JP7283750B2 - Facing device and facing method - Google Patents

Facing device and facing method Download PDF

Info

Publication number
JP7283750B2
JP7283750B2 JP2019224080A JP2019224080A JP7283750B2 JP 7283750 B2 JP7283750 B2 JP 7283750B2 JP 2019224080 A JP2019224080 A JP 2019224080A JP 2019224080 A JP2019224080 A JP 2019224080A JP 7283750 B2 JP7283750 B2 JP 7283750B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
facing
polishing
autofacing
pad
surface plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019224080A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021091054A (en
Inventor
裕介 井上
遊 田山
剛敏 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SpeedFam Co Ltd
Original Assignee
SpeedFam Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SpeedFam Co Ltd filed Critical SpeedFam Co Ltd
Priority to JP2019224080A priority Critical patent/JP7283750B2/en
Publication of JP2021091054A publication Critical patent/JP2021091054A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7283750B2 publication Critical patent/JP7283750B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Description

本発明は、基板材料を研磨加工する研磨機の定盤に貼り付けられた研磨パッドをフェーシングするフェーシング装置及びフェーシング方法に関する発明である。 The present invention relates to a facing apparatus and a facing method for facing a polishing pad attached to a surface plate of a polishing machine for polishing a substrate material.

従来から、シリコンウェーハ等の基板材料を研磨加工する研磨機の下定盤及び上定盤にそれぞれ貼り付けられた研磨パッドをドレッシングするドレッシング装置が知られている。この従来のドレッシング装置では、研磨加工中の上下定盤に生じる変形に等しい変形を熱負荷や応力負荷により予め定盤に与えた上でドレッシングを行う(例えば、特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a dressing device for dressing polishing pads respectively attached to a lower surface plate and an upper surface plate of a polishing machine for polishing a substrate material such as a silicon wafer. In this conventional dressing apparatus, the dressing is performed after the surface plates are preliminarily subjected to deformation equivalent to the deformation that occurs in the upper and lower surface plates by heat load or stress load (see, for example, Patent Document 1).

特開2002-46058号公報JP-A-2002-46058

ところで、研磨機の定盤は、基板材料の研磨加工開始前は冷えており、研磨加工を開始すると温度が上昇し始め、この研磨加工を継続的に繰り返し行うことで所定の温度に安定する。このとき、研磨機の定盤には、定盤温度の変動に伴って微妙な形状変化が生じる。しかしながら、この微妙な形状変化を定盤に与えてドレッシングを行うことは非常に困難であるため、研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでの間、つまり、研磨開始直後の定盤温度が不安定なときは、研磨パッドの表面に適切な表面形状を創生することは難しかった。これにより、基板材料の研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでの間、基板材料の高精度研磨加工の歩留まりが低下するという問題があった。 By the way, the surface plate of the polishing machine is cold before starting the polishing process of the substrate material, and when the polishing process starts, the temperature starts to rise, and by continuously repeating this polishing process, the temperature is stabilized at a predetermined temperature. At this time, the surface plate of the polishing machine undergoes a subtle change in shape as the surface plate temperature fluctuates. However, it is very difficult to apply this subtle shape change to the surface plate for dressing. When unstable, it has been difficult to create a suitable surface topography on the surface of the polishing pad. As a result, there is a problem that the yield of high-precision polishing of the substrate material is lowered during the period from the start of the polishing of the substrate material to the stabilization of the surface plate temperature.

本発明は、上記問題に着目してなされたもので、研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでの間に行なう基板材料の高精度研磨加工の歩留まりを向上させることができるフェーシング装置及びフェーシング方法を提供することを課題としている。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and is a facing apparatus and facing capable of improving the yield of high-precision polishing of a substrate material performed from the start of polishing until the surface plate temperature stabilizes. The challenge is to provide a method.

上記目的を達成するため、本発明のフェーシング装置は、基板材料を研磨加工する研磨機の定盤に設けられた研磨パッドに押し付けられるフェーシング部材と、フェーシング部材を移動させる駆動機構と、駆動機構を制御して研磨パッドをフェーシングする制御部と、を備えており、さらに、基板材料の研磨開始から定盤の温度が安定するまでの間に実行するフェーシングである第1オートフェーシングの実行レシピを、定盤の形状の変化に基づいて設定するレシピ設定部を備えている。そして、制御部は、第1オートフェーシングの実行レシピに従って駆動機構を制御し、基板材料の研磨開始から定盤の温度が安定するまでの間、第1オートフェーシングを行う。 To achieve the above object, the facing apparatus of the present invention comprises a facing member pressed against a polishing pad provided on a surface plate of a polishing machine for polishing a substrate material, a drive mechanism for moving the facing member, and a drive mechanism. a controller that controls and faces the polishing pad; and a first autofacing execution recipe that is a facing that is executed from the start of polishing of the substrate material until the temperature of the surface plate stabilizes, comprising: A recipe setting unit is provided for setting based on changes in the shape of the platen. Then, the control unit controls the drive mechanism according to the execution recipe of the first autofacing, and performs the first autofacing from the start of polishing of the substrate material until the temperature of the platen stabilizes.

上記目的を達成するため、本発明のフェーシング方法は、基板材料を研磨加工する研磨機の定盤に設けられた研磨パッドにフェーシング部材を押し付けながらフェーシング部材を移動させることで研磨パッドをフェーシングする。ここで、基板材料の研磨開始から定盤の温度が安定するまでの間に実行するフェーシングである第1オートフェーシングの実行レシピを、定盤の形状の変化に基づいて設定する第1ステップと、第1ステップにて設定された第1オートフェーシングの実行レシピに従って、基板材料の研磨開始から定盤の温度が安定するまでの間、第1オートフェーシングを行う第2ステップと、を有する。 In order to achieve the above object, the facing method of the present invention faces the polishing pad by moving the facing member while pressing the facing member against the polishing pad provided on the surface plate of the polishing machine that polishes the substrate material. Here, a first step of setting an execution recipe for a first autofacing, which is a facing performed from the start of polishing of the substrate material until the temperature of the platen stabilizes, based on changes in the shape of the platen; and a second step of performing the first autofacing from the start of polishing of the substrate material until the temperature of the platen stabilizes according to the execution recipe of the first autofacing set in the first step.

本発明のフェーシング装置及びフェーシング方法では、基板材料の研磨開始から定盤の温度が安定するまでの間、定盤の形状の変化に基づいて設定された実行レシピに基づいて第1オートフェーシングを行う。これにより、定盤温度の変動によって定盤に微妙な形状変化が生じていても、研磨パッドの表面に適切な表面形状を創生することが可能となる。よって、研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでの間に行なう基板材料の高精度研磨加工の歩留まりを向上させることができる。 In the facing apparatus and facing method of the present invention, from the start of polishing of the substrate material until the temperature of the surface plate stabilizes, the first autofacing is performed based on the execution recipe set based on the change in the shape of the surface plate. . This makes it possible to create an appropriate surface shape on the surface of the polishing pad even if the surface plate undergoes a slight change in shape due to fluctuations in the temperature of the surface plate. Therefore, it is possible to improve the yield of high-precision polishing of the substrate material performed from the start of polishing until the temperature of the platen stabilizes.

実施例1の両面研磨機及びフェーシング装置の概略構成を模式的に示す説明図である。1 is an explanatory view schematically showing the schematic configuration of a double-side polishing machine and a facing device of Example 1. FIG. 実施例1のフェーシング装置の動作を模式的に示す平面図である。4 is a plan view schematically showing the operation of the facing device of Example 1. FIG. 実施例1のフェーシング装置を用いたフェーシング制御処理のステップS1~ステップS10の流れを示すフローチャートである。4 is a flow chart showing the flow of steps S1 to S10 of facing control processing using the facing apparatus of the first embodiment; 実施例1のフェーシング装置を用いたフェーシング制御処理のステップS11~ステップS29の流れを示すフローチャートである。5 is a flow chart showing the flow of steps S11 to S29 of facing control processing using the facing apparatus of the first embodiment; 比較例のドレッシング制御処理の流れを示すフローチャートである。It is a flow chart which shows a flow of dressing control processing of a comparative example. ワークの研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでのパッドを介した理想的な定盤圧力分布からの乖離度合いの変化を示すグラフである。4 is a graph showing changes in the degree of divergence from the ideal surface plate pressure distribution through the pad from the start of polishing of the workpiece until the temperature of the surface plate stabilizes. 比較例のドレッシング装置での、定盤温度安定後からパッドライフ到達までの理想パッド状態からの乖離度合いの変化を示すグラフである。7 is a graph showing changes in the degree of deviation from the ideal pad state from after the surface plate temperature is stabilized until the pad life is reached, in the dressing device of the comparative example. 実施例1のフェーシング装置での、定盤温度安定後からパッドライフ到達までの理想パッド状態からの乖離度合いの変化を示すグラフである。5 is a graph showing changes in the degree of deviation from the ideal pad state from after the surface plate temperature is stabilized until the pad life is reached, in the facing device of Example 1. FIG. フェーシング装置の駆動機構の変形例を模式的に示す平面図である。FIG. 11 is a plan view schematically showing a modification of the driving mechanism of the facing device;

以下、本発明のフェーシング装置を実施するための形態を、図面に示す実施例1に基づいて説明する。 A mode for carrying out the facing device of the present invention will be described below based on Embodiment 1 shown in the drawings.

(実施例1)
以下、実施例1のフェーシング装置1の構成を図1及び図2に基づいて説明する。
(Example 1)
The configuration of the facing device 1 of Example 1 will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. FIG.

実施例1のフェーシング装置1は、薄板状のワーク(基板材料)の表裏両面を研磨加工する両面研磨機10の下定盤11に貼り付けられた研磨パッド11aと、この両面研磨機10の上定盤12に貼り付けられた研磨パッド12aとをフェーシング及びドレッシングする装置である。ここで「フェーシング」とは、研磨パッド表面の変性物等を除去し、粗し、目立てを行いつつ、所望のパッド形状や、所望のパッド状態(所望の表面粗さ等)を創生する目的でフェーシング部材22を用いて研磨パッド11a、12aの表面を研削することである。一方、「ドレッシング」とは、フェーシングと異なり所望のパッド形状や所望のパッド状態の創生は行わず、研磨パッドの表面に倣って研削し、研磨パッド表面の変性物等を除去し、粗し、目立てを行うことである。なお、実施例1のフェーシング装置1では、共通のフェーシングヘッド2を使用してフェーシングとドレッシングを行う。 The facing apparatus 1 of Embodiment 1 comprises a polishing pad 11a attached to a lower surface plate 11 of a double-sided polishing machine 10 for polishing both the front and back surfaces of a thin plate-like work (substrate material), and an upper surface of the double-sided polishing machine 10. It is a device for facing and dressing the polishing pad 12a attached to the disk 12. FIG. Here, "facing" refers to the purpose of creating a desired pad shape and desired pad state (desired surface roughness, etc.) while removing degraded substances from the surface of the polishing pad, roughening, and dressing. , the facing member 22 is used to grind the surfaces of the polishing pads 11a and 12a. On the other hand, "dressing" differs from facing in that it does not create the desired pad shape or desired pad state, but instead grinds along the surface of the polishing pad to remove degraded substances on the surface of the polishing pad and roughen the surface. , is to sharpen. In the facing apparatus 1 of Example 1, the common facing head 2 is used for facing and dressing.

このフェーシング装置1によって研磨パッド11a、12aをフェーシングやドレッシングするには、まず、両面研磨機10の下定盤11と上定盤12との間に、フェーシング部材22が設けられたフェーシングヘッド2を入れ込む。そして、フェーシングヘッド2を下定盤11と上定盤12で挟み込むと共に、図示しない押圧機構によってフェーシング部材22を研磨パッド11a、12aに押し付ける。その後、下定盤11を第1の方向(例えば時計回り方向)に回転させ、上定盤12を第1の方向に対して逆向きの第2の方向(例えば反時計回り方向)に回転させる。これにより、研磨パッド11a、12aとフェーシング部材22とが相対運動し、研磨パッド11a、12aをフェーシング又はドレッシングすることができる。 In order to face or dress the polishing pads 11a and 12a with this facing apparatus 1, first, the facing head 2 provided with the facing member 22 is inserted between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 of the double-sided polishing machine 10. enter. The facing head 2 is sandwiched between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12, and the facing member 22 is pressed against the polishing pads 11a and 12a by a pressing mechanism (not shown). After that, the lower surface plate 11 is rotated in a first direction (for example, clockwise direction), and the upper surface plate 12 is rotated in a second direction opposite to the first direction (for example, counterclockwise direction). Thereby, the polishing pads 11a and 12a and the facing member 22 move relative to each other, and the polishing pads 11a and 12a can be faced or dressed.

フェーシング装置1は、フェーシングヘッド2と、フェーシングヘッド2を移動させる駆動機構3と、駆動機構3を制御する制御部4と、フェーシング又はドレッシング時の実行レシピを設定するレシピ設定部5と、を備えている。 The facing apparatus 1 includes a facing head 2, a driving mechanism 3 for moving the facing head 2, a control section 4 for controlling the driving mechanism 3, and a recipe setting section 5 for setting an execution recipe for facing or dressing. ing.

フェーシングヘッド2は、図1に示すように、支持部材21と、一対のフェーシング部材22、22と、を備えている。 The facing head 2 includes a support member 21 and a pair of facing members 22, 22, as shown in FIG.

ここで、支持部材21は、金属製等の剛体であり、不図示の押圧機構を備えると共に、洗浄水又は圧縮空気等の流体を噴射可能な噴出孔が形成されている。押圧機構は、例えば、支持部材21から上方又は下方に向かって出没するピストンを有する動力シリンダである。 Here, the support member 21 is a rigid body made of metal or the like, has a pressing mechanism (not shown), and is formed with ejection holes through which fluid such as cleaning water or compressed air can be ejected. The pressing mechanism is, for example, a power cylinder having a piston that protrudes upward or downward from the support member 21 .

一対のフェーシング部材22、22は、研磨パッド11a、12aにそれぞれ接触して研削する砥石である。一対のフェーシング部材22、22は、支持部材21の上面及び下面のうち、押圧機構で押圧可能な位置にそれぞれ設けられている。そして、フェーシング部材22は、押圧機構によって押圧されることで研磨パッド11a、12aに押し付けられる。なお、各フェーシング部材22は、ここでは、鉄や炭素鋼等からなる台金の表面に形成したメッキ層にダイヤモンド砥粒やCBN(立方晶窒化ホウ素)砥粒を固着して形成されている。また、フェーシング部材22としては、他にも、金属製線材やセラミック等の機能表面材を用いてもよい。 The pair of facing members 22, 22 are grindstones that grind by contacting the polishing pads 11a, 12a, respectively. The pair of facing members 22 , 22 are provided on the top and bottom surfaces of the support member 21 at positions that can be pressed by the pressing mechanism. The facing member 22 is pressed against the polishing pads 11a and 12a by being pressed by the pressing mechanism. Here, each facing member 22 is formed by adhering diamond abrasive grains or CBN (cubic boron nitride) abrasive grains to a plated layer formed on the surface of a base metal made of iron, carbon steel, or the like. As the facing member 22, other functional surface materials such as metal wires and ceramics may be used.

