JP7301986B2 - 組成物、膜、構造体、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、シリカ粒子を含む組成物に関する。また、本発明は、シリカ粒子を含む組成物を用いた膜、構造体、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置に関する。

低屈折率膜等の光学機能層は、例えば、入射する光の反射を防止するために透明基材の表面に適用される。その応用分野は広く、光学機器や建築材料、観察器具や窓ガラスなど、さまざまな分野の製品に適用されている。その材料として、有機・無機を問わず様々な素材が利用され、開発の対象とされている。なかでも、近年、光学機器に適用される材料の開発が進められている。具体的には、ディスプレイパネル、光学レンズ、イメージセンサ等において、その製品に適合した物性や加工性を有する材料の探索が進められている。

例えば、イメージセンサ等の精密光学機器に適用される光学機能層には、微細かつ正確な加工成形性が求められる。そのため、従来、微細加工に適した真空蒸着法やスパッタリング法等の気相法が採用されてきた。その材料としては、例えばＭｇＦ_２や氷晶石等からなる単層膜が実用化されている。また、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２等の金属酸化物の適用も試みられている。

一方、真空蒸着法やスパッタリング法等の気相法では、加工装置等が高価であることから製造コストが高くなることがある。これに対応して、最近ではシリカ粒子を含む組成物を用いて低屈折率膜等の光学機能層を製造することが検討されている。

特許文献１、２には、中空構造のシリカ粒子を含む組成物を用いて反射防止膜などを作製することが記載されている。

特開２０１４－０３４４８８号公報 特開２００６－２５７３０８号公報

本発明者がシリカ粒子を含む組成物について更に検討を進めたところ、得られる膜の表面にシリカの凝集物などに由来する凹凸などの欠陥が生じやすいことが分かった。また、長時間保管した後の組成物を用いて膜を形成した場合においては、得られる膜について厚みムラが生じやすいことが分かった。このように、シリカ粒子を含む組成物については、その使いこなしには未だ改善の余地があった。

よって、本発明の目的は、欠陥の発生が抑制された膜を形成でき、かつ、長時間保管後も膜厚均一性に優れた膜を形成できる組成物を提供することにある。また、組成物を用いた膜、構造体、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することにある。

本発明者の検討によれば、後述する組成物を用いることにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
＜１＞ 複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子、複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子、および、中空構造のシリカ粒子から選ばれる少なくとも１種と、
界面活性剤と、
溶剤と、を含み、
上記シリカ粒子表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、上記ヒドロキシ基と反応する疎水化処理剤で処理されている、組成物。
＜２＞ 上記疎水化処理剤が有機ケイ素化合物である、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ 上記疎水化処理剤が有機シラン化合物である、＜１＞に記載の組成物。
＜４＞ 上記疎水化処理剤がアルキルシラン化合物、アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合物、アミノシラン化合物およびシラザン化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞に記載の組成物。
＜５＞ 上記溶剤はアルコール系溶剤を含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜６＞ 上記界面活性剤がノニオン性界面活性剤である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜７＞ 上記ノニオン性界面活性剤がシリコーン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤から選ばれる少なくとも１種である、＜６＞に記載の組成物。
＜８＞ 上記組成物中に上記界面活性剤を０．０１～３．０質量％含有する、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜９＞ 着色層を有するカラーフィルタの、上記着色層に隣接する部材の形成用の組成物である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１０＞ 隔壁形成用の組成物である、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１１＞ 支持体と、上記支持体上に設けられた隔壁と、上記隔壁で区画された領域に設けられた着色層と、を有する構造体の、上記隔壁の形成用の組成物である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１２＞ ＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の組成物から得られる膜。
＜１３＞ 支持体と、
上記支持体上に設けられた＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の組成物から得られる隔壁と、
上記隔壁で区画された領域に設けられた着色層と、
を有する構造体。
＜１４＞ ＜１２＞に記載の膜を有するカラーフィルタ。
＜１５＞ ＜１２＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
＜１６＞ ＜１２＞に記載の膜を有する画像表示装置。

本発明によれば、欠陥の発生が抑制された膜を形成でき、かつ、長時間保管後も膜厚均一性に優れた膜を形成できる組成物を提供することができる。また、組成物を用いた膜、構造体、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することができる。

複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子を模式的に示す拡大図である。 本発明の構造体の一実施形態を示す側断面図である。 同構造体における支持体の真上方向からみた平面図である。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって標準ポリスチレン換算で計測した値を採用する。測定装置および測定条件としては、下記条件１によることを基本とし、試料の溶解性等により条件２とすることを許容する。ただし、ポリマー種によっては、さらに適宜適切なキャリア（溶離液）およびそれに適合したカラムを選定して用いてもよい。その他の事項については、ＪＩＳＫ７２５２－１～４：２００８を参照することとする。
（条件１）
カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－ＨとＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００とＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ２０００とをつないだカラム
キャリア：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
キャリア流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
注入量：０．１ｍｌ
（条件２）
カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＡＷＭ－Ｈを２本つないだカラム
キャリア：１０ｍＭ ＬｉＢｒ／Ｎ－メチルピロリドン
測定温度：４０℃
キャリア流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
注入量：０．１ｍｌ

＜組成物＞
本発明の組成物は、
複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子、複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子、および、中空構造のシリカ粒子から選ばれる少なくとも１種と、
界面活性剤と、
溶剤と、を含み、
上記シリカ粒子表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、上記ヒドロキシ基と反応する疎水化処理剤で処理されていることを特徴とする。

本発明の組成物に含まれるシリカ粒子は、複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子、複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子、および、中空構造のシリカ粒子から選ばれる少なくとも１種であって、これらのシリカ粒子表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、疎水化処理剤で処理されているので、成膜時のシリカ粒子同士の凝集を効果的に抑制でき、その結果、欠陥の発生の抑制された膜を形成することができたと推測される。
また、本発明者の検討によれば、シリカ粒子を含む組成物を長期間保管すると、保管時の経時劣化などによって乾燥時の膜粘度が面内でばらつきやすくなり、厚みムラが生じやすい傾向にあることを見出した。本発明者が更に検討を進めたところ、シリカ粒子として、複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子、複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子、および、中空構造のシリカ粒子から選ばれる少なくとも１種であって、これらのシリカ粒子表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、疎水化処理剤で処理されているものを用い、さらに界面活性剤を含有させることにより、長時間保管後の組成物を用いた場合でも膜厚均一性に優れた膜を形成することができることを見出した。このような効果が得られる理由は推測であるが、上記疎水化処理剤で処理したシリカ粒子と界面活性剤とを併用したことにより、表面エネルギーの低い界面活性剤とシリカ粒子との相溶性が向上し、成膜時の乾燥直前の膜表面エネルギーを減少させることができたため、保管時の経時劣化などにより、乾燥時の膜粘度が面内でばらついても、膜表面エネルギーが小さいため厚みムラの発生を抑制できたと推測される。
このように、本発明の組成物によれば、欠陥の発生が抑制された膜を形成でき、かつ、長時間保管後も膜厚均一性に優れた膜を形成できる。

また本発明の組成物は、経時安定性にも優れており、長期保管後も粘度の変動などを抑制することもできる。

本発明の組成物の２５℃での粘度は、３．６ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、３．４ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、３．２ｍＰａ・ｓ以下であることが更に好ましい。また、下限は、１．０ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましく、１．４ｍＰａ・ｓ以上であることがより好ましく、１．８ｍＰａ・ｓ以上であることが更に好ましい。組成物の粘度が上記範囲であれば、組成物の塗布性を高めて、厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。

本発明の組成物の固形分濃度は、５質量％以上であることが好ましく、７質量％以上であることがより好ましく、８質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１５質量％以下であることが好ましく、１２質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることが更に好ましい。本発明の組成物の固形分濃度が上記範囲であれば、屈折率が低く、かつ、欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。

本発明の組成物のゼータ電位の絶対値は、組成物中におけるシリカ粒子の分散を安定化させ、凝集物の発生を抑制しやすいという理由から２５ｍＶ以上であることが好ましく、２９ｍＶ以上であることがより好ましく、３３ｍＶ以上であることが更に好ましく、３７ｍＶ以上であることがより一層好ましい。ゼータ電位の絶対値の上限は、９０ｍＶ以下であることが好ましく、８０ｍＶ以下であることがより好ましく、７０ｍＶ以下であることが更に好ましい。また、本発明のゼータ電位は、組成物中におけるシリカ粒子の分散を安定化させやすいという理由から－７０～－２５ｍＶであることが好ましい。下限は－６０ｍＶ以上であることが好ましく、－５０ｍＶ以上であることがより好ましく、－４５ｍＶ以上であることが更に好ましい。上限は、－２８ｍＶ以下であることが好ましく、－３１ｍＶ以下であることがより好ましく、－３４ｍＶ以下であることが更に好ましい。なお、ゼータ電位とは、微粒子分散液において粒子から十分離れた電気的に中性な溶媒部分の電位をゼロとしたとき、粒子が持つ表面電荷と表面近傍に誘起された電気二重層がつくる電位のうち、粒子と共同運動する電気二重層内部の面（滑り面）における電位のことである。また、本明細書において、組成物のゼータ電位は電気泳動法により測定した値である。具体的には、ゼータ電位測定装置（Ｚｅｔａｓｉｚｅｒ Ｎａｎｏ、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｐａｎａｌｉｔｉｃａｌ社製）を用いて微粒子の電気泳動移動度を測定し、ヒュッケルの式からゼータ電位を求めた。測定条件としては、ユニバーサルディップセルを使用し、４０Ｖまたは６０Ｖの電圧を印加して正しく電気泳動する電圧を選択し、減衰器と解析モデルは自動モードとして繰り返し２０回の測定を行い、その平均値を試料のゼータ電位とした。試料は希釈等の前処理をせずそのまま使用した。

本発明の組成物の２５℃での表面張力は２７．０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２６．０ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２５．５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましく、２５．０ｍＮ／ｍ以下であることがより一層好ましい。下限は、２０．０ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、２１．０ｍＮ／ｍ以上であることがより好ましく、２２．０ｍＮ／ｍ以上であることが更に好ましい。

本発明の組成物をガラス基板上に塗布し、２００℃で５分加熱して厚さ０．５μｍの膜を形成した際に、前述の膜の２５℃の水に対する接触角は、組成物の安定性の観点から２０°以上であることが好ましく、２５°以上であることがより好ましく、３０°以上であることが更に好ましい。上限は組成物の塗布性の観点から９０°以下であることが好ましく、８５°以下であることがより好ましく、８０°以下であることが更に好ましい。上記接触角は接触角計（協和界面科学株式会社製、ＤＭ－７０１）を用いて測定した値である。

本発明の組成物をシリコンウエハ上に塗布し、２００℃で５分加熱して厚さ０．３μｍの膜を形成した際に、前述の膜の波長６３３ｎｍの光の屈折率は、１．４００以下であることが好ましく、１．３５０以下であることがより好ましく、１．３００以下であることが更に好ましく、１．２７０以下であることがより一層好ましい。下限は、特に限定はないが１．１５０以上とすることができる。上記屈折率は、エリプソメータ（Ｊ．Ａウーラム製、ＶＵＶ－ｖａｓｅ）を用いて測定した値である。測定温度は２５℃である。

以下、本発明の組成物の各成分について説明する。

＜＜シリカ粒子（シリカ粒子Ａ）＞＞
本発明の組成物は、複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子、複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子、および、中空構造のシリカ粒子から選ばれる少なくとも１種のシリカ粒子であって、上記シリカ粒子表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、上記ヒドロキシ基と反応する疎水化処理剤で処理されているシリカ粒子（以下、シリカ粒子Ａともいう）を含む。

シリカ粒子Ａとしては、より屈折率の小さい膜を形成しやすいという理由から、複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子および複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子を含むことが好ましい。以下、複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子と複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子とをあわせて数珠状シリカともいう。なお、複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子は、複数個の球状シリカが平面的に連結した形状を有していてもよい。シリカ粒子Ａの形状が数珠状シリカである場合は、数珠状シリカを構成する球状シリカの表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、疎水化処理剤で処理されている。

