JP7300108B2 - Cured product manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、硬化物の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a cured product.
光重合開始剤とラジカル重合性化合物を含む光重合性組成物は、光硬化によって短時間で硬化することができ、また、フォトマスクやレーザー照射によってパターン形成することができるという利点をもつ。しかしながら光が到達しづらい厚膜の成形体の深部においては硬化が不十分になるという問題がある。 A photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator and a radically polymerizable compound has the advantage that it can be cured in a short time by photocuring and can be patterned by photomask or laser irradiation. However, there is a problem that the hardening is insufficient in the deep part of the molded body with a thick film, which is difficult for light to reach.
この問題を解決する方法として、特許文献1では、光硬化性組成物を厚膜シート状に成形した後、シートの両面から光照射することで厚膜の内部まで硬化する方法が提案されている。また、特許文献2では、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用し、光照射によって光重合開始剤から生成したラジカルが重合反応を起こし、その反応熱によって熱重合開始剤からラジカルを生成させ、深部まで硬化させる方法が提案されている。 As a method for solving this problem, Patent Document 1 proposes a method in which a photocurable composition is formed into a thick film sheet, and then light is irradiated from both sides of the sheet to cure the inside of the thick film. . Further, in Patent Document 2, a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator are used together, radicals generated from the photopolymerization initiator by light irradiation cause a polymerization reaction, and the heat of the reaction causes the thermal polymerization initiator to generate radicals. , a method of deep curing has been proposed.
しかしながら、特許文献1の方法では、硬化方法が煩雑であり、かつ硬化できる膜厚が10mm以下に限られていた。また、特許文献2の方法では、深部(光の未照射部分)において光励起されなかった光重合開始剤は、未反応のまま硬化物中に残存することになり、高温高湿環境下では当該開始剤のブリードアウトや、硬化物の白化や黄変を引き起こす懸念があった。 However, in the method of Patent Document 1, the curing method is complicated, and the film thickness that can be cured is limited to 10 mm or less. In addition, in the method of Patent Document 2, the photopolymerization initiator that was not photoexcited in the deep part (the part not irradiated with light) remains unreacted in the cured product, and in a high-temperature and high-humidity environment, the initiation There was concern that the agent would bleed out and the cured product would turn white or yellow.
本発明の第1の目的は、上記の実情を鑑みてなされたものであり、ラジカル重合性化合物を含む組成物に活性エネルギー線を照射することのみで、一定以上の厚みを有する硬化物が得られる硬化物の製造方法を提供するものである。 The first object of the present invention has been made in view of the above circumstances, and a cured product having a certain thickness or more can be obtained only by irradiating a composition containing a radically polymerizable compound with an active energy ray. It provides a method for producing a cured product.
また、本発明の第2の目的は、上記の実情を鑑みてなされたものであり、ラジカル重合性化合物を含む組成物の一部分に活性エネルギー線を照射することで、前記組成物における前記活性エネルギー線の未照射部分を十分に硬化できる、硬化物の製造方法を提供するものである。 In addition, the second object of the present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and the active energy ray To provide a method for producing a cured product that can sufficiently cure the non-irradiated portions of the rays.
本発明は、硬化物の製造方法であって、ラジカル重合性化合物と下記一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物に活性エネルギー線を照射する工程(I)を含み、前記硬化物の厚みが300μm超であることを特徴とする硬化物の製造方法に関する。
また、本発明は、硬化物の製造方法であって、ラジカル重合性化合物と前記一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物の一部分に活性エネルギー線を照射する工程(I´)、及び前記工程(I´)により生じた重合熱により、前記組成物における前記活性エネルギー線が照射されていない部分を熱重合する工程(II)を含むことを特徴とする硬化物の製造方法に関する。 The present invention also provides a method for producing a cured product, wherein the step (I' ), and a step (II) of thermally polymerizing a portion of the composition not irradiated with the active energy ray by the heat of polymerization generated in the step (I′). Regarding.
本発明の硬化物の製造方法における効果の作用メカニズムの詳細は不明な部分があるが、以下のように推定される。ただし、本発明は、この作用メカニズムに限定して解釈されなくてもよい。 Although the details of the action mechanism of the effect in the method for producing a cured product of the present invention are partly unknown, it is presumed as follows. However, the present invention need not be construed as being limited to this action mechanism.
本発明の第1の硬化物の製造方法は、ラジカル重合性化合物と一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物に活性エネルギー線を照射する工程(I)を含み、前記硬化物の厚みが300μm超である。また、本発明の第2の硬化物の製造方法は、ラジカル重合性化合物と一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物の一部分に活性エネルギー線を照射する工程(I´)、及び前記工程(I´)により生じた重合熱により、前記組成物における前記活性エネルギー線が照射されていない部分を熱重合する工程(II)を含む。前記組成物は、当該組成物の表面に活性エネルギー線を照射することによって、前記トリアジンペルオキシド誘導体が励起されてラジカルを発生するため、重合反応が開始する。さらに、当該製造方法は、当該重合反応の重合熱の拡散によって、前記トリアジンペルオキシド誘導体のペルオキシエステル基の分解が促進されることにより、外部から加熱を行うことなく、組成物の硬化反応を継続できるため、一定以上の厚さを有する硬化物が得られ、また、組成物の硬化反応を深部(活性エネルギーの未照射部分)に至るまで十分に硬化できる。よって、本発明の硬化物中には、未反応の前記トリアジンペルオキシド誘導体が残存しないことが期待できる。 The first method for producing a cured product of the present invention includes step (I) of irradiating a composition containing a radically polymerizable compound and a triazine peroxide derivative represented by general formula (1) with an active energy ray, The thickness of the object is over 300 μm. In the second method for producing a cured product of the present invention, a step (I') of irradiating a part of a composition containing a radically polymerizable compound and a triazine peroxide derivative represented by general formula (1) with an active energy ray. and a step (II) of thermally polymerizing a portion of the composition not irradiated with the active energy ray by the heat of polymerization generated in the step (I′). By irradiating the surface of the composition with active energy rays, the triazine peroxide derivative is excited to generate radicals, thereby initiating a polymerization reaction. Furthermore, in the production method, the decomposition of the peroxyester group of the triazine peroxide derivative is promoted by the diffusion of the polymerization heat of the polymerization reaction, so that the curing reaction of the composition can be continued without external heating. Therefore, a cured product having a certain thickness or more can be obtained, and the curing reaction of the composition can be sufficiently cured to deep portions (portions not irradiated with activation energy). Therefore, it can be expected that the unreacted triazine peroxide derivative does not remain in the cured product of the present invention.
本発明の組成物は、ラジカル重合性化合物と一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含有する。 The composition of the present invention contains a radically polymerizable compound and a triazine peroxide derivative represented by general formula (1).
<ラジカル重合性化合物>
前記ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する化合物を好ましく用いることができる。ラジカル重合性化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル類、スチレン類、マレイン酸エステル類、フマル酸エステル類、イタコン酸エステル類桂皮酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケトン類、アリルエーテル類、アリルエステル類、N-置換マレイミド類、N-ビニル化合物類、不飽和ニトリル類、オレフィン類等が挙げられる。これらの中でも、反応性が高い(メタ)アクリル酸エステル類を含むことが好ましい。ラジカル重合性化合物は、単独で用いてもよく2種類以上を併用してもよい。
<Radical polymerizable compound>
As the radically polymerizable compound, a compound having an ethylenically unsaturated group can be preferably used. Examples of radically polymerizable compounds include (meth)acrylic acid esters, styrenes, maleic acid esters, fumaric acid esters, itaconic acid esters, cinnamic acid esters, crotonic acid esters, vinyl ethers, and vinyl esters. , vinyl ketones, allyl ethers, allyl esters, N-substituted maleimides, N-vinyl compounds, unsaturated nitriles, olefins and the like. Among these, it is preferable to contain highly reactive (meth)acrylic acid esters. The radically polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more.
前記(メタ)アクリル酸エステル類は、単官能化合物および多官能化合物を使用することができる。単官能化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレ-ト、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレ-ト、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレ-ト、2―エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸と脂環族アルコールとのエステル化合物;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等のアリール(メタ)アクリレート;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチル(メタ)アクリレート、水酸基末端ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、水酸基末端ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基を有するモノマー等;メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、(2-メチル-2-エチル-1,3-ジオキソラン-4-イル)メチル(メタ)アクリレート、(3-エチルオキセタン-3-イル)メチル(メタ)アクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマール(メタ)アクリレート等の鎖状または環状のエーテル結合を有するモノマー等;N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、N-(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等の窒素原子を有するモノマー;2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基を有するモノマー;グリシジル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテル等のエポキシ基を有するモノマー;リン酸2-((メタ)アクリロイルオキシ)エチル等のリン原子を有するモノマー;3-(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のケイ素原子を有するモノマー;2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート等のフッ素原子を有するモノマー;(メタ)アクリル酸、コハク酸モノ(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)、フタル酸モノ(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)、マレイン酸モノ(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)、ω-カルボキシ-ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等のカルボキシル基を有するモノマー等が挙げられる。 Monofunctional compounds and polyfunctional compounds can be used as the (meth)acrylic acid esters. Monofunctional compounds include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) Alkyl (meth)acrylates such as acrylates; cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) Ester compounds of (meth)acrylic acid and alicyclic alcohol such as acrylate and 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate; Aryl (meth)acrylates such as phenyl (meth)acrylate and benzyl (meth)acrylate ; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxy-1-adamantyl (meth) acrylate, hydroxyl group-terminated polyethylene glycol mono ( Monomers having a hydroxyl group such as meth)acrylate, hydroxyl-terminated polypropylene glycol mono(meth)acrylate, etc.; methoxyethyl (meth)acrylate, methoxypolyethyleneglycol (meth)acrylate, phenoxypolyethyleneglycol (meth)acrylate, 2-phenylphenoxyethyl (Meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, (2-methyl-2-ethyl-1,3-dioxolan-4-yl) methyl (meth) acrylate, (3-ethyloxetan-3-yl) methyl ( Monomers having a chain or cyclic ether bond such as meth)acrylate, cyclic trimethylolpropane formal (meth)acrylate, etc.; N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate, N,N-dimethyl (meth)acrylamide, N -methylol (meth)acrylamide, N-isopropyl (meth)acrylamide, N,N-dimethylaminopropyl (meth)acrylamide, diacetone (meth)acrylamide, (meth)acryloylmorpholine, N-(meth)acryloyloxyethylhexahydrophthalimide Monomers having a nitrogen atom such as; monomers having an isocyanate group such as 2-(meth) acryloyloxyethyl isocyanate; monomers having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether; Phosphorus atom-containing monomers such as acid 2-((meth)acryloyloxy)ethyl; Silicon atom-containing monomers such as 3-(meth)acryloxypropyltrimethoxysilane; 2,2,2-trifluoroethyl (meth) Monomers having a fluorine atom such as acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth)acrylate, 2-(perfluorohexyl)ethyl (meth)acrylate; (meth)acrylic acid, monosuccinic acid ( 2-(meth)acryloyloxyethyl), phthalate mono(2-(meth)acryloyloxyethyl), maleate mono(2-(meth)acryloyloxyethyl), ω-carboxy-polycaprolactone mono(meth)acrylate, etc. and the like having a carboxyl group.
