JP7302136B2 - 液晶オンシリコン2次元アレイ上の電圧を制御する方法および関連デバイス - Google Patents

液晶オンシリコン2次元アレイ上の電圧を制御する方法および関連デバイス Download PDF

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Description

本願は、2019年8月29日に中国特許庁に出願された「液晶オンシリコン2次元アレイ上の電圧を制御する方法および関連デバイス」と題する中国特許出願第201910809762.9号に基づく優先度を主張するものであり、当該特許出願はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
本願は、光通信分野、特に、液晶オンシリコン2次元アレイ上のジッタを低減する方法、液晶オンシリコン、波長選択スイッチ、およびROADMデバイスに関連する。
液晶オンシリコン(Liquid Crystal on Silicon,LCoS)に基づく光波長選択スイッチは、波長選択スイッチ(Wavelength Selective Switch,WSS)のコアコンポーネントのうちの1つであり、波長交差機能を実装し得る。この機能を実装するにあたって重要な段階は、LCoS液晶ディスプレイの2次元アレイを変調することである。LCoSは数百万の画素を含む。LCoSを変調する主な方法は、LCoSの異なる画素の位相を調整することであり、画素の位相は画素にロードされた電圧に依存する。LCoSがデジタル駆動モードで動作する場合、LCoSの駆動電圧の規則的なジッタは、液晶オンシリコンの画素の位相が時間と共にジッタするようにさせて、最後的にはリンクの光信号対ノイズ比(Optical Signal to Noise Ratio,OSNR)の劣化をもたらす。画素の位相ジッタを低減するべく、異なるビットシーケンスが選択されて、電圧切り替え速度を増加させてもよく、または、複数のビットシーケンスが波長方向において適用されてもよい。2つの隣接画素に適用された2つのビットシーケンスは、駆動電圧が反対の位相および等しい大きさを持つ周波数コンポーネントを有するようにして、その結果、ジッタがペア方式で低減させる。電圧切り替え速度が増加することと、波長方向における隣接画素に対して異なるビットシーケンスが使用されることとは、共に使用されてよい。しかしながら、ジッタを低減する上述の方式において、波長方向における画素のジッタは、同期されていない。したがって、同時にシステム内で発生する異なる波長のジッタは同期されておらず、不均一なフィルタスペクトルと、比較的に高いOSNRコストとをもたらす。
したがって、不均一なフィルタスペクトルを回避しつつ液晶オンシリコン2次元アレイの画素の位相ジッタをどのように低減するかが、解消すべき緊急の技術的問題である。
本願の実施形態は、液晶オンシリコン(LCoS)2次元アレイの電圧を制御する方法、液晶オンシリコン、波長選択スイッチ、およびROADMデバイスを提供して、LCoS2次元アレイの画素の位相ジッタを有効に低減すると共にフィルタスペクトルの均一性を保証し、それにより、光信号対雑音比の劣化を回避する。
上述の目的を実現するべく、本願の実装は、以下の技術的解決手段を使用する。
第1の態様によると、本願の実施形態は、液晶オンシリコン(LCoS)2次元アレイの電圧を制御する方法を提供する。LCoS2次元アレイは、複数の画素セットを含み、複数の画素セットは、第1の画素セットと第2の画素セットとを含み、方法は、複数のビットシーケンスを決定する段階であって、当該複数のビットシーケンスは第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとを含む、段階と;第1のビットシーケンスを使用して第1の画素セットの電圧を制御する段階と;第2のビットシーケンスを使用して第2の画素セットの電圧を制御する段階であって、第1の画素セットと第2の画素セットとはLCoS2次元アレイのポート方向において異なる位相サイクルにあり、第1の画素セットと第2の画素セットとは同じ位相を有し、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとのデューティ比は同じである、段階とを含む。
画素は電子的要素であり得、電子的要素は、パネル、電極層、および液晶層を含み得る。液晶層における液晶粒子に異なる電圧がロードされ、画素に対して異なる位相変調を実装する。ビットシーケンスは、電圧の正規化表示であり得る。例えば、ビットシーケンスにおける1は、高電圧がロードされたことを示し、0は、低電圧がロードされたことを示す。液晶粒子の実効電圧は、高電圧デューティ比と低電圧デューティ比とを使用して実装される。LCoS2次元アレイは、波長方向とポート方向とを含む。波長方向は、異なる波長の光スポットが、液晶オンシリコンの表面上に入射される場合に、異なる角度で散乱することを示す。ポート方向は、異なるポートにおいて特定の波長の光スポットの信号出力が異なる位相に基づいて実装される(または、光スポットが異なる回折角を有する)ことを示す。
位相サイクルは、ポート方向において画素の位相の2πステップ変化を有する繰り返しサイクルであり、各位相サイクルは、0から2πまでの範囲の複数の位相を含む。ポート方向における隣接画素の位相は通常は異なることに留意されたい。しかしながら、ポート方向における2つまたはそれより多くの隣接画素の位相は、実際の要件に基づいて同じであってもよく、これは、本発明の本実施形態において限定されるものではない。さらに、波長方向における隣接画素の位相は通常は同じであることに留意されたい。したがって、第1の画素セットと第2の画素セットとの各々は、幅(またはポート方向)において1つの画素(または複数の画素)と、長さ(または波長方向)において複数の画素とを有するセットであり得る。
デューティ比は、高電圧デューティ比と低電圧デューティ比とを含み、高電圧デューティ比は、総時間に対する高電圧ビットの持続期間の比であり、低電圧デューティ比は、総時間に対する低電圧ビットの持続期間の比である。実効電圧Vrmsは、アナログドライバのような固定値を直接提供することに代えて、低電圧デューティ比と高電圧デューティ比とを使用して、画素にロードされる必要があり、ここで高電圧デューティ比と低電圧デューティ比との和は1に等しいことに留意されたい。高電圧と低電圧とが決定されたことを前提として、高電圧(または低電圧)デューティ比が異なるとき、液晶粒子上にロードされた実効電圧は異なる。第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとのデューティ比が同じとき、第1の画素セットの実効電圧と第2の画素セットの実効電圧とは同じであって、さらに、第1の画素セットの位相と第2の画素セットの位相とも同じである。
可能な設計において、複数の画素セットは第3の画素セットと第4の画素セットとを含み、複数のビットシーケンスは第3のビットシーケンスを含み、方法は、第3のビットシーケンスを使用して第3の画素セットの電圧と第4の画素セットの電圧とを制御する段階であって、第3の画素セットおよび第4の画素セットは、LCoS2次元アレイの波長方向における隣接画素セットである、段階を含む。このように、波長方向における隣接画素は同じビットシーケンスを使用し、その結果、同時に発生する異なる波長のジッタは同期され、それによりフィルタスペクトルの均一性を保証する。
第3の画素セットと第4の画素セットとはポート方向において同じ位相サイクルにあり、第3の画素セットの位相と第4の画素セットの位相とは同じである。
第3の画素セットと第4の画素セットとは、第1の画素セットにおける画素サブセットであってもよく、または、第2の画素セットにおける画素サブセットであってもよいことに留意されたい。
可能な設計において、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとは1または複数の相補的なビットを有し、および/または、第1のビットシーケンスのビットの数量と第2のビットシーケンスのビットの数量とは異なる。
可能な設計において、第1の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、第2の画素セットは1または複数の画素を含む。
