JP7288950B2 - 回折光学素子の格子を最適に形成するためのシステム及び方法 - Google Patents
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Description
Claims (12)
- 光学格子構成要素を形成する方法であって、
基板の上にエッチング停止層を設けることと、
前記エッチング停止層の上に光学格子層を設けることと、
前記光学格子層の上にパターニングされたマスク層を設けることと、
前記光学格子層及び前記パターニングされたマスク層をエッチングし、前記光学格子層内に光学格子を形成すること
を含み、前記光学格子が、前記基板の平面に対する垂直線に対して非ゼロ角度の傾斜で配置された複数の角度付けられた構成要素を含み、前記エッチングが、前記光学格子間の前記エッチング停止層の全域に亘ってオーバーエッチの領域を生じさせ、前記複数の角度付けられた構成要素に沿ってヒーリング及びフーチングを除去する、方法。 - 前記複数の角度付けられた構成要素の第1の側壁の角度が、前記複数の角度付けられた構成要素の第2の側壁の角度と実質的に同一である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の側壁と前記第2の側壁とが、互いに対しておおよそ平行である、請求項2に記載の方法。
- 前記エッチングが、前記光学格子層内への角度付けられた反応性イオンエッチングを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記エッチングが、イオンビームによって実行され、前記基板が、前記光学格子を形成するための処理レシピを使用して、前記イオンビームに対して走査方向に沿って走査され、前記イオンビームが、ビーム角度平均値及びビーム広がりを有し、前記ビーム広がりが、収束又は発散のうちの1つである、請求項1に記載の方法。
- 前記処理レシピが、前記複数の角度付けられた構成要素の形状又は寸法を変更する効果を有する前記光学格子を形成するための複数の処理パラメータを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記複数の処理パラメータが、前記光学格子層の材料、前記光学格子層の化学的性質及び前記光学格子層の上に形成された前記マスク層に対する前記イオンビームの化学的性質、前記光学格子層の下方に形成された前記エッチング停止層、イオンビーム強度、前記イオンビームを形成するために使用される種々のガスの相対的圧力、前記イオンビームを形成するための温度、イオンビーム角度、並びにイオンビーム広がりのうちの1つ又は複数を含む、請求項6に記載の方法。
- 光学格子構成要素を形成する方法であって、
基板の上にエッチング停止層を設けることと、
前記エッチング停止層の上に光学格子層を設けることと、
前記光学格子層の上にパターニングされたマスク層を設けることと、
前記光学格子層及び前記パターニングされたマスク層をエッチングし、前記光学格子層内に光学格子を形成すること
を含み、前記光学格子が、前記基板の平面に対する垂直線に対して非ゼロ角度の傾斜で配置された複数の角度付けられた構成要素を含み、前記エッチングが、前記複数の角度付けられた構成要素間の前記エッチング停止層の全域に亘ってオーバーエッチの領域を形成して、前記複数の角度付けられた構成要素に沿ってヒーリング及びフーチングを除去する、方法。 - 前記オーバーエッチの領域が前記エッチング停止層において形成された後、前記複数の角度付けられた構成要素の第1の側壁の角度が、前記複数の角度付けられた構成要素の第2の側壁とおおよそ平行である、請求項8に記載の方法。
- 前記エッチングが、前記光学格子層内への角度付けられた反応性イオンエッチングを含む、請求項8に記載の方法。
- 前記エッチングが、イオンビームによって実行され、前記基板が、光学格子を形成するための処理レシピを使用して、前記イオンビームに対して走査方向に沿って走査され、前記イオンビームが、ビーム角度平均値及びビーム広がりを有し、前記ビーム広がりが、収束又は発散のうちの1つである、請求項8に記載の方法。
- 拡張リアリティ/バーチャルリアリティデバイスを形成するための方法であって、
基板の上にエッチング停止層を設けることと、
前記エッチング停止層の上に光学格子層を設けることと、
前記光学格子層の上にパターニングされたマスク層を設けることと、
前記光学格子層及び前記パターニングされたマスク層をエッチングし、前記光学格子層内に光学格子を形成すること
を含み、前記光学格子が、前記基板の平面に対する垂直線に対して非ゼロ角度の傾斜で配置された複数の角度付けられた構成要素を含み、前記エッチングが、前記複数の角度付けられた構成要素間の前記エッチング停止層内の全域に亘って凹設されたオーバーエッチの領域を形成して、前記複数の角度付けられた構成要素に沿ってヒーリング及びフーチングを除去する、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/035,506 US10761334B2 (en) | 2018-07-13 | 2018-07-13 | System and method for optimally forming gratings of diffracted optical elements |
US16/035,506 | 2018-07-13 | ||
PCT/US2019/039384 WO2020013995A1 (en) | 2018-07-13 | 2019-06-27 | System and method for optimally forming gratings of diffracted optical elements |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021530736A JP2021530736A (ja) | 2021-11-11 |
JP7288950B2 true JP7288950B2 (ja) | 2023-06-08 |
Family
ID=69140305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021500736A Active JP7288950B2 (ja) | 2018-07-13 | 2019-06-27 | 回折光学素子の格子を最適に形成するためのシステム及び方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10761334B2 (ja) |
JP (1) | JP7288950B2 (ja) |
KR (1) | KR102606559B1 (ja) |
CN (1) | CN112352188A (ja) |
TW (1) | TWI791867B (ja) |
WO (1) | WO2020013995A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2018
- 2018-07-13 US US16/035,506 patent/US10761334B2/en active Active
-
2019
- 2019-06-27 JP JP2021500736A patent/JP7288950B2/ja active Active
- 2019-06-27 KR KR1020217003899A patent/KR102606559B1/ko active IP Right Grant
- 2019-06-27 CN CN201980042758.2A patent/CN112352188A/zh active Pending
- 2019-06-27 WO PCT/US2019/039384 patent/WO2020013995A1/en active Application Filing
- 2019-07-09 TW TW108124153A patent/TWI791867B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US20180059297A1 (en) | 2016-08-22 | 2018-03-01 | Magic Leap, Inc. | Nanograting method and apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI791867B (zh) | 2023-02-11 |
CN112352188A (zh) | 2021-02-09 |
KR20210021397A (ko) | 2021-02-25 |
US10761334B2 (en) | 2020-09-01 |
US20200018981A1 (en) | 2020-01-16 |
WO2020013995A1 (en) | 2020-01-16 |
TW202006424A (zh) | 2020-02-01 |
KR102606559B1 (ko) | 2023-11-29 |
JP2021530736A (ja) | 2021-11-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210304 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220225 |
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A521 | Request for written amendment filed |
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