前記多官能化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレートトリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、9,9-ビス(4-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-(2-(2-(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ)フェニル)フルオレン等の多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物;ビス(4-(メタ)アクリロキシフェニル)スルフィド、ビス(4-(メタ)アクリロイルチオフェニル)スルフィド、トリス(2-(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸亜鉛、(メタ)アクリル酸ジルコニウム、脂肪族ウレタンアクリレート、芳香族ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。 Examples of the polyfunctional compound include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol di( meth)acrylate monostearate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate di(meth)acrylate, glycerol propoxy tri(meth)acrylate tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate (Meth)acrylate, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypolyethoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxyethoxyphenyl)propane, 9,9-bis(4- Polyhydric alcohols such as (2-(meth)acryloyloxyethoxy)phenyl)fluorene, 9,9-bis(4-(2-(2-(meth)acryloyloxyethoxy)ethoxy)phenyl)fluorene and (meth)acryl Ester compounds with acids; bis (4-(meth) acryloxyphenyl) sulfide, bis (4-(meth) acryloylthiophenyl) sulfide, tris (2-(meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene bis (meth ) acrylamide, zinc (meth)acrylate, zirconium (meth)acrylate, aliphatic urethane acrylate, aromatic urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, and the like.
なお、前記組成物は、前記ラジカル重合性化合物から得られた共重合体を加えることができる。 A copolymer obtained from the radically polymerizable compound can be added to the composition.
<トリアジンペルオキシド誘導体>
前記トリアジンペルオキシド誘導体は、下記一般式(1)で表される。
The triazine peroxide derivative is represented by the following general formula (1).
前記一般式(1)中、R1およびR2は独立してメチル基またはエチル基を表す。R1およびR2は、トリアジンペルオキシド誘導体の分解温度が高くなり、組成物の貯蔵安定性が高くなる観点から、メチル基が好ましい。 In general formula (1), R 1 and R 2 independently represent a methyl group or an ethyl group. R 1 and R 2 are preferably methyl groups from the viewpoint of increasing the decomposition temperature of the triazine peroxide derivative and increasing the storage stability of the composition.
前記一般式(1)中、R3は、炭素数が1~5の脂肪族炭化水素基、またはアルキル基を有してもよい炭素数6~9の芳香族炭化水素基である。前記アルキル基は、直鎖であってもよく、分岐鎖であってもよい。R3の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、フェニル基、イソプロピルフェニル基が挙げられる。これらの中でも、トリアジンペルオキシド誘導体の合成が容易である観点から、メチル基、エチル基、プロピル基、2,2-ジメチルプロピル基、フェニル基であることが好ましい。照射光に対する感度が高い点から、メチル基、エチル基であることがより好ましい。 In the general formula (1), R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 9 carbon atoms which may have an alkyl group. The alkyl group may be linear or branched. Specific examples of R 3 include methyl group, ethyl group, propyl group, 2,2-dimethylpropyl group, phenyl group and isopropylphenyl group. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a 2,2-dimethylpropyl group, and a phenyl group are preferable from the viewpoint of easy synthesis of triazine peroxide derivatives. A methyl group and an ethyl group are more preferable because of their high sensitivity to irradiation light.
前記一般式(1)中の、nは、0から2の整数で表される。トリアジンペルオキシド誘導体の合成が容易である観点から、nが0または1であることが好ましい。nが0の場合においては、XがAr2、Ar3、またはAr4であり、nが1の場合においては、XがAr1であることが、照射光を効率よく吸収し、硬化物の黄色度が低減できる観点から、より好ましい。 n in the general formula (1) is an integer of 0 to 2; n is preferably 0 or 1 from the viewpoint of easy synthesis of the triazine peroxide derivative. X is Ar 2 , Ar 3 or Ar 4 when n is 0, and X is Ar 1 when n is 1. It is more preferable from the viewpoint that the yellowness can be reduced.
前記一般式(2)中の、mは、0から3の整数で表される。トリアジンペルオキシド誘導体の合成が容易である観点から、mが0から2であることが好ましく、照射光を効率よく吸収する観点から、mが1であることがより好ましい。 m in the general formula (2) is an integer of 0 to 3; From the viewpoint of facilitating synthesis of the triazine peroxide derivative, m is preferably 0 to 2, and from the viewpoint of efficient absorption of irradiation light, m is more preferably 1.
前記一般式(2)中の、R4は、独立した置換基であって、炭素数1から6のアルキル基、一般式(3):R5-Y-で表される置換基、ニトロ基、またはシアノ基を表す。Yは、酸素原子または硫黄原子を表す。前記R5は、炭素骨格中に、エーテル結合、チオエーテル結合、および、末端に水酸基のいずれか1つ以上を有していてもよい炭素数1~6の炭化水素基、またはアルキル基を有してもよい炭素数6~9の芳香族炭化水素基を表す。あるいは、R4は隣接する2つの前記一般式(3):R5-Y-により5~6員環を形成してもよい。 In the general formula (2), R 4 is an independent substituent, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, general formula (3): a substituent represented by R 5 -Y-, a nitro group , or represents a cyano group. Y represents an oxygen atom or a sulfur atom. R 5 has an ether bond, a thioether bond, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have one or more hydroxyl groups at the end, or an alkyl group in the carbon skeleton; represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 9 carbon atoms which may be substituted. Alternatively, R 4 may form a 5- to 6-membered ring with two adjacent general formula (3): R 5 -Y-.
前記R4は、照射光を効率よく吸収する観点から、独立した置換基であって、炭素数1から6のアルキル基、または一般式(3):R5-Y-で表される置換基を表し、Yは、酸素原子を表し、R5は、炭素骨格中に、エーテル結合、および、末端に水酸基のいずれか1つ以上を有していてもよい炭素数1~6の炭化水素基、またはアルキル基を有してもよい炭素数6~9の芳香族炭化水素基であることが好ましい。あるいは、R4は隣接する2つの前記一般式(3):R5-X-により5~6員環を形成することが好ましい。 From the viewpoint of efficiently absorbing irradiation light, R 4 is an independent substituent which is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituent represented by general formula (3): R 5 -Y- , Y represents an oxygen atom, and R 5 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may have one or more of an ether bond and a hydroxyl group at the end in the carbon skeleton. , or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 9 carbon atoms which may have an alkyl group. Alternatively, R 4 preferably forms a 5- to 6-membered ring with two adjacent general formulas (3): R 5 -X-.
前記R4の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ヘキシル基等のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、n-ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基、2-メトキシエトキシ基、2-エトキシエトキシ基、2-ブトキシエトキシ基、2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ基、2-(2-エトキシエトキシ)エトキシ基、1,2-ジヒドロキシプロポキシ基、メチレンジオキシ基、ジメチルメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基等のアルコキシ基;フェニルオキシ基、4-イソプロピルフェニルオキシ基等のアリールオキシ基;メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基、2-メトキシエチルスルファニル基、2-(2-メトキシエトキシ)エチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基;フェニルスルファニル基、2-メチルフェニルスルファニル基、4-メチルフェニルスルファニル基等のアリールスルファニル基等が挙げられる。これら官能基を有する一般式(1)で表される化合物は、365nmの吸光度が高く、照射光を効率よく吸収するため好ましい。 Specific examples of R 4 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group and n-hexyl group; methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group; n-butyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, 2-hydroxyethoxy group, 2-methoxyethoxy group, 2-ethoxy ethoxy group, 2-butoxyethoxy group, 2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy group, 2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy group, 1,2-dihydroxypropoxy group, methylenedioxy group, dimethylmethylenedioxy group, alkoxy groups such as ethylenedioxy group; aryloxy groups such as phenyloxy group and 4-isopropylphenyloxy group; methylsulfanyl group, ethylsulfanyl group, hexylsulfanyl group, 2-methoxyethylsulfanyl group, 2-(2-methoxy ethoxy)alkylsulfanyl groups such as ethylsulfanyl groups; and arylsulfanyl groups such as phenylsulfanyl groups, 2-methylphenylsulfanyl groups and 4-methylphenylsulfanyl groups. Compounds represented by general formula (1) having these functional groups are preferable because they have high absorbance at 365 nm and efficiently absorb irradiation light.
さらに、これらの中でも、トリアジンペルオキシド誘導体の組成物への溶解性が高く、合成が容易であり、照射光に対する感度が高い観点から、前記R4は、メトキシ基、エトキシ基、2-ヒドロキシエトキシ基がより好ましい。 Furthermore, among these, triazine peroxide derivatives are highly soluble in compositions, easy to synthesize, and highly sensitive to irradiation light. is more preferred.
前記R4の置換位置は、特に限定されないが、XがAr1の場合、R4の少なくとも一つが、トリアジン基が置換されたベンゼン環の4位に置換されていることが好ましい。また、XがAr2の場合、R4の少なくとも一つが、トリアジン基が置換されたベンゼン環とは別のベンゼン環の4位に置換されていることが好ましい。また、XがAr3の場合、R4の少なくとも一つが、1位に置換されたトリアジン基の4位に置換されていることが好ましい。また、XがAr4の場合、R4の少なくとも一つが、トリアジン基が置換されたベンゼン環とは別のベンゼン環の4位に置換されていることが照射光を効率よく吸収するため好ましい。 The substitution position of R 4 is not particularly limited, but when X is Ar 1 , at least one R 4 is preferably substituted at the 4-position of the benzene ring substituted with a triazine group. Also, when X is Ar 2 , at least one R 4 is preferably substituted at the 4-position of a benzene ring other than the benzene ring substituted with the triazine group. Also, when X is Ar 3 , at least one R 4 is preferably substituted at the 4-position of the triazine group substituted at the 1-position. When X is Ar 4 , at least one R 4 is preferably substituted at the 4-position of a benzene ring other than the triazine-substituted benzene ring for efficient absorption of irradiation light.
