CN111381301B - 一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,该方法根据K矢量圆分析法、体光栅布拉格衍射效应和菲涅尔定律,结合制备波导光栅的光栅周期、光栅倾角、记录光波长和光敏材料感光特性,得到参考光和物光的曝光角度、曝光时间等实验参数。通过本发明所述的方法可调整单一波长的记录光曝光角度,制备不同再现波长响应的全息波导光栅,实现单波长激光记录彩色全息波导光栅的效果。

Description

一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法
技术领域
本发明属于全息光学技术,涉及全息干涉曝光技术,具体涉及一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法。
背景技术
体全息光栅是利用全息干涉技术制备的一种衍射光栅,该光栅是通过激光器发出的两束相干激光光束,在感光材料内部形成明暗相间的干涉条纹,使得感光材料的折射率分布根据明暗条纹发生变化,在干涉曝光过程中,明条纹区域内的折射率升高,而暗条纹区域内的折射率下降,最终材料内部形成一种折射率调制光栅,明条纹和暗条纹区域的折射率差即为体全息光栅的折射率调制度,其决定了制备光栅的衍射效率、衍射带宽等光学衍射性能。
相比于传统的刻划光栅,体全息光栅有着杂散光少,+1级衍射效率高,波长及角度选择性好等诸多优势,所以全息体光栅在很多领域都在逐步取代传统的刻划光栅。根据再现光束的衍射方向和光栅矢量方向,可以将该光栅分为反射型体全息光栅和透射型体全息光栅,透射型体全息光栅被广泛应用于高分辨光谱仪中的分光器件、太阳能采集器、光通信等领域;而反射型体全息光栅相较于透射型体全息光栅,具有更大的衍射角度响应带宽,更窄的衍射波长响应带宽(色散更低),主要应用于全息波导显示领域。
在全息波导显示领域实际应用中,体全息光栅作为全息光学耦合器件,用于将带有图像信息的光束耦合进入波导传播,再将光束耦合进入人眼的作用。全息波导光栅的光栅周期为百纳米尺度,且输入和输出光栅的光栅参数要严格对称,因此对全息波导光栅的制备工艺精度有极高的要求。此外,全息波导显示系统中的微显示器通常为宽光谱光源,波导光栅需要耦合红绿蓝三种波长范围内的入射光束。因此,要求制备出满足波导显示需求的彩色全息体光栅。目前彩色体全息光栅的传统制备方法是使用红、绿、蓝激光分别搭建曝光光路,制备彩色体全息光栅,该方法设计难度比较简单,但是大大增加了制备工艺的繁琐程度、制备成本和效率。
发明内容
发明目的:针对现有技术中波导光栅的制备效率和精确度低,以及制备成本高、工艺复杂问题,本发明提供一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法。
技术方案:一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,包括光栅周期Λ、光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000025
参考光角度θ1、物光角度θ2、参考光进入感光材料内部的透过率T1、物光进入感光材料内部的透过率T2和曝光时间t的计算,包括如下步骤:
(1)根据感光材料折射率n、再现光入射角度θinc、衍射角度θdiff和再现光波长λrecon,通过布拉格公式以及平面几何关系,计算得到光栅周期Λ、光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000026
(2)根据步骤(1)得到的光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000027
光栅周期Λ和记录光波长λrec,通过布拉格公式和k矢量圆方法,计算参考光角度θ1和物光角度θ2
(3)根据菲涅尔定律、参考光角度θ1和物光角度θ2,推导出参考光进入感光材料内部的透过率T1和物光进入感光材料内部的透过率T2
(4)根据感光材料的光敏特性计算出曝光时间t。
进一步的,步骤(1)中光栅周期Λ和光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000028
的表达式如下:
Figure GDA0002971163330000021
式中,再现光与光栅表面入射夹角θ’inc=θinc,衍射夹角
Figure GDA0002971163330000022
进一步的,步骤(2)中参考光在感光材料内部的记录角度θ′1和物光在感光材料内部的记录角度θ′2计算表达式如下:
Figure GDA0002971163330000023
所述的参考光角度θ1和物光角度θ2的计算过程如下:
Figure GDA0002971163330000024
Figure GDA0002971163330000031
式中,n为感光材料折射率,两束记录光与光栅条纹之间的夹角θ计算表达式如下:
Figure GDA0002971163330000032
参考光与条纹夹角与物光与条纹夹角相同。
进一步的,步骤(3)中记录光的平行分量与垂直分量大小相等,参考光进入感光材料内部的透过率T1和物光进入感光材料内部的透过率T2均满足如下记录光透过率计算公式:
Figure GDA0002971163330000033
Figure GDA0002971163330000034
Figure GDA0002971163330000035
式中,T||表示透过率的平行分量,T表示透过率的垂直分量;A||表示光强平行分量,A表示光强垂直分量;记录光透过率计算公式中的θt和θi由参考光和物光记录角度决定,且需考虑加棱镜的情况。