任意選択的に、第1の画素セットは1つの位相サイクルにおいて1または複数の画素を含むか、または、第1の画素セットは複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含み、第1の画素セットが複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含む場合、当該複数の画素は隣接しなくてよく;および/または、第2の画素セットは1つの位相サイクルにおいて1または複数の画素を含むか、または、第2の画素セットは複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含み、第2の画素セットが複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含む場合、当該複数の画素は隣接しなくてよい。
可能な設計において、第3の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、第4の画素セットは1または複数の画素を含む。
可能な設計において、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである。
可能な設計において、第3のビットシーケンスは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、第3のビットシーケンスはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである。
第2の態様によると、本発明の実施形態は液晶オンシリコンを提供する。液晶オンシリコンは、第1の態様の任意の可能な設計において提供される任意の方法を実装するように構成され得、当該液晶オンシリコンは、
液晶層であって、ここで当該液晶層は複数の画素セットを含み、当該複数の画素セットは第1の画素セットと第2の画素セットとを含む、液晶層と、
複数のビットシーケンスを決定するように構成された駆動回路であって、ここで当該複数のビットシーケンスは第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとを含み、さらに、第1のビットシーケンスを使用して第1の画素セットの電圧を制御することと、第2のビットシーケンスを使用して第2の画素セットの電圧を制御することとを行うように構成されており、ここで第1の画素セットと第2の画素セットとはLCoS2次元アレイのポート方向において異なる位相サイクルにあり、第1の画素セットと第2の画素セットとは同じ位相を有しており、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとのデューティ比は同じである、駆動回路と
を含む。
液晶オンシリコンは、位相変調効果を実現するように構成されており、液晶オンシリコンの表面に入射されるビームの回折および偏向方向を独立して制御し得る。
液晶オンシリコンはさらに、第1のパネル、第2のパネル、および配向膜を含み得る。第1のパネルはシリコンバックプレーンであり得、第2のパネルは透明ガラス基板であり得る。液晶層は、第1のパネルと第2のパネルとの間に位置付けられる。2つの配向膜が、液晶層の2つの対向する側に位置付けられる。換言すると、配向膜のうちの1つは液晶層と第1のパネルとの間に位置付けられ、配向膜のうちの他方は液晶層と第2のパネルとの間に位置付けられる。配向膜は、液晶層内の液晶が初期方向を有することを可能とするように構成される。
任意選択的に、駆動回路は、第1の電極層と第2の電極層とを含む。第1の電極層は液晶層と第1のパネルとの間に位置付けられる。第2の電極層は液晶層と第2のパネルとの間に位置付けられる。具体的に、第1の電極層は第1のパネルの液晶層に面した側に形成され、第2の電極層は第2のパネルの液晶層に面した側に形成され、2つの配向膜は、第1の電極層と第2の電極層との間に位置付けられる。第1の電極層と第2の電極層との電源がオンにされる場合、液晶層内の液晶は、垂直に整列された駆動を介して、偏向するように制御される。
具体的に、ビットシーケンスを使用することによって駆動回路内の第1の電極層と第2の電極層とに電圧がロードされて、第1の電極層と第2の電極層との間に電界を生成される場合、液晶層内の液晶は偏向する。実施形態において、液晶層内の液晶の液晶長軸は、第1のパネルに対して実質的に平行な方向から、第1のパネルに対して実質的に垂直な方向に偏向する。別の実施形態において、液晶層内の液晶長軸は、第1のパネルに対して実質的に垂直な方向から、第1のパネルに対して実質的に平行な方向に偏向し得る。液晶は複屈折材料であるので、液晶の偏向は、同等な屈折率の変化をもたらし、その結果、位相変調効果が実現される。加えて、液晶分子の偏向角度は、第1の電極層と第2の電極層とにロードされた電圧の強さに関連する。したがって、異なる位相変調量が異なる電圧をロードすることによって実現され得る。
可能な設計において、複数の画素セットは第3の画素セットと第4の画素セットとを含み、複数のビットシーケンスは第3のビットシーケンスを含み、駆動回路はさらに、第3のビットシーケンスを使用して第3の画素セットの電圧と第4の画素セットの電圧とを制御するように構成されており、ここで第3の画素セットおよび第4の画素セットは、LCoS2次元アレイの波長方向における隣接画素セットである。このように、波長方向における隣接画素は同じビットシーケンスを使用し、その結果、同時に発生する異なる波長のジッタは同期され、それによりフィルタスペクトルの均一性を保証する。
第3の画素セットと第4の画素セットとはポート方向において同じ位相サイクルにあり、第3の画素セットの位相と第4の画素セットの位相とは同じである。
可能な設計において、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとは1または複数の相補的なビットを有し、および/または、第1のビットシーケンスのビットの数量と第2のビットシーケンスのビットの数量とは異なる。
可能な設計において、第1の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、第2の画素セットは1または複数の画素を含む。
任意選択的に、第1の画素セットは1つの位相サイクルにおいて1または複数の画素を含むか、または、第1の画素セットは複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含み、第1の画素セットが複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含む場合、当該複数の画素は隣接しなくてよく;および/または、第2の画素セットは1つの位相サイクルにおいて1または複数の画素を含むか、または、第2の画素セットは複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含み、第2の画素セットが複数の位相サイクルにおいて複数の画素を含む場合、当該複数の画素は隣接しなくてよい。
可能な設計において、第3の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、第4の画素セットは1または複数の画素を含む。
可能な設計において、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである。
可能な設計において、第3のビットシーケンスは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、第3のビットシーケンスはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである。
第3の態様によると、本発明の実施形態は波長選択スイッチを提供する。波長選択スイッチは、少なくとも1つの入力ポートと、入力ポートに対応する少なくとも1つの出力ポートと、波長分割多重化ユニットと、第2の態様に記載の液晶オンシリコンとを含む。入力ポートは、入力ビームを受け取るように構成され、入力ビームは、波長の交差の後に異なる出力ポートにおいて出力され得る。波長分割多重化ユニットは、異なる角度で波長を散乱させ、次に別のコンポーネント(例えば、レンズ)が散乱されたビームを平行ビームに変換して、液晶オンシリコンの異なる位置に入射するように構成され得る。液晶オンシリコンは、ポート方向において、異なる波長コンポーネントに対して特定の光出力を実行する。
