JP7294380B2 - 情報表示媒体及びそれに関する製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、情報表示媒体に関する技術である。特に、本開示は、パルスレーザーの照射により作製されるのに好適な情報表示媒体に関する技術である。

銀行券や商品券などの有価証券、証明書、ブランド品、高価格品、電子機器、個人認証媒体などの物品には、その物品の有する価値や情報を他者から保護するために、偽造が難しいことが望まれている。そのため、こうした物品には、偽造の難しい偽造防止技術や情報表示手法が組み込まれている。
例えば、偽造を難しくするため、上述の物品に対し、偽造の難しい情報表示媒体を付したり、物品の一部に表示部を形成したりすることがある。

例えば、紙幣や証明書、チケットなどの偽造防止として、透かし模様を形成することが一般的に知られている。透かし模様は、証紙時の紙の厚みの違いで得られるものから、型押しによる形成、更にはレーザー加工により形成されることも知られている（特許文献１参照）。

しかしながら、従来の透かし模様の形成は証紙時に行われるため、オンデマンドな透かし模様を形成できなかった。更に、特許文献１のようにレーザー加工による透かし模様の形成には、特定の波長を吸収する顔料を証紙時に混ぜ込む必要があり、高コストになるといった問題がある。
また、従来透かし模様は紙基材に用いられてきたが、近年有機分子からなるポリマー材料を基材として用いた紙幣などが流通し始めていることから、有機分子からなる基材への透かし模様の形成方法が確立されていない。

また、偽造の難しい表示部の表示として、偽造防止インクを利用する方法が知られている。例えば特許文献２には、特殊な色料や顔料を利用し、反射光の分光特性を変化させることで反射観察時において容易に情報を認識させることが記載されている。
また、情報表示手法として、回折格子やホログラム、レンズアレイ、散乱構造などの凹凸構造が利用される場合もある。これら凹凸構造を形成するためには、電子線描画装置やレーザー描画装置などの高価な製造設備が必要であると共に、構造を解析することが困難であるため、偽造防止効果を発揮しえる。

更に、特許文献３には、アスペクト比が大きな凹凸構造を備えた領域と、平坦であるか又はアスペクト比がより小さな凹凸構造を備えた領域とを含む構造形成層において、次のような光学素子の製造方法が開示されている。すなわち、構造形成層上に、金属反射層を真空蒸着法によって均一な表面密度で形成する。その後、金属反射層をエッチングするエッチング液に対して耐久性を有する材料を真空蒸着法によって均一な表面密度で形成する。次いで、得られた積層体をエッチング処理に供する。こうすることで、アスペクト比が大きな凹凸構造に起因して、エッチング液に対して耐久性を有する材料が不連続膜となり、エッチング液を浸透させるため、アスペクト比が大きな凹凸構造を備えた領域のみにおいて金属反射層を除去することができる。これにより、高い位置精度で金属反射層を形成することができ、より偽造防止効果を高めることが出来る。

しかしながら、特許文献３の手法では、金属反射層およびエッチング液に対して耐久性のある材料をドライプロセスにて形成しているにもかかわらず、エッチング処理の際にウェットプロセスを利用している。そのため、生産時に複数のプロセスを通さなければならなくなり、コストが高くなってしまう。
また、あらかじめエッチング液に対して耐久性のある材料を形成するということは、固定の絵柄のみとなるように金属反射層を除去することとなり、オンデマンドにて金属反射層を除去することが困難である。

特許第３４８６２７５号公報 特許第２９９９３５４号公報 特許第５０５１３１１号公報

本開示は、偽造防止効果を高めることのできる情報表示媒体を提供することを目的とする。

課題を解決するために、本開示の一態様は、基材の一方の面に、金属、合金、金属化合物、及び半金属化合物から選択された１つ以上の材料からなる光反射層が配置され、上記光反射層に、外縁形状及び凹凸領域の形状の一方又は両方の組み合わせで第１情報を表示する第１の領域と、一部又は全部が上記第１の領域中の上記第１情報を表示する上記光反射層の部分に重なるように設定されると共に、上記光反射層の部分的な材料の除去で識別情報を表示する第２情報表示領域と、を有することを特徴とする。

また、本開示の他の態様は、有機基材と、上記有機基材に形成された描画部とを有し、上記描画部は、上記有機基材の表面を部分的に除去して形成された除去部と上記有機基材の表面を炭化して形成され上記除去部位置よりも光透過率が低い炭化凹部との組合せで形成された第１の描画部と、上記有機基材の内部に形成された空隙部と上記有機基材の内部に形成され上記空隙部よりも光透過率が低い炭化部との組合せで形成されて上記第１の描画部よりも微細な第２の描画部と、を有する。

また、本開示の他の態様は、有機基材と、上記有機基材に形成された描画部とを有し、上記描画部は、上記有機基材の表面を部分的に除去して形成された除去部と上記有機基材の表面を炭化して形成され上記除去部位置よりも光透過率が低い炭化凹部との組合せで形成される。

また、本開示の他の態様は、有機基材と、上記有機基材に形成された描画部とを有し、上記描画部は、上記有機基材の内部に形成された空隙部と上記有機基材の内部に形成され上記空隙部よりも光透過率が低い炭化部との組合せで形成される。

本開示の一態様によれば、偽造防止効果を高めることのできる情報表示媒体を提供することが出来る。
また、例えば、偽造防止のための追加材料等を必要とせずに、オンデマンドに加工することができるため、認証情報と識別情報を付与することが可能となる。

第１の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の一部を示す部分断面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す正面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す正面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の製造方法の一例を示す鳥瞰図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の製造方法の一例を説明する部分断面図である。 第１の実施形態に係る情報表示媒体の製造方法の一例を示す模式図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の一部を示す部分断面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す正面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す部分拡大鳥瞰図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の他の例を示す部分拡大鳥瞰図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の他の例を示す部分拡大鳥瞰図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の製造プロセスの一例を示す鳥瞰図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体のサブ領域の一例を示す鳥瞰図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体のサブ領域の一例を示す鳥瞰図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体のサブ領域の一例を示す鳥瞰図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す正面図である。 第２の実施形態に係る情報表示媒体の検証方法を説明するための概念図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す正面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の製造方法の一例を示す概念図である。 第３の実施形態に係る局所的エネルギー印加の一例を示す断面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の真偽判定方法の一例を示す斜視図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の他の例を示す正面図である。 第３の実施形態に係る情報表示媒体の真偽判定方法の他の例を示す斜視図である。 第４の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の一部を示す部分断面図である。 第４の実施形態に係る情報表示媒体を形成する構造形成層の一部を示す部分斜視図である。 第４の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第４の実施形態に係る情報表示媒体の断面構造の他の例の一部を示す部分断面図である。 第４の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す平面図である。 第４の実施形態に係る情報表示媒体の製造方法の一例を示す概念図である。 第５の実施形態の１に係る情報表示媒体の部分断面図である。 第５の実施形態の２に係る情報表示媒体の部分断面図である。 第５の実施形態の３に係る情報表示媒体の部分断面図である。 第５の実施形態の４に係る情報表示媒体の部分断面図である。 第５の実施形態の５に係る情報表示媒体の部分断面図である。 第５の実施形態の６に係る情報表示媒体の部分断面図である。 第５の実施形態の７に係る情報表示媒体を示し、（Ａ）は当該情報表示媒体の一部を示す鳥瞰図、（Ｂ）は当該情報表示媒体の部分断面図である。 第５の実施形態の８に係る情報表示媒体の一部を示す鳥瞰図である。 第５の実施形態の９に係る情報表示媒体の一部を示す鳥瞰図である。 本開示に係る情報表示媒体の製造方法の一例を示す図である。 本開示に係る情報表示媒体の製造方法の一例を説明する部分断面図である。 本開示に係る情報表示媒体の正面図である。 本開示に係る情報表示媒体の正面図である。

以下、本開示の実施形態について図面を参照しながら説明する。
ここで、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率、凹み形状等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本開示の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本開示の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造等が下記のものに特定するものでない。本開示の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

「第１の実施形態」
本開示に基づく第１の実施形態について説明する。
本実施形態の情報表示媒体は、基材の一方の面に、部分的に金属又は金属酸化物からなる光反射層が配置され、光反射層の外縁形状によって認証情報である第１情報を表示する第１の領域と、第１の領域中の第１情報を表示する光反射層に設定され、その光反射層の部分的な除去で形成された識別情報を表示する第２情報表示領域とを有する。上記の光反射層の外縁形状と、第２の実施形態で説明する凹凸領域の形状とを組み合わせて、若しくは第２の実施形態で説明する凹凸領域の形状で認証情報である第１情報を構成するようにしても良い。 基材自体に第３の情報が形成され、第３の情報の領域と第２情報表示領域とが別途重なっていても良い。

第１情報は、例えば模様として記録される。特に、模様からなる第１情報は曲線状の模様であることが好ましい。第１情報は、彩紋、線画、幾何学模様、カリグラフ、ロゴ、シンボル、肖像画、ランドマーク、風景、アイコン、符号若しくはそれらの組合せから構成されていても良い。第一情報は、典型的には、意匠性を有している。これによりブランド価値を高められる。
第１情報を表示する光反射層中に形成された識別情報は、例えば、固有コード、個人のプロファイル、シリアル番号、特定のマーク等であり、典型的には肉眼では観察しにくいマイクロ文字として記録される。これらは、肉眼では観察しづらいため、意匠性を損なわない一方で、拡大して観察すれば容易に識別が可能である。
識別情報は、例えば、第１の領域における第１情報を形成する光反射層に対し、パルスレーザーによって当該光反射層を部分的に除去することで形成する。
このように、第１の領域における第１情報を形成する光反射層に対し、当該光反射層を部分的に除去し、識別情報を記録することで、認証情報である第一情報と識別情報を不可分に記録することで、情報表示媒体の改ざんを防止することができる。また、認証情報と重ねて識別情報を記録するため、情報表示媒体の表示面を有効に活用できる。

以上のような情報表示媒体を、すき込む若しくは貼り合わせることで、認証情報及び識別情報を含んだ有価証券を構成するようにしてもよい。
このような有価証券は、例えば、情報表示媒体の認証情報を反射光または透過光により識別し、情報表示媒体の認証情報を透過光の拡大観察により第１情報を識別することで、当該有価証券の検証を行えばよい。

次に、第１の領域もしくは第２情報表示領域を形成する光反射層の構成例（部分的除去の例）について説明する。図１～図６は、第１の実施形態に係る情報表示媒体１００の一例を示す部分断面図である。
ここで、図１～図６から分かるように、第１の実施形態では、光反射層２０が形成される基材１０の面（図中上面）が平坦な場合の例である。
情報表示媒体１００は、基材１０と光反射層２０とを含む構成からなる。

＜基材＞
基材１０には、樹脂を母材としたものを用いることができる。基材１０は、典型的にはプラスチックである。樹脂としては、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂、光硬化樹脂から選択した１種又は２種以上の樹脂を用いることができる。基材１０は光透過性を有していることが望ましい。また、基材１０は、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。更には、液晶材料など光学異方性を有する材料から構成されていてもよい。加えて、樹脂への染料や顔料の添加などにより、着色されていてもよい。

また、基材１０の材料として、金属酸化物やそれらの混合物を使用することができる。金属酸化物やそれらの混合物として、ＳｉＯ_２（二酸化ケイ素）やＴｉＯ_２（二酸化チタン）、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）を用いることができる。更に、基材１０の材料が、樹脂であってもよい。
ただし、基材１０は、光反射層２０と異なる屈折率を有する。
なお、金属酸化物を基材１０とする場合、基材１０は、例えば、ドライコーティング技術により形成できるし、グラビア印刷などのウェットコーティング技術により形成できる。ドライコーティング技術としては、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学気相成長）が例示できる。

樹脂を基材１０とする場合、基材１０は、例えば押出成形、キャスティング、ウェットコーティング技術により形成できる。また、樹脂からなる基材１０をドライコーティング技術により形成されてもよい。
なお、基材１０が光透過性を有している場合、基材１０そのものによって情報が提示されていてもよい。例えば、レリーフホログラム構造や、光散乱構造、光干渉構造などが設けられていることで、それら構造による光学効果により、目視観察において、情報を認識することができる。

また、基材１０は、光を散乱させて透過する材料で形成されていてもよい。そのような材料としては紙などである。その際、紙の厚さを変化させることによる透かしを設け、情報を提示してもよい。
基材１０の厚さは、５μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。より好ましくは２０μｍ以上１５０μｍ以下である。これらの厚さとすることで、基材１０の強度が光反射層２０を形成しやすくするために必要な十分な強度となる。実際には、光反射層２０を設ける際に反射観察または透過観察に必要な厚さがあればよい。
また、基材１０は同一領域内において均一な膜厚であってもよく、膜厚が連続的または不連続的に変化していてもよい。

＜光反射層２０＞
光反射層２０は、基材１０の一方の面に形成される。なお、光反射層２０は、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。
光反射層２０の材料として、金属、合金、金属化合物、及び半金属化合物から選択した１種以上の材料を使用することができる。金属として、アルミニウムや銀、金、銅、錫、ニッケルを使用することができる。合金として、鋼、ステンレス、ジュラルミンを使用することができる。更に、金属化合物として、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、窒化チタン、アルミナ、フッ化マグネシウム、酸化タングステン（ＷＯ_３）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）を用いることができる。半金属化合物として、シリカ、酸化ゲルマニウムを用いることができる。特に金属光沢のある材料が好ましい。

光反射層２０は、例えば気相成長により形成できる。気相成長として、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学気相成長）が使用できる。また、光反射層２０が設けられる方法であれば、ゾルゲル法などのウェットコーティング技術を用いてもよい。
光反射層２０の層厚は５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。より好ましくは、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。この層厚にすることで、目視観察するにあたって十分な光の反射率が得られると共に、以下に説明する光学効果をより見えやすくすることができる。

また、光反射層２０は同一領域内において均一な膜厚であることが好ましいが、膜厚が連続的または不連続的に変化していてもよい。更に、光反射層２０が周期構造を形成していてもよい。
更に、第１情報、若しくは識別情報を形成する光反射層２０は、特定の形状で形成されていてもよい。特定の形状としては、彩紋、線画、肖像画、ランドマーク、風景、符号、シンボル、アイコン、カリグラフ、幾何学模様、コード、番号、マークが例示できる。例えば第１情報を形成する場合には、直線状または曲線状の模様からなる特定の模様により装飾性を高めても良い。識別情報を形成する場合には、例えばマイクロ文字を形成する特定のパターンにすると良い。

図１においては、光反射層２０は以下に説明する製造プロセスにより、一部の材料が除去されることで、領域１１２ａが形成されている。
領域１１２ａにより、情報表示媒体１００を反射観察した際、光反射層２０がある領域と、光反射層２０が除去された領域１１２ａにおいて、反射率が異なる。また、情報表示媒体１００を透過観察した際、光反射層２０が光透過性のない材料、あるいは光透過性を遮断する厚さであった場合、領域１１２ａの部分において透過率が向上する。
そのため、反射観察時あるいは透過観察時において、領域１１２ａにより第１情報を表現することができる。

図２は、情報表示媒体１００において、別の構成を説明するための断面図の一例である。
図２の情報表示媒体１００においては、光反射層２０を基材１０へ密着させるための接着層１３、光反射層２０へのダメージを防ぐために保護層１４を設けた例を示している。こうした場合においても、光反射層２０へ例えば、パルスレーザーを用いて局所的なエネルギーを与えることにより、領域１１２ａを設けることが可能である。
なお、図１において領域１１２ａは断面の角部において直角、かつ矩形形状に形成されているが、角丸となっていてもよく、矩形形状以外でもよい。以下、矩形形状と異なる場合における説明を図３～図６を用いて説明する。
また、光反射層２０が除去された領域１１２ａの下部の基材１０の光反射層２０側の面は、炭化していても良い。光反射層２０が除去された領域１１２ａの下部の基材１０の光反射層２０側の面が炭化していることで、光反射層２０が除去された領域１１２ａで光を吸収し、領域１１２ａの視認性が向上する。

図３～図６の情報表示媒体１００は、それぞれ光反射層２０が異なる断面構造となるように除去されて形成されている例を示している。
図３における領域１１２ｂは、完全に光反射層２０の材料の一部を基材１０まで貫通するように除去しない場合を示している。そして、領域１１２ｂ内において、異なる厚さとなるように光反射層２０の材料を除去している。
こうすることで、領域１１２ｂにおいて異なる光反射層２０の厚さとなるため、各厚さにおいて透過率が異なるようになる。そのため、情報表示媒体１００を透過観察した場合、領域１１２ｂにおける透過率の違いが目視観察可能となる。
更に、光反射層２０を薄くすることで反射率も低下する。そのため、例えば基材１０に情報が書き込まれており、その情報と領域１１２ｂとが重なりあった場合、領域１１２ｂの反射率は低下しているため、基材１０に形成されている情報を反射観察時に確認することができる。

なお、図４は光反射層２０を基材１０まで貫通させて除去した領域１１２ａと、光反射層２０を異なる厚さとなるように除去している領域１１２ｃとが同時に形成された場合を示している。
こうすることで、完全に光反射層２０を除去した領域１１２ａにより得られる情報と、異なる厚さの光反射層２０を有する領域１１２ｃにより得られる情報とを組み合わせることが可能となる。

なお、図３において、領域１１２ｂは光反射層２０の断面形状が丸角となっている。図４においては、領域１１２ａ、１１２ｃの断面形状が直角（階段状）となっている。本実施形態においては、光反射層２０の透過率や反射率を変調できればよく、いずれの断面形状となっていても良い。
図５および図６は、光反射層２０の断面形状において、光反射層２０の材料を除去した構造断面１１２ｄ、１１２ｅが曲線構造を有している場合を示している。こうすることでも、上述のような反射観察時における効果、透過観察時における効果が得られる。
光反射層２０を部分的に除去した領域１１２ａ～１１２ｅは、形成される大きさによって光反射層２０における反射率及び透過率を変調することが可能となる。

ここで、領域１１２ａ～領域１１２ｅが形成されている領域の横幅が３００μｍ以上５ｍｍ以下、より好ましくは５００μｍ以上３ｍｍ以下である場合、領域１１２ａ～１１２ｅにより異なる厚さとなった光反射層２０の反射率、透過率の変化を目視にて観察可能となる。この際、領域１１２ａ～１１２ｅが形成されている第１の領域により、特定の形状が形成されていてもよい。特定の形状は、例えばコードや記号、数字、テキスト、などである。
また、領域１１２ａ～１１２ｅが形成されている領域の横幅が５００ｎｍ以上３００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下である場合、領域１１２ａ～１１２ｅを設ける密度を変化させることで、光反射層２０の反射率、透過率の変化を部分的に形成することができる。これによって、その反射率、透過率の変化を目視にて観察可能となる。

一方、領域１１２ａ～領域１１２ｅが形成されている領域の横幅が５００ｎｍ以上３００μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１００μｍ以下として領域１１２ａ～１１２ｅが形成されている領域において、絵柄や記号、数字、文字、幾何学模様などといった特定の形状が形成されていてもよい。こうすることで、領域１１２ａ～１１２ｅを拡大して透過観察または反射観察した際に、特定の形状を観察可能な第２情報表示領域を設定することが出来る。
以上のように、光反射層２０を部分的に削除する領域の横幅を調整することで、第１情報を形成する第１の領域や、第１の領域中の第１情報を形成する光反射層２０において部分的に材料を削除することで、識別情報を形成する第２情報表示領域を設定することが出来る。