更进一步的,所述方法在计算波导耦合光栅曝光参数时,当参考光记录角度或者物光记录角度小于
Figure GDA0002971163330000036
时,不需要加棱镜,且得在空气中的记录角度为θ=arcsin(nsinθ′);当参考光或物光记录角度大于
Figure GDA0002971163330000037
时,需要加棱镜,保证进入感光材料的入射角度超过感光材料的全反射角。
更进一步的,所述方法在制备彩色体全息光栅的曝光参数中的约束条件包括如下两个方面:
(a)当记录光波长小于或等于再现光波长时,仅考虑波导内部全反射情况,无约束条件;
(b)当记录光波长大于再现光波长时,仅可设计满足
Figure GDA0002971163330000038
情况下的光栅参数的曝光过程。
更进一步的,所述方法在制备彩色全息波导光栅中,参考光记录角度θ1、物光记录角度θ2可以调节双光束干涉曝光角度,通过参考光进入感光材料内部的透过率T1和物光进入感光材料内部的透过率T2调节参考光和物光单位面积内的光束能量,以制备全息体光栅。
有益效果:与现有技术相比,本发明所述方法利用K矢量圆分析法、体光栅的布拉格衍射特性以及菲涅尔定律等,结合制备光栅的光栅参数、全息记录材料的感光特性,计算出参考光、物光的干涉角度和干涉时间,可实现单一波长激光制备彩色波导光栅的效果。由于只需使用单波长光源并调整双光束曝光角度即可制备彩色体全息光栅,因此可提高彩色体全息光栅制备效率,降低制备成本,简化工艺流程。
附图说明
图1本发明中用于制备彩色体全息光栅的曝光参数算法流程图;
图2本发明中制备体全息光栅的记录光路示意图;
图3本发明中体全息光栅再现光路示意图。
具体实施方式
为了详细的说明本发明所公开的技术方案,下面结合附图和具体实施例进一步阐明本发明。
为克服现有技术中存在的不足,本发明提供一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法。其根据K矢量圆分析法、体光栅的布拉格衍射特性以及菲涅尔定律等,结合制备光栅的光栅参数、全息记录材料的感光特性,计算出参考光、物光的干涉角度和干涉时间,从而实现单一波长激光制备彩色波导光栅的效果,提高制备效率和精确度,降低制备成本,简化工艺流程。
一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,该算法可精确计算记录光干涉角度、曝光时间等参数,实现单一波长的激光制备彩色波导显示用体全息光栅的效果。下面结合具体的实施过程进行说明。
本发明所述的方法可以通过如图1所示的系统进行计算,通过系统及其算法实现对制备体全息光栅的曝光参数计算。主要包括曝光条件设置模块、曝光参数计算模块和曝光参数计算结果输出模块。
曝光条件设置模块包括记录感光材料折射率n、记录光(包括参考光和物光)波长λrec、再现光波长λrecon、再现光入射角度θinc和衍射角度θdiff
对于曝光参数计算模块分为三个操作步骤,具体如下:
(s1)根据再现光入射角度θinc、衍射角度θdiff和再现光波长λ2,通过布拉格公式以及平面几何关系,计算得到光栅周期Λ、光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000051
(s2)利用步骤(s1)求得光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000052
光栅周期Λ和记录光波长λ1,通过布拉格公式和k矢量圆方法,计算得到记录光曝光角度θ1、θ2
(s3)根据菲涅尔定律、参考光记录角度θ1和物光记录角度θ2,推导出参考光和物光进入感光材料内部的透过率T1、T2,进一步地,根据感光材料的光敏特性计算出曝光时间t。
在曝光参数计算结果输出模块中,该模块输出包括光栅周期Λ、光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000053
参考光记录角度θ1、物光记录角度θ2、参考光和物光进入感光材料内部的透过率T1、T2和曝光时间t。实际制备中,通过参考光记录角度θ1、物光记录角度θ2可以调节双光束干涉曝光角度,通过参考光和物光进入感光材料内部的透过率T1、T2调节参考光和物光单位面积内的光束能量,以制备全息体光栅。
对于曝光参数计算模块,如图2所示。所述曝光参数计算模块步骤(s1)具体计算过程如下:
已知再现光波长λrecon、再现光与光栅表面入射夹角θ’inc=θinc以及衍射夹角
Figure GDA0002971163330000054
由k矢量圆可得:
光栅条纹倾角:
Figure GDA0002971163330000055
入射光与条纹倾角:
Figure GDA0002971163330000056
根据布拉格条件可得:
2Λsinθ'=λrecon (3)
通过以上公式可解得制备光栅周期Λ和光栅条纹倾角
Figure GDA0002971163330000058
Figure GDA0002971163330000057
如图3所示,曝光参数计算模块步骤(s2)具体计算过程如下:
制备体全息光栅时的记录光束满足布拉格条件:
2nΛsinθ=λrec (4)
参考光和物光在空气和感光材料界面处发生折射,两束光进入感光材料内部的角度可通过以下公式计算得到
Figure GDA0002971163330000061
Figure GDA0002971163330000062
根据简单的三角几何公式可得光栅条纹倾角和记录光束角度之间的关系:
Figure GDA0002971163330000063
根据k矢量圆,进一步可得到两束记录光与光栅条纹之间的夹角θ:
Figure GDA0002971163330000064
且参考光与条纹夹角与物光与条纹夹角相同。
