以下、本発明の例示的な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
<1.椅子型マッサージ機の構成>
図1は一実施例に係るマッサージ機100の前方斜視図である。以下の説明において、マッサージ機100に着座した被施療者から見て前側(正面側)を「前側」といい、マッサージ機100に着座した被施療者から見て後側(背面側)を「後側」という。また、マッサージ機100に着座した被施療者から見て上側(頭側)を「上側」といい、マッサージ機100に着座した被施療者から見て下側(脚側)を「下側」という。また、マッサージ機100に着座した被施療者から見て右側を「右側」といい、マッサージ機100に着座した被施療者から見て左側を「左側」という。
マッサージ機100は、座部200、背凭れ部300、基台部400、腕施療部500、操作部600、コード線700、スタンド800、及び脚載部900を備える。
座部200は、被施療者の臀部及び上脚を支持する。
背凭れ部300は、被施療者の肩、腰、及び背中を支持する。背凭れ部300は、左右方向に沿って延びるリクライニング回転軸回りに回動可能に、座部200の後端に取り付けられている。背凭れ部300は、被施療者の肩及び腰に接する面300Aに沿って延びるガイドレール300B及び300Cを内蔵している。背面用マッサージユニット(不図示)は、ガイドレール300B及び300Cによって案内されて背凭れ部300内で昇降する。なお、ガイドレール300B及び300Cを座部200の後部にまで延長し、背面用マッサージユニットが座部200及び背凭れ部300内で昇降するようにしてもよい。背面用マッサージユニットは、背面用施療子と、背面用施療子に揉み動作を行わせる揉み駆動機構と、背面用施療子にたたき動作を行わせるたたき駆動機構と、を備える。
基台部400は、座部200の左右両側且つ座部200の下方に立設して設けられる。座部200の左側に設けられる基台部400の内部には制御部400Aが内蔵される。
腕施療部500は、座部200の左右両側且つ座部200の上方に立設して設けられる。腕施療部500は、膨縮可能な膨縮袋を内蔵しており、当該膨縮袋によって被施療者の腕を支持しながら施療する。
操作部600は、被施療者が施療パターンの選択や施療の強弱調節などを行うための入力装置である。操作部600はコード線700を介して制御部400Aに接続される。制御部400Aは、操作部600から出力される信号に基づいてマッサージ機100の各部を制御する。
スタンド800は、座部200の左側に設けられる腕施療部500に固定されている。操作部600はスタンド800に対して装脱着可能である。
脚載部900は、被施療者の下脚を支持する。脚載部900は、後述するいずれかの実施形態に係る足裏マッサージ機を備える。なお、本実施例とは異なり、脚載部900は、椅子型マッサージ機100の一部では無く、被施療者の太腿及び足裏をマッサージする単独の製品(いわゆるフットマッサージャー)であってもよい。また、本実施例とは異なり、後述するいずれかの実施形態に係る足裏マッサージ機は、脚載部900の一部では無く、単独の製品であってもよい。後述するいずれかの実施形態に係る足裏マッサージ機が単独の製品である場合も、脚載部900と同様に例えば合成皮革、天然皮革等の外装カバーが設けられ、当該外装カバーが被施療者の足裏に接する。
<2.第1実施形態に係る足裏マッサージ機>
図2A~図2Gは第1実施形態に係る足裏マッサージ機1A(以下、足裏マッサージ機1Aと称す)を示す図である。図2Aは足裏マッサージ機1Aの正面図である。図2Bは足裏マッサージ機1Aの背面図である。図2Cは足裏マッサージ機1Aの第1側面図である。第1側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て右側の側面である。図2Dは足裏マッサージ機1Aの第2側面図である。第2側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て左側の側面である。図2Eは足裏マッサージ機1Aの平面図である。図2Fは足裏マッサージ機1Aの底面図である。図2Gは足裏マッサージ機1Aの後方斜視図である。
足裏マッサージ機1Aは、底板部材2と、側板部材3及び4と、を備える。底板部材2並びに側板部材3及び4はそれぞれ平板形状である。側板部材3は底板部材2の左端から上方に向かって延びる。側板部材4は底板部材2の右端から上方に向かって延びる。
底板部材2は溝5~8を備える。溝5は底板部材2の左右方向中央且つ前側の領域に形成される。溝6は底板部材2の左右方向中央且つ後側の領域に形成される。溝5及び6はそれぞれ前後方向に略平行に延びる。溝7は底板部材2の左側の領域に形成され、溝8は底板部材2の右側の領域に形成される。溝7及び8はそれぞれ被施療者の左右方向の身体内側に凸に湾曲し前後方向に延びる。すなわち、溝7は右側に凸に湾曲し前後方向に延び、溝8は左側に凸に湾曲し前後方向に延びる。
