JP7288286B1 - Electronic device manufacturing method - Google Patents

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JP7288286B1 JP2023504514A JP2023504514A JP7288286B1 JP 7288286 B1 JP7288286 B1 JP 7288286B1 JP 2023504514 A JP2023504514 A JP 2023504514A JP 2023504514 A JP2023504514 A JP 2023504514A JP 7288286 B1 JP7288286 B1 JP 7288286B1
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Abstract

センサ領域と発光領域の固定を一回の成形で行うことができる電子装置及びその製造方法を提供する。変形可能な基材の一面に配置された第1導電性パターンと電気的に接合され光を出射する発光素子と、折り返された基材の一面に配置された第2導電性パターンと電気的に接合されたセンサと、第1導電性パターン及び第2導電性パターンと電気的に接合され外部に設けられた外部素子と電気的に接続するための外部接続端子と、第1導電性パターンが配置された基材の一面と第2導電性パターンが配置され折り返された基材の一面とを互いに離隔させて固定する光透過性の樹脂層と、発光素子を離隔して囲い光の漏れを規制する壁面を有し、発光素子からの光をセンサに向かってガイドする光ガイド体と、を備えた表示装置。Provided are an electronic device capable of fixing a sensor region and a light emitting region by one-time molding, and a manufacturing method thereof. A light emitting element that is electrically connected to a first conductive pattern arranged on one surface of a deformable base material and emits light, and a second conductive pattern arranged on one surface of the folded base material and electrically connected A bonded sensor, an external connection terminal electrically connected to the first conductive pattern and the second conductive pattern and electrically connected to an external element provided outside, and the first conductive pattern are arranged. a light-transmissive resin layer that separates and fixes the one surface of the substrate with the second conductive pattern arranged and the one surface of the folded substrate, and the light-emitting element that is separated from the light-emitting element to restrict light leakage. and a light guide body having a wall surface that guides light from the light emitting element toward the sensor.

Description

本発明は、電子装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing an electronic device.

回路パターンおよび接点が形成されたフィルム基板を折り返し、その間に上記接点に対応する部分が打ち抜かれたスペーサーを介してスイッチを形成したフレキシブル回路基板において、上記フィルム基板を難燃性の樹脂フィルムで形成し、このフィルム基板上に導電性の回路パターンと複数の電極および接点を形成し、この回路パターンと電極および接点を導電性の保護被膜で覆うとともに、この電極間に上記保護被膜を形成した導電塗料によって、独立した複数の抵抗体を互いに平行に設け、この各抵抗体にはレーザー光線による抵抗値のトリミングが施されており、トリミングされた抵抗体および上記回路パターンが形成されたフィルム基板の約半分に粘着層を介してフレキシブルフィルムを積層し、上記フィルム基板の残りの半分は粘着層を介して上記フレキシブルフィルムの他方の面に折り返して接着されているフレキシブル回路基板が知られている(特許文献1)。 A flexible circuit board in which a switch is formed by folding back a film substrate on which a circuit pattern and contacts are formed, and interposing spacers punched out in the portions corresponding to the contacts between them, wherein the film substrate is formed of a flame-retardant resin film. Then, a conductive circuit pattern, a plurality of electrodes and contacts are formed on the film substrate, the circuit pattern, electrodes and contacts are covered with a conductive protective film, and the protective film is formed between the electrodes. A plurality of independent resistors are provided parallel to each other with paint, and each of these resistors is trimmed to a resistance value by a laser beam. A flexible circuit board is known in which a flexible film is laminated on one half via an adhesive layer, and the other half of the film substrate is folded back and adhered to the other surface of the flexible film via an adhesive layer (Patent Reference 1).

照光表示可能な表示箇所を有して筐体の一部を構成する照光表示パネルであって、表示箇所を除いて存在する第1成形部と、第1成形部の背面側に配置され、第1成形部の存在しない部分に第1成形部と嵌合された凸部を有する第2成形部とを有し、第2成形部が表示箇所に導く光を透過する光透過樹脂からなり、第1成形部が第2成形部よりも光の透過率が低い不透明樹脂からなる樹脂パネルと、樹脂パネルの背面側に配置され、表示箇所に導く光の光源と、光源を実装したフィルム基板とを有する光源実装基板とを備え、光源実装基板の少なくとも光源が、第2成形部で封止されている、照光表示パネルも知られている(特許文献2)。 An illumination display panel that has a display portion capable of illumination display and constitutes a part of a housing, comprising: a first molding portion existing excluding the display portion; A second molding portion having a convex portion fitted to a first molding portion is provided in a portion where the first molding portion does not exist. A resin panel whose first molded part is made of an opaque resin whose light transmittance is lower than that of the second molded part, a light source arranged on the back side of the resin panel and guided to the display area, and a film substrate on which the light source is mounted. and a light source mounting substrate, and at least the light source of the light source mounting substrate is sealed with a second molded portion (Patent Document 2).

特開平6-29015号公報JP-A-6-29015 特開2021-67816号公報JP 2021-67816 A

本発明は、センサ領域と発光領域の固定を一回の成形で行うことができる電子装置の製造方法を提供する。 The present invention provides a method of manufacturing an electronic device that can fix the sensor region and the light emitting region by one molding.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の電子装置の製造方法において、
前記基材の前記センサが配置された領域は、前記発光素子が配置された領域の一端側を起点として折り返され、一対の前記発光素子と前記センサが対向して向かい合っている、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the method for manufacturing an electronic device according to claim 1,
The area of the base material where the sensor is arranged is folded back with one end side of the area where the light emitting element is arranged as a starting point, and the pair of the light emitting element and the sensor face each other.
It is characterized by

請求項に記載の発明は、請求項1に記載の電子装置の製造方法において、
前記第2導電性パターンは、前記基材が折り返される領域では前記基材が厚み方向に変形した場合に伸び率が小さくなるようにミアンダ形状で形成されている、
ことを特徴とする。
The invention according to claim 3 is the method for manufacturing an electronic device according to claim 1,
The second conductive pattern is formed in a meandering shape so that the elongation rate becomes small when the base material is deformed in the thickness direction in the region where the base material is folded back,
It is characterized by

請求項に記載の発明によれば、請求項に記載の電子装置の製造方法において、
前記第2導電性パターンが、Cu、Ni、Ag、Auの中から選択される少なくとも1種の金属よりなる金属めっき層であるか、PEDOT/PSS、CNT、グラフェン、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアニリン、ポリ硫黄窒化物のうち少なくともいずれか一つを含む有機電極パターンである、
ことを特徴とする。
According to the invention of claim 4 , in the method of manufacturing an electronic device according to claim 3 ,
The second conductive pattern is a metal plating layer made of at least one metal selected from Cu, Ni, Ag, and Au, or PEDOT/PSS, CNT, graphene, polyacetylene, polythiophene, polypyrrole, poly An organic electrode pattern containing at least one of paraphenylene, polyaniline, and polysulfur nitride,
It is characterized by

前記課題を解決するために、請求項に記載の電子装置の製造方法は、
変形可能な基材の一面に配置された第1導電性パターンと電気的に接合され光を出射する発光素子と、折り返された前記基材の一面に配置された第2導電性パターンと電気的に接合されたセンサと、前記第1導電性パターン及び前記第2導電性パターンと電気的に接合され外部に設けられた外部素子と電気的に接続するための外部接続端子と、前記第1導電性パターンが配置された前記基材の一面と前記第2導電性パターンが配置され折り返された前記基材の一面とを互いに離隔させて固定する光透過性の樹脂層と、前記発光素子を離隔して囲い前記光の漏れを規制する壁面を有し、前記発光素子からの光を前記センサに向かってガイドする光ガイド体と、を備えた電子装置の製造方法であって、
前記基材を準備する工程と、
前記基材上に前記第1導電性パターン、前記第2導電性パターン及び前記センサを配置する工程と、
前記基材に貫通孔を形成する工程と、
前記第1導電性パターンと前記発光素子とを接合手段で電気的に接合する工程と、
前記貫通孔が形成された前記基材を型に載置して前記基材に折り返し形状への賦形を施す工程と、
前記賦形が施された前記基材を金型に載置して前記樹脂層を成形する工程と、
前記樹脂層に前記光ガイド体を配置する工程と、
を含む、
ことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the method for manufacturing an electronic device according to claim 1 comprises:
a light emitting element electrically connected to a first conductive pattern disposed on one surface of a deformable base material and emitting light; and a second conductive pattern disposed on one surface of the folded base material and electrically connected to the an external connection terminal for electrically connecting to an external element electrically connected to the first conductive pattern and the second conductive pattern and provided outside; the first conductive a light-transmitting resin layer for separating and fixing one surface of the substrate on which the conductive pattern is arranged and one surface of the substrate on which the second conductive pattern is arranged and folded back; and separating the light emitting element. A method of manufacturing an electronic device comprising: a light guide body having a wall surface that surrounds and regulates leakage of the light, and guides the light from the light emitting element toward the sensor,
preparing the substrate;
disposing the first conductive pattern, the second conductive pattern and the sensor on the substrate;
forming a through-hole in the base material;
electrically joining the first conductive pattern and the light emitting element with a joining means;
a step of placing the base material having the through-hole formed in a mold and shaping the base material into a folded shape;
A step of placing the shaped base material in a mold and molding the resin layer;
disposing the light guide body on the resin layer;
including,
It is characterized by

請求項1に記載の発明によれば、センサ領域と発光領域の固定を一回の成形で行うことができる。 According to the first aspect of the invention, the sensor region and the light emitting region can be fixed by one molding.