駆動機構3は、図2に示すように、第1アーム31と、第2アーム32と、回転モータ(揺動アクチュエータ)33と、を備えた、いわゆるスライダリンク機構である。この駆動機構3では、フェーシングヘッド2を第1アーム31と第2アーム32で支持する。 The drive mechanism 3 is a so-called slider link mechanism including a first arm 31, a second arm 32, and a rotary motor (swing actuator) 33, as shown in FIG. In this driving mechanism 3 , the facing head 2 is supported by the first arm 31 and the second arm 32 .

第1アーム31は、水平方向に延在されたパイプ部材であり、先端部31aにフェーシング部材22を備えたフェーシングヘッド2が固定されている。また、第1アーム31の基端部31bは、回転軸34の周面に固定されている。ここで、回転軸34は、軸方向が鉛直に沿って起立した軸部材であり、回転モータ33によって回転させられる。そして、第1アーム31は、回転軸34が回転することで水平方向に揺動し、先端部31aが回転軸34を中心にした円弧状の軌道2aに沿って移動する。これにより、第1アーム31の先端部31aに固定されたフェーシングヘッド2は、下定盤11と上定盤12の間から出入りする。なお、第1アーム31は、使用時以外はフェーシングヘッド2が下定盤11と上定盤12の間から退避する位置に回動させられる。また、この第1アーム31の内部には、フェーシングヘッド2から噴出する洗浄水等が流れる流路が形成されていてもよい。 The first arm 31 is a horizontally extending pipe member, and the facing head 2 having the facing member 22 is fixed to the tip 31a. A base end portion 31 b of the first arm 31 is fixed to the peripheral surface of the rotating shaft 34 . Here, the rotary shaft 34 is a shaft member whose axial direction is vertical and is rotated by the rotary motor 33 . The rotation of the rotating shaft 34 causes the first arm 31 to swing horizontally, and the distal end portion 31a moves along the arc-shaped track 2a centering on the rotating shaft 34 . As a result, the facing head 2 fixed to the distal end portion 31 a of the first arm 31 moves in and out between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 . The first arm 31 is rotated to a position where the facing head 2 is retracted from between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 when not in use. Further, a flow path may be formed inside the first arm 31 through which cleaning water or the like ejected from the facing head 2 flows.

第2アーム32は、水平方向に延在された棒部材であり、先端部32aが自在継手32cを介してフェーシングヘッド2に回転可能に連結されている。また、第2アーム32の基端部32bは、所定方向(図2において矢印αで示す方向)に沿って進退移動可能な軸部材35に回転可能に支持されている。なお、軸部材35は、上下定盤11、12に干渉しない位置に配置されている。 The second arm 32 is a bar member extending in the horizontal direction, and the tip 32a is rotatably connected to the facing head 2 via a universal joint 32c. In addition, the base end portion 32b of the second arm 32 is rotatably supported by a shaft member 35 capable of advancing and retreating along a predetermined direction (the direction indicated by the arrow α in FIG. 2). In addition, the shaft member 35 is arranged at a position where it does not interfere with the upper and lower surface plates 11 and 12 .

回転モータ33は、上下定盤11、12に干渉しない位置に、出力軸が鉛直方向に沿って配置された電動モータであり、出力軸には回転軸34が固定されている。また、回転モータ33は、制御部4からの制御指令が入力され、この制御指令に基づいて駆動や停止、回転方向及び回転速度が制御される。 The rotary motor 33 is an electric motor having an output shaft arranged along the vertical direction at a position that does not interfere with the upper and lower surface plates 11 and 12, and a rotary shaft 34 is fixed to the output shaft. Further, the rotary motor 33 receives a control command from the control unit 4, and based on this control command, its driving, stopping, rotation direction, and rotation speed are controlled.

制御部4は、CPU(Central Processing Unit)からなる制御演算部やメモリ等を備え、メモリに記憶されたプログラムや、レシピ設定部5から入力された各種フェーシング又はドレッシングの実行レシピに従って回転モータ33に制御指令を出力し、駆動機構3の動作を制御する。また、この制御部4は、レシピ設定部5に対してリクエスト信号を出力することで、研磨加工中又は研磨終了時のワークの形状(以下、「ワークの研磨状態」という)の情報や、両面研磨機10での研磨加工の実行回数(以下「バッチ数」という)の情報等の必要情報を得ることができる。 The control unit 4 includes a control calculation unit composed of a CPU (Central Processing Unit), a memory, etc., and controls the rotary motor 33 according to programs stored in the memory and various facing or dressing execution recipes input from the recipe setting unit 5. It outputs a control command and controls the operation of the driving mechanism 3 . By outputting a request signal to the recipe setting unit 5, the control unit 4 also outputs information on the shape of the work during polishing or at the end of polishing (hereinafter referred to as "polishing state of the work"), information on both sides of the work, and It is possible to obtain necessary information such as information on the number of times polishing has been performed in the polishing machine 10 (hereinafter referred to as "batch number").

そして、この制御部4は、バッチ数等の情報に基づいて、両面研磨機10での研磨開始のタイミングと、上下定盤11、12の温度が安定したタイミングとをそれぞれ判断する。制御部4は、両面研磨機10での研磨開始の判断後、レシピ設定部5から第1オートフェーシングの実行レシピを読み出す。そして、制御部4は、研磨開始から上下定盤11、12の温度が安定したと判断するまでの間、ワークの研磨加工を行うごとに、第1オートフェーシングの実行レシピに従って回転モータ33に制御指令を出力し、駆動機構3を制御する。これにより、ワークの研磨開始から上下定盤11、12の温度が安定したと判断されるまでの間、所定の間隔で第1オートフェーシングが行われる。なお、第1オートフェーシングの実行間隔は、例えば、ワークの研磨加工を実行するごと、又は、所定のバッチ数ごと等任意に設定することができる。 Based on information such as the number of batches, the control unit 4 determines the timing for starting polishing in the double-side polishing machine 10 and the timing for stabilizing the temperatures of the upper and lower platens 11 and 12, respectively. After judging the start of polishing by the double-side polishing machine 10 , the control section 4 reads the execution recipe of the first autofacing from the recipe setting section 5 . The controller 4 controls the rotary motor 33 in accordance with the execution recipe of the first autofacing each time the workpiece is polished from the start of polishing until it is determined that the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 have stabilized. It outputs commands and controls the drive mechanism 3 . As a result, the first autofacing is performed at predetermined intervals from the start of polishing of the workpiece until it is determined that the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 have stabilized. Note that the execution interval of the first autofacing can be arbitrarily set, for example, each time the workpiece is polished, or every predetermined number of batches.

ここで、「第1オートフェーシング」とは、ワークの研磨開始から上下定盤11、12の温度が安定したと判断されるまでの間に実行するフェーシングであり、上下定盤11、12の形状変化に基づいてパッド表面を部分的又は全面的にフェーシングする。第1オートフェーシングでは、研磨パッド11a、12aの双方を同時にフェーシングしてもよいし、どちらか一方をフェーシングしたり、研磨パッド11a、12aを交互にフェーシングしたりしてもよい。また、「上下定盤11、12の温度が安定したと判断される」とは、ワークの研磨加工中に生じる定盤の温度変化が収束し、定盤温度が安定したと判断されることである。すなわち、研磨加工の開始時には、上下定盤11、12はいずれも冷えており、定盤温度は比較的低温になっている。ワークの研磨加工を行うことで次第に定盤温度は上昇し、所定の温度に達すると、温度上昇が収束して安定する。ここでは、研磨パッド11a、12aの温度や、定盤温度を計測して温度収束を判断してもよいし、研磨加工条件や研磨加工時の環境条件ごとに予め設定した所定バッチ数の研磨加工が終了したときに、定盤温度が安定したと判断してもよい。さらに、定盤間距離に基づいて定盤温度の収束判断を行ってもよい。 Here, the "first autofacing" is a facing that is executed from the start of polishing of the workpiece until it is determined that the temperature of the upper and lower surface plates 11, 12 has stabilized. Partially or fully facing the pad surface based on the change. In the first autofacing, both of the polishing pads 11a and 12a may be faced at the same time, either one of them may be faced, or the polishing pads 11a and 12a may be faced alternately. Further, "it is determined that the temperature of the upper and lower surface plates 11 and 12 has stabilized" means that it is determined that the temperature change of the surface plates that occurs during the polishing process of the workpiece has converged and the temperature of the surface plates has stabilized. be. That is, both the upper and lower surface plates 11 and 12 are cold at the start of polishing, and the surface plate temperature is relatively low. As the workpiece is polished, the surface plate temperature gradually rises, and when it reaches a predetermined temperature, the temperature rise converges and stabilizes. Here, temperature convergence may be determined by measuring the temperatures of the polishing pads 11a and 12a and the surface plate temperature. is completed, it may be determined that the platen temperature has stabilized. Furthermore, the convergence determination of the surface plate temperature may be performed based on the distance between the surface plates.

また、制御部4は、上下定盤11、12の温度が安定したと判断した後、バッチ数及び研磨加工時の環境条件と、ワークの研磨状態の推移に基づいて、第2オートフェーシングを実行するための所定条件の成立を判断する。制御部4は、所定条件が成立したと判断したとき、レシピ設定部5から第2オートフェーシングの実行レシピを読み出す。そして、制御部4は、第2オートフェーシングの実行レシピに従って回転モータ33に制御指令を出力し、駆動機構3を制御する。これにより、上下定盤11、12の温度安定後、第2オートフェーシングが行われる。 Further, after determining that the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 have stabilized, the control unit 4 executes the second autofacing based on the number of batches, the environmental conditions during the polishing process, and the transition of the polishing state of the workpiece. It is determined whether or not a predetermined condition is met. The control unit 4 reads the execution recipe of the second autofacing from the recipe setting unit 5 when determining that the predetermined condition is satisfied. Then, the control unit 4 outputs a control command to the rotary motor 33 according to the execution recipe of the second autofacing, and controls the drive mechanism 3 . As a result, after the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized, the second autofacing is performed.

ここで、「第2オートフェーシング」とは、定盤温度安定後、所定条件が成立したと判断されたときに実行するフェーシングであり、定盤温度安定後のワークの研磨環境の変化に基づいてパッド表面を部分的又は全面的にフェーシングする。第2オートフェーシングでは、研磨パッド11a、12aの双方を同時にフェーシングしてもよいし、どちらか一方をフェーシングしたり、研磨パッド11a、12aを交互にフェーシングしたりしてもよい。また、「ワークの研磨環境」とは、ワークの研磨状態に影響を与える要因である。具体的には、上下定盤11、12やその支持体の局部的な温度や、研磨加工時の定盤間距離、長期蓄熱による定盤形状の変化、両面研磨機10の駆動モータ負荷率、キャリアの劣化、研磨パッド11a、12aの摩耗・表面粗さ・蓄熱・温度分布、上下定盤11、12を冷却する冷却水の温度、研磨加工時に供給されるスラリの種類や温度、上下定盤11、12の傾き量等である。第2オートフェーシングでは、このようなワークの研磨環境の変化の程度(度合い)に基づいて実行される。 Here, the "second auto facing" is a facing that is executed when it is determined that a predetermined condition is satisfied after the surface plate temperature is stabilized, and is based on changes in the workpiece polishing environment after the surface plate temperature is stabilized. Facing the pad surface partially or entirely. In the second autofacing, both of the polishing pads 11a and 12a may be faced at the same time, either one of them may be faced, or the polishing pads 11a and 12a may be faced alternately. Further, the "polishing environment of the work" is a factor that affects the polishing state of the work. Specifically, the local temperature of the upper and lower surface plates 11 and 12 and their support, the distance between the surface plates during polishing, the change in surface plate shape due to long-term heat accumulation, the drive motor load factor of the double-sided polishing machine 10, Deterioration of carrier, wear/surface roughness/heat accumulation/temperature distribution of polishing pads 11a and 12a, temperature of cooling water for cooling upper and lower surface plates 11 and 12, type and temperature of slurry supplied during polishing, upper and lower surface plates 11, 12 and the like. The second autofacing is performed based on the degree of change in the polishing environment of the workpiece.

さらに、「所定条件が成立したと判断されるとき」とは、研磨パッド11a、12aの全面を均等に目立てするドレッシングであるオートドレッシングを行うだけでは、研磨パッド11a、12aのメンテナンスができないと判断されるときである。「研磨パッド11a、12aのメンテナンス」とは、パッド表面を所望の表面形状に回復或いは変更させたり、パッド状態を回復させたりすることであり、パッド形状やパッド状態をコントロールすることである。 Further, ``when it is determined that a predetermined condition has been established'' means that it is determined that maintenance of the polishing pads 11a and 12a cannot be performed only by performing auto-dressing, which is dressing for uniformly dressing the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a. It is time to "Maintenance of the polishing pads 11a and 12a" means restoring or changing the surface shape of the pads to a desired surface shape, recovering the state of the pads, and controlling the shape and state of the pads.

また、「所定条件」は実験等に基づいて予め決められ、具体的には、例えば研磨加工を行ったバッチ数が所定バッチ数以上の場合や、ワークの研磨状態が合格基準に対して乖離傾向を示す場合等とする。 Also, the "predetermined condition" is determined in advance based on experiments, etc. Specifically, for example, when the number of batches subjected to polishing processing is greater than or equal to the predetermined number of batches, or when the polishing state of the workpiece tends to deviate from the acceptance criteria and so on.

さらに、制御部4は、研磨加工中に、ワークの形状とワークの研磨環境の変化とをリアルタイムで監視し、ワークの高精度研磨を達成し得る研磨環境を逸脱する状況であると判断した場合に、「所定条件」が成立したと判断してもよい。また、制御部4は、研磨加工後のワークの形状と、研磨加工後のワークの研磨環境との相関が、ワークの高精度研磨を達成し得る研磨環境を逸脱する状況であると判断した場合に、「所定条件」が成立したと判断してもよい。すなわち、ワークの研磨状態と、ワークの研磨環境との相関を監視して、研磨パッド11a、12aや、キャリア、スラリ等の消耗品のライフを考慮した上での研磨パッド間の圧力分布や、ワークの研磨パラメータに現れる理想パッド状態からの乖離度合いを想定可能とする。そして、この想定をバロメータにして第2オートフェーシングを実行することもできる。なお、「ワークの研磨状態の推移」は、ワークの研磨状態を時系列に並べて分析することで把握することができる。 Furthermore, the control unit 4 monitors the shape of the workpiece and changes in the polishing environment of the workpiece in real time during the polishing process, and when it determines that the situation deviates from the polishing environment capable of achieving high-precision polishing of the workpiece. Alternatively, it may be determined that the "predetermined condition" has been established. Further, when the control unit 4 determines that the correlation between the shape of the workpiece after polishing and the polishing environment of the workpiece after polishing deviates from the polishing environment in which high-precision polishing of the workpiece can be achieved. Alternatively, it may be determined that the "predetermined condition" has been established. That is, by monitoring the correlation between the polishing state of the workpiece and the polishing environment of the workpiece, the pressure distribution between the polishing pads, and the It is possible to estimate the degree of deviation from the ideal pad state that appears in the polishing parameters of the workpiece. Then, this assumption can be used as a barometer to execute the second autofacing. The "transition of the polishing state of the work" can be grasped by arranging the polishing state of the work in chronological order and analyzing it.