側板部材3はレール9を備え、側板部材4はレール10を備える。レール9及び10はそれぞれ上方向に凸に湾曲し前後方向に延びる。
足裏マッサージ機1Aは、シャフト11及び12と、ローラ13~16と、左足用移動部17と、右足用移動部(不図示)と、モータ収納部18と、ピニオンギア19及び20と、第1ラック(不図示)と、第2ラック(不図示)と、をさらに備える。
シャフト11及び12はそれぞれ左右方向に延びる。シャフト11の左端にローラ13が設けられ、シャフト11の右端にローラ14が設けられる。ローラ13及び14はそれぞれシャフト11を回転軸として回転可能であってもよくシャフト11に固定されていてもよい。シャフト12の左端にローラ15が設けられ、シャフト12の右端にローラ16が設けられる。ローラ15及び16はそれぞれシャフト12を回転軸として回転可能であってもよくシャフト12に固定されていてもよい。ローラ13及び15がそれぞれレール9に沿って移動し、ローラ14及び16がそれぞれレール10に沿って移動することで、シャフト11及び12がそれぞれレール9及び10に沿って前後方向に移動する。
左足用移動部17は、足裏用施療子17A~17Cと、ガイド棒17Dと、を備える。足裏用施療子17A~17Cはそれぞれ上方に突出する。左足用移動部17は、左足用移動部17の前方に設けられる足裏用施療子17A及び17Bと、左足用移動部17の後方に設けられる施療子17Cと、を備える。なお、左足用移動部17の前方とは、左足用移動部17のうち、左足用移動部17の前端と後端との前後方向における中点よりも前方向の領域を意味し、左足用移動部17の後方とは、左足用移動部17のうち、左足用移動部17の前端と後端との前後方向における中点よりも後方向の領域を意味する。ガイド棒17Dは、左足用移動部17の下部であり、下方に突出する。ガイド棒17Dは、溝7に嵌まる。
なお、足裏用施療子の個数及び配置は本実施形態及び後述する他の実施形態に限定されない。例えば左足の足裏を施療する足裏用施療子及び右足の足裏を施療する足裏用施療子それぞれを1個のみにしてもよい。
左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)は互いに左右対称な形状である。シャフト11は回転可能な形態で左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)の各前部を貫通する。シャフト12は左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)の各後部を貫通する。なお、ローラ15及び16それぞれがシャフト12に固定されている場合、シャフト12は回転可能な形態で左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)の各後部を貫通すればよい。
左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)はシャフト11の前後方向の移動に伴って前後方向に移動する。そして、シャフト12は左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)の前後方向の移動に伴って前後方向に移動する。
モータ収納部18は、シャフト11に連動連結されるモータ(不図示)と、シャフト11とモータ(不図示)との間に設けられるギア機構(不図示)と、シャフト11を回転可能に支持する軸受部(不図示)と、を備える。シャフト12が回転可能である場合には、モータ収納部18は、シャフト12を回転可能に支持する軸受部(不図示)も備える。
ピニオンギア19及び20はそれぞれシャフト11に取り付けられる。ピニオンギア19はロータ13の右隣に配置され、ピニオンギア20はロータ14の左隣に配置される。ピニオンギア19は第1ラック(不図示)に噛合し、ピニオンギア20は第2ラック(不図示)に噛合する。第1ラック(不図示)は側板部材3の右隣に配置され、第2ラック(不図示)は側板部材4の左隣に配置される。第1ラック(不図示)及び第2ラック(不図示)はそれぞれ上方向に凸に湾曲し前後方向に延びる。したがって、シャフト11が回転することで、シャフト11は前後方向に移動する。すなわち、上述したモータ(不図示)、ギア機構(不図示)、ピニオンギア19及び20、第1ラック(不図示)、並びに第2ラック(不図示)は、シャフト11を前後方向に移動させる駆動機構である。シャフト11が前方に移動した場合、モータ収納部18の前方下部は溝5に嵌まる。シャフト11が後方に移動した場合、モータ収納部18の後方下部は溝6に嵌まる。すなわち、溝5及び6はモータ収納部18と底板部材2との衝突を防止する。
上述した構成の足裏マッサージ機1Aでは、左足用移動部17が溝7の形状並びにレール9及び10の各形状に応じた軌跡で移動し、右足用移動部(不図示)が溝8の形状並びにレール9及び10の各形状に応じた軌跡で移動する。