請求項2に記載の発明によれば、変形可能な基材を折り返すことでセンサ領域と発光領域を一体成形することができる。 According to the second aspect of the invention, the sensor area and the light emitting area can be formed integrally by folding back the deformable base material.

請求項に記載の発明によれば、導電性パターンの曲げ変形に伴う断線を抑制することができる。 According to the third aspect of the invention, disconnection due to bending deformation of the conductive pattern can be suppressed.

請求項に記載の発明によれば、導電性パターンの曲げ変形に伴う断線を抑制して3次元形状の電子装置を得ることができる。 According to the fourth aspect of the invention, it is possible to obtain a three-dimensional electronic device by suppressing disconnection due to bending deformation of the conductive pattern.

図1Aは本実施形態に係る電子装置の一例をセンサ及び表示体を省略して示す平面模式図、図1Bは本実施形態に係る電子装置の一例を示す断面模式図である。FIG. 1A is a schematic plan view showing an example of the electronic device according to the present embodiment with the sensor and the display body omitted, and FIG. 1B is a schematic cross-sectional view showing the example of the electronic device according to the present embodiment. 図2Aは回路が形成された基材を示す平面模式図、図2Bは回路が形成された基材を示す断面模式図である。FIG. 2A is a schematic plan view showing a substrate on which a circuit is formed, and FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing the substrate on which a circuit is formed. 、図3Aは電子装置における光ガイド体を説明する部分平面模式図、図3Bは電子装置における光ガイド体を説明する部分断面模式図である。3A is a schematic partial plan view for explaining a light guide body in an electronic device, and FIG. 3B is a schematic partial cross-sectional view for explaining a light guide body in an electronic device. 図4Aは電子装置における変形例1に係る光ガイド体を説明する部分平面模式図、図4Bは電子装置における変形例1に係る光ガイド体を説明する部分断面模式図である。FIG. 4A is a partial schematic plan view illustrating a light guide according to Modification 1 in an electronic device, and FIG. 4B is a partial cross-sectional schematic diagram illustrating a light guide according to Modification 1 in an electronic device. 図5Aは電子装置における変形例2に係る光ガイド体を説明する部分平面模式図、図5Bは電子装置における変形例2に係る光ガイド体を説明する部分断面模式図である。FIG. 5A is a schematic partial plan view illustrating a light guide body according to Modification Example 2 in an electronic device, and FIG. 5B is a schematic partial cross-sectional view illustrating a light guide body according to Modification Example 2 in an electronic device. 電子装置の製造方法の概略の手順の一例を示すフローチャート図である。It is a flowchart figure which shows an example of the procedure of the outline of the manufacturing method of an electronic device. 電子装置の製造過程を説明するための部分断面模式図である。It is a partial cross-sectional schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of an electronic device. 電子装置の製造過程における賦形工程を説明する図である。It is a figure explaining the shaping process in the manufacturing process of an electronic device.

次に図面を参照しながら、本発明の実施形態の具体例を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
尚、以下の図面を使用した説明において、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきであり、理解の容易のために説明に必要な部材以外の図示は適宜省略されている。
Next, specific examples of embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments.
It should be noted that in the following description using the drawings, the drawings are schematic, and the ratio of each dimension is different from the actual one. Illustrations other than members are omitted as appropriate.

(1)電子装置の全体構成
図1Aは本実施形態に係る電子装置1の一例をセンサ5及び表示体9を省略して示す平面模式図、図1Bは本実施形態に係る電子装置1の一例を示す断面模式図、図2Aは回路が形成された基材2を示す平面模式図、図2Bは回路が形成された基材2を示す断面模式図、図3Aは電子装置1における光ガイド体8を説明する部分平面模式図、図3Bは電子装置1における光ガイド体8を説明する部分断面模式図である。
以下、図面を参照しながら、本実施形態に係る電子装置1の構成について説明する。
(1) Overall Configuration of Electronic Device FIG. 1A is a schematic plan view showing an example of the electronic device 1 according to the present embodiment with the sensor 5 and the display 9 omitted, and FIG. 1B is an example of the electronic device 1 according to the present embodiment. 2A is a schematic plan view showing the substrate 2 on which the circuit is formed, FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing the substrate 2 on which the circuit is formed, FIG. 3A is a light guide body in the electronic device 1 8, and FIG. 3B is a partial cross-sectional schematic diagram for explaining the light guide body 8 in the electronic device 1. As shown in FIG.
Hereinafter, the configuration of the electronic device 1 according to this embodiment will be described with reference to the drawings.

電子装置1は、図1に示すように、変形可能な基材2の一面2aに配置された第1導電性パターン3Aと電気的に接合され光を出射する発光素子4と、折り返された基材2の一面2aに配置された第2導電性パターン3Bと電気的に接合されたセンサ5と、外部素子と電気的に接続するための外部接続端子6と、第1導電性パターン3Aが配置された基材2の一面2aと第2導電性パターン3Bが配置され折り返された基材2の一面2aとを互いに離隔させて固定する樹脂層7と、発光素子4からの光をセンサ5に向かってガイドする光ガイド体8と、を備えて構成されている。 As shown in FIG. 1, the electronic device 1 includes a light emitting element 4 that is electrically connected to a first conductive pattern 3A arranged on one surface 2a of a deformable base material 2 and emits light, and a folded base material. A sensor 5 electrically connected to a second conductive pattern 3B arranged on one surface 2a of the material 2, an external connection terminal 6 for electrically connecting to an external element, and a first conductive pattern 3A are arranged. A resin layer 7 that separates and fixes one surface 2a of the base material 2 that has been formed and the one surface 2a of the base material 2 that has the second conductive pattern 3B arranged and folded back from each other, and the light from the light emitting element 4 to the sensor 5. and a light guide body 8 for guiding toward.

(基材)
本実施形態において使用する変形可能な基材2は特にフィルム状の基材に限らないが、以下、フィルム状の基材として説明する。ここで、「変形可能な基材」は、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bを配置後に変形できる、すなわち、熱成形、真空成形または圧空成形によって実質的に平坦な二次元形状から実質的に3次元形状に形成されることができる基材を意味する。
(Base material)
Although the deformable base material 2 used in the present embodiment is not particularly limited to a film-like base material, a film-like base material will be described below. Here, a "deformable substrate" is a substantially flat two-dimensional shape that can be deformed after placement of the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B, i.e., by thermoforming, vacuum forming or pressure forming. means a substrate that can be formed into a substantially three-dimensional shape from

このような基材2の材質としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステル、ナイロン6-10、ナイロン46などのポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ABS、PMMA、ポリ塩化ビニルなどの熱可塑性樹脂が挙げられる。
特にポリエステルがより好ましく、さらにその中でもポリエチレンテレフタレート(PET)が経済性、電気絶縁性、耐薬品性等のバランスが良く最も好ましい。
Examples of materials for the base material 2 include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyamides such as nylon 6-10 and nylon 46, polyetheretherketone (PEEK), ABS, PMMA, Thermoplastic resins such as polyvinyl chloride may be mentioned.
In particular, polyester is more preferable, and among these, polyethylene terephthalate (PET) is most preferable because it has a good balance of economy, electrical insulation, chemical resistance, and the like.