なお、本明細書において「球状シリカ」における「球状」とは、実質的に球形であれば良く、本発明の効果を奏する範囲で、変形していてもよい意味である。例えば、表面に凹凸を有する形状や、所定の方向に長軸を有する扁平形状も含む意味である。また、「複数個の球状シリカが数珠状に連結されている」とは、複数個の球状シリカ同士が直鎖状および／または分岐した形で繋がった構造を意味する。例えば、図１に示すように、複数個の球状シリカ１同士が、これよりも外径の小さい接合部２で連結された構造が挙げられる。また、本発明において、「複数個の球状シリカが数珠状に連結されている」構造としては、リング状につながった形態をなしている構造のみならず、末端を有する鎖状の形態をなしている構造も含まれる。また、「複数個の球状シリカが平面的に連結されている」とは、複数個の球状シリカ同士が、略同一平面上において連結された構造を意味する。なお、「略同一平面」とは同一平面である場合のみならず、同一平面から上下にずれていてもよい意味である。例えば、球状シリカの粒子径の５０％以下の範囲で上下にずれていてもよい。また、本明細書において、「中空構造のシリカ粒子」とは、粒子表面より内部に粒子を構成する素材が存在しない空隙部分を持つシリカ粒子のことを指す。空隙部分のサイズや形状、数は特に限定されない。中心部分に空隙部分を持つ外殻構造であってもよいし、粒子内部に微細な空隙部が複数分散した構造であってもよい。

数珠状シリカは、動的光散乱法により測定された平均粒子径Ｄ_１と下記式（１）により得られる平均粒子径Ｄ_２との比Ｄ_１／Ｄ_２が３以上であることが好ましい。Ｄ_１／Ｄ_２の上限は特にないが、１０００以下であることが好ましく、８００以下であることがより好ましく、５００以下であることが更に好ましい。Ｄ_１／Ｄ_２をこのような範囲とすることにより、良好な光学特性を発現することができる。なお、数珠状シリカにおけるＤ_１／Ｄ_２の値は、球状シリカのつながり度合の指標でもある。
Ｄ_２＝２７２０／Ｓ ・・・（１）
式中、Ｄ_２は数珠状シリカの平均粒子径であって、単位はｎｍであり、Ｓは、窒素吸着法により測定された数珠状シリカの比表面積であって、単位はｍ^２／ｇである。

数珠状シリカの上記平均粒子径Ｄ_２は、球状シリカの一次粒子の直径に近似する平均粒子径とみなすことができる。平均粒子径Ｄ_２は１ｎｍ以上であることが好ましく、３ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましく、７ｎｍ以上であることが特に好ましい。上限としては、１００ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、７０ｎｍ以下であることが更に好ましく、６０ｎｍ以下であることがより一層好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。

平均粒子径Ｄ_２は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定した球状部分の投影像における円相当直径（Ｄ０）で代用することができる。円相当直径による平均粒子径はとくに断らない限り、５０個以上の粒子の数平均で評価する。

数珠状シリカの上記平均粒子径Ｄ_１は、複数の球状シリカがまとまった二次粒子の数平均粒子径とみなすことができる。したがって、通常、Ｄ_１＞Ｄ_２の関係が成り立つ。平均粒子径Ｄ_１は、５ｎｍ以上であることが好ましく、７ｎｍ以上であることがより好ましく、１０ｎｍ以上であることが特に好ましい。上限としては、１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、４５ｎｍ以下であることが特に好ましい。

数珠状シリカの上記平均粒子径Ｄ_１の測定は、特に断らない限り、動的光散乱式粒径分布測定装置（日機装（株）製、マイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０）を用いて行う。手順は以下のとおりである。数珠状シリカの分散液を２０ｍｌサンプル瓶に分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルにより固形分濃度が０．２質量％になるように希釈調整する。希釈後の試料溶液は、４０ｋＨｚの超音波を１分間照射し、その直後に試験に使用する。温度２５℃で２ｍｌの測定用石英セルを使用してデータ取り込みを１０回行い、得られた「数平均」を平均粒子径とする。その他の詳細な条件等は必要によりＪＩＳＺ８８２８：２０１３「粒子径解析－動的光散乱法」の記載を参照する。１水準につき５つの試料を作製しその平均値を採用する。

数珠状シリカは、平均粒子径１～８０ｎｍの球状シリカが、連結材を介して複数個連結していることが好ましい。球状シリカの平均粒子径の上限としては、７０ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、球状シリカの平均粒子径の下限としては、３ｎｍ以上であることが好ましく、５ｎｍ以上であることがより好ましく、７ｎｍ以上であることが更に好ましい。なお、本発明において球状シリカの平均粒子径の値は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定した球状部分の投影像における円相当直径から求められる平均粒子径の値を用いる。

球状シリカ同士を連結する連結材としては、金属酸化物含有シリカが挙げられる。金属酸化物としては、例えば、Ｃａ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｙ、Ｔｉから選ばれる金属の酸化物などが挙げられる。金属酸化物含有シリカとしては、これらの金属酸化物とシリカ（ＳｉＯ_２）との反応物、混合物などが挙げられる。連結材については、国際公開第２０００／０１５５５２号の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

数珠状シリカにおける球状シリカの連結数としては、３個以上が好ましく、５個以上がより好ましい。上限は、１０００個以下が好ましく、８００個以下がより好ましく、５００個以下が更に好ましい。球状シリカの連結数は、ＴＥＭで測定できる。

数珠状シリカのゾル（粒子液）の市販品としては、日産化学工業（株）製のスノーテックスシリーズ、オルガノシリカゾルシリーズ（メタノール分散液、イソプロピルアルコール分散液、エチレングリコール分散液、メチルエチルケトン分散液など。品番ＩＰＡ－ＳＴ－ＵＰ、ＭＥＫ－ＳＴ－ＵＰなど）が挙げられる。

シリカ粒子Ａの形状が中空構造のシリカ粒子（以下、中空シリカともいう）である場合、中空シリカの空隙率は１０～７０％であることが好ましい。空隙率の下限は１５％以上であることが好ましく、２０％以上であることがより好ましい。空隙率の上限は６５％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましい。なお、中空シリカの空隙率とは、中空シリカの体積の総量に対する空隙が占める体積の割合を言う。中空シリカの空隙率は、透過型電子顕微鏡を用いて中空粒子を観察して外径と空隙径を測定し、下記の式によって「体積の総量に対する空隙が占める体積の割合」を算出することで測ることが出来る。
式：｛（空隙径）^３／（外径）^３｝×１００％

より具体的には、透過型電子顕微鏡によって観察された中空シリカを任意に１００個選定し、これらの中空シリカについてそれぞれ外側と空隙の円相当径を測定して外径、空隙径とし、上記式によって空隙率を算出してその平均値を空隙率とする方法が挙げられる。

中空シリカの平均粒子径は、１０～５００ｎｍであることが好ましい。下限は１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、２５ｎｍ以上であることが更に好ましい。上限は、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。中空シリカの平均粒子径は、動的光散乱方法で測定した値である。

シリカ粒子Ａは、シリカ粒子表面のヒドロキシ基の１～８０％が疎水化処理剤で処理されていることが好ましく、３～５０％が疎水化処理剤で処理されていることがより好ましく、５～３０％が疎水化処理剤で処理されていることが更に好ましい。シリカ粒子表面のヒドロキシ基の疎水化処理剤による処理率は、固体ＮＭＲ（核磁気共鳴）法にて^２９Ｓｉシグナルを観測して算出することができる。

疎水化処理剤としては、シリカ粒子表面のヒドロキシ基と反応する構造（好ましくは、シリカ粒子表面のヒドロキシ基とカップリング反応する構造）を有し、シリカ粒子の疎水性を向上させる化合物が用いられる。疎水化処理剤は有機化合物であることが好ましい。疎水化処理剤の具体例としては、有機ケイ素化合物、有機チタン化合物、有機ジルコニウム化合物および有機アルミニウム化合物が挙げられ、屈折率の上昇を抑制できるという理由から有機ケイ素化合物であることがより好ましい。疎水化処理剤は１種のみであってもよく、２種以上を併用してもよい。

有機ケイ素化合物としては、有機シラン化合物であることが好ましい。有機シラン化合物としては、アルキルシラン化合物、アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合物、アミノシラン化合物、シラザン化合物などが挙げられる。

疎水化処理剤としては、式（Ｓ－１）で表される化合物、式（Ｓ－２）で表される化合物または式（Ｓ－３）で表される化合物であることが好ましい。

（Ｒｓ^１）_ｎ１－Ｓｉ－（Ｘｓ^１）_ｎ２ ・・・（Ｓ－１）
式（Ｓ－１）中、Ｒｓ^１は炭化水素基を表し、
Ｘｓ^１はアルコキシ基を表し、
ｎ１は０～３の整数を表し、
ｎ２は１～４の整数を表し、
ｎ１が２または３の場合、ｎ１個のＲｓ^１は同一であってもよく、異なっていてもよく、ｎ２が２～４の場合、ｎ２個のＸｓ^１は同一であってもよく、異なっていてもよく、ｎ１＋ｎ２は４である。

（Ｒｓ^１１）_ｎ１１－Ｓｉ－（Ｘｓ^１１）_ｎ１２ ・・・（Ｓ－２）
式（Ｓ－２）中、Ｒｓ^１１は炭化水素基を表し、
Ｘｓ^１１は、水素原子、ハロゲン原子またはＮＲｘ^１Ｒｘ^２を表し、Ｒｘ^１およびＲｘ^２は、それぞれ独立して水素原子または炭化水素基を表し、
ｎ１１は１～３の整数を表し、
ｎ１２は１～３の整数を表し、
ｎ１１が２または３の場合、ｎ１１個のＲｓ^１１は同一であってもよく、異なっていてもよく、ｎ１２が２または３の場合、ｎ１２個のＸｓ^１１は同一であってもよく、異なっていてもよく、ｎ１１＋ｎ１２は４である。

式（Ｓ－３）中、Ｒｓ^２１～Ｒｓ^２６はそれぞれ独立して炭化水素基を表し、Ｒｓ^２７は水素原子または炭化水素基を表す。

式（Ｓ－１）のＲｓ^１が表す炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基が挙げられ、欠陥の抑制された膜を形成しやすいという理由からアルキル基であることが好ましい。
アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましく、１または２がより一層好ましく、１が特に好ましい。アルキル基としては、直鎖、分岐及び環状が挙げられ、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
アルケニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～５がより好ましく、２～３が更に好ましく、２がより一層好ましい。アルケニル基は、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
アルキニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～５がより好ましく、２～３が更に好ましく、２がより一層好ましい。アルキニル基は、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６～１０が更に好ましく、６がより一層好ましい。
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基などが挙げられる。

式（Ｓ－１）のＸｓ^１が表すアルコキシ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。

式（Ｓ－１）のｎ１は０～３の整数を表し、１～３の整数が好ましく、２または３がより好ましく、３が更に好ましい。ｎ２は１～４の整数を表し、１～３の整数が好ましく、１または２がより好ましく、１が更に好ましい。

式（Ｓ－１）で表される化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリプロピルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどが挙げられる。

式（Ｓ－２）のＲｓ^１１が表す炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基が挙げられ、欠陥の抑制された膜を形成しやすいという理由からアルキル基であることが好ましい。Ｒｓ^１１が表す炭化水素基の詳細については、式（Ｓ－１）のＲｓ^１が表す炭化水素基と同様であり、好ましい範囲も同様である。

式（Ｓ－２）のＸｓ^１１が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。
式（Ｓ－２）のＸｓ^１１がＮＲｘ^１Ｒｘ^２である場合におけるＲｘ^１およびＲｘ^２が表す炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基が挙げられ、アルキル基であることが好ましい。Ｒｘ^１およびＲｘ^２が表す炭化水素基の詳細については、式（Ｓ－１）のＲｓ^１が表す炭化水素基と同様であり、好ましい範囲も同様である。Ｒｘ^１およびＲｘ^２はそれぞれ独立して、水素原子であることが好ましい。

式（Ｓ－２）のｎ１１は１～３の整数を表し、２または３が好ましく、３がより好ましい。ｎ１２は１～３の整数を表し、１または２が好ましく、１がより好ましい。

式（Ｓ－２）で表される化合物の具体例としては、トリメチルシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルアミノシラン、ジエチルアミノトリメチルシラン、トリエチルシラン、トリエチルクロロシランなどが挙げられる。