以下に、本発明のトリアジンペルオキシド誘導体の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
前記トリアジンペルオキシド誘導体としては、好ましくは化合物23、化合物25、化合物26、化合物27、化合物28、化合物31、化合物32、化合物33、化合物35、化合物37、化合物38、化合物39、化合物40、化合物41、化合物42、化合物43、化合物44、化合物46が挙げられ、より好ましくは化合物25、化合物26、化合物31、化合物32、化合物35、化合物37、化合物38、化合物41、化合物44が挙げられる。 As the triazine peroxide derivative, preferably compound 23, compound 25, compound 26, compound 27, compound 28, compound 31, compound 32, compound 33, compound 35, compound 37, compound 38, compound 39, compound 40, compound 41 , compound 42, compound 43, compound 44 and compound 46, and more preferably compound 25, compound 26, compound 31, compound 32, compound 35, compound 37, compound 38, compound 41 and compound 44.
<トリアジンペルオキシド誘導体の製造方法>
前記一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体の製造方法は、例えば、下記反応式のように、塩化シアヌル誘導体を得る工程(以下、工程(A)とも称す)と、続いて、得られた塩化シアヌル誘導体と、ヒドロペルオキシドを、アルカリの存在下で、反応させる工程(以下、工程(B)とも称す)を含む方法が挙げられる。なお、上記の工程(A)および/または工程(B)の後には、余剰の原料等を減圧留去(除去)する工程や、精製工程を含んでもよい。
The method for producing the triazine peroxide derivative represented by the general formula (1) includes, for example, a step of obtaining a cyanuric chloride derivative (hereinafter also referred to as step (A)) as shown in the following reaction formula, followed by A method comprising a step of reacting a cyanuric chloride derivative with a hydroperoxide in the presence of an alkali (hereinafter also referred to as step (B)). After the step (A) and/or the step (B), a step of distilling off (removing) excess raw materials or the like under reduced pressure or a purification step may be included.
前記工程(B)において、前記塩化シアヌル誘導体は、市販品を利用できる。なお、市販品がない場合、前記工程(A)において、グリニャール反応、リチオ化反応、鈴木カップリング反応、またはフリーデル・クラフツ反応等の公知の合成法に準じて合成することができる。 In the step (B), a commercially available product can be used as the cyanuric chloride derivative. If there is no commercially available product, it can be synthesized in the step (A) according to known synthesis methods such as Grignard reaction, lithiation reaction, Suzuki coupling reaction, Friedel-Crafts reaction, and the like.
<グリニャール反応による塩化シアヌル誘導体の合成>
前記工程(A)において、グリニャール反応により、塩化シアヌル誘導体を合成する場合、特開平6-179661号公報等に記載の公知の合成法に準じて合成することができる。前記工程(A)における芳香族化合物のZは塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子で表される芳香族化合物を使用することができる。芳香族化合物とマグネシウムを反応させることでグリニャール試薬を調製し、次いで得られたグリニャール試薬を塩化シアヌルと反応させることにより塩化シアヌル誘導体を合成することができる。
<Synthesis of cyanuric chloride derivative by Grignard reaction>
When synthesizing a cyanuric chloride derivative by a Grignard reaction in the step (A), it can be synthesized according to a known synthesis method described in JP-A-6-179661 and the like. Z of the aromatic compound in step (A) can be an aromatic compound represented by a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. A cyanuric chloride derivative can be synthesized by reacting an aromatic compound with magnesium to prepare a Grignard reagent and then reacting the obtained Grignard reagent with cyanuric chloride.
上記のグリニャール試薬の調製において、マグネシウムは、芳香族化合物1モルに対して、0.8から2.0モル用いることが好ましく、1から1.5モル用いることがより好ましい。反応開始剤として、ヨウ素、ブロモエタン、ジブロモエタン等を用いてもよく、芳香族化合物1モルに対して、0.0001から0.01モル用いることが好ましい。反応温度は0から70℃が好ましく、10から60℃がより好ましい。反応時間は30分から20時間が好ましく、1時間から10時間がより好ましい。 In the preparation of the above Grignard reagent, magnesium is preferably used in an amount of 0.8 to 2.0 mol, more preferably 1 to 1.5 mol, per 1 mol of the aromatic compound. As a reaction initiator, iodine, bromoethane, dibromoethane, or the like may be used, and it is preferable to use 0.0001 to 0.01 mol per 1 mol of the aromatic compound. The reaction temperature is preferably 0 to 70°C, more preferably 10 to 60°C. The reaction time is preferably 30 minutes to 20 hours, more preferably 1 hour to 10 hours.
上記のグリニャール試薬の調製において、例えば、テトラヒドロフラン等のエーテル類等の溶媒を用いることができる。 Solvents such as ethers such as tetrahydrofuran can be used in the preparation of the Grignard reagent.
また、上記のグリニャール試薬と塩化シアヌルと反応において、塩化シアヌルは、芳香族化合物1モルに対して、0.7から1.5モル用いることが好ましく、0.8から1.2モル用いることがより好ましい。反応温度は-30から70℃が好ましく、-10から40℃がより好ましい。反応時間は10分から10時間が好ましく、30分から5時間であることがより好ましい。なお、調製したグリニャール試薬に塩化シアヌルを投入してもよく、塩化シアヌルの溶液にグリニャール試薬を投入してもよい。 In the reaction between the Grignard reagent and cyanuric chloride, cyanuric chloride is preferably used in an amount of 0.7 to 1.5 mol, more preferably 0.8 to 1.2 mol, per 1 mol of the aromatic compound. more preferred. The reaction temperature is preferably -30 to 70°C, more preferably -10 to 40°C. The reaction time is preferably 10 minutes to 10 hours, more preferably 30 minutes to 5 hours. Cyanuric chloride may be added to the prepared Grignard reagent, or the Grignard reagent may be added to a solution of cyanuric chloride.
上記のグリニャール試薬と塩化シアヌルと反応において、例えば、テトラヒドロフラン等のエーテル類等の溶媒を用いることができる。 In the reaction between the Grignard reagent and cyanuric chloride, a solvent such as ethers such as tetrahydrofuran can be used.
<リチオ化反応による塩化シアヌル誘導体の合成>
前記工程(A)において、リチオ化反応により、塩化シアヌル誘導体を合成する場合、国際公開第2012/096263号等に記載の公知の合成法に準じて合成することができる。前記工程(A)における芳香族化合物のZは塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子で表される芳香族化合物を使用することができる。芳香族化合物とリチオ化剤を反応させることでリチオ化合物を調製し、次いで得られたリチオ化合物と塩化シアヌルを反応させることにより塩化シアヌル誘導体を合成することができる。
<Synthesis of cyanuric chloride derivative by lithiation reaction>
In the step (A), when a cyanuric chloride derivative is synthesized by a lithiation reaction, it can be synthesized according to a known synthesis method described in International Publication No. 2012/096263 and the like. Z of the aromatic compound in step (A) can be an aromatic compound represented by a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom. A cyanuric chloride derivative can be synthesized by reacting an aromatic compound with a lithiating agent to prepare a lithio compound, and then reacting the obtained lithio compound with cyanuric chloride.
前記リチオ化剤としては、メチルリチウム、n-ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のアルキルリチウム類;フェニルリチウム等のアリールリチウム類;リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド等のリチウムアミド類を挙げることができ、n-ブチルリチウム、s-ブチルリチウム、t-ブチルリチウム、フェニルリチウムであることが好ましい。 Examples of the lithiation agent include alkyllithiums such as methyllithium, n-butyllithium, s-butyllithium and t-butyllithium; aryllithiums such as phenyllithium; lithium diisopropylamide and lithium bis(trimethylsilyl)amide. Examples include lithium amides, and n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium and phenyllithium are preferred.
上記のリチオ化合物の調製において、リチオ化剤は、芳香族化合物1モルに対して、0.8から3.0モル用いることが好ましく、1.0から2.2モル用いることがより好ましい。反応温度は-100から50℃が好ましく、-80から0℃がより好ましい。反応時間は0.2から20時間が好ましく、0.5から10時間がより好ましい。 In the preparation of the above lithio compound, the lithiation agent is preferably used in an amount of 0.8 to 3.0 mol, more preferably 1.0 to 2.2 mol, per 1 mol of the aromatic compound. The reaction temperature is preferably -100 to 50°C, more preferably -80 to 0°C. The reaction time is preferably 0.2 to 20 hours, more preferably 0.5 to 10 hours.
上記のリチオ化合物の調製において、例えば、テトラヒドロフラン等のエーテル類等の溶媒を用いることができる。 Solvents such as ethers such as tetrahydrofuran can be used in the preparation of the above lithio compound.
また、上記のリチオ化合物と塩化シアヌルと反応において、塩化シアヌルは、芳香族化合物1モルに対して、0.7から1.5モル用いることが好ましく、0.8から1.2モル用いることがより好ましい。反応温度は-30から70℃が好ましく、-10から40℃がより好ましい。反応時間は10分から10時間が好ましく、30分から5時間であることがより好ましい。なお、調製したリチオ化合物に塩化シアヌルを投入してもよく、塩化シアヌルの溶液にリチオ化合物を投入してもよい。 In the reaction between the lithio compound and cyanuric chloride, cyanuric chloride is preferably used in an amount of 0.7 to 1.5 mol, more preferably 0.8 to 1.2 mol, per 1 mol of the aromatic compound. more preferred. The reaction temperature is preferably -30 to 70°C, more preferably -10 to 40°C. The reaction time is preferably 10 minutes to 10 hours, more preferably 30 minutes to 5 hours. Cyanuric chloride may be added to the prepared lithio compound, or the lithio compound may be added to a solution of cyanuric chloride.
上記のリチオ化合物と塩化シアヌルと反応において、例えば、テトラヒドロフラン等のエーテル類等の溶媒を用いることができる。 A solvent such as an ether such as tetrahydrofuran can be used in the reaction between the lithio compound and cyanuric chloride.
<鈴木カップリングによる塩化シアヌル誘導体の合成>
前記工程(A)において、鈴木カップリング反応により、塩化シアヌル誘導体を合成する場合、国際公開第2012/096263号等に記載の公知の合成法に準じて合成することができる。例えば、前述のリチオ化合物をホウ素試薬と反応させることによって、芳香族化合物のZがボロニル基またはボロン酸に変換されたホウ素化合物を合成することができる。次いで得られたホウ素化合物を塩化シアヌルと反応させることにより塩化シアヌル誘導体を合成することができる。なお、ホウ素化合物の市販品が販売されている場合、そのまま使用することができる。
<Synthesis of Cyanuric Chloride Derivatives by Suzuki Coupling>
In the step (A), when synthesizing a cyanuric chloride derivative by Suzuki coupling reaction, it can be synthesized according to a known synthesis method described in International Publication No. 2012/096263 and the like. For example, by reacting the aforementioned lithio compound with a boron reagent, it is possible to synthesize a boron compound in which Z in the aromatic compound is converted to a boronyl group or boronic acid. Then, a cyanuric chloride derivative can be synthesized by reacting the obtained boron compound with cyanuric chloride. In addition, when the commercial item of a boron compound is sold, it can be used as it is.