任意選択的に、波長選択スイッチはさらに、偏光変換ユニット、レンズ、反射鏡等を含む。偏光変換ユニットは、入力ビームを、液晶オンシリコンの動作偏光状態に対応する直線偏光に変換するように構成され得る。レンズは、散乱したビームを平行ビームに変換して、液晶オンシリコンの異なる位置に入射するように構成され得る。反射鏡は、光を反射するように構成される。波長分割多重化ユニットは、回折格子であり得る。
任意選択的に、上述の構造ユニットに加えて、波長選択スイッチは、液晶オンシリコン内の画素を駆動するようにビットシーケンスを選択的に構成して、ポート方向において光出力を制御するように構成された、コントローラまたはプロセッサを含み得る。コントローラまたはプロセッサは、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェアまたはそれらの任意の組み合わせによって実装され得る。例えば、コントローラまたはプロセッサは、1または複数のプロセッサ、デジタル信号プロセッサ、特定用途向け集積回路、フィールドプログラマブルゲートアレイ、ディスクリートロジック、またはそれらの任意の組み合わせであり得る。コントローラまたはプロセッサが部分的にソフトウェアによって実装される場合、デバイスは、適切な非一時的なコンピュータ可読記憶媒体に、ソフトウェアのためのコンピュータ実行可能命令を格納し得、ハードウェア内の1または複数のプロセッサを使用して命令を実行し、本発明の技術的解決手段を実行し得る。
第4の態様によると、本願の実施形態はROADMデバイスを提供し、ROADMデバイスは、
クライアント側方向と線側方向との間で波長の追加/削除を実装するように構成されたローカル追加/削除モジュールと、
第3の態様に記載の1または複数の波長選択スイッチを含み、クライアント側方向と線側方向との間で波長の選択を実装するように構成された、波長交差モジュールと
を含む。
本発明の実施形態または先行技術における技術的解決手段をより明確に説明すべく、以下では、実施形態または先行技術を説明するために要求される添付図面を簡単に説明する。明らかに、以下の説明における添付図面は、単に本発明のいくつかの実施形態を示すものに過ぎず、当業者であれば、創造的な努力なしに、これらの添付図面から他の実装を導出することができる。これらの全ての実施形態または実装は、本発明の保護範囲に含まれるものとする。
本願の実施形態に適用可能な波長選択スイッチの概略構造図である。
図1に示された波長選択スイッチの液晶オンシリコンの概略構造図である。
図2に示された液晶オンシリコン内の液晶の回転の概略図である。
LCoS2次元アレイにおける入射光ビームの配置の概略図である。
ポート方向における位相サイクル、位相、および画素の間の関係の概略図である。
液晶オンシリコンアレイにおける画素のジッタの理由の概略図である。
液晶オンシリコンアレイにおける画素にロードされた電圧と、画素の位相との間の関係の概略図である。
異なるビットシーケンスによって生成される位相ジッタの概略図である。
同じデューティ比を有する異なるビットシーケンスの概略図である。
波長方向において隣接画素に異なるビットシーケンスが適用される2次元平面の概略図である。
異なる波長の同時に発生したジッタの概略図である。
本発明の実施形態に記載の位相ジッタを低減するための2次元アレイの概略平面図である。
本発明の実施形態に記載の位相ジッタを低減するための方法のフローチャートである。
本発明の実施形態に適用可能なROADMデバイスの概略構造図である。
本願の目的、技術的解決手段、および利点をより明確にするために、以下ではさらに、添付図面を参照して詳細に本願を説明する。方法の実施形態における具体的な動作方法は、装置の実施形態またはシステムの実施形態に適用することもできる。
図1は、本願の実施形態に適用可能な波長選択スイッチ(Wavelength Selective Switch,WSS)100の概略構造図である。波長選択スイッチ100は、ROADM(Reconfigurable Optical Add/Drop Multiplexer,再構成可能な光追加/削除マルチプレクサ)に適用され得る。波長選択スイッチ100は液晶オンシリコン1を含み、液晶オンシリコン(Liquid Crystal on Silicon,LCoS)1は、波長選択スイッチ100の光スイッチングエンジンとして使用されることで位相変調効果を実現し、液晶オンシリコン1の異なる領域に入射された光ビームの回折および偏向方向を独立して制御する。
波長選択スイッチ100はさらに、少なくとも1つの入力ポート101(例えば、入力ファイバ)、入力ポート101に対応する少なくとも1つの出力ポートグループ、偏光変換ユニット103、波長分割多重化装置104(例えば、回折格子)、およびレンズ105を含み得る。各出力ポートグループは、少なくとも2つの出力ポート102(例えば、出力ファイバ)を含む。図1に示されるように、図における全てのビーム送信経路は可逆経路である。多波長信号は、入力ポート101を介して入力ビームを形成する。入力ビームは、偏光変換ユニット103によって、液晶オンシリコン1の動作偏光状態に対応する直線偏光に変換される。直線偏光は波長分割多重化装置104に入射され、波長分割多重化装置104は波長を異なる角度で散乱し、次にレンズ105は散乱した光ビームを平行光ビームに変換して、液晶オンシリコン1の異なる位置に入射させる。異なる波長の光ビームは、液晶オンシリコン1の異なる領域に集束され、回折および偏向し、回折した光ビームは、偏光変換ユニット103を使用して元々の偏光状態に戻り、異なる波長の光ビームは、それぞれのターゲット出力ポート102に結合される。異なる波長の光ビームのそれぞれの回折および偏向方向が液晶オンシリコン1の異なる領域によって制御されるので、液晶オンシリコン1は、任意の波長の組み合わせを出力ポート102のうちの任意の1つに切り替えることができる。波長選択スイッチ100はさらに反射鏡106を含み、反射鏡106は光を反射するように構成される。
上述の構造ユニットに加えて、波長選択スイッチは、液晶オンシリコン内の画素を駆動するようにビットシーケンスを選択的に構成して、ポート方向において光出力を制御するように構成された、コントローラまたはプロセッサを含み得る。コントローラまたはプロセッサは、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェアまたはそれらの任意の組み合わせによって実装され得る。例えば、コントローラまたはプロセッサは、1または複数のプロセッサ、デジタル信号プロセッサ、特定用途向け集積回路、フィールドプログラマブルゲートアレイ、ディスクリートロジック、またはそれらの任意の組み合わせであり得る。コントローラまたはプロセッサが部分的にソフトウェアによって実装される場合、デバイスは、適切な非一時的なコンピュータ可読記憶媒体に、ソフトウェアのためのコンピュータ実行可能命令を格納し得、ハードウェア内の1または複数のプロセッサを使用して命令を実行し、本発明の技術的解決手段を実行し得る。
図2は、上述の液晶オンシリコンの物理的構造の概略図である。液晶オンシリコンは、波長選択スイッチ100に適用され得る。液晶オンシリコン1は、偏向ビームを形成すべく、線形偏光状態の入射光ビームを回折するように構成される。液晶オンシリコン1は、偏光感応性コンポーネントであり、1つの偏光方向(すなわち、動作偏光方向)においてのみ動作し得る。入射光ビームの偏光方向は、液晶オンシリコン1の動作偏光方向である。液晶オンシリコン1は、第1のパネル11、第2のパネル12、液晶層13、駆動回路14、および2つの配向膜(Alignment Film)15を含む。第1のパネル11は、第2のパネル12と対向するように配置される。第1のパネル11は、第2のパネル12に対して平行である。第1のパネル11は、シリコンバックプレーン(silicon backplane)であり得、第2のパネル12は透明ガラス基板(glass substrate)であり得る。液晶層13は第1のパネル11と第2のパネル12との間に位置付けられ、多くの液晶分子を含む。液晶分子は、電極層に電圧がロードされる場合に偏向する。駆動回路14は、電界を生成して、液晶層13内の液晶を制御して偏向させるように構成される。2つの配向膜15が、液晶層13の2つの対向する側に位置付けられる。換言すると、配向膜15のうちの1つは液晶層13と第1のパネル11との間に位置付けられ、配向膜15のうちの他方は液晶層13と第2のパネル12との間に位置付けられる。配向膜15は、液晶層13内の液晶が初期方向を有することを可能とするように構成される。