式（Ｓ－３）のＲｓ^２１～Ｒｓ^２７が表す炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基が挙げられ、欠陥の抑制された膜を形成しやすいという理由からアルキル基であることが好ましい。Ｒｓ^２１～Ｒｓ^２７が表す炭化水素基の詳細については、式（Ｓ－１）のＲｓ^１が表す炭化水素基と同様であり、好ましい範囲も同様である。式（Ｓ－３）において、Ｒｓ^２１～Ｒｓ^２６はそれぞれ独立してアルキル基を表し、Ｒｓ^２７は水素原子を表すことが好ましい。

式（Ｓ－３）で表される化合物の具体例としては、ヘキサメチルジシラザンなどが挙げられる。

疎水化処理剤のＣＬｏｇＰ値は、０．０～１０．０であることが好ましい。下限は、疎水化効果の観点から０．１以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましい。上限は、シリカとの相溶性の観点から５．０以下であることが好ましく、２．５以下であることがより好ましい。
ここで、ＣＬｏｇＰ値とは、１－オクタノール／水の分配係数Ｐの常用対数であるｌｏｇＰの計算値である。材料のＣＬｏｇＰの値が大きいほど疎水的な材料であることを意味する。なお、本明細書において、ＣＬｏｇＰ値は、Ｄａｙｌｉｇｈｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ， Ｉｎｃ．から入手できるプログラム「ＣＬＯＧＰ」で計算された値である。このプログラムは、Ｈａｎｓｃｈ， Ｌｅｏのフラグメントアプローチ（下記文献参照）により算出される「計算ＬｏｇＰ」の値を提供する。フラグメントアプローチは化合物の化学構造に基づいており、化学構造を部分構造（フラグメント）に分割し、そのフラグメントに対して割り当てられたＬｏｇＰ寄与分を合計することにより化合物のＬｏｇＰ値を推算している。本明細書において、フラグメント値として、Ｆｒａｇｍｅｎｔ ｄａｔａｂａｓｅ ｖｅｒ． ２３ （Ｂｉｏｂｙｔｅ社）を使用した。計算ソフトとしてはＢｉｏ Ｌｏｏｍ ｖｅｒ １．５などが挙げられる。

疎水化処理剤の分子量は、５０～１０００であることが好ましい。下限は、７０以上であることが好ましく、８０以上であることがより好ましい。上限は、５００以下であることが好ましく、２００以下であることがより好ましい。

シリカ粒子Ａを用いて形成した厚さ０．４μｍの膜の２５℃の水に対する接触角は、２０～９０°であることが好ましく、３０～８５°であることがより好ましく、４０～８０°であることが更に好ましい。上記接触角は接触角計（協和界面科学株式会社製、ＤＭ－７０１）を用いて測定した値である。

本発明の組成物中におけるシリカ粒子Ａの含有量は４質量％以上であることが好ましく、６質量％以上であることがより好ましく、７質量％以上であることが更に好ましい。上限は１５質量％以下であることが好ましく、１３質量％以下であることがより好ましく、１１質量％以下であることが更に好ましい。
また、本発明の組成物の全固形分中におけるシリカ粒子Ａの含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、９９．９５質量％以下とすることができ、９９．９質量％以下とすることもでき、９９質量％以下とすることもでき、９５質量％以下とすることもできる。シリカ粒子Ａの含有量が上記範囲であれば、低屈折率で反射防止効果の高い膜が得られやすい。また、パターン形成を行わない場合や、エッチング法でパターン形成する場合においては、本発明の組成物の全固形分中におけるシリカ粒子Ａの含有量は高いことが好ましく、例えば９５質量％以上が好ましく、９７質量％以上がより好ましく、９９質量％以上が更に好ましい。

＜＜アルコキシシラン加水分解物＞＞
本発明の組成物は、アルコキシシラン及びアルコキシシランの加水分解物からなる群より選ばれた少なくとも１種の成分（アルコキシシラン加水分解物と称する）を含むことが好ましい。本発明の組成物がアルコキシシラン加水分解物をさらに含むことで、製膜時にシリカ粒子同士を強固に結合させ、製膜時に膜内の気孔率を向上させる効果を発現させることができる。また、このアルコキシシラン加水分解物を用いることにより、膜表面の濡れ性を向上させることができる。アルコキシシラン加水分解物は、アルコキシシラン化合物の加水分解による縮合によって生成したものであることが好ましく、アルコキシシラン化合物とフルオロアルキル基含有のアルコキシシラン化合物との加水分解による縮合によって生成したものであることがより好ましい。アルコキシシラン加水分解物としては、国際公開第２０１５／１９０３７４号の段落番号００２２～００２７に記載されたアルコキシシラン加水分解物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。本発明の組成物がアルコキシシラン加水分解物を含有する場合、シリカ粒子Ａとアルコキシシラン加水分解物との合計の含有量は、組成物中の全固形分に対して０．１質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上が特に好ましい。上限としては、９９．９９質量％以下が好ましく、９９．９５質量％以下がより好ましく、９９．９質量％以下が特に好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞
本発明の組成物は界面活性剤を含有する。界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤およびアニオン性界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤およびカチオン性界面活性剤であることが好ましく、より優れた膜厚均一性が得られやすいという理由からノニオン性界面活性剤であることがより好ましい。

また、ノニオン性界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤であることが好ましく、より優れた膜厚均一性が得られやすいという理由からシリコーン系界面活性剤であることがより好ましい。なお、本明細書において、シリコーン系界面活性剤とは、主鎖にシロキサン結合を含む繰り返し単位を有する化合物であって、一分子内に疎水部と親水部とを含む化合物のことである。

（シリコーン系界面活性剤）
シリコーン系界面活性剤は、フッ素原子を含まない化合物であることが好ましい。また、シリコーン系界面活性剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇ中にシリコーン系界面活性剤０．１ｇを溶解させて溶液を調製した際に、この溶液の２５℃における表面張力が１９．５～２６．７ｍＮ／ｍを示すものが好ましい。

シリコーン系界面活性剤の２５℃での動粘度は、２０～３０００ｍｍ^２／ｓであることが好ましい。動粘度の下限は、２２ｍｍ^２／ｓ以上であることが好ましく、２５ｍｍ^２／ｓ以上であることがより好ましく、３０ｍｍ^２／ｓ以上であることが更に好ましい。動粘度の上限は、２５００ｍｍ^２／ｓ以下であることが好ましく、２０００ｍｍ^２／ｓ以下であることがより好ましく、１５００ｍｍ^２／ｓ以下であることが更に好ましい。シリコーン系界面活性剤の動粘度が上記範囲であれば、より優れた塗布性が得られやすく、厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。

シリコーン系界面活性剤の重量平均分子量は、５００～５００００であることが好ましい。重量平均分子量の下限は、６００以上であることが好ましく、７００以上であることがより好ましく、８００以上であることが更に好ましい。重量平均分子量の上限は、４００００以下であることが好ましく、３００００以下であることがより好ましく、２００００以下であることが更に好ましい。

シリコーン系界面活性剤は、変性シリコーン化合物であることが好ましい。変性シリコーン化合物としては、ポリシロキサンの側鎖および／または末端に有機基を導入した構造の化合物が挙げられる。有機基としては、アミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、脂肪酸エステル基および脂肪酸アミド基から選ばれる官能基を含む基、並びに、ポリエーテル鎖を含む基が挙げられ、厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすいという理由からカルビノール基を含む基、および、ポリエーテル鎖を含む基であることが好ましい。

カルビノール基を含む基としては、下記式（Ｇ－１）で表される基が挙げられる。
－Ｌ^Ｇ１－ＣＨ_２ＯＨ ・・・（Ｇ－１）

式（Ｇ－１）において、Ｌ^Ｇ１は単結合または連結基を表す。Ｌ^Ｇ１が表す連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基、より好ましくは１～６のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基、より好ましくは６～１２のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。

カルビノール基を含む基は、式（Ｇ－２）で表される基であることが好ましい。
－Ｌ^Ｇ２－Ｏ－Ｌ^Ｇ３－ＣＨ_２ＯＨ ・・・（Ｇ－２）

式（Ｇ－２）において、Ｌ^Ｇ２およびＬ^Ｇ３はそれぞれ独立して、単結合またはアルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基、より好ましくは１～６のアルキレン基）を表し、アルキレン基を表すことが好ましい。

ポリエーテル鎖を含む基としては、下記式（Ｇ－１１）で表される基および式（Ｇ－１２）で表される基が挙げられる。

－Ｌ^Ｇ１１－（Ｒ^Ｇ１Ｏ）_ｎ１Ｒ^Ｇ２ ・・・（Ｇ－１１）
－Ｌ^Ｇ１１－（ＯＲ^Ｇ１）_ｎ１ＯＲ^Ｇ２ ・・・（Ｇ－１２）

式（Ｇ－１１）および式（Ｇ－１２）において、Ｌ^Ｇ１１は単結合または連結基を表す。Ｌ^Ｇ１１が表す連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基、より好ましくは１～６のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基、より好ましくは６～１２のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。

式（Ｇ－１１）および式（Ｇ－１２）において、ｎ１は２以上の数を表し、２～２００が好ましい。

式（Ｇ－１１）および式（Ｇ－１２）において、Ｒ^Ｇ１は、アルキレン基を表す。アルキレン基の炭素数は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましく、２または３が特に好ましい。Ｒ^Ｇ１が表すアルキレン基は、直鎖または分岐のいずれでもよい。ｎ１個のＲ^Ｇ１が表すアルキレン基は同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｇ－１１）および式（Ｇ－１２）において、Ｒ^Ｇ２は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ^Ｇ２が表すアルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は直鎖または分岐のいずれでもよい。Ｒ^Ｇ２が表すアリール基の炭素数は６～２０が好ましく、６～１０がより好ましい。

ポリエーテル鎖を含む基は、下記式（Ｇ－１３）で表される基または式（Ｇ－１４）で表される基であることが好ましい。
－Ｌ^Ｇ１２－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ２（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｎ３Ｒ^Ｇ３ ・・・（Ｇ－１３）
－Ｌ^Ｇ１２－（ＯＣ_２Ｈ_４）_ｎ２（ＯＣ_３Ｈ_６）_ｎ３ＯＲ^Ｇ３ ・・・（Ｇ－１４）

式（Ｇ－１３）及び式（Ｇ－１４）において、Ｌ^Ｇ１２は単結合または連結基を表す。Ｌ^Ｇ１２が表す連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基、より好ましくは１～６のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基、より好ましくは６～１２のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。

式（Ｇ－１３）及び式（Ｇ－１４）において、ｎ２およびｎ３はそれぞれ独立して１以上の数を表し、１～１００が好ましい。

式（Ｇ－１３）および式（Ｇ－１４）において、Ｒ^Ｇ３は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ^Ｇ３が表すアルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は直鎖または分岐のいずれでもよい。Ｒ^Ｇ３が表すアリール基の炭素数は６～２０が好ましく、６～１０がより好ましい。

変性シリコーン化合物は、下記式（Ｓｉ－１）～式（Ｓｉ－５）で表される化合物であることが好ましい。

式（Ｓｉ－１）において、Ｒ^１～Ｒ^７はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、
Ｘ^１は、アミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、脂肪酸エステル基および脂肪酸アミド基から選ばれる官能基を含む基、または、ポリエーテル鎖を含む基を表し、
ｍ１は、２～２００の数を表す。

Ｒ^１～Ｒ^７が表すアルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましく、１が特に好ましい。Ｒ^１～Ｒ^７が表すアルキル基は直鎖または分岐のいずれでもよいが、直鎖であることが好ましい。Ｒ^１～Ｒ^７が表すアリール基の炭素数は６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６であることが特に好ましい。Ｒ^１～Ｒ^７は、それメチル基またはフェニル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。

Ｘ^１は、カルビノール基を含む基またはポリエーテル鎖を含む基であることが好ましく、カルビノール基を含む基であることがより好ましい。カルビノール基を含む基およびポリエーテル鎖を含む基の好ましい範囲については上述した範囲と同義である。

式（Ｓｉ－２）において、Ｒ^１１～Ｒ^１６はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、
Ｘ^１１およびＸ^１２はそれぞれ独立してアミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、脂肪酸エステル基および脂肪酸アミド基から選ばれる官能基を含む基、または、ポリエーテル鎖を含む基を表し、
ｍ１１は、２～２００の数を表す。