前記ホウ素試薬としては、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピル、2-イソプロポキシ-4,4,5,5-テトラメチル-1,3,2-ジオキサボロラン等が挙げられる。 Examples of the boron reagent include trimethyl borate, triisopropyl borate, 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane, and the like.
上記のホウ素化合物の合成において、ホウ素試薬は、リチオ化合物1モルに対して、0.8から3.0モル用いることが好ましく、1.0から2.0モル用いることがより好ましい。反応温度は-100から50℃が好ましく、-80から20℃がより好ましい。反応時間は10分から20時間が好ましく、30分から10時間がより好ましい。 In the above synthesis of the boron compound, the boron reagent is preferably used in an amount of 0.8 to 3.0 mol, more preferably 1.0 to 2.0 mol, per 1 mol of the lithio compound. The reaction temperature is preferably -100 to 50°C, more preferably -80 to 20°C. The reaction time is preferably 10 minutes to 20 hours, more preferably 30 minutes to 10 hours.
上記のホウ素化合物の合成において、例えば、テトラヒドロフラン等のエーテル類等の溶媒を用いることができる。 In the synthesis of the above boron compounds, for example, solvents such as ethers such as tetrahydrofuran can be used.
また、上記のホウ素化合物と塩化シアヌルと反応において、塩化シアヌルは、ホウ素化合物1モルに対して、0.7から1.5モル用いることが好ましく、0.8から1.2モル用いることがより好ましい。反応温度は-30から70℃が好ましく、-10から40℃がより好ましい。反応時間は10分から10時間が好ましく、30分から5時間であることがより好ましい。なお、ホウ素化合物に塩化シアヌルを投入してもよく、塩化シアヌルの溶液にホウ素化合物を投入してもよい。 Further, in the above reaction with the boron compound and cyanuric chloride, cyanuric chloride is preferably used in an amount of 0.7 to 1.5 mol, more preferably 0.8 to 1.2 mol, per 1 mol of the boron compound. preferable. The reaction temperature is preferably -30 to 70°C, more preferably -10 to 40°C. The reaction time is preferably 10 minutes to 10 hours, more preferably 30 minutes to 5 hours. Cyanuric chloride may be added to the boron compound, or the boron compound may be added to a solution of cyanuric chloride.
上記のホウ素化合物と塩化シアヌルの反応において、パラジウム触媒およびアルカリを用いることが好ましく、必要に応じて配位子を添加しても良い。 A palladium catalyst and an alkali are preferably used in the above reaction of the boron compound and cyanuric chloride, and a ligand may be added as necessary.
前記パラジウム触媒としては、酢酸パラジウム、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリド、(ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)パラジウムジクロリド-塩化メチレン錯体等が挙げられる。 Examples of the palladium catalyst include palladium acetate, tetrakistriphenylphosphine palladium, bis(triphenylphosphine)palladium dichloride, (bis(diphenylphosphino)ferrocene)palladium dichloride-methylene chloride complex, and the like.
前記アルカリとしては、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リン酸カリウム等のアルカリ金属塩等の無機塩基;トリエチルアミン等の有機塩基が挙げられる。 Examples of the alkali include inorganic bases such as alkali metal salts such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium acetate, potassium acetate and potassium phosphate; and organic bases such as triethylamine.
前記配位子としては、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、2,2‘-ビス(ジフェニルホスフィノ)-1,1’-ビナフタレン、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2,6‘-ジメトキシビフェニル等の有機リン系配位子等が挙げられる。 As the ligand, organic Phosphorus-based ligands and the like can be mentioned.
上記のホウ素化合物と塩化シアヌルの反応において、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル類;メタノール、2-プロパノール等のアルコール類;トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素類;N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド類等の有機溶媒を用いることができる。前記有機溶媒は、単独で用いてもよく2種類以上を併用してもよい。さらに、前記有機溶媒と水との混合溶媒を用いることができる。 In the reaction of the above boron compound and cyanuric chloride, ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; alcohols such as methanol and 2-propanol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Organic solvents such as amides such as formamide can be used. The organic solvent may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, a mixed solvent of the organic solvent and water can be used.
<フリーデル・クラフツ反応による塩化シアヌル誘導体の合成>
前記工程(A)において、フリーデル・クラフツ反応により、塩化シアヌル誘導体を合成する場合、米国特許第5322941号等に記載の公知の合成法に準じて合成することができる。前記工程(A)における芳香族化合物のZは水素原子、n=0で表される芳香族化合物を使用することができる。塩化アルミニウム等のルイス酸の存在下、芳香族化合物と塩化シアヌルを反応させることにより塩化シアヌル誘導体を合成することができる。
<Synthesis of Cyanuric Chloride Derivatives by Friedel-Crafts Reaction>
In the step (A), when the cyanuric chloride derivative is synthesized by the Friedel-Crafts reaction, it can be synthesized according to the known synthetic method described in US Pat. No. 5,322,941 and the like. Z of the aromatic compound in the step (A) can be a hydrogen atom, and an aromatic compound represented by n=0 can be used. A cyanuric chloride derivative can be synthesized by reacting an aromatic compound with cyanuric chloride in the presence of a Lewis acid such as aluminum chloride.
前記ルイス酸としては、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化鉄(III)、塩化チタン(IV)、塩化スズ(IV)、塩化亜鉛、ビスマス(III)トリフラート、ハフニウム(IV)トリフラート、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等を用いることができる。 Examples of Lewis acids include aluminum chloride, aluminum bromide, iron (III) chloride, titanium (IV) chloride, tin (IV) chloride, zinc chloride, bismuth (III) triflate, hafnium (IV) triflate, and boron trifluoride. A diethyl ether complex or the like can be used.
上記の芳香族化合物と塩化シアヌルの反応において、塩化シアヌルは、芳香族化合物1モルに対して、0.7から1.5モル用いることが好ましく、0.8から1.2モル用いることがより好ましい。塩化アルミニウムは、芳香族化合物1モルに対して、1.0から3.0モル用いることが好ましく、1.0から2.0モル用いることがより好ましい。反応温度は-50から60℃が好ましく、0から40℃がより好ましい。反応時間は10分から10時間が好ましく、30分から5時間であることがより好ましい。なお、芳香族化合物と塩化シアヌルの溶液に塩化アルミニウムを加えてもよく、塩化シアヌルと塩化アル
ミニウムの溶液に芳香族化合物を加えてもよい。
In the above reaction between the aromatic compound and cyanuric chloride, cyanuric chloride is preferably used in an amount of 0.7 to 1.5 mol, more preferably 0.8 to 1.2 mol, per 1 mol of the aromatic compound. preferable. Aluminum chloride is preferably used in an amount of 1.0 to 3.0 mol, more preferably 1.0 to 2.0 mol, per 1 mol of the aromatic compound. The reaction temperature is preferably -50 to 60°C, more preferably 0 to 40°C. The reaction time is preferably 10 minutes to 10 hours, more preferably 30 minutes to 5 hours. Aluminum chloride may be added to the solution of the aromatic compound and cyanuric chloride, or the aromatic compound may be added to the solution of cyanuric chloride and aluminum chloride.
上記の芳香族化合物と塩化シアヌルの反応において、例えば、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、キシレン等の溶媒を用いることができる。 Solvents such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, and xylene can be used in the above reaction of the aromatic compound and cyanuric chloride.
<トリアジンペルオキシド誘導体の合成>
前記工程(B)において、一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体の製造方法は、特に限定されないが、特公昭45-39468号公報等に記載の公知のトリアジンペルオキシドの合成法に準じて合成することができる。
<Synthesis of triazine peroxide derivative>
In the step (B), the method for producing the triazine peroxide derivative represented by the general formula (1) is not particularly limited. Can be synthesized.
上記の工程(A)で得られた塩化シアヌル誘導体と、ヒドロペルオキシドを、アルカリの存在下で、反応させる工程(B)により、トリアジンペルオキシド誘導体が得られる。 A triazine peroxide derivative is obtained by the step (B) of reacting the cyanuric chloride derivative obtained in the above step (A) with a hydroperoxide in the presence of an alkali.
前記工程(B)において、ヒドロペルオキシドは、塩化シアヌル誘導体1モルに対して、目的物の収率性を高める観点から、1.8モル以上反応させることが好ましく、2.0モル以上反応させることがより好ましく、そして、5.0モル以下反応させることが好ましく、3.8モル以下反応させることがより好ましい。なお、ヒドロペルオキシドは、市販品を利用でき、市販品がない場合、特開昭58-72557号公報等に記載の公知の合成法に準じて合成することができる。 In the step (B), 1.8 mol or more, preferably 2.0 mol or more, of hydroperoxide is reacted with respect to 1 mol of the cyanuric chloride derivative from the viewpoint of increasing the yield of the target product. is more preferable, and 5.0 mol or less is preferable, and 3.8 mol or less is more preferable. The hydroperoxide can be used as a commercially available product, and if there is no commercially available product, it can be synthesized according to the known synthetic method described in JP-A-58-72557.
前記工程(B)において、反応温度は、目的物の収率性を高める観点から、-10℃以上であることが好ましく、0℃以上であることがより好ましく、そして、40℃以下であることが好ましく、30℃以下であることがより好ましい。 In the step (B), the reaction temperature is preferably −10° C. or higher, more preferably 0° C. or higher, and 40° C. or lower, from the viewpoint of increasing the yield of the target product. is preferred, and 30°C or lower is more preferred.
前記工程(B)において、反応時間は、原料や反応温度等によって異なるので一概には決定できないが、通常、目的物の収率性を高める観点から、10分から6時間が好ましい。 In the step (B), the reaction time varies depending on the raw materials, reaction temperature, etc., and cannot be determined unconditionally. However, from the viewpoint of increasing the yield of the target product, 10 minutes to 6 hours is generally preferred.
前記工程(B)において、使用するアルカリは、特に制限はないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジン、α―ピコリン、γ―ピコリン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]-5-ノネン等が挙げられる。アルカリは、塩化シアヌル誘導体1モルに対して、目的物の収率性を高める観点から、1.8モル以上使用することが好ましく、2.0モル以上使用することがより好ましく、そして、5.0モル以下使用することが好ましく、3.8モル以下使用することがより好ましい。 The alkali used in the step (B) is not particularly limited, but sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, pyridine, α-picoline, γ-picoline, dimethylaminopyridine, triethylamine, tributylamine, N,N-diisopropylethylamine, 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-5-nonene and the like. 5. The alkali is preferably used in an amount of 1.8 mol or more, more preferably 2.0 mol or more, relative to 1 mol of the cyanuric chloride derivative, from the viewpoint of increasing the yield of the target product. It is preferable to use 0 mol or less, more preferably 3.8 mol or less.