基材2の一面2aには、金属ナノ粒子等の触媒インクを均一に塗布するために、表面処理を施すことが好ましい。表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、溶剤処理、プライマー処理を用いることができる。 One surface 2a of the substrate 2 is preferably surface-treated in order to evenly apply catalyst ink such as metal nanoparticles. As the surface treatment, for example, corona treatment, plasma treatment, solvent treatment, and primer treatment can be used.

また、基材2には、厚み方向に貫通する貫通孔2cが形成されている。貫通孔2cは、樹脂層7に後述する光ガイド体8を挿入する空間部71を形成するための孔であり、樹脂層7を形成する際に空間部71を形成する金型ピンが挿通される(図7E 参照)。貫通孔2cは、形成される光ガイド体8の形状及び大きさに合わせて、その形状、大きさ、数が適宜設定される。 A through hole 2c is formed through the base material 2 in the thickness direction. The through hole 2c is a hole for forming a space portion 71 into which a light guide body 8, which will be described later, is inserted in the resin layer 7. A mold pin for forming the space portion 71 is inserted through the through hole 2c when the resin layer 7 is formed. (see Figure 7E). The shape, size, and number of the through holes 2c are appropriately set according to the shape and size of the light guide body 8 to be formed.

このような変形可能な熱可塑性樹脂からなるフィルム状の基材2は、熱成形、真空成形または圧空成形によって180度曲げて折り返した状態で、実質的に平坦な二次元形状から実質的に3次元形状に賦形されるが、発光素子4及びセンサ5が配置される領域は、平面又は可展面となっている。 The film-like base material 2 made of such a deformable thermoplastic resin can be bent from a substantially flat two-dimensional shape to a substantially three-dimensional shape by thermoforming, vacuum forming, or air pressure forming in a state where it is bent 180 degrees and folded back. Although shaped into a dimensional shape, the area where the light emitting element 4 and the sensor 5 are arranged is a flat or developable surface.

(導電性パターン)
基材2の一面2aに第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bを配置する場合、さきに、金属めっき成長のきっかけとなる金属ナノ粒子等の触媒からなる下地層(不図示)を所定のパターン状に形成する。ここで、所定のパターン状としては、ミアンダ形状を含んでいる。下地層は、基材21上に金属ナノ粒子等の触媒インクを塗布したあと、乾燥および焼成を行うことにより形成する。
(Conductive pattern)
When arranging the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B on the one surface 2a of the substrate 2, first, a base layer (not shown) made of a catalyst such as metal nanoparticles that triggers growth of the metal plating is formed. It is formed in a predetermined pattern. Here, the predetermined pattern includes a meandering shape. The base layer is formed by applying a catalyst ink such as metal nanoparticles on the substrate 21, followed by drying and baking.

下地層の厚み(μm)は、0.1~20μmが好ましく、0.2~5μmがさらに好ましく、0.5~2μmが最も好ましい。下地層が薄すぎると、下地層の強度が低下するおそれがある。また、下地層が厚すぎると、金属ナノ粒子は通常の金属よりも高価であるため、製造コストが増大する虞がある。 The thickness (μm) of the underlayer is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.2 to 5 μm, most preferably 0.5 to 2 μm. If the underlayer is too thin, the strength of the underlayer may decrease. Also, if the underlayer is too thick, the manufacturing cost may increase because metal nanoparticles are more expensive than ordinary metals.

触媒の材料としては、金、銀、銅、パラジウム、ニッケルなどが用いられ、導電性の観点から金、銀、銅が好ましく、金、銀に比べて安価な銅が最も好ましい。 Gold, silver, copper, palladium, nickel, and the like are used as the material of the catalyst. Gold, silver, and copper are preferable from the viewpoint of conductivity, and copper, which is cheaper than gold and silver, is most preferable.

触媒の粒子径(nm)は1~500nmが好ましく、10~100nmがより好ましい。粒子径が小さすぎる場合、粒子の反応性が高くなりインクの保存性・安定性に悪影響を与える虞がある。粒子径が大きすぎる場合、薄膜の均一形成が困難になるとともに、インクの粒子の沈殿が起こりやすくなる虞がある。 The particle size (nm) of the catalyst is preferably 1 to 500 nm, more preferably 10 to 100 nm. If the particle size is too small, the reactivity of the particles increases, which may adversely affect the storability and stability of the ink. If the particle size is too large, it may become difficult to form a uniform thin film, and the particles of the ink may easily precipitate.

第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bは、下地層の上に電解めっきまたは無電解めっきにより形成される。めっき金属としては、銅、ニッケル、錫、銀、金などを用いることができるが、伸長性、導電性および価格の観点から銅を用いることが最も好ましい。 The first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B are formed on the underlying layer by electrolytic plating or electroless plating. As the plating metal, copper, nickel, tin, silver, gold, or the like can be used, but copper is most preferable from the viewpoint of extensibility, conductivity and cost.

めっき層の厚さ(μm)は、0.03~100μmが好ましく、1~35μmがより好ましく、3~18μmが最も好ましい。めっき層が薄すぎると、機械的強度が不足するとともに、導電性が実用上十分に得られない虞がある。めっき層が厚すぎると、めっきに必要な時間が長くなり、製造コストが増大する虞がある。 The thickness (μm) of the plating layer is preferably 0.03 to 100 μm, more preferably 1 to 35 μm, most preferably 3 to 18 μm. If the plated layer is too thin, the mechanical strength may be insufficient, and sufficient electrical conductivity may not be obtained for practical use. If the plated layer is too thick, the time required for plating will be long, and there is a risk that the manufacturing cost will increase.

第2導電性パターン3Bは、特に樹脂層7の厚みが薄く、基材2が折り返される領域では基材2が厚み方向に変形した場合に伸び率が大きくなる場合には、ミアンダ形状で形成してもよい(不図示)。ミアンダ形状の導電性パターンは、直線形状の導電性パターン3Bの延びる方向と交差する方向に蛇行を繰り返すように形成され、配線長が長くなっている。ミアンダ形状の導電性パターンは、直線形状に比べて配線長が長くなることで、基材2が折り返されて厚み方向に変形を受けた場合に、導電性パターンが伸びやすく第2導電性パターン3Bの断線を抑制することができる。 The second conductive pattern 3B is formed in a meandering shape when the thickness of the resin layer 7 is particularly thin and when the base 2 is deformed in the thickness direction in the region where the base 2 is folded back, the elongation rate increases. (not shown). The meandering conductive pattern is formed so as to meander repeatedly in a direction intersecting with the extending direction of the linear conductive pattern 3B, and the wiring length is increased. The meander-shaped conductive pattern has a longer wiring length than the straight-line shape, so that when the base material 2 is folded back and deformed in the thickness direction, the conductive pattern is easily stretched and the second conductive pattern 3B is formed. disconnection can be suppressed.

また、第2導電性パターン3Bは、後述するコネクタ接続パッド3bを除いて、有機導電性材料をインキ状、ペースト状にしたものをスクリーン印刷、転写印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法等で塗布し、焼成することにより形成してもよい。有機導電性材料としては、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)/PSS、カーボン、ポリアセチレン、ポリチオフェン(PT)、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアニリン、ポリ硫黄窒化物等が挙げられる。 The second conductive pattern 3B, except for the connector connection pads 3b, which will be described later, is formed by using an organic conductive material in ink or paste form by screen printing, transfer printing, offset printing, flexographic printing, ink-jet printing, or the like. It may be formed by coating and firing. Organic conductive materials include PEDOT (polyethylenedioxythiophene)/PSS, carbon, polyacetylene, polythiophene (PT), polypyrrole, polyparaphenylene, polyaniline, and polysulfur nitride.

第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bには、一端に複数のコネクタ接続パッド3a、3bが形成され、図2に示すように、電子装置1の外部に設けられた外部素子と電気的に接続するための外部接続端子6が電気的に接合されている。
外部接続端子6は、例えば、コネクタ端子となる端子部6aと、アンカー部6bとからなり、アンカー部6bが接合材でコネクタ接続パッド3a、3bに電気的に接合される。端子部6aおよびアンカー部6bは、銅の合金などを用いて四角柱形状に形成され、表面にニッケルメッキを施し、そのニッケルメッキの上に、金、錫などの金属やそれら金属を含む合金などのメッキが施されても良い。外部接続端子6のピッチは、接続先のコネクタの規格に応じている。
A plurality of connector connection pads 3a and 3b are formed at one end of the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B, and as shown in FIG. An external connection terminal 6 is electrically connected for the purpose of connection.
The external connection terminal 6 includes, for example, a terminal portion 6a serving as a connector terminal and an anchor portion 6b. The anchor portion 6b is electrically joined to the connector connection pads 3a and 3b with a joining material. The terminal portion 6a and the anchor portion 6b are formed in a quadrangular prism shape using a copper alloy or the like, and the surface thereof is plated with nickel. plating may be applied. The pitch of the external connection terminals 6 corresponds to the standard of the connector to which they are connected.