左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)が最も後方位置から前後方向の中央位置に移動するとき、足裏用施療子17A~17C及び右足用移動部(不図示)の各足裏用施療子が徐々に上方且つ身体内側に移動しながら被施療者のかかとから土踏まずを施療する。また、左足用移動部17及び右足用移動部(不図示)が最も前方位置から前後方向の中央位置に移動するときも、足裏用施療子17A~17C及び右足用移動部(不図示)の各足裏用施療子が徐々に上方且つ身体内側に移動しながら被施療者のつま先から土踏まずを施療する。これにより、足裏、特に土踏まずのマッサージ効果を高めることができる。
上述した構成の足裏マッサージ機1Aは、被施療者の足裏自体を強制的に移動させないので、足裏のマッサージには本来不要な力が被施療者の足にかかることを防止することができる。
上述した通り、足裏用施療子17A及び17Bが左足用移動部17の前方に設けられ、施療子17Cが左足用移動部17の後方に設けられ、レール9及び10がそれぞれ上方向に凸に湾曲し前後方向に延びている。そして、ローラ13~16の高さが略同一であるときに足裏用施療子17A、17B、及び17Cの高さが略同一になるように、足裏用施療子17A、17B、及び17Cの突出量を設定している(図2C及び図2D参照)。このため、左足用移動部17が最も後方位置から前後方向の中央位置に移動するときに、足裏用施療子17A及び17Bのみによる施療から足裏用施療子17A、17B、及び17Cによる施療に切り替えることが可能となる。また、左足用移動部17が最も前方位置から前後方向の中央位置に移動するときに、足裏用施療子17Cのみによる施療から足裏用施療子17A、17B、及び17Cによる施療に切り替えることが可能となる。
なお、本実施形態とは異なり、溝7の右側に凸に湾曲する湾曲の頂点P1は前後方向において溝7の前端P2より後端P3に近いことが好ましく、溝8の左側に凸に湾曲する湾曲の頂点P4は前後方向において溝8の前端P5より後端P6に近いことが好ましい。より好ましくは、前後方向における前端P2から頂点P1までの距離L1と、前後方向における頂点P1から後端P3までの距離L2との比が約64:約36であり、前後方向における前端P5から頂点P4までの距離L3と、前後方向における頂点P4から後端P6までの距離L4との比が約64:約36である。日本人成人における足先から土踏まずまでの距離と土踏まずからかかとまでの距離との平均的な比が約64:約36であるため、被施療者の土踏まずの位置で足裏用施療子が被施療者の最も身体内側に到達し易くなり、土踏まずのマッサージ効果が高まる。
また、本実施形態とは異なり、レール9の上方向に凸になる湾曲の頂点P7は前後方向において溝7の前端P2より後端P3に近いことが好ましく、レール10の上方向に凸になる湾曲の頂点P8は前後方向において溝8の前端P5より後端P6に近いことが好ましい。より好ましくは、前後方向における溝7の前端P2からレール9の頂点P7までの距離と、前後方向におけるレール9の頂点P7から溝7の後端P3までの距離との比が約64:約36であり、前後方向における溝8の前端P5からレール10の頂点P8までの距離と、前後方向におけるレール10の頂点P10から溝8の後端P6までの距離との比が約64:約36である。日本人成人における足先から土踏まずまでの距離と土踏まずからかかとまでの距離との平均的な比が約64:約36であるため、被施療者の土踏まずの位置で足裏用施療子が被施療者の上方に到達し易くなり、土踏まずのマッサージ効果が高まる。
<3.第2実施形態に係る足裏マッサージ機>
図3A~図3Gは第2実施形態に係る足裏マッサージ機1B(以下、足裏マッサージ機1Bと称す)を示す図である。図3Aは足裏マッサージ機1Bの正面図である。図3Bは足裏マッサージ機1Bの背面図である。図3Cは足裏マッサージ機1Bの第1側面図である。第1側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て右側の側面である。図3Dは足裏マッサージ機1Bの第2側面図である。第2側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て左側の側面である。図3Eは足裏マッサージ機1Bの平面図である。図3Fは足裏マッサージ機1Bの底面図である。図3Gは足裏マッサージ機1Bの前方斜視図である。