例えば、駆動回路14は、第1の電極層141と第2の電極層142とを含む。第1の電極層141は、液晶層13と第1のパネル11との間に位置付けられる。第2の電極層142は、液晶層13と第2のパネル12との間に位置付けられる。具体的に、第1の電極層141は第1のパネル11の液晶層13に面した側に形成され、第2の電極層142は第2のパネル12の液晶層13に面した側に形成され、2つの配向膜15は、第1の電極層141と第2の電極層142との間に位置付けられる。第1の電極層141と第2の電極層142との電源がオンにされる場合、液晶層13内の液晶は、垂直に整列された(Vertically-aligned, VA)駆動を介して、偏向するように制御される。
図2および図3を参照すると、電圧が第1の電極層141と第2の電極層142とにロードされて第1の電極層141と第2の電極層142との間に電界を生成する場合、液晶層13内の液晶は偏向する(偏向面は図3におけるXY面、すなわち、第1のパネル11に対して垂直な平面である。)。Xは波長方向を表し、Yは位相サイクル2πを表し、Zはポート方向を表す。例えば、液晶層13内の液晶は、図3の左の図の状態から図3の右の図の状態に偏向する。換言すると、液晶長軸は、第1のパネル11に対して実質的に平行な方向から、第1のパネル11に対して実質的に垂直な方向に偏向する。これは、本願における説明の一例として使用される。別の実施形態において、液晶層13内の液晶長軸は、第1のパネル11に対して実質的に垂直な方向から、第1のパネル11に対して実質的に平行な方向に偏向し得る。液晶は複屈折材料であるので、液晶の偏向は、同等な屈折率の変化をもたらし、その結果、位相変調効果が実現される。加えて、液晶分子の偏向角度は、第1の電極層141と第2の電極層142とにロードされた電圧の強さに関連する。したがって、異なる位相変調量が異なる電圧をロードすることによって実現され得る。これは、液晶オンシリコン2次元アレイ内の画素に対して位相変調を実行する原理である。
図4は、LCoS2次元アレイにおける入射光ビームの配置の概略図である。LCoS2次元アレイは、波長方向とポート方向とを含む。波長方向は、異なる波長の光スポットが、液晶オンシリコン1の表面上に入射される場合に、異なる角度で散乱することを示す。ポート方向は、異なるポートにおいて特定の波長の光スポットの信号出力が異なる位相に基づいて実装される(または、光スポットが異なる回折角を有する)ことを示す。図4に示されるように、LCoSは数百万の画素を含み、画素は電子的要素であり得る。電子的要素は、図3に示すパネル、電極層、および液晶層を含み得る。画素の位相は、液晶層内の液晶粒子に異なる電圧をロードすることによって制御され得る。光スポットがLCoSの表面に入射される場合、異なる波長チャネル(例えば、λ、λ、およびλ)の光スポットは、液晶面の波長方向において配置される。具体的に、入射光ビームλに対応する波長チャネルは領域B1における画素を占有し、入射光ビームλに対応する波長チャネルは領域B2における画素を占有し、入射光ビームλに対応する波長チャネルは領域B3における画素を占有し、入射光ビームλ、λ、およびλの波長は互いに異なる。駆動電圧が駆動回路にロードされる場合、特定の波長チャネルによって占有された領域における画素の駆動電圧はポート方向において異なるので、異なる駆動電圧は、ポート方向における画素の位相が2πステップ変化を有するサイクルにあるようにする。図5に示されるように、例えば、ポート方向における画素は3つの位相P1、P2、およびP3の合計を有し、ステップ変化を有する周期的な配置が示される。第1の画素、第4の画素、および第7の画素の位相はP1であり、第2の画素、第5の画素、および第8の画素の位相はP2であり、第3の画素、第6の画素、および第9の画素の位相はP3である。1つの位相サイクルは3つの画素を含む。第1の位相サイクルは第1の画素、第2の画素、および第3の画素の位相を含み、第2の位相サイクルは第4の画素、第5の画素、および第6の画素の位相を含み、第3の位相サイクルは第7の画素、第8の画素、および第9の画素の位相を含む。図5における画素と位相との間の対応関係は単に一例に過ぎず、各位相サイクルは多くの異なる位相を含み得、隣接画素の位相もまた同じであり得ることに留意されたい。これは、本発明において具体的に限定されるものではない。異なる波長の光スポットはLCoS2次元アレイにおいて完全に独立して分配されるわけではなく、波長の光スポットは互いに重なり合うことが多く、同じ画素は複数の波長の光スポットを含み得ることにさらに留意されたい。
図6および図7は、液晶オンシリコンアレイにおける画素の位相ジッタの理由の概略図である。図6に示されるように、実効電圧Vrmsは、アナログドライバのような固定値を直接提供することに代えて、2つの電圧(低電圧Vおよび高電圧V)のデューティ比(DutyRatio)を使用することによって画素にロードされる必要がある。例えば、図6において、高電圧Vは4Vであり、低電圧Vは1Vである。出力電圧(すなわち、実効電圧Vrms)2Vを取得するためには、Vrms=√V *(1-DutyRatio)+V *DutyRatioに従って、高電圧デューティ比DutyRatioは0.2となり、低電圧デューティ比は0.8となる。高電圧デューティ比と低電圧デューティ比との和は1に等しいことに留意されたい。液晶オンシリコンの画素にロードされた駆動電圧と画素の位相との間には、一対一の対応関係が存在する。具体的に、画素にロードされた異なる駆動電圧は、画素の異なる位相を決定する。位相と駆動電圧との間の関係の詳細については、図7を参照されたい。実効電圧は、時間的に高電圧Vのデューティ比と低電圧Vのデューティ比とを使用して形成される。換言すると、実効電圧Vrmsが変化しないままの場合、液晶粒子の両端にロードされた電圧は、高電圧と低電圧との間で常に切り替わる。切り替え速度を液晶の応答速度より完全に大きくはできないので、画素の位相も、高電圧と低電圧との間で切り替えることによって変化する。図6に示されるように、最後の反射は、液晶の画素の位相が時間と共に規則的にジッタすることである。このようなジッタは、フリッカとも称され得る。
ジッタは、リンクの光信号対雑音比に影響を与える重要パラメータである。ジッタの振幅が増加すると、それにしたがって光信号対雑音比は低下する。複数の波長選択スイッチがカスケードされるとき、光信号対雑音比は指数関数的に低下する。
図8は、異なるビットシーケンスによって生成される位相ジッタの概略図である。同じデューティ比は、ビットシーケンスと称される異なるビット組成方式を有することもでき、ビットシーケンスは、電圧信号の生成を駆動し得、電圧信号の正規化表示であり得ることが理解され得る。例えば、低電圧は0Vでありビットシーケンスにおいて0で示され、高電圧は4Vでありビットシーケンスにおいて1で示されると仮定する。説明を簡単にするために、この実施形態において、4ビットは、高電圧と低電圧との間の変換と、実効電圧の出力とを実装するために使用される。高電圧デューティ比と低電圧デューティ比との両方が50%である場合、上述の式Vrms=√V *(1-DutyRatio)+V *DutyRatioに従って、実効電圧は2.83Vとなる。高電圧および低電圧のそれぞれは、2ビットを占有する。この場合、6つのビットシーケンス1100、0011、1010、0101、1001および0110が存在する。図9を参照すると、6つのビットシーケンスにおいて、高電圧と低電圧との間における切り替え速度は異なる。2つのビットシーケンス1010および0101において、高電圧と低電圧とは交互であり、隣接ビットの電圧が異なり、電圧切り替え速度は、ビットシーケンス1100、0011、1001および0110の電圧切り替え速度より高い。図8は、2つのタイプのビットシーケンスによって生成された位相ジッタの振幅を示す。濃い線で示された位相ジッタはビットシーケンス1100、0011、1001および0110によって生成され、淡い線の位相ジッタはビットシーケンス1010および0101によって生成される。比較によって、高電圧とより低い電圧との間の切り替え速度が高いほど、生成される位相ジッタの振幅が小さいことが明確である。
