。具体的には、ルート振分ユニット７は、ベース部材１７の背面（不図示）が遊技盤１０８の前面に接するようにして遊技盤１０８に固定（本例では、ねじ止め）されている。つまり、ルート振分ユニット７は、遊技盤１０８の前面側を形成する部材である。したがって、ルート振分ユニット７の各構成は、遊技領域１１６（本例では第１遊技領域１１６ａ）において、遊技盤１０８の前面側に設けられた部材に相当する。このため、遊技盤１０８の前面側においてルート振分ユニット７が設けられた領域では、ベース部材１７の前面１７ａが遊技盤の前面に相当する。

（上流領域および下流領域）
図８に示すように、ルート振分ユニット７は、上流領域７ａと下流領域７ｂとを有している。上流領域７ａは、ルート振分ユニット７の上部から中央部に亘る領域であって、第１振分装置１９４よりも上流側の領域である。また下流領域７ｂは、ルート振分ユニット７の下部領域であって、上流領域７ａよりも下流側に位置する第１振分装置１９４を含む領域である。

（上流領域の構成）
ルート振分ユニット７の上流領域７ａには、遊技領域１１６（本例では第１遊技領域１１６ａ）を流下する遊技球と接触可能に突起する複数の突起構造を有する突起群１０７が設けられている。突起群１０７は、ルート振分ユニット７においてベース部材１７の前面１７ａ（遊技盤１０８の前面に相当）を前方に隆起させて形成された複数の突起構造（３つのボス７０および振分台７１０）で構成されている。図９に示すように、突起群１０７を構成する３つのボス７０ａ～７０ｃのそれぞれ（突起部の一例）および振分台７１０（突起部の一例）は、ルート振分ユニット７内における遊技球の流下方向に沿って所定の間隙を設けて配置されており、ベース部材１７から前方に突出している。本実施形態による遊技機１００において、突起群１０７に含まれる各突起構造はいずれも樹脂（例えば合成樹脂）を素材として形成されている。突起群１０７を構成する各突起構造の詳細は後述する。

図８に戻って、ルート振分ユニット７の上流領域７ａには、第１遊技領域１１６ａにおいて遊技盤１０８の前面（ここでは、ベース部材１７の前面１７ａ）から前方に隆起する一対の波形側壁８（左波形側壁８１および右波形側壁８２）が設けられている。一対の波形側壁８は、ベース部材１７の前面１７ａから前方に隆起するように形成された薄板状の部材である。一対の波形側壁８は、遊技者が遊技機１００に相対した遊技者から見た正面視において、複数の円弧が連なる形状を有している。つまり、一対の波形側壁８は、突起群１０７を構成する突起構造間に設けられた所定の間隙において距離が近づき、突起群１０７の配置領域において距離が遠退くような波形状に形成されている。一対の波形側壁８は、上流領域７ａの左縁部においてベース部材１７から前方に隆起する左波形側壁８１と、上流領域７ａの右縁部においてベース部材１７から前方に隆起し、左波形側壁８１と対向する右波形側壁８２とで構成されている。本実施形態による遊技機１００において、一対の波形側壁８は樹脂（例えば合成樹脂）を素材として形成されており、ベース部材１７と一体形成されている。

一対の波形側壁８（左波形側壁８１、右波形側壁８２）は、第１遊技領域１１６ａのルート振分ユニット７において、突起群１０７を挟んで設けられており、突起群１０７とともに遊技球が通過可能な球通路を形成している。上流領域７ａは、突起群１０７を中心として一対の波形側壁８に左右を区画されている。一対の波形側壁８の構成の詳細は後述する。

上述のように、本実施形態による遊技機１００において、ルート振分ユニット７内には釘（いわゆる遊技釘）が設けられていない。しかしながら、ルート振分ユニット７の上流領域７ａにおいて、遊技球は突起群１０７のそれぞれの突起構造（ボス７０ａ～７０ｃ、振分台７１０）および一対の波形側壁８に衝突することで種々の方向に弾かれ、多様な流下経路を辿って下流領域７ｂに流下可能である。例えば、ルート振分ユニット７は、上流領域７ａにおいて少なくとも２個の遊技球が異なる流下経路を流下可能に形成されている。つまり、ルート振分ユニット７は、ルート振分ユニット７内を流下する遊技球を、少なくとも２つの異なる流下経路に振り分け可能に構成されている。上流領域７ａにおける遊技球の流下経路の詳細については後述する。

また図８に示すように、ルート振分ユニット７の上流領域７ａの最上部右側には、薄板状部材である球受け台７９ａが設けられている。球受け台７９ａは、右波形側壁８２に連接され、右向きに屈曲された平坦面である。球受け台７９ａは、第１遊技領域１１６ａに放出されてルート振分ユニット７に進入する遊技球を受け入れる部材であって、発射直後の遊技球の落下速度を減速させるとともに、落下による衝撃を緩和させる構成である。また、上流領域７ａは複数（本例では３つ）のボス７０側に傾斜した形状を有しており、ボス７０ａ～７０ｃの方向に遊技球を導き易く構成されている。

次に、図８を参照しつつ、図９および図１０を用いて突起群１０７の各構成について説明する。
（ボスの構成）
まず、突起群１０７を構成する３つのボス７０（ボス７０ａ～７０ｃ）の詳細な構成を説明する。図８に示すように、ボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃは、この順に、上流領域７ａにおいて一対の波形側壁８に区画された球通路の中央に縦方向に並んで設けられている。３つのボス７０のうち、上から２番目のボス７０ｂは、上から１番目のボス７０ａよりも左より（左波形側壁８１より）に設けられている。また、上から３番目のボス７０ｃは、ボス７０ｂよりもさらに左よりに設けられている。つまり、上流領域７ａにおいてボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃは、遊技球の流下方向に沿って徐々に左方向に向かうように配置されている。

詳しくは後述するが、３つのボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃは、球通路として形成されたルート振分ユニット７の上流領域７ａ中央において、遊技球が通過可能な所定の間隙を設けて配置されている。具体的には、３つのボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃのそれぞれは、一の遊技球の直径（１１ミリメートル）よりも離間して設けられている。このため、本実施形態による遊技機１００において、遊技球は遊技球１個分より広い空間を有するボス７０ａ，７０ｂ間、およびボス７０ｂ，７０ｃ間を通過可能であり、上流領域７ａ内において左波形側壁８１側の流下経路（左ルート）と右波形側壁８２側の流下経路（右ルート）とを行き来することができる。

本実施形態による遊技機１００において、ボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃはいずれも同じ形状を有している。ここで、上から３番目のボス７０ｃを例にとって、ボス７０の詳しい形状について説明する。図９に示すようにボス７０ｃは、円筒形状を有しベース部材１７の前方へ突出する先端部７２と、ベース部材１７の前面１７ａが隆起したボス７０ｃの基端から先端部７２に繋がる基端部７３とを有している。図１０に示すように、ボス７０ｃは、ベース部材１７の前面１７ａおよび背面１７ｂを前方に隆起させて形成された突起構造である。

ボス７０ｃにおいて、先端部７２の前面７１は平坦面であって、正面視において円環形状を有しており、中央に円形状の開口端７１ａが形成されている（図８参照）。また、図１０に示すように、円筒形状を有する先端部７２の内部には、ボス７０ｃの外周の厚みよりも若干薄く形成された板状部材である補強部７４が形成されている。補強部７４は、ボス７０ｃの前方への突出長さの中間領域に設けられている。補強部７４は、上流領域７ａを流下（または落下）する遊技球の衝突による衝撃に対する先端部７２の破損（例えば、折れ）のおそれを低減して耐久性を向上することができる。つまり、補強部７４は、ボス７０ｃの強度を向上するための部材である。

また、先端部７２の内部には、補強部７４の前面７４ａを底面として前方に向かって開口するボス穴７２ａが設けられている。ボス７０ｃにおける前面７１の開口端７１ａがボス穴７２ａの開口端に相当する。

図１０に示すようにボス７０ｃにおいて、前面７１を始端とし、補強部７４の背面７４ｂを上下に延伸させた仮想平面とボス７０ｃの外周面との交線を終端とする領域が先端部７２に相当する。またボス７０ｃの基端部７３は、ベース部材１７の前面１７ａが隆起したボス７０ｃの基端を含む領域であって、当該仮想平面とボス７０ｃの外周面との交線を始端とし、ボス７０ｃの基端を終端とする領域に相当する。より具体的には、ボス７０ｃにおける基端部７３は、ボス７０ｃと、遊技領域１１６において遊技球の流下面にあたる遊技盤１０８の前面（ここではベース部材１７の前面１７ａ）とが交わる部分に形成されている。つまり基端部７３は、ボス７０ｃにおいて遊技盤１０８寄りの根元（基端）領域に相当する。このため、遊技店の島設備において遊技機１００を寝かせ配置（遊技盤１０８を後傾させた配置）とした場合に、上述の流下面に沿ってルート振分ユニット７を流下する遊技球は、ボス７０ｃの基端部７３に向かって流下し易くなっている。

本例のボス７０ｃにおいて、先端部７２と基端部７３とはベース部材１７を隆起させて一体形成されている。ボス７０ｃの基端部７３の太さ（外周幅）は、先端部７２の近傍領域（補強部７４の背面７４ｂの近傍領域）においては先端部７２の太さとほぼ同じであるが、基端側に向かって徐々に太くなっている。したがって、正面視において円形状を有する基端部７３の外周は、先端部７２の前面７１の外周よりも大きくなっている（図８参照）。