式（Ｓｉ－２）のＲ^１１～Ｒ^１６は、式（Ｓｉ－１）のＲ^１～Ｒ^７と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（Ｓｉ－２）のＸ^１１およびＸ^１２は、式（Ｓｉ－１）のＸ^１と同義であり、好ましい範囲も同様である。

式（Ｓｉ－３）において、Ｒ^２１～Ｒ^２９はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、
Ｘ^２１は、アミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、脂肪酸エステル基および脂肪酸アミド基から選ばれる官能基を含む基、または、ポリエーテル鎖を含む基を表し、
ｍ２１およびｍ２２は、それぞれ独立して１～１９９の数を表し、ｍ２２が２以上の場合は、ｍ２２個のＸ^２１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｓｉ－３）のＲ^２１～Ｒ^２９は、式（Ｓｉ－１）のＲ^１～Ｒ^７と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（Ｓｉ－３）のＸ^２１は、式（Ｓｉ－１）のＸ^１と同義であり、好ましい範囲も同様である。

式（Ｓｉ－４）において、Ｒ^３１～Ｒ^３８はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、
Ｘ^３１およびＸ^３２はそれぞれ独立して、アミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、脂肪酸エステル基および脂肪酸アミド基から選ばれる官能基を含む基、または、ポリエーテル鎖を含む基を表し、
ｍ３１およびｍ３２は、それぞれ独立して１～１９９の数を表し、ｍ３２が２以上の場合は、ｍ３２個のＸ^３１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｓｉ－４）のＲ^３１～Ｒ^３８は、式（Ｓｉ－１）のＲ^１～Ｒ^７と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（Ｓｉ－４）のＸ^３１およびＸ^３２は、式（Ｓｉ－１）のＸ^１と同義であり、好ましい範囲も同様である。

式（Ｓｉ－５）において、Ｒ^４１～Ｒ^４７はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、
Ｘ^４１～Ｘ^４３はそれぞれ独立して、アミノ基、エポキシ基、脂環式エポキシ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシル基、脂肪酸エステル基および脂肪酸アミド基から選ばれる官能基を含む基、または、ポリエーテル鎖を含む基を表し、
ｍ４１およびｍ４２は、それぞれ独立して１～１９９の数を表し、ｍ４２が２以上の場合は、ｍ４２個のＸ^４２はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（Ｓｉ－５）のＲ^４１～Ｒ^４７は、式（Ｓｉ－１）のＲ^１～Ｒ^７と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（Ｓｉ－４）のＸ^４１～Ｘ^４３は、式（Ｓｉ－１）のＸ^１と同義であり、好ましい範囲も同様である。

シリコーン系界面活性剤の具体例としては、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、Ｓｉｌｗｅｔ Ｌ－７７、Ｌ－７２８０、Ｌ－７００１、Ｌ－７００２、Ｌ－７２００、Ｌ－７２１０、Ｌ－７２２０、Ｌ－７２３０、Ｌ７５００、Ｌ－７６００、Ｌ－７６０２、Ｌ－７６０４、Ｌ－７６０５、Ｌ－７６２２、Ｌ－７６５７、Ｌ－８５００、Ｌ－８６１０（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。

（フッ素系界面活性剤）
フッ素系界面活性剤としては、ポリエチレン主鎖を有するポリマー（高分子）界面活性剤であることが好ましい。なかでも、ポリ（メタ）クリレート構造を有するポリマー（高分子）界面活性剤が好ましい。なかでも、本発明においては、上記ポリオキシアルキレン構造を有する（メタ）アクリレート構成単位と、フッ化アルキルアクリレート構成単位とを含む共重合体が好ましい。

また、フッ素系界面活性剤として、いずれかの部位にフルオロアルキル基又はフルオロアルキレン基（炭素数１～２４が好ましく、２～１２がより好ましい。）を有する化合物を好適に用いることができる。好ましくは、側鎖に上記フルオロアルキル基又はフルオロアルキレン基を有する高分子化合物を用いることができる。フッ素系界面活性剤としては、さらに上記ポリオキシアルキレン構造を有することが好ましく、側鎖にポリオキシアルキレン構造を有することがより好ましい。フルオロアルキル基又はフルオロアルキレン基を有する化合物については、国際公開第２０１５／１９０３７４号の段落００３４～００４０に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ５５９、Ｆ７８０、Ｆ７８１Ｆ（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、Ｓ－１４１、Ｓ－１４５、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５１、ＥＦ３５２（以上、ジェムコ（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－０８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。

（その他のノニオン性界面活性剤）
フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤以外のノニオン性界面活性剤として、ポリオキシアルキレン構造を有する界面活性剤を用いることもできる。ポリオキシアルキレン構造とは、アルキレン基と二価の酸素原子が隣接して存在している構造のことをいい、具体的にはエチレンオキサイド（ＥＯ）構造、プロピレンオキサイド（ＰＯ）構造などが挙げられる。ポリオキシアルキレン構造は、アクリルポリマーのグラフト鎖を構成していてもよい。

（カチオン性界面活性剤）
カチオン性界面活性剤としては、同一分子内に親水部であるカチオン性部と疎水部を複数有する化合物が挙げられる。親水部のカチオン性基としては、アミノ基またはその塩、４級アンモニウム基または塩、ヒドロキシアンモニウム基または塩、エーテルアンモニウム基または塩、ピリジニウム基または塩、イミダゾリウム基または塩、イミダゾリン基または塩、ホスホニウム基または塩などが挙げられる。カチオン性界面活性剤としては、第４級アンモニウム塩系界面活性剤、アルキルピリジウム系界面活性剤、ポリアリルアミン系界面活性剤等が挙げられる。カチオン性界面活性剤の具体例としては、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライドなどが挙げられる。

（アニオン性活性剤）
アニオン性界面活性剤としては、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）製）、ＥＭＵＬＳＯＧＥＮ ＣＯＬ－０２０、ＥＭＵＬＳＯＧＥＮ ＣＯＡ－０７０、ＥＭＵＬＳＯＧＥＮ ＣＯＬ－０８０（クラリアントジャパン（株）製）、プライサーフ Ａ２０８Ｂ（第一工業製薬（株）製）等が挙げられる。アニオン性を示す基としては、カルボキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基が挙げられる。これらの酸基は塩を形成していてもよい。

本発明の組成物中における界面活性剤の含有量は、０．０１～３．０質量％であることが好ましい。下限は０．０２質量％以上であることが好ましく、０．０３質量％以上であることがより好ましく、０．１質量％以上であることが更に好ましい。上限は、２．０質量％以下であることが好ましく、１．５質量％以下であることがより好ましく、１．０質量％以下であることが更に好ましい。
また、本発明の組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．１～３０質量％であることが好ましい。下限は０．２質量％以上であることが好ましく、０．３質量％以上であることがより好ましい。上限は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましい。
また、シリカ粒子Ａの１００質量部に対して界面活性剤を０．１～２５質量部含有することが好ましい。下限は０．２質量部以上であることが好ましく、０．３質量部以上であることがより好ましい。上限は、２０質量部以下であることが好ましく、１５質量部以下であることがより好ましく、１０質量部以下であることが更に好ましい。
界面活性剤の含有量が上記範囲であれば、組成物の塗布性をより向上させることができより優れた膜厚均一性が得られやすい。界面活性剤は、１種類のみであってもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。また、界面活性剤を２種以上使用する場合、界面活性剤の組み合わせとしては、特に限定はなく、カチオン性界面活性剤を２種以上用いてもよく、アニオン性界面活性剤を２種以上用いてもよく、ノニオン性界面活性剤を２種以上用いてもよく、１種以上のカチオン性界面活性剤と１種以上のノニオン性界面活性剤とを用いてもよく、１種以上のアニオン性界面活性剤と１種以上のノニオン性界面活性剤とを用いてもよい。

＜＜溶剤＞＞
本発明の組成物は、溶剤を含有する。溶剤として、有機溶剤および水が挙げられ、有機溶剤を少なくとも含むことが好ましい。有機溶剤としては、脂肪族炭化水素系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、ニトリル系溶剤、アミド系溶剤、スルホキシド系溶剤、芳香族系溶剤などが挙げられる。

脂肪族炭化水素系溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ペンタン、シクロペンタン、ヘプタン、オクタンなどが挙げられる。

ハロゲン化炭化水素系溶剤としては、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロメタン、二塩化エタン、四塩化炭素、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、エピクロロヒドリン、モノクロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン、アリルクロライド、モノクロロ酢酸メチル、モノクロロ酢酸エチル、モノクロロ酢酸トリクロロ酢酸、臭化メチル、トリ（テトラ）クロロエチレンなどが挙げられる。

アルコール系溶剤としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、２－ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、１，６－ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、ソルビトール、キシリトール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、３－メトキシ－１－ブタノール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオールなどが挙げられる。

エーテル系溶剤としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、シクロヘキシルメチルエーテル、アニソール、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエ－テル、プロピレングリコールモノブチルエ－テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコ－ルモノメチルエ－テル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエ－テル、ジプロピレングリコールモノブチルエ－テル、ジプロピレングリコールメチル－ｎ－プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエ－テル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテルなどが挙げられる。

エステル系溶剤としては、炭酸プロピレン、ジプロピレン、１，４－ブタンジオールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ－プロピルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリアセチンなどが挙げられる。

ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノンなどが挙げられる。

ニトリル系溶剤としては、アセトニトリルなどが挙げられる。

アミド系溶剤としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、１－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリジノン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、２－ピロリジノン、ε－カプロラクタム、ホルムアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルプロパンアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。

スルホキシド系溶剤としては、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。

芳香族系溶剤としては、ベンゼン、トルエンなどが挙げられる。

厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすいという理由から、本発明においては、溶剤として、アルコール系溶剤を含むものを用いることが好ましい。アルコール系溶剤は、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノールおよび２－ブタノールから選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、メタノールおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種であることがより好ましい。なかでも、アルコール系溶剤は、メタノールを少なくとも含むものであることが好ましく、欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすいという理由からメタノールとエタノールとを含むものであることがより好ましい。

本発明の組成物中における溶剤の含有量は、７０～９９質量％であることが好ましい。上限は９３質量％以下であることが好ましく、９２質量％以下であることがより好ましく、９０質量％以下であることが更に好ましい。下限は７５質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、８５質量％以上であることが更に好ましい。

また、溶剤全量中におけるアルコール系溶剤の含有量は、０．１～１０質量％であることが好ましい。上限は８質量％以下であることが好ましく、６質量％以下であることがより好ましく、４質量％以下であることが更に好ましい。下限は０．３質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましく、１質量％以上であることが更に好ましい。アルコール系溶剤の含有量が上記範囲であれば、上述した効果がより顕著に得られやすい。アルコール系溶剤は１種のみであってもよく、２種以上を併用してもよい。本発明の組成物がアルコール系溶剤を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。

本発明においては、溶剤として、沸点が１９０℃以上２８０℃以下の溶剤Ａ１を含むものを用いることが好ましい。なお、本明細書において溶剤の沸点は１気圧（０．１ＭＰａ）での値である。

溶剤Ａ１の沸点は、２００℃以上であることが好ましく、２１０℃以上であることがより好ましく、２２０℃以上であることがより好ましい。また、溶剤Ａ１の沸点は、２７０℃以下であることが好ましく、２６５℃以下であることが更に好ましい。

溶剤Ａ１の粘度は、１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、７ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、４ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましい。溶剤Ａ１の粘度の下限は、塗布性の観点から１．０ｍＰａ・ｓ以上であることが好ましく、１．４ｍＰａ・ｓ以上であることがより好ましく、１．８ｍＰａ・ｓ以上であることが更に好ましい。

溶剤Ａ１の分子量は、１００以上であることが好ましく、１３０以上であることがより好ましく、１４０以上であることが更に好ましく、１５０以上であることが特に好ましい。上限は、塗布性の観点から３００以下であることが好ましく、２９０以下であることがより好ましく、２８０以下であることが更に好ましく、２７０以下であることが特に好ましい。