図10aおよび図10bは、異なるビットシーケンスが波長方向において使用される場合の、異なる波長のジッタを時間と共に示す概略図である。現在、波長方向において隣接画素にロードされた電圧は通常、異なるビットシーケンスを使用して制御される。図10aに示されるように、画素100は、LCoSの平面図において、x軸の行とy軸の列とに沿って延伸する。x軸は波長方向を表し、y軸はポート方向を表す。一例として、波長方向における1つの行と複数の行と(もしくは、1つの列または複数の列)の隣接画素の位相は同じであることが理解され得る。図10aに示されるように、2つの隣接画素10011および10012は波長方向において異なるビットシーケンスを使用し、ここで画素10011によって使用されるビットシーケンスは1010であり、画素10012によって使用されるビットシーケンスは0101である。波長方向における隣接画素の同時刻の駆動電圧は同期されないので、システムにおける異なる波長の同時刻のジッタも同期しない。図10bに示されるように、横軸は波長方向であり、縦軸は特定の波長の光スポットの光強度であり、時間1はモーメント時間1における異なる波長の光スポットのジッタを示し、時間2はモーメント時間2における異なる波長の光スポットのジッタを示す。異なる波長の同時刻のジッタは異なることが分かり得る。これは最後的に、不均一なフィルタスペクトルおよび比較的に高いOSNRコストをもたらす。本発明において、異なるビットシーケンスがポート方向における同じ位相の画素に適用され、同じビットシーケンスが波長方向における同じ位相の画素(または波長方向における隣接画素)に適用され、その結果、異なる波長の同時刻のジッタが同期され、それにより、不均一なフィルタスペクトルを有効に回避し得る。具体的な解決手段については、図11を参照されたい。
図11は、本願の実施形態に適用可能な、ジッタを低減するための液晶オンシリコン2次元アレイの概略平面図である。図11に示されるように、例えば、液晶オンシリコンの2次元アレイ面において、ポート方向において3つの画素領域A、BおよびCが存在し、各画素領域は少なくとも1つの位相サイクルを含み、各位相サイクルは3つの位相P1、P2およびP3を含む。異なるビットシーケンスが画素領域における同じ位相の画素(例えば、画素領域A、画素領域B、および画素領域Cにおける位相P1の画素)に適用されて電圧信号が駆動され、その結果、位相ジッタは互いに相殺され抑制される。具体的に、ビットシーケンスA1は画素領域A内の特定の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用され、ビットシーケンスB1は画素領域B内の特定の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用され、ビットシーケンスC1は画素領域C内の特定の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用される。本発明において、3つのビットシーケンスによって生成されるジッタが異なることが保証される限り、ビットシーケンスA1、B1およびC1のビットの数量は具体的に限定されない。図11に示されるように、ビットシーケンスA1は1010であり、ビットシーケンスB1は10101であり、ビットシーケンスC1は01010であり、ビットシーケンスA1、B1およびC1によって駆動される電圧信号によって生成される位相ジッタは異なり、部分的に相殺され得る。具体的に、ポート方向において、ビットシーケンスA1およびB1が適用された画素の位相ジッタがピーク値である場合、ビットシーケンスC1が適用された画素の位相ジッタはちょうど谷値であり、ビットシーケンスA1およびB1が適用された画素の位相ジッタを部分的に相殺し得;ビットシーケンスA1が適用された画素の位相ジッタが谷値である場合、ビットシーケンスB1およびC1が適用された画素の位相ジッタはピーク値と谷値との間に低下し、ビットシーケンスA1が適用された画素の位相ジッタを部分的に相殺し得る。図11は、ビットシーケンスの一例に過ぎない。異なる画素領域における同じ位相の画素に適用されたビットシーケンスがちょうど相補的であるとき、画素の位相ジッタ効果はより低く、非常に小さい位相ジッタが最後的に示されることを理解されたい。例えば、各画素領域が2つまたはそれより多くの位相サイクルを含む場合、同じ画素領域内の異なる位相サイクルにおける同じ位相には、同じビットシーケンスが適用され得る。例えば、画素領域Aが第1の位相サイクルおよび第2の位相サイクルの2つの位相サイクルを含み、第1の位相サイクルおよび第2の位相サイクルのそれぞれが3つの位相P1、P2およびP3を含むとき、ビットシーケンスA1は、第1の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用され、ビットシーケンスA1は、第2の位相サイクルにおける位相P1の画素にも適用される。位相P1、P2およびP3の画素の電圧は異なる(位相は電圧に依存する)ことと、正規化電圧として実装されたビットシーケンスは当然異なることとに留意されたい。
任意選択的に、各画素領域は1つの位相サイクルのみを含み得、1つの位相サイクルにおけるP1のような同じ位相の画素サブ領域は、ポート方向において1つの画素または複数の画素を含み得、波長方向において少なくとも2つの画素を含み得る。本発明において、ポート方向において異なる画素領域における同じ位相の画素には異なるビットシーケンスが適用され、その結果、位相ジッタ重畳効果が抑制され得る。加えて、波長方向において同じ位相の画素に同じビットシーケンスが適用され、その結果、波長方向におけるジッタが同期され、それにより、同時刻の異なる波長のジッタ間の差異によってもたらされる不均一なフィルタスペクトルを有効に回避し、追加のOSNRコストを回避する。
図12は、本発明の実施形態に記載の位相ジッタを低減するための方法のフローチャートである。方法は、LCoSベースの光交差コンポーネントに適用可能される。方法は具体的に、次の段階を含む。
S101:LCoSをポート方向においてm個の画素領域に分割し、ここで、m≧2であり、各画素領域は少なくとも1つの位相サイクルを含む。
この実施形態において、LCoSはポート方向において、第1の画素領域、第2の画素領域、…、およびm番目の画素領域と定義される少なくとも2つの画素領域に分割される。各画素領域は少なくとも1つの位相サイクルを含み、各位相サイクルはP1、P2およびP3のような複数の位相を含み得る。P1のような各位相の画素サブ領域は、ポート方向において1つのみの画素または複数の画素を含み得、波長方向において少なくとも2つの画素を含む。
全ての画素領域に含まれる画素の数量および位相サイクルの数量は異なり得、これはこの実施形態に限定されるものではないことに留意されたい。
S102:異なるビットシーケンスを異なる画素領域における同じ位相に適用する。
この実施形態において、例えば、LCoSはポート方向において、第1の画素領域、第2の画素領域、および第3の画素領域の3つの画素領域に分割され得る。各画素領域は少なくとも1つの位相サイクルを含み、各位相サイクルは複数の位相を含む。全ての画素領域における同じ位相の画素に異なるビットシーケンスが適用されて電圧信号を駆動し、その結果、位相ジッタは互いに相殺され抑制される。