また、制御部4は、上下定盤11、12の温度安定後、上述の所定条件が成立したと判断されるまでは、レシピ設定部5からオートドレッシングの実行レシピを読み出す。そして、制御部4は、上下定盤11、12の温度が安定してから上記所定条件が成立するまでの間、所定の間隔でオートドレッシングの実行レシピに従って回転モータ33に制御指令を出力し、駆動機構3を制御する。これにより、研磨パッド11a、12aの全面を均等に目立てするドレッシングであるオートドレッシングが所定間隔で行われる。なお、オートドレッシングの実行間隔は、例えば、ワークの研磨加工を実行するごと、又は、所定のバッチ数ごと等任意に設定することができる。 Further, after the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized, the control section 4 reads out the auto-dressing execution recipe from the recipe setting section 5 until it is determined that the above-described predetermined condition is satisfied. Then, the control unit 4 outputs a control command to the rotary motor 33 according to the auto-dressing execution recipe at predetermined intervals from when the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized until the predetermined conditions are satisfied, It controls the drive mechanism 3 . As a result, auto-dressing, which is dressing for uniformly dressing the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a, is performed at predetermined intervals. The execution interval of the auto dressing can be arbitrarily set, for example, every time the workpiece is polished or every predetermined number of batches.

さらに、制御部4は、両面研磨機10の始動を判断したときは、レシピ設定部5から基礎フェーシングの実行レシピを読み出す。そして、制御部4は、基礎フェーシングの実行レシピに従って例えば図示しないリング状のフェーシング部材を駆動制御する。これにより、両面研磨機10の始動後、基礎フェーシングが行われる。ここで、「基礎フェーシング」とは、両面研磨機10のウォームアップ後のパッド表面形状を想定し、加工開始前に必要となる研磨パッド11a、12aの表面形状(以下「基礎パッド形状」という)を創生するフェーシングである。なお、基礎パッド形状は、上下定盤11、12の直径及び半径のそれぞれ、又はそのいずれかに対応して創生される。 Further, when the control unit 4 determines that the double-sided polishing machine 10 is to be started, the control unit 4 reads out the basic facing execution recipe from the recipe setting unit 5 . Then, the control unit 4 drives and controls, for example, a ring-shaped facing member (not shown) according to the basic facing execution recipe. As a result, basic facing is performed after the double-sided polishing machine 10 is started. Here, the "basic facing" refers to the surface shape of the polishing pads 11a and 12a required before the start of processing (hereinafter referred to as "basic pad shape"), assuming the pad surface shape after warm-up of the double-sided polishing machine 10. It is a facing that creates Note that the shape of the base pad is created corresponding to each of the diameter and radius of the upper and lower surface plates 11 and 12, or any one of them.

また、制御部4は、ワークの研磨加工後、オートドレッシングや第2オートフェーシングを行うだけでは、研磨パッド11a、12aのメンテナンスができないと判断したときは、レシピ設定部5から第2基礎フェーシングの実行レシピを読み出す。そして、制御部4は、第2基礎フェーシングの実行レシピに従って例えば図示しないリング状のフェーシング部材を駆動制御し、第2基礎フェーシングを実行する。ここで、「第2基礎フェーシング」とは、ワークの研磨加工に伴って生じたパッド表面の変性物等の除去と共に、パッド面全体にわたる研削を行ったり、パッド表面を所定形状に創生したりして、研磨パッド11a、12aに所定の表面形状(以下「第2基礎パッド形状」という)を創生するフェーシングである。なお、第2基礎パッド形状は、上下定盤11、12の直径及び半径のそれぞれ、又はそのいずれかに対応して創生される。 Further, when the controller 4 determines that the maintenance of the polishing pads 11a and 12a cannot be performed only by performing auto-dressing or second auto-facing after polishing the workpiece, the recipe setting part 5 instructs the controller 4 to perform the second basic facing. Read the run recipe. Then, the control unit 4 drives and controls, for example, a ring-shaped facing member (not shown) according to the execution recipe of the second basic facing, and executes the second basic facing. Here, the term "second basic facing" refers to the removal of denatured substances on the pad surface caused by the polishing of the workpiece, as well as the grinding of the entire pad surface and the creation of a predetermined shape on the pad surface. This is a facing that creates a predetermined surface shape (hereinafter referred to as "second base pad shape") on the polishing pads 11a and 12a. The shape of the second base pad is created corresponding to each of the diameter and radius of the upper and lower surface plates 11 and 12, or any one of them.

また、基礎フェーシング及び第2基礎フェーシングの実行時に使用されるフェーシング部材は、使用する都度、下定盤11と上定盤12の間に配置される。このため、基礎フェーシングや第2基礎フェーシングの実行により、上下定盤11、12の温度が低下する。また、基礎フェーシングや第2基礎フェーシングに使用されるフェーシング部材はリング状に限らず、任意の形状のフェーシング部材を使用可能である。 Also, the facing member used when executing the base facing and the second base facing is arranged between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 each time it is used. Therefore, the temperature of the upper and lower surface plates 11 and 12 is lowered by executing the basic facing and the second basic facing. Moreover, the facing member used for the base facing and the second base facing is not limited to the ring shape, and any shape of facing member can be used.

レシピ設定部5は、CPU(Central Processing Unit)からなる制御演算部やメモリ等を備えている。そして、このレシピ設定部5は、定盤測定器14、ワーク形状測定器15、研磨回数カウンタ16、パッド温度センサ17、情報入力手段18等から入力された各種の情報やメモリに記憶された情報等に基づいて、各種フェーシング及びドレッシングの実行レシピを自動的に演算して設定する。ここで、「フェーシング及びドレッシングの実行レシピ」とは、フェーシング中又はドレッシング中にパッドに対してフェーシング部材22やリング状のフェーシング部材を押し付ける位置や、パッドの位置ごとのフェーシング部材22等の走査速度、押し付ける時間、押し付け力等を規定する各種の条件である。 The recipe setting unit 5 includes a control calculation unit including a CPU (Central Processing Unit), a memory, and the like. The recipe setting unit 5 receives various information input from the surface plate measuring device 14, the work shape measuring device 15, the number of polishing times counter 16, the pad temperature sensor 17, the information input means 18, etc., and the information stored in the memory. etc., the execution recipes for various facings and dressings are automatically calculated and set. Here, the ``execution recipe for facing and dressing'' refers to the position at which the facing member 22 or the ring-shaped facing member is pressed against the pad during facing or dressing, and the scanning speed of the facing member 22 or the like for each pad position. , pressing time, pressing force, and the like.

定盤測定器14は、下定盤11と上定盤12との表面間距離を測定するセンサである。ワーク形状測定器15は、研磨中のワークの形状を測定するセンサである。研磨回数カウンタ16は、両面研磨機10でのバッチ数を計測するセンサである。パッド温度センサ17は、研磨パッド11a、12aの温度を測定するセンサである。情報入力手段18は、ワークの研磨環境の情報を入力する装置である。この情報入力手段18は、タッチパネルやキーボード等によって構成され、両面研磨機10のオペレータによって手動入力を可能とするものであってもよいし、各種センサによる検出値を自動的に入力するものであってもよい。 The surface plate measuring device 14 is a sensor that measures the surface-to-surface distance between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 . The work shape measuring device 15 is a sensor that measures the shape of the work being polished. The number-of-polishing counter 16 is a sensor that measures the number of batches in the double-sided polishing machine 10 . Pad temperature sensor 17 is a sensor that measures the temperature of polishing pads 11a and 12a. The information input means 18 is a device for inputting information on the polishing environment of the workpiece. The information input means 18 is composed of a touch panel, a keyboard, or the like, and may be one that allows manual input by the operator of the double-sided polishing machine 10, or one that automatically inputs detection values from various sensors. may

そして、レシピ設定部5は、第1オートフェーシングの実行レシピを設定する際、まず、定盤測定器14の測定結果から上下定盤11、12の表面形状を推定する。続いて、推定した表面形状を時系列に沿って分析することで、上下定盤11、12の表面形状の変化情報を取得する。そして、レシピ設定部5は、上下定盤11、12の表面形状の変化に基づいて、基礎パッド形状から、上下定盤11、12の温度が安定したときに必要な研磨パッド11a、12aの表面形状(以下「必要パッド形状」という)へと変形する際に所定の間隔で遷移的なパッド形状を目標パッド形状として求める。そして、この目標パッド形状と研磨パッド11a、12aの実パッド形状との差分を補正する実行レシピを、第1オートフェーシングの実行レシピとする。ここで、目標パッド形状と実パッド形状との差分を補正する実行レシピは予め実験的に決まっており、レシピ設定部5に有するメモリに記憶されている。 When setting the execution recipe for the first autofacing, the recipe setting unit 5 first estimates the surface shapes of the upper and lower surface plates 11 and 12 from the measurement result of the surface plate measuring device 14 . Subsequently, by analyzing the estimated surface shape along the time series, change information of the surface shape of the upper and lower surface plates 11 and 12 is acquired. Then, based on the change in the surface shape of the upper and lower surface plates 11 and 12, the recipe setting unit 5 calculates the required surfaces of the polishing pads 11a and 12a when the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized from the basic pad shape. A transitional pad shape is obtained as a target pad shape at predetermined intervals when the pad shape is transformed into a shape (hereinafter referred to as "necessary pad shape"). An execution recipe for correcting the difference between the target pad shape and the actual pad shape of the polishing pads 11a and 12a is used as the first autofacing execution recipe. Here, the execution recipe for correcting the difference between the target pad shape and the actual pad shape is experimentally determined in advance and stored in the memory of the recipe setting unit 5 .

また、レシピ設定部5は、第2オートフェーシングの実行レシピを設定する際、まず、ワーク形状測定器15の測定結果から、定盤温度安定後に研磨加工されているワークの研磨状態の情報を取得する。続いて、取得したワークの研磨状態の情報から、ワークの研磨環境の変化を推定する。そして、レシピ設定部5は、推定したワークの研磨環境の変化に基づき、このワークの研磨環境の変化を抑制或いは緩和するための目標パッド形状・状態を求め、この目標パッド形状・状態と研磨パッド11a、12aの実パッド形状・状態との差分を補正する実行レシピを、第2オートフェーシングの実行レシピとする。第2オートフェーシングの実行レシピは、例えば、両面研磨機10や選択された副資材(例えばスラリ等)の動的及び経時的な変性特性に基づいて経験則的又は帰納法的に求められる。 Also, when setting the execution recipe for the second autofacing, the recipe setting unit 5 first acquires information on the polishing state of the workpiece that has been polished after the surface plate temperature has stabilized from the measurement result of the workpiece shape measuring device 15. do. Subsequently, changes in the polishing environment of the work are estimated from the acquired information on the polishing state of the work. Based on the estimated change in the polishing environment of the workpiece, the recipe setting unit 5 obtains a target pad shape/state for suppressing or mitigating the change in the polishing environment of the workpiece. The execution recipe for correcting the difference from the actual pad shapes/states of 11a and 12a is set as the execution recipe for the second autofacing. The execution recipe for the second autofacing is obtained, for example, empirically or inductively based on the dynamic and time-dependent denaturation characteristics of the double-side polishing machine 10 and selected secondary materials (such as slurry).

また、レシピ設定部5は、オートドレッシングの実行レシピを設定する際、まず、情報入力手段18を介して入力された両面研磨機10の状態情報や、メモリに予め入力された情報等から定盤温度安定時の研磨パッド11a、12aの状態を認識する。そして、認識したパッド状態から求めた研磨パッド11a、12aの全面を均等に目立てするための実行レシピを、オートドレッシングの実行レシピとする。なお、研磨パッド11a、12aの全面を均等に目立てする実行レシピは、定盤温度安定時のパッド状態に応じて予め実験的に決まっており、レシピ設定部5に有するメモリに記憶されている。 Also, when setting the execution recipe for auto-dressing, the recipe setting unit 5 first determines the surface plate based on the state information of the double-sided polishing machine 10 input via the information input means 18, the information input in advance in the memory, and the like. The state of the polishing pads 11a and 12a when the temperature is stable is recognized. Then, an execution recipe for uniformly dressing the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a obtained from the recognized pad state is set as an execution recipe for auto-dressing. The execution recipe for uniformly dressing the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a is experimentally determined in advance according to the state of the pads when the platen temperature is stable, and is stored in the memory of the recipe setting unit 5.

さらに、レシピ設定部5は、基礎フェーシングの実行レシピを設定する際、まず、情報入力手段18を介して入力された両面研磨機10の状態情報や、メモリに予め入力された情報等から基礎フェーシング前の研磨パッド11a、12aの状態を認識する。そして、認識したパッド状態から求めた基礎パッド形状を創生するための実行レシピを、基礎フェーシングの実行レシピとする。ここで、基礎パッド形状を創生する実行レシピは、基礎フェーシング前のパッド状態に応じて予め実験的に決まっており、レシピ設定部5に有するメモリに記憶されている。 Furthermore, when setting the execution recipe for the basic facing, the recipe setting unit 5 first determines the basic facing from the state information of the double-side polishing machine 10 input via the information input means 18, the information previously input to the memory, and the like. The state of the previous polishing pads 11a, 12a is recognized. An execution recipe for creating a basic pad shape obtained from the recognized pad state is used as an execution recipe for basic facing. Here, the execution recipe for creating the basic pad shape is experimentally determined in advance according to the state of the pad before basic facing, and is stored in the memory of the recipe setting unit 5 .

また、レシピ設定部5は、第2基礎フェーシングの実行レシピを設定する際、まず、情報入力手段18を介して入力された両面研磨機10の状態情報や、メモリに予め入力された情報等から第2基礎フェーシング前の研磨パッド11a、12aの状態を認識する。そして、認識したパッド状態から求めた第2基礎パッド形状を創生するための実行レシピを、第2基礎フェーシングの実行レシピとする。ここで、第2基礎パッド形状を創生する実行レシピは、第2基礎フェーシング前のパッド状態に応じて予め実験的に決まっており、レシピ設定部5に有するメモリに記憶されている。 Also, when setting the execution recipe for the second basic facing, the recipe setting unit 5 first uses the state information of the double-sided polishing machine 10 input via the information input means 18, the information previously input to the memory, and the like. The state of the polishing pads 11a and 12a before the second base facing is recognized. Then, the execution recipe for creating the second basic pad shape obtained from the recognized pad state is used as the execution recipe for the second basic facing. Here, the execution recipe for creating the second base pad shape is experimentally determined in advance according to the state of the pad before the second base facing, and is stored in the memory of the recipe setting section 5 .