図７は、部分的な削除によって光反射層２０の異なる反射率、透過率を有する領域１２０、１２１、１２２、１２３、１２４、２１を含む情報表示媒体２００を示している。図７（ａ）は情報表示媒体２００の外観、図７（ｂ）は情報表示媒体２００の一部の領域１２５の拡大図を示している。
ここで、図７においては、領域１２０、１２１、１２２、１２３、１２４は第１の領域となり、図７（ｂ）のように、領域１２０と重なる領域２１が第２情報表示領域となる。なお、領域２１の一部が領域１２０からはみ出すように設定されていても良い。識別情報を形成する材料除去部分の一部が領域１２０内に配置されていても良い。

領域１２０は、光反射層２０を基材１０まで貫通させて除去して模様とした、すなわち外縁形状で第１情報を表示する第１領域である。また、領域１２１、１２２、１２３、１２４、２１はそれぞれ光反射層２０の除去量が異なる領域である。
情報表示媒体２００を反射にて目視観察すると、光反射層２０の除去量の違いにより、情報表示媒体２００の反射率が各領域によって異なるため、その違いを目視にて確認することができる。特に、光反射層２０として金属を用いた場合には、よりわかりやすくなる。

また、基材１０に情報が形成されていた場合、領域１２０～１２４において透過率が異なっているため、基材１０に形成されていた情報を目視反射観察時において観察可能となる。こうすることで、より複雑な情報を提示することが可能となる。
情報表示媒体２００を透過にて目視観察すると、光反射層２０の除去量の違いにより、情報表示媒体２００の透過率が各領域にて異なり、その違いを目指にて確認することができる。
情報表示媒体２００において、領域１２０を線形状、領域１２１を三日月形状、領域１２２から１２４を星形形状といった絵柄形状としている。実際には絵柄だけではなく記号や数字、文字、幾何学模様などといった特定の形状で形成されていてもよい。

更には、各領域内部において、更に光反射層２０の一部を除去することで、領域内部に異なる情報を有する領域を形成していてもよい。
例えば図７（ｂ）は、領域１２５において、領域１２５内に含まれる領域１２０の一部分にて、更に光反射層２０を部分的に除去することで、識別情報を表示する領域２１を設けている。識別情報としては文字、数字、記号の組合せによる固有コード、個人のプロファイル、シリアル番号、”ＡＢ＋”等の特定のマーク等のマイクロ文字が好ましく用いられる。こうすることで、情報表示媒体２００を拡大して透過観察または反射観察した際、領域１２０内に更に第２情報表示領域を構成する領域２１にある識別情報を認識することが可能となる。

なお、パルスレーザーの照射によって識別情報を形成することで、簡易に、微小な領域にマイクロ文字などを形成することが出来る。
以上のように、光反射層２０を各領域に分けて部分的に除去し、かつその除去量を変調することで、一つの情報表示媒体２００に、複数の情報を、領域を重ねて付与することが可能となる。なお、その複数の情報は反射観察、あるいは透過観察時において確認することが可能となる。

図８は、光反射層２０の異なる反射率、透過率を有する領域１２０、１２１、１２２、１２３、１２４、１２６を含む情報表示媒体２００を示している。図８（ａ）は情報表示媒体２００の外観、図８（ｂ）及び図８（ｃ）は情報表示媒体２００の一部の領域１２７の拡大図を示している。
領域１２０は、光反射層２０を基材１０まで貫通させて除去した領域である。また、領域１２１、１２２、１２３、１２４、１２６はそれぞれ光反射層２０の除去量が異なる領域である。

情報表示媒体２００を反射にて目視観察すると、光反射層２０の除去量の違いにより、情報表示媒体２００の反射率が各領域にて異なるため、その違いを目視にて確認することができる。特に、光反射層２０として金属材料を用いた場合には、よりわかりやすくなる。
また、基材１０に情報が形成されていた場合、領域１２０～１２４において透過率が異なっているため、基材１０に形成されていた情報を目視反射観察時において観察可能となる。こうすることで、より複雑な情報を提示することが可能となる。

情報表示媒体２００を透過にて目視観察すると、光反射層２０の除去量の違いにより、情報表示媒体２００の透過率が各領域にて異なり、その違いを目指にて確認することができる。
情報表示媒体２００において、領域１２０を線形状、領域１２１を三日月形状、領域１２２～１２４を星形形状といった絵柄形状としている。実際には絵柄だけではなく、他の特定の形状で形成されていてもよい。他の特定の形状は、記号や数字、文字、幾何学模様などである。

更には、各領域内部において、更に光反射層２０の除去することで、領域内部に異なる情報を有する領域を形成していてもよい。
ここで、異なる情報を形成する際、レーザーで記録する絵柄を繰り返しの柄とすることで、光反射層２０と位置がずれても、レーザーで記録した柄を識別できる。レーザー光５０を特定の方向に常にスキャン走査するように制御し、かつ形成する絵柄の繰り返しの間隔を、領域２０の彩紋等の配置間隔と異なるようにするか、配置方向を異なるものとし、更に、絵柄が彩紋の幅に収まるよう調整する。こうすることで、図８（ｂ）のように領域１２０のいずれかの部分にてさらなる情報を確認することができるようになる。

例えば図８（ｂ）は、領域１２７において、領域１２７内に含まれる領域１２０の一部分にて、更に光反射層２０を部分的に除去することで、領域１２６を設け、文字情報を示している。実際には文字情報だけでなく、絵柄や記号、数字、幾何学模様などであってもよい。こうすることで、情報表示媒体２００を拡大して透過観察した際、領域１２０内に更に領域１２６を認識することが可能となる。領域１２０と重なる領域１２６は第２情報表示領域となる。なお、領域１２６の一部が領域１２０からはみ出すように設定されていても良い。識別情報を形成する材料除去部分の一部が領域１２０内に配置されていても良い。

図８（ｂ）における領域１２６は、図８（ｃ）においてレーザー光５０がレーザー走査方向Ｂに沿って走査されることにより生成されている。
実際には、レーザー走査方向は直線だけでなく、曲線でもよく、情報表示媒体２００にあらかじめ形成されている領域１２０へ、更なる情報を形成できるような走査となっていればよい。

＜情報表示媒体の製造方法＞
以下、情報表示媒体１００および２００の製造方法について説明する。
情報表示媒体１００、２００は、基材１０へ光反射層２０を形成した後、光反射層２０へ局所的にレーザー光などでエネルギーを与えることで、光反射層２０を部分的に除去あるいは完全に除去することで製造される。
あるいは、情報表示媒体１００、２００は、基材１０へ光反射層２０を形成した後、図１０のように、光反射層２０の上に更にパターニングカバー層１４０を形成し、化学的処理を行うことで、光反射層２０を部分的に除去あるいは完全に除去することでも製造される。
光反射層２０へ局所的にエネルギーを与える方法として、パルスレーザー源やサーマルヘッドを用いる手法がある。なお、図９にパルスレーザー源を用いた場合の図を示す。

パルスレーザー源５２より射出されたレーザー光は、レンズ５１を通って、反射鏡５３に反射し、情報表示媒体１００、２００を形成する光反射層２０に焦光するように入射される。すると、焦点にてレーザー光によるエネルギーが局在化し、そのエネルギーによって光反射層２０が溶解・揮発され、除去される。なお、光反射層２０を貫通するように材料除去を行う場合には、必ずしも光反射層２０に焦光しなくても良い。
レーザー光による加工の際に、情報表示媒体１００、２００を移動させる、又は、レーザー光５０の焦点位置のＸ、Ｙ、Ｚの三次元座標を制御することで、光反射層２０を除去する領域を設定できる。

あるいは、反射鏡５３がマイクロミラーアレイ構造であり、そのマイクロミラーアレイ構造をコンピュータ制御させることで、レーザー光の位相を制御し、レーザー光の焦点位置を制御することも可能である。
なお、パルスレーザー源５２としては、パルス幅が１００フェムト秒以上１ピコ秒以下であることが望ましい。そうすることで、レーザー光がレンズ５１を通り、焦点位置にて瞬間的に高エネルギー状態となり、光反射層２０を除去、ないしは削ることが可能となる。また、高エネルギー状態となる時間が非常に短いため、照射位置に影響が集中する。
光反射層２０をレーザー光５０にて除去する際、その除去する位置合わせを正確にするために以下のようなシステムを組み込んでもよい。

図１１に示すように、レーザー光５０の基材１０または光反射層２０からの反射光を、ハーフミラー５３を通してディテクター５４で測定する。こうすることで、反射光の強度変化をディテクター５４を介してモニタリングできる。すなわち、基材１０に光反射層２０が設けられているかどうかを確認することができる。
ただし、レーザー光５０の強度が強い場合、光反射層２０にレーザー光５０が照射された瞬間に除去されてしまう可能性があるため、レーザー光５０の光強度を低下させた状態で、反射光の強度変化をディテクター５４にてモニタリングする必要がある。あるいは、レーザー光５０の焦点位置を基材１０の表面からずらした状態で、反射光の強度変化をディテクター５４にてモニタリングする必要がある。

図１１に示すように、基材搬送方向Ａに沿って基材１０が搬送された場合、レーザー光５０が光反射層２０に差し掛かった際、ディテクター５４では反射光強度が高くなるため、光反射層２０がレーザー光５０が照射可能な領域に差し掛かったことがわかる。そののちに、予め設定した加工パターンがレーザー光５０によって光反射層２０に形成されることで、光反射層２０の位置に合わせた加工が可能となる。
更には、反射鏡５３を反射型の空間光変調器とし、空間光変調器の各セルの位相をコンピュータ制御させることで、レーザー光の位相を制御し、レーザー光の焦点位置を制御することも可能である。なお、空間光変調器は透過型であっても良い。

なお、空間光変調器はレーザー光の焦点位置を制御するだけでなく、レーザー光５０の焦点長さを制御することに加え、レーザー光５０を複数ビームに分割させて集光させることが可能となる。
レーザー光５０の焦点長さを長くすることで、光反射層２０を除去する際、装置の振動などの外乱の影響を受けずに安定した加工が可能となる。
レーザー光５０の焦点長さを長くする方法として、上述のように空間光変調器を用いる手法以外では、レンズ５１をアキシコンレンズ等に置き換えることで、焦点長さを長くすることも可能である。

また、光反射層２０へ化学的処理を行う方法として、図１０に示す図のように、光反射層２０へパターニングカバー層１４０を部分的に設け、化学的処理（ウェットエッチング、あるいはドライエッチング手法など）を行うことで、光反射層２０を部分的に除去、あるいは完全に除去することが可能となる。
光反射層２０を部分的に除去、あるいは完全に除去したのちに、パターニングカバー層１４０をそのままにしておいてもよく、除去してもよい。
図１０においては、パターニングカバー層１４０をドットパターンで設けた例を示しているが、ドットパターンだけでなく、ラインパターン、ベタパターンなどであってもよい。あるいはパターニングカバー層１４０により絵柄や記号、数字、文字、幾何学模様などといった特定のパターンが形成されていてもよい。

情報表示媒体１００、２００を形成した後に、上記の製造方法を適用することが可能であるため、情報表示媒体１００、２００の製造ラインへの後加工方法として適用できる。また、局所的にエネルギーを与える場合の製造方法を用いる場合、情報表示媒体１００、２００へのオンデマンド加工が可能となる。
また、化学的処理による場合の製造方法を用いた場合には、金属箔のエッチングプロセスと同時に後加工にて実施可能となる。
このように、情報表示媒体１００、２００に対して本開示の製造方法を適用すると、図７及び図８に示した情報表示媒体２００における各領域１２０、１２１、１２２、１２３、１２４、２１、１２６において、それぞれ異なる光学表現ができ、更にそれぞれにおいて異なる情報を提供することができる。そうした光学表現の組合せ及び情報の組合せにより、情報表示媒体１００、２００が真正品であると判断できる。

「第２の実施形態」
次に、本開示に基づく第２の実施形態について図面を参照して説明する。
第２の実施形態では、基材が凹凸構造を有する構造形成層を備え、その凹凸によって、金属反射層に凹凸領域の形状で第１情報が表示される場合の例である。
なお、各図面において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
図１２～図１４は、本実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す部分断面図である。いずれも光反射層２０において、光反射層２０を形成する材料の一部を除去した第２情報表示領域２１を有する場合における部分断面図を示している。
第２の実施形態では、基材の表層に構造形成層が形成されている。図１２では基材が構造形成層１０でのみ構成されている場合を例示している。

（実施形態１）
図１２に示す、実施形態１の情報表示媒体１００では、構造形成層１０の表面に、凹凸構造が形成された第１の領域３０と平坦な構造が形成されている第２の領域３１が形成されている。そして、それら構造が形成された界面に光反射層２０が形成されている。加えて、第１の領域３０内には、光反射層２０の一部分が除去されている第２情報表示領域２１を含む。これによって、第１の領域３０に凹凸領域の形状で表示される第１情報が形成されると共に、第２情報表示領域２１に識別情報が形成されている。

なお、第２の領域３１は、必ずしも平坦な面形状である必要はなく、第１の領域３０に比べて粗さが小さい面形状となっていればよい。以下の他の実施形態でも同様である。
粗さは、例えば、算術平均粗さ（Ｒａ：ＪＩＳ Ｂ０６０１）を用いて計測できる。
構造形成層１０を有する基材には、樹脂を母材としたものを用いることができる。基材は、典型的にはプラスチックである。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂、光硬化樹脂を用いることができる。基材は光透過性を有していることが好ましい。構造形成層１０を有する基材は、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。更には、液晶材料など光学異方性を有する材料から構成されていてもよい。加えて、それら樹脂への染料や顔料の添加などにより、着色されていてもよい。

また、基材の材料として、金属酸化物やそれらの混合物を使用することができる。金属酸化物やそれらの混合物として、ＳｉＯ_２（二酸化ケイ素）やＴｉＯ_２（二酸化チタン）、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）を用いることができる。更に、基材の材料は、樹脂であってもよい。ただし、基材は、光反射層２０と異なる屈折率を有する。
なお、金属酸化物を基材とする場合、基材は、例えば、ドライコーティング技術により形成できるし、グラビア印刷などのウェットコーティング技術により形成できる。ドライコーティング技術としては、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学気相成長）が例示できる。

樹脂を基材とする場合には、例えば押出成形、キャスティング、ウェットコーティング技術により形成できる。また、ドライコーティング技術により形成されてもよい。
なお、基材が光透過性を有している場合、基材そのものによって情報が提示されていてもよい。例えば、レリーフホログラム構造や、光散乱構造、光干渉構造などが設けられていることで、それら構造による光学効果により、目視観察において、情報を認識することができる。
基材の厚さは、５μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。より好ましくは２０μｍ以上１５０μｍ以下である。これらの厚さとすることで、基材の強度が光反射層２０を形成しやすくするために必要な十分な強度となる。実際には、光反射層２０を設ける際に反射観察または透過観察に必要な厚さがあればよい。

光反射層２０は、図１２に示すように構造形成層１０のうち凹凸構造（第１の領域の部分）、平坦な構造（第２の領域の部分）が形成されている界面に形成される。なお、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。平坦とは、凹凸構造の面よりも粗さが小さいことを指す。
光反射層２０の材料として、金属、合金、金属化合物、及び半金属化合物を使用することができる。金属として、アルミニウムや銀、金、銅、錫、ニッケルを使用することができる。合金として、鋼、ステンレス、ジュラルミンを使用することができる。更に、金属化合物として、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、窒化チタン、アルミナ、フッ化マグネシウム、酸化タングステン（ＷＯ_３）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）を用いることができる。半金属化合物として、シリカ、酸化ゲルマニウムを用いることができる。特に、光反射層２０の材料は、金属光沢のある材料が好ましい。

なお、光反射層２０は、気相成長により形成できる。気相成長として蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学気相成長）が使用できる。また、光反射層２０が設けられる方法であれば、ゾルゲル法などのウェットコーティング技術を用いてもよい。
光反射層２０の層厚は５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。より好ましくは、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下が好ましい。そうすることで、目視観察するにあたって十分な光の反射率が得られる。
また、光反射層２０は同一領域内において均一な膜厚であってもよく、膜厚が連続的または不連続的に変化していてもよい。更に、光反射層２０が周期構造を形成していてもよい。

更に、光反射層２０が特定の形状で形成されていてもよい。特定の形状は、記号、数字、文字、幾何学模様などである。
第２情報表示領域２１は、第１の領域３０内のすべてに特定の形状で形成されていてもよいが、第１の領域３０内の一部分においてのみ形成されていてもよい。なお、第２情報表示領域２１は、例えば光反射層２０を形成する材料を単位面積当たり５０％以上１００％以下の範囲で除去することで形成される。この際の単位面積は、基材１０の表面の単位表面積（例えば１ｍｍ平方）とすることができる。
なお、第２情報表示領域２１の形成方法の詳細は後述する。

（実施形態２）
図１３に示す、実施形態２の情報表示媒体１００は、実施形態１の情報表示媒体１００と基本構造が同じである。ただし、実施形態２では、第１の領域３０内における一部の領域に位置する光反射層２０について材料除去が行われることで第２情報表示領域２１が設定されている場合の例である。更に、図１３には、第２情報表示領域２１の形成方法の一例も示している。図１３に示す第２情報表示領域２１の形成方法は、上記の実施形態１にも適用することができる。
実施形態１及び実施形態２の情報表示媒体１００は、第２情報表示領域が第１の領域内に完全に内包される場合の例である。

図１３に例示する第２情報表示領域２１の形成方法は、次の通りである。
なお、第２の実施形態では、識別情報のための第２情報表示領域２１の形成方法は、レーザーの照射によって光反射層２０の部分的な材料除去を行う場合で例示する。
形成は、図１３における構造形成層１０の平均層厚Ｈに対し、レンズ５１により集光されたレーザー光５０を、構造形成層１０において構造が形成されている界面と相対する界面から入射して、予め設定した描画データに基づき、レーザー光５０の集光位置を移動させて、識別情報を形成する。

このとき、レーザー光５０の集光位置を、構造形成層１０の凹凸構造が形成されていない界面から平均層厚Ｈの半分の位置より手前側（光反射層２０から離れた側）に設定して移動させることで、構造形成層１０において、凹凸構造が形成されている第１の領域３０における光反射層２０を形成する材料の一部が除去され、第２情報表示領域２１を形成する。この際、構造形成層１０において平坦な構造が形成されている第２の領域３１においては、光反射層２０を形成する材料が除去されない、または、単位面積当たりに光反射層２０を形成する材料が除去された量が３０％未満となるように、パワーを調整する。場合によっては、単位面積当たりに光反射層２０を形成する材料が除去された量が１５％未満とするように、パワーを調整しても良い。

（実施形態３）
図１４に示す、実施形態３の情報表示媒体１００は、実施形態１の情報表示媒体１００と基本構造が同じである。ただし、実施形態３では、第１の領域３０と第２の領域３１との両方の領域の一部の領域に位置する光反射層２０について材料除去が行われることで第２情報表示領域２１が設定されている場合の例である。更に、第２情報表示領域２１の形成方法の一例も示している。
実施形態３の情報表示媒体１００は、第２情報表示領域２１が第１の領域３０と一部が重なるように設定した場合の例である。
形成は、図１４における構造形成層１０の平均層厚Ｈに対し、レンズ５１により集光されたレーザー光５０を、構造形成層１０において構造が形成されている界面と相対する界面から入射して、予め設定した描画データに基づき、レーザー光５０の集光位置を移動させて、識別情報を形成する。