前記工程(B)では、塩化シアヌル誘導体が液状である場合は、有機溶媒を用いずに反応を行うことができる。また、塩化シアヌル誘導体が固体である場合は、有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒としては、塩化シアヌル誘導体の種類により溶解度が異なるため、特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族系炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。前記有機溶媒は、単独で用いてもよく2種類以上を併用してもよい。 In the step (B), when the cyanuric chloride derivative is liquid, the reaction can be carried out without using an organic solvent. Moreover, when the cyanuric chloride derivative is solid, it is preferable to use an organic solvent. The organic solvent is not particularly limited because the solubility varies depending on the type of cyanuric chloride derivative. Examples include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and ethylbenzene; , ethers such as dioxane, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform. The organic solvent may be used alone or in combination of two or more.
前記有機溶媒の使用量は、通常、原料の合計量100質量部に対して30~500質量部程度である。有機溶媒は工程(B)の後に留去することで、トリアジンペルオキシド誘導体を取り出してもよく、取り扱い性の向上や熱分解時の危険性を低減させるため、トリアジンペルオキシド誘導体を有機溶媒の希釈品として使用してもよい。 The amount of the organic solvent used is usually about 30 to 500 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of raw materials. The triazine peroxide derivative may be taken out by distilling off the organic solvent after step (B). may be used.
前記工程(B)は、常圧下で、空気下で行うことができるが、窒素気流下または窒素雰囲気下で行ってもよい。 The step (B) can be carried out under atmospheric pressure and in air, but may be carried out under a nitrogen stream or nitrogen atmosphere.
前記精製工程としては、余剰の原料や副生物を除去するために、例えば、イオン交換水や、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基性水溶液、亜硫酸ナトリウム水溶液等を用いて洗浄し、目的物を精製する工程が挙げられる。 As the purification step, in order to remove excess raw materials and by-products, for example, ion-exchanged water, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. A step of purifying the desired product by washing with an aqueous solution, an aqueous sodium sulfite solution, or the like can be mentioned.
以下、本発明の組成物の配合量等について説明する。 The blending amount of the composition of the present invention and the like will be described below.
前記トリアジンペルオキシド誘導体の含有量は、ラジカル重合性化合物100質量部に対して、0.01から20質量部であることが好ましく、0.02から10質量部であることがより好ましく、0.05から5質量部であることがさらに好ましい。前記トリアジンペルオキシド誘導体の含有量は、ラジカル重合性化合物100質量部に対して、0.01質量部未満では硬化反応が進行しないため好ましくない。また、前記トリアジンペルオキシド誘導体の含有量は、ラジカル重合性化合物100質量部に対して、20質量部より多い場合、ラジカル重合性化合物への溶解度が飽和に達し、組成物の成膜時に前記トリアジンペルオキシド誘導体の結晶が析出し、皮膜表面の荒れが問題になる場合や、前記トリアジンペルオキシド誘導体の分解残渣の増加により、硬化物の塗膜の強度が低下する場合があるため、好ましくない。 The content of the triazine peroxide derivative is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.02 to 10 parts by mass, and more preferably 0.05 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound. to 5 parts by mass is more preferable. If the content of the triazine peroxide derivative is less than 0.01 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound, the curing reaction does not proceed, which is not preferable. When the content of the triazine peroxide derivative is more than 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound, the solubility in the radically polymerizable compound reaches saturation, and the triazine peroxide is Derivative crystals may be precipitated, causing a problem of roughening of the coating surface, and an increase in decomposition residue of the triazine peroxide derivative may reduce the strength of the coating film of the cured product, which is not preferable.
また、前記組成物には、前記トリアジンペルオキシド誘導体以外にも、他の重合開始剤を用いることで、組成物の表面硬化性、深部硬化性、透明性等を改良することができる。他の重合開始剤の選択に当たっては、ラジカル重合性化合物、その他添加剤の種類、硬化物の膜厚等が考慮される。 In addition to the triazine peroxide derivative, other polymerization initiators may be used in the composition to improve the surface curability, depth curability, transparency, and the like of the composition. In selecting other polymerization initiators, the radically polymerizable compound, the type of other additives, the film thickness of the cured product, and the like are taken into consideration.
<その他の成分>
前記組成物には、コーティング剤や塗料、印刷インキ、感光性印刷版、接着剤、カラーレジストやブラックレジスト等の各種フォトレジスト等の用途で一般的に使用されている添加剤を配合できる。添加剤としては、例えば、増感剤(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、4,4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、9,10-ジブトキシアントラセン、クマリン、ケトクマリン、アクリジンオレンジ、カンファーキノン等)、重合禁止剤(p-メトキシフェノール、ヒドロキノン、2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、フェノチアジン等)、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、レベリング剤、表面調整剤、界面活性剤、増粘剤、消泡剤、接着促進剤、可塑剤、エポキシ化合物、チオール化合物、エチレン性不飽和結合を有する樹脂、飽和樹脂、着色染料、蛍光染料、顔料(黄色顔料、青色顔料、赤色顔料、白色顔料、黒色顔料等)、炭素系材料(炭素繊維、カーボンブラック、黒鉛、黒鉛化カーボンブラック、活性炭、カーボンナノチューブ、フラーレン、グラフェン、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル等)、金属酸化物(酸化チタン、酸化イリジウム、酸化亜鉛、アルミナ等)、金属(銀、銅等)、無機化合物(シリカ、ガラス粉末、層状粘度鉱物、マイカ、タルク、炭酸カルシウム等)、無機充填剤(水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、ケイ酸ジルコニウム等)、分散剤、難燃剤等が挙げられる。添加剤は、単独で用いてもよく2種類以上を併用してもよい。
<Other ingredients>
Additives commonly used in applications such as coating agents, paints, printing inks, photosensitive printing plates, adhesives, and various photoresists such as color resists and black resists can be added to the composition. Examples of additives include sensitizers (isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, 4,4′-bis(diethylamino)benzophenone, 9,10-dibutoxyanthracene, coumarin, ketocoumarin, acridine orange, camphorquinone, etc.), polymerization inhibition agents (p-methoxyphenol, hydroquinone, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, phenothiazine, etc.), ultraviolet absorbers, infrared absorbers, light stabilizers, antioxidants, leveling agents, surface conditioners , surfactants, thickeners, defoamers, adhesion promoters, plasticizers, epoxy compounds, thiol compounds, resins with ethylenically unsaturated bonds, saturated resins, colored dyes, fluorescent dyes, pigments (yellow pigments, blue pigments, red pigments, white pigments, black pigments, etc.), carbon-based materials (carbon fibers, carbon black, graphite, graphitized carbon black, activated carbon, carbon nanotubes, fullerenes, graphene, carbon microcoils, carbon nanohorns, carbon aerogels, etc.) , metal oxides (titanium oxide, iridium oxide, zinc oxide, alumina, etc.), metals (silver, copper, etc.), inorganic compounds (silica, glass powder, lamellar clay minerals, mica, talc, calcium carbonate, etc.), inorganic fillers (aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium sulfate, barium titanate, magnesium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, zirconium silicate, etc.), dispersants, flame retardants, and the like. Additives may be used alone or in combination of two or more.
前記添加剤は使用目的に応じて適宜選択され、特に制限されるものではないが、顔料、炭素系材料、金属酸化物、無機化合物、無機充填剤が好ましく、黒色顔料、カーボンブラック、アルミナ、シリカがより好ましい。 The additive is appropriately selected depending on the purpose of use and is not particularly limited, but pigments, carbonaceous materials, metal oxides, inorganic compounds, inorganic fillers are preferable, and black pigments, carbon black, alumina, silica. is more preferred.
前記添加剤の含有量は、使用目的に応じて適宜選択され、特に制限されるものではないが、通常、ラジカル重合性化合物100質量部に対して、500質量部以下であることが好ましく、100質量部以下であることがより好ましい。 The content of the additive is appropriately selected according to the purpose of use and is not particularly limited, but is usually preferably 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound. It is more preferably not more than parts by mass.
前記組成物には、粘度や塗装性、硬化膜の平滑性の改良のため、更に溶媒を加えることもできる。溶媒は、前記ラジカル重合性化合物、前記トリアジンペルオキシド誘導体、前記その他の成分を、溶解または分散することができるものであり、乾燥温度において揮発する溶媒であれば、特に制限されるものではない。 A solvent may be further added to the composition in order to improve viscosity, coatability, and smoothness of the cured film. The solvent is not particularly limited as long as it is capable of dissolving or dispersing the radically polymerizable compound, the triazine peroxide derivative, and the other components, and is volatile at the drying temperature.
前記溶媒としては、例えば、水、アルコール系溶媒、カルビトール系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、ラクトン系溶媒、不飽和炭化水素系溶媒、セロソルブアセテート系溶媒、カルビトールアセテート系溶媒やプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられる。溶媒は、単独で用いてもよく2種類以上を併用してもよい。 Examples of the solvent include water, alcohol solvents, carbitol solvents, ester solvents, ketone solvents, ether solvents, lactone solvents, unsaturated hydrocarbon solvents, cellosolve acetate solvents, carbitol acetate solvents, Examples include solvents, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, and the like. The solvent may be used alone or in combination of two or more.
前記溶媒を使用する場合、前記溶媒の使用量は、前記組成物の固形分100質量部に対して、10から1000質量部であることが好ましく、20から500質量部であることがより好ましい。 When the solvent is used, the amount of the solvent used is preferably 10 to 1000 parts by mass, more preferably 20 to 500 parts by mass, per 100 parts by mass of the solid content of the composition.
<組成物の調製方法>
前記組成物を調整する場合には、収納容器内に前記ラジカル重合性化合物、前記トリアジンペルオキシド誘導体、必要に応じて、前記その他の成分を投入し、ペイントシェーカー、ビーズミル、サンドグラインドミル、ボールミル、アトライターミル、2本ロールミル、3本ロールミル等を用いて、常法に従って溶解または分散させればよい。また、必要に応じて、メッシュまたはメンブレンフィルター等を通してもろ過してもよい。
<Method for preparing composition>
When preparing the composition, the radically polymerizable compound, the triazine peroxide derivative, and, if necessary, the other components are put into a storage container, and the paint shaker, bead mill, sand grind mill, ball mill, atto A lighter mill, two-roll mill, three-roll mill, or the like may be used for dissolution or dispersion according to a conventional method. In addition, if necessary, it may be filtered through a mesh or membrane filter or the like.