より詳細には、図１０に示すように、基端部７３の表面には曲面７３ａが形成されている。曲面７３ａは、基端部７３の外周面において、先端部７２と連接する基端部７３の始端から基端部７３の基端側に向かって末広がりの形状を有している。また、曲面７３ａはボス７０ｃの内部方向に屈曲する仰け反り曲面である。つまり、ボス７０ｃにおいて曲面７３ａを有する基端部７３の外周面（基端部７３の径）は、前方に突出する先端部７２の外周面（先端部７２の径）よりも大きく遊技盤１０８側に向かって広がっている。したがって基端部７３は、末広がりの仰け反り曲面を有する隆起構造であり、遊技盤１０８の前面（ここではベース部材１７の前面１７ａ）からボス７０ｃの先端に向かって隆起している。このため、ボス７０ｃの基端部７３は、先端部７２の終端から基端部７３の基端側に向かって太くなるように形成されている。基端部７３の太さが基端側に向かって増すことにより、ボス７０ｃは上流領域７ａを流下（または落下）する遊技球の衝突による衝撃に対する耐久性が向上される。このため、本実施形態による遊技機１００は、ボス７０ｃが破損する（例えば、折れる）おそれを低減することができる。

また、本実施形態による遊技機１００において、ボス７０ｃの基端部７３は、遊技球の半径（５．５ミリメートル）よりも大きい曲率半径（本例では、６ミリメートル）を有する曲面状に形成されている。具体的には、基端部７３に形成された曲面７３ａは、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有している。これにより、ボス７０ｃの基端部７３は、遊技領域１１６（本例では第１遊技領域１１６ａ）を流下する遊技球と一点で接触可能となっている。このため、ルート振分ユニット７の上流領域７ａを流下する遊技球は、ボス７０ｃを含む複数のボス７０（本例ではボス７０ａ～７０ｃ）との衝突によって流下速度を減速しながらも、滞留することなく円滑に流下することができる。

曲面７３ａの曲率半径が遊技球の半径よりも大きい場合、ルート振分ユニット７の上流領域７ａを流下してボス７０ｃの基端部７３に衝突した遊技球は、曲面７３ａにおいて基端部７３と一点で接触する。例えば、ボス７０ｃの基端部が遊技球の半径と同等の曲率半径を有する曲面状に形成されている場合、基端部は、遊技球の球面外周のほぼ４分の１に相当する広域接触面において遊技球と接触（面接触）する。これに対し本実施形態では、ボス７０ｃの基端部７３の曲面７３ａは、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有している。このため基端部７３は、前述の広域接触面よりも小さい一の接触面で遊技球と接触（点接触）する。したがって、ボス７０ｃに衝突した遊技球は、基端部７３の曲面７３ａ上において不安定な状態となる。

図１０には、一例として遊技球Ｂ１と曲面７３ａとが一の接触点Ｐ１で接触している状態が図示されている。また、ボス７０ｃにおいて、基端部７３と連設する円筒形状の先端部７２も、遊技球と一点で接触する構成である。つまり本実施形態において、遊技球とボス７０ｃとは２点以上の接触点で接触することはなく、上述の広域接触面による面接触もしない。

また、ボス７０ｃにおいて、曲面７３ａの曲率半径が遊技球の半径よりも大きいことにより、曲面７３ａは、曲面７３ａに沿って遊技球を前方（ボス７０ｃの先端部７２の前面７１方向）に押し出す作用、つまり一点接触した遊技球を前方方向に遊技球を逃がす作用（以下、「逃がし作用」と称する場合がある）を奏する。これにより、ボス７０ｃは、接触した遊技球の流下速度を減速しつつも、接触後の遊技球を円滑に流下させることができる。

また、上述の逃がし作用により、ボス７０ｃは、第１遊技領域１１６ａに次々と遊技球が発射され、複数の遊技球がルート振分ユニット７内を連続して流下するような状況においても、ボス７０ｃと遊技球との球噛みの発生を防止することができる。したがって遊技機１００は、ルート振分ユニット７の上流領域７ａ内において遊技球をより円滑に流下させることができる。具体的には、図１０に示すように、ボス７０ｃにおける基端部７３の曲面７３ａと一の接触点（本例では接触点Ｐ１）で接触した遊技球Ｂ１の上方から、遊技球Ｂ１と連続して後続の遊技球Ｂ２が流下し、遊技球Ｂ１と接触点Ｐ２において接触したとする。この場合、例えば遊技球Ｂ１には、接触点Ｐ２において上方（遊技球Ｂ２）から曲面７３ａに押しつけられる方向の力が加わり、遊技球Ｂがボス７０ｃに寄り掛かる状態になる。しかしながら、ボス７０ｃの基端部７３において、遊技球Ｂ１と曲面７３ａとの接触点は１つ（接触点Ｐ１のみ）である。このため、先行の遊技球Ｂ１は、Ｂ１の下部側でボス７０ｃの基端部７３と接触し、Ｂ１の上部側で後続の遊技球Ｂ２と接触した際に、基端部７３および遊技球Ｂ２との間で３点以上の接触点が生じない。したがって、曲面７３ａにおける上述の逃がし作用によって、遊技球Ｂ１は曲面７３ａに沿って前方に押し出され、ボス７０ｃの前面７１方向に逃がされる。このため、ボス７０ｃは、遊技球Ｂ１が遊技球Ｂ２とボス７０ｃの基端部７３との間に挟まれて球噛みが発生することを防止することができる。

ここで仮に、ボス７０ｃの基端部が遊技球と一点で接触可能な構成を有していない、つまり基端部が遊技球と２点以上で接触する構成、または面接触（上述の広域接触面で接触）する構成であるとする。この場合、遊技球はボス７０ｃの基端部上において安定した状態になる。したがって、遊技球は、ボス７０ｃの基端部において後続の遊技球（後続球）と接触した際に、基端部および後続球との間に挟まれて球噛みが生じる場合がある。また、基端部が遊技球と２点以上で接触する構成を有する場合、基端部との接触後の遊技球は不規則な方向に転動して過度に減速される場合がある。つまり、ボス７０ｃの基端部が遊技球と一点で接触可能な構成を有していない場合、ルート振分ユニット７内において遊技球の意図しない滞留が発生して、遊技球の円滑な流下が阻害されるおそれがある。

これに対し、本実施形態による遊技機１００においてボス７０ｃは、上述のように基端部７３が遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面形状に形成され、基端部７３と遊技球とが一点で接触可能な構成を有する。これにより、遊技機１００は、ルート振分ユニット７内において球噛みの発生を抑制し、遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さを向上させて、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

また、ボス７０ｃの根元領域に相当する基端部７３の曲面７３ａの曲率半径が遊技球の半径よりも大きく形成されていることで、上流領域７ａを流下している遊技球は、ボス７０ｃに衝突する際にまず基端部７３側に導かれる。そして、基端部７３に接触して流下速度が減速された遊技球は、減速状態で先端部７２に接触するか、又は先端部７２に接触せずに流下を継続する。このようにボス７０ｃは、遊技球が直接に先端部７２に衝突する頻度を低減させることで、先端部７２に対する衝撃を緩和してボス７０ｃの耐久性を向上せることができる。

以上、３つのボス７０ａ～７０ｃのうち、ボス７０ｃを例にとって形状及び作用効果を説明したが、ボス７０ａ，７０ｂもボス７０ｃと同一の形状及び構造を有しており、ボス７０ｃと同様の作用効果を奏する。したがって、本実施形態による遊技機１００において、３つのボス７０（ボス７０ａ～７０ｃ）はいずれも、基端部７３が遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面形状を有し、基端部７３が遊技球と一点で接触可能な構成を有している。これにより、３つのボス７０は、遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さを向上させて、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。また具体的には、基端部７３には遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面７３ａが形成されている。３つのボス７０はいずれも、基端部７３に曲面７３ａを有することで、先端部７２に対する衝撃を緩和してボス７０ｃの耐久性を向上させることができる。つまり、３つのボス７０はいずれも、球噛みを防止して球通路を流下する際の円滑さの向上しつつ、３つのボス７０それぞれの耐久性を向上させることができる。

（振分台の構成）
次に、図８を参照しつつ、図９および図１０を用いて突起群１０７のうちの振分台７１０の構成について説明する。

図８に示すように、本実施形態において振分台７１０は、ルート振分ユニット７の上流領域７ａに設けられた３つのボス７０のうち上から３番目のボス７０ｃの下に所定の間隙を設けて配置されている。具体的には、振分台７１０は、ボス７０ｃと遊技球２個分、すなわち遊技球の直径の２倍（２２ミリメートル＝２×１１ミリメートル）以上離間して配置されている。詳しくは後述するが、上流領域７ａの左ルートおよび右ルートを流下した遊技球は、振分台７１０の直上の空間、つまりボス７０ｃと振分台７１０との間隙において合流する。したがって、振分台７１０の直上の空間を、他の箇所（例えば３つのボス７０間の遊技球１個分より広い空間）よりも広く形成することで、ルート振分ユニット７は、遊技球の滞留が発生を防止して遊技球の流下の円滑さを向上させることができる。

図８および図９に示すように、振分台７１０は、正面視において台形上を有する柱体であってベース部材１７の前方へ突出する先端部７１５と、ベース部材１７の前面１７ａが隆起した振分台７１０の基端から先端部７１５に繋がる基端部７１４とを有している。図１０に示すように、振分台７１０は、ボス７０（例えばボス７０ｃ）と同様に、ベース部材１７の前面１７ａおよび背面１７ｂを前方に隆起させて形成された突起構造である。本例において、振分台７１０の前方への突出長さはボス７０ｃの突出長さよりも短く形成されている。

振分台７１０において、先端部７１５の前面７１１は平坦面であって正面視において台形状を有している。振分台７１０の前面７１１の中央には台形状の開口端７１１ａが形成されている（図８参照）。また、図８に示すように先端部７１５の上面７１２は平坦面であって正面視において右下がりに傾斜している。また、先端部７１５には、上面７１２の左端部に連設した平坦面であって正面視において左下がりに傾斜した傾斜面７１３が設けられている。傾斜面７１３の勾配率は、上面７１２の勾配率が高く構成されている。振分台７１０は、上面７１２および傾斜面７１３を有することで、上流領域７ａを流下した遊技球の流下経路のばらつきを収束させる機能を有する。具体的には、振分台７１０は、直上の空間の広さを考慮して上面７１２および傾斜面７１３の配置角度を設定することで、振分台７１０上を転動する遊技球を左右のいずれかのルートに振り分ける割合を調整することができる。