(発光素子)
発光素子4は、例えば、LED等の半導体発光素子である。
発光素子4はレンズ(不図示)を備えていることが好ましい。そのようなLEDとしては、例えば、日亜化学工業社、クリー(Cree)社、オスラム(Osram)社、豊田合成社等各社の製品などの市販の半導体発光素子を用いることができる。これらの半導体発光素子は、形態、サイズ及び取り付け方法がそれぞれ異なるが、基材2上に形成された第1導電性パターン3Aの一端に接合材により電気的に接合され、第1導電性パターン3Aに電気的に接合された外部接続端子6を介して外部から給電されて発光する。
(light emitting element)
The light emitting element 4 is, for example, a semiconductor light emitting element such as an LED.
The light emitting element 4 preferably has a lens (not shown). As such an LED, for example, commercially available semiconductor light-emitting elements such as products of Nichia Corporation, Cree Corporation, Osram Corporation, Toyoda Gosei Co., etc. can be used. Although these semiconductor light emitting elements differ in form, size, and mounting method, they are electrically bonded to one end of the first conductive pattern 3A formed on the base material 2 with a bonding material. It emits light when it is fed with power from the outside through an external connection terminal 6 electrically connected to the .

(センサ)
センサ5はタッチセンサであり、第2導電性パターン3Bと電気的に接続された透明電極として形成されている。透明電極は導電性及び透明性を有する材料を含む。ここで、導電性及び透明性を有する材料としては、ITO(酸化インジウム錫、Indium Tin Oxide)、IZO(酸化インジウム亜鉛、Indium Zinc Oxide)、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)/PSS、CNT(カーボン)のうち少なくとも1つからなることが好ましく、特にITO、IZOは、透明電極を構成する材料として広く用いられている。
センサ5は、ITO、IZO、PEDOT/PSS、CNT等のいずれかで構成される導電性パターンであってもよい。導電性パターンの形状としては、特に限定されず、例えば、ストライプ状、スクエア状、格子状などが挙げられる。
(sensor)
The sensor 5 is a touch sensor and is formed as a transparent electrode electrically connected to the second conductive pattern 3B. A transparent electrode includes a material having conductivity and transparency. Here, the conductive and transparent materials include ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), PEDOT (polyethylenedioxythiophene)/PSS, and CNT (carbon). ITO and IZO, in particular, are widely used as materials for forming transparent electrodes.
The sensor 5 may be a conductive pattern made of ITO, IZO, PEDOT/PSS, CNT, or the like. The shape of the conductive pattern is not particularly limited, and examples thereof include stripes, squares, lattices, and the like.

また、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bは、図1、図2においては、外部接続端子6と発光素子4及びセンサ5とを電気的に接続する例を示しているが、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bには、発光素子4及びセンサ5以外に複数の電子部品が取り付けられてもよい。電子部品としては、制御回路、マイクおよびスピーカーなどの発音または受音、メモリチップ、プログラマブルロジックチップおよびCPUなどのデバイス操作部品、デジタル信号プロセッサ(DSP)、ALSデバイス、PSデバイス、処理デバイス、MEMS等が挙げられる。 1 and 2, the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B show an example of electrically connecting the external connection terminal 6 with the light emitting element 4 and the sensor 5. A plurality of electronic components other than the light emitting element 4 and the sensor 5 may be attached to the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B. Electronic parts include control circuits, sound generators such as microphones and speakers, device operation parts such as memory chips, programmable logic chips and CPUs, digital signal processors (DSP), ALS devices, PS devices, processing devices, MEMS, etc. are mentioned.

(樹脂層)
樹脂層7は、図1Bに示すように、第1導電性パターン3Aが配置された基材2の一面2aと第2導電性パターン3Bが配置され折り返された基材2の一面2aとを互いに離隔させて固定するように接着層ADを介して形成されている。接着層ADは、接着層を形成後に光学的に無色透明であることが好ましい。
樹脂層7には、図3に示すように、発光素子4が実装された基材2を貫通してセンサ5が配置されて折り返された基材2に向かって延びる空間部71が形成されている。空間部71には、発光素子4からの光をセンサ5に向かってガイドする光ガイド体8が挿入される。
(resin layer)
As shown in FIG. 1B, the resin layer 7 is formed by connecting the one surface 2a of the substrate 2 on which the first conductive pattern 3A is arranged and the one surface 2a of the substrate 2 on which the second conductive pattern 3B is arranged and folded back. They are formed via an adhesive layer AD so as to be separated and fixed. The adhesive layer AD is preferably optically colorless and transparent after forming the adhesive layer.
As shown in FIG. 3, the resin layer 7 is formed with a space 71 extending through the substrate 2 on which the light emitting element 4 is mounted and extending toward the folded substrate 2 on which the sensor 5 is arranged. there is A light guide body 8 that guides the light from the light emitting element 4 toward the sensor 5 is inserted into the space 71 .

樹脂層7は、透光性の熱可塑性樹脂材料からなる熱可塑性樹脂である。具体的には、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリアミド(PA)、アクリルブタジエンスチレン(ABS)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、変性ポリフェニレンエーテル(m-PPE)、変性ポリフェニレンオキサイト(m-PPO)、シクロオレフィンコポリマー(COC)、シクロオレフィンポリマー(COP)が挙げられるが、これらに限定されることはなく、導光材料として一般的に使用される材料で形成することができる。 The resin layer 7 is a thermoplastic resin made of a translucent thermoplastic resin material. Specifically, polycarbonate (PC), polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (PMMA), polyamide (PA), acrylic butadiene styrene (ABS), polyethylene (PE), polypropylene (PP), modified polyphenylene ether (m -PPE), modified polyphenylene oxide (m-PPO), cycloolefin copolymer (COC), cycloolefin polymer (COP), which are commonly used as light guide materials. It can be made of a material that

(光ガイド体)
光ガイド体8は、図3に示すように、基材2の発光素子4が実装された一面2aとは反対側の他面2b側から樹脂層7に形成された空間部71に挿入されてセンサ5に向かって突出し、発光素子4から出射する光を外部に向かってガイドするようになっている。具体的には、空間部71に挿入された光ガイド体8は、発光素子4を四方から離隔して囲い、発光素子4から出射する光の漏れを規制する壁面8aがセンサ5に向かって突出するように延びる板状体として形成されている。
(Light guide body)
As shown in FIG. 3, the light guide body 8 is inserted into the space 71 formed in the resin layer 7 from the other surface 2b opposite to the surface 2a of the substrate 2 on which the light emitting element 4 is mounted. It protrudes toward the sensor 5 and guides the light emitted from the light emitting element 4 toward the outside. Specifically, the light guide body 8 inserted into the space 71 surrounds the light emitting element 4 from all sides, and the wall surface 8a that regulates the leakage of the light emitted from the light emitting element 4 protrudes toward the sensor 5. It is formed as a plate-like body extending so as to

このように、光ガイド体8は透光性の材料で形成された樹脂層7の空間部71に挿入されて、発光素子4から出射する光の漏れを規制することから、光を不透光にするように遮光性材料で形成されるのが好ましい。具本的には黒色とすることで、光ガイド体8へ伝播した光の漏れを抑制するとともに、発光素子4から出射した光をセンサ5に向かってガイドすることができる。これにより、後述する表示体9の透光部9aを内面から照射して発光領域と消灯領域の区別を明確にすることが可能となる。 As described above, the light guide body 8 is inserted into the space 71 of the resin layer 7 made of a light-transmitting material, and restricts the leakage of the light emitted from the light-emitting element 4. It is preferably formed of a light-shielding material so as to Specifically, by making it black, leakage of light propagated to the light guide body 8 can be suppressed, and light emitted from the light emitting element 4 can be guided toward the sensor 5 . This makes it possible to clearly distinguish between the light-emitting region and the non-light-emitting region by irradiating the translucent portion 9a of the display body 9, which will be described later, from the inner surface.