溶剤Ａ１の溶解度パラメータは、８．５～１３．３（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５であることが好ましい。上限は、１２．５（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることが好ましく、１１．５（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることがより好ましく、１０．５（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることが更に好ましい。下限は、８．７（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることが好ましく、８．９（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることがより好ましく、９．１（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることが更に好ましい。溶剤Ａ１の溶解度パラメータが上記範囲であれば、シリカ粒子Ａとの高い親和性が得られ、優れた塗布性が得られやすい。なお、１（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５は、２．０４５５ＭＰａ^０．５である。また、溶剤の溶解度パラメータは、ＨＳＰiＰで計算した値である。

なお、本明細書において、溶剤の溶解度パラメータは、ハンセン溶解度パラメータを用いる。具体的には、ハンセン溶解度パラメータ・ソフトウエア「ＨＳＰｉＰ ５．０．０９」を用いて算出される値を用いる。

溶剤Ａ１は、非プロトン性溶剤であることが好ましい。溶剤Ａ１として非プロトン性溶剤を用いることで、製膜時でのシリカ粒子Ａの凝集をより効果的に抑制でき、厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。

溶剤Ａ１は、エーテル系溶剤及びエステル系溶剤が好ましく、エステル系溶剤がより好ましい。また、溶剤Ａ１として用いられるエステル系溶剤は、ヒドロキシ基や、末端アルコキシ基を含まない化合物であることが好ましい。このような官能基を有さないエステル系溶剤を用いることで、厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。

溶剤Ａ１は、シリカ粒子Ａとの高い親和性が得られ、優れた塗布性が得られやすいという理由から、アルキレンジオールジアセテートおよび環状カルボナートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。アルキレンジオールジアセテートとしては、プロピレングリコールジアセテート、１，４－ブタンジオールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテートなどが挙げられる。環状カルボナートとしては、炭酸プロピレン、炭酸エチレンなどが挙げられる。

溶剤Ａ１の具体例としては、炭酸プロピレン（沸点２４０℃）、炭酸エチレン（沸点２６０℃）、プロピレングリコールジアセテート（沸点１９０℃）、ジプロピレングリコールメチル－ｎ－プロピルエーテル（沸点２０３℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点２１３℃）、１，４－ブタンジオールジアセテート（沸点２３２℃）、１，３－ブチレングリコールジアセテート（沸点２３２℃）、１，６－ヘキサンジオールジアセテート（沸点２６０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点２１７℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点２４７℃）、トリアセチン（沸点２６０℃）、ジプロピレングリコ－ルモノメチルエ－テル（沸点１９０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（沸点２０２℃）、ジプロピレングリコールモノプロピルエ－テル（沸点２１２℃）、ジプロピレングリコールモノブチルエ－テル（沸点２２９℃）、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点２４２℃）、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル（沸点２７４℃）などが挙げられる。

本発明の組成物に用いられる溶剤は、上記溶剤Ａ１を３質量％以上含有するものであることが好ましく、４質量％以上含有するものであることがより好ましく、５質量％以上含有するものであることが更に好ましい。この態様によれば、上述した本発明の効果が顕著に得られやすい。上限は、２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１２質量％以下であることが更に好ましい。溶剤Ａ１は１種のみであってもよく、２種以上を併用してもよい。本発明の組成物が溶剤Ａ１を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。

本発明の組成物に用いられる溶剤は、上述した溶剤Ａ１のほかに、さらに、沸点が１１０℃以上１９０℃未満の溶剤Ａ２を含有することも好ましい。この態様によれば、組成物の乾燥性を適度に高めて厚みムラがより抑制された膜を形成しやすい。

溶剤Ａ２の沸点は、１１５℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがより好ましく、１３０℃以上であることがより好ましい。また、溶剤Ａ２の沸点は、１７０℃以下であることが好ましく、１５０℃以下であることが更に好ましい。溶剤Ａ２の沸点が上記範囲であれば、上述した効果がより顕著に得られやすい。

溶剤Ａ２の分子量は、上述した効果がより顕著に得られやすいという理由から、１００以上であることが好ましく、１３０以上であることがより好ましく、１４０以上であることが更に好ましく、１５０以上であることが特に好ましい。上限は、塗布性の観点から３００以下であることが好ましく、２９０以下であることがより好ましく、２８０以下であることが更に好ましく、２７０以下であることが特に好ましい。

溶剤Ａ２の溶解度パラメータは、９．０～１１．４（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５であることが好ましい。上限は、１１．０（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることが好ましく、１０．６（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることがより好ましく、１０．２（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることが更に好ましい。下限は、９．２（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることが好ましく、９．４（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることがより好ましく、９．６（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることが更に好ましい。溶剤Ａ２の溶解度パラメータが上記範囲であれば、シリカ粒子Ａとの高い親和性が得られ、優れた塗布性が得られやすい。また、溶剤Ａ１の溶解度パラメータと溶剤Ａ２の溶解度パラメータとの差の絶対値は、０．０１～１．１（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５であることが好ましい。上限は、０．９（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることが好ましく、０．７（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることがより好ましく、０．５（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以下であることが更に好ましい。下限は、０．０３（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることが好ましく、０．０５（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることがより好ましく、０．０８（ｃａｌ／ｃｍ^３）^０．５以上であることが更に好ましい。

溶剤Ａ２は、エーテル系溶剤及びエステル系溶剤から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、エステル系溶剤を少なくとも含むことがより好ましく、エーテル系溶剤及びエステル系溶剤を含むことが更に好ましい。溶剤Ａ２の具体例としては、シクロヘキサノールアセテート（沸点１７３℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７５℃）、ブチルアセテート（沸点１２６℃）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４５℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）、３－メトキシブチルアセテート（沸点１７１℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２０℃）、３－メトキシブタノール（沸点１６１℃）、プロピレングリコールモノプロピルエ－テル（沸点１５０℃）、プロピレングリコールモノブチルエ－テル（沸点１７０℃）、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（沸点１８８℃）などが挙げられ、シリカ粒子Ａとの高い親和性が得られ、優れた塗布性が得られやすいという理由からプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを少なくとも含むことが好ましい。

本発明の組成物に用いられる溶剤が溶剤Ａ２を含有する場合、溶剤Ａ２の含有量は、溶剤Ａ１の１００質量部に対して５００～５０００質量部であることが好ましい。上限は４５００質量部以下であることが好ましく、４０００質量部以下であることがより好ましく、３５００質量部以下であることが更に好ましい。下限は６００質量部以上であることが好ましく、７００質量部以上であることがより好ましく、７５０質量部以上であることが更に好ましい。また、溶剤全量中における溶剤Ａ２の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが更に好ましい。上限は９５質量％以下であることが好ましく、９０質量％以下であることがより好ましく、８５質量％以下であることが更に好ましい。溶剤Ａ２の含有量が上記範囲であれば、本発明の効果がより顕著に得られやすい。溶剤Ａ２は１種のみであってもよく、２種以上を併用してもよい。本発明の組成物が溶剤Ａ２を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。

また、本発明の組成物に用いられる溶剤は、溶剤Ａ１と溶剤Ａ２とを合計で６２質量％以上含有するものであることが好ましく、７２質量％以上であることがより好ましく、８２質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることもでき、９６質量％以下とすることもでき、９２質量％以下とすることもできる。

本発明の組成物に用いられる溶剤は、更に水を含有することも好ましい。この態様によれば、シリカ粒子Ａとの高い親和性が得られ、優れた塗布性が得られやすい。本発明の組成物に用いられる溶剤が更に水を含有する場合、溶剤全量中における水の含有量は、０．１～５質量％であることが好ましい。上限は４質量％以下であることが好ましく、２．５質量％以下であることがより好ましく、１．５質量％以下であることが更に好ましい。下限は０．３質量％以上であることが好ましく、０．５質量％以上であることがより好ましく、０．７質量％以上であることが更に好ましい。水の含有量が上記範囲であれば、上述した効果がより顕著に得られやすい。

本発明の組成物に用いられる溶剤は、更に、沸点が２８０℃を超える溶剤Ａ３を含有することができる。この態様によれば、組成物の乾燥性を適度に高めて厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。溶剤Ａ３の沸点の上限は、４００℃以下であることが好ましく、３８０℃以下であることがより好ましく、３５０℃以下であることが更に好ましい。溶剤Ａ３は、エーテル系溶剤及びエステル系溶剤から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。溶剤Ａ３の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテルなどが挙げられる。本発明の組成物に用いられる溶剤が更に溶剤Ａ３を含有する場合、溶剤全量中における溶剤Ａ３の含有量は、０．５～１５質量％であることが好ましい。上限は１０質量％以下であることが好ましく、８質量％以下であることがより好ましく、６質量％以下であることが更に好ましい。下限は１質量％以上であることが好ましく、１．５質量％以上であることがより好ましく、２質量％以上であることが更に好ましい。また、本発明の組成物に用いられる溶剤は、溶剤Ａ３を実質的に含有しないことも好ましい。なお、溶剤Ａ３を実質的に含有しないとは、溶剤全量中における溶剤Ａ３の含有量が０．１質量％以下であることを意味し、０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることが更に好ましく、含有しないことが更に好ましい。

本発明の組成物に用いられる溶剤は、分子量（高分子の場合は、重量平均分子量）が３００を超える化合物の含有量が１０質量％以下であることが好ましく、８質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましく、３質量％以下であることがより一層好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。この態様によれば、厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。

本発明の組成物に用いられる溶剤は、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓを超える化合物の含有量が１０質量％以下であることが好ましく、８質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましく、３質量％以下であることがより一層好ましく、１質量％以下であることが特に好ましい。この態様によれば、厚みムラや欠陥の発生がより抑制された膜を形成しやすい。

＜＜分散剤＞＞
本発明の組成物は分散剤を含有することができる。分散剤としては、高分子分散剤（例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物）、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等が挙げられる。高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。高分子分散剤は粒子の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、粒子表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。分散剤は市販品を用いることもできる。例えば、国際公開第２０１６／１９０３７４号の段落番号００５０に記載された製品が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

分散剤の含有量は、シリカ粒子Ａの１００質量部に対して１～１００質量部であることが好ましく、３～１００質量部がより好ましく、５～８０質量部がさらに好ましい。また、分散剤の含有量は、組成物の全固形分中１～３０質量％であることが好ましい。分散剤は、１種類のみであってもよく、２種以上含んでいてもよい。本発明の組成物が分散剤を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。

＜＜重合性化合物＞＞
本発明の組成物は重合性化合物を含有することができる。重合性化合物としては、ラジカル、酸または熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。本発明において、重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物であることが好ましい。

重合性化合物は、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、モノマーが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。

重合性化合物は、エチレン性不飽和結合基を２個以上有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を３個以上有する化合物がより好ましい。エチレン性不飽和結合基の個数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合基としては、ビニル基、スチレン基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。重合性化合物の具体例としては、国際公開第２０１６／１９０３７４号の段落番号００５９～００７９に記載された化合物などが挙げられる。

重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの化合物の（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることができる。また、重合性化合物としては、下記構造の化合物を用いることもできる。

また、重合性化合物として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることもできる。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。

重合性化合物は、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基を有する重合性化合物を用いることで、現像時に未露光部の重合性化合物が除去されやすく、現像残渣の発生を抑制できる。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する重合性化合物の市販品としては、アロニックスＭ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物の好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。重合性化合物の酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像液に対する溶解性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造や取扱い上、有利である。

重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。

重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有する重合性化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物は、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基を有する重合性化合物が好ましく、エチレンオキシ基を有する重合性化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物がさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。

重合性化合物は、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。フルオレン骨格を有する重合性化合物の市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。

重合性化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＥＡ－１２ ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。

本発明の組成物が重合性化合物を含有する場合、本発明の組成物中における重合性化合物の含有量は、０．１質量％以上が好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限としては、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、３質量％以下がより好ましい。また、本発明の組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は、１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限としては、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がより好ましい。本発明の組成物は重合性化合物を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。本発明の組成物が重合性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。
また、本発明の組成物は、重合性化合物を実質的に含まないことも好ましい。本発明の組成物が重合性化合物を実質的に含まない場合においては、より屈折率の低い膜を形成しやすい。さらには、ヘイズの小さい膜を形成しやすい。なお、本発明の組成物が重合性化合物を実質的に含まない場合とは、本発明の組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量が、０．０５質量％以下であることを意味し、０．０１質量％以下であることが好ましく、重合性化合物を含有しないことがより好ましい。