结合曝光参数计算模块第一步骤求得的光栅周期Λ和光栅倾角
Figure GDA0002971163330000069
可计算得到记录过程中参考光和物光在感光材料内部的记录角度θ′1和θ′2
Figure GDA0002971163330000065
另外,制备彩色体全息光栅的曝光参数计算过程中,在极限情况下具有约束条件,约束条件如下:
(a)当记录光波长小于或等于再现光波长时,仅考虑波导内部全反射情况,无约束条件;
(b)当记录光波长大于再现光波长时,仅可设计满足
Figure GDA0002971163330000066
情况下的光栅参数的曝光过程。
曝光参数在计算波导耦合光栅曝光参数时,当参考光记录角度或者物光记录角度小于
Figure GDA0002971163330000067
时,不需要加棱镜,且可得在空气中的记录角度为θ=arcsin(nsinθ′)。当参考光或物光记录角度大于
Figure GDA0002971163330000068
时,需要加棱镜,保证进入感光材料的入射角度超过该材料的全反射角。
记录光的平行分量与垂直分量大小相等,所述记录光透过率计算公式为:
Figure GDA0002971163330000071
Figure GDA0002971163330000072
Figure GDA0002971163330000073
记录光透过率计算公式中的θt和θi由上述曝光参数计算模块中的参考光和物光记录角度决定,且需考虑加棱镜的情况。
实施例1
曝光条件设置模块参数分别为记录光波长532nm,再现光波长为532nm,再现光在介质中的入射角度为0度,再现光在介质中的衍射角度为120度,记录介质折射率为1.52。
所述曝光参数算法计算输出结果如下表所示:
Figure GDA0002971163330000074
实施例2
所述曝光条件设置模块参数分别为记录光波长532nm,再现光波长为615nm,再现光在介质中的入射角度为0度,再现光在介质中的衍射角度为150度,记录介质折射率为1.52。
所述曝光参数算法计算输出结果如下表所示:
Figure GDA0002971163330000075
实施例3
所述曝光条件设置模块参数分别为记录光波长532nm,再现光波长为480nm,再现光在介质中的入射角度为0度,再现光在介质中的衍射角度为150度,记录介质折射率为1.52。
所述曝光参数算法计算输出结果如下表所示:
Figure GDA0002971163330000076
Figure GDA0002971163330000081

Claims (5)

1.一种彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,其特征在于,包括光栅周期Λ、光栅条纹倾角
Figure FDA0002981726710000011
参考光角度θ1、物光角度θ2、参考光进入感光材料内部的透过率T1、物光进入感光材料内部的透过率T2和曝光时间t的计算,包括如下步骤:
(1)设定记录光包括参考光和物光,再现光为满足所制备全息波导光栅布拉格衍射条件的入射光束和衍射光束,根据感光材料折射率n、再现光入射角度θinc、衍射角度θdiff和再现光波长λrecon,通过布拉格公式以及平面几何关系,计算得到光栅周期Λ、光栅条纹倾角
Figure FDA0002981726710000012
计算过程如下:
Figure FDA0002981726710000013
式中,再现光与光栅表面入射夹角θ’inc=θinc,衍射夹角
Figure FDA0002981726710000014
(2)根据步骤(1)得到的光栅条纹倾角
Figure FDA0002981726710000015
光栅周期Λ和记录光波长λrec,通过布拉格公式和k矢量圆方法,计算参考光角度θ1和物光角度θ2,计算过程如下:
Figure FDA0002981726710000016
Figure FDA0002981726710000017
式中,n为感光材料折射率,两束记录光与光栅条纹之间的夹角θ计算表达式如下:
Figure FDA0002981726710000018
式中,θ′1为参考光在感光材料内部的记录角度,θ′2为物光在感光材料内部的记录角度,计算表达式如下:
Figure FDA0002981726710000019
参考光与条纹夹角与物光与条纹夹角相同;
(3)根据菲涅尔定律、参考光角度θ1和物光角度θ2,推导出参考光进入感光材料内部的透过率T1和物光进入感光材料内部的透过率T2,满足如下记录光透过率计算公式:
Figure FDA00029817267100000110
Figure FDA00029817267100000111
Figure FDA00029817267100000112
式中,T||表示透过率的平行分量,T表示透过率的垂直分量;A||表示光强平行分量,A表示光强垂直分量;
(4)根据感光材料的光敏特性计算出曝光时间t。
2.根据权利要求1所述的彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,其特征在于,步骤(1)中记录光的平行分量与垂直分量大小相等;记录光透过率计算公式中的θt和θi由参考光和物光记录角度决定,且需考虑加棱镜的情况。
3.根据权利要求2所述的彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,其特征在于,所述方法在计算波导耦合光栅曝光参数时,当参考光记录角度或者物光记录角度小于
Figure FDA0002981726710000021
时,不需要加棱镜,且得在空气中的记录角度为θ=arcsin(nsinθ′);当参考光或物光记录角度大于