このとき、レーザー光５０の集光位置を、構造形成層１０の凹凸構造が形成されていない界面から平均層厚Ｈの半分の位置より奥側（光反射層２０側）に設定して移動させることで、構造形成層１０において凹凸構造が形成されている第１の領域３０に加えて、平坦な構造が形成されている第２の領域３１における光反射層２０を形成する材料の一部も除去されることで、第２情報表示領域２１を形成する。この際、構造形成層１０において、平坦な構造が形成されている第２の領域３１においても、単位面積当たりに光反射層２０を形成する材料が除去された量が５０％以上となるように、パワーを調整する。本実施形態では、実施形態２と実施形態３とはレーザーのパワーなどは同一条件に設定して実施した。
なお、第１の領域３０および第２の領域３１にて形成される第２情報表示領域２１は、第１の領域３０、第２の領域３１それぞれの全領域に形成されるわけではなく、部分的に形成される。

図１３および図１４において、矢印Ａはレーザー光５０のスキャン方向の例を示している。
ここで、上述の通り、図１３においては、レーザー光５０がスキャンされた領域のうち、凹凸構造が形成されている第１の領域３０においてのみ第２情報表示領域２１が形成されている。また、図１４においては、レーザー光５０がスキャンされた領域のうち、凹凸構造が形成されている第１の領域３０、平坦な構造が形成されている第２の領域３１のいずれにおいても第２情報表示領域２１が形成されている。

このように、同じパワーに設定しても、焦点位置を調整してレーザー光５０をスキャンすることによって、第２情報表示領域２１を形成する領域を第１の領域３０のみ若しくは第１の領域３０と第２の領域３１の両方に重なるようにすることが可能となる。
ここで、第２情報表示領域２１の形成方法は、上記のようなレーザー光５０でスキャンして描画する方法だけでなく、フォトマスクを用いてレーザー光５０を照射する領域を制御する方法、液晶画面を用いてレーザー光５０を照射する方向を制御する方法、ミラー配列を用いてレーザー光５０を照射する方向を制御する方法、ガルバノミラーを用いてレーザー光５０を照射する方向を制御する方法などでも構わない。

ここで、レーザー光５０の照射により第２情報表示領域２１が形成される際、光反射層２０を形成する材料は、レーザー光５０によりエネルギーを受け、そのエネルギーによる熱で光反射層２０を形成する材料が昇華することにより、材料除去が実施される。また、光反射層２０を形成する材料によっては、昇華ではなく分解や炭化される。材料が分解、炭化された場合は、人の目に見えない大きさ（平均直径３００μｍ以下）に分解、炭化されるため、通常の観察時においては、その分解、炭化された物質を目視確認することはできないため、問題なく情報の表示に使用できる。

また、第２情報表示領域２１において、光反射層２０を形成する材料が単位面積当たり５０％以上除去されることで、情報表示媒体１００の反射観察時に、第２情報表示領域２１とそれ以外の光反射層２０が除去されていない領域とにおいて、第２情報表示領域２１の反射率が低下する。あるいは、情報表示媒体１００の透過観察時に、第２情報表示領域２１とそれ以外の光反射層２０が除去されていない領域とにおいて、第２情報表示領域２１の透過率が向上する。なお、第２情報表示領域２１は、光反射層２０のうちの上記レーザーによって材料除去をされた部分であるが、識別情報は、材料除去された部分に限定されず、材料除去された間の部分で表示されている場合もある。

こうすることで、情報表示媒体１００により表示される情報を複数組み合わせることが可能であり且つ２つ以上の情報を、重ねて提示することが出来る。例えば、第１の領域３０に形成されている凹凸構造により提示される情報と、レーザー光５０により形成された第２情報表示領域２１により提示される情報とを領域を重ねた状態で情報表示媒体１００に含めることが可能となる。
また、第２情報表示領域２１により提示される情報は、マイクロ文字などの極微小で且つ第１の領域３０に記録された情報内に隠れて提示される情報であるため、反射観察、あるいは透過観察した際に初めて提示されることとすることが出来て、識別情報を、潜像情報のように情報表示媒体１００へ埋め込むことが可能となる。なお、実施形態３の例では、第２情報表示領域２１が第２の領域にも形成されるが、識別情報を潜像情報のようにする場合には、第２の領域に形成される第２情報表示領域２１の面積を３０％以下好ましくは１５％以下に設定することが好ましい。

ここで、第２情報表示領域２１で形成される識別情報は、レーザー光５０を集光することにより形成されるため、細い領域幅で形成できると共に、その領域幅を変調することが可能となる。具体的には、１回のレーザースキャンにより、領域幅を１μｍから１００μｍまで変調可能である。また、レーザー光５０でのスキャン時のスキャンピッチを狭くしたり、光反射層２０に対する距離を変更したりすることにより、第２情報表示領域２１の幅を変調することも可能となる。
なお、上述のように第２情報表示領域２１により提示される識別情報を潜像とするためには、第２情報表示領域２１の領域幅を１μｍから３００μｍまでにするとよい。人の目の解像度より、３００μｍ以下の線幅は通常観察時に目視観察することが難しいためである。更に、第１情報の領域内に識別情報を埋め込むことで更に識別情報が目視観察し難くなる。

逆に、第２情報表示領域２１の領域幅をｍｍオーダーとすることで、識別情報を通常観察時に目視観察することが可能となる。
レーザー光５０としては、連続発振レーザー（ＣＷレーザー）よりも断続的なレーザー（パルスレーザー）が良く、より具体的にはピコ秒レーザー、フェムト秒レーザーが最も良い。
パルスレーザーとしてのピコ秒レーザーとしては、ファイバーまたは固体結晶により発振するレーザーであればよい。また、フェムト秒レーザーとしては、ファイバー、固体結晶（チタンサファイア結晶など）により発振するレーザーを例示できる。

ピコ秒レーザーおよびフェムト秒レーザーは、レーザーパルスのパルス幅が非常に短くなっているため、レーザーを集光し、照射することで、その集光点近傍の微小空間にて非常に強いエネルギーが発生する。そのエネルギー若しくはそのエネルギーに伴う熱により光反射層２０を形成する材料が昇華、または微小に分解、炭化されることで、材料が除去される。
これらパルスレーザーを用いることで、レーザー焦点において瞬間的に高エネルギーを印加することが可能となり、その結果、材料の昇華、分解、炭化が生じる。そのため、従来の識別情報生成に必要なレーザー光吸収材料、レーザー光発熱材料等を用いる必要がなくなり、製造コストを下げることが可能となる。また、パルスの繰り返し周波数は、１ｋＨｚ～１ＧＨｚのものを用いることができる。この繰り返し周波数を変えることでも、レーザーのパワーを変調できる。また、Ｑ値を変えることでも、パワーを変調できる。

（実施形態４）
図１５に示す実施形態４の情報表示媒体１００は、第２情報表示領域２１として、凹凸構造が形成されている第１の領域３０内に内包するように形成した第２情報表示領域２１ａと、第１の領域３０と第２の領域３１とに跨るように形成した第２情報表示領域２１ｂとを備える。
第１の領域３０内の凹凸構造は、レリーフ構造や、ランダムドット構造である。レリーフ構造としては、１次元レリーフ構造や、２次元レリーフ構造を用いることができる。
１次元レリーフ構造は、例えば、格子ベクトルがＸ方向や、Ｙ方向と平行となっているもの、Ｘ、Ｙ方向と特定の角度をなした方向に並列するものである。２次元レリーフ構造は、２つの方向の格子ベクトルを有するものであり、その格子ベクトルは、例えば、それぞれがＸ方向、Ｙ方向と平行となっているもの、Ｘ、Ｙ方向と特定の角度をなした方向に並列するものである。

レリーフ構造の断面形状は波型、のこぎり波、方形波、階段型等である。
具体的には、図１５では、第２情報表示領域２１ａは、第１の領域３０のみに形成され、光反射層２０を形成する材料が除去されることで、第１の領域３０内に数字「１２３４５」という識別情報が形成されている。また、第２情報表示領域２１ｂは、第１の領域３０および第２の領域３１に跨るように形成され、光反射層２０を形成する材料を除去することで、彩紋柄のような幾何学模様が識別情報として形成されている。
また、図１５において凹凸構造が形成されている第１の領域３０は、凹凸構造により発生する光の反射、回折、屈折、干渉、散乱によって第２情報表示領域２１ａにより提示されている識別情報とは異なる情報が提示されている。ここで、凹凸構造による第１情報や第２情報表示領域２１ｂの識別情報などを構成する形状は、背景柄や装飾などを構成して、特別な内容を明示していなくて良い。

また、より好ましくは、第２情報表示領域２１ａ、２１ｂを形成する線が、より微細な線画、幾何学模様、彩紋、カリグラフから形成される場合である。こうすることで、第２情報表示領域２１ａ、２１ｂを拡大観察した際に、また異なる識別情報を提示することが可能となる。
加えて、第２情報表示領域２１ａ、２１ｂは、情報表示媒体１００の製造プロセスにおいて、製造される各情報表示媒体１００に対し、毎回異なる情報を提示するよう形成することが可能となる。これは、レーザー光５０により毎回異なる情報に基づき光反射層２０を除去することが可能なためである。

（実施形態５）
第２情報表示領域の形成方法の他の例を説明する。
領域７０が第２情報表示領域であり、この実施形態５は、第１の領域６０内にだけ領域７０を形成する例である。
図１６に示す実施形態５の情報表示媒体１００は、レーザー光５０が、第１の領域６０および第２の領域６１をまたがって移動させて領域７０を形成する場合の例を説明する図である。また、第１の領域６０は、３つのサブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃを含んでいる。なお、ＰＡＴＨと記載された点線の矢印はレーザー光５０が通った経路を示している。

また、図１６において、レーザー光５０は第１の領域６０を形成する凹凸構造が形成されている側、および第２の領域６１を形成する平坦な構造が形成されている側とは相対する界面から入射されており、かつレーザー光５０の焦点位置は構造形成層１０の平均層厚Ｈの半分よりも光反射層２０から離れる側に設定している。そのため、前述のように、凹凸構造が形成されている第１の領域６０の光反射層２０が除去され、第２の領域６１の光反射層２０は除去されず、領域７０のような波線柄が第１の領域６０にだけ形成される。

（実施形態６）
第２情報表示領域の形成方法の他の例を説明する。
領域７０が第２情報表示領域であり、この実施形態６は、第１の領域６０と第２の領域６１に跨って領域７０を形成する例である。
図１７に示す実施形態６の情報表示媒体１００は、レーザー光５０が第１の領域６０、および第２の領域６１をまたがって移動した場合の領域７０の形成について説明する別の例を示す図である。また、第１の領域６０は、３つのサブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃを含んでいる。なお、ＰＡＴＨと記載された点線の矢印はレーザー光５０が通った経路を示している。

図１７において、レーザー光５０は第１の領域６０を形成する凹凸構造が形成されている側、および第２の領域６１を形成する平坦な構造が形成されている側とは相対する界面から入射されており、かつレーザー光５０の焦点位置は構造形成層１０の平均層厚Ｈの半分よりも奥（光反射層２０に近い側）に設定されている。そのため、前述のように、凹凸構造が形成されている第１の領域６０および第２の領域６１の両方の光反射層２０が除去され、実施形態６では、領域７０のような波線柄が、第１の領域６０、第２の領域６１をまたがって形成される。

ここで、図１６、図１７に示す例では、第１の領域６０において、３つのサブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃが周期的に配置しているが、それぞれのサブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃを文字、数字、絵柄、幾何学模様、彩紋柄のように配置することで、サブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃに形成されている凹凸構造による光の反射、回折、屈折、干渉、散乱によって情報が提示されていてもよい。
また、サブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃにより形成された文字、数字、絵柄、幾何学模様、彩紋柄などに沿ってレーザー光５０を照射することで、サブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃにより形成される情報と、レーザー光５０により形成される領域７０によって得られる情報との位置情報を誤差なく合わせることが可能となる。

図１６、図１７において、領域７０を形成するために、レーザー光５０をその領域７０に沿ってＰＡＴＨのように移動させるベクタースキャン方式としているが、ラスタースキャン方式で形成してもよい。
また、レーザー光５０により単一焦点を結像するようにし、ベクタースキャン、またはラスタースキャン方式にて領域７０を形成してもよいし、レーザー光５０を複数焦点に結像するようにし、特定の面積エリア内で領域７０を一括形成してもよい。また、レーザー光５０を複数焦点に結像するようにした場合、その複数焦点により文字、数字、絵柄、幾何学模様、彩紋柄などとすることで、領域７０を形成してもよい。

（実施形態７）
図１８に示す実施形態７の情報表示媒体１００は、レーザー光５０が第１の領域６０、および第２の領域６１をまたがって移動して領域７０を形成する場合を説明する別の例を示す図である。また、実施形態７では、第１の領域６０は４つのサブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄを含んでいる。なお、ＰＡＴＨと記載された点線の矢印はレーザー光５０が通った経路を示している。
図１８において、レーザー光５０は第１の領域６０を形成する凹凸構造が形成されている側、および第２の領域６１を形成する平坦な構造が形成されている側とは相対する界面から入射されており、かつレーザー光５０の焦点位置は構造形成層１０の平均層厚Ｈの半分よりも手前（光反射層２０から離れる側）に設定されている。そのため、凹凸構造が形成されている第１の領域６０の光反射層２０だけが除去されて、領域７０が第１の領域６０に形成される。

ここで、実施形態７では、サブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃが形成されている凹凸構造のアスペクト比が０．１以上１未満であり、サブ領域６２ｄが形成されている凹凸構造のアスペクト比が１以上２以下に設定されている。
凹凸構造のアスペクト比が異なることで、凹凸構造表面の表面積が異なる。凹凸構造のアスペクト比が高い方が表面積が大きくなるため、光反射層２０を形成した際、その光反射層２０の見かけの層厚はアスペクト比が低い領域とアスペクト比が高い領域とでは、アスペクト比が高い領域の方が薄く形成される。
そのため、レーザー光５０を照射した際、アスペクト比が高い領域では光反射層２０の層厚が薄いため、除去されやすくなる。

図１８においては、サブ領域６２ｄにおいて凹凸構造のアスペクト比が高いため、レーザー光５０をＰＡＴＨに沿ってラスタースキャン方式で照射した際、サブ領域６２ｄにおける光反射層２０が、サブ領域６２ａ、６２ｂ、６２ｃよりも多く除去され、領域７０となる。図１６では、サブ領域６２ｄを「ＯＫ」という文字となるように配置しているため、情報表示媒体１００をレーザー光５０でスキャンしながら照射すると、領域７０にて、その「ＯＫ」という文字が識別情報として形成されて表示される。
図１８にて示したサブ領域６２ｄまたは領域７０による情報は、文字情報だけでなく、例えば数字、絵柄、幾何学模様、彩紋柄などによる情報が提示されていてもよい。

（実施形態８）
図１９に示す実施形態８の情報表示媒体２００は、上述の実施形態１～実施形態３の情報表示媒体２００と同様な構造であるが、光反射層２０の上に接着層４０が形成されている場合を示している。
接着層４０を有することで情報表示媒体２００を様々な基材４１へ貼付させることが可能となる。例えば、図２０に示す情報表示媒体２００のように、基材４１へ接着層４０を貼付させた状態の構成とすることが可能となる。

情報表示媒体２００の構成を図１９および図２０のようにすることで、構造形成層１０へ凹凸構造あるいは平坦な構造を形成するだけでなく、構造形成層１０そのものが凹凸構造、平坦な構造を保護する保護層としての役割を持つこととなる。実際には構造形成層１０において、凹凸構造、平坦な構造が形成されていない側にて、保護層が形成されていてもよい。その際、保護層として、レーザー光５０の波長が透過するような材料を用いるとなお良い。
図２１に示す情報表示媒体２００は、図２０に示した構成に、更にキャリア層４２を設けた構成を示している。このキャリア層４２は情報表示媒体２００を製造する際、構造形成層１０、光反射層２０、接着層４０を形成する際の製造プロセスにて有用である。また、情報表示媒体２００を基材４１に貼付した際に、情報表示媒体２００を保護する目的としても有用である。

図１９、図２０及び図２１に示す情報表示媒体２００は、例えば構造形成層１０を形成した後に、凹凸構造及び平坦な構造の形成、光反射層２０の形成、及び接着層４０の形成をこの順に実施することで製造されるが、実際の製造プロセスに合わせ、その形成する順番を変更してもよい。
また、レーザー光５０が入射する界面は、図１９、図２０及び図２１において構造形成層１０のうち、凹凸構造あるいは平坦な構造が形成されている界面とは相対する界面（図中下側）としているが、接着層４０、基材４１が透明な材料、またはレーザー光５０を透過する材料であれば、接着層４０が形成されている界面、あるいは基材４１が形成されている界面からレーザー光５０を入射することで光反射層２０を形成する材料を除去して、第２情報表示領域２１、７０を形成することが可能である。
ここで、上述の情報表示媒体１００、２００の裏面側に接着層を形成し，剥離紙を貼り付けてラベルとしても良い。

［情報表示媒体の製造方法］
以下、情報表示媒体１００および２００の製造方法の例について説明する。
情報表示媒体１００、２００は、例えば下記の工程１～工程３を備え、その工程順に実施されて製造される。
工程１は、構造形成層１０の面に、予め凹凸構造、平坦な構造が形成された版を押し当てることにより、構造形成層１０の界面へ構造を形成する工程である。
工程２は、工程１で構造を形成した界面へ光反射層２０を形成する工程である。
工程３は、構造形成層１０の構造を形成していない界面より、レーザー光５０の焦点位置を制御しながら照射することで、第１の領域３０、６０、第２の領域３１、６１に含まれる光反射層２０を除去するかしないかを制御し、第２情報表示領域２１、７０を形成する工程である。

このとき、工程１の前に、キャリア層４２へ構造形成層１０を形成する工程４を備えていても良い。
また工程２で形成した光反射層２０の上に接着層４０を形成する工程４と、接着層４０を介して基材４１に貼付する工程５とを備えていても良い。
また工程３において、基材４１のうち、接着層４０と接していない側の界面から、レーザー光５０の焦点位置を制御しながら照射するようにしても良い。
レーザー光５０を情報表示媒体１００、２００へ照射する方法として、図２０に図を示す。

この例では、レーザー源５２から射出されたレーザー光５０は、反射鏡５３を通り、レンズ５１を通って、情報表示媒体１００、２００へ入射する。なお、反射鏡５３とレンズ５１を通過する順番は逆であってもよい。こうすることで、光反射層２０を除去することが可能となる。
なお、図２２において情報表示媒体１００、２００は、同図の矢印方向に搬送されているとしている。つまり、情報表示媒体１００、２００を搬送している最中にレーザー光５０により光反射層２０の除去の制御が可能となる。

反射鏡５３として、通常の平面ミラーだけでなく、ガルバノミラー、マイクロミラーアレイ構造、液晶ディスプレイとし、それらをコンピュータ制御させることで、レーザー光の照射位置や位相を制御することが可能となる。また、レーザー光の焦点位置を制御することも可能である。
加えて、反射鏡５３がマイクロミラーアレイ構造、または液晶ディスプレイであった場合、レーザー光５０の位相を制御することで、複数の焦点位置を形成することが可能である。こうすることで、実際の製造プロセスの加工時間を短縮することが可能となる。
レーザー光５０の焦点位置を制御する他の手法として、レンズ５１の位置を制御する、あるいはレンズ５１を液体レンズまたは液晶レンズとすることで、レンズ５１の焦点位置を制御することが可能となる。