具体的に、図11に示されるように、ビットシーケンスA1は画素領域A内の特定の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用され、ビットシーケンスB1は画素領域B内の特定の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用され、ビットシーケンスC1は画素領域C内の特定の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用される。本発明において、3つのビットシーケンスによって生成されるジッタが異なることが保証される限り、ビットシーケンスA1、B1およびC1のビットの数量は具体的に限定されない。例えば、ビットシーケンスA1は1010であり、ビットシーケンスB1は10101であり、ビットシーケンスC1は01010であり、ビットシーケンスA1、B1およびC1によって駆動される電圧信号によって生成される位相ジッタは異なり、部分的に相殺され得る。具体的に、ポート方向において、ビットシーケンスA1およびB1が適用された画素の位相ジッタがピーク値である場合、ビットシーケンスC1が適用された画素の位相ジッタはちょうど谷値であり、ビットシーケンスA1およびB1が適用された画素の位相ジッタを部分的に相殺し得;ビットシーケンスA1が適用された画素の位相ジッタが谷値である場合、ビットシーケンスB1およびC1が適用された画素の位相ジッタはピーク値と谷値との間に低下し、ビットシーケンスA1が適用された画素の位相ジッタを部分的に相殺し得る。図11は、ビットシーケンスの一例に過ぎない。異なる画素領域における同じ位相の画素に適用されたビットシーケンスがちょうど相補的であるとき、画素の位相ジッタ効果はより低く、非常に小さい位相ジッタが最後的に示されることを理解されたい。
例えば、各画素領域が2つまたはそれより多くの位相サイクルを含む場合、同じ画素領域内の異なる位相サイクルにおける同じ位相には、同じビットシーケンスが適用され得る。例えば、画素領域Aが第1の位相サイクルおよび第2の位相サイクルの2つの位相サイクルを含み、第1の位相サイクルおよび第2の位相サイクルのそれぞれが3つの位相P1、P2およびP3を含むとき、ビットシーケンスA1は、第1の位相サイクルにおける位相P1の画素に適用され、ビットシーケンスA1は、第2の位相サイクルにおける位相P1の画素にも適用される。
任意選択的に、各画素領域は1つの位相サイクルのみを含み得、1つの位相サイクルにおけるP1のような同じ位相の画素サブ領域は、ポート方向において1つの画素または複数の画素を含み得、波長方向において少なくとも2つの画素を含み得る。本発明において、ポート方向において異なる画素領域における同じ位相の画素には異なるビットシーケンスが適用され、その結果、位相ジッタ重畳効果が抑制され得る。加えて、波長方向において同じ位相の画素に同じビットシーケンスが適用され、その結果、波長方向におけるジッタが同期され、それにより、同時刻の異なる波長のジッタ間の差異によってもたらされる不均一なフィルタスペクトルを有効に回避し、追加のOSNRコストを回避する。
図13は、本発明の実施形態に適用可能なROADMデバイスの概略図である。C(colorless、無色)、D(directionless、無方向)、およびC(contentionless、無競合)の典型的なROADMデバイスは、線側モジュールおよびクライアント側モジュールを含む。図13に示されるように、ROADMデバイスに含まれる2つの基本的な機能モジュールは、線側モジュールとして機能すると共に1つの光直線方向から別の直線方向に任意の波長チャネルを送信するように構成された再構成可能な波長追加/削除(交差)デバイス(R‐WADD)と、クライアント側モジュールとして機能すると共に任意の直線方向の波長を削除して任意の直線方向にローカル波長を追加するように構成された再構成可能なローカル追加/削除デバイス(R‐LADD)とである。R‐WADDは波長選択機能を有しており、複数の波長選択スイッチモジュールの積層および相互接続を介して取得される。
上述の説明では主に、本願の実施形態において提供される解決手段を方法の観点から説明する。上述の機能を実装すべく、機能に対応するハードウェア構造および/またはソフトウェアモジュールが含まれる。当業者であれば、本明細書に開示された実施形態において説明される例と組み合わせて、ユニットおよびアルゴリズム段階が、本願のハードウェアによってまたはハードウェアとコンピュータソフトウェアとの組み合わせによって実装され得ることを容易に認識するはずである。機能がハードウェアによって実行されるか、またはコンピュータソフトウェアによって駆動されるハードウェアによって実行されるかは、技術的解決手段の特定の用途および設計制約に依存する。当業者であれば、異なる方法を使用して、説明した機能を特定の用途ごとに実装し得るが、かかる実装が本願の範囲を超えるものとみなされるべきではない。
本願の実施形態において、波長選択スイッチは、上述の方法例に基づいて機能モジュールに分割され得る。例えば、各機能モジュールは、各対応する各機能に基づく分割を介して取得されてもよく、または、2つまたはより多くの機能が1つの処理モジュールに統合されてもよい。統合されたモジュールは、ハードウェアの形態で実装されてもよく、または、ソフトウェア機能モジュールの形態で実装されてもよい。本願の実施形態において、モジュール分割は、一例であり、単に論理的な機能区分に過ぎないことに留意されたい。実際の実装においては、別の分割方式であってもよい。
当業者であれば、上述の実施形態の全てまたはいくつかの段階が、関連ハードウェアを指示するプログラムによって実装され得ることを理解し得る。プログラムは、コンピュータ可読記憶媒体に格納され得る。記憶媒体は、リードオンリメモリまたはランダムアクセスメモリ等であり得る。処理ユニットまたはプロセッサは、中央処理装置、汎用プロセッサ、特定用途向け集積回路(application-specific integrated circuit,ASIC)、マイクロプロセッサ(digital signal processor,DSP)、フィールドプログラマブルゲートアレイ(field programmable gate array,FPGA)もしくは別のプログラマブル論理コンポーネント、トランジスタロジックコンポーネント、ハードウェアコンポーネント、またはそれらの任意の組み合わせであり得る。
本願の実施形態の明細書および請求項、および添付図面における「まず(first)」、「次に(then)」、および「最後的に(finally)」という用語は、特定の順序を説明することを意図するものではない。このように称されるデータは、適切な状況において入れ換え可能であり、その結果、ここで説明される実施形態は、ここで図示または説明された順序とは別の順序で実装され得ることを理解されたい。さらに、「含む(include)」または「含有する(contain)」という用語および任意の他の変形例は、非排他的解決手段を網羅することを意味しており、例えば、段階またはユニットのリストを含むプロセス、方法、システム、製品またはデバイスは、必ずしもそれらの明示的に列挙された段階またはユニットに限定されるものではないが、このようなプロセス、方法、製品またはデバイスに明示的に列挙されていないまたはそれらに固有のものではない他の段階またはユニットを含み得る。
本願は実施形態を参照して説明されているが、保護を主張する本願を実装するプロセスにおいて、当業者であれば、添付図面、開示された内容、および添付の特許請求の範囲を考察することによって、開示された実施形態の別の変形例を理解および実装し得る。請求項において、「備える(comprising)」は、別のコンポーネントまたは別の段階を排除せず、「ある(a)」または「1つの(one)」は、複数の場合を排除しない。1つのプロセッサまたは別の単一のユニットは、請求項に列挙されたいくつかの機能を実装し得る。互いに異なるいくつかの手段が添付の特許請求の範囲に説明されているが、これは、これらの手段がより優れた効果を生み出すように組み合わされることができないということを意味するものではない。当業者であれば、本願の実施形態が、方法、装置(デバイス)、またはコンピュータプログラム製品として提供され得ることを理解すべきである。したがって、本願は、ハードウェアのみの実施形態、ソフトウェアのみの実施形態、または、ソフトウェアとハードウェアとの組み合わせを有する実施形態の形式を使用し得る。それらは、「モジュール」または「システム」とまとめて称される。さらに、本願は、コンピュータ使用可能プログラムコードを含む1または複数のコンピュータ使用可能記憶媒体(ディスクメモリ、CD-ROM、光メモリ等を含むが、これらに限定されるものではない)上で実装されるコンピュータプログラム製品の形式を使用し得る。コンピュータプログラムは適切な媒体に格納/分配され、他のハードウェアと共にハードウェアの一部として提供または使用されるか、または、別の分配方式で、例えば、インターネットまたは別の有線もしくは無線電気通信システムを介して、使用され得る。