以下、図3A及び図3Bに基づいて、実施例1のフェーシング装置を用いたフェーシング制御処理の処理手順を説明する。 A processing procedure of facing control processing using the facing apparatus of the first embodiment will be described below with reference to FIGS. 3A and 3B.

ステップS1では、両面研磨機10にてワークの研磨加工を行うため、両面研磨機10のオペレータによって上下定盤11、12にそれぞれ研磨パッド11a、12aを貼り付け、ステップS2へ進む。 In step S1, the operator of the double-sided grinder 10 attaches polishing pads 11a and 12a to the upper and lower platens 11 and 12, respectively, in order to polish the workpiece by the double-sided grinder 10, and the process proceeds to step S2.

ステップS2では、ステップS1でのパッドの貼り付けに続き、レシピ設定部5により、基礎フェーシングの実行レシピを設定し、ステップS3へ進む。ここで、レシピ設定部5は、基礎フェーシング前の研磨パッド11a、12aの状態から、基礎パッド形状を創生するための基礎フェーシングの実行レシピを設定する。 In step S2, following the attachment of the pad in step S1, the execution recipe for basic facing is set by the recipe setting unit 5, and the process proceeds to step S3. Here, the recipe setting section 5 sets a basic facing execution recipe for creating a basic pad shape from the state of the polishing pads 11a and 12a before basic facing.

ステップS3では、ステップS2での基礎フェーシングの実行レシピの設定に続き、制御部4により、ステップS2にて設定された実行レシピに従って例えばリング状のフェーシング部材を駆動制御して基礎フェーシングを実行し、ステップS4へ進む。基礎フェーシングを実行することで、研磨パッド11a、12aの表面には、基礎パッド形状が創生される。なお、リング状のフェーシング部材は、基礎フェーシングの実行前に予め上下定盤11、12の間に配置される。 In step S3, following the setting of the basic facing execution recipe in step S2, the controller 4 drives and controls, for example, a ring-shaped facing member according to the execution recipe set in step S2 to execute basic facing, Go to step S4. By executing the basic facing, a basic pad shape is created on the surfaces of the polishing pads 11a and 12a. The ring-shaped facing member is placed between the upper and lower surface plates 11 and 12 in advance before performing the basic facing.

ステップS4では、ステップS3での基礎フェーシングの実行に続き、制御部4により、基礎フェーシングが終了したか否かを判断する。YES(基礎フェーシング終了)の場合はステップS5へ進む。NO(基礎フェーシング未了)の場合はステップS3を繰り返す。ここで、基礎フェーシングの終了は、フェーシング時間や研磨パッド11a、12aの表面形状から判断する。また、リング状のフェーシング部材は、基礎フェーシングの終了後に上下定盤11、12の間から取り外される。 In step S4, subsequent to the execution of the basic facing in step S3, the control section 4 determines whether or not the basic facing has been completed. If YES (end of basic facing), go to step S5. If NO (basic facing not completed), step S3 is repeated. Here, the end of the basic facing is judged from the facing time and the surface shape of the polishing pads 11a and 12a. Also, the ring-shaped facing member is removed from between the upper and lower surface plates 11 and 12 after completion of the basic facing.

ステップS5では、ステップS4での基礎フェーシング終了との判断に続き、両面研磨機10により、ワークの研磨加工を実行し、ステップS6へ進む。 In step S5, following the determination in step S4 that the basic facing has been completed, the double-side polishing machine 10 performs polishing of the workpiece, and the process proceeds to step S6.

ステップS6では、ステップS5でのワークの研磨加工の実行に続き、研磨加工が終了したか否かを判断する。YES(研磨加工終了)の場合はステップS7へ進む。NO(研磨加工未了)の場合はステップS5を繰り返す。ここで、ワークの研磨加工は、1バッチごとに終了と判断してもよいし、予め決められたバッチ数を研磨加工したタイミングで終了を判断してもよい。 In step S6, it is determined whether or not the polishing process has been completed following the execution of the polishing process of the workpiece in step S5. In the case of YES (end of polishing), the process proceeds to step S7. In the case of NO (polishing not completed), step S5 is repeated. Here, the polishing of the workpiece may be determined to be finished for each batch, or may be determined to be finished at the timing when a predetermined number of batches have been polished.

ステップS7では、ステップS6での研磨加工終了との判断に続き、レシピ設定部5により、第1オートフェーシングの実行レシピを設定し、ステップS8へ進む。ここで、レシピ設定部5は、定盤測定器14の測定結果から推定した上下定盤11、12の表面形状の変化に基づいて、基礎パッド形状から必要パッド形状に変形するまでの遷移的な目標パッド形状と実パッド形状との差分を補正する第1オートフェーシングの実行レシピを設定する。 In step S7, following the judgment in step S6 that the polishing process is finished, the recipe setting unit 5 sets the execution recipe for the first autofacing, and the process proceeds to step S8. Here, the recipe setting unit 5, based on the change in the surface shape of the upper and lower surface plates 11 and 12 estimated from the measurement result of the surface plate measuring device 14, changes the basic pad shape to the required pad shape. A first autofacing execution recipe for correcting the difference between the target pad shape and the actual pad shape is set.

ステップS8では、ステップS7での第1オートフェーシングの実行レシピの設定に続き、制御部4により、ステップS7にて設定された実行レシピに従って回転モータ33に制御指令を出力し、駆動機構3を制御して第1オートフェーシングを実行し、ステップS9へ進む。第1オートフェーシングを実行することで、研磨パッド11a、12aの実パッド形状は、基礎パッド形状から必要パッド形状に変形する際の遷移的な目標パッド形状となるように都度微細に形状補正される。 In step S8, following the setting of the execution recipe for the first autofacing in step S7, the control unit 4 outputs a control command to the rotary motor 33 according to the execution recipe set in step S7 to control the drive mechanism 3. Then, the first autofacing is executed, and the process proceeds to step S9. By executing the first autofacing, the actual pad shape of the polishing pads 11a and 12a is finely corrected each time so as to have a transitional target pad shape when changing from the basic pad shape to the required pad shape. .

ステップS9では、ステップS8での第1オートフェーシングの実行に続き、制御部4により、第1オートフェーシングが終了したか否かを判断する。YES(第1オートフェーシング終了)の場合はステップS10へ進む。NO(第1オートフェーシング未了)の場合はステップS8を繰り返す。ここで、第1オートフェーシングの終了は、フェーシング時間や研磨パッド11a、12aの表面形状から判断する。 In step S9, subsequent to the execution of the first autofacing in step S8, the controller 4 determines whether or not the first autofacing has ended. If YES (end of the first autofacing), the process proceeds to step S10. If NO (the first autofacing has not been completed), step S8 is repeated. Here, the end of the first autofacing is judged from the facing time and the surface shape of the polishing pads 11a and 12a.

ステップS10では、ステップS9での第1オートフェーシング終了との判断に続き、下定盤11及び上定盤12の温度が安定したか否かを判断する。YES(定盤温度安定)の場合はステップS11へ進む。NO(定盤温度不安定)の場合はステップS5へ戻る。 In step S10, it is determined whether or not the temperatures of the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 have stabilized following the determination in step S9 that the first autofacing has ended. In the case of YES (stable platen temperature), the process proceeds to step S11. In the case of NO (surface plate temperature unstable), the process returns to step S5.

ステップS11では、ステップS10での定盤温度安定との判断に続き、両面研磨機10により、ワークの研磨加工を実行し、ステップS12へ進む。 In step S11, following the determination in step S10 that the surface plate temperature is stable, the double-side polishing machine 10 performs polishing of the workpiece, and the process proceeds to step S12.

ステップS12では、ステップS11でのワークの研磨加工の実行に続き、研磨加工が終了したか否かを判断する。YES(研磨加工終了)の場合はステップS13へ進む。NO(研磨加工未了)の場合はステップS11を繰り返す。ここで、ワークの研磨加工は、1バッチごとに終了と判断してもよいし、予め決められたバッチ数を研磨加工したタイミングで終了を判断してもよい。 In step S12, it is determined whether or not the polishing process has been completed following the execution of the polishing process of the workpiece in step S11. In the case of YES (end of polishing), the process proceeds to step S13. In the case of NO (polishing not completed), step S11 is repeated. Here, the polishing of the workpiece may be determined to be finished for each batch, or may be determined to be finished at the timing when a predetermined number of batches have been polished.

ステップS13では、ステップS12での研磨加工終了との判断に続き、制御部4によりバッチ数とワークの研磨状態の推移を監視し、ステップS14へ進む。ここで、バッチ数は、研磨回数カウンタ16によって計測する。また、ワークの研磨状態の推移は、ワーク形状測定器15の測定結果を時系列に並べて分析することで把握する。 In step S13, subsequent to the determination in step S12 that the polishing process is completed, the controller 4 monitors the number of batches and the polishing state of the workpiece, and proceeds to step S14. Here, the number of batches is measured by the number-of-polishing counter 16 . Also, the transition of the polishing state of the workpiece is grasped by arranging the measurement results of the workpiece shape measuring device 15 in chronological order and analyzing them.

ステップS14では、ステップS13でのバッチ数及びワークの研磨状態の推移の監視に続き、制御部4により、ステップS13での監視結果に基づいて、研磨パッド11a、12aのメンテナンスがオートドレッシングで対応が可能か否かを判断する。YES(対応可能)の場合は、オートドレッシングによるパッドメンテナンスが可能としてステップS15へ進む。NO(対応不可能)の場合は、オートドレッシングによるパッドメンテナンスは不可能としてステップS18へ進む。 In step S14, following the monitoring of the number of batches and the transition of the polishing state of the work in step S13, the controller 4 performs auto-dressing for maintenance of the polishing pads 11a and 12a based on the monitoring results in step S13. Determine if it is possible. If YES (possible), pad maintenance by auto-dressing is possible, and the process proceeds to step S15. In the case of NO (cannot be handled), it is determined that pad maintenance by auto-dressing is impossible, and the process proceeds to step S18.

ステップS15では、ステップS14でのオートドレッシングによるパッドメンテナンスが可能との判断に続き、レシピ設定部5により、オートドレッシングの実行レシピを設定し、ステップS16へ進む。ここで、レシピ設定部5は、定盤温度安定時の研磨パッド11a、12aの状態から、研磨パッド11a、12aの全面を均等に目立てするためのオートドレッシングの実行レシピを設定する。 In step S15, following the determination in step S14 that pad maintenance by auto-dressing is possible, the recipe setting unit 5 sets the execution recipe for auto-dressing, and the process proceeds to step S16. Here, the recipe setting unit 5 sets an auto-dressing execution recipe for uniformly dressing the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a from the state of the polishing pads 11a and 12a when the platen temperature is stable.

ステップS16では、ステップS15でのオートドレッシングの実行レシピの設定に続き、制御部4により、ステップS15にて設定された実行レシピに従って回転モータ33に制御指令を出力し、駆動機構3を制御してオートドレッシングを実行し、ステップS17へ進む。オートドレッシングを実行することで、研磨パッド11a、12aの全面が均等に目立てされる。 In step S16, following the setting of the auto-dressing execution recipe in step S15, the control unit 4 outputs a control command to the rotary motor 33 according to the execution recipe set in step S15 to control the driving mechanism 3. Auto-dressing is executed, and the process proceeds to step S17. By executing auto-dressing, the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a are uniformly ground.

ステップS17では、ステップS16でのオートドレッシングの実行に続き、制御部4により、オートドレッシングが終了したか否かを判断する。YES(オートドレッシング終了)の場合はステップS11へ戻る。NO(オートドレッシング未了)の場合はステップS16を繰り返す。ここで、オートドレッシングの終了は、ドレッシング時間等から判断する。 In step S17, subsequent to execution of auto-dressing in step S16, the controller 4 determines whether or not auto-dressing is completed. In the case of YES (end of auto dressing), the process returns to step S11. In the case of NO (incomplete auto-dressing), step S16 is repeated. Here, the end of auto dressing is determined from the dressing time or the like.

ステップS18では、ステップS14でのオートドレッシングによるパッドメンテナンスが不可能との判断に続き、制御部4により、ステップS13での監視結果に基づいて、研磨パッド11a、12aのメンテナンスが第2オートフェーシングで対応が可能か否か、つまり第2オートフェーシングを行うことで研磨パッド11a、12aのパッド表面を所望の形状・状態(例えば、必要パッド形状、面粗さ)に回復できるか否かを判断する。YES(対応可能)の場合は、第2オートフェーシングでパッドメンテナンスが可能であるとしてステップS19へ進む。NO(対応不可能)の場合は、第2オートフェーシングでのパッドメンテナンスは不可能であるとしてステップS22へ進む。なお、このステップS18によって、定盤温度安定後に所定条件が成立したか否かが判断される。また、この判断はステップS13での監視結果に基づいて行われ、バッチ数だけでなくワークの研磨状態の推移にも基づいて判断される。 In step S18, following the determination in step S14 that pad maintenance by auto-dressing is impossible, the controller 4 performs maintenance of the polishing pads 11a and 12a by the second auto-facing based on the monitoring results in step S13. It is determined whether or not the countermeasure is possible, that is, whether or not the pad surfaces of the polishing pads 11a and 12a can be restored to the desired shape and state (for example, the required pad shape and surface roughness) by performing the second autofacing. . If YES (possible), it is determined that the pad maintenance can be performed by the second autofacing, and the process proceeds to step S19. In the case of NO (cannot be handled), it is determined that the pad maintenance cannot be performed with the second autofacing, and the process proceeds to step S22. It should be noted that it is determined by this step S18 whether or not a predetermined condition is established after the surface plate temperature is stabilized. Further, this judgment is made based on the monitoring result in step S13, and is made based not only on the number of batches but also on the transition of the polishing state of the work.

ステップS19では、ステップS18での第2オートフェーシングによるパッドメンテナンスが可能(所定条件成立)との判断に続き、レシピ設定部5により、第2オートフェーシングの実行レシピを設定し、ステップS20へ進む。ここで、レシピ設定部5は、ワーク形状測定器15の測定結果とワークの研磨環境の監視結果から、ワークの研磨状態に影響を与えるワークの研磨環境の変化を推定する。そして、相関が高いと推定したワークの研磨環境の変化に対し、このワークの研磨環境の変化の影響を抑制或いは緩和する目標パッド形状・状態を求め、目標パッド形状・状態と実パッド形状・状態との差分を補正する第2オートフェーシングの実行レシピを設定する。 In step S19, following the judgment in step S18 that the pad maintenance can be performed by the second autofacing (predetermined condition is met), the recipe setting unit 5 sets the execution recipe for the second autofacing, and the process proceeds to step S20. Here, the recipe setting unit 5 estimates a change in the polishing environment of the workpiece that affects the polishing state of the workpiece from the measurement result of the workpiece shape measuring device 15 and the monitoring result of the polishing environment of the workpiece. Then, with respect to the change in the polishing environment of the work estimated to have a high correlation, a target pad shape/state that suppresses or mitigates the influence of the change in the polishing environment of the work is obtained, and the target pad shape/state and the actual pad shape/state are obtained. A second autofacing execution recipe is set to correct the difference between .