［凹凸構造の例］
第１の領域３０、６０およびサブ領域６２に形成される凹凸構造の例として、図２３に示すようなレリーフ構造、あるいは図２３に示すようなランダムドット構造がある。
図２３に示したレリーフ構造は、１次元レリーフ構造であり、その格子ベクトルがＸ方向に平行となっているが、Ｙ方向と平行となっていてもよく、Ｘ、Ｙ方向と特定の角度をなした方向に並列するように形成されていてもよい。
また、レリーフ構造が２次元レリーフ構造であってもよい。更に、図２３におけるレリーフ構造の断面形状は波型となっているが、のこぎり波、方形波、階段型となっていてもよい。あるいは、特定の周期関数に沿った形状であればよい。

ここで、凹凸構造が周期構造となっている際のアスペクト比は、構造周期Ｐ１と構造深さ（または高さ）Ｄ１により求められる。具体的には、アスペクト比＝構造深さ（または高さ）Ｄ１／構造周期Ｐ１にて算出される。そのため、上述のような本実施形態の効果を実現するためには、レリーフ構造の周期と深さ、高さをサブ領域６２毎に設定する必要がある。
特定の周期関数を持つレリーフ構造として、例えば図２４のような構造が考えられる。具体的には浅い構造と深い構造が組み合わされた周期構造である。この場合におけるアスペクト比は、最も深い構造を形成している構造の幅Ｐ２とその構造深さ（または高さ）Ｄ２からアスペクト比を算出する。

図２４のようにサブ領域６２内にて浅い構造と深い構造が周期的に混在している場合、上述の議論より深い構造が形成されている部分にて光反射層２０が除去される。こうすることでサブ領域６２内にて光反射層２０の除去量を変えることができるため、凹凸構造形状のアスペクト比に応じて、光反射層２０を、情報表示媒体１００、２００内にてグラデーションとすることもでき、反射観察時あるいは透過観察時により中間諧調を表現することが可能となる。
加えて、光反射層２０の除去する領域をより細かく設定することが可能となるため、光反射層２０の有無による透過型回折格子を形成することも可能となり、情報表示媒体１００、２００を透過観察した際に、回折光による形成される情報を目視にて確認することが可能となる。

図２３、図２４のように凹凸構造をレリーフ構造とすることで、光の反射、回折、吸収を制御することが可能となる。これら、光の反射、回折、吸収により、第１の領域３０、６０において、情報を提示することが可能となる。
図２５に示したランダムドット構造では、各ドットがＸ方向およびＹ方向にて等しい長さを持った形状となっているが、Ｘ方向に長い、あるいはＹ方向に長い形状であってもよい。その際、その長さが等しい、またはランダムとなっていてもよい。
また、図２５におけるランダムドット構造の各ドットの断面形状が、四角形となっているが、半円形上、半楕円形状、三角形状、曲線形状であってもよい。

ランダムドット構造のアスペクト比は、構造の幅Ｐ３と構造深さ（または高さ）Ｄ３に依存する。具体的には、アスペクト比＝構造深さ（または高さ）Ｄ３／構造の幅Ｐ３にて算出される。そのため、上述のような本開示の効果を実現するためには、ランダムドット構造の幅Ｐ３と深さ、または高さＤ３をサブ領域６２毎に設定する必要がある。
ランダムドット構造がＸ方向、あるいはＹ方向に長い形状となっていた場合、そのアスペクト比はランダムドット構造の短軸方向の幅と構造深さまたは高さにより算出される。

ランダムドット構造において、Ｘ方向、Ｙ方向の長さが同一である場合、光を無指向に散乱させることが可能となる。また、Ｘ方向、あるいはＹ方向のどちらかが長い場合には、その長い方向と直交する方向に光を散乱させ、指向性を持たせることが可能となる。加えて、ランダムドット構造の断面形状が、四角形で、かつ、Ｚ方向を法線方向とする平坦な界面がある場合には、光の干渉が生じやすくなり、呈色する。これら、光の散乱、干渉により、第１の領域３０、６０において、情報を提示することが可能となる。

［ウェットエッチングを組み合わせた情報表示媒体］
本実施形態は、光反射層２０をレーザー光５０により除去するため、いわゆるドライエッチング手法と同一である。従来のウェットエッチングとは異なり、すべてドライプロセスにて情報表示媒体１００、２００を製造できるため、製造プロセスコストを低下させることが可能となる。しかしながら、ウェットプロセスとの組み合わせも可能である。
ウェットプロセスにより光反射層２０を除去することで第１情報を形成する。第１情報は、固定の絵柄や記号、数字、文字、幾何学模様、彩紋柄などである。
更に、上述のレーザー光５０によるドライプロセスにより、オンデマンドな識別情報を形成するように、光反射層２０を除去することで形成可能となる。識別情報は、固有コード、個人のプロファイル、シリアル番号、特定のマークなどからなる。

図２６に示す情報表示媒体２００は、ウェットプロセスにより形成された領域８０を含み、第１の領域３０、６０と第２の領域３１、６１を含んでいる。加えて、印刷層９０により「〇〇〇ＬＡＢＥＬ」という文字情報が形成されている。更に、本実施形態の製造方法により、第２情報表示領域２１、７０が形成され「１２３４ＡＢＣ」という文字情報が識別情報として形成されている。
図２６では、第２情報表示領域２１、７０かなる識別情報が数字と文字からなる情報となっているが、識別情報が絵柄や記号、幾何学模様、彩紋柄により形成されていてもよい。また、領域８０をまたいで第２情報表示領域２１、７０が形成されていてもよい。

このように、本実施形態の情報表示媒体１００、２００およびその情報表示媒体の製造方法により、第１の領域３０、６０および、それらを形成するサブ領域６２と、第２の領域３１、６１とにおいて、レーザー光５０を照射してスキャンすることにより、光反射層２０を除去した第２情報表示領域２１、７０からなる識別情報を形成することで、第１の領域３０、６０により提示される第１情報と、第２情報表示領域２１、７０により提示される識別情報との２つの情報を重ねた情報で提供することができる。また、第２情報表示領域２１、７０により提示される識別情報をオンデマンドに形成することができる。
凹凸構造を有する第１の領域３０、６０または、平坦な構造を有する第２の領域３１、６１に対し、上述のようにレーザー光５０の焦点位置により第２情報表示領域２１、７０を形成するかしないかを選択することできる。また、サブ領域６２に形成されている凹凸構造のアスペクト比を変調することによる光反射膜の除去量を変えることによっても、第２情報表示領域２１、７０を形成することを制御することができる。

［情報表示媒体の検証方法］
情報表示媒体の検証方法は、パルスレーザーを、情報表示媒体における識別情報を有すると推定される部分に照射することで、隠された情報を提示されることで検証する。照射によって提示された情報を撮像装置で撮像し、撮像した画像に基づき識別情報を確認しても良い。照射によって現れた識別情報を検証することで、例えば真偽判定を行うことができる。

図２７は、その情報表示媒体１００、２００の検証方法を示している。
媒体２５０には、図２７（ａ）に示すように、情報表示媒体１００、２００が貼付されており、かつ印刷情報９１により幾何学模様と文字情報が形成されている。図２７（ｂ）に示す媒体２５０は、媒体２５０に対し検証機２６０からパルスレーザーが照射されることで、第２情報表示領域２１、７０が形成され「ＯＫ」という文字情報が提示、つまり現れた状態を示している。
加えて、図２７（ｃ）は、検証のために、検証機２６０へ媒体２５０を挿入した状態の一例を模式的に示している。

媒体２５０を検証する際、情報表示媒体１００、２００においては、第１の領域３０、６０において、複数のサブ領域６２が形成されており、かつ、アスペクト比の低い凹凸構造とアスペクト比の高い凹凸構造が形成されていることが望ましい。加えて、複数のサブ領域６２を構成する凹凸構造により、光の反射、回折、屈折、干渉、散乱が生じ、それによって情報が提示されていることが望ましい。
また、情報表示媒体１００、２００はあらかじめ光反射層２０の一部が除去されていてもよいが、その際に検証機２６０によって光反射層２０が除去される領域を除いておくことが望ましい。

この場合、情報表示媒体１００、２００には、アスペクト比の高い凹凸構造を含むサブ領域６２ｄが含まれており、そのアスペクト比の高い凹凸構造を含むサブ領域６２ｄの光反射層２０が、検証機２６０に組み込まれているレーザー光５０によって除去されることで、第２情報表示領域２１、７０が形成され、サブ領域６２ｄの形成位置に伴った情報が提示される。
このように媒体２５０を検証機２６０に挿入し、特定のサブ領域６２ｄにおける光反射層２０を除去しておくことで、媒体２５０が真正品であるかを示す隠された識別情報を表示、確認することができる。隠された識別情報が提示された媒体２５０を目視にて確認することで、真正品であることを検証することもでき、予め検証機２６０に組み込まれている撮像装置２６１にて隠された情報を取得、分析することで、真正品であることを検証してもよい。

なお、媒体２５０が真正品であるかを示す隠された識別情報は、検証機２６０へ挿入しなければ提示されないようにすることが望ましく、検証機２６０挿入前には情報表示媒体１００、２００が提示する第１情報に隠れて、識別情報が、目視確認できないデザイン、または大きさとなって形成されていることが望ましい。
このように、本開示の情報表示媒体１００、２００を有する媒体２５０にて、検証機２６０を用いてその媒体２５０が真正品であるかどうかを判断する真偽判定方法を組み込むことができる。

以上のように、本実施形態では、凹凸構造が形成された情報表示媒体において、光反射層２０を形成後、レーザーにて光反射層２０を形成する材料をオンデマンドに除去して、識別情報を第１情報に重なるように形成することが可能となる。
また、レーザー照射による材料除去によって識別情報を形成する際に、第１の領域と第２の領域の両方に跨るようにレーザー照射を移動させても、レーザーの焦点位置を制御することで、オンデマンドで、第１の領域、あるいは第１の領域と第２の領域の両方に対して識別情報を形成することが出来る。

加えて、第１の領域が、互いに隣接した２つ以上のサブ領域からなり、サブ領域の少なくとも１つのサブ領域における光反射層２０を構成する単位面積当たりの材料の量が、それ以外のサブ領域における光反射層２０を構成する単位面積当たりの材料の量よりも少なくなっていてもよい。
この場合、サブ領域毎に光反射層２０を構成する材料の量を変調することができるため、凹凸構造による光学表現と、材料の量を変調することにより得られる光反射による光学表現との位置合わせが可能となるとともに、より複雑な光学表現がオンデマンドで形成可能となる。

更に、第１の領域が、アスペクト比が０．１以上１未満の上記凹凸構造が形成されている第１サブ領域と、アスペクト比が１以上２以下の上記凹凸構造が形成されている第２サブ領域とを含み、構造形成層内部において、光反射層２０が覆われていない側から構造形成層の平均厚さまでの領域が焦点位置となるように集光されたパルスレーザーを照射することで、第２サブ領域における光反射層２０を構成する単位面積当たりの上記材料の量を５０％以上少なくするようにしても良い。
この場合、サブ領域を形成する凹凸構造のアスペクト比によって、光反射層２０を構成する材料の量を変調することができるため、凹凸構造による光学表現と、材料の量を変調することにより得られる光反射による光学表現との位置合わせが可能となるとともに、より複雑な光学表現がオンデマンドで形成可能となる。

またこのとき、識別情報を形成するためのレーザーの照射位置が、第１の領域を構成する複数のサブ領域を通過することで、その通過位置においてサブ領域における光反射層２０を構成する上記材料の量を５０％以上除去するようにしても良い。あるいは、パルスレーザーの照射位置が第１の領域および第２の領域を通過することで、その通過位置において第１の領域および第２の領域における光反射層２０を構成する上記材料の量を５０％以上除去するようにしても良い。
光反射層２０を５０％以上除去したエリアの光学的な反射率が低下、あるいは透過率が上昇することにより、情報表示媒体を反射／透過観察時に、その光反射層２０を除去したエリアによって新たな情報（識別情報）を表示することが可能となる。また、光反射層２０の除去する量を変調することにより、グラデーションのような表現を持つ情報を記録することが可能となる。更に、こうした新たな情報表示をオンデマンドに加工することが可能となる。

ここで、識別情報をマイクロ文字などの微小な表示とすると共に、第１表示に重なるように形成することで、通常状態では、識別情報を視認し難くすることが出来る。
また、本実施形態の識別情報を有する情報表示媒体を付した媒体の真偽判定方法は、例えばパルスレーザーが組み込まれている検証装置に上記媒体を挿入し、パルスレーザーにより識別情報を有する情報表示媒体部分を照射することで、隠された情報を提示することで出来る。
あるいは、上記隠された状態の識別情報を上記検証装置に組み込まれている撮像装置により読み取り、検証しても良い。
こうすることで、識別情報を有する情報表示媒体へ隠された情報を提示させることが可能となり、媒体が真正品であるのかを確認できる。

以上のように、本開示の情報表示媒体は、反射観察において、部分的に異なる領域において複数の情報を表示することができるため、偽造防止向けの光学効果として利用することができ、銀行券や商品券などの有価証券、証明書、ブランド品、高価格品、電子機器、および、個人認証媒体などの物品にすき込みまたは貼り合せて含まれる価値や情報を保護するための偽造防止媒体として利用できる。
更に、偽造防止以外の目的で使用することができ、例えば、玩具や学習教材、商品の装飾品、ポスター等としても利用することができる。
また、オンデマンドに情報を追加付与できることから、製造物品に対するオンデマンド情報付与やトレーサビリティ情報の管理に応用することもできる。また、付与した情報をＱＲコード（登録商標）などとすることで、カメラや携帯電話、スマートフォンなど撮像機能を有する読み取り機器を用いた機械認証システムへも利用することができる。

更に、凹凸構造のアスペクト比により光反射層２０を除去する領域を定めることができることから、本開示を含む媒体を特定の装置へ挿入し、その装置内にてレーザーが照射されることで、アスペクト比の高い構造部分の光反射層２０を除去し、特定の形状、情報が提示されるかどうかをその装置内部の撮像装置、あるいは目視にて確認することで、その媒体が真正品であるかを確認するといった、機械認証システムや真偽判定システムへ利用することができる。
更に、本開示は透過観察により隠された情報を目視確認できるため、上述の偽造防止以外の目的で使用することができる。例えば、玩具や学習教材、商品の装飾品、ポスター等としても利用することができる。

「第３の実施形態」
次に、第３の実施形態について説明する。
なお、各図面において、同一又は類似した機能を発揮する構成要素には全て同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
本実施形態の情報表示媒体は、有機基材と、有機基材に形成された描画部とを有する。描画部は、第１の描画部（粗い描画）及び第２の描画部（微細な描画）の一方又は両方の描画部を有する。有機基材は、有機材料からなる基材である。
有機材料は、有機樹脂や、紙等である。有機材料として、アクリルやポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、パリレンが例示できる。
第１の描画部は、有機基材の表面を部分的に除去して形成された除去部と有機基材の表面を炭化して形成され除去部位置よりも光透過率が低い炭化凹部との組合せで形成されている。第２の描画部は、有機基材の内部に形成された空隙部と有機基材の内部に形成され上記空隙部よりも光透過率が低い炭化部との組合せで形成されている。第１の描画部よりも第２の描画部の方が微細な描画となっている。

除去部は、例えば有機基材の表面近傍に焦点を合わせたパルス数の少ないパルスレーザー照射で形成する工程によって形成することが出来る。炭化凹部は、例えば有機基材の表面近傍に焦点を合わせたパルス数の多いパルスレーザー照射で形成する工程で形成することが出来る。空隙部は、有機基材の内部に焦点を合わせたパルス数の少ないパルスレーザー照射で形成する工程で形成することが出来る。炭化部は、有機基材の内部に焦点を合わせたパルス数の多いパルスレーザー照射で形成する工程で形成することができる。
そして、例えば上記のような本実施形態の情報表示媒体がすき込んだり、有価証券用の基材に貼り合わせたりして有価証券としても良い。

また、情報表示媒体の裏面側に接着層と剥離紙を設けて、ラベルとしても良い。
図２８～図３６は、第３の実施形態に係る情報表示媒体の一例を示す部分断面図である。なお、図２８～図３２、図３６においては、情報表示媒体１００において、情報表示領域を除いた領域にて改質領域３３１、３３２、３３３を設けた場合の部分断面図を示しており、図３３～図３５は情報表示媒体１００において、情報表示領域を含む領域にて改質領域３３１を設けた場合の部分断面図を示している。
印加領域３３０が、描画部が形成される部分であり、改質領域が、除去部、炭化凹部、空隙部又は炭化部が形成される部分である。

図２８における情報表示媒体１００は、有機材料である繊維素材からなる基材１０に局所的にエネルギーが印加される印加領域３３０を含み、印加領域３３０は、改質領域３３１を含む。
図２８において、改質領域３３１は、基材１０を削って形成された場合を示しているが、基材１０の表面を炭化、あるいは膨潤、白化、固化、軟化させて改質領域３３１とする場合でもよい。炭化、あるいは膨潤、白化、固化、軟化させた場合の方が、削った場合に比べ光透過率が低くなる。
基材１０は、繊維素材からなっているため、光を散乱させる効果を有している。なお、繊維素材を緻密に配列させることで、基材１０に対し光を透過させる効果を付与することも可能である。更に、繊維素材の配列密度に応じて、基材１０の光透過率を変えることも可能である。

また、基材１０は、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。更には、基材１０には、局所的なエネルギー印加により、応答性のある材料が添加されていてもよい。例えば、熱応答性のあるサーモクロミック材料や、光応答性のあるフォトクロミック材料、蛍光材料、りん光材料、圧力応答性のある材料、溶剤応答性のあるソルバトクロミック材料、エネルギー印加により分子が炭化する材料などである。加えて、着色料や染料などの添加により、基材１０は着色されていてもよい。
基材１０において、従来技術の紙の透かし模様を形成するように、既に繊維素材の粗密が形成されていてもよく、基材１０の一部が除去されていてもよい。
印加領域３３０を形成する手法として、例えば、パルスレーザーによる手法が挙げられる。また、サーマルヘッドによる手法や電子ビームによる手法、イオンビームによる手法などでもよい。

図２８においては、例えば、パルスレーザーによって局所的なエネルギー印加がなされる印加領域３３０が形成され、基材１０を曲線状に削る場合の除去部としての改質領域３３１が形成された場合を示している。
また、図２９においては、基材１０を直線状に削る場合の除去部としての改質領域３３１ａが形成された場合を示している。
除去部としての改質領域３３１は、図２８のように曲線状に形成されていてもよく、図２９のように階段状に多段に形成されていてもよく、単一の段にて形成されていてもよい。更に、改質領域３３１は、曲線および直線が融合された形状にて形成されていてもよい。
なお、基材１０において、改質領域３３１が形成されていない領域を有していても良い。

図３０における情報表示媒体１００は、有機材料からなる基材１０が、改質領域３３１を含む印加領域３３０を含む構成である。
図３０において、改質領域３３１として、基材１０を削ることで除去部を形成した例を示している。この場合、基材１０の光透過率を上げることができる。また、例えば、基材１０に照射するパルスレーザーのパルス数を変えることで、基材１０を炭化、あるいは膨潤、白化、固化、軟化させて炭化凹部とすることができる。更に、改質領域３３１において屈折率変化が生じていてもよい。

また、図３１においては、基材表面近傍に焦点を合わせパルスレーザーのパルス数を上げて、表面の改質領域３３１ｂとして、炭化させた炭化凹部を形成している。
この場合には、表面が削れた場合より基材の光透過率は低下する。
上記の除去部と炭化凹部とのコントラストにより、濃淡のある描画を有する第１の描画部を設けることができる。
基材１０は、有機材料からなっているため、有機材料が光透過性を有している場合には、光透過性のある基材となる。
基材１０において、透かし模様を形成するように、既に有機材料密度の粗密や、白化領域密度の粗密、炭化領域密度の粗密などで形成されていてもよい。また、基材１０の一部が除去されていてもよい。