本発明は、本発明の実施形態における、方法、装置(デバイス)、および、方法フローチャートおよび/またはブロック図を参照して説明される。コンピュータプログラム命令は、フローチャートおよび/またはブロック図における各手順および/または各ブロック、ならびにフローチャートおよび/またはブロック図における手順および/またはブロックの組み合わせを実装するために使用され得ることを理解されたい。代替的には、これらのコンピュータプログラム命令は、一連の動作および段階がコンピュータまたは別のプログラマブルデバイス上で実行され、それにより、コンピュータ実装処理を生成するように、コンピュータまたは別のプログラマブルデータ処理デバイスにロードされ得る。したがって、コンピュータまたは別のプログラマブルデバイス上で実行される命令は、フローチャートの1または複数の手順および/またはブロック図の1または複数のブロックにおける特定の機能を実装するための段階を提供する。
本発明は具体的な特徴およびそれらの実施形態を参照して説明されているが、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、それらに対して様々な修正および組み合わせが行われ得ることは明らかである。これに対応して、明細書および添付図面は単に添付の特許請求の範囲によって定義された本発明の説明の例であり、本発明の範囲を網羅する修正、変形、組み合わせまたは同等物のうちのいずれかまたは全てとして考慮される。明らかに、当業者であれば、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、本発明に対して様々な修正および変形を行うことができる。本発明は、これらの修正および変形が、以下の特許請求の範囲およびそれらの均等な技術によって定義される保護の範囲内に含まれる限り、これらの修正および変形を網羅することを意図する。
[他の考えられる項目]
[項目1]
液晶オンシリコン(LCoS)2次元アレイの電圧を制御する方法であって、前記LCoS2次元アレイは、複数の画素セットを備え、前記複数の画素セットは、第1の画素セットと第2の画素セットとを含み、前記方法は、
複数のビットシーケンスを決定する段階であって、前記複数のビットシーケンスは第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとを含む、段階と、
前記第1のビットシーケンスを使用して前記第1の画素セットの電圧を制御する段階と、
前記第2のビットシーケンスを使用して前記第2の画素セットの電圧を制御する段階であって、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとは前記LCoS2次元アレイのポート方向において異なる位相サイクルにあり、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとは同じ位相を有し、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとのデューティ比は同じである、段階と
を備える、方法。
[項目2]
前記複数の画素セットは第3の画素セットと第4の画素セットとを含み、前記複数のビットシーケンスは第3のビットシーケンスを含み、前記方法は、
前記第3のビットシーケンスを使用して前記第3の画素セットの電圧と前記第4の画素セットの電圧とを制御する段階であって、前記第3の画素セットおよび前記第4の画素セットは、前記LCoS2次元アレイの波長方向における隣接画素セットである、段階を備える、項目1に記載の方法。
[項目3]
前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは1または複数の相補的なビットを有し、および/または、前記第1のビットシーケンスのビットの数量と前記第2のビットシーケンスのビットの数量とは異なる、項目1に記載の方法。
[項目4]
前記第1の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第2の画素セットは1または複数の画素を含む、項目1に記載の方法。
[項目5]
前記第3の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第4の画素セットは1または複数の画素を含む、項目2に記載の方法。
[項目6]
前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、項目1に記載の方法。
[項目7]
前記第3のビットシーケンスは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第3のビットシーケンスはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、項目2に記載の方法。
[項目8]
波長スイッチに適用される液晶オンシリコンであって、前記液晶オンシリコンは、
液晶層であって、前記液晶層は複数の画素セットを含み、前記複数の画素セットは第1の画素セットと第2の画素セットとを含む、液晶層と、
複数のビットシーケンスを決定するように構成された駆動回路であって、前記複数のビットシーケンスは第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとを含み、前記第1のビットシーケンスを使用して前記第1の画素セットの電圧を制御することと、前記第2のビットシーケンスを使用して前記第2の画素セットの電圧を制御することとを行うように構成されており、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとはLCoS2次元アレイのポート方向において異なる位相サイクルにあり、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとは同じ位相を有しており、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとのデューティ比は同じである、駆動回路と
を備える、液晶オンシリコン。
[項目9]
前記複数の画素セットは第3の画素セットと第4の画素セットとを含み、前記複数のビットシーケンスは第3のビットシーケンスを含み、前記駆動回路はさらに、
前記第3のビットシーケンスを使用して前記第3の画素セットの電圧と前記第4の画素セットの電圧とを制御することであって、前記第3の画素セットおよび前記第4の画素セットは、前記LCoS2次元アレイの波長方向における隣接画素セットであることを行うように構成される、項目8に記載の液晶オンシリコン。
[項目10]
前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは1または複数の相補的なビットを有し、および/または、前記第1のビットシーケンスのビットの数量と前記第2のビットシーケンスのビットの数量とは異なる、項目8に記載の液晶オンシリコン。
[項目11]
前記第1の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第2の画素セットは1または複数の画素を含む、項目8に記載の液晶オンシリコン。
[項目12]
前記第3の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第4の画素セットは1または複数の画素を含む、項目9に記載の液晶オンシリコン。
[項目13]
前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、項目8に記載の液晶オンシリコン。
[項目14]
前記第3のビットシーケンスは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第3のビットシーケンスはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、項目8に記載の液晶オンシリコン。