また図１０に示すように、振分台７１０は、３つのボス７０（本例では、ぼす７０ｃ）と同様の内部構造を有している。具体的には、台形上の柱体である先端部７１５の内部には、ボス７０ｃと同様に、振分台７１０の前方への突出長さの中間領域に板状の補強部７１６が設けられている。補強部７１６を有することにより、振分台７１０は上流領域７ａを流下（または落下）する遊技球の衝突による先端部７１５の破損（例えば、折れ）のおそれが低減されて、耐久性を向上することができる。つまり、補強部７１６は、ボス７０ｃの強度を向上するための部材である。

また、振分台７１０の先端部７１５の内部には、ボス７０ｃのボス穴７２ａと同様のボス穴７１５ａが設けられている。ボス穴７１５ａは、補強部７１６の前面７１６ａを底面として前方に向かって開口しており、前面７１１の開口端７１１ａがボス穴７１５ａの開口端に相当する。

また、図１０に示すように、振分台７１０において、前面７１１を始端とし、補強部７１６の背面７１６ｂを上下に延伸させた仮想平面と振分台７１０の外周面との交線を終端とする領域が先端部７１５に相当する。また振分台７１０の基端部７１４は、ベース部材１７の前面１７ａが隆起した領域であって、当該仮想平面と振分台７１０の外周面との交線を始端とし振分台７１０の基端を終端とする領域が基端部７１４に相当する。より具体的には、振分台７１０における基端部７１４は、振分台７１０と、遊技領域１１６において遊技球の流下面にあたる遊技盤１０８の前面（ここではベース部材１７の前面１７ａ）とが交わる部分に形成されている。つまり基端部７１４は、振分台７１０において遊技盤１０８寄りの根元（基端）領域に相当する。このため、遊技店の島設備において遊技機１００を寝かせ配置（遊技盤１０８を後傾させた配置）とした場合に、上述の流下面に沿ってルート振分ユニット７を流下する遊技球は、振分台７１０の基端部７１４に向かって流下し易くなっている。

本例の振分台７１０において、先端部７１５と基端部７１４とはベース部材１７を隆起させて一体形成されている。振分台７１０の基端部７１４の太さ（外周幅）は、先端部７１５の近傍領域（補強部７１６の背面７１６ｂの近傍領域）においては先端部７１５の太さとほぼ同じであるが、基端側に向かって徐々に太くなっている。したがって、正面視において面取りした台形状を有する基端部７１４の外周は、先端部７１５の前面７１１の外周よりも大きくなっている（図８参照）。

また、図１０に示すように、振分台７１０の基端部７１４の表面には、ボス７０ｃと同様に、仰け反り曲面である曲面７１４ａが形成されている。これにより、ボス７０ｃと同様に、振分台７１０の基端部７１４は、基端側に向かって徐々に太さが増大する末広がりの隆起構造に形成され、先端部７１５に向かって隆起している。これにより、振分台７１０は上流領域７ａを流下（または落下）する遊技球の衝突による衝撃に対する耐久性が向上される。このため、本実施形態による遊技機１００は、振分台７１０が破損する（例えば、折れる）おそれを低減することができる。なお、振分台７１０の先端部７１５は箱型形状を有しているため、基端部７１４が末広がり形状を有していない場合も、ボス７０の先端部７２よりも高い耐久性を有している。

本実施形態による遊技機１００において、振分台７１０の基端部７１４は、ボス７０ｃの基端部７３の曲面７３ａと同様に、遊技球の半径（５．５ミリメートル）よりも大きい曲率半径（本例では、６ミリメートル）を有する曲面状に形成されている。具体的には、基端部７１４に形成された曲面７１４ａは、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有している。これにより、振分台７１０の基端部７１４は、ボス７０ｃの基端部７３と同様に、遊技領域１１６（本例では第１遊技領域１１６ａ）を流下する遊技球と一点で接触可能となっている。このため、ルート振分ユニット７の上流領域７ａを流下する遊技球は、３つのボス７０のうち少なくともいずれかに衝突した後、さらに振分台７１０に衝突した場合にも、流下速度を減速しながらも滞留することなく円滑に流下することができる。

また、ボス７０の基端部７３と同様に、振分台７１０の基端部７１４は曲面７１４ａ上において遊技球と一点で接触可能に形成されている。つまり、基端部７１４は、前述の広域接触面よりも小さい一の接触面で遊技球と接触（点接触）する。このため、振分台７１０の基端部７１４に接触した遊技球は、基端部７１４の曲面７１４ａ上において不安定な状態となる。図１０では図示を省略するが、ボス７０ｃの曲面７３ａ上と同様に、振分台７１０の曲面７１４ａ上においても、曲面７１４ａと遊技球（例えば遊技球Ｂ１）とが一の接触点で接触する。また、振分台７１０において、基端部７１４と連設された先端部７１５の上面７１２および傾斜面７１３も、平坦面であって遊技球と一点で接触する構成である。つまり本実施形態において、遊技球と振分台７１０とは２点以上の接触点で接触することはなく、また上述の広域接触面による面接触もしない。

また、振分台７１０において曲面７１４ａの曲率半径が遊技球の半径よりも大きいことにより、曲面７１４ａはボス７０ｃの曲面７３ａと同様に上述の逃がし作用を奏する。これにより、振分台７１０は、接触した遊技球の流下速度を減速しつつも、接触後の遊技球を円滑に流下させることができる。また、振分台７１０は上述の逃がし作用により、ボス７０ｃと同様に、遊技球との球噛みの発生を防止することができる。具体的には、振分台７１０の基端部７１４は、曲面７１４ａにおいて遊技球と一点で接触可能であり、さらに曲面７１４ａが上述の逃がし作用を奏する。これにより、先行の遊技球に後続の遊技球が接触した場合に曲面７１４ａに沿って先行の遊技球が前方に押し出され、振分台７１０の前面７１１方向に逃がされる。このため、振分台７１０は、先行の遊技球が後続の遊技球と振分台７１０の基端部７１４との間に挟まれて球噛みが発生することを防止することができる。

このように、本実施形態による遊技機１００において振分台７１０の基端部７１４は、３つのボス７０の基端部７３と同様に、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面状に形成され、遊技球と一点で接触可能な構成を有する。これにより、遊技機１００は、ルート振分ユニット７内において球噛みの発生を抑制し、遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さを向上させて、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

また、振分台７１０において根元領域に相当する基端部７１４には遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面７１４ａが形成されていることで、上流領域７ａを流下している遊技球は、振分台７１０に衝突する際にまず基端部７１４側に導かれる。そして、基端部７１４に接触して流下速度が減速された遊技球は、減速状態で先端部７１５の上面７１２または傾斜面７１３上を転動する。このように振分台７１０は、３つのボス７０（例えば７０ｃ）と同様に、遊技球が直接に先端部７１５に衝突する頻度を低減させることで、先端部７１５に対する衝撃を緩和して振分台７１０の耐久性を向上させることができる。つまり、本実施形態による遊技機１００は、振分台７１０を上述の構成とすることにより、球噛みを防止して球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さの向上しつつ、振分台７１０の耐久性を向上させることができ、ひいては遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

以上、ルート振分ユニット７に設けられた突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）の構成について説明した。上述のように、本実施形態による遊技機１００において、突起群１０７は、基端部（基端部７３，７１４）が遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面状に形成され、遊技領域を流下する遊技球と一点で接触可能に構成されている。これにより、遊技機１００は、球噛みを防止して遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さを向上させ、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

またより具体的には、突起群１０７において基端部（基端部７３，７１４）には、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面（曲面７３ａ，７１４ａ）が形成されている。これにより、遊技機１００は、球通路を流下する際の円滑さの向上しつつ、突起群１０７の耐久性を向上させることができる。

（波形側壁の構成）
次に、図８を参照しつつ、図９および図１１を用いて一対の波形側壁８（左波形側壁８１および右波形側壁８２）の構成について説明する。
図８に示すように、左波形側壁８１は、ルート振分ユニット７の左側部を構成する壁部であって、球通路を形成する上流領域７ａ内の中央に配置された突起群１０７の左側に位置している。左波形側壁８１は、上流領域７ａ内における遊技球の流下経路（ルート）のうち、突起群１０７の左側を流下する左ルートを区画している。詳しくは後述するが、左波形側壁８１は、突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）との間に少なくとも一の遊技球の直径（１１ミリメートル）以上の間隙が設けられている。このため、本実施形態による遊技機１００において遊技球は、遊技球１個分より広い空間を有する左ルートを円滑に流下することができる。

また、左波形側壁８１は、突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）のそれぞれ（突起部の一例）の間に設けられた間隙において右波形側壁８２と距離が近づき、突起群１０７の配置領域において右波形側壁８２と距離が遠退くような波形状に形成されている。これにより、左波形側壁８１は、上流領域７ａの左ルートを流下する遊技球を突起群１０７のそれぞれ（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０のそれぞれ）に接触させ易くなっており、遊技球を適度に減速させつつ、流下経路に多様性を持たせることができる。

具体的には図９に示すように、左波形側壁８１は、ベース部材１７を前方に隆起させて形成された板状の左壁部８１０と、平坦面である前面８１２と、ベース部材１７の前面１７ａが隆起した左波形側壁８１の基端から左壁部８１０に繋がる基端部８３とを有している。左波形側壁８１の左壁部８１０は、突起群１０７とは逆方向に向かって弓なりに湾曲する曲面を有する複数（本例では４つ）の湾曲壁を連ねた波形状に形成されている。詳細には、左壁部８１０は４つの湾曲壁８１０ａ，８１０ｂ，８１０ｃ，８１０ｄを有しており、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄは、それぞれ矩形状の板部材を湾曲させた形状を有している。また、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄのそれぞれは、短手側端部の連結部８１１において隣接する湾曲壁と連結され、波形状の長尺部材である左壁部８１０として一体形成されている。