図３１においては、印加領域３３０において、基材１０を曲線状に削る場合の改質領域３３１が形成された場合を示している。なお、図２９と同様に基材１０における改質領域３３１は直線状に多段の断面形状で形成されていてもよく、単一の段にて形成されていてもよい。また、改質領域３３１は曲線と直線が融合された形状で形成されていても良い。
図３２において、改質領域３３２、３３３が、基材１０の内部にて形成されている例を示している。このうち改質領域３３２は、炭化部であり、改質領域３３３は、空隙部である。なお、図３２における改質領域３３２、３３３は、それぞれ異なる改質がなされた場合を示しているが、同様な改質がなされていてもよい。
改質領域３３２、３３３が形成されている位置は、基材１０における厚さ方向に同じ位置となるように形成されていてもよく、異なっている位置に形成されていてもよい。

改質領域３３２が形成されている領域と、改質領域３３３が形成されている領域とにおいて、例えば光透過率が異なるように形成することが可能となる。また、改質領域３３２と改質領域３３３とが形成されている領域が、光透過率ではなく、屈折率、散乱率、反射率、白濁率、炭化率などの違いにより形成してもよい。
また、基材１０に金属イオンが含有させ、基材１０内部に局所的エネルギーを印加することで、改質領域３３３として金属微粒子を形成しても良い。更には、金属以外の微粒子を形成しても良い。
なお、基材１０において、改質領域３３２、３３３が形成されていない領域を有していても良い。
上記の炭化部と空隙とのコントラストにより、濃淡のある描画を有する第２の描画部を設けることができる。

図３３は基材１０に対し、情報表示領域３４０が形成されている場合を示している。この例では、更に、情報表示領域３４０においても改質領域３３１が形成されている場合を示している。実際には、情報表示領域３４０に改質領域３３１が形成されていなくてもよく、情報表示領域３４０の一部分に改質領域３３１が形成されていてもよい。
情報表示領域３４０に形成された改質領域３３１は、情報表示領域３４０を削って形成した場合を示しているが、情報表示領域３４０を炭化、あるいは膨潤、白化、固化、軟化させて形成する場合でもよい。更に、改質領域３３１において屈折率変化が生じていてもよい。

図３４は基材１０内部に対し、情報表示領域３４１が形成されている場合を示している。なお、情報表示領域３４１は、基材１０に対し、色素やインキなどを埋め込む、含浸させるなどにより形成されている。また、基材１０を形成時に既に埋め込まれている顔料や箔などにより形成される情報媒体であっても良い。更に、図３４は情報表示領域３４１においても改質領域３３１が形成されている場合を示している。実際には、情報表示領域３４１に改質領域３３１が形成されていなくてもよく、情報表示領域３４１の一部分に改質領域３３１が形成されていてもよい。
情報表示領域３４１に形成された改質領域３３１は、情報表示領域３４１を削った場合を示しているが、情報表示領域３４０を炭化、あるいは膨潤、白化、固化、軟化させる場合でもよい。更に、改質領域３３１において屈折率変化が生じていてもよい。

図３５は基材１０に対し、情報表示領域３４２が、印加領域３３０及び改質領域３３１が形成されていない側の界面にて形成されている場合を示している。基材１０が光透過性を有していた場合、情報表示領域３４２が形成されている界面と逆側の界面において改質領域３３１が形成されている場合には、情報表示領域３４２により示される情報が、改質領域３３１を通して観察することが可能となる。
なお、情報表示領域３４２と改質領域３３１が形成されている領域が一致していても良いし、異なっていても良い。

情報表示領域３４２と改質領域３３１が形成されている領域が、一部分または全部にて一致している場合には、例えば改質領域３３１によって情報表示領域３４２により示される情報が散乱されることで、情報の一部を見えにくくさせることができる。また、改質領域３３１の屈折率の分布により、情報表示領域３４２により示される情報を、拡大又は縮小させて提示することができる。
図３６は、有機材料からなる基材１０において、基材の界面に改質領域３３１を形成し、更に基材内部に改質領域３３２、３３３を形成した場合の断面図を示している。
図３６では、改質領域（除去部）３３１と改質領域３３２、３３３それぞれが異なる位置にて形成されているが、同じ位置に形成されていても良い。

こうすることで、基材１０の界面（表面）に形成した改質領域３３１（除去部）と、基材内部に形成した改質領域３３２（空隙部）のそれぞれにおいて、異質な描画を実現できる。除去部による描画は、空隙部と比較し描画の線幅が広くなる。そのため、除去部は、空隙部より粗い描画となり、ややぼやけイメージとなる。逆に、空隙部は、除去部より微細な描画でシャープなイメージとなる。このように除去部と空隙部を用いることで、描画の階調を豊かにすることができる。また、同様に炭化凹部と炭化部でも同様にその描画の線幅を変えることができる。炭化凹部による描画は、炭化部と比較し描画の線幅が広くなる。そのため、炭化凹部は、炭化部より粗い描画となり、ややぼやけイメージとなる。逆に、炭化部は、炭化凹部より微細な描画でシャープなイメージとなる。このように炭化凹部と炭化部を用いることで、描画の階調を豊かにすることができる。
改質領域３３１それぞれの領域において異なる情報を提示することが可能となる。なお、改質領域３３１と改質領域３３２、３３３には異なる改質を施しても良いし、同じ改質を施しても良い。

図３７に示す情報表示媒体２００は、基材に対し、印加領域３３０、改質領域３３１、３３２、３３３、情報表示領域３４０、３４１、３４２、更に透かし領域３５０を形成した場合を示している。
図３７の一部において、印加領域３３０、改質領域３３１、３２、３３と、情報表示領域３４０、３４１、３４２が重なり合っている場合を有しているが、それぞれが独立して形成されていても良い。
また、情報表示領域３４０、３４１、３４２により提示される情報と、印加領域３３０、改質領域３３１、３３２、３３３とが位置合わせされて形成されていても良く、位置合わせされずに形成されていてもよい。

更に、透かし領域３５０と重なるように印加領域３３０、改質領域３３１、３２、３３が形成されていても良い。
こうすることで、情報表示媒体２００が表示する情報が、透かし領域３５０、印加領域３３０および改質領域３３１、３３２、３３３、情報表示領域３４０、３４１、３４２それぞれの組合せにより、複数の情報を形成することが可能となる。なお、得られる効果については後述する。
図３７においては、印加領域３３０および改質領域３３１、３３２、３３３、更には情報表示領域３４０、３４１、３４２にて、文字情報を提示している。実際には文字情報だけではなく、記号や幾何学模様、絵柄などといった特定の形状で形成されていてもよい。

［情報表示媒体の製造方法］
以下、情報表示媒体１００および２００の製造方法について説明する。
情報表示媒体１００、２００は、基材１０を形成した後、基材１０の界面あるいは内部へ局所的にエネルギーを与え、目的とする描画パターンに基づき基材１０を部分的に改質することで製造される。
あるいは、情報表示媒体１００、２００は、基材１０を形成した後、情報表示領域を設け、基材１０の界面あるいは内部へ局所的にエネルギーを与えることで、基材１０を部分的に改質することでも製造される。

更に、情報表示媒体１００、２００は、基材１０を形成した後、情報表示領域を設け、基材１０の界面あるいは内部へ局所的にエネルギーを与えることで、基材１０を部分的に改質し、情報表示領域の界面へ局所的にエネルギーを与えることで、情報表示領域を部分的に改質することでも製造される。
基材１０、および情報表示領域３４０、３４１、３４２へ局所的にエネルギーを与える方法として、パルスレーザー源やサーマルヘッド、電子ビーム、イオンビームを用いる手法がある。なお、図３８にパルスレーザー源５２を用いた場合の図を示す。

パルスレーザー源５２より射出されたレーザー光は、レンズ５１を通って、反射鏡５３に反射し、情報表示媒体１００、２００、又は情報表示媒体１００、２００の製造ライン上にて、情報表示媒体１００、２００の特定位置に焦点が合うように入射される。すると、焦点にてレーザー光によるエネルギーが局在化することで、改質領域３３１、３３２が形成される。
なお、図３８ではレーザー光がレンズ５１を通った後に反射鏡５３を通っているが、その順番が逆となっていても良い。

レーザー光による加工の際、情報表示媒体１００、２００がロールトゥロールで製造されている場合、レーザー光の焦点位置のＸ、Ｙ、Ｚを制御することで、改質領域３３１、３３２の形成位置を定めることが可能となる。
また、情報表示媒体１００、２００が枚葉で製造されている場合、情報表示媒体１００、２００が設置されたステージを移動させる、又は、レーザー光の焦点位置のＸ、Ｙ、Ｚを制御することで、改質領域３３１、３３２の形成位置を定めることが可能となる。
あるいは、反射鏡５３がマイクロミラーアレイ構造であり、そのマイクロミラーアレイ構造をコンピュータ制御させることで、レーザー光の位相を制御し、レーザー光の焦点位置を制御することも可能である。

更には、反射鏡５３を反射型の空間光変調器とし、空間光変調器の各セルの位相をコンピュータ制御させることで、レーザー光の位相を制御し、レーザー光の焦点位置を制御することも可能である。なお、空間光変調器は透過型であっても良い。
なお、パルスレーザー源５２としては、パルス幅が１００フェムト秒以上１ピコ秒以下であることが望ましい。そうすることで、レーザー光がレンズ５１を通り、焦点にて瞬間的に高エネルギー状態となり、効果的に改質領域３３１、３２、３３を形成することが可能となる。また、高エネルギー状態となる時間が非常に短いため、照射位置に影響が集中する。

また、パルスレーザー源５２として、光ファイバーを利用したファイバーレーザー、固体レーザー、半導体レーザーのいずれかを用いることが望ましい。固体レーザーとしては、チタンサファイア結晶やＹＶＯ_４結晶を用いた固体レーザーが例示できる。更に、パルスレーザー源５２の波長域は近赤外から赤外領域であることが望ましい。
上述のパルスレーザー源５２を用いることで、レーザー光の焦点にて瞬間的に高エネルギーな状態を形成することが可能となり、基材１０及び情報表示領域３４０、３４１、３４２へより高精細な加工が可能となる。

図３９は、パルスレーザー源５２が基材１０あるいは情報表示領域３４０、３４１、３４２に対し、局所的にエネルギーを与える場合の模式図を示している。局所的とは、図３９のようにスポット的に与えられていることが望ましい。こうすることで、より高精細な改質領域３３１、３３２、３３３を形成することが可能となる。
なお、図３９（ａ）は基材１０の界面にパルスレーザー光５０の焦点を合わせた場合を示しており、図３９（ｂ）は基材１０の内部にパルスレーザー光５０の焦点を合わせた場合を示している。また、図３９（ｃ）は、界面近傍でもやや界面から離れたところに焦点を合わせた場合を示している。このように、焦点位置を変えることによって、描画の線幅を変えることができ、描画の階調が豊かになる。

また、図３９でのエネルギー局在部３８０において、パルスレーザーのパルス数を変えることにより、炭化部、炭化凹部、除去部、空隙部を選択して形成することができる。パルス数が高い場合には、炭化部、炭化凹部が形成され、パルス数が低い場合には、除去または空隙が形成される。単位秒あたりのパルス数は、１０～５０ｋＨｚとすることができ、除去部、空隙部を形成する場合には、例えば単位秒あたりのパルス数を１０～１ｋＨｚとし、炭化部、炭化凹部を形成する場合には、単位秒あたりのパルス数を１ｋ～５０ｋＨｚとすることができる。

更に、パルスレーザー源５２を用いた場合には、改質領域３３１、３３２、３３３を高速に形成、パターニングすることが可能となるため、高速加工が可能となる。また、そのパルス数を変えることで、異なる改質領域を形成することができ、様々な階調、濃淡の描画を得ることができるため、豊かな表現の描画となる。
上述のように、パルスレーザー源５２を用いた場合には、高精細加工、高速加工が可能となるため、情報表示媒体１００、２００に対し、オンデマンド加工が可能となる。

［情報表示媒体の観察方法及び効果］
上述の説明より、本開示を用いることで、下記に説明するような効果、及び観察方法が可能となる。
例えば、改質領域３３１、３３２、３３３において、基材の厚さを薄くするような改質を施した際、図４０に示したように、情報表示媒体２００を透かして観察すると、改質領域３３１、３３２、３３３によって、文字情報が透かしとして観察することが可能となる。
更に、図４１及び図４２に示すように印加領域３７０において、極薄く基材１０を除去することで、反射観察時にはその差が目視観察できないが、透過観察にてその差を観察することができる。といった潜像を情報表示媒体へ形成することが可能となる。

なお、上述のように本開示はオンデマンドで高速、高精細加工が可能となるため、情報表示媒体に合わせて印加領域３３０、３７０、改質領域３３１、３２、３３を形成することが可能となる。また、予め情報表示媒体１００、２００に形成されていた情報表示領域３４０、３４１、３４２により形成されるデザイン、情報に合わせたオンデマンド加工が可能となるため、情報表示媒体１００、２００に対し、より複雑な情報を付与することが可能となる。
パルスレーザー源５２を用いた加工では、上述のように目視にて観察することが可能な情報をオンデマンド加工することもできるが、高精細加工が可能なことから、目視にて観察可能な情報の内部に、拡大観察することで観察可能となる情報を埋め込むことも可能となる。

ここで、従来の透かし模様の形成は証紙時に行われるため、オンデマンドな透かし模様を形成できなかった。更に、従来、レーザー加工による透かし模様の形成には、特定の波長を吸収する顔料を証紙時に混ぜ込む必要があり、高コストになるといった問題があった。
また、従来、透かし模様は紙基材に用いられてきたが、近年有機分子からなるポリマー材料を基材として用いた紙幣などが流通し始めていることから、有機分子からなる基材への透かし模様の形成方法が確立されていない。

これに対し、本開示は、上記課題に対し、有機分子からなる紙基材などの基材に対して追加材料などを用いずにオンデマンドに透かし模様を形成することを可能とする情報表示媒体及び有価証券、有機分子からなる基材に対するオンデマンドでの透かし模様を形成することを可能とする情報表示媒体および有価証券を提供する。
すなわち、本開示の態様によれば、有機基材に対して追加材料などを用いずにオンデマンドに透かし模様を形成することを可能とする情報表示媒体及び有価証券、有機分子からなる基材に対するオンデマンドでの透かし模様を形成することを可能とする情報表示媒体および有価証券を提供することが可能となる。

そして、本開示の情報表示媒体は、反射観察において、部分的に異なる領域において複数の情報を表示することができるため、偽造防止向けの光学効果として利用することができ、物品にすき込みまたは貼り合せて、含まれる価値や情報を保護するための偽造防止媒体として利用できる。物品としては、銀行券や商品券などの有価証券、証明書、ブランド品、高価格品、電子機器、および、個人認証媒体が例示できる。
また、蛍光インキの印刷層やホログラムが形成されている基材に粘着層を形成することで、ラベルとすることができる。

また、オンデマンドに情報を追加付与できることから、製造物品に対するオンデマンド情報付与やトレーサビリティ情報の管理に応用することもできる。また、付与した情報を情報コードとすることで、カメラや携帯電話、スマートフォンなど撮影機能を有する読み取り機器を用いた機械認証システムへも利用することができる。情報コードとしては、ＱＲコード（登録商標）が例示できる。
更に、本開示は透過観察により隠された情報を目視確認できるため、上述の偽造防止以外の目的で使用することができる。例えば、玩具や学習教材、商品の装飾品、ポスター等としても利用することができる。

「第４の実施形態」
次に、第４の実施形態について図面を参照しながら説明する。
＜情報表示媒体１００＞
本実施形態の情報表示媒体１００は、図４３に示すような偽造防止手段を施した情報表示媒体である。
情報表示媒体１００は、下層側から表面側にむけて、支持層を構成する構造形成層１０と、光反射層２０と、金属イオン含有層４１２とがこの順に積層した積層体から構成される。この積層体の下層に更に粘着層や基材層などの他の層を有していても良いし、金属イオン含有層の上に、表面保護層などの他の層を有していても良い。

更に、情報表示媒体１００は、金属イオン含有層４１２の一部の領域に微粒子４１３を含む。
構造形成層１０は光透過性を有している。構造形成層１０は、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。更に、構造形成層１０は、液晶材料など光学異方性を有する材料から構成されていてもよい。加えて、樹脂への顔料や染料の添加などにより、着色されていてもよい。
構造形成層１０の材料として、金属酸化物や、それらの混合物を使用することができる。金属酸化物としては、例えばＳｉＯ_２（二酸化ケイ素）やＴｉＯ_２（二酸化チタン）、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）が例示できる。更に、構造形成層１０の材料は、樹脂であってもよい。

なお、金属酸化物で構造形成層１０を形成する場合には、例えば、ドライコーティング技術により形成できる。また、グラビア印刷などのウェットコーティング技術により形成できる。ドライコーティング技術としては、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学気相成長）が例示できる。
樹脂で構造形成層１０を形成する場合には、例えばウェットコーティング技術により形成できる。また、ドライコーティング技術により形成してもよい。
構造形成層１０の厚さは、１００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下が好ましい。この厚さの範囲に規定することで、後に説明する凹凸構造４１４を形成しやすくなる。実際には、凹凸構造４１４が形成できるだけの厚さがあればよい。

また、構造形成層１０は、同一領域内において均一な膜厚であってもよく、膜厚が連続的または不連続的に変化していてもよい。
構造形成層１０における光反射層２０との界面１０ａの構造例を図４４に示す。図４４（ａ）は、構造形成層１０において平坦な界面１０ａの領域の一例を示し、図４４（ｂ）は、構造形成層１０において凹凸構造による１次元方向に周期的に配列しているレリーフ構造（グレーティング構造）が形成されている界面１０ａの領域の一例を示している。
構造形成層１０における光反射層２０との界面１０ａは、全面が図４４（ａ）に示す平坦な構造であっても良いが、一部の領域の界面１０ａが図２（ｂ）で例示される凹凸構造４１４から構成されていても良い。

構造形成層１０の界面１０ａに形成される凹凸構造４１４は、図４４（ｂ）に示したような１次元方向に配列しているレリーフ構造のほかに、２次元方向へ周期的に配列しているレリーフ構造例えば、クロスグレーティング構造）、ランダムな凹凸ドット構造、ランダム周期レリーフ構造（ランダムグレーティング構造）などであってもよい。例えば、レリーフ構造あるいはクロスグレーティング構造が形成されたときには、レリーフ構造の格子ベクトル方向に沿って光が回折され、その回折光によって情報を提示することができる。また、ランダムな凹凸ドット構造が形成されたときには、光が散乱され、その散乱光によって情報を提示することができる。更に、ランダムグレーティング構造が形成されたときには、その格子ベクトル方向に特に強く光が散乱され、その指向性のある散乱光によって情報を提示することができる。

構造形成層１０は、平面方向の各領域においてそれぞれ異なる凹凸構造４１４が形成されることで、特定の形状を表現することができる。特定の形状は、絵柄や記号、数字、文字、幾何学模様などである。
また、凹凸構造４１４が形成される領域の形状が、上記の特定の形状を表現していてもよい。
光反射層２０は、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。
また、光反射層２０の材料としては、例えば金属、合金を使用することができる。金属としては、アルミニウムや銀、金、銅、錫、ニッケルが例示できる。合金としては、鋼、ステンレス、ジュラルミンが例示できる。更に、光反射層２０の材料は、窒化チタンなど金属光沢のある材料であってもよい。