Figure FDA0002981726710000022
时,需要加棱镜,保证进入感光材料的入射角度超过感光材料的全反射角。
4.根据权利要求1所述的彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,其特征在于,所述方法在制备彩色体全息光栅的曝光参数中的约束条件包括如下两个方面:
(a)当记录光波长小于或等于再现光波长时,仅考虑波导内部全反射情况,无约束条件;
(b)当记录光波长大于再现光波长时,仅可设计满足
Figure FDA0002981726710000023
情况下的光栅参数的曝光过程。
5.根据权利要求1所述的彩色全息波导光栅制备过程中曝光参数的计算方法,其特征在于,所述方法在制备彩色全息波导光栅中,通过参考光记录角度θ1、物光记录角度θ2调节双光束干涉曝光角度,通过参考光进入感光材料内部的透过率T1和物光进入感光材料内部的透过率T2调节参考光和物光单位面积内的光束能量,以制备全息体光栅。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114578561B (zh) * 2022-01-27 2024-03-26 东南大学 基于多层体光栅的大视场高亮度全息波导系统及制备方法
CN114815024B (zh) * 2022-05-19 2023-08-08 南京工业职业技术大学 一种用于批量制备全息衍射波导的曝光区域计算方法及其应用
CN114779382B (zh) * 2022-06-22 2022-11-01 杭州拓致光电科技有限公司 一种基于光热折变玻璃的体布拉格光栅波长合束器及其制备方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1302794A1 (en) * 2001-10-16 2003-04-16 Aston Photonic Technologies Ltd. Methods of fabricating a regenerated optical waveguide grating
CN102620908A (zh) * 2012-03-20 2012-08-01 西北工业大学 一种反射型体全息光栅参数获取的方法
CN104267591A (zh) * 2014-09-27 2015-01-07 郑敏 基于三次曝光技术消色差的方法
CN104280891A (zh) * 2014-09-27 2015-01-14 郑敏 实现全息波导光栅大出瞳的方法
CN106707389A (zh) * 2016-12-30 2017-05-24 浙江大学 一种渐变体全息光栅及其制作方法与装置
CN107797177A (zh) * 2017-11-17 2018-03-13 杭州光粒科技有限公司 一种周期渐变光栅显示波导及其制作方法与应用
WO2020013995A1 (en) * 2018-07-13 2020-01-16 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. System and method for optimally forming gratings of diffracted optical elements
CN110858876A (zh) * 2018-08-22 2020-03-03 杭州海康机器人技术有限公司 一种投影仪曝光时间确定方法及装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1302794A1 (en) * 2001-10-16 2003-04-16 Aston Photonic Technologies Ltd. Methods of fabricating a regenerated optical waveguide grating
CN102620908A (zh) * 2012-03-20 2012-08-01 西北工业大学 一种反射型体全息光栅参数获取的方法
CN104267591A (zh) * 2014-09-27 2015-01-07 郑敏 基于三次曝光技术消色差的方法
CN104280891A (zh) * 2014-09-27 2015-01-14 郑敏 实现全息波导光栅大出瞳的方法
CN106707389A (zh) * 2016-12-30 2017-05-24 浙江大学 一种渐变体全息光栅及其制作方法与装置
CN107797177A (zh) * 2017-11-17 2018-03-13 杭州光粒科技有限公司 一种周期渐变光栅显示波导及其制作方法与应用
WO2020013995A1 (en) * 2018-07-13 2020-01-16 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. System and method for optimally forming gratings of diffracted optical elements
CN110858876A (zh) * 2018-08-22 2020-03-03 杭州海康机器人技术有限公司 一种投影仪曝光时间确定方法及装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
全息光栅的可控制作及表征研究;张兰;《大学物理实验室》;20190228;第32卷(第1期);63-68 *
全息法制作光谱学衍射光栅;徐敏 等;《北京工业大学学报》;19801231(第1期);62-68 *

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