[項目15]
入力ビームを受け取るための少なくとも1つの入力ポートと、前記入力ポートに対応する少なくとも1つの出力ポートとを備える光ポートと、
前記入力ビームを複数の波長コンポーネントに空間的に分割するように構成された波長分割多重化ユニットと、
ポート方向において前記複数の波長コンポーネントに対して特定の光出力を実行するように構成された、項目8から14のいずれか一項に記載の液晶オンシリコンと
を備える、波長選択スイッチ。
[項目16]
クライアント側方向と線側方向との間で波長の追加/削除を実装するように構成されたローカル追加/削除モジュールと、
項目15に記載の1または複数の波長選択スイッチを含み、前記クライアント側方向と前記線側方向との間で波長の選択を実装するように構成された、波長交差モジュールと
を備える、ROADMデバイス。

Claims (16)

  1. 液晶オンシリコン(LCoS)2次元アレイの電圧を制御する方法であって、前記LCoS2次元アレイは、複数の画素セットを備え、前記複数の画素セットは、第1の画素セットと第2の画素セットとを含み、前記方法は、
    複数のビットシーケンスを決定する段階であって、前記複数のビットシーケンスは第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとを含む、段階と、
    前記第1のビットシーケンスを使用して前記第1の画素セットの電圧を制御する段階と、
    前記第2のビットシーケンスを使用して前記第2の画素セットの電圧を制御する段階であって、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとは前記LCoS2次元アレイの画素の列方向に対応するポート方向において異なる位相サイクルにあり、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとは同じ位相を有し、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとのデューティ比は同じである、段階と
    を備える、方法。
  2. 前記複数の画素セットは第3の画素セットと第4の画素セットとを含み、前記複数のビットシーケンスは第3のビットシーケンスを含み、前記方法は、
    前記第3のビットシーケンスを使用して前記第3の画素セットの電圧と前記第4の画素セットの電圧とを制御する段階であって、前記第3の画素セットおよび前記第4の画素セットは、前記LCoS2次元アレイの前記画素の行方向に対応する波長方向における隣接画素セットである、段階を備える、請求項1に記載の方法。
  3. 前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは1または複数の相補的なビットを有し、および/または、前記第1のビットシーケンスのビットの数量と前記第2のビットシーケンスのビットの数量とは異なる、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記第1の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第2の画素セットは1または複数の画素を含む、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記第3の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第4の画素セットは1または複数の画素を含む、請求項2に記載の方法。
  6. 前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記第3のビットシーケンスは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第3のビットシーケンスはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、請求項2または5に記載の方法。
  8. 波長スイッチに適用される液晶オンシリコン(LCoS)であって、前記LCoSは、
    液晶層であって、前記液晶層は複数の画素セットを含み、前記複数の画素セットは第1の画素セットと第2の画素セットとを含む、液晶層と、
    駆動回路であって、前記駆動回路は、複数のビットシーケンスを決定することであって、前記複数のビットシーケンスは第1のビットシーケンスと第2のビットシーケンスとを含む、ことと、前記第1のビットシーケンスを使用して前記第1の画素セットの電圧を制御することと、前記第2のビットシーケンスを使用して前記第2の画素セットの電圧を制御することとを行うように構成されており、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとはLCoS2次元アレイの画素の列方向に対応するポート方向において異なる位相サイクルにあり、前記第1の画素セットと前記第2の画素セットとは同じ位相を有しており、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとのデューティ比は同じである、駆動回路と
    を備える、LCoS。
  9. 前記複数の画素セットは第3の画素セットと第4の画素セットとを含み、前記複数のビットシーケンスは第3のビットシーケンスを含み、前記駆動回路はさらに、
    前記第3のビットシーケンスを使用して前記第3の画素セットの電圧と前記第4の画素セットの電圧とを制御するように構成され、前記第3の画素セットおよび前記第4の画素セットは、前記LCoS2次元アレイの前記画素の行方向に対応する波長方向における隣接画素セットである請求項8に記載のLCoS。
  10. 前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは1または複数の相補的なビットを有し、および/または、前記第1のビットシーケンスのビットの数量と前記第2のビットシーケンスのビットの数量とは異なる、請求項8または9に記載のLCoS。
  11. 前記第1の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第2の画素セットは1または複数の画素を含む、請求項8から10のいずれか一項に記載のLCoS。
  12. 前記第3の画素セットは1または複数の画素を含み、および/または、前記第4の画素セットは1または複数の画素を含む、請求項9に記載のLCoS。
  13. 前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第1のビットシーケンスと前記第2のビットシーケンスとはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、請求項8から12のいずれか一項に記載のLCoS。
  14. 前記第3のビットシーケンスは予め構成されたビットシーケンスであるか、または、前記第3のビットシーケンスはリアルタイムで生成されるビットシーケンスである、請求項9または12に記載のLCoS。
  15. 入力ビームを受け取るための少なくとも1つの入力ポートと、前記入力ポートに対応する少なくとも1つの出力ポートとを備える光ポートと、
    前記入力ビームを複数の波長コンポーネントに空間的に分割するように構成された波長分割多重化ユニットと、
    前記ポート方向において前記複数の波長コンポーネントに対して特定の光出力を実行するように構成された、請求項8から14のいずれか一項に記載のLCoSと
    を備える、波長選択スイッチ。
  16. クライアント側方向と線側方向との間で波長の追加/削除を実装するように構成されたローカル追加/削除モジュールと、
    1または複数の請求項15に記載の波長選択スイッチを含み、前記クライアント側方向と前記線側方向との間で波長の選択を実装するように構成された、波長交差モジュールと
    を備える、ROADMデバイス。
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