足裏マッサージ機1Bは、底板部材30と、側板部材31~34と、を備える。側板部材31は底板部材30の左端から上方に向かって延びる。側板部材34は底板部材30の右端から上方に向かって延びる。側板部材32は底板部材30の左端から右方向に所定距離離れた位置から上方に向かって延びる。側板部材33は底板部材30の右端から左方向に所定距離離れた位置から上方に向かって延びる。底板部材30の側板部材31と側板部材32とによって挟まれる領域は、後述する左足用移動部53~55に対向し後述する溝35が形成される対向面を含み、上方向に凸に湾曲し前後方向に延びる。底板部材30の側板部材33と側板部材34とによって挟まれている領域は、後述する右足用移動部56~58に対向し後述する溝36が形成される対向面を含み、上方向に凸に湾曲し前後方向に延びる。底板部材30の側板部材32と側板部材33とによって挟まれる領域は平板形状である。側板部材31~34はそれぞれ平板形状である。なお、本実施形態とは異なり、底板部材30の側板部材31と側板部材32とによって挟まれている領域を直方体形状とし、溝35の底面のみが上方向に凸に湾曲し前後方向に延びるようにし、底板部材30の側板部材33と側板部材34とによって挟まれている領域を直方体形状とし、溝36の底面のみが上方向に凸に湾曲し前後方向に延びるようにしてもよい。
底板部材30は溝35及び36を備える。溝35は底板部材30の側板部材31と側板部材32とによって挟まれる領域に設けられ、溝36は底板部材30の側板部材33と側板部材34とによって挟まれる領域に設けられる。溝35及び36はそれぞれ被施療者の左右方向の身体内側に凸に湾曲し前後方向に延びる。すなわち、溝35は右側に凸に湾曲し前後方向に延び、溝36は左側に凸に湾曲し前後方向に延びる。
側板部材31はレール37及び38を備え、側板部材32はレール39及び40を備え、側板部材33はレール41及び42を備え、側板部材34はレール43及び44を備える。レール37~44はそれぞれ前後方向に略平行に延びる。レール38はレール37の下方に配置され、レール40はレール39の下方に配置され、レール42はレール41の下方に配置され、レール44はレール43の下方に配置される。レール37~44は第1実施形態のレール9及び10と異なりローラを支持しない。すなわち、本明細書の「レール」は、ローラを支持する構造体に限定されることはなく、線状に延びる構造体であればよい。
足裏マッサージ機1Bは、シャフト45~50と、連結部材51及び52と、左足用移動部53~55と、右足用移動部56~58と、駆動機構(不図示)と、をさらに備える。
シャフト45~50はそれぞれ左右方向に延びる。シャフト45~50の各左端部は連結部材51によって連結され、シャフト45~50の各右端部は連結部材52によって連結される。シャフト46は回転可能に連結部材51及び52に取り付けられる。シャフト45、47、及び49はそれぞれレール37及び43を通りレール37及び43に沿って前後方向に移動する。シャフト46、48、及び50はそれぞれレール38及び44を通りレール38及び44に沿って前後方向に移動する。
左足用移動部53~55及び右足用移動部56~58はそれぞれ、足裏用施療子と、ガイド棒と、を備える。各足裏用施療子は上方に突出する。各ガイド棒は各移動部の下部であり、下方に突出する。左足用移動部53~55の各ガイド棒は溝35に嵌まり、右足用移動部56~58の各ガイド棒は溝36に嵌まる。
シャフト45及び46は左足用移動部53に設けられた貫通孔及び右足用移動部56に設けられた貫通孔を貫通する。シャフト47及び48は左足用移動部54に設けられた貫通孔及び右足用移動部57に設けられた貫通孔を貫通する。シャフト49及び50は左足用移動部55に設けられた貫通孔及び右足用移動部58に設けられた貫通孔を貫通する。左足用移動部53~55及び右足用移動部56~58それぞれに設けられる貫通孔は上下方向に細長い貫通孔である。上下方向に沿って並ぶ2本のシャフトが各貫通孔を貫通しているため、各移動部は上下方向に対して傾くことなく、上下方向に移動可能である。
左足用移動部53~55及び右足用移動部56~58はシャフト46の前後方向の移動に伴って前後方向に移動する。
シャフト46を前後方向に移動させる駆動機構(不図示)は、例えば第1実施形態のシャフト11を前後方向に移動させる駆動機構と類似の機構とすればよい。例えば、モータ収納部を側板部材32と側板部材33との間に設け、ピニオンギアをシャフト46の右端の設け、前後方向に略平行に延びピニオンギアに噛合するラックを側板部材33に固定すればよい。
上述した構成の足裏マッサージ機1Bでは、左足用移動部53~55が溝35の形状に応じた軌跡で移動し、右足用移動部56~58が溝36の形状に応じた軌跡で移動する。
左足用移動部53~55及び右足用移動部56~58が最も後方位置から前後方向の中央位置に移動するとき、左足用移動部53~55及び右足用移動部56~58の各足裏用施療子が徐々に上方且つ身体内側に移動しながら被施療者のかかとから土踏まずを施療する。また、左足用移動部53~55及び右足用移動部56~58が最も前方位置から前後方向の中央位置に移動するときも、左足用移動部53~55及び右足用移動部56~58の各足裏用施療子が徐々に上方且つ身体内側に移動しながら被施療者のつま先から土踏まずを施療する。これにより、足裏、特に土踏まずのマッサージ効果を高めることができる。