湾曲壁８１０ａ～８１０ｄの連結部８１１（連結部８１１ａ～８１１ｃ）は、対向する右波形側壁８２に向かって突出する曲面形状を有している。つまり、連結部８１１は、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄとは逆方向に湾曲している。また、連結部８１１の曲面形状の曲率半径は、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄの内面の曲率半径よりも小さく形成されている。さらに、左波形側壁８１において複数の連結部８１１は、突起群１０７を構成する突起構造間の間隙に配置されて右波形側壁８２に向かって突出している。これにより、左波形側壁８１の左壁部８１０は、上面視において円弧を連ねた波形状に形成される（図８参照）。

具体的には、左波形側壁８１の左壁部８１０において、湾曲壁８１０ａ，８１０ｂの連結部８１１ａは、ボス７０ａ，７０ｂ間の間隙において右波形側壁８２に向かって突出している。また、左壁部８１０において湾曲壁８１０ｂ，８１０ｃの連結部８１１ｂは、ボス７０ｂ，７０ｃ間の間隙において右波形側壁８２に向かって突出し、湾曲壁８１０ｃ，８１０ｄの連結部８１１ｃは、ボス７０ｃおよび振分台７１０間の間隙において右波形側壁８２に向かって突出している。

このように左波形側壁８１は、左壁部８１０において突起群１０７間の間隙に突出して配置される連結部８１１を有し、連結部８１１において右波形側壁８２と距離が近づくように形成されている。これにより、左波形側壁８１は、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄの内面に沿って左ルートを流下した遊技球を、上流領域７ａの中央方向、つまり突起群１０７が配置されている方向に導くことができる。したがって、遊技球は上流領域７ａの左ルートの流下中に突起群１０７のそれぞれ（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０のそれぞれ）に接触し易くなる。さらに、遊技球は突起群１０７のそれぞれに接触することで、上流領域７ａ内の左ルートから右ルートに進入する場合がある。つまり、左波形側壁８１はルート振分ユニット７内において遊技球の流下経路の振り分けに係る構成の一つであり、ルート振分ユニット７は左波形側壁８１によって遊技球の流下経路が左ルートに偏ることを防止して流下経路に多様性を持たせつつ、遊技球の流下速度を減速させることができる。

また図９に示すように、本例では左壁部８１０の４つの湾曲壁８１０ａ～８１０ｄのうち、振分台７１０と対向する位置に設けられた湾曲壁８１０ｄは、湾曲壁８１ａ～８１０ｃと比べて長手方向に延伸して形成されている。また、湾曲壁８１０ｄは下流方向に向かって他の湾曲壁８１０ａ～８１０ｃよりも曲率半径が小さくなり、やや鋭角的に右向きに屈曲している。さらに、湾曲壁８１ｄにおいて連結部８１１ｃの反対側の短手側端部は、３つの連結部８１１のそれぞれと比べて右波形側壁８２側に近付くように形成されている。これにより、左波形側壁８１は、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄで形成される左壁部８１０に沿って流下する遊技球を右波形側壁８２側、すなわち下流領域７ｂ（図８参照）の右縁部に配置された第１振分装置１９４方向に導くことができる。遊技球の流下経路の詳細については後述する。

次に、左波形側壁８１の基端部８３の構造について、図１１を用いて説明する。図１１は、図８に示すＢ－Ｂ線でルート振分ユニット７を切断した断面図であり、一対の波形側壁８の断面を上面視した図である。図１１には、ボス７０ｂおよびボス７０ｃも合わせて図示されている。図１１に示すように、本例においてボス７０と一対の波形側壁８とは前方への突出長さが同一に形成されている。なお、遊技機１００において、突起群１０７および一対の波形側壁８の突出長さは、遊技盤１０８と透過板１１０との幅よりも短ければよい。具体的には、突起群１０７および一対の波形側壁８の前面と透過板１１０との間に球噛みが生じない程度の隙間が設けられていればよい。

図１１に示すように、左波形側壁８１の基端部８３は、左波形側壁８１の内側（遊技球が流下する球通路側）においてベース部材１７の前面１７ａが隆起した左波形側壁８１の基端を含む領域である。つまり基端部８３は、左波形側壁８１において遊技盤１０８寄りの根元（基端）領域に相当する。基端部８３は、断面視において曲面状に形成された領域である。本例の左波形側壁８１において、左壁部８１０（本例では湾曲壁８１０ｂ）と基端部８３とはベース部材１７を隆起させて一体形成されている。左波形側壁８１における基端部８３の厚みは、左壁部８１０の近傍領域においては連接している左壁部８１０の厚みとほぼ同じであるが、基端側に向かって徐々に厚くなっている。

より詳細には、図１１に示すように、左波形側壁８１の基端部８３の表面には突起群１０７の基端部（基端部７３，７１４）と同様に、仰け反り曲面である曲面８３ａが形成されている。曲面８３ａは左波形側壁８１の内部方向に屈曲するように形成されている。これにより、左波形側壁８１の基端部８３は、基端側に向かって、すなわち曲面８３ａにそって徐々に厚みが増す末広がりの隆起構造に形成されている。つまり、基端部８３は遊技盤１０８の前面（ここでは、ベース部材１７の前面１７ａ）から隆起している。基端部８３の太さ（厚み）が基端側に向かって増すことにより、左波形側壁８１は上流領域７ａを流下（または落下）する遊技球の衝突による衝撃に対する耐久性が向上される。このため、本実施形態による遊技機１００は、左波形側壁８１が破損する（例えば、割れが生じる）おそれを低減することができる。

また、本実施形態による遊技機１００において、突起群１０７の基端部（基端部７３，７１４）と同様に、左波形側壁８１の基端部８３は、遊技球の半径（５．５ミリメートル）よりも大きい曲率半径（本例では、６ミリメートル）を有する曲面形状に形成されている。具体的には、基端部８３に形成された曲面８３ａは、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有している。これにより基端部８３は、遊技領域１１６（本例では第１遊技領域１１６ａ）を流下する遊技球と一点で接触可能となっている。このため、ルート振分ユニット７の上流領域７ａを流下する遊技球は、左波形側壁８１との衝突によって流下速度を減速しながらも、滞留することなく円滑に流下することができる。

左波形側壁８１の基端部８３は、遊技球と一点で接触可能に形成されている。つまり、基端部８３は、突起群１０７の基端部（基端部７３，７１４）と同様に、前述の広域接触面よりも小さい一の接触面で遊技球と接触（点接触）する。したがって、左波形側壁８１の基端部８３に接触した遊技球は、基端部８３の曲面８３ａ上において不安定な状態となる。図１１では図示を省略するが、ボス７０ｃの曲面７３ａ上と同様に、左波形側壁８１の曲面８３ａ上においても、曲面８３ａと遊技球（例えば図１０に示す遊技球Ｂ１）とが一の接触点で接触する。つまり本実施形態において、遊技球と左波形側壁８１の基端部８３とは２点以上の接触点で接触することはなく、また上述の広域接触面による面接触もしない。

また、左波形側壁８１において曲面８３ａの曲率半径が遊技球の半径よりも大きいことにより、曲面８３ａはボス７０ｃの曲面７３ａと同様に上述の逃がし作用を奏する。これにより、左波形側壁８１は、接触した遊技球の流下速度を減速しつつも、接触後の遊技球を円滑に流下させることができる。

また、左波形側壁８１の基端部８３はボス７０ｃと同様に、上述の逃がし作用により遊技球との球噛みの発生を防止することができる。具体的には、左波形側壁８１の基端部８３の曲面８３ａは遊技球と一点で接触可能であり、先行の遊技球が左波形側壁８１の基端部８３において後続の遊技球と接触した際にも、基端部８３および後続の遊技球との間で３点以上の接触点が生じない。したがって、曲面８３ａにおける上述の逃がし作用によって、先行の遊技球は曲面８３ａに沿って前方に押し出され、左波形側壁８１の前面８１２方向に逃がされる。このため、左波形側壁８１は、先行の遊技球が後続の遊技球と左波形側壁８１の基端部８３との間に挟まれて球噛みが発生することを防止することができる。

このように、本実施形態による遊技機１００において左波形側壁８１の基端部８３は、３つのボス７０の基端部７３および振分台７１０（突起群１０７）と同様に、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面状に形成され、遊技球と一点で接触可能な構成を有する。これにより、遊技機１００は、ルート振分ユニット７内において球噛みの発生を抑制し、遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さを向上させて、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

また、左波形側壁８１において、基端部８３と連設された左壁部８１０の内面側も、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄの湾曲形状に沿って、遊技球の半径より大きい曲率半径の曲面を有している。つまり、湾曲壁８１０ａ～８１０ｄの内面も遊技球と一点で接触可能な構成である。したがって、左波形側壁８１は、右波形側壁８２と対向する対向面である内面全体が遊技球と一点で接触可能であり、突起群１０７（ボス７０、振分台７１０）に向かって遊技球が流下するように沿わし得るガイド面として構成されている。これにより、遊技機１００は、ルート振分ユニット７内において球噛みの発生をより確実に抑制し、遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さをさらに向上させることができる。