＜＜光重合開始剤＞＞
本発明の組成物が重合性化合物を含む場合、更に光重合開始剤を含むことが好ましい。本発明の組成物が重合性化合物と光重合開始剤とを含む場合においては、本発明の組成物は、フォトリソグラフィ法でのパターン形成用の組成物として好ましく用いることができる。

光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。重合性化合物としてラジカル重合性化合物を用いた場合においては、光重合開始剤として光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物、クマリン化合物などが挙げられ、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物が好ましく、オキシム化合物、α－アミノケトン化合物がより好ましく、オキシム化合物が更に好ましい。光重合開始剤は、特開２０１５－１６６４４９号公報の段落番号００９９～０１２５に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ ＳＴＡＧＥ ３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。

光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。

光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。

光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。

光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。

オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチルを用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

光重合開始剤として、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して有機溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。

本発明の組成物が光重合開始剤を含有する場合、本発明の組成物中における光重合開始剤の含有量は、０．１質量％以上が好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限としては、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、３質量％以下がより好ましい。また、本発明の組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は、１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限としては、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下がより好ましく、２０質量％以下がより好ましい。また、重合性化合物の１００質量部に対して光重合開始剤を１０～１０００質量部含有することが好ましい。上限は、５００質量部以下が好ましく、３００質量部以下がより好ましく、１００質量部以下が更に好ましい。下限は、２０質量部以上が好ましく、４０質量部以上がより好ましく、６０質量部以上が更に好ましい。本発明の組成物は光重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。本発明の組成物が光重合開始剤を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。
また、本発明の組成物は、光重合開始剤を実質的に含まないことも好ましい。なお、本発明の組成物が光重合開始剤を実質的に含まない場合とは、本発明の組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量が、０．００５質量％以下であることを意味し、０．００１質量％以下であることが好ましく、光重合開始剤を含有しないことがより好ましい。

＜＜樹脂＞＞
本発明の組成物は、更に樹脂を含有していてもよい。樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。

樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。また、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載の樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載の樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載の樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載の樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載の樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載の樹脂、特開２０１８－１４５３３９号公報の段落番号００１６に記載の樹脂を用いることもできる。

本発明において、樹脂として酸基を有する樹脂を用いることも好ましい。この態様によれば、フォトリソグラフィ法でのパターン形成する際において、現像性をより向上させることができる。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する樹脂は、例えば、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。

酸基を有する樹脂は、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含むことが好ましく、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中５～７０モル％含むことがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の上限は、５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の下限は、１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましい。

酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。酸基を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００～１０００００が好ましい。また、酸基を有する樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０００～２００００が好ましい。

本発明の組成物が樹脂を含有する場合、本発明の組成物中における樹脂の含有量は、０．０１質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１質量％以上が更に好ましい。上限としては、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、０．５質量％以下がより好ましい。また、本発明の組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、０．２質量％以上が好ましく、０．７質量％以上がより好ましく、１．２質量％以上が更に好ましい。上限としては、１８質量％以下が好ましく、１２質量％以下がより好ましく、５質量％以下がより好ましい。本発明の組成物は樹脂を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。本発明の組成物が樹脂を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。

＜＜密着改良剤＞＞
本発明の組成物は、密着改良剤をさらに含有していてもよい。密着改良剤を含むことで支持体との密着性に優れた膜を形成することができる。密着改良剤としては、例えば、特開平０５－０１１４３９号公報、特開平０５－３４１５３２号公報、及び特開平０６－０４３６３８号公報等に記載の密着改良剤が好適に挙げられる。具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、２－メルカプトベンズイミダゾール、２－メルカプトベンズオキサゾール、２－メルカプトベンズチアゾール、３－モルホリノメチル－１－フェニル－トリアゾール－２－チオン、３－モルホリノメチル－５－フェニル－オキサジアゾール－２－チオン、５－アミノ－３－モルホリノメチル－チアジアゾール－２－チオン、及び２－メルカプト－５－メチルチオ－チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、アミノ基含有ベンゾトリアゾール、シランカップリング剤などが挙げられる。密着改良剤としては、シランカップリング剤が好ましい。

シランカップリング剤は、無機材料と化学結合可能な加水分解性基としてアルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また樹脂との間で相互作用もしくは結合を形成して親和性を示す基を有する化合物が好ましく、そのような基としては、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。

シランカップリング剤は、一分子中に少なくとも２種の反応性の異なる官能基を有するシラン化合物も好ましく、特に、官能基としてアミノ基とアルコキシ基とを有する化合物が好ましい。このようなシランカップリング剤としては、例えば、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピル－メチルジメトキシシラン（信越化学工業社製、ＫＢＭ－６０２）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピル－トリメトキシシラン（信越化学工業社製、ＫＢＭ－６０３）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピル－トリエトキシシラン（信越化学工業社製、ＫＢＥ－６０２）、γ－アミノプロピル－トリメトキシシラン（信越化学工業社製、ＫＢＭ－９０３）、γ－アミノプロピル－トリエトキシシラン（信越化学工業社製、ＫＢＥ－９０３）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業社製、ＫＢＭ－５０３）等が挙げられる。シランカップリング剤としては、以下の化合物を用いることもできる。以下の構造式中、Ｅｔはエチル基である。

本発明の組成物が密着改良剤を含有する場合、本発明の組成物の全固形分中における密着改良剤の含有量は、０．００１質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましく、０．１質量％以上が特に好ましい。上限としては、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下が特に好ましい。本発明の組成物は密着改良剤を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。本発明の組成物が密着改良剤を２種以上含む場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。また、本発明の組成物は、密着改良剤を実質的に含まないことも好ましい。なお、本発明の組成物が密着改良剤を実質的に含まない場合とは、本発明の組成物の全固形分中における密着改良剤の含有量が、０．０００５質量％以下であることを意味し、０．０００１質量％以下であることが好ましく、密着改良剤を含有しないことがより好ましい。

＜＜その他の成分＞＞
本発明の組成物は、シリカ粒子Ａなどと結合または配位していない遊離の金属の含有量が３００ｐｐｍ以下であることが好ましく、２５０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、１００ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。上記の遊離の金属の種類としては、Ｋ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｍｇ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｃｓ、Ｎｉ、Ｃｄ、Ｐｂ、Ｂｉ等が挙げられる。組成物中の遊離の金属の低減方法としては、イオン交換水による洗浄、ろ過、限外ろ過、イオン交換樹脂による精製等の方法が挙げられる。

＜＜組成物の用途＞＞

本発明の組成物は、ディスプレイパネル、太陽電池、光学レンズ、カメラモジュール、光センサ等の光学機器における光学機能層の形成用の組成物として好ましく用いることができる。光学機能層としては、例えば、反射防止層、低屈折率層、導波路などが挙げられる。

また、本発明の組成物は、着色層を有するカラーフィルタの、着色層に隣接する部材（例えば、隣接する着色層同士を区画するために用いられるグリッドなどの隔壁、着色層の上面側（着色層への光入射側）または下面側（着色層からの光射出側）に配置して用いられる部材）などの形成用の組成物として好ましく用いられる。

本発明の組成物は、隔壁形成用の組成物として好ましく用いることもできる。より具体的には、支持体と、支持体上に設けられた隔壁と、隔壁で区画された領域に設けられた着色層と、を有する構造体の、前述の隔壁の形成用の組成物として好ましく用いることができる。隔壁間に配置される着色層の種類としては、特に限定は無い。赤色着色層、青色着色層、緑色着色層、黄色着色層、マゼンタ色着色層、シアン色着色層などが挙げられる。着色層の色と配置は任意に選択することができる。

また、本発明の組成物は、光センサの製造などに用いることもできる。光センサとしては、例えば、固体撮像素子等のイメージセンサなどが挙げられる。

＜組成物の製造方法＞
本発明の組成物は上記の組成物を混合して製造することができる。組成物の製造にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材で構成されたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）及びナイロンが好ましい。

フィルタの孔径は、０．１～７μｍが好ましく、０．２～２．５μｍがより好ましく、０．２～１．５μｍが更に好ましく、０．２～０．７μｍがより一層好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。

フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。

＜収容容器＞
本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。

また、収容容器の内壁をガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。この態様によれば、容器内壁からの金属溶出を防止して、組成物の保存安定性を高めたり、組成物の成分変質を抑制することができる。

＜膜＞
次に、本発明の膜は、上述した本発明の組成物を用いて得られるものである。

本発明の膜の波長６３３ｎｍの光の屈折率は、１．４００以下であることが好ましく、１．３５０以下であることがより好ましく、１．３００以下であることが更に好ましく、１．２７０以下であることがより一層好ましい。なお、上記屈折率の値は、測定温度２５℃での値である。

本発明の膜は十分な硬さを有することが好ましい。また、膜のヤング率は、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、４以上であることが特に好ましい。上限値は、１０以下であることが好ましい。

本発明の膜の厚さについては、用途に応じて適宜選択することができる。たとえば、膜の厚みは５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下であることがより好ましく、１．５μｍ以下であることが特に好ましい。下限値は特にないが、５０ｎｍ以上であることが好ましい。

本発明の膜は、ディスプレイパネル、太陽電池、光学レンズ、カメラモジュール、光センサ等の光学機器における光学機能層などに用いることができる。光学機能層としては、例えば、反射防止層、低屈折率層、導波路などが挙げられる。
また、本発明の膜は、着色層を有するカラーフィルタの、着色層に隣接する部材（例えば、隣接する着色層同士を区画するために用いられるグリッドなどの隔壁、着色層の上面側（着色層への光入射側）または下面側（着色層からの光射出側）に配置して用いられる部材）などに用いることができる。なお、上記部材と着色層との間には、密着層などの他の層が介在していてもよい。

＜膜の形成方法＞
次に、膜の製造方法について説明する。膜の製造方法は、上述した本発明の組成物を用いる。膜の製造方法は、上述した組成物を支持体に塗布して組成物層を形成する工程を含むことが好ましい。

組成物の塗布方法としては、例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；スピンコート法；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。

スピンコート法での塗布は、組成物を支持体上に塗布する際に、支持体の回転を停止させた状態でノズルから組成物を滴下し、その後、支持体を急激に回転させる方式（スタティックディスペンス方式）で行ってもよく、組成物を支持体上に塗布する際に、支持体の回転を停止させることなく、支持体を回転させたままノズルから組成物を滴下する方式（ダイナミックディスペンス方式）で行ってもよい。スピンコート法での塗布は、回転数を段階的に変化させて行うことも好ましい。例えば、膜厚を決めるメイン回転工程と、乾燥を目的とするドライ回転工程とを含むことが好ましい。また、メイン回転工程時の時間が１０秒以下等の短い場合には、その後の乾燥目的のドライ回転工程時の回転数は４００ｒｐｍ以上１２００ｒｐｍ以下が好ましく、６００ｒｐｍ以上１０００ｒｐｍ以下がより好ましい。また、メイン回転工程の時間はストリエーションの抑制と乾燥との両立の観点から、１秒以上２０秒以下が好ましく、２秒以上１５秒以下がより好ましく、２．５秒以上１０秒以下が更に好ましい。メイン回転工程の時間が上記範囲内で短いほどストリエーションの発生をより効果的に抑制できる。また、ダイナミックディスペンス方式の場合、波状の塗布ムラを抑制する目的で、組成物の滴下時の回転数と、メイン回転工程時との回転数の差を小さくすることも好ましい。また、スピンコート法での塗布は、特開平１０－１４２６０３号公報、特開平１１－３０２４１３号公報、特開２０００－１５７９２２号公報に記載されているように、回転速度を塗布中に高めても良い。また「最先端カラーフィルターのプロセス技術とケミカルス」２００６年１月３１日、シーエムシー出版記載のスピンコートプロセスも好適に使用することができる。