上述した構成の足裏マッサージ機1Bは、被施療者の足裏自体を強制的に移動させないので、足裏のマッサージには本来不要な力が被施療者の足にかかることを防止することができる。
溝35の右側に凸に湾曲する湾曲の頂点P11は前後方向において溝35の前端P12より後端P13に近く、溝36の左側に凸に湾曲する湾曲の頂点P14は前後方向において溝36の前端P15より後端P16に近い。より好ましくは、前後方向における前端P12から頂点P11までの距離L11と、前後方向における頂点P11から後端P13までの距離L12との比が約64:約36であり、前後方向における前端P15から頂点P14までの距離L13と、前後方向における頂点P14から後端P16までの距離L14との比が約64:約36である。日本人成人における足先から土踏まずまでの距離と土踏まずからかかとまでの距離との平均的な比が約64:約36であるため、被施療者の土踏まずの位置で足裏用施療子が被施療者の最も身体内側に到達し易くなり、土踏まずのマッサージ効果が高まる。
なお、溝35の上方向に凸になる湾曲の頂点は頂点P11に一致し、溝36の上方向に凸になる湾曲の頂点は頂点P14に一致することが好ましい。これにより、被施療者の土踏まずの位置で足裏用施療子が被施療者の上方に到達し易くなり、土踏まずのマッサージ効果が高まる。
<4.第3実施形態に係る足裏マッサージ機>
図4A~図4Gは第3実施形態に係る足裏マッサージ機1C(以下、足裏マッサージ機1Cと称す)を示す図である。図4Aは足裏マッサージ機1Cの正面図である。図4Bは足裏マッサージ機1Cの背面図である。図4Cは足裏マッサージ機1Cの第1側面図である。第1側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て右側の側面である。図4Dは足裏マッサージ機1Cの第2側面図である。第2側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て左側の側面である。図4Eは足裏マッサージ機1Cの平面図である。図4Fは足裏マッサージ機1Cの底面図である。図4Gは足裏マッサージ機1Cの前方斜視図である。
本実施形態は、第1実施形態の変形例である。したがって、図4A~図4Gにおいて図2A~図2Gと同一の部分には同一の符号を付し詳細な説明を省略する。
図4A~図4Gでは、図2A~図2Gと異なり、右足用移動部21が図示され、左足用移動部の図示が省略されている。右足用移動部21は、足裏用施療子21A~21Cと、ガイド棒21Dと、を備える。ガイド棒21Dは、右足用移動部21の下部であり、下方に突出する。ガイド棒21Dは、溝7に嵌まる。
なお、本実施形態では、左足用移動部(不図示)の前後方向に細長い足裏用施療子と左右方向に細長い足裏用施療子との配置及び右足用移動部21の前後方向に細長い足裏用施療子21Aと左右方向に細長い足裏用施療子21Bとの配置はそれぞれ、第1実施形態に対して左右反転の配置である。また、図4F等では、図2F等で図示した溝5及び6の図示を省略している。
足裏マッサージ機1Cは、側板部材22及び23を備える。側板部材22は底板部材2の左端から右方向に所定距離離れた位置から上方に向かって延びる。側板部材23は底板部材2の右端から左方向に所定距離離れた位置から上方に向かって延びる。
本実施形態では、側板部材3及び4は底板部材2の前端から中央部まで前後方向に延びる。一方、側板部材22及び23は底板部材2の後端から中央部まで前後方向に延びる。
本実施形態では、レール9の上方向に湾曲する湾曲の頂点がレール9の後端となり、レール10の上方向に湾曲する湾曲の頂点がレール10の後端となる。さらに、側板部材22及び23にそれぞれ設けられるレール24及び25は、上方向に湾曲し前後方向に延び、上方向に湾曲する湾曲の頂点が前端となる。
本実施形態では、ローラ15はレール24と接触し、ローラ16はレール25と接触する。
足裏マッサージ機1Cは足裏マッサージ機1A及び1Bと同様の効果を奏する。すなわち、足裏マッサージ機1Cは、被施療者の足裏自体を強制的に移動させないので、足裏のマッサージには本来不要な力が被施療者の足にかかることを防止することができる。
さらに、足裏マッサージ機1Cでは、足裏マッサージ機の後方左右端に空きスペースを確保することができる。なお、側板部材3と側板部材22との左右方向位置を入れ替え、側板部材4と側板部材23との左右方向位置を入れ替えることによって、足裏マッサージ機の前方左右端に空きスペースを確保することができる。
<5.第4実施形態に係る足裏マッサージ機>