また、左波形側壁８１において根元領域に相当する基端部８３の曲面８３ａの曲率半径が遊技球の半径よりも大きく形成されていることで、上流領域７ａを流下している遊技球は、左波形側壁８１の左壁部８１０に衝突する際にまず基端部８３側に導かれる。そして、基端部８３に接触して流下速度が減速された遊技球は、減速状態で左壁部８１０上を転動する。このように左波形側壁８１は、３つのボス７０の基端部７３および振分台７１０（突起群１０７）と同様に、遊技球が直接に左壁部８１０に衝突する頻度を低減させることで、左壁部８１０に対する衝撃を緩和して左波形側壁８１の耐久性を向上させることができる。つまり、本実施形態による遊技機１００は、左波形側壁８１を突起群１０７の基端部（基端部７３，７１４）と同様の構成とすることにより、球噛みを防止して球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さの向上しつつ、左波形側壁８１の耐久性を向上させることができ、ひいては遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

次に、ルート振分ユニット７の上流領域７ａにおける一対の波形側壁８のうち、右波形側壁８２の構成について説明する。
図８に示すように、右波形側壁８２は、ルート振分ユニット７の右側部を構成する壁部であって、球通路を形成する上流領域７ａ内の中央に配置された突起群１０７の右側に位置している。右波形側壁８２は、上流領域７ａ内における遊技球の流下経路（ルート）のうち、突起群１０７の右側を流下する右ルートを区画している。詳しくは後述するが、右波形側壁８２は、突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）との間に少なくとも一の遊技球の直径（１１ミリメートル）よりも広い間隙が設けられている。このため、本実施形態による遊技機１００において遊技球は、遊技球１個分より広い空間を有する右ルートを円滑に流下することができる。上流領域７ａ内において、上述の左波形側壁８１と右波形側壁８２とで突起群１０７の左右を区画することで、遊技球が流下可能な球通路が形成される。

また、右波形側壁８２は、突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）のそれぞれの間に設けられた間隙において左波形側壁８１と距離が近づき、突起群１０７の配置領域において左波形側壁８１と距離が遠退くような波形状に形成されている。これにより、右波形側壁８２は、上流領域７ａの右ルートを流下する遊技球を突起群１０７のそれぞれ（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０のそれぞれ）に接触させ易くなっており、遊技球を適度に減速させつつ、流下経路に多様性を持たせることができる。

具体的には、図９に示すように右波形側壁８２は、左波形側壁８１とほぼ同様の波形状を有しており、ベース部材１７を前方に隆起させて形成された板状の右壁部８２０と、平坦面である前面８２２と、ベース部材１７の前面１７ａが隆起した右波形側壁８２の基端から右壁部８２０に繋がる基端部８４とを有している。

右波形側壁８２の右壁部８２０は、左波形側壁８１の左壁部８１０と同様に、突起群１０７とは逆方向に湾曲する曲面を有する複数（本例では４つ）の湾曲壁を連ねた波形状に形成されている。具体的には、右壁部８２０は４つの湾曲壁８２０ａ，８２０ｂ，８２０ｃ，８２０ｄを有しており、湾曲壁８２０ａ～８２０ｄは、それぞれ矩形状の板部材を湾曲させた形状を有している。ここで、右波形側壁８２には、湾曲壁８２０ｄの下流側にさらに下壁部８６が連結されている。右波形側壁８２の下壁部８６は、屈曲部８６ａにおいて矩形状の板部材を下向きに屈曲したＬ字型部材である。湾曲壁８２０ａ～８２０ｄのそれぞれおよび下壁部８６は、短手側端部の連結部８２１において隣接する湾曲壁と連結され、波形状の長尺部材である右壁部８２０として一体形成されている。

湾曲壁８２０ａ～８２０ｄおよび下壁部８６の連結部８２１（連結部８２１ａ～８２１ｄ）は、対向する右波形側壁８２に向かって突出する曲面形状を有している。つまり、連結部８１１は、湾曲壁８２０ａ～８２０ｄとは逆方向に湾曲している。また、連結部８２１の曲面形状の曲率半径は、湾曲壁８２０ａ～８２０ｄの内面の曲率半径よりも小さく形成されている。さらに、右波形側壁８２において複数の連結部８１１は、突起群１０７を構成する突起構造間の間隙に配置されて左波形側壁８１に向かって突出している。これにより、右波形側壁８２の右壁部８２０は、上面視において円弧を連ねた波形状に形成される（図８参照）。

具体的には、右波形側壁８２の右壁部８２０において、湾曲壁８２０ａ，８２０ｂの連結部８２１ａは、ボス７０ａの上側において左波形側壁８１に向かって突出している。また、湾曲壁８２０ｂ，８２０ｃの連結部８２１ｂはボス７０ａ，７０ｂ間の間隙において左波形側壁８１に向かって突出している。また、右壁部８２０において湾曲壁８２０ｃ，８２０ｄの連結部８２１ｃは、ボス７０ｂ，７０ｃ間の間隙において左波形側壁８１に向かって突出し、湾曲壁８２０ｄおよび下壁部８６の連結部８２１ｄは、ボス７０ｃおよび振分台７１０間の間隙において右波形側壁８２に向かって突出している。

このように右波形側壁８２は、右壁部８２０において突起群１０７間の間隙に突出して配置される連結部８２１を有し、連結部８２１において左波形側壁８１と距離が近づくように形成されている。これにより、右波形側壁８２は、湾曲壁８２０ａ～８２０ｄの内面に沿って右ルートを流下した遊技球を、上流領域７ａの中央部方向、つまり突起群１０７が配置されている方向に導くことができる。したがって、遊技球は上流領域７ａの右ルートの流下中に突起群１０７のそれぞれ（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０のそれぞれ）に接触し易くなる。さらに、遊技球は突起群１０７のそれぞれに接触することで、上流領域７ａ内の右ルートから左ルートに進入する場合がある。つまり、右波形側壁８２はルート振分ユニット７内において遊技球の流下経路の振り分けに係る構成の一つであり、ルート振分ユニット７は右波形側壁８２によって遊技球の流下経路が右ルートに偏ることを防止して流下経路に多様性を持たせつつ、遊技球の流下速度を減速させることができる。

また図９に示すように、本例では連結部８２１ｄの曲面形状の曲率半径は、他の連結部８２１ａ～８２１ｃのいずれよりも大きくなっている。このため、右壁部８２０は、湾曲壁８２０ａ～８２０ｄの内面に沿って流下した遊技球を、上流領域７ａの中央下方向へ導くことができる。これにより、遊技球は連結部８２１ｄを経てそのまま下方、つまり振分台７１０の上面７１２を転動して振分台７１０の右側へ流下するだけでなく、振分台７１０の傾斜面７１３上を転動して振分台７１０の左側、つまり左波形側壁８１の湾曲壁８１０ｄ上を流下する場合がある。このように、連結部８２１ｄを有する右波形側壁８２は、遊技球の流下経路により多様性を持たせることができる。

以上説明したように、右波形側壁８２において右壁部８２０は、左波形側壁８１の左壁部８１０とほぼ同様の構成を有している。一方で右波形側壁８２は、右壁部８２０の上部に右方向に屈曲した球受け台７９ａが設けられている点、および湾曲壁８２０ｄと連接した下壁部８６が設けられている点で左波形側壁８１と異なっており、遊技球の流下経路の多様性をより向上させることができる。

次に、右波形側壁８２の基端部８４の構造について、図１１を用いて説明する。図１１に示すように、右波形側壁８２の基端部８４は、右波形側壁８２の内側（遊技球が流下する球通路側）においてベース部材１７の前面１７ａが隆起した右波形側壁８２の基端を含む領域である。つまり基端部８４は、右波形側壁８２において遊技盤１０８寄りの根元（基端）領域に相当する。基端部８４は、断面視において曲面状に形成された領域である。図１１に示すように、基端部８４の構成は、左波形側壁８１の基端部８３と同一である。したがって、右波形側壁８２の基端部８４の構造についての詳しい説明は省略する。

右波形側壁８２の基端部８４は、左波形側壁８１の基端部８３と同一の構成を有し、表面には仰け反り曲面である曲面８４ａが形成されていることから、太さ（厚み）が基端側に向かって増す末広がりの隆起構造を有している。つまり、基端部８４は遊技盤１０８の前面（ここでは、ベース部材１７の前面１７ａ）から隆起している。したがって、右波形側壁８２は、左波形側壁８１の基端部８３と同様に上流領域７ａを流下（または落下）する遊技球の衝突による衝撃に対する耐久性が向上される。このため、本実施形態による遊技機１００は、右波形側壁８２が破損する（例えば、割れが生じる）おそれを低減することができる。

また、本実施形態による遊技機１００において、左波形側壁８１の基端部８３と同様に、右波形側壁８２の基端部８４は、遊技球の半径（５．５ミリメートル）よりも大きい曲率半径（本例では、６ミリメートル）を有する曲面形状に形成されている。具体的には、基端部８４に形成された曲面８４ａは、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有している。これにより基端部８４は、遊技領域１１６（本例では第１遊技領域１１６ａ）を流下する遊技球と一点で接触可能となっている。このため、ルート振分ユニット７の上流領域７ａを流下する遊技球は、右波形側壁８２との衝突によって流下速度を減速しながらも、滞留することなく円滑に流下することができる。

つまり、左波形側壁８１の基端部８３と同様に、右波形側壁８２の曲面８４ａ上においても、曲面８４ａと遊技球とが一の接触点で接触する。これにより、右波形側壁８２の基端部８４は、遊技球と一点で接触可能に形成されている。また、遊技球の半径よりも大きい曲率半径に形成された曲面８４ａは、左波形側壁８１の曲面８３ａと同様に、上述の逃がし作用を奏する。これにより、右波形側壁８２は、接触した遊技球の流下速度を減速しつつも、接触後の遊技球を円滑に流下させることができる。

また、右波形側壁８２の基端部８４が遊技球と一点で接触可能であるため、先行の遊技球と後続の遊技球とが基端部８４において接触した際にも、基端部８４および後続の遊技球との間で３点以上の接触点が生じない。さらに、基端部８４の曲面８４ａ上において上述の逃がし作用が生じることで、先行の遊技球は曲面８４ａに沿って前方に押し出され、右波形側壁８２の前面８２２方向に逃がされる。このため、右波形側壁８２は、先行の遊技球が後続の遊技球と左波形側壁８１の基端部８３との間に挟まれることによる球噛みの発生を防止することができる。