「変形例1」
図4Aは電子装置1における変形例1に係る光ガイド体8Aを説明する部分平面模式図、図4Bは電子装置1における変形例1に係る光ガイド体8Aを説明する部分断面模式図である。
変形例に係る光ガイド体8Aは、基材2の発光素子4が実装された一面2aとは反対側の他面2b側から樹脂層7に形成された空間部71を埋める充填体であってもよい。
具体的には、遮光材料としての黒色顔料又は染料を含む硬化性樹脂材料をポッティング(樹脂盛り)して、空間部71を埋める光ガイド体8Aを形成する。
"Modification 1"
4A is a schematic partial plan view for explaining a light guide body 8A according to Modification 1 of the electronic device 1, and FIG. 4B is a partial schematic cross-sectional view for explaining the light guide body 8A according to Modification 1 of the electronic device 1. FIG.
The light guide body 8A according to the modification is a filling body that fills the space 71 formed in the resin layer 7 from the other side 2b opposite to the side 2a on which the light emitting element 4 of the base material 2 is mounted. good too.
Specifically, the light guide body 8A filling the space 71 is formed by potting a curable resin material containing a black pigment or dye as a light shielding material.

ポッティングで形成された未硬化の光ガイド体8Aを硬化させる方法としては、硬化性樹脂材料を硬化させることができれば、特に制限されず、使用する樹脂の種類に応じて適宜選択することができる。本実施形態においては、硬化性樹脂材料として、硬化のための加熱を必要としない二液硬化性樹脂材料、光硬化性樹脂材料、又は湿気硬化性樹脂材料を用いることで、樹脂層7が溶融したり変形することを抑制することが可能となる。
光ガイド体8Aは光の漏れを抑制するとともに、発光素子4から出射した光をセンサ5に向かってガイドすることができる。これにより、後述する表示体9の透光部9aを内面から照射して発光領域と消灯領域の区別を明確にすることが可能となる。
The method for curing the uncured light guide body 8A formed by potting is not particularly limited as long as the curable resin material can be cured, and can be appropriately selected according to the type of resin to be used. In the present embodiment, by using a two-component curable resin material, a photocurable resin material, or a moisture-curable resin material that does not require heating for curing as the curable resin material, the resin layer 7 is melted. It is possible to suppress the deformation and deformation.
The light guide body 8A can suppress leakage of light and guide the light emitted from the light emitting element 4 toward the sensor 5. As shown in FIG. This makes it possible to clearly distinguish between the light-emitting region and the non-light-emitting region by irradiating the translucent portion 9a of the display body 9, which will be described later, from the inner surface.

「変形例2」
図5Aは電子装置1における変形例2に係る光ガイド体8Bを説明する部分平面模式図、図5Bは電子装置1における変形例2に係る光ガイド体8Bを説明する部分断面模式図である。
変形例に係る光ガイド体8Bは、基材2の発光素子4が実装された一面2aとは反対側の他面2b側から樹脂層7に形成された空間部71の壁面71aに印刷または貼り合わせ、または塗布された不透光材である。
具体的には、不透光材料としての黒色顔料又は染料を含む塗料、あるいは、光を透過させずに反射する白色顔料又は染料を含む塗料を壁面71aに塗布して空間部71の壁面71aに光ガイド体8Bを形成する。また、不透光材料で形成された樹脂材を貼り付けてもよい。
"Modification 2"
FIG. 5A is a partial schematic plan view explaining a light guide body 8B according to Modification 2 of the electronic device 1, and FIG. 5B is a partial cross-sectional schematic diagram explaining the light guide body 8B according to Modification 2 of the electronic device 1. FIG.
The light guide body 8B according to the modification is printed or pasted on the wall surface 71a of the space 71 formed in the resin layer 7 from the other surface 2b opposite to the surface 2a of the base material 2 on which the light emitting element 4 is mounted. Laminated or coated opaque material.
Specifically, a paint containing a black pigment or dye as an opaque material, or a paint containing a white pigment or dye that reflects light without transmitting light is applied to the wall surface 71a of the space 71. A light guide body 8B is formed. Also, a resin material made of an opaque material may be attached.

発光素子4から出射した光の一部は空間部71の壁面71aに形成された光ガイド体8Bにより複数回反射され、反射される度に一部の光が吸収されるので、光の漏れを抑制するとともに発光素子4から出射した光をセンサ5に向かってガイドすることができる。これにより、後述する表示体9の透光部9aを内面から照射して発光領域と消灯領域の区別を明確にすることが可能となる。 Part of the light emitted from the light emitting element 4 is reflected multiple times by the light guide body 8B formed on the wall surface 71a of the space 71, and part of the light is absorbed each time it is reflected, thereby preventing light leakage. It is possible to suppress and guide the light emitted from the light emitting element 4 toward the sensor 5 . This makes it possible to clearly distinguish between the light-emitting region and the non-light-emitting region by irradiating the translucent portion 9a of the display body 9, which will be described later, from the inner surface.

(表示体)
センサ5の表面には光を透光する透光部9aを有する表示体9が貼り付けられてもよい。表示体9としては、フィルム基材の全体を不透光に着色して外部への光の拡散を抑制するとともに、一部に例えば細孔が形成された透光部9aを設け、光ガイド体8によってガイドされる光の一部を透過させる加飾フィルムが挙げられる。
また、表示体9としては、光を透光する透光部9aを有する樹脂成形体が貼り付けられてもよい。
(Display body)
A display member 9 having a light-transmitting portion 9a that transmits light may be attached to the surface of the sensor 5 . As the display body 9, the entire film base material is colored opaque to suppress the diffusion of light to the outside, and a light-transmitting part 9a having, for example, pores formed in a part thereof is provided to form a light guide body. A decorative film that transmits part of the light guided by 8 can be mentioned.
Further, as the display body 9, a resin molded body having a light-transmitting portion 9a may be attached.

このように、発光素子4が配置された基材2の一面2aとセンサ5が配置され折り返された基材2の一面2a面とを互いに離隔させて固定する光透過性の樹脂層7を形成することで、センサ領域と発光領域の固定を一回の成形で行うことができる。また、樹脂層7内に空間部71を形成し、空間部71内に発光素子4からの光をセンサ5に向かってガイドする光ガイド体8を配置することで発光素子4から出射する光の漏れを抑制して発光領域と消灯領域の区別を明確にすることが可能となる。 In this way, the light-transmitting resin layer 7 is formed to separate and fix the one surface 2a of the substrate 2 on which the light emitting element 4 is arranged and the one surface 2a of the substrate 2 on which the sensor 5 is arranged and folded back. By doing so, the fixing of the sensor region and the light emitting region can be performed by one molding. Further, by forming a space 71 in the resin layer 7 and arranging the light guide body 8 for guiding the light from the light emitting element 4 toward the sensor 5 in the space 71, the light emitted from the light emitting element 4 can be It is possible to suppress the leakage and clarify the distinction between the light-emitting region and the non-light-emitting region.

(2)電子装置の製造方法
図6は電子装置1の製造方法の概略の手順の一例を示すフローチャート図、図7は電子装置1の製造過程を説明するための部分断面模式図、図8は電子装置1の製造過程における賦形工程S15を説明する図である。以下、図面を参照しながら、電子装置1の製造方法について説明する。
(2) Electronic device manufacturing method FIG. 6 is a flow chart showing an example of a schematic procedure of a manufacturing method of the electronic device 1, FIG. 7 is a schematic partial cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the electronic device 1, 4A and 4B are diagrams for explaining a shaping step S15 in the manufacturing process of the electronic device 1; FIG. Hereinafter, a method for manufacturing the electronic device 1 will be described with reference to the drawings.

電子装置1は、図6に示すように、基材2の準備工程S11と、基材2上に第1導電性パターン3A、第2導電性パターン3B及びセンサ5を配置する回路形成工程S12と、基材2に貫通孔2cを形成する貫通孔形成工程S13と、回路に発光素子4と外部接続端子6を電気的に接合する接合工程S14と、回路に発光素子4及び外部接続端子6が電気的に接合され貫通孔2cが形成された基材2を型に載置して基材2に3次元形状への賦形を施す賦形工程S15、基材2を金型Kに位置決めして樹脂層7を形成する樹脂充填工程S16と、樹脂層7に光ガイド体8を配置する光ガイド体配置工程S17と、を経て製造される。 The electronic device 1, as shown in FIG. , a through hole forming step S13 for forming the through hole 2c in the base material 2, a joining step S14 for electrically joining the light emitting element 4 and the external connection terminal 6 to the circuit, and the light emitting element 4 and the external connection terminal 6 to the circuit. A shaping step S15 in which the base material 2 electrically joined and having the through holes 2c formed therein is placed in a mold and the base material 2 is shaped into a three-dimensional shape. A resin filling step S<b>16 for forming the resin layer 7 by pressing and a light guide member placement step S<b>17 for placing the light guide member 8 on the resin layer 7 are performed.