なお、前記組成物の調整において、前記トリアジンペルオキシド誘導体は、組成物に最初から添加しておいてもよいが、組成物を比較的長時間保存する場合には、使用直前に前記トリアジンペルオキシド誘導体を、ラジカル重合性化合物を含む組成物中に溶解または分散させることが好ましい。 In addition, in the preparation of the composition, the triazine peroxide derivative may be added to the composition from the beginning. , preferably dissolved or dispersed in a composition containing a radically polymerizable compound.
<硬化物の製造方法>
本発明の第1の硬化物の製造方法は、前記ラジカル重合性化合物と前記一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物に活性エネルギー線を照射する工程(I)を含み、前記硬化物の厚みが300μm超である。また、本発明の第2の硬化物の製造方法は、ラジカル重合性化合物と一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物の一部分に活性エネルギー線を照射する工程(I´)、及び前記工程(I´)により生じた重合熱により、前記組成物における前記活性エネルギー線が照射されていない部分を熱重合する工程(II)を含む。
<Method for producing cured product>
The first method for producing a cured product of the present invention includes step (I) of irradiating a composition containing the radically polymerizable compound and the triazine peroxide derivative represented by the general formula (1) with an active energy ray, The thickness of the cured product is more than 300 µm. In the second method for producing a cured product of the present invention, a step (I') of irradiating a part of a composition containing a radically polymerizable compound and a triazine peroxide derivative represented by general formula (1) with an active energy ray. and a step (II) of thermally polymerizing a portion of the composition not irradiated with the active energy ray by the heat of polymerization generated in the step (I′).
前記組成物は、前記トリアジンペルオキシド誘導体を含むため、活性エネルギー線を照射することによって、固体状の硬化物が形成できる。よって、前記組成物およびその硬化物の形状は、何ら制限されるものではなく、例えば、シート状、板状、バルク状(塊状)などが挙げられる。前記組成物は、例えば、スピンコート法、バーコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法、スリットコート法、ドクターブレードコート法、グラビアコート法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、ディスペンサー印刷法等の種々の塗布方法で基板に塗布してもよく、また、深さのある容器に注型してもよい。また、前記基板及び容器は、例えば、ガラス、シリコンウエハ、金属、プラスチック等のフィルムやシート、および立体形状の成形品等が挙げられ、基板及び容器の形状が制限されることは無い。 Since the composition contains the triazine peroxide derivative, a solid cured product can be formed by irradiation with active energy rays. Therefore, the shape of the composition and its cured product is not limited at all, and examples thereof include sheet-like, plate-like and bulk-like (massive) shapes. The composition can be applied, for example, by spin coating, bar coating, spray coating, dip coating, flow coating, slit coating, doctor blade coating, gravure coating, screen printing, offset printing, inkjet printing. It may be coated on a substrate by various coating methods such as a method, a dispenser printing method, etc., or may be cast into a container having a depth. Examples of the substrate and container include films and sheets of glass, silicon wafers, metals, plastics, etc., and three-dimensional molded products, and the shape of the substrate and container is not limited.
前記活性エネルギー線は、電子線、紫外線、可視光線、放射線等の活性エネルギー線が挙げられる。 Examples of the active energy rays include active energy rays such as electron beams, ultraviolet rays, visible rays, and radiation.
活性エネルギー線は、活性エネルギー線の波長が250から450nmの光を含むことが好ましく、硬化を迅速に行うことができる観点から、350から410nmの光を含むことがより好ましい。 The active energy ray preferably contains light with a wavelength of 250 to 450 nm, and more preferably contains light with a wavelength of 350 to 410 nm from the viewpoint of rapid curing.
前記活性エネルギー線の照射の光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、紫外線無電極ランプ、発光ダイオード(LED)、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、太陽光、YAGレーザー等の固体レーザー、半導体レーザー、アルゴンレーザー等のガスレーザー等を使用することができる。なお、前記トリアジンペルオキシド誘導体の吸収が少ない可視光から赤外光の光を用いる場合には、前記添加剤として、その光を吸収する増感剤を使用することにより硬化を行なうことができる。 The light source for irradiation of the active energy ray includes a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an ultraviolet electrodeless lamp, a light-emitting diode (LED), a xenon arc lamp, a carbon arc lamp, sunlight, and YAG. Solid lasers such as lasers, semiconductor lasers, gas lasers such as argon lasers, and the like can be used. When visible light to infrared light, which is less absorbed by the triazine peroxide derivative, is used, curing can be performed by using a sensitizer that absorbs the light as the additive.
前記活性エネルギー線の露光量は、前記組成物が、活性エネルギー線を照射することにより開始する重合反応の重合熱の拡散によって、前記トリアジンペルオキシド誘導体のペルオキシエステル基の分解が促進されることにより硬化できる露光量に適宜設定すべきであり、活性エネルギー線の波長や強度、前記組成物の成分に応じて適宜設定すべきである。一例として、UV-A領域での露光量は、10から5,000mJ/cm2であることが好ましく、30から1,000mJ/cm2であることがより好ましい。また、前記組成物に遮光成分を含有する場合は、UV-A領域での露光量は、100から500,000mJ/cm2であることが好ましく、1,000から200,000mJ/cm2であることがより好ましい。 The amount of exposure to the active energy ray is such that the composition cures by facilitating the decomposition of the peroxyester group of the triazine peroxide derivative due to the diffusion of the polymerization heat of the polymerization reaction initiated by irradiation with the active energy ray. The amount of exposure should be set appropriately according to the wavelength and intensity of the active energy ray and the components of the composition. As an example, the exposure dose in the UV-A region is preferably 10 to 5,000 mJ/cm 2 and more preferably 30 to 1,000 mJ/cm 2 . Further, when the composition contains a light-shielding component, the exposure dose in the UV-A region is preferably 100 to 500,000 mJ/cm 2 , more preferably 1,000 to 200,000 mJ/cm 2 . is more preferable.
本発明の第1の硬化物の製造方法において、前記硬化物の厚みは、300μm超である。当該厚みは、前記硬化物の形状により、その厚さや長さを示すものであり、例えば、前記硬化物の形状が、シート状の場合、その膜厚を示し、また、バルク状の場合、その厚さや長さを示す。前記硬化物の厚みは、前記組成物が、活性エネルギー線を照射することにより開始する重合反応の重合熱の拡散によって、前記トリアジンペルオキシド誘導体のペルオキシエステル基の分解が促進されることにより硬化できる範囲であれば、その上限値に何ら制限されるものではないが、例えば、上限値として、例えば、500mm以下、300mm以下が例示できる。また、前記組成物の活性エネルギー線の届かない部分を硬化できる利点を活かす観点から、前記硬化物の厚みは、下限値として、例えば、400μm以上、500μm以上が例示できる。 In the method for producing the first cured product of the present invention, the thickness of the cured product is more than 300 μm. The thickness indicates the thickness and length depending on the shape of the cured product. For example, when the shape of the cured product is a sheet, it indicates the film thickness. Indicates thickness or length. The thickness of the cured product is a range in which the composition can be cured by facilitating the decomposition of the peroxyester group of the triazine peroxide derivative by diffusion of the polymerization heat of the polymerization reaction initiated by irradiation with an active energy ray. If so, the upper limit is not limited at all, but for example, 500 mm or less and 300 mm or less can be exemplified as the upper limit. Moreover, from the viewpoint of making the most of the advantage of being able to cure the portion of the composition that is not reached by active energy rays, the lower limit of the thickness of the cured product can be, for example, 400 μm or more and 500 μm or more.
なお、本発明の第1および第2の硬化物の製造方法には、必要に応じ、加熱する工程を含むことができる。 In addition, the manufacturing method of the 1st and 2nd hardened|cured material of this invention can include the process of heating if needed.
本発明の第1および第2の硬化物の製造方法、および得られる硬化物は、ハードコート剤、光ディスク用コート剤、光ファイバー用コート剤、モバイル端末用塗料、家電用塗料、化粧品容器用塗料、光学素子用内面反射防止塗料、高・低屈折率コート剤、遮熱コート剤、放熱コート剤、防曇剤等の塗料・コーティング剤;オフセット印刷インキ、グラビア印刷インキ、スクリーン印刷インキ、インクジェット印刷インキ、導電性インキ、絶縁性インキ、導光板用インキ等の印刷インキ;感光性印刷版;ナノインプリント材料;3Dプリンター用樹脂;ホログラフィー記録材料;歯科用材料;導波路用材料;レンズシート用ブラックストライプ;コンデンサ用グリーンシートおよび電極材料;FPD用接着剤、HDD用接着剤、光ピックアップ用接着剤、イメージセンサー用接着剤、有機EL用シール剤、タッチパネル用OCA、タッチパネル用OCR等の接着剤・シール剤;カラーレジスト、ブラックレジスト、カラーフィルター用保護膜、フォトスペーサー、ブラックカラムスペーサー、額縁レジスト、TFT配線用フォトレジスト、層間絶縁膜等のFPD用レジスト;液状ソルダーレジスト、ドライフィルムレジスト等のプリント基板用レジスト;半導体レジスト、バッファーコート膜等の半導体用材料等の各種用途に使用でき、その用途に特に制限は無い。 The first and second cured product manufacturing methods of the present invention and the resulting cured product include hard coating agents, optical disk coating agents, optical fiber coating agents, mobile terminal coatings, home appliance coatings, cosmetic container coatings, Paints and coating agents such as inner anti-reflection coatings for optical elements, high/low refractive index coating agents, heat shield coating agents, heat radiation coating agents, anti-fogging agents; offset printing inks, gravure printing inks, screen printing inks, inkjet printing inks , conductive ink, insulating ink, printing ink such as ink for light guide plate; photosensitive printing plate; nanoimprint material; resin for 3D printer; holographic recording material; Green sheets and electrode materials for capacitors; FPD adhesives, HDD adhesives, optical pickup adhesives, image sensor adhesives, organic EL sealants, OCA for touch panels, OCR for touch panels, and other adhesives and sealants Color resist, black resist, protective film for color filter, photo spacer, black column spacer, frame resist, photoresist for TFT wiring, FPD resist such as interlayer insulating film; liquid solder resist, dry film resist for printed circuit board Resists: can be used for various applications such as semiconductor resists and materials for semiconductors such as buffer coat films, and there are no particular restrictions on the applications.
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。 The present invention will be described in more detail with reference to examples below.