このように、本実施形態による遊技機１００において右波形側壁８２の基端部８４は、左波形側壁８１の基端部８３と同様に、曲率半径が遊技球の半径よりも大きい曲面形状を有し遊技球と一点で接触可能な構成を有する。これにより、遊技機１００は、ルート振分ユニット７内において球噛みの発生を抑制し、遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さを向上させて、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

また、右波形側壁８２において、基端部８４と連設された右壁部８２０の内面側も、左波形側壁８１と同様に、遊技球の半径より大きい曲率半径の曲面を有している。つまり、湾曲壁８２０ａ～８２０ｄの内面も遊技球と一点で接触可能な構成である。したがって、右波形側壁８２は、左波形側壁８１と対向する対向面である内面全体が遊技球と一点で接触可能であり、突起群１０７（ボス７０、振分台７１０）に向かって遊技球が流下するように沿わし得るガイド面として構成されている。これにより、遊技機１００は、ルート振分ユニット７内において球噛みの発生をより確実に抑制し、遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さをさらに向上させることができる。

また、右波形側壁８２において基端部８４の曲面８４ａの曲率半径が遊技球の半径よりも大きく形成されていることで、上流領域７ａを流下している遊技球は、右波形側壁８２の右壁部８２０に衝突する際にまず基端部８４側に導かれる。これにより、右波形側壁８２は右壁部８２０に対する衝撃を緩和して、右波形側壁８２の耐久性を向上させることができる。つまり、本実施形態による遊技機１００は、右波形側壁８２の基端部８４を、左波形側壁８１の基端部８３と同様の構成とすることにより、球噛みを防止して球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さの向上しつつ、右波形側壁８２の耐久性を向上させることができ、ひいては遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

以上、ルート振分ユニット７に設けられた一対の波形側壁８の構成について説明した。上述のように、本実施形態による遊技機１００において、一対の波形側壁８の基端部（基端部８３，８４）は、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面状に形成され、遊技領域を流下する遊技球と一点で接触可能に構成されている。これにより、遊技機１００は、球噛みを防止して遊技球が球通路（本例では、ルート振分ユニット７内）を流下する際の円滑さを向上させ、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

より具体的には、一対の波形側壁８において基端部（基端部８３，８４）には、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面（曲面８３ａ，８４ａ）が形成されている。これにより、遊技機１００は、球通路を流下する際の円滑さの向上しつつ、一対の波形側壁８の耐久性を向上させることができる。

また、本発明において、突起群１０７を挟んでルート振分ユニット７内に球通路を形成する一対の側壁は、波形状に形成された波形側壁８（左波形側壁８１、右波形側壁８２）に限られない。ルート振分ユニット７においてベース部材１７（遊技盤１０８側）から前方に突出し、左右から突起群１０７（ボス７０、振分台７１０）を挟んで対向する一対の側壁のそれぞれは、遊技球と一点で接触可能な内面（対向面）を有していればよい。また、当該対向面は、接触した遊技球を当該対向面に沿うように流下させ、突起群１０７に向かって遊技球を導くガイド面として構成されていればよい。

このように、本実施形態による遊技機１００において、ルート振分ユニット７内の上流領域７ａを流下する遊技球が接触可能であって、遊技球の流下経路の振分に係る構成に相当する突起群１０７および一対の波形側壁８は、いずれも遊技領域を流下する遊技球と一点で接触可能な基端部（基端部７３，７１４，８３，８４）を有する。これにより遊技機１００は、球通路（本例では、ルート振分ユニット７）内においてより確実に球噛みを防止し、遊技球が流下する際の円滑さを向上させ、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。
また、本実施形態による遊技機１００においてルート振分ユニット７内の上流領域７ａには釘や風車（不図示）が設けられていないものの、突起群１０７および一対の波形側壁８との接触により遊技球を不規則に転動させ、流下経路に多様性を持たせることができる。

（ルート振分ユニット内における遊技球の流下経路の一例）
ここで、図１２を用いてルート振分ユニット７の上流領域７ａ内における遊技球の流下経路の一例を説明する。
遊技者による操作ハンドル１１２（図２参照）の回転操作によって第１遊技領域１１６ａに放出された遊技球（ここでは、遊技球Ｂ３）は、例えば遊技盤１０８においてルート振分ユニット７よりも上部に設けられた釘（不図示）に接触した後、左下向きに傾斜した球受け第７９ａ上を転動し、上流領域７ａ内に進入する。上流領域７ａ内に進入した遊技球Ｂ３は、例えば右波形側壁８２の基端部８４に接触した後、湾曲壁８２０ａ沿って転動し、ボス７０ａの上部方向に突出した連結部８２１ａに接触する。連結部８２１ａに接触した遊技球Ｂ３は、左波形側壁８１の方向に跳ねてボス７０ａの基端部７３に衝突する。これにより遊技球Ｂ３は左波形側壁８１方向へ転動し、左波形側壁８１の基端部８３に接触した後、湾曲壁８１０ａに沿って、左波形側壁８１とボス７０ｃとの間のルート、つまり上流領域７ａ内の左ルートを流下する。

上述のようにボス７０（ボスａ，７０ｂ，７０ｃ）の基端部７３は、遊技盤１０８の前面（ここではベース部材１７の前面１７ａ）から隆起した末広がりの仰け反り曲面（本例では曲面７３ａ）を有する隆起構造である。このため、波形側壁８（左波形側壁８１、右波形側壁８２）の何れかに接触してボス７０の基端部７３に衝突する遊技球（跳ね球）は、基端部７３の始端領域（先端部７２寄り）、中央領域、終端領域（遊技盤１０８の前面寄り）のいずれの領域においても、基端部７３と一点のみでの衝突となる。

本実施形態では、上流領域７ａ内の左ルートの幅（左波形側壁８１の内面と突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０のそれぞれ）の外周面との間隙）は、少なくとも遊技球の直径（１１ミリメートル）よりも広く形成されている。本例では、左ルートの幅は１３ミリメートル以上である。このため、遊技球（本例では遊技球Ｂ３）は、上流領域７ａ内の左ルートを円滑に流下可能である。

さらに、本例において左ルートに進入した遊技球Ｂ３は、湾曲壁８１０ａに沿って左ルートを流下してボス７０ａ，７０ｂ間の間隙に向かって突出する連結部８１１ａに接触する。連結部８１１ａに接触した遊技球Ｂ３は、右波形側壁８２の方向に跳ねてボス７０ｂの基端部７３に衝突する。ボス７０ｂに衝突した遊技球Ｂ３は、例えばボス７０ａとボス７０ｂとの間隙を通過して左ルートから右ルート（右波形側壁８２と突起群１０７との間の流下経路）に進入する。本実施形態では、複数（本例では３つ）のボス７０それぞれは、少なくとも遊技球の直径よりも離間して配置されている。したがって、遊技球は、２つのボス７０の間隙（本例では、ボス７０ａ，７０ｂの間隙）を円滑に通過可能である。なお、左ルート側からボス７０ｂに接触した遊技球は、反動によって左ルートに跳ね返り右ルート側に転動しない場合もある。

本例において、左ルートから右ルートに進入した遊技球Ｂ３は、右波形側壁８２の湾曲壁８２０ｃに沿って右ルートを流下してボス７０ｂ，７０ｃ間の間隙に向かって突出する連結部８２１ｃに接触する。連結部８２１ｃに接触した遊技球Ｂ３は、左波形側壁８１の方向に跳ねてボス７０ｃの基端部７３に衝突しながらボス７０ｂとボス７０ｂｃの間隙を通過して右ルートから再度左ルートに進入する。なお、右ルート側からボス７０ｃに接触した遊技球は、反動によって右ルートに跳ね返り左ルート側に転動しない場合もある。

左ルートに戻った遊技球Ｂ３は、左波形側壁８１の基端部８３に接触した後、湾曲壁８１０ｃに沿って左ルートを流下し、ボス７０ｃと振分台７１０との間隙に向かって突出した連結部８１１ｃにおいて右波形側壁８２の方向に導かれる。ここで、ボス７０ｃと振分台７１０との間隙は、上述のように少なくとも遊技球２個分（遊技球の直径の２倍）の広さに形成されている。したがって、本例において左ルートと右ルートとを行き来する中での流下速度が減速された遊技球Ｂ３は右ルートまでは到達せずに下流側へ落下して振分台７１０の基端部７１４に接触した後、傾斜面７１３上を転動して再度左ルートに導かれる。なお、連結部８１１ｃとの接触後に下流方向に落下した遊技球は、振分台７１０の上面７１２上に到達して右ルートに進入する場合もある。また、連結部８１１ｃに到達した際の遊技球の流下速度によっては、遊技球は連結部８１１ｃとの接触によって右波形側壁８２方向に跳ねて直接右ルートに到達する場合もある。

本例において、振分台７１０の傾斜面７１３を転動して再び左ルートに戻った遊技球Ｂ３は、左波形側壁８１の基端部８３に接触した後、湾曲壁８１０ａ～８１０ｃよりも下流方向に大きく延伸し右方向に屈曲する湾曲壁８１０ｄに沿って左ルートを加速しながら流下する。これにより、遊技球Ｂ３は、振分台７１０の下方を右方向に向かって流下して下流領域７ｂ（図８参照）の第１振分装置１９４方向に導かれる。なお、振分台７１０から下流領域７ｂにかけての流下経路の詳細については後述する。