(基材の準備工程S11)
基材の準備工程S11においては、まず、所定の形状及び大きさに形成された実質的に平坦なフィルム状の基材2に第1導電性パターン3A、第2導電性パターン3B及びセンサ5の一例としての透明電極を配置するために、基材2上に金属ナノ粒子等の触媒粒子からなる下地層を所定のパターン状に形成する。また、基材2には、金属ナノ粒子等の触媒粒子からなる触媒インクを均一に塗布するために、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、溶剤処理、プライマー処理等の表面処理を施すことが好ましい。
(Base material preparation step S11)
In the base material preparation step S11, first, the first conductive pattern 3A, the second conductive pattern 3B, and the sensor 5 are formed on the substantially flat film-like base material 2 having a predetermined shape and size. In order to dispose a transparent electrode as an example, a base layer made of catalyst particles such as metal nanoparticles is formed in a predetermined pattern on the substrate 2 . In order to evenly apply the catalyst ink composed of catalyst particles such as metal nanoparticles, the substrate 2 is preferably subjected to surface treatment such as corona treatment, plasma treatment, solvent treatment, and primer treatment.

基材2上に金属ナノ粒子等の触媒粒子からなる触媒インクを塗布する方法としては、インクジェット印刷方式、シルクスクリーン印刷方式、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、フレキソ印刷方式、ローラーコーター方式、刷毛塗り方式、スプレー方式、ナイフジェットコーター方式、パッド印刷方式、グラビアオフセット印刷方式、ダイコーター方式、バーコーター方式、スピンコーター方式、コンマコーター方式、含浸コーター方式、ディスペンサー方式、メタルマスク方式が挙げられるが、本実施形態においてはインクジェット印刷方式を用いている。 Methods for applying a catalyst ink composed of catalyst particles such as metal nanoparticles on the substrate 2 include an inkjet printing method, a silk screen printing method, a gravure printing method, an offset printing method, a flexographic printing method, a roller coater method, and a brush coating method. Methods include spray method, knife jet coater method, pad printing method, gravure offset printing method, die coater method, bar coater method, spin coater method, comma coater method, impregnation coater method, dispenser method, and metal mask method. In this embodiment, an inkjet printing method is used.

具体的には、1000cps以下、例えば、2cpsから30cpsの低粘度の触媒インクをインクジェット印刷方式で塗布した後、溶媒を除去し(乾燥)、金属ナノ粒子を焼結させる(焼成)。焼成温度は、100°C~300°Cが好ましく、150°C~200°Cがより好ましい。焼成温度が低すぎると、金属ナノ粒子同士の焼結が不十分となるとともに、金属ナノ粒子以外の成分が残ることで、密着性が得られない虞がある。また、焼成温度が高すぎると、基材2の劣化や歪みが発生する虞がある。 Specifically, after applying a low-viscosity catalyst ink of 1000 cps or less, for example, 2 cps to 30 cps by an inkjet printing method, the solvent is removed (drying), and the metal nanoparticles are sintered (baking). The firing temperature is preferably 100°C to 300°C, more preferably 150°C to 200°C. If the sintering temperature is too low, the metal nanoparticles will not be sufficiently sintered, and components other than the metal nanoparticles will remain, which may result in poor adhesion. Also, if the firing temperature is too high, the base material 2 may be deteriorated or distorted.

(回路形成工程S12)
基材2上に形成された下地層に対し、銅、ニッケル、錫、銀、金などを用いて電解めっきまたは無電解めっきを行うことにより、下地層の表面および内部にめっき金属を析出させ第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bを配置する(図7A 参照)。めっき方法は公知のめっき液およびめっき処理と同様であり、具体的に無電解銅めっき、電解銅めっきが挙げられる。
また、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bは、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)/PSS、カーボン、ポリアセチレン、ポリチオフェン(PT)、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアニリン、ポリ硫黄窒化物等の有機導電性材料をインキ状、ペースト状にしたものをスクリーン印刷、転写印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法等で塗布し、焼成することにより形成してもよい。
(Circuit forming step S12)
The base layer formed on the base material 2 is subjected to electroplating or electroless plating using copper, nickel, tin, silver, gold, or the like, thereby depositing plating metal on the surface and inside of the base layer. A first conductive pattern 3A and a second conductive pattern 3B are arranged (see FIG. 7A). The plating method is the same as a known plating solution and plating treatment, specifically electroless copper plating and electrolytic copper plating.
The first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B are made of PEDOT (polyethylenedioxythiophene)/PSS, carbon, polyacetylene, polythiophene (PT), polypyrrole, polyparaphenylene, polyaniline, polysulfur nitride, or the like. It may be formed by coating an organic conductive material in the form of ink or paste by screen printing, transfer printing, offset printing, flexographic printing, ink jet method, or the like, followed by baking.

基材2上に配置された第2導電性パターン3Bの先端部にセンサ5としての透明電極を形成する。基材2上に透明電極を配置するために、基材2上にコロナ処理、プラズマ処理、溶剤処理、プライマー処理等の表面処理を施すことが好ましい。表面処理を施された基材2上に電極材料となるITOまたはIZOを含む電極材料インクを塗布する。電極材料インクを塗布する方法としては、シルクスクリーン印刷方式、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、フレキソ印刷方式、インクジェット印刷方式、ローラーコーター方式、刷毛塗り方式、スプレー方式、ナイフジェットコーター方式、パッド印刷方式、グラビアオフセット印刷方式、ダイコーター方式、バーコーター方式、スピンコーター方式、コンマコーター方式、含浸コーター方式、ディスペンサー方式、メタルマスク方式が挙げられるが、本実施形態においてはシルクスクリーン印刷方式を用いている。 A transparent electrode as a sensor 5 is formed at the tip of the second conductive pattern 3B arranged on the base material 2 . In order to dispose the transparent electrode on the base material 2, it is preferable to subject the base material 2 to surface treatment such as corona treatment, plasma treatment, solvent treatment, and primer treatment. An electrode material ink containing ITO or IZO as an electrode material is applied onto the surface-treated substrate 2 . Methods for applying the electrode material ink include silk screen printing, gravure printing, offset printing, flexo printing, inkjet printing, roller coater, brush coating, spray, knife jet coater, and pad printing. , a gravure offset printing method, a die coater method, a bar coater method, a spin coater method, a comma coater method, an impregnation coater method, a dispenser method, and a metal mask method, but in this embodiment, a silk screen printing method is used. .

(貫通孔形成工程S13)
貫通孔形成工程S13においては、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bが配置された基材2に、基材2の厚み方向に貫通する貫通孔2cを形成する(図7B 参照)。貫通孔2cは、樹脂層7に光ガイド体8を配置する空間部71を形成するための孔であり、発光素子4を四方から離隔して囲むように、配置される光ガイド体8の形状及び大きさに合わせて、その形状、大きさ、数が適宜設定される。本実施形態においては、1つの発光素子4に対して四方から離隔して囲むように発光素子4の近傍に4か所形成される。また、外部接続端子6を固定するように外部接続端子6が実装される領域の近傍に2か所形成される。
(Through hole forming step S13)
In the through-hole forming step S13, through-holes 2c penetrating in the thickness direction of the substrate 2 are formed in the substrate 2 on which the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B are arranged (see FIG. 7B). . The through hole 2c is a hole for forming a space 71 in the resin layer 7 in which the light guide body 8 is arranged. And the shape, size, and number are appropriately set according to the size. In this embodiment, they are formed at four locations in the vicinity of the light emitting element 4 so as to surround one light emitting element 4 so as to be separated from all four sides. Also, two holes are formed in the vicinity of the region where the external connection terminals 6 are mounted so as to fix the external connection terminals 6 .