ステップS20では、ステップS19での第2オートフェーシングの実行レシピの設定に続き、制御部4により、ステップS19にて設定された実行レシピに従って回転モータ33に制御指令を出力し、駆動機構3を制御して第2オートフェーシングを実行し、ステップS21へ進む。第2オートフェーシングを実行することで、研磨パッド11a、12aの実パッド形状・状態が、ワークの研磨環境の変化の影響を抑制或いは緩和する目標パッド形状・状態となるように補正される。 In step S20, following the setting of the second autofacing execution recipe in step S19, the control unit 4 outputs a control command to the rotary motor 33 according to the execution recipe set in step S19, thereby controlling the driving mechanism 3. Then, the second autofacing is executed, and the process proceeds to step S21. By executing the second autofacing, the actual pad shape/state of the polishing pads 11a and 12a is corrected to the target pad shape/state that suppresses or mitigates the influence of changes in the polishing environment of the workpiece.

ステップS21では、ステップS20での第2オートフェーシングの実行に続き、制御部4により、第2オートフェーシングが終了したか否かを判断する。YES(第2オートフェーシング終了)の場合はステップS11へ戻る。NO(第2オートフェーシング未了)の場合はステップS20を繰り返す。ここで、第2オートフェーシングの終了は、フェーシング時間や研磨パッド11a、12aの表面形状・状態から判断する。 In step S21, subsequent to execution of the second autofacing in step S20, the control unit 4 determines whether or not the second autofacing has ended. If YES (end of the second autofacing), the process returns to step S11. If NO (the second autofacing has not been completed), step S20 is repeated. Here, the end of the second autofacing is judged from the facing time and the surface shape/state of the polishing pads 11a and 12a.

ステップS22では、ステップS18での第2オートフェーシングによるパッドメンテナンスが不可能との判断に続き、制御部4により、ステップS13での監視結果に基づいて、研磨パッド11a、12aのメンテナンスが第2基礎フェーシングで対応が可能か否か、つまり第2基礎フェーシングを行うことで第2基礎パッド形状を創生できるか否かを判断する。YES(対応可能)の場合は、ステップS23へ進む。NO(対応不可能)の場合は、ステップS26へ進む。 In step S22, following the determination in step S18 that the pad maintenance by the second autofacing is impossible, the controller 4 performs the second maintenance of the polishing pads 11a and 12a based on the monitoring result in step S13. It is determined whether or not it is possible to deal with it by facing, that is, whether or not the shape of the second base pad can be created by performing the second base facing. If YES (possible), the process proceeds to step S23. In the case of NO (cannot be handled), the process proceeds to step S26.

ステップS23では、ステップS22での第2基礎フェーシングによるパッドメンテナンスが可能との判断に続き、レシピ設定部5により、第2基礎フェーシングの実行レシピを設定し、ステップS24へ進む。ここで、レシピ設定部5は、第2基礎フェーシング前の研磨パッド11a、12aの状態から、第2基礎パッド形状を創生するための第2基礎フェーシングの実行レシピを設定する。 In step S23, following the determination in step S22 that the pad maintenance can be performed by the second basic facing, the recipe setting unit 5 sets the execution recipe for the second basic facing, and the process proceeds to step S24. Here, the recipe setting section 5 sets the execution recipe of the second basic facing for creating the shape of the second basic pad from the state of the polishing pads 11a and 12a before the second basic facing.

ステップS24では、ステップS23での第2基礎フェーシングの実行レシピの設定に続き、制御部4により、ステップS23にて設定された実行レシピに従って例えばリング状のフェーシング部材を駆動制御して第2基礎フェーシングを実行し、ステップS25へ進む。第2基礎フェーシングを実行することで、研磨パッド11a、12aの表面には、第2基礎パッド形状が創生される。また、定盤温度は低下する。なお、リング状のフェーシング部材は、第2基礎フェーシングの実行前に予め上下定盤11、12の間に配置される。 In step S24, following the setting of the execution recipe for the second basic facing in step S23, the controller 4 drives and controls, for example, a ring-shaped facing member according to the execution recipe set in step S23, thereby performing the second basic facing. and proceed to step S25. By performing the second basic facing, a second basic pad shape is created on the surfaces of the polishing pads 11a and 12a. Also, the platen temperature is lowered. The ring-shaped facing member is arranged between the upper and lower surface plates 11 and 12 in advance before the execution of the second basic facing.

ステップS25では、ステップS24での第2基礎フェーシングの実行に続き、制御部4により、第2基礎フェーシングが終了したか否かを判断する。YES(第2基礎フェーシング終了)の場合はステップS5へ戻る。NO(第2基礎フェーシング未了)の場合はステップS24を繰り返す。ここで、第2基礎フェーシングの終了は、フェーシング時間や研磨パッド11a、12aの表面形状から判断する。また、リング状のフェーシング部材は、第2基礎フェーシングの終了後に上下定盤11、12の間から取り外される。 In step S25, subsequent to the execution of the second basic facing in step S24, the control unit 4 determines whether or not the second basic facing has ended. If YES (end of the second basic facing), the process returns to step S5. If NO (the second basic facing has not been completed), step S24 is repeated. Here, the end of the second basic facing is judged from the facing time and the surface shape of the polishing pads 11a and 12a. Also, the ring-shaped facing member is removed from between the upper and lower surface plates 11 and 12 after the completion of the second basic facing.

ステップS26では、ステップS22での第2基礎フェーシングによるパッドメンテナンスが不可能との判断に続き、制御部4により、研磨パッド11a、12aの使用寿命(パッドライフ)に到達したと判断し、ステップS27へ進む。なお、パッドライフの到達判断は、例えば規定バッチ数以上となったときに行ってもよいが、実行したフェーシングの実績とパッド状態の再生状況とを比較し、パッド状態の再生状況が想定を下回る場合にも、パッドライフ到達と判断してもよい。 In step S26, following the determination in step S22 that pad maintenance by the second basic facing is impossible, the controller 4 determines that the service life (pad life) of the polishing pads 11a and 12a has been reached, and step S27. proceed to It should be noted that the decision to reach the pad life may be made, for example, when the specified number of batches or more is reached, but by comparing the performance of the executed facing with the playback status of the pad status, the playback status of the pad status is less than expected. Also in this case, it may be determined that the pad life has been reached.

ステップS27では、ステップS26でのパッドライフ到達との判断に続き、研磨パッド11a、12aの使用を開始してからパッドライフに到達するまでの経過を確認し、ステップS28へ進む。ここで、パッドライフ到達までの経過は、パッドライフ到達時のパッド形状と、バッチ数、フェーシング回数、フェーシング内容等に基づいて確認する。 In step S27, following the determination in step S26 that the pad life has been reached, the progress from the start of use of the polishing pads 11a and 12a to the end of the pad life is confirmed, and the process proceeds to step S28. Here, the progress until reaching the life of the pad is confirmed based on the shape of the pad at the time of reaching the life of the pad, the number of batches, the number of times of facing, the details of facing, and the like.

ステップS28では、ステップS27でのパッドライフの確認に続き、パッドライフに異常がないか否かを判断する。YES(異常なし)の場合はフェーシングの実施に不備はなかったとしてエンドへ進む。NO(異常あり)の場合はステップS29へ進む。 In step S28, following the pad life confirmation in step S27, it is determined whether or not there is an abnormality in the pad life. In the case of YES (no abnormality), it is judged that there was no defect in the execution of facing, and the process proceeds to the end. In the case of NO (abnormal), the process proceeds to step S29.

ステップS29では、ステップS28でのパッドライフ異常ありとの判断に続き、パッドライフに異常が生じた原因を推定し、推定した原因に対して異常が生じないよう所定の対応を実施し、エンドへ進む。ここで、パッドライフ異常の原因は、両面研磨機10やスラリ等の副資材の状態、ワークの研磨加工条件等のワークの研磨環境を確認し、経験則又は過去に異常と判断された事例との比較演算等に基づいて推定する。 In step S29, following the determination in step S28 that there is an abnormality in the pad life, the cause of the abnormality in the pad life is presumed, and predetermined measures are taken to prevent the presumed cause from occurring. move on. Here, the cause of the abnormal pad life is determined by empirical rules or cases determined to be abnormal in the past by checking the conditions of the double-sided polishing machine 10 and auxiliary materials such as slurry, and the polishing environment of the work such as the polishing processing conditions of the work. is estimated based on the comparison calculation of

以下、両面研磨機10の一般的な特性を説明する。 General characteristics of the double-sided polishing machine 10 will be described below.

両面研磨機10では、一般的に、ワークの研磨加工を開始する前は上下定盤11、12の温度が低く、研磨加工の実行に伴って定盤温度が次第に上昇していく。また、この定盤温度は、ワークの研磨加工の開始直後から急激に上昇し、次第に温度上昇が落ち着いていき、所定バッチ数の研磨加工を行う頃には一定温度に収束して相対的に安定する。 In the double-side polishing machine 10, generally, the temperature of the upper and lower surface plates 11 and 12 is low before starting the polishing process of the work, and the temperature of the surface plates gradually rises as the polishing process is performed. In addition, the surface plate temperature rises sharply immediately after the start of the polishing process of the work, and the temperature rise gradually settles down. do.

すなわち、両面研磨機10は、一般的にワークの研磨加工の開始からしばらくの間、上下定盤11、12に熱による変化が生じる。そして、この熱による変化の影響により、ワークの研磨開始から定盤温度が安定するまでの間、上下定盤11、12に微妙な形状変化が生じる。よって、研磨パッド11a、12aの全面を一律にドレッシングするだけでは、定盤自体の形状変化や、定盤・パッドの局部的な温度差や変形、使用副資材の変性等の影響を抑制する適切なパッド形状・状態を創生できなかった。 That is, in the double-side polishing machine 10, heat changes occur in the upper and lower surface plates 11 and 12 for a while after the start of polishing of the workpiece. Due to the effect of this change due to heat, the upper and lower surface plates 11 and 12 undergo subtle changes in shape from the start of work polishing until the temperature of the surface plates stabilizes. Therefore, uniform dressing of the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a is not sufficient to suppress the effects of changes in the shape of the surface plate itself, local temperature differences and deformation of the surface plate and pads, and denaturation of secondary materials used. A suitable pad shape and condition could not be created.

以下、図4に基づいて、比較例のドレッシング装置におけるドレッシング処理とその課題を説明する。 Hereinafter, based on FIG. 4, the dressing process in the dressing apparatus of the comparative example and its problems will be described.

比較例のドレッシング装置におけるドレッシング処理では、ステップS101において、上下定盤11、12にそれぞれ研磨パッド11a、12aを貼り付ける。ステップS102において基礎フェーシングの実行レシピを設定し、ステップS103において基礎フェーシングを実行する。なお、この基礎フェーシングは、必ずしも実行する必要はない。 In the dressing process in the dressing apparatus of the comparative example, in step S101, polishing pads 11a and 12a are attached to the upper and lower surface plates 11 and 12, respectively. In step S102, an execution recipe for basic facing is set, and in step S103, basic facing is executed. Note that this basic facing does not necessarily have to be performed.

続いて、ステップS104において基礎フェーシングが終了したか否かを判断し、基礎フェーシング終了と判断した場合にはステップS105へ進んで、両面研磨機10によって、ワークの研磨加工を実行する。 Subsequently, in step S104, it is determined whether or not the basic facing has been completed. If it is determined that the basic facing has been completed, the process proceeds to step S105, where the double-sided grinder 10 polishes the workpiece.

ステップS106においてワークの研磨加工が終了したか否かを判断し、研磨加工終了と判断した場合にはステップS107へ進んで、バッチ数とワークの研磨状態の推移を監視する。そして、この監視結果に基づいて、ステップS108において、研磨パッド11a、12aのメンテナンスがオートドレッシングで対応が可能か否かを判断する。 In step S106, it is determined whether or not the polishing of the work is finished. If it is determined that the polishing is finished, the process proceeds to step S107 to monitor the number of batches and the polishing state of the work. Then, based on this monitoring result, in step S108, it is determined whether or not the polishing pads 11a and 12a can be maintained by auto-dressing.

オートドレッシングを行うことで研磨パッド11a、12aのメンテナンスが対応可能であると判断した場合には、ステップS109へと進み、オートドレッシングの実行レシピを設定し、ステップS110においてオートドレッシングを実行する。そして、ステップS111においてオートドレッシングが終了したか否を判断し、オートドレッシング終了と判断した場合には、ワークの研磨加工を繰り返す。 If it is determined that the maintenance of the polishing pads 11a and 12a can be handled by performing auto-dressing, the process proceeds to step S109 to set an execution recipe for auto-dressing, and auto-dressing is performed in step S110. Then, in step S111, it is determined whether or not the auto-dressing has been completed. If it is determined that the auto-dressing has been completed, the polishing of the workpiece is repeated.

一方、オートドレッシングを行うことでは研磨パッド11a、12aのメンテナンスが不可能であると判断した場合には、ステップS108からステップS112へと進み、研磨パッド11a、12aのメンテナンスが第2基礎フェーシングで対応が可能か否か、つまり第2基礎フェーシングを行うことで研磨パッド11a、12aのパッド表面に第2基礎パッド形状を創生できるか否かを判断する。 On the other hand, if it is determined that the polishing pads 11a and 12a cannot be maintained by auto-dressing, the process proceeds from step S108 to step S112, and the maintenance of the polishing pads 11a and 12a is handled by the second basic facing. is possible, that is, whether or not the second basic pad shape can be created on the pad surfaces of the polishing pads 11a and 12a by performing the second basic facing.

第2基礎フェーシングを行うことで研磨パッド11a、12aのメンテナンスが対応可能であると判断した場合には、ステップS113へと進み、第2基礎フェーシングの実行レシピを設定し、ステップS114において第2基礎フェーシングを実行する。そして、ステップS115において、第2基礎フェーシングが終了したか否かを判断し、第2基礎フェーシング終了と判断した場合にはワークの研磨加工を繰り返す。 If it is determined that the maintenance of the polishing pads 11a and 12a can be handled by performing the second basic facing, the process proceeds to step S113 to set an execution recipe for the second basic facing. Perform facing. Then, in step S115, it is determined whether or not the second basic facing has been completed, and if it is determined that the second basic facing has been completed, the polishing of the workpiece is repeated.