組成物が塗布される支持体としては、用途に応じて適宜選択できる。例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。また、ＩｎＧａＡｓ基板などを用いることも好ましい。ＩｎＧａＡｓ基板は、波長１０００ｎｍを超える光に対する感度が良好であるため、ＩｎＧａＡｓ基板上に各近赤外線透過フィルタ層を形成することで、波長１０００ｎｍを超える光に対する感度に優れた光センサが得られやすい。また、支持体上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体上には、タングステンなどの遮光材で構成されたブラックマトリックスが形成されている場合もある。また、支持体上には、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。また、支持体として、マイクロレンズを用いることもできる。マイクロレンズの表面に本発明の組成物を塗布することで、その表面が本発明の組成物からなる膜で被覆されたマイクロレンズユニットを形成することができる。このマイクロレンズユニットは、固体撮像素子などの光センサに組み込んで用いることができる。

支持体上に形成された組成物層に対して乾燥（プリベーク）を行ってもよい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等を用いて５０～１４０℃の温度で１０秒～３００秒で行うことが好ましい。

組成物層を乾燥後、更に加熱処理（ポストベーク）を行ってもよい。ポストベーク温度は２５０℃以下が好ましく、２４０℃以下がより好ましく、２３０℃以下がさらに好ましい。下限は特にないが、５０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。

乾燥（ポストベークを行った場合はポストベーク後）の組成物層に対し、密着処理を施してもよい。密着処理としては、例えば、ＨＭＤＳ処理を挙げることができる。この処理には、ＨＭＤＳ（ヘキサメチレンジシラザン、Ｈｅｘａｍｅｔｈｙｌｄｉｓｉｌａｚａｎｅ）が用いられる。ＨＭＤＳを、本発明の組成物を用いて形成した組成物層に適用すると、その表面に存在するＳｉ－ＯＨ結合と反応し、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ_３）_３を生成すると考えられる。これにより、組成物層の表面を疎水性にすることができる。このように組成物層の表面を疎水性にすることにより、組成物層上に後述するレジストパターンを形成する際において、レジストパターンの密着性を高めつつ、組成物層への現像液の侵入を防止することができる。

膜の製造方法は、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターンを形成する工程としては、フォトリソグラフィ法によるパターン形成方法、エッチング法によるパターン形成方法が挙げられる。

（フォトリソグラフィ法によるパターン形成）
まず、本発明の組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターンを形成する場合について説明する。フォトリソグラフィ法によるパターン形成は、本発明の組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、組成物層をパターン状に露光する工程と、組成物層の未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含むことが好ましい。必要に応じて、組成物層をベークする工程（プリベーク工程）、および、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。

組成物層を形成する工程では、本発明の組成物を用いて、支持体上に組成物層を形成する。支持体としては、上述したものが挙げられる。組成物の塗布方法としては、上述した方法が挙げられる。支持体上に形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等を用いて５０～１４０℃の温度で１０秒～３００秒で行うことが好ましい。

次に、組成物層をパターン状に露光する（露光工程）。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。

露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。

また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。

照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ^２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ^２～１０００００Ｗ／ｍ^２（例えば、５０００Ｗ／ｍ^２、１５０００Ｗ／ｍ^２、または、３５０００Ｗ／ｍ^２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ^２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ^２などとすることができる。

次に、組成物層の未露光部を現像除去してパターンを形成する。組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液としては、アルカリ現像液や有機溶剤が挙げられ、アルカリ現像液が好ましい。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。

アルカリ現像液は、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）であることが好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。

現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、２５０℃以下が好ましく、２４０℃以下がより好ましく、２３０℃以下がさらに好ましい。下限は特にないが、５０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載の方法で行ってもよい。

（エッチング法によるパターン形成）
次に、本発明の組成物を用いてエッチング法によりパターンを形成する場合について説明する。エッチング法によるパターン形成は、本発明の組成物を用いて支持体上に組成物層を形成しこの組成物層の全体を硬化させて硬化物層を形成する工程と、この硬化物層上にフォトレジスト層を形成する工程と、フォトレジスト層をパターン状に露光したのち、現像してレジストパターンを形成する工程と、このレジストパターンをマスクとして硬化物層に対してエッチングを行う工程と、レジストパターンを硬化物層から剥離除去する工程とを含むことが好ましい。

レジストパターンの形成に用いられるレジストとしては、特に限定されないが、例えば、書籍「高分子新素材Ｏｎｅ Ｐｏｉｎｔ ３ 微細加工とレジスト 著者：野々垣三郎、発行所：共立出版株式会社（１９８７年１１月１５日初版１刷発行）」の１６ページから２２ページに説明されている、アルカリ可溶性フェノール樹脂とナフトキノンジアジドを含むレジストを用いることができる。また、特許第２５６８８８３号公報、特許第２７６１７８６号公報、特許第２７１１５９０号公報、特許第２９８７５２６号公報、特許第３１３３８８１号公報、特許第３５０１４２７号公報、特許第３３７３０７２号公報、特許第３３６１６３６号公報、特開平０６－０５４３８３号公報の実施例等に記載されたレジストを用いることもできる。また、レジストとしては、いわゆる化学増幅系レジストを用いることもできる。化学増幅系レジストについては、例えば、「光機能性高分子材料の新展開 １９９６年５月３１日 第１刷発行 監修：市村國宏、発行所：株式会社シーエムシー」の１２９ページ以降に説明されているレジストを挙げることができる（特に、１３１ページ付近に説明されている、ポリヒドロキシスチレン樹脂の水酸基を酸分解性基で保護した樹脂を含むレジストや、同じく１３１ページ付近に説明されているＥＳＣＡＰレジスト（Ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔａｌｌｙ Ｓｔａｂｌｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ｐｏｓｉｔｉｖｅ Ｒｅｓｉｓｔ）などが好ましい）。また、特開２００８－２６８８７５号公報、特開２００８－２４９８９０号公報、特開２００９－２４４８２９号公報、特開２０１１－０１３５８１号公報、特開２０１１－２３２６５７号公報、特開２０１２－００３０７０号公報、特開２０１２－００３０７１号公報、特許第３６３８０６８号公報、特許第４００６４９２号公報、特許第４０００４０７号公報、特許第４１９４２４９号公報の実施例等に記載されたレジストを用いることもできる。

硬化物層に対して行うエッチング方式としては、ドライエッチングであってもよく、ウエットエッチングであってもよい。ドライエッチングであることが好ましい。

硬化物層のドライエッチングは、フッ素系ガスとＯ_２との混合ガスをエッチングガスとして用いて行うことが好ましい。フッ素系ガスとＯ_２との混合比率（フッ素系ガス／Ｏ_２）は、流量比で４／１～１／５であることが好ましく、１／２～１／４であることがより好ましい。フッ素系ガスとしては、ＣＦ_４、Ｃ_２Ｆ_６、Ｃ_３Ｆ_８、Ｃ_２Ｆ_４、Ｃ_４Ｆ_８、Ｃ_４Ｆ_６、Ｃ_５Ｆ_８、ＣＨＦ_３などが挙げられ、Ｃ_４Ｆ_６、Ｃ_５Ｆ_８、Ｃ_４Ｆ_８、及びＣＨＦ_３が好ましく、Ｃ_４Ｆ_６、Ｃ_５Ｆ_８がより好ましく、Ｃ_４Ｆ_６が更に好ましい。フッ素系ガスは、上記群の中から一種のガスを選択することができ、２種以上を混合ガスに含んでもよい。

上記混合ガスは、エッチングプラズマの分圧コントロール安定性、及び比エッチング形状の垂直性を維持する観点から、上記フッ素系ガス及びＯ_２に加え、さらに、ヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎｅ）、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、及びキセノン（Ｘｅ）などの希ガスを更に混合してもよい。その他混合してもよいガスとして、上記群の中から１種または２種以上のガスを選択することができる。その他混合してもよいガスの混合比率は、流量比でＯ_２を１としたとき、０より大きく２５以下であることが好ましく、１０以上２０以下であることが好ましく、１６であることが特に好ましい。

ドライエッチング時におけるチャンバーの内部圧力は、０．５～６．０Ｐａであることが好ましく、１～５Ｐａであることがより好ましい。

ドライエッチング条件については、国際公開第２０１５／１９０３７４号の段落番号０１０２～０１０８、特開２０１６－０１４８５６号公報に記載された条件が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

この膜の製造方法を適用して光センサなどを製造することもできる。

＜構造体＞
次に、本発明の構造体について、図面を用いて説明する。図２は、本発明の構造体の一実施形態を示す側断面図であり、図３は、同構造体における支持体の真上方向からみた平面図である。図２、３に示すように、本発明の構造体１００は、支持体１１と、支持体１１上に設けられた隔壁１２と、支持体１１上であって、隔壁１２で区画された領域に設けられた着色層１４と、を有する。

支持体１１の種類としては特に限定はない。固体撮像素子などの各種電子デバイスなどで使用されている基板（シリコンウエハ、炭化ケイ素ウエハ、窒化ケイ素ウエハ、サファイアウエハ、ガラスウエハなど）を用いることができる。また、フォトダイオードが形成された固体撮像素子用基板などを用いることもできる。また、これらの基板上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止あるいは表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。

図２、３に示すように、支持体１１上には隔壁１２が形成されている。この実施形態においては、図３に示すように、隔壁１２は、支持体１１の真上方向から見た平面図において、格子状に形成されている。なお、この実施形態では、支持体１１上における隔壁１２によって区画された領域の形状（以下、隔壁の開口部の形状ともいう）は正方形状をなしているが、隔壁の開口部の形状は、特に限定されず、例えば、長方形状、円形状、楕円形状、または、多角形状等であっても良い。

隔壁１２は、上述した本発明の組成物を用いて形成されたものである。隔壁１２の幅Ｗ１は、２０～５００ｎｍであることが好ましい。下限は、３０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがより好ましく、５０ｎｍ以上であることが更に好ましい。上限は、３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、隔壁１２の高さＨ１は、２００ｎｍ以上であることが好ましく、３００ｎｍ以上であることがより好ましく、４００ｎｍ以上であることが更に好ましい。上限は、着色層１４の厚さ×２００％以下であることが好ましく、着色層１４の厚さ×１５０％以下であることがより好ましく、着色層１４の厚さと実質的に同じであることが更に好ましい。隔壁１２の高さと幅の比（高さ／幅）は、１～１００であることが好ましく、５～５０であることがより好ましく、５～３０であることが更に好ましい。

支持体１１上であって、隔壁２で区画された領域（隔壁の開口部）には、着色層１４が形成されている。着色層１４の種類としては、特に限定は無い。赤色着色層、青色着色層、緑色着色層、黄色着色層、マゼンタ色着色層、シアン色着色層などが挙げられる。着色層の色と配置は任意に選択することができる。なお、隔壁１２で区画された領域には、着色層以外の画素が更に形成されていてもよい。着色層以外の画素としては、透明画素、赤外線透過フィルタの画素などが挙げられる。

着色層１４の幅Ｌ１は、用途により適宜選択できる。例えば、５００～２０００ｎｍであることが好ましく、５００～１５００ｎｍであることがより好ましく、５００～１０００ｎｍであることが更に好ましい。着色層１４の高さ（厚さ）Ｈ２は、用途により適宜選択できる。例えば、３００～１０００ｎｍであることが好ましく、３００～８００ｎｍであることがより好ましく、３００～６００ｎｍであることが更に好ましい。また、着色層１４の高さＨ２は、隔壁１２の高さＨ１の５０～１５０％であることが好ましく、７０～１３０％であることがより好ましく、９０～１１０％であることが更に好ましい。

本発明の構造体において、隔壁１２の表面に保護層が設けられていることも好ましい。隔壁１２の表面に保護層を設けることで、隔壁１２と着色層１４との密着性を向上させることができる。保護層の材質としては、種々の無機材料や有機材料を用いることができる。例えば、有機材料としては、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、有機ＳＯＧ（Ｓｐｉｎ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）系樹脂などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を含む組成物を用いて形成することもできる。

本発明の構造体は、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置などに好ましく用いることができる。

＜カラーフィルタ＞
本発明のカラーフィルタは、上述した本発明の膜を有する。カラーフィルタとしては、着色層を有し、着色層に隣接する部材として本発明の膜を有する態様が挙げられる。着色層の種類としては、赤色着色層、青色着色層、緑色着色層、黄色着色層、マゼンタ色着色層、シアン色着色層などが挙げられる。カラーフィルタは、２色以上の着色層を含むことが好ましい。例えば、着色層として、赤色着色層、青色着色層および緑色着色層を含む態様、黄色着色層、マゼンタ色着色層およびシアン色着色層を含む態様が挙げられる。