図１２に一例を示したように、ルート振分ユニット７の上流領域７ａを流下する遊技球は、一対の波形側壁８と突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）に接触し、左ルートと右ルートとを行き来しながら流下する。これにより、遊技機１００は、ルート振分ユニット７における遊技球の流下経路に多様性を持たせることができる。つまり、一対の波形側壁８と突起群１０７は、遊技球の流下経路の振分けに係る構成（振分手段）に相当する。より詳細には、ルート振分ユニット７は、複数のボス７０（ボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃ）を左右から挟む一対の波形側壁８（左波形側壁８１および右波形側壁８２）を波形状とし、一対の波形側壁８のいずれかに接触した遊技球が各ボス７０方向に流下させて基端部７３に絡み易く構成されている。これにより遊技球は、例えばボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃの基端部７３に順次衝突して蛇行しながら上流領域７ａを流下する。これにより、ルート振分ユニット７を備える遊技機１００は、遊技球の流下態様が単調になることを防止し、遊技者が遊技に飽きてしまうことを抑制することができる。

また、上流領域７ａにおいて遊技球は、一対の波形側壁８と突起群１０７に衝突することで、流下速度の加速が低減され、適度に減速された状態で上流領域７ａ内を流下する。これにより、遊技機１００は遊技球が突起群１０７や一対の波形側壁８に衝突する際の衝撃を低減して、ルート振分ユニット７における樹脂性構造物の破損（例えば、割れや折れ）の恐れを低減することができる。また、上流領域７ａ内において遊技球が適度に減速されることで、多様な流下経路をたどる遊技球の視認性が向上し、遊技者を遊技球の動きに注目させることができる。また上流領域７ａ内において、遊技球が多様な流下経路に振り分けられることで、流下経路の選択による遊技の展開（例えば、第１始動口１２０への進入し易さ）が変化するかのような期待感を遊技者に与え、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

また上述したように、上流領域７ａにおいて突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）および一対の波形側壁８（左波形側壁８１、右波形側壁８２）は、遊技球と一点で接触可能な基端部（基端部７３，７１４，８３，８４）を有している。このため、複数の遊技球が上流領域７ａにおいて左ルートと右ルートとを行き来する場合にも球噛みや遊技球の過度の減速が生じることなく、遊技球が円滑に上流領域７ａ内を流下することができるとともにさらに突起群１０７の各突起構造や一対の波形側壁８の耐久性を向上することができる。したがって、本実施形態による遊技機１００は、遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

なお、図１２に示す遊技球Ｂ３の流下経路は一例であって、上流領域７ａ内での遊技球の流下経路はこれに限られない。上流領域７ａ内を流下する遊技球が最初に進入するルートは左ルートでなく右ルートである場合もある。また上述のように、上流領域７ａ内を流下する遊技球は、一対の波形側壁８の連結部８１１（８１１ａ～８１１ｃ），８２１（８２１ａ～８２１ｃ）の作用によって、対向する波形側壁の方向に導かれる。これにより、遊技球はボス７０ａ～７０ｃに衝突して左ルートと右ルートとを行き来可能に構成されている。ただし、遊技球はボス７０ａ～７０ｃに衝突しても上流領域７ａ内に進入した際の一のルート（左ルートまたは右ルート）をそのまま流下する場合もある。つまり、一対の波形側壁８および突起群１０７（特にボス７０ａ～７０ｃ）は、遊技球の流下態様に不規則性を付与して、流下経路に多様性を持たせることができる。

次に、図８を参照しつつ図１３を用いて下流領域７ｂにおける遊技球の流下経路について説明する。
図１３（ａ）に示すように、下流領域７ｂはルート振分ユニット７の下部領域であって第１振分装置１９４を含んで構成される。なお図１３では理解を容易にするため、上流領域７ａの構成である振分台７１０も合わせて図示している。

図１３（ａ）に示すように、下流領域７ｂはベース部材１７の前面１７ａから前方に向かって隆起する複数（本例では４つ）の側壁９によって区画された球通路として形成されている。具体的には、下流領域７ｂには側壁９として左側壁９ａ、第一中央側壁９ｂ、第二中央側壁９ｃおよび右側壁９ｄが設けられている。左側壁９ａは、上流領域７ａの左波形側壁８１と一体的に連結されて、ルート振分ユニット７の左壁を形成している。また、右側壁９ｄは、上流領域７ａの右波形側壁８２と一体的に連結されて、ルート振分ユニット７の右壁を形成している。また、第一中央側壁９ｂと第二中央側壁９ｃとの間には第１振分装置１９４が配置されている。

また下流領域７ｂには遊技球の流下経路として複数（本例では２つ）の下流側経路９０が形成されている。本例では、下流側経路として左下流側経路９０ａおよび右下流側経路９０ｂが形成されている。左下流側経路９０ａは、左側壁９ａおよび第一中央側壁９ｂによって区画された流下経路であって、遊技球を第１遊技領域１１６ａの右下領域に設けられた４つの一般入賞口１１８（図３参照）または排出口１３０に導く流下経路である。左下流側経路９０ａは、第１振分装置１９４の開閉に関わらず進入可能な流下経路になっている。また左下流側経路９０ａには球受け台７９ｂ，７９ｃが設けられている。球受け台７９ｂは、第一中央側壁９ｂから左下流側経路９０ａに向かって突出して設けられており、上面が左下向きに傾斜した平坦面に形成されている。また、球受け台７９ｃは、球受け台７９ｂよりも下流側において左側壁９ａから左下流側経路９０ａに向かって突出して設けられており、上面が右下向きに傾斜した平坦面に形成されている。球受け台７９ｂ，７９ｃは、左下流側経路９０ａを流下する遊技球と接触可能に配置されており、球受け台７９ｂ，７９ｃに接触した遊技球の流下速度を適度に減速させることができる。

一方、右下流側経路９０ｂは、第二中央側壁９ｃおよび右側壁９ｄによって区画された流下経路であって、遊技球を球案内通路１９５に導いて第１始動口１２０への入球を可能とする流下経路である。本実施形態において、右下流側経路９０ｂは、第１振分装置１９４が開状態（図１３（ｂ）参照）の場合のみ進入可能な流下経路になっている。つまり、本実施形態において下流領域７ｂに進入した遊技球は、第１振分装置１９４の開閉によって下流側経路９０のうち左下流側経路９０ａまたは右下流側経路９０ｂのいずれかに振り分けられる。

まず、下流領域７ｂにおける遊技球の流下経路として第１振分装置１９４が閉状態の場合における流下経路の一例を説明する。
図１３（ａ）に示すように、第１振分装置１９４が閉状態の場合に、上流領域７ａに設けられた振分台７１０の上面７１２または傾斜面７１３上を経て遊技球Ｂ４が下流領域７ｂに進入したとする。本例では、閉状態の第１振分装置１９４によって左下流側経路９０ａが閉鎖されていることで、遊技球Ｂ４は右下流側経路９０ｂへの進入は不可能となっている。具体的には、本例において羽部材として形成されている第１振分装置１９４は、閉状態において先端を上方に向けて起立した状態であり、第１振分装置１９４と右側壁９ｄとの間には遊技球が通過可能な間隙が設けられていない。つまり、閉状態の第１振分装置１９４と右側壁９ｄとの間隙は遊技球の直径（１１ミリメートル）未満である。したがって、遊技球Ｂ４は左波形側壁８１の湾曲壁８１０ｄの作用によって第１振分装置１９４側に導かれても、実質的には右下流側経路９０ｂに進入できず、左下流側経路９０ａを流下して一般入賞口１１８（図３参照）に入球するか、または排出口１３０から排出される。つまり、本実施形態において、第１振分装置１９４が閉状態の場合、下流領域７ｂにおける遊技球の流下経路は一通り（左下流側経路９０ａのみ）となる。

次に、下流領域７ｂにおける遊技球の流下経路として第１振分装置１９４が開状態の場合における流下経路の一例を説明する。
図１３（ｂ）に示すように、第１振分装置１９４が開状態の場合に、上流領域７ａに設けられた振分台７１０の上面７１２または傾斜面７１３上を経て遊技球Ｂ５が下流領域７ｂに進入したとする。このとき、第１振分装置１９４が左下流側経路９０ａを開放していることで遊技球Ｂ５の右下流側経路９０ｂへの進入が可能となっている。具体的には、本例において羽部材として形成されている第１振分装置１９４は、開状態において先端を左側壁９ａに近付けるように回転し、遊技球Ｂ５を右下流側経路９０ｂに導く受け皿として機能し、遊技球Ｂ５の右下流側経路９０ｂへの進入が容易となる。なお、図１３（ｂ）では完全に開状態の第１振分装置１９４を図示している。第１振分装置１９４上を転動して右下流側経路９０ｂへ進入した遊技球Ｂ５は、第１振分検出スイッチ１９４ｓによって検出された後、球案内通路１９５（図３参照）に進入する。球案内通路１９５に進入した遊技球Ｂは、上述のように第２振分装置１９９によって振り分けられ、所定確率で第１始動口１２０に入球する。

また図１３（ｂ）に示すように、第１振分装置１９４が開状態の場合、遊技球Ｂ５は右下流側経路９０ｂに進入する場合もある。具体的には、開状態の第１振分装置１９４の先端と左側壁９ａとの間には遊技球の直径（１１ミリメートル）と同等程度の間隙が設けられる。したがって、遊技球Ｂ５は当該間隙を通過して右下流側経路９０ｂにも進入可能である。つまり、第１振分装置１９４が開状態の場合、下流領域７ｂにおける遊技球の流下経路は複数（本例では左下流側経路９０ａまたは右下流側経路９０ｂの２種類）存在する。