一方、第2基礎フェーシングでは研磨パッド11a、12aのメンテナンスが対応不可能であると判断した場合には、ステップS112からステップS116へと進み、研磨パッド11a、12aの使用寿命(パッドライフ)に到達したと判断する。そして、ステップS117においてパッドライフを確認し、ステップS118においてパッドライフの異常の有無を判断する。そして、パッドライフに異常がなければエンドへ進み、パッドライフに異常があると判断した場合には、ステップS119へと進んでパッドライフ異常の原因を推定し、適切な対応を行ってからエンドへ進む。 On the other hand, if it is determined that maintenance of the polishing pads 11a and 12a is not possible with the second basic facing, the process proceeds from step S112 to step S116, and the service life (pad life) of the polishing pads 11a and 12a is reached. judge that it did. Then, in step S117, the pad life is confirmed, and in step S118, it is determined whether or not there is an abnormality in the pad life. If there is no abnormality in the pad life, the process proceeds to END, and if it is determined that there is an abnormality in the pad life, the process proceeds to step S119 to estimate the cause of the pad life abnormality, take appropriate measures, and then proceed to END. move on.

このように、比較例のドレッシング装置におけるドレッシング処理では、両面研磨機10によるワークの研磨加工の開始後、所定の間隔(例えば、研磨加工を行うごと、又は、所定のバッチ数ごと)にオートドレッシングを実行する。このオートドレッシングは、パッドの形状創生を伴わずに研磨パッド11a、12aの全面を均等に目立てするドレッシングである。そのため、ワークの研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでの間は、熱による変化によって、上下定盤11、12に生じる微妙な形状変化に追随する適切なパッド形状・状態を都度調整、創生することが難しい。そのため、図5において破線で示すように、時刻t0時点から研磨加工を開始し、時刻t1時点で定盤温度が安定するまでの間に生じる高精度研磨のためのパッドを介した理想的な定盤圧力分布(最適値(0))からの乖離を抑制することは困難であった。なお、「高精度研磨のためのパッドを介した理想的な定盤圧力分布」とは、下定盤11に対する上定盤12の当たり度合いが望ましい状態である上に、フェーシング後の研磨パッド11a、12aが介在して総合的に作り出す圧力分布がウェーハの運動に鑑みて最適な状態になっていることである。この理想的な定盤圧力分布が最適値に近く(「0」に近く)、圧力分布管理が維持できるほど、ワークの高精度研磨加工の歩留まりを向上させることができる。 As described above, in the dressing process in the dressing apparatus of the comparative example, auto-dressing is performed at a predetermined interval (for example, each time polishing is performed or every predetermined number of batches) after the start of polishing of the workpiece by the double-sided polishing machine 10. to run. This auto-dressing is a dressing that uniformly dresses the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a without creating the shape of the pads. Therefore, during the period from the start of the polishing process of the workpiece until the surface plate temperature stabilizes, the appropriate pad shape and state are adjusted each time to follow the subtle shape changes that occur in the upper and lower surface plates 11 and 12 due to changes due to heat. difficult to create. Therefore, as indicated by the dashed line in FIG. 5, the ideal constant temperature through the pad for high-precision polishing occurs from the time t0 when the polishing process is started until the surface plate temperature stabilizes at time t1. It was difficult to suppress deviation from the plate pressure distribution (optimal value (0)). The "ideal surface plate pressure distribution via the pad for high-precision polishing" means that the contact degree of the upper surface plate 12 against the lower surface plate 11 is desirable, and the polishing pad 11a, The pressure distribution produced comprehensively by the interposition of 12a is in an optimum state in view of the movement of the wafer. When this ideal surface plate pressure distribution is close to the optimum value (close to "0") and the pressure distribution control can be maintained, the yield of high-precision polishing of workpieces can be improved.

以下、実施例1のフェーシング装置1の作用を図3A及び図3B、図5に基づいて説明する。 The operation of the facing device 1 of Example 1 will be described below with reference to FIGS. 3A, 3B, and 5. FIG.

実施例1のフェーシング装置1による両面研磨機10の研磨パッド11a、12aのフェーシング処理では、まず、図3Aのフローチャートに示すステップS1、ステップS2、ステップS3の処理を行う。すなわち、研磨パッド11aを下定盤11に貼り付け、研磨パッド12aを上定盤12に貼り付ける。そして、基礎フェーシング前の研磨パッド11a、12aの状態に基づいて基礎フェーシングの実行レシピを設定し、この実行レシピに従って基礎フェーシングを実行する。そして、基礎フェーシングが終了し、研磨パッド11a、12aの表面に基礎パッド形状が創生されたら、ステップS4にてYESと判断される。 In the facing process of the polishing pads 11a and 12a of the double-sided polishing machine 10 by the facing apparatus 1 of the first embodiment, first, steps S1, S2, and S3 shown in the flowchart of FIG. 3A are performed. That is, the polishing pad 11 a is attached to the lower surface plate 11 and the polishing pad 12 a is attached to the upper surface plate 12 . Based on the state of the polishing pads 11a and 12a before the basic facing, an execution recipe for the basic facing is set, and the basic facing is performed according to this execution recipe. When the basic facing is completed and the basic pad shapes are created on the surfaces of the polishing pads 11a and 12a, YES is determined in step S4.

続いて、ステップS5、ステップS6の処理を実行し、両面研磨機10においてワークの研磨加工を行い、研磨加工が終了したか否かが判断される。そして、ワークの研磨加工が終了したと判断された場合には、ステップS7の処理が行われ、第1オートフェーシングの実行レシピがレシピ設定部5によって設定される。 Subsequently, the processes of steps S5 and S6 are executed, the workpiece is polished by the double-side polishing machine 10, and it is determined whether or not the polishing process is completed. Then, when it is determined that the polishing of the workpiece has been completed, the process of step S7 is performed, and the recipe setting unit 5 sets the execution recipe for the first autofacing.

ここで、第1オートフェーシングの実行レシピは、上下定盤11、12の表面形状を分析して得られたパッド表面形状の変化に基づいて設定される。すなわち、フェーシング装置1では、第1ステップとして、第1オートフェーシングの実行レシピを、上下定盤11、12の表面形状の変化に基づいて設定する。 Here, the execution recipe for the first autofacing is set based on changes in the pad surface shape obtained by analyzing the surface shapes of the upper and lower surface plates 11 and 12 . That is, in the facing apparatus 1, as a first step, the execution recipe for the first autofacing is set based on changes in the surface shapes of the upper and lower surface plates 11 and 12. FIG.

なお、この第1オートフェーシングの実行レシピは、具体的には、研磨パッド11a、12aが基礎パッド形状から必要パッド形状に変形する際の遷移的な目標パッド形状と実パッド形状との差分を補正する実行レシピである。そのため、ステップS8の処理へと進み、第1オートフェーシングの実行レシピに従って第1オートフェーシングを実行することで、基礎パッド形状から必要パッド形状に変形する間の遷移的な目標パッド形状となるように研磨パッド11a、12aを形状補正することができる。つまり、フェーシング装置1では、第2ステップとして、第1オートフェーシングの実行レシピに基づいて、ワークの研磨開始から定盤温度が安定するまでの間、第1オートフェーシングを行う。 The execution recipe of the first autofacing specifically corrects the difference between the transitional target pad shape and the actual pad shape when the polishing pads 11a and 12a are transformed from the basic pad shape to the required pad shape. It is an execution recipe that Therefore, by proceeding to the process of step S8 and executing the first autofacing according to the execution recipe of the first autofacing, it is possible to obtain a transitional target pad shape during the transformation from the basic pad shape to the required pad shape. The shape of the polishing pads 11a and 12a can be corrected. That is, in the facing apparatus 1, as the second step, the first autofacing is performed based on the execution recipe of the first autofacing from the start of polishing of the workpiece until the surface plate temperature stabilizes.

そして、ステップS9、ステップS10の処理が実行され、第1オートフェーシングの終了が判断されたら、上下定盤11、12の温度が安定したか否かが判断される。そして、定盤温度が安定していないと判断された場合には、ステップS5の処理へ戻り、定盤温度が安定するまでワークの研磨加工と第1オートフェーシングの実行とが繰り返される。 Then, when the processing of steps S9 and S10 is executed and it is determined that the first autofacing has ended, it is determined whether or not the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 have stabilized. If it is determined that the surface plate temperature is not stable, the process returns to step S5, and the polishing of the workpiece and the execution of the first autofacing are repeated until the surface plate temperature is stabilized.

このように、実施例1のフェーシング装置1では、レシピ設定部5によって、上下定盤11、12の表面形状の変化に基づいて第1オートフェーシングの実行レシピを設定する(第1ステップ)。そして、ワークの研磨加工を開始してから上下定盤11、12の温度が安定するまでの間、第1オートフェーシングの実行レシピに基づいて、制御部4により駆動機構3を制御して第1オートフェーシングを行う。 As described above, in the facing apparatus 1 of the first embodiment, the recipe setting unit 5 sets the execution recipe for the first autofacing based on the change in the surface shape of the upper and lower surface plates 11 and 12 (first step). Then, from the start of polishing of the workpiece until the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized, the controller 4 controls the drive mechanism 3 based on the execution recipe of the first autofacing to perform the first autofacing. Perform autofacing.

そのため、ワークの研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでの間、研磨パッド11a、12aの表面形状を、熱による変化の影響によって生じる上下定盤11、12の形状変化に追従した適切な形状に補正することが可能となる。これにより、図5において実線で示すように、時刻t0時点から研磨加工を開始し、時刻t1時点で定盤温度が安定するまでの間に生じる高精度研磨のためのパッドを介した理想的な定盤圧力分布の最適値からの乖離を早期に補正し、抑制することができる。この結果、ワークの研磨加工の開始から定盤温度が安定するまでの間に行なわれるワークの高精度研磨加工の歩留まりを向上させることができる。 Therefore, from the start of the polishing process of the workpiece until the surface plate temperature stabilizes, the surface shapes of the polishing pads 11a and 12a are appropriately adjusted to follow the shape changes of the upper and lower surface plates 11 and 12 caused by the influence of changes due to heat. It is possible to correct the shape. As a result, as shown by the solid line in FIG. 5, an ideal polishing pad for high-precision polishing occurs from the start of polishing at time t0 until the surface plate temperature stabilizes at time t1. Deviation from the optimal value of the surface plate pressure distribution can be corrected early and suppressed. As a result, it is possible to improve the yield of high-precision polishing of the work performed from the start of polishing of the work until the temperature of the platen stabilizes.

さらに、この実施例1のフェーシング装置1による両面研磨機10の研磨パッド11a、12aのフェーシング処理では、上下定盤11、12の温度が安定したと判断された場合、図3Bに示すフローチャートにおいて、ステップS11、ステップS12の処理を実行し、両面研磨機10においてワークの研磨加工を行い、研磨加工が終了したか否かが判断される。ワークの研磨加工が終了したと判断された場合には、ステップS13の処理が行われ、バッチ数とワークの研磨状態の推移が監視される。 Furthermore, in the facing process of the polishing pads 11a and 12a of the double-sided polishing machine 10 by the facing apparatus 1 of the first embodiment, when it is determined that the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 have stabilized, the flow chart shown in FIG. The processes of steps S11 and S12 are executed, the workpiece is polished by the double-side polishing machine 10, and it is determined whether or not the polishing process is finished. When it is determined that the polishing of the workpiece has been completed, the processing of step S13 is performed, and the transition of the number of batches and the polishing state of the workpiece is monitored.

そして、ステップS14の処理へと進み、バッチ数及びワークの研磨状態の推移から、研磨パッド11a、12aのメンテナンスがオートドレッシングで対応が可能か否かを判断される。オートドレッシングによってパッドメンテナンスが可能であれば、ステップS15、ステップS16、ステップS17の処理を実行し、定盤温度安定時の研磨パッド11a、12aの状態に基づいてオートドレッシングの実行レシピを設定し、この実行レシピに従ってオートドレッシングを実行する。そして、オートドレッシングが終了し、研磨パッド11a、12aの全面を均等に目立てされたら、ステップS11へ戻り、ワークの研磨加工とバッチ数及びワークの研磨状態の推移の監視が繰り返される。 Then, the process proceeds to step S14, and it is determined whether the maintenance of the polishing pads 11a and 12a can be handled by auto-dressing based on the number of batches and the transition of the polishing state of the work. If pad maintenance can be performed by auto-dressing, the processes of steps S15, S16, and S17 are executed, and an auto-dressing execution recipe is set based on the states of the polishing pads 11a and 12a when the surface plate temperature is stable, Autodressing is executed according to this execution recipe. When the auto-dressing is finished and the entire surfaces of the polishing pads 11a and 12a are uniformly dressed, the process returns to step S11, and the polishing of the workpiece, the number of batches, and the monitoring of the polishing state of the workpiece are repeated.

一方、オートドレッシングによるパッドメンテナンスが不可能であれば、ステップS18へと進み、バッチ数及びワークの研磨状態の推移から、研磨パッド11a、12aのメンテナンスが第2オートフェーシングで対応が可能か否かを判断される。第2オートフェーシングによってパッドメンテナンスが可能であれば、ステップS19の処理が行われ、第2オートフェーシングの実行レシピがレシピ設定部5によって設定される。 On the other hand, if the pad maintenance by auto-dressing is not possible, the process proceeds to step S18, and whether or not the polishing pads 11a and 12a can be maintained by the second auto-facing is determined based on the number of batches and the transition of the polishing state of the workpiece. is judged. If the pad maintenance can be performed by the second autofacing, the process of step S19 is performed, and the recipe setting unit 5 sets the execution recipe for the second autofacing.

ここで、第2オートフェーシングの実行レシピは、上下定盤11、12の温度安定後のワークの研磨環境の変化に基づいて設定され、具体的には、ワークの研磨環境の変化の影響を抑制し、目標パッド形状・状態と実パッド形状・状態との差分を補正する実行レシピである。すなわち、フェーシング装置1では、第3ステップとして、第2オートフェーシングの実行レシピを、上下定盤11、12の温度安定後のワークの研磨環境の変化に基づいて設定する。 Here, the execution recipe for the second autofacing is set based on changes in the work polishing environment after the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized. Specifically, the effects of changes in the work polishing environment are suppressed. and corrects the difference between the target pad shape/state and the actual pad shape/state. That is, in the facing apparatus 1, as the third step, the execution recipe for the second autofacing is set based on changes in the workpiece polishing environment after the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized.

そして、ステップS20へと進み、第2オートフェーシングの実行レシピに従って第2オートフェーシングを実行する。つまり、フェーシング装置1では、第4ステップとして、第2オートフェーシングの実行レシピに基づいて、上下定盤11、12の温度安定後に、第2オートフェーシングによってパッドメンテナンスが可能との条件が成立したと判断したとき、第2オートフェーシングを行う。 Then, in step S20, the second autofacing is executed according to the second autofacing execution recipe. In other words, in the facing apparatus 1, as the fourth step, based on the execution recipe of the second autofacing, after the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized, the condition that the pad maintenance can be performed by the second autofacing is established. When determined, the second autofacing is performed.

この結果、ワークの研磨環境の変化を抑制或いは緩和する目標パッド形状・状態となるように研磨パッド11a、12aの形状・状態が補正され、ワークの研磨環境の変化の影響をコントロールすることができる。 As a result, the shape and state of the polishing pads 11a and 12a are corrected so as to achieve a target pad shape and state that suppresses or mitigates changes in the polishing environment of the work, and the influence of changes in the polishing environment of the work can be controlled. .