図5A~図5Gは第4実施形態に係る足裏マッサージ機1D(以下、足裏マッサージ機1Dと称す)を示す図である。図5Aは足裏マッサージ機1Dの正面図である。図5Bは足裏マッサージ機1Dの背面図である。図5Cは足裏マッサージ機1Dの第1側面図である。第1側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て右側の側面である。図5Dは足裏マッサージ機1Dの第2側面図である。第2側面はマッサージ機100に着座した被施療者から見て左側の側面である。図5Eは足裏マッサージ機1Dの平面図である。図5Fは足裏マッサージ機1Dの底面図である。図5Gは足裏マッサージ機1Dの前方斜視図である。図5Hは足裏マッサージ機1Dの後方斜視図である。
足裏マッサージ機1Dは、底板部材70と、側板部材71及び72と、を備える。底板部材70並びに側板部材71及び72はそれぞれ平板形状である。側板部材71は底板部材70の左端から上方に向かって延びる。側板部材72は底板部材70の右端から上方に向かって延びる。
足裏マッサージ機1Dは、左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74をさらに備える。左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74は互いに左右対称な形状である。そこで、ここでは左足用マッサージユニット73の構成について説明し、右足用マッサージユニット74の構成については説明を省略する。
左足用マッサージユニット73は、底板部材75と、側板部材76及び77と、を備える。側板部材76は底板部材75の左端から上方に向かって延びる。側板部材77は底板部材75の右端から上方に向かって延びる。底板部材75は、後述する移動部88に対向し後述する溝78が形成される対向面を含み、上方向に凸に湾曲し前後方向に延びる。側板部材76及び77はそれぞれ平板形状である。なお、本実施形態とは異なり、底板部材75を直方体形状とし、溝78の底面のみが上方向に凸に湾曲し前後方向に延びるようにしてもよい。
底板部材75は溝78を備える。溝78は被施療者の左右方向の身体内側に凸に湾曲し前後方向に延びる。すなわち、溝78は右側に凸に湾曲し前後方向に延びる。
側板部材76はレール79及び80を備え、側板部材77はレール81及び82を備える。レール79~82はそれぞれ前後方向に略平行に延びる。レール80はレール79の下方に配置され、レール82はレール81の下方に配置される。
左足用マッサージユニット73は、シャフト83~85と、連結部材86及び87と、移動部88と、をさらに備える。なお、シャフト84及び85は、左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74で共用される。
シャフト83~85はそれぞれ左右方向に延びる。シャフト83及び84は連結部材86及び87によって連結される。連結部材86は側板部材76の左隣に配置され、連結部材87は側板部材77の右隣に配置される。シャフト83は回転可能に連結部材86及び87に取り付けられる。シャフト83はレール79及び81を通りレール79及び81に沿って前後方向に移動する。シャフト84はレール80及び82を通りレール80及び82に沿って前後方向に移動する。シャフト84は、左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74の各側板部材に設けられた各レール以外に側板部材71及び72に設けられた各レールも通る。シャフト85は、側板部材71及び72、左足用マッサージユニット73、並びに右足用マッサージユニット74の各後方下部を連結し、左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74を支持する。
移動部88は、足裏用施療子と、ガイド棒と、を備える。足裏用施療子は上方に突出する。ガイド棒は移動部88の下部であり、下方に突出する。移動部88のガイド棒は溝78に嵌まる。
シャフト83及び84は移動部88に設けられた貫通孔を貫通する。移動部88に設けられる貫通孔は上下方向に細長い貫通孔である。上下方向に沿って並ぶ2本のシャフト83及び84が貫通孔を貫通しているため、移動部88は上下方向に対して傾くことなく、上下方向に移動可能である。
移動部88はシャフト84の前後方向の移動に伴って前後方向に移動する。
シャフト84を前後方向に移動させる駆動機構(不図示)は、例えば第1実施形態のシャフト11を前後方向に移動させる駆動機構と類似の機構とすればよい。本実施形態では、モータ90を左足用マッサージユニット73と右足用マッサージユニット74との間に設け、ピニオンギア91をシャフト84の右端の設け、前後方向に略平行に延びピニオンギア84に噛合するラック92を側板部材72に固定している。
足裏マッサージ機1Dは、左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74をベース部材(底板部材70並びに側板部材71及び72)に対して左右方向に移動させるマッサージユニット駆動機構をさらに備える。