加えて、光反射層２０の材料は、金属化合物でも良い。金属化合物としては、高屈折率材料として知られる二酸化チタン（ＴｉＯ_２）や二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、酸化タングステン（ＷＯ_３）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）が例示できる。
なお、光反射層２０は、例えば、ドライコーティング技術により形成される。ドライコーティング技術としては、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（化学気相成長）が例示できる。また、光反射層２０は、ウェットコーティング技術を用いて形成しても良い。

光反射層２０の層厚は５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。より好ましくは、２０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。この層厚の範囲に規定することで、情報表示媒体を目視観察するに当たって十分な光の反射率が得られ、偽造防止効果を向上させることができる。
また、光反射層２０は同一領域内において均一な膜厚であってもよく、膜厚が連続的または不連続的に変化していてもよい。更に、周期構造を形成していてもよい。
更に、光反射層２０は、絵柄や記号、数字、文字、幾何学模様などといった特定の形状で形成されていてもよい。
金属イオン含有層４１２は、一部分または全部の領域に微粒子４１３を含み形成されている。

図４２においては、一部の領域において、複数の微粒子４１３が距離を開けて配置される場合を例示しているが、微粒子４１３は互いに近接して配置されていてもよく、各微粒子４１３同士が接触して配置されていてもよい。微粒子を含有させた領域の一部または全部は、構造形成層１０における特定のパターンを形成した領域と厚さ方向で重なるように配置することが好ましい。
金属イオン含有層４１２は、主材料としてのバインダー高分子材料に対し、溶剤を用いて金属化合物を分散することで形成される。バインダー高分子材料は、ポリビニルピロリドンやゼラチンが例示できる。溶剤としては、水やエタノールが例示できる。金属化合物としては、硝酸銀やテトラクロリド金酸が例示できる。

金属イオン含有層４１２を形成する際には、例えばウェットコーティング技術により形成できる。更に、コーティング後にベークすることで、金属イオン含有層４１２を形成してもよい。
金属イオン含有層４１２の層厚は５００ｎｍ以上５００００ｎｍ以下が好ましい。より好ましくは、１０００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であり、ウェットコーティング技術により形成できる膜厚であればよい。
また、金属イオン含有層４１２は同一領域内において均一な膜厚であってもよく、膜厚が連続的または不連続的に変化していてもよい。更に、周期構造を形成していてもよい。

更に、金属イオン含有層４１２に、複数の微粒子の配置によって特定のパターンが形成されていてもよい。特定のパターンは、例えば絵柄や記号、数字、文字、幾何学模様などである。
本実施形態の微粒子４１３は、金属イオン含有層４１２に含まれている金属イオンが還元されることで、金属イオン含有層４１２内に形成される。そのため、微粒子４１３を形成する材料は、金属イオン含有層４１２に含まれる材料に依存する。例えば、金属イオン含有層４１２において硝酸銀が溶解していた場合、銀イオンが金属イオン含有層４１２に含まれているため、得られる微粒子４１３は銀により形成される。金属イオン含有層４１２への微粒子４１３の形成手法については、後ほど説明する。
金属イオン含有層４１２において形成されている微粒子４１３は、金属イオンを還元する３次元的な位置によって、金属イオン含有層４１２において微粒子４１３を含有させる領域を、３次元的に設定することが可能となる。

＜他の情報表示媒体１００＞
他の情報表示媒体１００は、図４５に示すように、構造形成層１０の一部の領域４２１の界面１０ａに凹凸構造４１４が形成され、その上に、光反射層２０及び金属イオン含有層４１２が形成されている例である。
図４５に示す情報表示媒体１００は、は金属イオン含有層４１２に微粒子４１３を形成する前の状態を例示しており、この図４５に示す情報表示媒体１００の金属イオン含有層４１２に対し、後述のような手法によって、金属イオン含有層４１２に含まれている金属イオンの還元処理を施して、図４に示すような、金属イオン含有層４１２に微粒子４１３が形成されている情報表示媒体１００とする。

図４６に示す情報表示媒体１００において、凹凸構造４１４が構造形成層１０の一部に領域に形成されている。又、光反射層２０には、後述のように、局所的に光反射層２０を除去する処理が施されて、光を反射しないか光反射率が大幅に低い領域が形成されている。以下、光を反射しないか光反射率が大幅に低い領域を光低反射部４１１Ｂとも呼ぶ。
これによって、情報表示媒体１００は、凹凸構造４１４及び光反射層２０が形成されている領域４２０と、光低反射部４１１Ｂが配置されている領域２１と、構造形成層１０が平坦であり、かつ光反射層２０が形成されている領域４２２と、光低反射部４１１Ｂが配置されている領域４２３とを有する。

また、図４６に示すように、領域４２０、４２２と重なる金属イオン含有層４１２の領域には、微粒子４１３が含有している。
領域４２１、４２３における、光反射層２０の光低反射部４１１Ｂは、光反射層２０を構成する塗布材を部分的にコーティングしないことで設けられる。
図４６の例では、領域４２１、４２３の光低反射部４１１Ｂは、光反射層２０を一旦設けた後に、レーザーなどによって局所的にエネルギーを与えて除去することで設けた場合の例である。また、化学的エッチングプロセスを用いることによっても光反射層２０を除去することができる。

光低反射部４１１Ｂを有する領域４２１及び４２３を設けることで、光反射層２０で光が反射しやすい領域４２０及び４２２により得られる情報をより効果的にみせることが可能となる。例えば、領域４２０において凹凸構造４１４が形成されているため、凹凸構造４１４により反射、散乱、回折、干渉、あるいは吸収した光が目視観察可能となる。一方、領域４２１においては、光の反射が低いため、凹凸構造４１４による反射、散乱、回折、干渉、あるいは吸収が生じないかわずかである。つまり、光反射層２０の有無により、目視観察における情報を表示することができる。

また、予め凹凸構造４１４により提示されていた情報と、光低反射部４１１Ｂを設けた領域４２１との位置を合わせることができる。そうすることで、凹凸構造４１４による情報をよりわかりやすく観察者に提示することができる。なお、凹凸構造４１４が形成されていない領域４２２及び４２３においても同様である。
更に、金属イオン含有層４１２に微粒子４１３が形成されていることで、微粒子４１３により光の反射、散乱、回折、干渉、あるいは吸収が生じる。例えば、微粒子４１３が銀や金といった金属により形成されると、入射した光が微粒子４１３の表面にて表面プラズモンが生じ、特定波長の光が微粒子４１３により吸収、散乱される。また、形成された微粒子４１３が周期的に配置されていることにより、光の回折や散乱が生じる。更に、形成された微粒子４１３が隣接ないしは接触して連続的に形成された場合、光の反射が生じる。そのため、微粒子４１３により、凹凸構造４１４により生じる光学現象とは異なる光学現象を実現することができる。

以下、微粒子４１３は金属材料からなり、その微粒子４１３により表面プラズモンが生じ、特定波長の光が微粒子４１３により吸収、散乱することで、呈色することを前提として記載する。
光低反射部４１１Ｂを設けた領域４２１及び４２３を設けることで、光反射層２０を除去しない領域４２０及び４２２により得られる情報をより効果的にみせることが可能となる。例えば、領域４２０において凹凸構造４１４が形成されているため、凹凸構造４１４により反射、散乱、回折、干渉、あるいは吸収した光が目視観察可能となる。一方、領域４２１においては、光の反射が低いため、凹凸構造４１４による反射、散乱、回折、干渉、あるいは吸収が生じないが小さい。つまり、光反射層２０の有無により、目視観察における情報を表示することができる。

また、予め凹凸構造４１４により提示されていた情報と、光低反射部４１１Ｂの領域４３１との位置を合わせることができる。そうすることで、凹凸構造４１４による情報をよりわかりやすく観察者に提示することができる。なお、凹凸構造４１４が形成されていない領域４３２および４３３においても同様である。
一方、金属イオン含有層４１２に形成されている微粒子４１３による呈色は、いずれの領域においても観察可能である。そのため、例えば、領域４２０における凹凸構造４１４による情報と微粒子４１３による呈色とが同時に目視観察可能となる。

このように、凹凸構造４１４の有無、あるいは光反射層２０の有無により得られる情報に加え、微粒子４１３を形成することで、更に情報を付与することが可能となる。
加えて、後に説明する微粒子４１３の形成手法を用いることで、微粒子４１３を形成する領域と、光反射層２０を除去する領域（光低反射部４１１Ｂ）とが、一つの加工プロセスにおいて位置合わせよく形成することが可能となる。そうすると、光反射層２０の有無、凹凸構造４１４の有無、微粒子４１３の有無それぞれの組み合わせを実現できるため、より複雑な情報提示が可能になると同時に、情報表示媒体１００のデザイン性を向上することができる。

＜情報表示媒体２００＞
図４７は、情報表示媒体２００の一例を示している。なお、以下の説明においては光反射層２０として金属材料が使用された場合を想定している。
図４７において、凹凸構造４１４が構造形成層１０に形成されず、光反射層２０が形成されている領域４５０と、光低反射部４１１Ｂの領域４５１とにより、３つのひし形が連なった柄が形成されている。更に、凹凸構造４１４が形成されている領域４５２において、アルファベットの“Ａ”が、凹凸構造４１４と微粒子４１３により形成されている領域４５３において、アルファベットの“Ｂ”が、凹凸構造４１４はないが微粒子４１３のみが形成されている領域４５４において、アルファベットの“Ｄ”が形成される。更に、最後に後の製造方法にて説明する手法（微粒子４１３を形成する手法）によりパターニング領域４５５、４５６において、アルファベットの“Ｃ”および３つのひし形が連なった縁取り柄が形成されている。なお、領域４５６においては、金属イオン含有層４１２において微粒子４１３が形成されている。

領域４５０においては、光反射層２０によって反射する光を目視観察でき、領域４５１においては、構造形成層１０が観察可能となる。ここで、例えば情報表示媒体２００が透明な接着材料などを介して基材へ貼付されている場合には、領域４５１においては、その基材に予め形成された情報が目視観察可能となる。その際、接着材料が着色していてもよい。
領域４５２において、凹凸構造４１４が例えばグレーティング構造であった場合、アルファベット“Ａ”において光が回折するため、目視観察時においてアルファベット“Ａ”は、虹色に色変化するように見えることで、情報を得ることができる。

領域４５３において、領域４５２と同様に凹凸構造４１４がグレーティング構造であった場合、アルファベット“Ｂ”は虹色に色変化するように見える。加えて、微粒子４１３による呈色があった場合には、凹凸構造４１４による虹色変化と微粒子４１３による呈色とが混色し、領域４５２とは異なる色表現を実現することが可能となる。
領域４５４において、光反射層２０によって反射する光が、微粒子４１３による呈色により、色の付いた反射光が目視観察可能となる。例えば、光反射層２０としてアルミを用い、微粒子４１３による呈色が黄色であった場合、目視観察時において領域４５４は金色の光沢を呈する。

領域４５５においては、光反射層２０がアルファベットの“Ｃ”を示すように除去されることで、アルファベットの“Ｃ”が目視観察可能となる。
領域４５６においては、光反射層２０が除去されている領域であると同時に、微粒子４１３により抵触している領域でもあるため、目視観察時には色の付いた縁取り柄が観察可能となる。
以上のように、光反射層２０、微粒子４１３を各領域に分けて部分的に形成することで、一つの情報表示媒体２００に複数の情報を付与することが可能となる。また、凹凸構造４１４、光反射層２０、金属イオン含有層４１２を形成した後に微粒子４１３を形成する、更には光反射層２０の除去が可能なため、後加工により情報を付与することが可能となる。

＜情報表示媒体の製造方法＞
以下、情報表示媒体１００、２００の製造方法について説明する。
情報表示媒体１００、２００は、例えば下記（１）～（５）の工程を経て製造される。（１）まず、構造形成層１０へ凹凸構造４１４を形成し、光反射層２０を形成する。
（２）次に、光反射層２０を部分的に除去して、局所的に低光反射部を形成する。
（３）次に、金属イオン含有層４１２を設けて、積層体とする。
（４）次に、積層体における金属イオン含有層４１２中において、局所的にエネルギーを与えることで、金属イオン含有層４１２内における金属イオンを還元し、金属イオン含有層４１２中に微粒子４１３を形成する。
（５）更に、光反射層２０へ局所的にエネルギーを与えることで、光反射層２０を除去する。

以上の処理によって情報表示媒体１００、２００が製造される。なお、上記製造方法のうち、（２）と（５）は必ずしも製造時に必要ではなく、必要に応じて実施するとよい。
金属イオン含有層４１２へ局所的にエネルギーを与える方法として、パルスレーザー源やサーマルヘッドを用いる手法がある。なお、図４８にパルスレーザー源を用いた場合の図を示す。
即ち、パルスレーザー源５２より射出されたレーザー光５０は、レンズ５１を通って、反射鏡５３に反射し、情報表示媒体１００、２００を形成する金属イオン含有層４１２に焦点が合うように入射される。すると、焦点にてレーザー光によるエネルギーが局在化し、そのエネルギーによって金属イオンが還元され、焦点にて微粒子４１３が形成される。

更に、レーザー光５０の焦点を光反射層２０に合わせると、局在化されたエネルギーによって光反射層２０が除去されて低反射状態の層となる。この技術は、レーザーアブレーションとして公知の技術である。
また、例えばレーザー光５０の焦点を構造形成層１０に合わせた場合には、その位置において構造形成層１０を除去することも可能である。
レーザー光５０による加工の際に、情報表示媒体１００、２００の設置位置、又はレーザー光５０の焦点のＸ、Ｙ、Ｚを制御することで、微粒子４１３を形成する領域や光反射層２０を除去する領域を選択することが可能となる。

あるいは、反射鏡５３がマイクロミラーアレイ構造であり、そのマイクロミラーアレイ構造をコンピュータ制御させることで、レーザー光５０の位相を制御し、レーザー光５０の焦点位置を制御することも可能である。
上記の製造方法により、金属イオン含有層４１２に対し微粒子４１３を形成し、光反射層２０における一部の領域を除去することが可能となる。更には、微粒子４１３を形成する領域と光反射層２０を除去する領域を同一とすることもできる。

情報表示媒体１００、２００を形成した後に、上記の製造方法を適用することが可能であるため、情報表示媒体１００、２００の製造ラインへの後加工方法として適用できる。そのため、本開示の製造方法を用いることで、情報表示媒体１００、２００へのオンデマンド加工が可能となる。
このように、情報表示媒体１００、２００に対して本開示の製造方法を適用すると、各領域４５０、４５１、４５２、４５３、４５４、４５５、４５６においてそれぞれ異なる光学表現ができ、更にそれぞれにおいて異なる情報を提供することができる。そうした光学表現の組み合わせ及び情報の組み合わせにより、情報表示媒体１００、２００が真正品であると判断できる。

（効果その他）
本実施形態の情報表示媒体は、光を透過する支持層と、光反射層と、金属イオン含有層の順番で積層されることで形成される積層体からなり、上記光反射層と上記金属イオン含有層とが接しており、上記金属イオン含有層の一部の領域に微粒子が含まれている。
このとき、同一平面に対し上記光反射層が部分的に配置され、上記金属イオン含有層における上記微粒子を含む領域と、上記光反射層が設けられている領域とが積層体の厚さ方向で重なる部分があるように配置されていてもよい。
また、上記金属イオン含有層における上記微粒子を含む領域と、上記光反射層が設けられている領域とが積層体の厚さ方向で位置合わせされて重なるように配置されていてもよい。

また、上記光を透過する金属イオン含有層と、上記光反射層と、上記支持層の界面にて構造が形成されて上記支持層が構造形成層となる積層体からなり、上記構造形成層と上記光反射層の一方の面とが接すると共に、上記光反射層のもう一方の面と上記金属イオン含有層と接し、上記金属イオン含有層の一部の領域に微粒子が含まれ、上記光反射層は、上記構造形成層と接している界面において部分的に設けられ、上記構造形成層は、上記光反射層と接している界面の一部に凹凸構造が設けられていてもよい。
また、上記金属イオン含有層における上記微粒子を含む領域、上記光反射層が設けられている領域および上記凹凸構造が設けられている領域のうちの少なくとも２つの領域は、積層体の厚さ方向で重なる部分があるように配置されていてもよい。
また、上記光反射層は、例えば金属材料又は金属酸化物材料から構成されている。

また、上記の情報表示媒体の製造方法において、上記積層体を設けた後に、上記金属イオン含有層へ局所的に光エネルギーを与えることで、上記金属イオン含有層内に上記微粒子を形成すると良い。
また、上記の情報表示媒体の製造方法において、上記積層体を設けた後に、上記光反射層へ局所的にエネルギーを与えることで、上記光反射層の層位置に対し、局所的に光を反射しないか光反射率が低くなった領域を形成すると良い。
このような構成によれば、表面側の光を透過する金属イオン含有層一部の領域に微粒子を含有させることで、下層に形成した表示パターンを偽造し難くすることが可能となる。
また必要に応じて、含有させる微粒子の３次元の特定のパターンで配置する事によって、金属イオン含有層にも情報表示パターンを形成することも可能となる。

また、追加材料等を必要とせずに、金属イオン含有層にあるいは光反射層に対してオンデマンドに加工することができるため、それぞれにおいて認証情報や識別情報、装飾柄などを付与することが可能となる。加えて、微粒子を形成する加工と光反射層への加工を同時に行うことができるため、それぞれの位置を合わせた加工、あるいは位置を合わせない加工のいずれもが実施可能となる。
そして、本開示の情報表示媒体は、反射観察において、部分的に異なる領域において複数の情報を表示することができるため、偽造防止向けの光学効果として利用することができる。したがって、有価証券、証明書、ブランド品、高価格品、電子機器、および、個人認証媒体などの物品に含まれる価値や情報を保護するための偽造防止媒体として利用できる。
更に、偽造防止以外の目的で使用することができ、例えば、玩具や学習教材、商品の装飾品、ポスター等としても利用することができる。

「第５の実施形態」
以下、第５の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
［情報表示媒体］
図４９は、第５の本実施形態の１に係る情報表示媒体の部分断面図であり、情報表示媒体１００は、偽造防止手段を施した情報表示媒体である。

情報表示媒体１００は、光透過性を有する有機材料からなる基材１０の内部に情報表示領域５６０（図６０参照）を有する。
ここで、基材１０は、例えば、光透過性を有する有機樹脂から形成されている。光透過性を有する有機材料樹脂としては、アクリルやポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、パリレンが例示できる。また、基材１０は、単層構造でもよく、多層構造を有していてもよい。更には、基材１０は、液晶材料など光学異方性を有する材料から構成されていてもよい。加えて、基材１０は、樹脂への染料の添加などにより、着色されていてもよい。

また、基材１０は局所的エネルギー印加により、応答性のある材料が添加されていてもよい。例えば、熱応答性のあるサーモクロミック材料や、光応答性のあるフォトクロミック材料、蛍光材料、りん光材料、圧力応答性のある材料、溶剤応答性のあるソルバトクロミック材料、エネルギー印加により分子が炭化する材料などである。加えて、基材１０には金属イオンが含有されていてもよい。

有機材料樹脂高分子材料を基材１０とする際には、例えばウェットコーティング技術により形成できる。また、ドライコーティング技術により形成されてもよい。
基材１０は、単体として基材１０を形成していても良く、キャリアフィルムなどへコーティングすることで基材１０を形成しても良い。
なお、基材１０が光透過性を有しており、基材１０そのものによって情報が提示されていてもよい。例えば、レリーフホログラム構造や、光散乱構造、光干渉構造などが設けられていることで、それら構造による光学効果により、目視観察において、情報を認識することができる。