このように、本実施形態においてルート振分ユニット７の下流領域７ｂは、第１振分装置１９４の開閉によって遊技球の流下経路が振り分けられる構成となっている。また、本実施形態による遊技機１００において、第１振分装置１９４は予め定められた所定間隔で開閉するように主制御基板３００のメインＣＰＵ３００ａによって制御されている。また、第２振分装置１９９も第１振分装置１９４と同様に開閉間隔が主制御基板３００のメインＣＰＵ３００ａによって制御されている。したがって、遊技機１００は、例えば第１振分装置１９４を不正に操作し、第１始動口１２０へ入球可能な右下流側経路９０ｂへの遊技球の進入容易性を低減させることはできない。また、第２振分装置１９９も第１振分装置１９４と同様に開閉間隔を不正に操作して予め定められた第１始動口１２０への入球容易性を低減させることはできない。

このように、ルート振分ユニット７の下流領域７ｂが、主制御基板３００に制御された第１振分装置１９４の開閉によって遊技球の流下経路が振り分けられる構成を有することで、遊技機１００は遊技の公平性を向上させて遊技者の利益が損なわれることを防止し、ひいては遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。さらに第１始動口１２０への進入可否も主制御基板３００に制御された第２振分装置１９９によって振り分けられることで、遊技機１００はより遊技の公平性をより向上させることができる。

さらに、遊技機１００は、例えば第１振分検出スイッチ１９４ｓによって検出された遊技球数、つまり右下流側経路９０ｂへ進入した遊技球数が規定の個数を超過している場合、または既定の個数未満である場合に、第１振分装置１９４の開閉に異常が生じているとしてエラー処理を実行してもよい。具体的には、主制御基板３００のメインＣＰＵ３００ａは、第１振分検出スイッチ１９４ｓから入力された検出信号を一定期間計測し、当該一定期間において計測数が規定数を超過した場合には、副制御基板３３０にエラー信号を出力して演出装置（演出表示装置２００、音声出力装置２０６、演出照明装置（不図示）等）を用いてエラー報知を行ってもよい。または、メインＣＰＵ３００ａは、エラーを示す外部情報信号をホールコンピュータに出力することでエラー報知を行ってもよい。

また、第１振分装置１９４が開状態の場合に遊技球が右下流側経路９０ｂへ進入するか否かは、振分台７１０による遊技球の振分けにも関連している。
例えば、振分台７１０の傾斜面７１３によって左ルートに導かれた遊技球は、左波形側壁８１の湾曲壁８１０ｄの作用によって右下方向、つまり第１振分装置１９４方向に適度に加速された状態で流下する。このため、左ルートに導かれた当該遊技球は、第１振分装置１９４が閉状態から開状態への遷移中であっても、第１振分装置１９４の先端と右側壁９ｄとの間隙から右下流側経路９０ｂへ進入することが可能となる。一方、振分台７１０の上面７１２によって右ルートに導かれた遊技球は右波形側壁８２の下壁部８６と接触した場合にやや左方向に転動する。このため、右ルートに導かれた当該遊技球は、左ルートに導かれた遊技球と比べて、第１振分装置１９４が閉状態から開状態への遷移中には右下流側経路９０ｂへ進入しにくい場合がある。ここで、本実施形態において振分台７１０は、上述のように流下経路のばらつきを収束させ、振分台７１０上を転動する遊技球を左右のいずれかのルートに振り分ける割合を調整することができる。したがって遊技機１００は、上流領域７ａにおける遊技球の流下経路によって右下流側経路９０ｂへの進入確率が偏ることを防止し、遊技の公平性を向上することができる。

また、下流領域７ｂには釘や風車（不図示）は設けられていない。つまり、本実施形態による遊技機１００においてルート振分ユニット７は、釘や風車を用いずに突起群１０７および第１振分装置１９４によって遊技球の流下速度を適度に減速させ、かつ遊技球の流下経路に多様性を持たせることができる。
また、本実施形態による遊技機１００は、遊技球を流下可能とする遊技領域１１６（本例では第１遊技領域１１６ａ）を形成する遊技盤１０８と、遊技領域１１６において遊技盤１０８の前方に突起する突起群１０７（ボス７０ａ～７０ｃおよび振分台７１０）のそれぞれ（突起部の一例）と、を備え、突起群１０７のそれぞれは、遊技領域１１６を流下する遊技球と一点で接触可能な基端部（基端部７３，７１４）を有する。これにより遊技機１００は、意図しない球通路内での遊技球の滞留（例えば球噛み）を防止して、遊技球が球通路（本例ではルート振分ユニット７）を流下する際の円滑さを向上させ、ひいては遊技者の遊技に対する興趣の向上を図ることができる。

（変形例）

上記実施形態において、ボス７０（ボス７０ａ，７０ｂ，７０ｃ）は、円筒形状を有するとしたが、本発明はこれに限られない。ボス７０は、多角形状の屋根（前面７１に相当）を有する柱体（角柱）形状であってもよい。この場合も、基端部７３は、末広がりの仰け反り曲面を有する隆起構造として形成されていればよい。例えば基端部７３は、角柱形状のボス７０において根元側に形成され、角柱の根元側の側面に遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面形状が形成されていればよい。またこの場合、基端部７３において、角柱の側面同士の交線（側稜）も遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲線形状であればよい。これにより、ボス７０が角柱形状であっても基端部７３は、遊技球と一点接触可能に構成される。また、ボス７０が角柱形状である場合、側稜部分に曲面状の面取り加工（Ｒ面取り加工）を施してもよい。

また、上記実施形態において、ボス７０の先端部７２は所定の長さ（図１０に示す前面７１１から補強部７４の背面７４ｂまでの長さ）を有しているとしたが、本発明はこれに限られない。例えば、先端部７２は上記実施形態に示すよりも短く形成されていてもよい。例えば、先端部７２は、ボス穴７２ａ（図１０参照）の半分程度までの長さであってもよく、その分、ボス７０において基端部７３に相当する領域が大きくなっていてもよい。またボス７０は、前面７１１の端部から曲面７３ａが連接されていてもよい。つまり、ボス７０は先端部７２を有さず、前面７１１と曲面７３ａを有する基端部７３とで構成されていてもよい。

また、上記実施形態においてルート振分ユニット７の上流領域７ａに設けられたボス７０の個数は３つとしたが、本発明はこれに限られない。複数のボス７０はルート振分ユニット７の上流領域７ａにおいて少なくとも遊技球１個分より広い間隙を設けて配置されていればよく、上流領域７ａの広さによっては４つ以上であってもよいし、３つ未満であってもよい。また、上記実施形態において振分台７１０の個数は１つとしたが、発明はこれに限られない。振分台７１０は上流領域７ａにおいて遊技球２個分以上の間隙を設けて配置されていればよく、上流領域７ａの広さによっては２つ以上であってもよい。また、一対の波形側壁８の湾曲壁（湾曲壁８１０ａ～８１０ｄ，８２０ａ～８２０ｄ）は複数のボス７０および振分台７１０の個数に応じて配置され、各ボス７０および振分台７１０間において連結部（連結部８１１，８２１）が設けられていればよい。

また、上記実施形態において、複数のボス７０は同一の形状を有するとしたが、本発明はこれに限られない。複数のボス７０は基端部７３が遊技球と一点接触可能な構成であればよく、複数のボス７０に形状の異なるボスが含まれていてもよい。

また、上記実施形態において、突起群１０７および一対の波形側壁８はルート振分ユニット７のベース部材１７を隆起して設けられ、ベース部材１７と一体形成されているとしたが、本発明はこれに限られない。例えば、突起群１０７および一対の波形側壁８はベース部材１７と独立した構成であってもよい。この場合、ルート振分ユニット７において各部材ごとに老朽化等に伴う交換が可能となり、ルート振分ユニット７の全体を交換する場合に比べてコストを低減することができる。この場合、突起群１０７および一対の波形側壁８は、例えばベース部材１７とねじ止めによって固定されてもよいし、別の固定部材によって取り付けられていてもよい。

また、上記実施形態においては、遊技の進行を制御する主制御基板３００と、主制御基板３００から送信されるコマンドに基づいて演出を実行制御する副制御基板３３０とにおいて、上記のとおりに協働することで変動演出が実行されることとした。しかしながら、主制御基板３００および副制御基板３３０において、上記の各機能をどのように分担するかは適宜設計することが可能である。

また、上記実施形態では、大当たりの当選確率を異にする２つの遊技状態と、第２始動口１２２への遊技球の入球容易性を異にする２つの遊技状態とを組み合わせた４つの遊技状態が設けられているが、遊技状態の内容や種類はこれに限定されるものではない。

また、上記実施形態では、第１始動口１２０および第２始動口１２２の２つの始動口を設ける場合について説明したが、始動口は１つでもよいし、３つ以上でもよい。なお、第２始動口１２２が閉状態にあるときには、当該第２始動口１２２に遊技球が入球不可能となるように構成したが、第２始動口１２２が閉状態にあるときにも、一定の頻度で遊技球が入球することとしてもよい。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

１００ 遊技機
３００ 主制御基板
３００ａ メインＣＰＵ
３００ｂ メインＲＯＭ
３００ｃ メインＲＡＭ
３３０ 副制御基板
３３０ａ サブＣＰＵ
３３０ｂ サブＲＯＭ
３３０ｃ サブＲＡＭ
７ ルート振分ユニット
７ａ 上流領域
７ｂ 下流領域
８ 波形側壁
１７ ベース部材
７０、７０ａ、７０ｂ、７０ｂ、７０ｃ ボス
７３、８３、８４、７１４ 基端部
８１ 左波形側壁
８２ 右波形側壁
７１０ 振分台

Claims (1)

1. 遊技球を流下可能とする遊技領域を形成する遊技盤と、
   前記遊技領域を流下する遊技球と接触可能に突起する突起部と、
   を備え、
   前記遊技領域は、前記遊技盤と該遊技盤の前方に設けられた透過板との間に形成され、
   前記突起部は、遊技球の半径よりも大きい曲率半径を有する曲面状に形成され前記遊技
   盤の前面から前記突起部の先端に向かって隆起する基端部を有し、
   前記突起部が設けられた前記遊技盤の前方には前記透過板のみが配置されていること
   を特徴とする遊技機。

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