(接合工程S14)
発光素子4及び外部接続端子6の接合工程S14においては、基材2上に配置された第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3B上に発光素子4及び外部接続端子6をはんだで接合するために、まず、基材2の一面2a側にソルダーレジストを例えばスクリーン印刷によって塗布する。
次に、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3B、発光素子4の端子部及び外部接続端子6のアンカー部6bにはんだペーストを塗布する。はんだペーストの塗布は、ステンシル印刷装置、スクリーン印刷装置、ディスペンサー装置等の公知の装置を用いて行うことができる。本実施形態においては、ディスペンサー装置を用いてはんだペーストを塗布する。
(Joining step S14)
In the joining step S14 of the light emitting element 4 and the external connection terminal 6, the light emitting element 4 and the external connection terminal 6 are joined onto the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B arranged on the base material 2 by soldering. To do so, first, a solder resist is applied to the one surface 2a side of the base material 2 by, for example, screen printing.
Next, solder paste is applied to the first conductive pattern 3A, the second conductive pattern 3B, the terminal portion of the light emitting element 4, and the anchor portion 6b of the external connection terminal 6. Next, as shown in FIG. Application of the solder paste can be performed using a known device such as a stencil printer, a screen printer, or a dispenser. In this embodiment, a dispenser device is used to apply the solder paste.

そして、はんだペーストを塗布後、はんだを溶融、固化させて、第1導電性パターン3A上にはんだを介して発光素子4を電気的に接合する(図7C 参照)。また、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bの端部に外部接続端子6を電気的に接合する(図7C 参照) After applying the solder paste, the solder is melted and solidified to electrically join the light emitting element 4 onto the first conductive pattern 3A through the solder (see FIG. 7C). Also, the external connection terminals 6 are electrically joined to the ends of the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B (see FIG. 7C).

はんだ付けは、レーザーはんだ付けや光焼成はんだ付けを用いてもよい。レーザーはんだ付けは、はんだ付け装置のはんだ付けヘッドからレーザー光を照射し、回路の微細な部位に発光素子4を短時間で実装することができるという利点がある。また、電気的接合を行いたい部分に選択的にレーザー光を照射することができるため、フロー式やリフロー式と比較して、発光素子4全体に熱を加えずに接合を行うことが可能となる。また、はんだ付けに代えて、応力を緩和しやすい導電性フィラーを含有する樹脂からなる導電性接着剤を用いて電気的に接合してもよい。
特に、第1導電性パターン3Aと発光素子4との接合には導電性接着剤を用いて、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bの端部と外部接続端子6のアンカー部6bとの接合にははんだ付けを用いるように使い分けをしてもよい。
For soldering, laser soldering or photo-sintering soldering may be used. Laser soldering has the advantage that the light-emitting element 4 can be mounted in a minute portion of the circuit in a short time by irradiating a laser beam from the soldering head of the soldering device. In addition, since it is possible to selectively irradiate a laser beam to a portion to be electrically bonded, it is possible to perform bonding without applying heat to the entire light emitting element 4 as compared with the flow method or the reflow method. Become. Also, instead of soldering, electrical bonding may be performed using a conductive adhesive made of a resin containing a conductive filler that easily relaxes stress.
In particular, a conductive adhesive is used to join the first conductive pattern 3A and the light emitting element 4, and the ends of the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B and the anchor portions 6b of the external connection terminals 6 are attached. It is also possible to selectively use soldering for joining with.

(賦形工程S15)
賦形工程S15においては、第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bに発光素子4及び外部接続端子6が接合され貫通孔2cが形成された基材2を、熱プレス成形、真空成形、圧空成形、真空圧空成形等の成形手段により、第2導電性パターン3B及びセンサ5が配置された領域を180度曲げて折り返し3次元形状に賦形する(図7D 参照)。
図8に示すように、賦形に用いられる型は、賦形が施された基材2の互いに向かい合う一面2a同士が後述する樹脂充填工程S16における成形に用いられる金型KのキャビティCAの形状に沿うように形成されている。
(Shaping step S15)
In the shaping step S15, the base material 2 in which the light emitting elements 4 and the external connection terminals 6 are joined to the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B and the through holes 2c are formed is subjected to hot press molding and vacuum molding. The area where the second conductive pattern 3B and the sensor 5 are arranged is bent 180 degrees and formed into a three-dimensional shape by forming means such as air pressure forming, vacuum pressure forming, etc. (see FIG. 7D).
As shown in FIG. 8, the mold used for shaping is the shape of the cavity CA of the mold K used for molding in the resin filling step S16, which will be described later, so that the surfaces 2a of the base material 2 that have been shaped are facing each other. formed along the

はじめに、図8Aに示すように、基材2を受け台11と雄型12との間に載置する。このとき、受け台11と雄型12とは基材2を軟化させることができる所定の温度に加熱されている。そして、図8Bに示すように、基材2の第2導電性パターン3B及びセンサ5が配置された領域を180度曲げて雌型13を所定の圧力で型締めすると、基材2は雄型12のコア部12aと雌型13のキャビティ部13a(不図示)との間に挟まれて賦形される。 First, as shown in FIG. 8A, the substrate 2 is placed between the cradle 11 and the male mold 12 . At this time, the cradle 11 and the male mold 12 are heated to a predetermined temperature at which the substrate 2 can be softened. Then, as shown in FIG. 8B, when the region where the second conductive pattern 3B and the sensor 5 of the base material 2 are arranged is bent 180 degrees and the female mold 13 is clamped with a predetermined pressure, the base material 2 becomes the male mold. It is sandwiched between the core portion 12a of the mold 12 and the cavity portion 13a (not shown) of the female mold 13 and shaped.

そして、雌型13を型開きして冷却する。これにより、第2導電性パターン3B及びセンサ5が配置された基材2の一面2aと発光素子4が接合された第1導電性パターン3Aが配置された基材2の一面2aとが互いに離隔して向かい合うように賦形された基材2が得られる。そして、雌型13及び雄型12から基材2を取り出し、不要部分をトリミングすることにより、樹脂層7が形成される前の基材2が得られる。 Then, the female mold 13 is opened and cooled. As a result, the one surface 2a of the substrate 2 on which the second conductive pattern 3B and the sensor 5 are arranged and the one surface 2a of the substrate 2 on which the first conductive pattern 3A to which the light emitting element 4 is bonded are separated from each other. Then, the base material 2 shaped so as to face each other is obtained. Then, the substrate 2 is taken out from the female mold 13 and the male mold 12, and the unnecessary portion is trimmed to obtain the substrate 2 before the resin layer 7 is formed.

(樹脂充填工程S16)
樹脂充填工程S16では、まず、賦形工程S15で3次元形状に賦形が施された基材2の第1導電性パターン3A及び第2導電性パターン3Bが配置された一面2aにバインダーインクを塗布して接着層ADを形成する。バインダーインクは、接着性樹脂を含み、基材2と成形される樹脂層7との接着性を向上させる。
(Resin filling step S16)
In the resin filling step S16, first, a binder ink is applied to the surface 2a of the substrate 2, which has been shaped into a three-dimensional shape in the shaping step S15, on which the first conductive pattern 3A and the second conductive pattern 3B are arranged. It is applied to form an adhesive layer AD. The binder ink contains an adhesive resin and improves the adhesiveness between the substrate 2 and the molded resin layer 7 .

次に、接着層ADが形成された基材2を金型Kに位置決めしてセットした状態(図7E 参照)で金型Kを閉じて樹脂をキャビティCAに充填する。樹脂の充填は、射出成形でなされるが、基材2に接合された発光素子4及び基材2に形成されたセンサ5に対する樹脂圧力を低減するためにキャビティCAを圧縮しながら溶融樹脂を充填する低圧成形によってもよい。
キャビティCAに充填された樹脂により、第1導電性パターン3Aが配置された基材2の一面2aと第2導電性パターン3Bが配置され折り返された基材2の一面2aとを互いに離隔させて固定する樹脂層7が形成される。また、同時に、樹脂層7には、空間部71が形成される。
Next, in a state in which the substrate 2 having the adhesive layer AD formed thereon is positioned and set in the mold K (see FIG. 7E), the mold K is closed and the cavity CA is filled with resin. The resin is filled by injection molding, and the molten resin is filled while compressing the cavity CA in order to reduce the resin pressure on the light emitting element 4 bonded to the base material 2 and the sensor 5 formed on the base material 2. Low pressure molding may be used.
The one surface 2a of the substrate 2 on which the first conductive pattern 3A is arranged and the one surface 2a of the substrate 2 on which the second conductive pattern 3B is arranged and folded are separated from each other by the resin filled in the cavity CA. A fixing resin layer 7 is formed. At the same time, a space portion 71 is formed in the resin layer 7 .