<トリアジンペルオキシド誘導体の合成>
[合成例1:化合物23の合成]
ヒートドライ乾燥した500mL三つ口フラスコに、マグネシウム1.69g(69.5mmol)、脱水テトラヒドロフラン57mL、触媒量のヨウ素を入れ、室温下で撹拌した。ここに、1-ブロモナフタレン7.07g(50.7mmol)と脱水テトラヒドロフラン57mLの混合溶液を滴下した後、還流撹拌させた。1時間後、内温を-60℃以下まで冷却した。別途調製した塩化シアヌル8.92g(48.4mmol)と脱水テトラヒドロフランの混合溶液を15分かけ滴下した。その後、30分かけて室温にあげ、水浴下で撹拌した。62時間後、反応液を氷浴で冷却し、1M塩酸を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でpHを8に調整した。次いで、イオン交換水160mLを加え、酢酸エチルで抽出した。油相を飽和食塩水で1回洗浄した後、硫酸マグネシウムで脱水した。ろ過後、油相を減圧下で濃縮し、粗体14.6gを得た。粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/酢酸エチル=1/1から1/3)で精製し、5.14g(収率38%)の2,4-ジクロロ-6-(1-ナフタレニル)-1,3,5-トリアジンを得た。
<Synthesis of triazine peroxide derivative>
[Synthesis Example 1: Synthesis of compound 23]
1.69 g (69.5 mmol) of magnesium, 57 mL of dehydrated tetrahydrofuran, and a catalytic amount of iodine were placed in a 500 mL three-necked flask that had been heat-dried and stirred at room temperature. A mixed solution of 7.07 g (50.7 mmol) of 1-bromonaphthalene and 57 mL of dehydrated tetrahydrofuran was added dropwise thereto, followed by refluxing and stirring. After 1 hour, the internal temperature was cooled to -60°C or below. A mixed solution of 8.92 g (48.4 mmol) of cyanuric chloride prepared separately and dehydrated tetrahydrofuran was added dropwise over 15 minutes. After that, the temperature was raised to room temperature over 30 minutes, and the mixture was stirred in a water bath. After 62 hours, the reaction solution was cooled in an ice bath, 1M hydrochloric acid was added, and the pH was adjusted to 8 with a saturated sodium bicarbonate aqueous solution. Then, 160 mL of ion-exchanged water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The oil phase was washed once with saturated saline and then dehydrated with magnesium sulfate. After filtration, the oil phase was concentrated under reduced pressure to obtain 14.6 g of crude product. The crude product was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/ethyl acetate = 1/1 to 1/3) to give 5.14 g (yield 38%) of 2,4-dichloro-6-(1-naphthalenyl). -1,3,5-triazine was obtained.
30mLナスフラスコにイオン交換水0.815g、48質量%水酸化ナトリウム水溶液0.272g(3.26mmol)を加え、30℃以下で69質量%tert-ブチルヒドロペルオキシド水溶液0.343g(2.61mmol)を徐々に加えた。ここに、2,4-ジクロロ-6-(1-ナフタレニル)-1,3,5-トリアジン0.300g(1.09mmol)とテトラヒドロフラン3mLの混合溶液を、10℃で10分かけて滴下し、20℃にて2時間反応させた。反応終了後、反応溶液を氷水50mLに投入した。析出した結晶をろ過し、イオン交換水で洗浄し、減圧下で乾燥させ、0.216g(収率52%)で本発明の化合物23を得た。得られた化合物23の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。 0.815 g of ion-exchanged water and 0.272 g (3.26 mmol) of 48% by mass sodium hydroxide aqueous solution were added to a 30 mL eggplant flask, and 0.343 g (2.61 mmol) of 69% by mass tert-butyl hydroperoxide aqueous solution was added at 30° C. or lower. was added gradually. A mixed solution of 0.300 g (1.09 mmol) of 2,4-dichloro-6-(1-naphthalenyl)-1,3,5-triazine and 3 mL of tetrahydrofuran was added dropwise thereto at 10° C. over 10 minutes, The reaction was carried out at 20°C for 2 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 50 mL of ice water. Precipitated crystals were filtered, washed with ion-exchanged water, and dried under reduced pressure to obtain 0.216 g (yield 52%) of Compound 23 of the present invention. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 23 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例2:化合物25の合成]
300mLナスフラスコに、1-メトキシナフタレン5.01g(31.7mmol)、脱水ジクロロメタン100mL、塩化シアヌル6.12g(33.2mmol)を入れ、氷浴下撹拌した。15分後、塩化アルミニウム4.43g(33.2mmol)を加え、室温に昇温した。1時間後、反応液を氷冷1M塩酸75mLに注ぎ、水相を分液した。油相を飽和食塩水100mLで洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて脱水した。ろ過後、減圧濃縮し、粗体を9.59gの黄色固体を得た。粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n-ヘキサン/トルエン=4/1から1.5/1)で精製し、8.05g(収率83%)の2,4-ジクロロ-6-(4-メトキシ-1-ナフタレニル)-1,3,5-トリアジンを得た。
[Synthesis Example 2: Synthesis of compound 25]
5.01 g (31.7 mmol) of 1-methoxynaphthalene, 100 mL of dehydrated dichloromethane, and 6.12 g (33.2 mmol) of cyanuric chloride were placed in a 300 mL eggplant flask and stirred in an ice bath. After 15 minutes, 4.43 g (33.2 mmol) of aluminum chloride was added and the temperature was raised to room temperature. After 1 hour, the reaction solution was poured into 75 mL of ice-cold 1 M hydrochloric acid, and the aqueous phase was separated. The oil phase was washed with 100 mL of saturated saline and dehydrated with anhydrous sodium sulfate. After filtration, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 9.59 g of a crude yellow solid. The crude product was purified by silica gel column chromatography (n-hexane/toluene = 4/1 to 1.5/1) to give 8.05 g (yield 83%) of 2,4-dichloro-6-(4-methoxy -1-naphthalenyl)-1,3,5-triazine was obtained.
30mLナスフラスコにイオン交換水0.245g、48質量%水酸化ナトリウム水溶液0.0817g(0.98mmol)を加え、30℃以下で69質量%tert-ブチルヒドロペルオキシド水溶液0.103g(0.78mmol)を徐々に加えた。ここに、2,4-ジクロロ-6-(4-メトキシ-1-ナフタレニル)-1,3,5-トリアジン0.100g(0.33mmol)とテトラヒドロフラン2mLの混合溶液を、10℃で10分かけて滴下し、20℃にて4時間反応させた。反応終了後、酢酸エチル50mL、イオン交換水50mLを添加した後に、水相を分液した。油相を5%水酸化ナトリウム水溶液およびイオン交換水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過後、油相を減圧下で濃縮し、0.125g(収率93%)の本発明の化合物25を得た。得られた化合物25の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。 0.245 g of ion-exchanged water and 0.0817 g (0.98 mmol) of 48% by mass sodium hydroxide aqueous solution were added to a 30 mL eggplant flask, and 0.103 g (0.78 mmol) of 69% by mass tert-butyl hydroperoxide aqueous solution was added at 30°C or lower. was added gradually. Here, a mixed solution of 0.100 g (0.33 mmol) of 2,4-dichloro-6-(4-methoxy-1-naphthalenyl)-1,3,5-triazine and 2 mL of tetrahydrofuran was added at 10° C. over 10 minutes. and reacted at 20° C. for 4 hours. After completion of the reaction, 50 mL of ethyl acetate and 50 mL of ion-exchanged water were added, and then the aqueous phase was separated. The oil phase was washed with a 5% aqueous sodium hydroxide solution and deionized water, and dried over anhydrous magnesium sulfate. After filtration, the oil phase was concentrated under reduced pressure to give 0.125 g (93% yield) of compound 25 of the present invention. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 25 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例3:化合物26の合成]
本発明の化合物26は、合成例1に記載の1-ブロモナフタレンを、2-ブロモ-6-メトキシナフタレンに変更したこと以外は、合成例1に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物26の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 3: Synthesis of compound 26]
Compound 26 of the present invention was synthesized according to the method described in Synthesis Example 1, except that 1-bromonaphthalene described in Synthesis Example 1 was changed to 2-bromo-6-methoxynaphthalene. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 26 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例4:化合物31の合成]
本発明の化合物31は、合成例2に記載の1-メトキシナフタレンを、1-エトキシナフタレンに変更したこと以外は、合成例2に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物31の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 4: Synthesis of compound 31]
Compound 31 of the present invention was synthesized according to the method described in Synthesis Example 2, except that 1-methoxynaphthalene described in Synthesis Example 2 was changed to 1-ethoxynaphthalene. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 31 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例5:化合物32の合成]
本発明の化合物32は、合成例2に記載の69質量%tert-ブチルヒドロペルオキシド水溶液を、85質量%tert-アミルヒドロペルオキシドに変更したこと以外は、合成例2に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物32の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 5: Synthesis of compound 32]
Compound 32 of the present invention was synthesized according to the method described in Synthesis Example 2, except that the 69% by mass tert-butyl hydroperoxide aqueous solution described in Synthesis Example 2 was changed to 85% by mass tert-amyl hydroperoxide. bottom. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 32 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例6:化合物35の合成]
本発明の化合物35は、合成例1に記載の1-ブロモナフタレンを、4-ブロモ-4’-メトキシビフェニルに変更したこと以外は、合成例1に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物35の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 6: Synthesis of Compound 35]
Compound 35 of the present invention was synthesized according to the method described in Synthesis Example 1, except that 1-bromonaphthalene described in Synthesis Example 1 was changed to 4-bromo-4'-methoxybiphenyl. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 35 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例7:化合物37の合成]
本発明の化合物37は、合成例1に記載の1-ブロモナフタレンを、4-ブロモ-4’-メトキシビフェニルに、及び69質量%tert-ブチルヒドロペルオキシド水溶液を85質量%tert-アミルヒドロペルオキシドに変更したこと以外は、合成例1に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物37の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 7: Synthesis of compound 37]
Compound 37 of the present invention was prepared by converting 1-bromonaphthalene described in Synthesis Example 1 into 4-bromo-4'-methoxybiphenyl and 69% by mass of tert-butyl hydroperoxide aqueous solution into 85% by mass of tert-amyl hydroperoxide. Synthesis was carried out according to the method described in Synthesis Example 1, except for the changes. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 37 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例8:化合物38の合成]
本発明の化合物38は、合成例1に記載の1-ブロモナフタレンを、4-ブロモ-4’-メトキシビフェニル、及び69質量%tert-ブチルヒドロペルオキシド水溶液を90質量%tert-ヘキシルヒドロペルオキシドに変更したこと以外は、合成例1に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物38の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 8: Synthesis of Compound 38]
In Compound 38 of the present invention, 1-bromonaphthalene described in Synthesis Example 1 was replaced with 4-bromo-4'-methoxybiphenyl, and 69% by mass of tert-butyl hydroperoxide aqueous solution was changed to 90% by mass of tert-hexyl hydroperoxide. Synthesis was carried out according to the method described in Synthesis Example 1, except that Tables 1 and 2 show the properties of Compound 38 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例9:化合物40の合成]
本発明の化合物40は、合成例1に記載の1-ブロモナフタレンを、4-ブロモ-4’-メトキシビフェニルに、及び69質量%tert-ブチルヒドロペルオキシド水溶液を80質量%クメンヒドロペルオキシドに変更したこと以外は、合成例1に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物40の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 9: Synthesis of compound 40]
In Compound 40 of the present invention, 1-bromonaphthalene described in Synthesis Example 1 was changed to 4-bromo-4'-methoxybiphenyl, and 69% by mass of tert-butyl hydroperoxide aqueous solution was changed to 80% by mass of cumene hydroperoxide. Synthesis was carried out according to the method described in Synthesis Example 1 except for the above. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 40 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例10:化合物41の合成]
本発明の化合物41は、合成例1に記載の1-ブロモナフタレンを、4-ブロモスチルベンに変更したこと以外は、合成例1に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物41の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 10: Synthesis of Compound 41]
Compound 41 of the present invention was synthesized according to the method described in Synthesis Example 1, except that 1-bromonaphthalene described in Synthesis Example 1 was changed to 4-bromostilbene. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 41 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
[合成例11:化合物44の合成]
本発明の化合物44は、合成例1に記載の1-ブロモナフタレンを、p-(2-ブロモ)ビニルアニソールに変更したこと以外は、合成例1に記載の方法に準じて合成した。得られた化合物44の性状、EI-MSおよび1H-NMRによる分析結果を表1および表2に示す。
[Synthesis Example 11: Synthesis of Compound 44]
Compound 44 of the present invention was synthesized according to the method described in Synthesis Example 1, except that 1-bromonaphthalene described in Synthesis Example 1 was changed to p-(2-bromo)vinylanisole. Tables 1 and 2 show the properties of Compound 44 obtained and the results of analysis by EI-MS and 1 H-NMR.