着色層に隣接する部材としては、隣接する着色層同士を区画する隔壁、着色層の上面側（着色層への光入射側）または下面側（着色層からの光射出側）に配置して用いられる部材などが挙げられる。

カラーフィルタの一実施形態としては、２色以上の着色層を有し、着色層同士の間に上述した本発明の膜からなる隔壁を有する態様が挙げられる。隔壁の表面には、保護層が設けられていてもよい。隔壁の表面に保護層を設けることで、隔壁と着色層との密着性を向上させることができる。保護層の材質としては、上述した構造体の項で説明したものが挙げられる。

＜固体撮像素子＞
本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。

基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を含むカラーフィルタを有する構成である。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。

＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。

次に、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。なお、実施例で示した量や比率の規定は特に断らない限り質量基準である。

＜組成物の調製＞
以下の表の組成となるように各成分を混合し、日本ポール製ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹ（０．４５μｍナイロンフィルター）を用いてろ過を行って組成物を得た。下記表に記載の配合量の数値は質量部である。

上記表に記載した原料は以下の通りである。

（シリカ粒子液）
Ｐ１：平均粒子径１５ｎｍの球状シリカの複数個が金属酸化物含有シリカ（連結材）によって数珠状に連結された形状のシリカ粒子（数珠状シリカ）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（シリカ粒子濃度２０質量％）の１００．０ｇに疎水化処理剤としてトリメチルメトキシシランの３．０ｇを添加し、２０℃で６時間反応させて調製した、表面処理シリカ粒子液である。
Ｐ２：平均粒子径１５ｎｍの球状シリカの複数個が金属酸化物含有シリカ（連結材）によって数珠状に連結された形状のシリカ粒子（数珠状シリカ）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（シリカ粒子濃度２０質量％）の１００．０ｇに疎水化処理剤としてトリエチルメトキシシランの３．０ｇを添加し、２０℃で６時間反応させて調製した、表面処理シリカ粒子液である。
Ｐ３：平均粒子径１５ｎｍの球状シリカの複数個が金属酸化物含有シリカ（連結材）によって数珠状に連結された形状のシリカ粒子（数珠状シリカ）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（シリカ粒子濃度２０質量％）の１００．０ｇに疎水化処理剤としてヘキサメチルジシラザンの３．０ｇを添加し、２０℃で６時間反応させて調製した、表面処理シリカ粒子液である。
Ｐ４：平均粒子径１５ｎｍの球状シリカの複数個が金属酸化物含有シリカ（連結材）によって数珠状に連結された形状のシリカ粒子（数珠状シリカ）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（シリカ粒子濃度２０質量％）の１００．０ｇに疎水化処理剤としてテトラメトキシシランの３．０ｇを添加し、２０℃で６時間反応させて調製した、表面処理シリカ粒子液である。
Ｐ５：平均粒子径１５ｎｍの球状シリカの複数個が金属酸化物含有シリカ（連結材）によって数珠状に連結された形状のシリカ粒子（数珠状シリカ）のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（シリカ粒子濃度２０質量％）の１００．０ｇに疎水化処理剤としてテトラエトキシシランの３．０ｇを添加し、２０℃で６時間反応させて調製した、表面処理シリカ粒子液である。
Ｐ６：スルーリア４１１０（日揮触媒化成（株）製、平均粒子径６０ｎｍのシリカ粒子（中空構造のシリカ粒子）の溶液である。ＳｉＯ_２換算の固形分濃度２０質量％。このシリカ粒子の溶液は、複数個の球状シリカ粒子が数珠状に連結された形状のシリカ粒子、および、複数個の球状シリカが平面的に連結された形状のシリカ粒子のいずれも含まないものである）の１００．０ｇに疎水化処理剤としてトリメチルメトキシシランの３．０ｇを添加し、２０℃で６時間反応させて調製した、表面処理シリカ粒子液である。

シリカ粒子液Ｐ１～Ｐ６について、それぞれのシリカ粒子液を直径８インチのシリコンウエハ上に、塗布後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱し、次いでホットプレートを用いて２００℃で５分間加熱して膜を形成した。得られた膜について、協和界面科学社製接触角計ＤＭ－７０１を用いて、２５℃の水に対する接触角（以下、水接触角という）を測定した。水の滴下量は６μＬで滴下し、滴下後６．５秒の接触角を測定した。ウエハ内をランダムに４か所測定し、その平均値により接触角を決定した。シリカ粒子液Ｐ１を用いて形成した膜の水接触角は６１°であった。シリカ粒子液Ｐ２を用いて形成した膜の水接触角は６３°であった。シリカ粒子液Ｐ３を用いて形成した膜の水の接触角は６１°であった。シリカ粒子液Ｐ４を用いて形成した膜の水接触角は４２°であった。シリカ粒子液Ｐ５を用いて形成した膜の水接触角は４７°であった。シリカ粒子液Ｐ６を用いて形成した膜の水接触角は６０°であった。

なお、シリカ粒子液Ｐ１～Ｐ５において、球状シリカの平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定した５０個の球状シリカの球状部分の投影像における円相当直径の数平均を算出して求めた。また、シリカ粒子液Ｐ１～Ｐ６において、ＴＥＭ観察の方法で、複数個の球状シリカが数珠状に連結された形状のシリカ粒子、および、複数個の球状シリカが平面的に連結された形状のシリカ粒子を含むものであるかどうか調べた。
また、シリカ粒子液Ｐ１～Ｐ５において、数珠状シリカの平均粒子径を動的光散乱式粒径分布粒度分布計（日機装（株）製、マイクロトラックＵＰＡ－ＥＸ１５０）を用いて測定したところ、いずれも平均粒子径は２０ｎｍであった。

（界面活性剤）
Ｆ－１：下記構造の化合物（シリコーン系ノニオン性界面活性剤、カルビノール変性シリコーン化合物。重量平均分子量＝３０００、２５℃での動粘度＝４５ｍｍ^２／ｓ）

Ｆ－２：下記構造の化合物（フッ素系ノニオン性界面活性剤、重量平均分子量＝１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）

Ｆ－３：ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド（カチオン性界面活性剤）

（溶剤）
Ｓ－１：１，４－ブタンジオールジアセテート（沸点２３２℃、粘度３．１ｍＰａ・ｓ、分子量１７４）
Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃、粘度１．１ｍＰａ・ｓ、分子量１３２）
Ｓ－３：プロピレングリコールモノメチルエーテル（沸点１２０℃、粘度１．８＝ｍＰａ・ｓ、分子量９０）
Ｓ－４：メタノール（沸点＝６４℃、粘度＝０．６ｍＰａ・ｓ）
Ｓ－５：エタノール（沸点＝７８℃、粘度＝１．２ｍＰａ・ｓ）
Ｓ－６：水（沸点１００℃、粘度０．９ｍＰａ・ｓ）

＜経時安定性＞
上記で得られた組成物を４５℃の温度で、３日間保管した。保管前後の組成物の動粘度を測定し、下式から算出した粘度変化率の値を用いて組成物の経時安定性を評価した。組成物の動粘度は、ウベローデ粘度計により測定した。
粘度変化率＝｜１－（保管後の組成物の粘度／保管前の組成物の粘度）｜×１００
５：粘度変化率が１０％以下
４：粘度変化率が１０％を超えて、１５％以下である
３：粘度変化率が１５％を超えて、２０％以下である
２：粘度変化率が２０％を超えて、３０％以下である
１：粘度変化率が３０％を超えている

＜欠陥＞
上記で得られた組成物を直径８インチのシリコンウエハ上に、塗布後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱し、次いでホットプレートを用いて２００℃で５分間加熱して膜を形成した。得られた膜について、欠陥評価装置（ＣＯＭＰＬＵＳ、ＡＭＡＴ社製）を用いて検査し２μｍ以上の大きさの凝集物状の欠陥をカウントして欠陥数を求めた。
５：欠陥数が１０個以下
４：欠陥数が１０個を超えて、２０個以下
３：欠陥数が２０個を超えて、３０個以下
２：欠陥数が３０個を超えて、５０個以下
１：欠陥数が５０個を超えている

＜屈折率＞
上記で得られた組成物を直径８インチのシリコンウエハ上に、塗布後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱し、次いでホットプレートを用いて２００℃で５分間加熱して膜を形成した。得られた膜の波長６３３ｎｍの光の屈折率をエリプソメータ（Ｊ．Ａウーラム製、ＶＵＶ－ｖａｓｅ）を用いて測定（測定温度２５℃）し、以下の基準で屈折率を評価した。
５：屈折率が１．３００以下
４：屈折率が１．３００を超えて、１．３５０以下
３：屈折率が１．３５０を超えて、１．４００以下
２：屈折率が１．４００を超えて、１．４５０以下
１：屈折率が１．４５０を超えている

＜膜厚均一性＞
上記で得られた組成物を４５℃の温度で、３日間保管した。保管前後の組成物を、直径８インチのシリコンウエハ上に、塗布後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱し、次いでホットプレートを用いて２００℃で５分間加熱して膜を形成した。形成した膜の膜厚を光学膜厚計（フィルメトリクス社製、Ｆ－５０）を用いて測定した。この際、ウエハの中心を通る直径の線分について、ウエハ端から３ｍｍ点を両端とし、等間隔に１３のポイントで膜厚を測定し、それらの膜厚の最大値と最小値との差分を求め、以下の基準で膜厚均一性を評価した。
５：最大値と最小値の差分が１０ｎｍ以下
４：最大値と最小値の差分が１０ｎｍを超えて、１５ｎｍ以下
３：最大値と最小値の差分が１５ｎｍを超えて、２０ｎｍ以下
２：最大値と最小値の差分が２０ｎｍを超えて、３０ｎｍ以下
１：最大値と最小値の差分が３０ｎｍ以上

上記表に示す通り、実施例の組成物は、欠陥及び膜厚均一性の評価が良好であった。

実施例１の組成物を用いて特開２０１７－０２８２４１号公報の図１の隔壁４０～４３を作製して特開２０１７－０２８２４１号公報の図１に示すイメージセンサを作製したところ、このイメージセンサは感度に優れていた。

１：球状シリカ
２：接合部
１１：支持体
１２：隔壁
１４：着色層
１００：構造体

Claims (11)

1. 複数個の球状シリカが数珠状に連結した形状のシリカ粒子、複数個の球状シリカが平面的に連結した形状のシリカ粒子、および、中空構造のシリカ粒子から選ばれる少なくとも１種と、
   界面活性剤と、
   溶剤と、を含む組成物であり、
   前記シリカ粒子表面のヒドロキシ基の少なくとも一部が、前記ヒドロキシ基と反応する疎水化処理剤で処理されており、
   前記疎水化処理剤がアルキルシラン化合物、アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合物、アミノシラン化合物およびシラザン化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
   前記組成物の全固形分中における前記シリカ粒子の含有量が９５質量％以上であり、
   前記界面活性剤がシリコーン系界面活性剤であり、
   前記組成物中に前記界面活性剤を０．０１～３．０質量％含有する、組成物。
2. 前記溶剤はアルコール系溶剤を含む、請求項１に記載の組成物。
3. 前記シリコーン系界面活性剤はカルビノール変性シリコーン化合物である、請求項１または２に記載の組成物。
4. 前記溶剤は沸点が１９０℃以上２８０℃以下の溶剤Ａ１を含み、前記溶剤Ａ１は、アルキレンジオールジアセテートおよび環状カルボナートから選ばれる少なくとも１種である、請求項１に記載の組成物。
5. 着色層を有するカラーフィルタの、前記着色層に隣接する部材の形成用の組成物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
6. 支持体と、前記支持体上に設けられた隔壁と、前記隔壁で区画された領域に設けられた着色層と、を有する構造体の、前記隔壁の形成用の組成物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
7. 請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物から得られる膜。
8. 支持体と、
   前記支持体上に設けられた請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物から得られる隔壁と、
   前記隔壁で区画された領域に設けられた着色層と、
   を有する構造体。
9. 請求項７に記載の膜を有するカラーフィルタ。
10. 請求項７に記載の膜を有する固体撮像素子。
11. 請求項７に記載の膜を有する画像表示装置。

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