基材１０の厚さは、５μｍ以上２００μｍ以下が好ましい。より好ましくは２０μｍ以上１５０μｍ以下である。これらの厚さとすることで、基材１０の内部へ加工するために十分な強度となる。
また、基材１０は同一領域内において均一な膜厚であってもよく、膜厚が連続的または不連続的に変化していてもよい。

図４９における情報表示媒体１００の基材１０の内部には、２つの連続改質部５２１ａ、５２１ｂが設けられている。
ここで、各連続改質部５２１ａ、５２１ｂは、他の領域と性質が異なる改質部５２０を基材１０の内部において隣接する改質部５２０の一部または全部が重なるように連続的に形成してなる、非改質領域５１１との界面５３０を連続的な曲面形状としたものである。

そして、界面５３０は、光学界面として作用し、その曲面形状により情報表示領域５６０に情報が表示されるようになっている。
ここで、改質部５２０は、基材１０の内部にて局所的にエネルギーを付加することにより、基材１０の内部のエネルギー印加部にて形成される。改質部５２０は、例えば、基材１０に対し屈折率変化、あるいは、除去、炭化、膨潤、白化、固化、軟化させることにより形成される。

改質部５２０を形成する手法としては、例えば、パルスレーザーによる手法が挙げられる。また、サーマルヘッドによる手法や電子ビームによる手法、イオンビームによる手法などでもよい。
ここで、一方の連続改質部５２１ａにより形成される界面５３０の曲面形状は、周期関数で表される曲面形状であり、繰り返しパターンにより形成されている。
このように、界面５３０の曲面形状を、周期関数で表される曲面形状とすることにより、回折格子構造を形成し、この回折格子構造により回折された回折光によって情報が情報表示領域５６０に形成される。

なお、界面５３０の曲面形状は、２つ以上の周期関数による重畳関数で表される曲面形状
であってもよい。また、界面５３０の曲面形状は、曲面を形成するものであれば、周期関数で表される曲面形状や重畳関数で表される曲面形状でなくてもよい。
また、他方の連続改質部５２１ｂにより形成される界面５３０の曲面形状は、周期関数で表される曲面形状において基材１０の膜厚方向に対して高さの異なる段差が形成された曲面形状である。これにより、回折格子構造を形成し、この回折格子構造により回折された回折光によって情報が情報表示領域５６０に表示される。

次に、第５の実施形態の２に係る情報表示媒体について、図５０を参照して説明する。
図５０に示す情報表示媒体１００は、図４９に示す情報表示媒体１００と基本構成は同様であるが、連続改質部５２１が１つで構成され、その連続改質部５２１の非改質領域５１１との界面５３０の曲面形状が、図４９に示す情報表示媒体１００における連続改質部５２１ａ、５２１ｂの非改質領域５１１との界面５３０の曲面形状と異なっている。

即ち、図５０に示す情報表示媒体１００において、連続改質部５２１の非改質領域５１１との界面５３０の曲面形状は、周期関数で表される曲面形状は、基材１０の内部においてフレネルレンズ形状となっている。即ち、当該曲面形状は、基材１０の内部においてフレネル化された特定の自由曲面構造を形成する。これにより、フレネル化された特定の自由曲面構造により反射された反射光によって情報が情報表示領域５６０に表示される。そして、反射観察時には、光学的な疑似立体効果を付与することが可能となる。

次に、第５の実施形態の３に係る情報表示媒体について、図５１を参照して説明する。
図５１に示す情報表示媒体１００は、図４９に示す情報表示媒体１００と基本構成は同様であるが、基材１０の内部に設けられるのが連続改質部５２１ａ、５２１ｂではなく、非連続改質部５２２である点で相違している。
ここで、非連続改質部５２２は、改質部５２０を基材１０の内部において隣接する改質部５２０が重ならないように非連続的に形成してなる、非改質領域５１１との疑似界面５３１を連続的な曲面形状としたものである。

そして、疑似界面５３１は、光学界面として作用し、その曲面形状により情報表示領域５６０に情報が表示されるようになっている。
そして、疑似界面５３１の曲面形状は、周期関数で表される曲面形状であり、繰り返しパターンにより形成されている。このように、疑似界面５３１の曲面形状を、周期関数で表される曲面形状とすることにより、回折格子構造を形成し、この回折格子構造により回折された回折光によって情報が情報表示領域５６０に表示される。

次に、第５の実施形態の４に係る情報表示媒体について、図５２を参照して説明する。
図５２に示す情報表示媒体１００は、図５１に示す情報表示媒体１００と基本構成は同様であるが、疑似界面５３１の曲面形状が複数の周期関数による重畳関数で表される曲面形状となっている点で相違している。
これにより、疑似界面５３１の曲面形状を、複数の周期関数による重畳関数で表される曲面形状とすることにより、回折格子構造を形成し、この回折格子構造により回折された回折光によって情報が情報表示領域５６０に表示される。疑似界面５３１の曲面形状を、複数の周期関数による重畳関数で表される曲面形状とすることで、この光学効果を生じ易くなる。

次に、第５の実施形態の５に係る情報表示媒体について、図５３を参照して説明する。
図５３に示す情報表示媒体１００は、図５１に示す情報表示媒体１００と基本構成は同様であるが、疑似界面５３１の曲面形状がレンズ形状となっている点で相違している。
これにより、レンズ形状により反射された反射光によって情報が情報表示領域５６０に表示される。そして、反射観察時には、光学的な疑似立体効果を付与することが可能となる。

次に、第５の実施形態の６に係る情報表示媒体について、図５４を参照して説明する。
図５４に示す情報表示媒体１００は、図５１に示す情報表示媒体１００と基本構成は同様であるが、疑似界面５３１の曲面形状がフレネルレンズ形状となっている点で相違している。
これにより、フレネルレンズ形状により反射された反射光によって情報が情報表示領域５６０に表示される。そして、反射観察時には、光学的な疑似立体効果を付与することが可能となる。

なお、図５４における疑似界面５３１はフレネルレンズ形状を示しているが、自由曲面形状を断続的にスライスした界面形状となっていてもよい。その際、反射観察時において、自由曲面形状に対応した光学的な疑似立体効果を付与することが可能となる。
第５の実施形態の１～２のように、改質部５２０が重なり合うように形成された連続改質部５２１ａ、５２１ｂ、５２１が形成された場合、又は第５の実施形態の３～６のように改質部５２０が重なり合わないように形成された非連続改質部５２２が形成された場合、いずれにおいても、改質部５２０が形成される基材１０の膜厚方向の位置は、ランダムとなっていても良い。こうすることで、基材１０に入射した光が散乱し、その散乱光の濃淡や指向性により情報を表示することが可能となる。即ち、界面５３０あるいは疑似界面５３１の曲面形状により、光散乱構造を形成し、この光散乱構造により散乱された散乱光によって情報が情報表示領域５６０に表示されることが可能となる。
また、改質部５２０または連続改質部５２１ａ、５２１ｂ、５２１、あるいは非連続改質部５２２を形成する密度を変えることにより、基材１０へ入射した光による散乱光の濃淡を変調することが可能となり、その濃淡により情報を表示することが可能となる。

次に、本開示の第７実施形態に係る情報表示媒体について、図５５を参照して説明する。
図５５に示す情報表示媒体１００は、基材１０の内部において、第１及び第２実施形態における連続改質部５２１が、ｙ軸方向に沿って予め設定した形成ピッチＰにて連続的に複数形成されることで改質領域５２３を形成したものである。

この際、情報表示媒体１００に対して、入射角度θinの角度にて光が入射された場合、界面５３０により形成された回折格子構造により生じる回折光は以下の（１）式に当てはまる。
Ｐ（sinθ_in－sinθ_diff）＝ｍλ …（１）
ここで、Ｐは回折格子形成ピッチ、θinは入射角度、θdiffは回折角度、ｍは整数からなる次数、λは入射光、あるいは回折光の波長である。
（１）式により回折格子形成ピッチＰにより回折光の特性が左右されることがわかる。

実際には、改質領域５２３において、連続改質部５２１の形成ピッチＰを部分的に変えながら形成することで、情報表示媒体１００を観察する際に、その形成ピッチＰの違いから各部分において異なる波長の回折光、又は異なる回折角度の回折光が観察でき、それによって情報を表示することが可能となる。
更に、周期的な形成ピッチではなくとも、図４９に示した連続改質部５２１ｂからなる界面５３０や、図５２に示した改質部５２０により形成される非連続改質部５２２の疑似界面５３１により、入射光の位相差を制御する位相ホログラム構造を形成することが可能となる。こうすることで、従来からキノフォームと呼ばれるような回折像の明るい計算ホログラム構造を、形成することが可能となり、スポット状の改質部５２０により立体的な光学表現を得ることが可能となる。

また、改質部５２０を基材１０に対して膜厚方向においても制御して形成できるため、従来の体積型ホログラム構造を形成する干渉縞を改質部５２０により形成することが可能となる。こうすることで、改質部５２０により立体的な光学表現を得ることが可能となる。
加えて、改質部５２０または連続改質部５２１の外形を多段形状とし、疑似的にノコギリ波のような断面とすることにより、ブレーズド回折格子構造を形成し、従来よりも明るい回折光を得ることが可能となる。

次に、第５実施形態の８に係る情報表示媒体について、図５６を参照して説明する。
図５６に示す情報表示媒体１００は、基材１０の内部において、第１及び第２実施形態における連続改質部５２１を予め設定した形成ピッチＰで複数形成して改質領域５２３を形成し、各連続改質部５２１の界面５３０によって疑似界面５３２を形成したものである。こうすることで、先に説明したのと同様に、疑似界面５３２による回折格子構造が形成でき、それによる回折光によって情報を表示することが可能となる。

図５６に示す情報表示媒体１００において、連続改質部５２１は基材１０内部において曲線を描くように形成されているが、直線であっても良く、直線と曲線が組み合わされてもよい。また、基材１０の膜厚方向を変えながら形成しても良い。こうすることで、より複雑な回折格子構造を形成することが可能となる。
図５６に示す情報表示媒体１００のように、連続改質部５２１を、曲線を描くように形成することで、疑似界面５３２により形成される回折光において、人が目視観察時に、視差を付与することが可能となる。そうすることで、回折光により得られる情報を立体的な光学表現とすることが可能となる。

図５７には、第５の実施形態の９に係る情報表示媒体が示されている。
図５７に示す情報表示媒体１００は、基材１０の内部において、第５の実施形態の３～６における非連続改質部５２２を予め設定した形成ピッチＰで複数形成して改質領域５２３を形成し、各非連続改質部５２２の疑似界面５３１によって疑似界面５３２を形成したものである。こうすることで、疑似界面５３２による回折格子構造が形成でき、それによる回折光によって情報を表示することが可能となる。

［情報表示媒体の製造方法］
以下、情報表示媒体１００の製造方法について説明する。
情報表示媒体１００は、下記の工程を行うことで製造される。
・ 基材１０を形成した後に、基材１０の内部へ局所的にエネルギーを与えることで、部分的に改質部５２０を形成する工程、
・ 予め設計されたパターンにそって改質部５２０の形成を連続的に繰り返す工程。

つまり、第１及び第２実施形態に係る情報表示媒体１００は、基材１０の内部に局所的にエネルギーを印加することにより、基材１０の内部のエネルギー印加部にて他の領域と性質が異なる改質部５２０を形成する工程と、改質部５２０を基材１０の内部において隣接する改質部５２０の一部または全部が重なるように連続的に形成して、非改質領域５１１との界面５３０を連続的な曲面形状とした連続改質部５２１を形成する工程とを含んで製造される。

また、第５の実施形態の３～６に係る情報表示媒体１００は、基材１０の内部に局所的にエネルギーを印加することにより、基材１０の内部のエネルギー印加部にて他の領域と性質が異なる改質部５２０を形成する工程と、改質部５２０を基材１０の内部において隣接する改質部５２０が重ならないように非連続的に形成して、非改質領域５１１との疑似界面５３１を連続的な曲面形状とした非連続改質部５２２を形成する工程とを含んで製造される。

更に、第５の実施形態の７に係る情報表示媒体１００は、前述のように、基材１０の内部に連続改質部５２１を形成するとともに、連続改質部５２１を、予め設定した設定方向に沿って、予め設定した形成ピッチＰにて連続的に複数形成して改質領域５２３を形成することで製造される。
また、第５の実施形態の８に係る情報表示媒体１００は、前述のように、基材１０の内部に連続改質部５２１を形成するとともに、連続改質部５２１を、予め設定した設定方向に沿って、予め設定した形成ピッチＰにて連続的に複数形成して、各連続改質部５２１の界面５３０によって疑似界面５３２を形成した改質領域５２３を形成することで製造される。

また、第５の実施形態の９に係る情報表示媒体１００は、前述のように、基材１０の内部に非連続改質部５２２を形成するとともに、非連続改質部５２２を予め設定した形成ピッチＰで複数形成して、各非連続改質部５２２の疑似界面５３１によって疑似界面５３２を形成した改質領域５２３を形成することで製造される。
第５の実施形態の１～９に係る情報表示媒体１００の製造方法において、改質部５２０は、基材１０の内部において２つ以上同時に形成される。これにより、連続改質部５２１、非連続改質部５２２、改質領域５２３を形成するためのプロセス時間を短縮することが可能になる。

ここで、基材１０へ局所的にエネルギーを与える方法として、パルスレーザー源やサーマルヘッド、電子ビーム、イオンビームを用いる手法がある。なお、図５８にパルスレーザー源５２を用いた場合の図を示す。
パルスレーザー源５２より射出されたレーザー光５０は、レンズ５１を通って、反射鏡５３に反射し、情報表示媒体１００又は情報表示媒体１００の製造ライン上にて、情報表示媒体１００の特定位置に焦点が合うように入射される。すると、焦点にてレーザー光５０によるエネルギーが局在化することで、スポット状の改質部５２０が形成される。

なお、図５８ではレーザー光５０がレンズ５１を通った後に反射鏡５３を通っているが、その順番が逆となっていても良い。
レーザー光５０による加工の際、情報表示媒体１００がロールトゥロールで製造されている場合、レーザー光５０の焦点位置（ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向の位置）を制御することで、改質部５２０の形成位置を選択、制御することが可能となる。

また、情報表示媒体１００が枚葉で製造されている場合、情報表示媒体１００が設置されたステージを移動させる、又は、レーザー光５０の焦点位置（ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向の位置）を制御することで、改質部５２０の形成位置を選択、制御することが可能となる。
あるいは、反射鏡５３がマイクロミラーアレイ構造であり、そのマイクロミラーアレイ構造をコンピュータ制御させることで、レーザー光の位相を制御し、レーザー光の焦点位置を制御することも可能である。

更には、反射鏡５３を反射型の空間光変調器とし、空間光変調器の各セルの位相をコンピュータ制御させることで、レーザー光の位相を制御し、レーザー光の焦点位置を制御することも可能である。なお、空間光変調器は透過型であっても良い。
なお、パルスレーザー源５２としては、パルス幅が１００フェムト秒以上１ピコ秒以下であることが望ましい。そうすることで、レーザー光５０がレンズ５１を通り、焦点位置にて瞬間的に高エネルギー状態となり、効果的に改質部５２０を形成することが可能となる。また、高エネルギー状態となる時間が非常に短いため、照射位置以外に影響を与えることはない。

また、パルスレーザー源５２として、光ファイバーを利用したファイバーレーザー、あるいはチタンサファイア結晶を用いた固体レーザーのどちらかを用いることが望ましい。更に、パルスレーザー源５２の波長域は近赤外から赤外領域であることが望ましい。
上述のパルスレーザー源５２を用いることで、レーザー光の焦点にて瞬間的に高エネルギーな状態を形成することが可能となり、基材１０へより高精細な加工が可能となる。

図５９は、パルスレーザー源５２が基材１０に対し、局所的にエネルギーを印加してエネルギー印加部５００を形成する場合の模式図を示している。局所的とは、図５９に示すように、レンズ５１を通ったエネルギーがスポット的に与えられていることを意味する。こうすることで、より高精細な改質部５２０を形成することが可能となる。
更に、パルスレーザー源５２を用いた場合には、改質部５２０を高速に形成、パターニングすることが可能となるため、高速加工が可能となる。
上述のように、パルスレーザー源５２を用いた場合には、高精細加工、高速加工が可能となるため、情報表示媒体１００、２００に対し、オンデマンド加工が可能となる。

従来のホログラムを形成する手法として、ホログラムを形成する微細凹凸構造が形成された版を用いて、その版を樹脂材料に押しつけ、微細凹凸構造を樹脂材料にエンボスする方法が良く知られている。このエンボス加工によりホログラムを製造するために、下記の２つのプロセスを有する。
・ 版製造プロセス
・ エンボスプロセス

一方、本プロセスは樹脂材料フィルムに対して直接的に加工を施し、ホログラムのような回折格子を形成するため、版製造プロセスに加えエンボスプロセスが必須とはなくなる。その結果、製造コストの低下へと繋がる。
図６０は、第５の実施形態の１～９に係る情報表示媒体１００を示すもので、情報表示媒体１００は、基材１０の内部に、連続改質部５２１、非連続改質部５２２、あるいは改質領域５２３を形成し、それらによる界面５３０又は疑似界面５３１、５３２により、情報表示領域５６０を形成した場合を示している。界面５３０または疑似界面５３１、５３２により、光学的に回折光を生じさせることで、情報表示領域５６０において情報を表示する。図６０においては、表示される情報は数字情報の「１２３４５」の場合を示している。

ここで、表示される情報は数字だけでなく、他の特定のパターンであっても良い。他の特定のパターンとは、文字情報、絵柄、記号、幾何学模様などである。
図６１は、本開示の第１０実施形態に係る情報表示媒体１００を示すもので、この情報表示媒体１００は、基材１０の内部に、連続改質部５２１、非連続改質部５２２、あるいは改質領域５２３を形成し、それらによる界面５３０又は疑似界面５３１、５３２により得られる情報表示領域５６０を設けるとともに、基材１０の表面に、インキなどの印刷により形成される印刷部５７０、更に、基材１０に新たに貼付した基材１０Ａの内部に、連続改質部５２１、非連続改質部５２２、あるいは改質領域５２３を形成し、それらによる界面５３０または疑似界面５３１、５３２により得られる情報表示領域５６１を設けている。

実際には、予め基材１０Ａの内部に情報表示領域５６１を加工したものを、基材１０に貼付することで情報表示媒体１００を得ることもできるし、上述のように基材１０Ａを貼付後に基材１０Ａの内部に情報表示領域５６１を加工してもよい。
図６１に示すように、情報表示領域５６０以外の情報により情報表示媒体１００を形成していても良い。また、単一の基材１０において情報表示領域５６０を形成するだけでなく、追加にて形成した基材１０Ａに対し、情報表示領域５６１を形成することで、新たに目視確認可能となる情報を記録してもよい。
また、情報表示領域５６０および印刷部５７０を重ね合わせてもよい。
こうすることで、情報表示媒体１００に対し、印刷部５７０と、基材１０に形成した情報表示領域５６０と、基材１０Ａに形成した情報表示領域５６１と、複数の情報を形成することが可能となる。

（効果その他）
第５の実施形態に係る情報表示媒体は、光透過性を有する有機材料からなる基材の内部に情報表示領域を有する情報表示媒体であって、上記基材の内部に、他の領域と性質が異なる改質部を上記基材の内部において隣接する改質部の一部または全部が重なるように連続的に形成してなる、非改質領域との界面を連続的な曲面形状とした連続的改質部を設け、上記曲面形状により上記情報表示領域に情報が表示されることを要旨とする。
こうすることで、連続的な曲面形状によって非改質領域と連続改質部との界面が形成され、その界面形状により光学応答を変調し、情報を基材の内部の情報表示領域に記録することが可能となる。なお、界面形状が基材の内部に形成されるため、偽造、模造、改ざん行為などによって表示情報を剥がした場合には、容易に表示情報が破壊され、偽造、模造、改ざんが困難となり、より高い偽造防止効果を発揮することができる。