<実施例1>
<組成物の調整>
トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業製)を100質量部、光重合開始剤として化合物23を0.2質量部混合、攪拌し、組成物を得た。
<Example 1>
<Adjustment of composition>
100 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 0.2 parts by mass of compound 23 as a photopolymerization initiator were mixed and stirred to obtain a composition.
<実施例2~11および比較例1>
表3に示す光重合開始剤に変更した以外は、実施例1と同様の方法で組成物を調製した。比較例1では、公知の光重合開始剤として、化合物R1(フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(IGM製))を使用した。
<Examples 2 to 11 and Comparative Example 1>
A composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the photopolymerization initiator shown in Table 3 was used. In Comparative Example 1, compound R1 (phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide (manufactured by IGM)) was used as a known photopolymerization initiator.
<硬化物の製造>
試験管(直径10mm、高さ90mm)内に、上記の方法で調製した組成物を高さ50mmとなるよう充填した。試験管上部以外をアルミホイルで遮光し、試験管上部から365nmLED光源を用いて10mW/cm2で5秒間(=50mJ/cm2)照射し、硬化物を製造した。硬化物(硬化層)の形成は試験管から硬化物を取り出して確認し、硬化物(硬化層)の厚み(mm)を計測した。
<Production of cured product>
A test tube (diameter 10 mm, height 90 mm) was filled with the composition prepared by the above method to a height of 50 mm. The test tube was shielded from light with aluminum foil except for the upper part, and irradiated from the upper part of the test tube with a 365 nm LED light source at 10 mW/cm 2 for 5 seconds (=50 mJ/cm 2 ) to produce a cured product. Formation of the cured product (cured layer) was confirmed by removing the cured product from the test tube, and the thickness (mm) of the cured product (cured layer) was measured.
<実施例12>
<組成物の調整>
トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業製)を100質量部、黒色顔料として3,7-ビス(2-オキソ-1H-インドール-3(2H)-イリデン)ベンゾ[1,2-b:4,5-b‘]ジフラン-2,6-(3H、7H)-ジオンを1質量部、光重合開始剤として化合物25を0.2質量部混合、攪拌し、組成物を得た。
<Example 12>
<Adjustment of composition>
100 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 3,7-bis(2-oxo-1H-indole-3(2H)-ylidene)benzo[1,2-b:4 as a black pigment ,5-b′]difuran-2,6-(3H,7H)-dione and 0.2 parts by mass of Compound 25 as a photopolymerization initiator were mixed and stirred to obtain a composition.
<実施例13~15および比較例2>
表4に示す光重合開始剤に変更した以外は、実施例12と同様の方法で組成物を調製した。比較例2では、公知の光重合開始剤として、化合物R1(フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(IGM製))を使用した。
<Examples 13 to 15 and Comparative Example 2>
A composition was prepared in the same manner as in Example 12, except that the photopolymerization initiator shown in Table 4 was used. In Comparative Example 2, compound R1 (phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide (manufactured by IGM)) was used as a known photopolymerization initiator.
<黒色硬化物の製造>
試験管(直径10mm、高さ90mm)内に、上記の方法で調製した組成物を高さ50mmとなるよう充填した。試験管上部以外をアルミホイルで遮光し、試験管上部から365nmLED光源を用いて350mW/cm2で5秒間(=1750mJ/cm2)照射し、硬化物を製造した。硬化物(硬化層)の形成は試験管から硬化物を取り出して確認し、硬化物(硬化層)の厚み(mm)を計測した。
<Production of black cured product>
A test tube (diameter 10 mm, height 90 mm) was filled with the composition prepared by the above method to a height of 50 mm. The test tube was shielded from light with aluminum foil except for the upper part, and irradiated from the upper part of the test tube with a 365 nm LED light source at 350 mW/cm 2 for 5 seconds (=1750 mJ/cm 2 ) to produce a cured product. Formation of the cured product (cured layer) was confirmed by removing the cured product from the test tube, and the thickness (mm) of the cured product (cured layer) was measured.
<実施例16>
<組成物の調整>
トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業製)を100質量部、コロイダルシリカ(扶桑化学工業製)を60質量部、光重合開始剤として化合物25を1質量部混合、攪拌し、組成物を得た。
<Example 16>
<Adjustment of composition>
100 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry), 60 parts by mass of colloidal silica (manufactured by Fuso Chemical Industry), and 1 part by mass of compound 25 as a photopolymerization initiator are mixed and stirred to obtain a composition. rice field.
<実施例17~19および比較例3>
表5に示す光重合開始剤に変更した以外は、実施例16と同様の方法で組成物を調製した。比較例3では、公知の光重合開始剤として、化合物R1(フェニルビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)ホスフィンオキシド(IGM製))を使用した。
<Examples 17 to 19 and Comparative Example 3>
A composition was prepared in the same manner as in Example 16, except that the photopolymerization initiator shown in Table 5 was used. In Comparative Example 3, compound R1 (phenylbis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide (manufactured by IGM)) was used as a known photopolymerization initiator.
<無機フィラー配合硬化物の製造>
試験管(直径10mm、高さ90mm)内に、上記の方法で調製した組成物を高さ50mmとなるよう充填した。試験管上部以外をアルミホイルで遮光し、試験管上部から365nmLED光源を用いて650mW/cm2で90秒間(=58500mJ/cm2)照射し、硬化物を製造した。硬化物(硬化層)の形成は試験管から硬化物を取り出して確認し、硬化物(硬化層)の厚み(mm)を計測した。
<Production of hardened product containing inorganic filler>
A test tube (diameter 10 mm, height 90 mm) was filled with the composition prepared by the above method to a height of 50 mm. Light was shielded with aluminum foil except for the top of the test tube, and a 365 nm LED light source was used from the top of the test tube to irradiate at 650 mW/cm 2 for 90 seconds (=58500 mJ/cm 2 ) to produce a cured product. Formation of the cured product (cured layer) was confirmed by removing the cured product from the test tube, and the thickness (mm) of the cured product (cured layer) was measured.
各実施例の組成物は、活性エネルギー線の照射により、目視での観察において、組成物の上部に硬化物(硬化層)の形成が確認され、活性エネルギー線の照射後も、当該硬化層の界面が徐々に下方に下がることが確認できた。また、試験管から硬化物を取り出して硬化物(硬化層)の厚み(mm)を計測し、厚みが50mmであることが確認できた。よって、各実施例の組成物は、活性エネルギー線を照射する工程のみで、一定以上の厚さを有する硬化物が得られることが明らかである。 In the composition of each example, the formation of a cured product (cured layer) on the upper portion of the composition was confirmed by visual observation by irradiation with an active energy ray, and even after irradiation with an active energy ray, the cured layer was formed. It was confirmed that the interface gradually descended. Moreover, the cured product was taken out from the test tube and the thickness (mm) of the cured product (cured layer) was measured, and it was confirmed that the thickness was 50 mm. Therefore, it is clear that the composition of each example can be cured into a cured product having a certain thickness or more only by the step of irradiating with an active energy ray.
また、比較例の組成物は、活性エネルギー線の照射後では、硬化層の界面が変化しなかった。よって、各実施例の組成物は、ラジカル重合性化合物を含む組成物の一部分に活性エネルギー線を照射することで、前記組成物における前記活性エネルギー線の未照射部分を十分に硬化できることが明らかである。 Further, in the composition of the comparative example, the interface of the cured layer did not change after irradiation with active energy rays. Therefore, it is clear that the composition of each example can sufficiently cure the portion of the composition that is not irradiated with the active energy ray by irradiating a portion of the composition containing the radically polymerizable compound with the active energy ray. be.
Claims (4)
ラジカル重合性化合物と下記一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物に活性エネルギー線を照射する工程(I)を含み、
前記硬化物の厚みが300μm超であることを特徴とする硬化物の製造方法。
A step (I) of irradiating a composition containing a radically polymerizable compound and a triazine peroxide derivative represented by the following general formula (1) with an active energy ray,
A method for producing a cured product, wherein the cured product has a thickness of more than 300 µm.
ラジカル重合性化合物と下記一般式(1)で表されるトリアジンペルオキシド誘導体を含む組成物の一部分に活性エネルギー線を照射する工程(I´)、及び
前記工程(I´)により生じた重合熱により、前記組成物における前記活性エネルギー線が照射されていない部分を熱重合する工程(II)を含むことを特徴とする硬化物の製造方法。
A step (I') of irradiating a portion of a composition containing a radically polymerizable compound and a triazine peroxide derivative represented by the following general formula (1) with an active energy ray, and polymerization heat generated in the step (I') and a step (II) of thermally polymerizing a portion of the composition not irradiated with the active energy ray.
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