本実施形態では、マッサージユニット駆動機構は、ボールねじ機構のボール軸93及び94と、ボール軸93に連動連結されるモータ95と、ボール軸94に連動連結されるモータ(不図示)と、を備える。ボール軸93は、左足用マッサージユニット73の前方下部に設けられたボールねじ機構のナット部材の内部を貫通する。ボール軸94は、右足用マッサージユニット74の前方下部に設けられたボールねじ機構のナット部材の内部を貫通する。ボール軸93の左端は回転可能に側板部材71に取り付けられ、ボール軸94の右端は回転可能に側板部材72に取り付けられる。ボール軸93の回転により左足用マッサージユニット73が左右方向に移動し、ボール軸94の回転により右足用マッサージユニット74が左右方向に移動する。
なお、本実施形態とは異なり、ボール軸93及び94を1本のボール軸とし、ボール軸93に対応部分とボール軸94に対応部分とでねじの方向を逆にし、ボール軸に連動連結されるモータを1つにしてもよい。この場合、左足用マッサージユニット73と右足用マッサージユニット74とは左右対称に移動する。
足裏マッサージ機1Dは足裏マッサージ機1A~1Cと同様の効果を奏する。すなわち、足裏マッサージ機1Dは、被施療者の足裏自体を強制的に移動させないので、足裏のマッサージには本来不要な力が被施療者の足にかかることを防止することができる。
また、足裏マッサージ機1Dでは、左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74はそれぞれベース部材(底板部材70並びに側板部材71及び72)に対して左右方向に移動可能である。したがって、左足用マッサージユニット73及び右足用マッサージユニット74の各位置を左右方向に調整することができるので、被施療者の足裏横幅の個人差などに対応することができる。
なお、マッサージユニットの構造は本実施形態に限定されることはなく、被施療者の足裏を施療する施療子を備えていればよい。施療子は、本実施形態のようにマッサージユニットの本体部分に対して移動可能であってもよく、本実施形態とは異なりマッサージユニットの本体部分に対して移動不可能であってもよい。
例えば、マッサージユニットをベース部材に対して左右方向に短いストロークで往復運動させることで、足裏の所定のツボを刺激することができる。施療子がマッサージユニットの本体部分に対して前後方向に移動可能な構成(例えば本実施形態の構成)であれば、マッサージユニットをベース部材に対して左右方向に短いストローク(1つのツボから外れない程度の長さ)で往復運動させるときに同時に施療子がマッサージユニットの本体部分に対して前後方向に短いストローク(1つのツボから外れない程度の長さ)で往復運動させることが望ましい。これにより、足裏の所定のツボをより一層効果的に刺激することができる。
<6.枝分かれ溝>
ここでは足裏マッサージ機1Bを例に挙げて足裏用施療子を含む移動部の下部が嵌まる溝から枝分かれする枝分かれ溝を追加する変形例について説明する。なお、以下に説明する枝分かれ溝の追加は足裏マッサージ機1A、1C、及び1Dにも適用することができる。
図6は足裏マッサージ機1Bの変形例の部分平面図である。図6において図3A~図3Gと同一の部分には同一の符号を付し詳細な説明を省略する。また、図6では、シャフト46~48、左足用移動部53及び54、並びに連結部材51の図示を省略している。
底板部材30は、枝分かれ溝B1~B3を備える。枝分かれ溝B1~B3はそれぞれ溝35から枝分かれする。枝分かれ溝B1~B3はそれぞれ被施療者の左右方向の身体内側すなわち右側に凸に湾曲する湾曲部を備える。
図6に示す変形例では、左足用移動部55の下部が溝35だけでなく枝分かれ溝B1~B3にも嵌まることができるので、左足用移動部55の移動領域が拡大し、マッサージ可能範囲が拡大する。
底板部材30を上下方向に貫通する貫通孔H1~H3が溝35に設けられ、底板部材30を上下方向に貫通する貫通孔H4~H6が溝35と枝分かれ溝B1~B3との各境界部分に設けられる。
図6に示す変形例に係る足裏マッサージ機は、第1~第3規制部材(不図示)と、規制部材駆動機構(不図示)と、をさらに備える。第1規制部材(不図示)は、貫通孔H1から上方に突出することで左足用移動部55の下部が溝35に沿って前方から後方に進むことを妨げる。第2規制部材(不図示)は、貫通孔H2から上方に突出することで左足用移動部55の下部が溝35に沿って後方から前方に進むことを妨げる。第3規制部材(不図示)は、貫通孔H3から上方に突出することで左足用移動部55の下部が溝35に沿って前方から後方に進むことを妨げる。規制部材駆動機構(不図示)は、第1~第3規制部材(不図示)をそれぞれ独立して上下方向に移動させる。