また、第５の実施形態の別の態様に係る情報表示媒体は、光透過性を有する有機材料からなる基材の内部に情報表示領域を有する情報表示媒体であって、上記基材の内部に、他の領域と性質が異なる改質部を上記基材の内部において隣接する改質部が重ならないように非連続的に形成してなる、非改質領域との疑似界面を連続的な曲面形状とした非連続改質部を設け、上記曲面形状により上記情報表示領域に情報が表示されることを要旨とする。
こうすることで、連続的な曲面形状によって非改質領域と非連続改質部との疑似界面が形成され、その疑似界面の形状により光学応答を変調し、情報を基材の内部の情報表示領域に記録することが可能となる。なお、疑似界面の形状が基材の内部に形成されるため、偽造、模造、改ざん行為などによって表示情報を剥がした場合には、容易に表示情報が破壊され、偽造、模造、改ざんが困難となり、より高い偽造防止効果を発揮することができる。

また、前述の情報表示媒体において、上記連続改質部が、上記基材の内部において少なくとも２つ以上設けられていることが好ましい。
また、前述に情報表示媒体において、上記非連続改質部が、上記基材の内部において少なくとも２つ以上設けられていることが好ましい。
こうすることで、連続改質部または非連続改質部による光学応答による表示情報を、基材の内部において複数設けることが可能となる。

また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状が、繰り返しパターンにより形成されていることが好ましい。
こうすることで、以下の光学効果および情報を提示することが可能となる。
また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状により、上記基材の内部においてフレネル化された特定の自由曲面構造を形成し、上記フレネル化された特定の自由曲面構造により反射された反射光によって上記情報が上記情報表示領域に表示されてもよい。
また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状が、周期関数で表される曲面形状であることが好ましい。また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状が、少なくとも２つ以上の周期関数による重畳関数で表される曲面形状であってもよい。
こうすることで、以下の光学効果および情報を提示することが可能となる。
また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状により、回折格子構造を形成し、上記回折格子構造により回折された回折光によって上記情報が上記情報表示領域に表示されてもよい。

また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状により、上記基材の内部において体積型ホログラム構造を形成し、上記体積型ホログラム構造により回折された回折光によって上記情報が上記情報表示領域に表示されてもよい。
また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状により、キノフォーム構造を形成し、上記キノフォーム構造により回折された回折光によって上記情報が上記情報表示領域に表示されてもよい。
また、前述の情報表示媒体において、上記曲面形状により、光散乱構造を形成し、上記光散乱構造により散乱された散乱光によって上記情報が上記情報表示領域に表示されてもよい。

また、第５の実施形態の別の態様に係る情報表示媒体の製造方法は、光透過性を有する有機材料からなる基材の内部に情報表示領域を有する情報表示媒体の製造方法であって、上記基材の内部に局所的にエネルギーを印加することにより、上記基材の内部のエネルギー印加部にて他の領域と性質が異なる改質部を形成する工程と、上記改質部を上記基材の内部において隣接する改質部の一部または全部が重なるように連続的に形成して、非改質領域との界面を連続的な曲面形状とした連続改質部を形成する工程とを含むことを要旨とする。
これにより、連続的な曲面形状によって非改質領域と連続改質部との界面が形成され、その界面形状により光学応答を変調し、情報を基材の内部の情報表示領域に記録することが可能となる。なお、界面形状が基材の内部に形成されるため、偽造、模造、改ざん行為などによって表示情報を剥がした場合には、容易に表示情報が破壊され、偽造、模造、改ざんが困難となり、より高い偽造防止効果を発揮することができる。

また、この情報表示媒体の製造方法において、上記連続改質部が、上記基材の内部において１つ形成されることが好ましい。
こうすることで改質領域（連続改質部）を緻密に配置し、上記曲面形状を形成することが可能となる。
また、この情報表示媒体の製造方法において、上記連続改質部が、上記基材の内部において２つ以上形成されてもよい。
こうすることで、改質領域（連続改質部）を緻密に配置できると共に、改質領域を形成する領域面積を広くすること可能となる。

また、第５の実施形態の別の態様に係る情報表示媒体の製造方法は、光透過性を有する有機材料からなる基材の内部に情報表示領域を有する情報表示媒体の製造方法であって、上記基材の内部に局所的にエネルギーを印加することにより、上記基材の内部のエネルギー印加部にて他の領域と性質が異なる改質部を形成する工程と、上記改質部を上記基材の内部において隣接する改質部が重ならないように非連続的に形成して、非改質領域との疑似界面を連続的な曲面形状とした非連続改質部を形成する工程とを含むことを要旨とする。
これにより、連続的な曲面形状によって非改質領域と非連続改質部との疑似界面が形成され、その疑似界面の形状により光学応答を変調し、情報を基材の内部の情報表示領域に記録することが可能となる。なお、疑似界面の形状が基材の内部に形成されるため、偽造、模造、改ざん行為などによって表示情報を剥がした場合には、容易に表示情報が破壊され、偽造、模造、改ざんが困難となり、より高い偽造防止効果を発揮することができる。

また、この情報表示媒体の製造方法において、上記非連続改質部が、上記基材の内部において１つ形成されることが好ましい。
こうすることで改質領域（非連続改質部）を緻密に配置し、上記曲面形状を形成することが可能となる。
また、この情報表示媒体の製造方法において、上記連続改質部が、上記基材の内部において少なくとも２つ以上形成されてもよい。
こうすることで、改質領域（非連続改質部）を緻密に配置できると共に、改質領域を形成する領域面積を広くすることが可能となる。
また、これらの情報表示媒体の製造方法において、上記改質部が、上記基材の内部において少なくとも２つ以上同時に形成されることが好ましい。
こうすることで、改質領域（連続改質部又は非連続改質部）を形成するためのプロセス時間を短縮することが可能となる。

以上のように、本実施形態に係る情報表示媒体およびその製造方法によれば、基材の内部に偽造防止効果を高めることのできる情報表示領域を形成することで、より高い偽造防止効果を発揮することができる情報表示媒体を提供できる。
そして、本開示に係る情報表示媒体１００は、反射観察において、部分的に異なる領域において複数の情報を表示することができるため、偽造防止向けの光学効果として利用することができ、有価証券、証明書、ブランド品、高価格品、電子機器、および、個人認証媒体などの物品に含まれる価値や情報を保護するための偽造防止媒体として利用できる。
更に、本開示に係る情報表示媒体１００は、偽造防止以外の目的で使用することができ、例えば、玩具や学習教材、商品の装飾品、ポスター等としても利用することができる。

以下に、本開示の具体的実施例について説明するが、本開示はこの形態に限定されるものではない。
「第１の実施例」
プラスチック基材上に、光反射層２０としてアルミニウムを膜厚５０ｎｍ程度となるように蒸着した。
次に、フェムト秒レーザーを用いて、光反射層２０であるアルミニウムを部分的に除去した。
上記のようにして得られた情報表示媒体において、反射観察時にはアルミニウムによる金属光沢が確認できたが、透過観察時には、部分的に除去されたアルミニウムによって、透過率が異なり、アルミニウムによる透かし柄を目視確認できた。

「第２の実施例」
（第２の実施例－１）
ＰＥＴフィルムキャリア基材上に、構造形成層としてＵＶ硬化性樹脂を２μｍ厚さとなるように形成した後に、予め構造ピッチ３００ｎｍ、構造深さ３５０ｎｍを有する２次元グレーティング構造の領域（第１の領域）と、構造ピッチ８００ｎｍ、構造深さ２００ｎｍを有するランダムドット構造の領域（第１の領域）と、平坦な構造の領域（第２の領域）を含む金属版を用いて、構造形成層にそれら構造を形成した。

以上のように構造を形成した後、光反射層２０としてアルミニウムを膜厚５０ｎｍとなるように蒸着した。その後、フェムト秒レーザーをＰＥＴフィルムキャリア基材側から、構造形成層の厚さ１μｍ位置が焦点位置となるように狙って照射し、スキャンすることで、構造ピッチ３００ｎｍ、構造深さ３５０ｎｍを有する２次元グレーティング構造の領域におけるアルミニウムが除去された。なお、アルミニウムが除去された領域の線幅は２μｍから５μｍであった。
また、情報表示媒体の別の位置において、フェムト秒レーザーの強度を上げ、ＰＥＴフィルムキャリア基材側から、構造形成層の厚さ１μｍ位置が焦点位置となるように狙って照射し、スキャンすることで、平坦な構造の領域以外の照射領域におけるアルミニウムが除去された。なお、アルミニウムが除去された領域の線幅は２μｍから５μｍであった。

更に、情報表示媒体の別の位置において、フェムト秒レーザーをＰＥＴフィルムキャリア基材側から、構造形成層の厚さ１．５μｍ位置が焦点位置となるように狙って照射し、スキャンすることで、照射領域におけるアルミニウムが除去された。なお、アルミニウムが除去された領域の線幅は２μｍから５μｍであった。
上記のようにして得られた情報表示媒体において、反射観察時にはアルミニウムが除去された領域は線幅が細すぎるため、第１の領域により形成された絵柄、文字、数字などによる第１情報に紛れて目視観察にて形成されていることを確認することが難しく、一方で透過観察時には、アルミニウムが除去された領域の透過率が向上しているため、アルミニウムを除去した領域により透かし柄のような識別情報を目視確認できた。

（第２の実施例－２）
ＰＥＴフィルムキャリア基材上に、構造形成層としてＵＶ硬化性樹脂を２μｍ厚さとなるように形成した後に、予め構造ピッチ３００ｎｍ、構造深さ３５０ｎｍを有する２次元グレーティング構造の領域と、構造ピッチ８００ｎｍ、構造深さ２００ｎｍを有するランダムドット構造の領域と、平坦な構造の領域を含む金属版を用いて、構造形成層にそれら構造を形成した。
構造を形成した後、光反射層２０としてアルミニウムを膜厚５０ｎｍとなるように蒸着した。その後、フェムト秒レーザーをＰＥＴフィルムキャリア基材側から、構造形成層の厚さ１μｍ位置が焦点位置となるように狙って照射し、広幅でスキャンすることで、平坦な構造の領域以外の照射領域におけるアルミニウムが除去された。なお、アルミニウムが除去された領域の線幅は３ｍｍ以上であった。

更に、情報表示媒体の別の位置において、フェムト秒レーザーをＰＥＴフィルムキャリア基材側から、構造形成層の厚さ１．５μｍ位置が焦点位置となるように狙って照射し、スキャンすることで、照射領域におけるアルミニウムが除去された。なお、アルミニウムが除去された領域の線幅は２ｍｍ以上であった。
上記のようにして得られた情報表示媒体において、反射観察時にはアルミニウムが除去された領域は凹凸構造による光学効果を目視にて確認することができなかった。一方で、アルミニウムが残っている領域では光学効果を目視確認することができた。また、広幅でスキャンしたことで、アルミニウムを除去した領域により形成された情報を目視にて確認できた。

「第３の実施例」
（第３の実施例－１）
紙基材上に、光学可変インキを印刷した。
次に、パルスレーザーを用いて、紙機材および光学可変インキを部分的に除去した。
上記のようにして得られた情報表示媒体において、反射観察時には紙機材への加工が目視にて観察できず、光学可変インキへの加工が目視にて確認できたが、透過観察時には、部分的に除去され、厚さの異なる紙機材において、光透過率が異なり、透かし柄を目視確認できた。

（第３の実施例－２）
プラスチック基材に対し、パルスレーザーを用いて、プラスチック基材中へプラスチックが溶解、昇華して空隙となる空隙部と、炭化する炭化部とを部分的に形成した。
上記のようにして得られた情報表示媒体において、反射観察時には空隙部においては、光が散乱し、炭化部においては光が吸収されるが、炭化部による光の吸収量の方が多く、炭化の濃淡により情報を観察可能となった。また、透過観察時には、単価の濃淡及び、空隙による光の散乱度合いの違いにより、反射観察時とは異なる情報を目視にて確認することができた。

「第４の実施例」
プラスチック基材上に、構造形成層としてアクリル系のＵＶ硬化樹脂をコーティングし、予め凹凸構造が形成されている金属版を用いて凹凸構造をＵＶ硬化樹脂へパターニングさせ、ＵＶ硬化させた。その上に、光反射層としてアルミニウムを膜厚５０ｎｍ程度となるように蒸着した。
次に、硝酸銀とポリビニルピロリドンを水に溶解させた溶液をアルミニウム上にコーティングし、乾燥させることで金属イオン含有層を形成した。その後、フェムト秒レーザーを用いて、金属イオン含有層内に平均粒径１００ｎｍ程度の銀微粒子を形成した。更に、同じフェムト秒レーザーを用いて、アルミニウムを部分的に除去した。
上記のようにして得られた情報表示媒体において、銀微粒子により金属イオン含有層が黄色に呈色したことを目視確認できた。また、その呈色した領域とアルミニウムが重なっている領域において、金色の金属光沢が得られた。更に、凹凸構造により回折した光も目視確認できた。

「第５の実施例」
（実施例１）
基材１０の内部に、パルスレーザーを用いて、改質領域５２３をピッチ１μｍとなるように形成した。
上記のようにして得られた情報表示媒体１００において、情報表示媒体１００を傾けることで回折光を目視にて確認することができた。また、透過観察時においても回折光を目視確認できた。

（実施例２）
基材１０の内部に、パルスレーザーを用いて、基材１０が炭化するように改質領域５２３を設けた。
炭化の濃淡による情報を目視確認できた。また、非常に弱い回折光を確認することができた。

（実施例３）
既に印刷インキにより情報が基材１０の下側界面に形成された基材１０の内部に、パルスレーザーを用いて、改質領域５２３をピッチ１μｍとなるように形成した。
上記のようにして得られた情報表示媒体１００において、情報表示媒体１００を傾けることで回折光を目視にて確認することができた。また、透過観察時においても回折光を目視確認できた。更に、基材１０の下側界面に形成された印刷インキによる情報も劣化することなく確認することができた。

以上、各実施形態により本開示を説明したが、本開示の範囲は、図示され記載された例示的な実施形態に限定されるものではなく、本開示が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含む。更に、本開示の範囲は、請求項により画される発明の特徴の組合せに限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴のうち特定の特徴のあらゆる組合せによって画されうる。
また、本願が優先権を主張する、日本国特許出願２０１６－１７２７９７号（２０１６年９月５日出願）、日本国特許出願２０１６－１７２７９８号（２０１６年９月５日出願）、日本国特許出願２０１６－１７２７９９号（２０１６年９月５日出願）、日本国特許出願２０１６－２０８８８６号（２０１６年１０月２５日出願）、および日本国特許出願２０１７－０９９６１９号（２０１７年５月１９日出願）の全内容は、参照により本開示の一部をなす。

１０ 基材（構造形成層）
２０ 光反射層
２１、７０ 第２情報表示領域
２１ａ、２１ｂ 第２情報表示領域
３０、６０ 第１の領域
３１、６１ 第２の領域
５０ レーザー光
５１ レンズ
５２ レーザー源
５３ 反射鏡、ハーフミラー
６２ サブ領域
６２ａ、６２ｂ、６２ｃ、６２ｄ サブ領域
１００、２００ 情報表示媒体
２６０ 検証機
２６１ 撮像装置
３３０、３３１、３３２、３３３ 改質領域
３３０、３７０印加領域
３４０、３４１情報表示領域
４１１Ｂ 光低反射部
４１２ 金属イオン含有層
４１３ 微粒子
５１１ 非改質領域
５２０ 改質部
５２１、５２１ａ、５２１ｂ 連続改質部
５２３ 改質領域
５３１、５３２疑似界面
５６０、５６１情報表示領域

Claims (8)

1. 有機基材と、上記有機基材に形成された描画部とを有し、
   上記描画部は、上記有機基材の表面を部分的に除去して形成された除去部と上記有機基材の表面を炭化して形成され上記除去部の位置よりも光透過率が低い炭化凹部との組合せで形成された第１の描画部と、上記有機基材の内部に形成された空隙部と上記有機基材の内部に形成され上記空隙部よりも光透過率が低い炭化部との組合せで形成されて上記第１の描画部よりも微細な第２の描画部と、を有し、
   上記有機基材は、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、またはパリレンを含み、
   上記有機基材は、金属イオンと、上記金属イオンで形成された金属微粒子とを含むことを特徴とする情報表示媒体。
2. 有機基材と、上記有機基材に形成された描画部とを有し、
   上記描画部は、上記有機基材の表面を部分的に除去して形成された除去部と上記有機基材の表面を炭化して形成され上記除去部の位置よりも光透過率が低い炭化凹部との組合せで形成され、
   上記有機基材は、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、またはパリレンを含み、
   上記有機基材は、金属イオンと、上記金属イオンで形成された金属微粒子とを含むことを特徴する情報表示媒体。
3. 有機基材と、上記有機基材に形成された描画部とを有し、
   上記描画部は、上記有機基材の内部に形成された空隙部と上記有機基材の内部に形成され上記空隙部よりも光透過率が低い炭化部との組合せで形成され、
   上記有機基材は、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、またはパリレンを含み、
   上記有機基材は、金属イオンと、上記金属イオンで形成された金属微粒子とを含むことを特徴とする情報表示媒体。
4. 上記有機基材は、金属以外の微粒子をさらに含むことを特徴とする請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の情報表示媒体。
5. 請求項１に記載の情報表示媒体の製造方法であって、
   上記除去部を上記有機基材の表面近傍に焦点を合わせたパルス数の少ないパルスレーザー照射で形成する工程と、
   上記炭化凹部を上記有機基材の表面近傍に焦点を合わせたパルス数の多いパルスレーザー照射で形成する工程と、
   上記空隙部を上記有機基材の内部に焦点を合わせたパルス数の少ないパルスレーザー照射で形成する工程と、
   上記炭化部を上記有機基材の内部に焦点を合わせたパルス数の多いパルスレーザー照射で形成する工程と、
   を含むことを特徴とする情報表示媒体の製造方法。
6. 有機基材と、上記有機基材に形成された描画部とを有し、
   上記描画部は、上記有機基材の表面を部分的に除去して形成された除去部と上記有機基材の表面を炭化して形成され上記除去部の位置よりも光透過率が低い炭化凹部との組合せで形成された第１の描画部と、上記有機基材の内部に形成された空隙部と上記有機基材の内部に形成され上記空隙部よりも光透過率が低い炭化部との組合せで形成されて上記第１の描画部よりも微細な第２の描画部と、を有する情報表示媒体の製造方法であって、
   上記除去部を上記有機基材の表面近傍に焦点を合わせたパルス数の少ないパルスレーザー照射で形成する工程と、
   上記炭化凹部を上記有機基材の表面近傍に焦点を合わせたパルス数の多いパルスレーザー照射で形成する工程と、
   上記空隙部を上記有機基材の内部に焦点を合わせたパルス数の少ないパルスレーザー照射で形成する工程と、
   上記炭化部を上記有機基材の内部に焦点を合わせたパルス数の多いパルスレーザー照射で形成する工程と、
   を含むことを特徴とする情報表示媒体の製造方法。
7. 請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の情報表示媒体をすき込み、又は貼り合わした有価証券。
8. 請求項１～請求項４のうちのいずれか１項に記載の情報表示媒体と、その情報表示媒体の裏面側に形成された接着層とを有することを特徴とするラベル。

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