そして、ステップS21の処理が実行され、第2オートフェーシングの終了が判断された場合には、ステップS11の処理へ戻り、ワークの研磨加工とバッチ数及びワークの研磨状態の推移の監視が繰り返される。 Then, the process of step S21 is executed, and when it is determined that the second autofacing is completed, the process returns to step S11, and the polishing of the workpiece and the monitoring of the number of batches and the transition of the polished state of the workpiece are repeated. .

一方、ステップS18において、第2オートフェーシングによるパッドメンテナンスも不可能であると判断された場合には、ステップS22へと進み、バッチ数及びワークの研磨状態の推移から、研磨パッド11a、12aのメンテナンスが第2基礎フェーシングで対応が可能か否かを判断される。第2基礎フェーシングによってパッドメンテナンスが可能であれば、ステップS23、ステップS24の処理を実行し、第2基礎フェーシング前の研磨パッド11a、12aの状態から第2基礎フェーシングの実行レシピを設定し、この実行レシピに従って第2基礎フェーシングを実行する。そして、第2基礎フェーシングが終了し、第2基礎パッド形状が創生されたらステップS5へ戻り、ワークの研磨加工が繰り返される。なお、第2基礎フェーシングが実行された場合には定盤温度は下がっている。そのため、第2基礎フェーシングの実行後、定盤温度が安定するまでの間は、所定間隔で第1オートフェーシングを実行する。 On the other hand, if it is determined in step S18 that the pad maintenance by the second autofacing is also impossible, the process proceeds to step S22, and the maintenance of the polishing pads 11a and 12a is performed based on the number of batches and the transition of the polishing state of the workpiece. can be handled by the second basic facing. If the pad maintenance can be performed by the second basic facing, the processes of steps S23 and S24 are executed to set the execution recipe of the second basic facing based on the state of the polishing pads 11a and 12a before the second basic facing. Perform the second basic facing according to the execution recipe. Then, when the second basic facing is completed and the shape of the second basic pad is created, the process returns to step S5, and the polishing of the workpiece is repeated. Note that the surface plate temperature is lowered when the second basic facing is performed. Therefore, after the execution of the second basic facing, the first autofacing is executed at predetermined intervals until the surface plate temperature is stabilized.

また、ステップS22において、第2基礎フェーシングを行っても研磨パッド11a、12aのメンテナンスが対応不可能であると判断した場合には、ステップS26、ステップS27、ステップS28の処理を順に実行する。すなわち、研磨パッド11a、12aの使用寿命(パッドライフ)に到達したと判断した上で、パッドライフの異常の有無を判断する。そして、パッドライフに異常があると判断した場合には、ステップS29の処理を実行し、パッドライフ異常の原因を推定して、パッドライフに異常が生じないよう適切な対応を行う。 Further, when it is determined in step S22 that maintenance of the polishing pads 11a and 12a cannot be handled even if the second basic facing is performed, the processing of steps S26, S27 and S28 is executed in order. That is, after determining that the service life (pad life) of the polishing pads 11a and 12a has been reached, it is determined whether there is an abnormality in the pad life. When it is determined that there is an abnormality in the pad life, the process of step S29 is executed, the cause of the pad life abnormality is estimated, and appropriate measures are taken so as not to cause an abnormality in the pad life.

このように、実施例1のフェーシング装置1では、上下定盤11、12の温度が安定した後、オートドレッシングではパッドメンテナンスが不可能であると判断されたとき、つまり所定条件の成立を判断したときには、定盤温度安定後のワークの研磨環境の変化に基づいて第2オートフェーシングの実行レシピを設定し、第2オートフェーシングを行う。また、この第2オートフェーシングではパッドメンテナンスが不可能であると判断されたときに、第2基礎フェーシングの実行レシピを設定し、第2基礎フェーシングを行う。すなわち、実施例1のフェーシング装置1では、第2基礎フェーシングによるパッドメンテナンスを実行する前に、第2オートフェーシングによるパッドメンテナンスを行う。 As described above, in the facing apparatus 1 of Example 1, after the temperatures of the upper and lower surface plates 11 and 12 are stabilized, when it is determined that the pad maintenance cannot be performed by auto-dressing, that is, it is determined that the predetermined condition is established. Sometimes, the execution recipe of the second autofacing is set based on the change in the polishing environment of the workpiece after the surface plate temperature is stabilized, and the second autofacing is performed. Further, when it is determined that the pad maintenance cannot be performed by the second autofacing, the execution recipe of the second basic facing is set and the second basic facing is performed. That is, in the facing apparatus 1 of the first embodiment, the pad maintenance is performed by the second auto-facing before performing the pad maintenance by the second basic facing.

これに対し、比較例のドレッシング装置では、図4のフローチャートに示すように、オートドレッシングを行うことではパッドメンテナンスが不可能であると判断した場合には、第2基礎フェーシングによるパッドメンテナンスを実行し、第2オートフェーシングは行わない。このため、図6Aに示すように、比較例のドレッシング装置では、時刻t12、時刻t14、時刻t16時点で第2基礎フェーシングを実行することでパッド形状の創生を行い、研磨パッド状態を回復しても、時刻t18時点でパッド状態の回復を図ることができなくなり、理想パッド状態からの乖離度合いが大きくなってパッドライフ到達と判断されるレベルに達する。 On the other hand, in the dressing apparatus of the comparative example, as shown in the flowchart of FIG. 4, when it is determined that the pad maintenance cannot be performed by performing the auto-dressing, the pad maintenance is performed by the second basic facing. , the second autofacing is not performed. Therefore, as shown in FIG. 6A, in the dressing apparatus of the comparative example, the pad shape is created by performing the second basic facing at time t12, time t14, and time t16, and the state of the polishing pad is recovered. However, at time t18, the pad state cannot be recovered, and the degree of deviation from the ideal pad state increases, reaching a level at which it is determined that the pad life has been reached.

これに対し、実施例1のフェーシング装置1は、第2基礎フェーシングの実行前に第2オートフェーシングを行う。すなわち、図6Bに示すように、時刻t15、時刻t20時点で第2基礎フェーシングを実行する一方、時刻t11、時刻t12、時刻t13、時刻t16、時刻t17、時刻t19時点でそれぞれ第2オートフェーシングを実行する。これにより、実施例1のフェーシング装置1では、理想パッド状態からの乖離度合いを長期間にわたって許容範囲内に抑制することができ、研磨パッド11a、12aの使用寿命を時刻t21時点まで延ばすことができる。さらに、研磨パッド11a、12aの長寿命化により、パッド張替えに伴うダウンタイムの低減が可能となる。よって、実施例1のフェーシング装置1は、ワークの高精度加工の歩留まりを向上させるだけでなく、ワークの高精度加工の生産性の向上も図ることができる。 On the other hand, the facing apparatus 1 of the first embodiment performs the second autofacing before performing the second basic facing. That is, as shown in FIG. 6B, the second basal facing is performed at times t15 and t20, while the second autofacing is performed at times t11, t12, t13, t16, t17, and t19. Execute. As a result, in the facing apparatus 1 of Example 1, the degree of deviation from the ideal pad state can be suppressed within the allowable range over a long period of time, and the service life of the polishing pads 11a and 12a can be extended to time t21. . Furthermore, the extension of the life of the polishing pads 11a and 12a makes it possible to reduce downtime associated with pad replacement. Therefore, the facing device 1 of the first embodiment can not only improve the yield of high-precision machining of workpieces, but also improve the productivity of high-precision machining of workpieces.

しかも、研磨パッド11a、12aを長寿命化することで、比較例のドレッシング装置と比べて、基礎フェーシングの回数を低減させることができる。基礎フェーシングでは、リング状等のフェーシング部材の着脱が必要であるが、基礎フェーシングの回数低減により、フェーシング部材の着脱回数を減らすことができる。この結果、フェーシング部材の着脱に要する時間を短縮し、ワークの生産性の向上をさらに図ることができる。 Moreover, by prolonging the life of the polishing pads 11a and 12a, the number of times of basic facing can be reduced as compared with the dressing device of the comparative example. In the basic facing, it is necessary to attach and detach a facing member such as a ring. As a result, the time required for attaching and detaching the facing member can be shortened, and the productivity of the work can be further improved.

そして、この実施例1では、制御部4による、第2オートフェーシングでパッドメンテナンスが可能であるとの判断、すなわち定盤温度安定後の所定条件の成立の判断を、ワークの研磨状態の推移に基づいて行っている。これにより、パッドメンテナンスをどのように行うか(オートドレッシングで行うのか、第2オートフェーシングで行うのか、第2基礎フェーシングで行うのか)を判断する際、ワークの研磨加工の精度に応じて判断することができる。そのため、適切なパッドメンテナンスを行うことが可能となって、ワークの高精度研磨加工の歩留まり向上をさらに図ることができる。さらに、制御部4では、定盤温度安定後の所定条件の成立の判断を、ワークの研磨状態の推移に基づいて自動的に行っている。このため、判断経験数が多いほどより正確な判断を行うことができ、さらに適切なパッドメンテナンスを実行することが可能となる。なお、この所定条件の成立判断は、オペレータによって行ってもよく、その場合には情報入力手段18を介して条件成立の有無を入力する。 In the first embodiment, the judgment by the control unit 4 that the pad maintenance can be performed by the second autofacing, that is, the judgment that the predetermined condition is established after the surface plate temperature is stabilized is based on the transition of the polishing state of the workpiece. It is based on As a result, when determining how to perform pad maintenance (whether it is performed by auto dressing, whether to be performed by the second auto facing, or whether to be performed by the second basic facing), the judgment is made according to the accuracy of polishing the workpiece. be able to. Therefore, it becomes possible to perform appropriate pad maintenance, and it is possible to further improve the yield of high-precision polishing of the workpiece. Further, the control unit 4 automatically determines whether a predetermined condition is established after the surface plate temperature is stabilized, based on the transition of the polishing state of the workpiece. For this reason, the greater the number of judgment experiences, the more accurate judgment can be made, and the more appropriate pad maintenance can be executed. The determination of the establishment of the predetermined condition may be made by the operator, in which case the operator inputs whether the condition is established through the information input means 18.

そして、実施例1のフェーシング装置1は、フェーシングヘッド2を移動させる駆動機構3が、先端部31aにフェーシングヘッド2が固定され、基端部31bが揺動可能に支持された第1アーム31と、先端部32aがフェーシングヘッド2に回転可能に連結され、基端部32bが所定方向に沿って進退移動可能な軸部材35に回転可能に支持された第2アーム32と、第1アーム31を揺動させる回転モータ33と、を備えている。 In the facing apparatus 1 of the first embodiment, the driving mechanism 3 for moving the facing head 2 is composed of the first arm 31 having the facing head 2 fixed to the distal end portion 31a and the proximal end portion 31b supported so as to swing. , a second arm 32 whose distal end portion 32a is rotatably connected to the facing head 2 and whose proximal end portion 32b is rotatably supported by a shaft member 35 capable of advancing and retreating along a predetermined direction; and a rotary motor 33 for swinging.

そのため、フェーシング部材22が設けられたフェーシングヘッド2は、第1アーム31と第2アーム32によって支持される。これにより、上下定盤11、12の間でフェーシングヘッド2を安定的に保持することができ、フェーシングの実行レシピに応じて研磨パッド11a、12aの必要な部分を適切にフェーシングすることができる。 Therefore, the facing head 2 provided with the facing member 22 is supported by the first arm 31 and the second arm 32 . As a result, the facing head 2 can be stably held between the upper and lower surface plates 11 and 12, and the required portions of the polishing pads 11a and 12a can be appropriately faced according to the facing execution recipe.

なお、フェーシング時間の短縮のため、フェーシングヘッド2は、下定盤11に貼り付けられた研磨パッド11aと、上定盤12に貼り付けられた研磨パッド12aの双方に接触したまま移動することが望ましい。また、この場合には、下定盤11に対するフェーシング部材22の押圧量と、上定盤12に対するフェーシング部材22の押圧量とを個別に調整し、上下定盤11、12の回転数もそれぞれフェーシングの実行レシピに基づいて個別に制御する必要がある。しかしながら、必ずしも上下の研磨パッド11a、12aを同時にフェーシングする必要はなく、研磨パッド11a、12aを片方ずつフェーシングしてもよいし、いずれか一方のみのフェーシングを行ってもよい。 In order to shorten the facing time, it is desirable that the facing head 2 move while being in contact with both the polishing pad 11a attached to the lower surface plate 11 and the polishing pad 12a attached to the upper surface plate 12. . In this case, the amount of pressing of the facing member 22 against the lower surface plate 11 and the amount of pressing of the facing member 22 against the upper surface plate 12 are individually adjusted, and the number of revolutions of the upper and lower surface plates 11 and 12 are adjusted according to the facing. Must be controlled separately based on the run recipe. However, it is not always necessary to face the upper and lower polishing pads 11a and 12a at the same time, and the polishing pads 11a and 12a may be faced one by one, or only one of them may be faced.

以上、本発明のフェーシング装置及びフェーシング方法を実施例1に基づいて説明してきたが、具体的な構成については、この実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲の各請求項に係る発明の要旨を逸脱しない限り、設計の変更や追加等は許容される。 The facing apparatus and facing method of the present invention have been described above based on the first embodiment, but the specific configuration is not limited to this embodiment, and the invention according to each claim of the scope of claims. Design changes and additions are permitted as long as they do not deviate from the gist of

実施例1のフェーシング装置1は、駆動機構3が第1アーム31と、第2アーム32と、回転モータ33と、を備えた例を示した。しかしながら、フェーシングヘッド2を安定的に保持することができればよいためこれに限らない。例えば、図7に示す駆動機構6のように、リニアガイド61と、直動アクチュエータ62と、を備えたものであってもよい。 The facing device 1 of Example 1 shows an example in which the drive mechanism 3 includes the first arm 31 , the second arm 32 and the rotary motor 33 . However, the present invention is not limited to this as long as the facing head 2 can be stably held. For example, like the drive mechanism 6 shown in FIG. 7, it may be one that includes a linear guide 61 and a direct-acting actuator 62 .