第1規制部材(不図示)及び規制部材駆動機構(不図示)は、左足用移動部55の下部を枝分かれ溝B1に誘導する誘導機構の一例である。第2規制部材(不図示)及び規制部材駆動機構(不図示)は、左足用移動部55の下部を枝分かれ溝B2に誘導する誘導機構の一例である。第3規制部材(不図示)及び規制部材駆動機構(不図示)は、左足用移動部55の下部を枝分かれ溝B3に誘導する誘導機構の一例である。
左足用移動部55の下部を枝分かれ溝B1~B3に誘導する誘導機構の他の例としては、左足用移動部55の下部に磁性体を設け、ソレノイドの磁力で左足用移動部55の下部を枝分かれ溝B1~B3に誘導する構成を挙げることができる。
図6に示す変形例に係る足裏マッサージ機は、第1~第3ガイド部材(不図示)と、ガイド部材駆動機構(不図示)と、をさらに備える。第1ガイド部材(不図示)は、貫通孔H4から上方に突出することで左足用移動部55の下部が溝35に沿って進むように案内する。第2ガイド部材(不図示)は、貫通孔H5から上方に突出することで左足用移動部55の下部が溝35に沿って進むように案内する。第3ガイド部材(不図示)は、貫通孔H6から上方に突出することで左足用移動部55の下部が溝35に沿って進むように案内する。ガイド部材駆動機構(不図示)は、第1~第3ガイド部材(不図示)をそれぞれ独立して上下方向に移動させる。
規制部材駆動機構(不図示)が第1規制部材(不図示)を上方に移動させたときにはガイド部材駆動機構(不図示)が第1ガイド部材(不図示)を下方に移動させる。一方、規制部材駆動機構(不図示)が第1規制部材(不図示)を下方に移動させたときにはガイド部材駆動機構(不図示)が第1ガイド部材(不図示)を上方に移動させる。
規制部材駆動機構(不図示)が第2規制部材(不図示)を上方に移動させたときにはガイド部材駆動機構(不図示)が第2ガイド部材(不図示)を下方に移動させる。一方、規制部材駆動機構(不図示)が第2規制部材(不図示)を下方に移動させたときにはガイド部材駆動機構(不図示)が第2ガイド部材(不図示)を上方に移動させる。
規制部材駆動機構(不図示)が第3規制部材(不図示)を上方に移動させたときにはガイド部材駆動機構(不図示)が第3ガイド部材(不図示)を下方に移動させる。一方、規制部材駆動機構(不図示)が第3規制部材(不図示)を下方に移動させたときにはガイド部材駆動機構(不図示)が第3ガイド部材(不図示)を上方に移動させる。
図6に示す変形例に係る足裏マッサージ機は、第1~第3規制部材(不図示)、規制部材駆動機構(不図示)、第1~第3ガイド部材(不図示)、及びガイド部材駆動機構(不図示)を収納する収納部(不図示)を底板部材30の下方に備える。
<7.起動時の制御>
ここでは足裏マッサージ機1Aを例に挙げて起動時の好適な制御について説明する。なお、以下に説明する制御と同様の制御を足裏マッサージ機1B~1Dにも適用することができる。
足裏マッサージ機1Aは、起動時に、足裏用施療子17Aを溝7の右側に凸に湾曲する湾曲の頂点P1又はその近傍と同じ前後方向位置で停止させる。これにより、被施療者は足裏用施療子17Aが足裏を刺激する感覚を頼りに被施療者の左足の土踏まずと溝7の右側に凸に湾曲する湾曲の頂点P1との位置合わせを行うことができる。したがって、被施療者の左足の土踏まずと溝7の右側に凸に湾曲する湾曲の頂点P1との位置合わせが容易になる。
上述した起動時の制御は、例えばシャフト11に連動連結されるモータ(不図示)を制御部400Aが制御することによって実現される。
上述した起動時の制御の第1例は次のような制御である。足裏マッサージ機1Aは、運転停止時に、足裏用施療子17Aと溝7の右側に凸に湾曲する湾曲の頂点P1又はその近傍とが同じ前後方向位置になるような位置で左足用移動部17を停止させてから電源OFFに移行する。その後、電源ONを指示する操作が実行され足裏マッサージ機1Aが起動するときには、電源ONを指示する操作が実行されてから所定時間が経過するまでの期間間、足裏マッサージ機1Aは、左足用移動部17の移動を禁止する制御を行う。
また、上述した起動時の制御の第2例は次のような制御である。足裏マッサージ機1Aは、運転停止時に、左足用移動部17が任意の位置にいる状態で電源OFFに移行する。その後、電源ONを指示する操作が実行され足裏マッサージ機1Aが起動するときには、足裏マッサージ機1Aは、足裏用施療子17Aと溝7の右側に凸に湾曲する湾曲の頂点P1又はその近傍とが同じ前後方向位置になるような位置に左足用移動部17を移動(偶然移動量が零になる場合も含む)させてから左足用移動部17を停止させる制御を行う。
足裏マッサージ機1Aは、右足用移動部(不図示)に関しても左足用移動部17と同様の起動時の制御を行う。これにより、被施療者の左足の土踏まずと溝8の左側に凸に湾曲する湾曲の頂点P4との位置合わせが容易になる。
<8.その他>
上記実施形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。