(光ガイド体配置工程S17)
光ガイド体配置工程S17では、まず、樹脂層7に形成された空間部71に挿入する光ガイド体8を準備する。光ガイド体8は、発光素子4を四方から離隔して囲い、発光素子4から出射する光の漏れを規制する壁面8aがセンサ5に向かって突出するように延びる板状体として不透光材料を含む熱可塑性樹脂材料を用いて射出成形によって形成される。
(Light guide member placement step S17)
In the light guide body placement step S17, first, the light guide body 8 to be inserted into the space 71 formed in the resin layer 7 is prepared. The light guide body 8 surrounds the light emitting element 4 from all four sides, and the wall surface 8a for restricting the leakage of the light emitted from the light emitting element 4 extends toward the sensor 5. formed by injection molding using a thermoplastic resin material containing

このように形成された光ガイド体8を基材2に形成された貫通孔2cから空間部71内に挿入して接着することで、発光素子4が配置された基材2の一面2aとセンサ5が配置された基材2の一面2aとを互いに離隔させて固定する樹脂層7に、発光素子4からの光をセンサ5に向かってガイドする光ガイド体8が配置される。そして、センサ5が配置された基材2の表面に表示体9を貼付して電子装置1を得る(図7F 参照)。 By inserting the light guide body 8 thus formed into the space 71 from the through hole 2c formed in the base material 2 and bonding it, one surface 2a of the base material 2 on which the light emitting element 4 is arranged and the sensor A light guide body 8 that guides the light from the light emitting element 4 toward the sensor 5 is arranged on the resin layer 7 that separates and fixes the one surface 2 a of the base material 2 on which the light emitting elements 5 are arranged. Then, the electronic device 1 is obtained by attaching the display member 9 to the surface of the substrate 2 on which the sensor 5 is arranged (see FIG. 7F).

光ガイド体配置工程S17においては、樹脂層7に形成された空間部71に黒色顔料又は染料を含む硬化性樹脂材料をポッティング(樹脂盛り)して、空間部71を埋める光ガイド体8Aを配置してもよい。
また、黒色顔料又は染料を含む塗料、あるいは、光を透過させずに反射する白色顔料又は染料を含む塗料を空間部71の壁面71aに塗布して空間部71に光ガイド体8Bを配置してもよい。
In the light guide body placement step S17, a curable resin material containing a black pigment or dye is potted (resin-filled) in the space 71 formed in the resin layer 7, and the light guide body 8A filling the space 71 is placed. You may
Further, the wall surface 71a of the space 71 is coated with a paint containing a black pigment or dye, or a paint containing a white pigment or dye that reflects without transmitting light, and the light guide body 8B is arranged in the space 71. good too.

本実施形態に係る電子装置1の製造方法によれば、発光素子4が配置された基材2の一面2aとセンサ5が配置され折り返された基材2の一面2a面とを互いに離隔させて固定する光透過性の樹脂層7を形成することで、センサ領域と発光領域の固定を一回の成形で行い、電子装置1を製造する工程を少なくすることが可能となっている。また、折り返した基材2を互いに離隔させて樹脂層7を形成することで、基材2と樹脂層7の材料としての収縮率に差が有った場合であっても、樹脂層7の両面で一つの繋がった基材2が引っ張り合い、樹脂層7の反り及び変形が抑制される。 According to the method for manufacturing the electronic device 1 according to the present embodiment, the one surface 2a of the substrate 2 on which the light emitting element 4 is arranged and the one surface 2a of the substrate 2 on which the sensor 5 is arranged and folded are separated from each other. By forming the light-transmitting resin layer 7 to be fixed, the fixing of the sensor region and the light emitting region can be performed by one-time molding, and the number of processes for manufacturing the electronic device 1 can be reduced. In addition, by forming the resin layer 7 by separating the folded base material 2 from each other, even if there is a difference in the shrinkage rate as the material of the base material 2 and the resin layer 7, the resin layer 7 The base material 2 connected on both sides is pulled together, and warp and deformation of the resin layer 7 are suppressed.

1・・・電子装置
2・・・基材
3A・・・第1導電性パターン、3B・・・第2導電性パターン
4・・・発光素子
5・・・センサ
6・・・外部接続端子
7・・・樹脂層、71・・・空間部、71a・・・壁部
8、8A、8B・・・光ガイド体
9・・・表示体、9a・・・透光部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Electronic device 2... Base material 3A... 1st conductive pattern, 3B... 2nd conductive pattern 4... Light emitting element 5... Sensor 6... External connection terminal 7 Resin layer 71 Spatial portion 71a Wall portion 8, 8A, 8B Light guide body 9 Display body 9a Translucent portion

Claims (4)

変形可能な基材の一面に配置された第1導電性パターンと電気的に接合され光を出射する発光素子と、折り返された前記基材の一面に配置された第2導電性パターンと電気的に接合されたセンサと、前記第1導電性パターン及び前記第2導電性パターンと電気的に接合され外部に設けられた外部素子と電気的に接続するための外部接続端子と、前記第1導電性パターンが配置された前記基材の一面と前記第2導電性パターンが配置され折り返された前記基材の一面とを互いに離隔させて固定する光透過性の樹脂層と、前記発光素子を四方から離隔して囲い前記光の漏れを規制する壁面を有し、前記発光素子からの前記光を前記センサに向かってガイドする光ガイド体と、を備えた電子装置の製造方法であって、
前記基材を準備する工程と、
前記基材上に前記第1導電性パターン、前記第2導電性パターン及び前記センサを配置する工程と、
前記基材に貫通孔を形成する工程と、
前記第1導電性パターンと前記発光素子とを接合手段で電気的に接合する工程と、
前記貫通孔が形成された前記基材を型に載置して前記基材に折り返し形状への賦形を施す工程と、
前記賦形が施された前記基材を金型に載置して前記樹脂層を成形する工程と、
前記樹脂層に前記光ガイド体を配置する工程と、
を含む、
ことを特徴とする電子装置の製造方法。
a light emitting element electrically connected to a first conductive pattern disposed on one surface of a deformable base material and emitting light; and a second conductive pattern disposed on one surface of the folded base material and electrically connected to the an external connection terminal for electrically connecting to an external element electrically connected to the first conductive pattern and the second conductive pattern and provided outside; the first conductive a light-transmissive resin layer for separating and fixing one surface of the substrate on which the conductive pattern is arranged and one surface of the substrate on which the second conductive pattern is arranged and folded back; A method of manufacturing an electronic device, comprising: a light guide body having a wall surface that surrounds and restricts leakage of the light, and guides the light from the light emitting element toward the sensor,
preparing the substrate;
disposing the first conductive pattern, the second conductive pattern and the sensor on the substrate;
forming a through-hole in the base material;
electrically joining the first conductive pattern and the light emitting element with a joining means;
a step of placing the base material having the through-hole formed in a mold and shaping the base material into a folded shape;
A step of placing the shaped base material in a mold and molding the resin layer;
disposing the light guide body on the resin layer;
including,
A method of manufacturing an electronic device, characterized by:
前記基材の前記センサが配置された領域は、前記発光素子が配置された領域の一端側を起点として折り返され、一対の前記発光素子と前記センサが対向して向かい合っている、
ことを特徴とする請求項1に記載の電子装置の製造方法
The area of the base material where the sensor is arranged is folded back with one end side of the area where the light emitting element is arranged as a starting point, and the pair of the light emitting element and the sensor face each other.
2. The method of manufacturing an electronic device according to claim 1, wherein:
前記第2導電性パターンは、前記基材が折り返される領域では前記基材が厚み方向に変形した場合に伸び率が小さくなるようにミアンダ形状で形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の電子装置の製造方法
The second conductive pattern is formed in a meandering shape so that the elongation rate becomes small when the base material is deformed in the thickness direction in the region where the base material is folded back,
2. The method of manufacturing an electronic device according to claim 1, wherein:
前記第2導電性パターンが、Cu、Ni、Ag、Auの中から選択される少なくとも1種の金属よりなる金属めっき層であるか、PEDOT/PSS、CNT、グラフェン、ポリアセチレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリアニリン、ポリ硫黄窒化物のうち少なくともいずれか一つを含む有機電極パターンである、
ことを特徴とする請求項に記載の電子装置の製造方法
The second conductive pattern is a metal plating layer made of at least one metal selected from Cu, Ni, Ag, and Au, or PEDOT/PSS, CNT, graphene, polyacetylene, polythiophene, polypyrrole, poly An organic electrode pattern containing at least one of paraphenylene, polyaniline, and polysulfur nitride,
4. The method of manufacturing an electronic device according to claim 3 , wherein:
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