ここで、リニアガイド61及び直動アクチュエータ62は、帯板状の機構支持プレート63に載置されている。機構支持プレート63は、長手方向の一端部が、下定盤11の外側に設置されたシリンダ64に支持されている。このシリンダ64は、上下動及び回転可能であり、シリンダ64が上下動することで、機構支持プレート63が上下方向に移動して下定盤11と上定盤12の間に配置される。また、シリンダ64が回転することで、機構支持プレート63の長手方向の他端部が円弧状に移動して下定盤11と上定盤12の間に入れ込まれる。なお、機構支持プレート63の長手方向の他端部には、固定部63aが形成されている。この固定部63aは、機構支持プレート63が上下定盤11、12の間に入れ込まれた際、下定盤11の中心に設けられた環状のサンギヤ部11bに固定される。 Here, the linear guide 61 and the direct acting actuator 62 are placed on a strip-shaped mechanism support plate 63 . One longitudinal end of the mechanism support plate 63 is supported by a cylinder 64 installed outside the lower surface plate 11 . The cylinder 64 is vertically movable and rotatable, and the vertical movement of the cylinder 64 moves the mechanism support plate 63 vertically to be arranged between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 . Further, by rotating the cylinder 64 , the other longitudinal end of the mechanism support plate 63 moves in an arc shape and is inserted between the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 . A fixing portion 63a is formed at the other end portion of the mechanism support plate 63 in the longitudinal direction. The fixing portion 63a is fixed to an annular sun gear portion 11b provided at the center of the lower surface plate 11 when the mechanism support plate 63 is inserted between the upper and lower surface plates 11 and 12. As shown in FIG.

リニアガイド61は、一対の直線レール部材61aと、フェーシングヘッド2を支持すると共に、直線レール部材61aに沿って摺動する支持部材61bと、を有している。また、直動アクチュエータ62は、支持部材61bに推進力を付与するアクチュエータであり、ここでは、一対の直線レール部材61aと同方向に延びるボールねじ62aと、ボールねじ62aを回転させるモータ62bと、を有している。支持部材61bは、ボールねじ62aに螺合している。 The linear guide 61 has a pair of linear rail members 61a and a support member 61b that supports the facing head 2 and slides along the linear rail members 61a. Further, the linear motion actuator 62 is an actuator that applies a driving force to the support member 61b. Here, a ball screw 62a extending in the same direction as the pair of linear rail members 61a; have. The support member 61b is screwed onto the ball screw 62a.

そして、モータ62bによってボールねじ62aを回転させることで、支持部材61bが一対の直線レール部材61aに沿って移動し、この支持部材61bに支持されたフェーシングヘッド2が上下定盤11、12の径方向に移動する。この駆動機構6であっても、上下定盤11、12の間でフェーシングヘッド2を安定的に保持することができ、フェーシングの実行レシピに応じて研磨パッド11a、12aの必要な部分を適切にフェーシングすることができる。 By rotating the ball screw 62a by the motor 62b, the support member 61b moves along the pair of linear rail members 61a, and the facing head 2 supported by the support member 61b moves the diameters of the upper and lower surface plates 11 and 12. move in the direction Even with this drive mechanism 6, the facing head 2 can be stably held between the upper and lower surface plates 11 and 12, and the required portions of the polishing pads 11a and 12a can be appropriately adjusted according to the recipe for executing the facing. Can be faced.

さらに、駆動機構は、フェーシング部材22を有するフェーシングヘッド2を安定的に支持することができればよいため、実施例1や上記変形例に限らない。例えば、フェーシングヘッド2を第1アーム31の先端部31aに固定し、いわゆる片持ち状態で支持することもできる。また、フェーシングヘッド2から高圧洗浄水や圧縮空気等の高圧流体を上下定盤11、12に向けて同時に噴射してもよく、噴射した高圧流体によってフェーシングヘッド2を安定させてもよい。 Furthermore, the drive mechanism is not limited to the first embodiment or the above modifications, as long as it can stably support the facing head 2 having the facing member 22 . For example, the facing head 2 can be fixed to the distal end portion 31a of the first arm 31 and supported in a so-called cantilevered state. Also, high-pressure fluid such as high-pressure cleaning water or compressed air may be jetted from the facing head 2 toward the upper and lower surface plates 11 and 12 at the same time, or the jetted high-pressure fluid may stabilize the facing head 2 .

また、実施例1のフェーシング装置1では、共通のフェーシングヘッド2を使用してフェーシングとドレッシングを行う例を示したが、これに限らない。例えば、駆動機構のアームを共用し、フェーシングに使用する専用のヘッドと、ドレッシングに使用する専用のヘッドを付け替える構成にしてもよい。また、フェーシング用の専用装置とドレッシング用の専用装置をそれぞれ一台以上備え、必要に応じて使い分けてもよい。 Also, in the facing apparatus 1 of the first embodiment, an example of performing facing and dressing using a common facing head 2 was shown, but the present invention is not limited to this. For example, the arm of the drive mechanism may be shared, and a dedicated head used for facing and a dedicated head used for dressing may be interchanged. In addition, one or more dedicated devices for facing and one or more dedicated devices for dressing may be provided and used separately as necessary.

また、実施例1のフェーシング装置1では、フェーシングヘッド2を第1アーム31と第2アーム32とで支持する例を示したが、これに限らない。ヘッドの支持は、複数のアームによる両持ちであってもよいし、単独アームによる片持ちであってもよい。 Also, in the facing device 1 of the first embodiment, an example in which the facing head 2 is supported by the first arm 31 and the second arm 32 is shown, but the present invention is not limited to this. The head may be supported on both sides by a plurality of arms, or may be supported by a single arm.

また、実施例1のフェーシング装置1では、第1オートフェーシングや第2オートフェーシング等の各種フェーシング及びドレッシングの実行レシピを設定するレシピ設定部5を有する例を示した。しかしながら、これに限らず、例えば研磨パッド11a、12aの表面形状・状態の変化を両面研磨機10のオペレータに表示し、この表示を確認したオペレータが第1オートフェーシングの実行レシピを制御部4に入力してもよい。また、定盤温度安定後のワークの研磨環境の変化についても両面研磨機10のオペレータに表示し、この表示を確認したオペレータが第2オートフェーシングの実行レシピを制御部4に入力してもよい。つまり、実行レシピの設定は、必ずしも自動的に行う必要はない。また、レシピ設定部5によって実行レシピを推奨し、推奨された実行レシピを参考にしてオペレータが手動によって各種のフェーシング及びドレッシングの実行レシピを設定してもよい。 Further, the facing apparatus 1 of the first embodiment has the recipe setting section 5 for setting execution recipes for various facings and dressings such as the first autofacing and the second autofacing. However, the present invention is not limited to this. For example, changes in the surface shape and state of the polishing pads 11a and 12a are displayed to the operator of the double-sided polishing machine 10, and the operator who confirms this display sends the execution recipe of the first autofacing to the control unit 4. may be entered. Also, the change in the polishing environment of the workpiece after the surface plate temperature is stabilized may be displayed to the operator of the double-sided polishing machine 10, and the operator who confirms this display may input the execution recipe of the second autofacing to the control unit 4. . In other words, it is not always necessary to automatically set the execution recipe. Alternatively, the recipe setting unit 5 may recommend an execution recipe, and the operator may manually set various execution recipes for facing and dressing with reference to the recommended execution recipe.

また、実施例1では、両面研磨機10における下定盤11と上定盤12との表面間距離を測定し、ワークの研磨状態と定盤間距離との相関に基づいて「所定条件」の成立を判断してもよいとした。しかしながら、ワークを研磨加工する研磨機は、ワークの片面のみを研磨する片面研磨機であってもよい。 Further, in Example 1, the distance between the surfaces of the lower surface plate 11 and the upper surface plate 12 in the double-sided polishing machine 10 is measured, and the "predetermined condition" is established based on the correlation between the polishing state of the workpiece and the distance between the surface plates. can be judged. However, the grinder that grinds the work may be a single-sided grinder that grinds only one side of the work.

さらに、オートドレッシングや第2オートフェーシングは、バッチ数やワークの研磨状態に応じて実行しなくてもよい。例えば、両面研磨機10による研磨加工の条件や、スラリ等の副資材の条件等が定型化している場合には、オートドレッシングや第2オートフェーシングを所定の頻度管理や順序によって行うことも可能である。 Furthermore, auto-dressing and second auto-facing may not be performed depending on the number of batches and the polishing state of the workpiece. For example, when the conditions for polishing by the double-sided polishing machine 10 and the conditions for secondary materials such as slurry are standardized, it is possible to perform auto-dressing and secondary auto-facing according to a predetermined frequency and order. be.

また、実施例1のフェーシング装置1では、ワーク研磨の1バッチ目の実行中に定盤温度が安定しないときには、1バッチ目から定盤温度が安定するまでの数バッチ間の間、第1オートフェーシングを実行する。つまり、第1オートフェーシングは、バッチ数に拘らず、ワークの研磨を開始してから定盤温度が安定するまでの間に実行される。 In addition, in the facing apparatus 1 of the first embodiment, when the surface plate temperature does not stabilize during the first batch of work polishing, the first auto mode is maintained for several batches from the first batch until the surface plate temperature stabilizes. Perform facing. That is, regardless of the number of batches, the first autofacing is performed from the start of work polishing until the surface plate temperature stabilizes.

1 フェーシング装置
2 フェーシングヘッド
22 フェーシング部材
3 駆動機構
31 第1アーム
32 第2アーム
33 回転モータ(揺動アクチュエータ)
34 回転軸
35 軸部材
4 制御部
5 レシピ設定部
10 両面研磨機
11 下定盤
11a 研磨パッド
12 上定盤
12a 研磨パッド
1 facing device 2 facing head 22 facing member 3 drive mechanism 31 first arm 32 second arm 33 rotary motor (swing actuator)
34 Rotating shaft 35 Shaft member 4 Control unit 5 Recipe setting unit 10 Double-sided polishing machine 11 Lower surface plate 11a Polishing pad 12 Upper surface plate 12a Polishing pad

Claims (8)

基板材料を研磨加工する研磨機の定盤に設けられた研磨パッドに押し付けられるフェーシング部材と、前記フェーシング部材を移動させる駆動機構と、前記駆動機構を制御して前記研磨パッドをフェーシングする制御部と、を備えたフェーシング装置において、
前記基板材料の研磨開始から前記定盤の温度が安定するまでの間に実行するフェーシングである第1オートフェーシングの実行レシピを、前記定盤の形状の変化に基づいて設定するレシピ設定部を備え、
前記制御部は、前記第1オートフェーシングの実行レシピに基づいて前記駆動機構を制御し、前記研磨開始から前記定盤の温度が安定するまでの間、前記第1オートフェーシングを行う
ことを特徴とするフェーシング装置。
A facing member that is pressed against a polishing pad provided on a platen of a polishing machine that polishes a substrate material, a drive mechanism that moves the facing member, and a controller that controls the drive mechanism to face the polishing pad. in a facing device comprising
a recipe setting unit for setting an execution recipe for first autofacing, which is facing performed from the start of polishing of the substrate material until the temperature of the platen stabilizes, based on changes in the shape of the platen; ,
The control unit controls the drive mechanism based on an execution recipe for the first autofacing, and performs the first autofacing from the start of polishing until the temperature of the surface plate stabilizes. facing device.
請求項1に記載されたフェーシング装置において、
前記レシピ設定部は、前記定盤の温度安定後、所定条件が成立したときに実行するフェーシングである第2オートフェーシングの実行レシピを、前記定盤の温度安定後の前記基板材料の研磨環境の変化に基づいて設定し、
前記制御部は、前記定盤の温度安定後に前記所定条件の成立を判断したとき、前記第2オートフェーシングの実行レシピに基づいて前記駆動機構を制御し、前記第2オートフェーシングを行う
ことを特徴とするフェーシング装置。
The facing device according to claim 1,
The recipe setting unit sets an execution recipe for a second autofacing, which is facing to be executed when a predetermined condition is satisfied after the temperature of the surface plate is stabilized, to a polishing environment for the substrate material after the temperature of the surface plate is stabilized. Set based on change,
The control unit, when determining that the predetermined condition is established after the temperature of the surface plate is stabilized, controls the drive mechanism based on the execution recipe of the second autofacing to perform the second autofacing. facing device.
請求項2に記載されたフェーシング装置において、
前記制御部は、前記基板材料の研磨状態の推移に基づいて前記所定条件が成立したか否かを判断する
ことを特徴とするフェーシング装置。
In the facing device according to claim 2,
The facing apparatus, wherein the control section determines whether or not the predetermined condition is satisfied based on the transition of the polishing state of the substrate material.
請求項2に記載されたフェーシング装置において、
前記制御部は、前記基板材料の研磨状態と、前記基板材料の研磨環境との相関に基づいて前記所定条件が成立したか否かを判断する
ことを特徴とするフェーシング装置。
In the facing device according to claim 2,
The facing apparatus according to claim 1, wherein the control unit determines whether or not the predetermined condition is satisfied based on a correlation between a polishing state of the substrate material and a polishing environment of the substrate material.
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載されたフェーシング装置において、
前記駆動機構は、先端部に前記フェーシング部材が固定され、基端部が揺動可能に支持された第1アームと、先端部が前記フェーシング部材に回転可能に連結され、基端部が所定方向に沿って進退移動可能な軸部材に回転可能に連結された第2アームと、前記第1アームの基端部を揺動させる揺動アクチュエータと、を備える
ことを特徴とするフェーシング装置。
In the facing device according to any one of claims 1 to 4,
The driving mechanism includes a first arm having a distal end to which the facing member is fixed and a proximal end to which the first arm is pivotally supported; a distal end to which the facing member is rotatably connected; A facing device, comprising: a second arm rotatably connected to a shaft member capable of advancing and retreating along a path; and a swing actuator for swinging a base end of the first arm.
請求項1から請求項4のいずれか一項に記載されたフェーシング装置において、
前記駆動機構は、前記定盤の一部を横切るように架け渡されると共に前記フェーシング部材を支持するリニアガイドと、前記フェーシング部材に取り付けられた直動アクチュエータと、を備える
ことを特徴とするフェーシング装置。
In the facing device according to any one of claims 1 to 4,
The facing device, wherein the drive mechanism includes a linear guide that spans across a portion of the surface plate and supports the facing member, and a linear actuator that is attached to the facing member. .
基板材料を研磨加工する研磨機の定盤に設けられた研磨パッドにフェーシング部材を押し付けながら前記フェーシング部材を移動させることで前記研磨パッドをフェーシングするフェーシング方法において、
前記基板材料の研磨開始から前記定盤の温度が安定するまでの間に実行するフェーシングである第1オートフェーシングの実行レシピを、前記定盤の形状の変化に基づいて設定する第1ステップと、
前記第1ステップにて設定された前記第1オートフェーシングの実行レシピに基づいて、前記研磨開始から前記定盤の温度が安定するまでの間、前記第1オートフェーシングを行う第2ステップと、
を有することを特徴とするフェーシング方法。
A facing method for facing a polishing pad by moving the facing member while pressing the facing member against a polishing pad provided on a surface plate of a polishing machine for polishing a substrate material,
a first step of setting an execution recipe of a first autofacing, which is a facing performed from the start of polishing of the substrate material until the temperature of the platen stabilizes, based on a change in the shape of the platen;
a second step of performing the first autofacing from the start of polishing until the temperature of the platen stabilizes based on the execution recipe of the first autofacing set in the first step;
A facing method comprising:
請求項7に記載されたフェーシング方法において、
前記定盤の温度安定後、所定条件が成立したときに実行するフェーシングである第2オートフェーシングの実行レシピを、前記定盤の温度安定後の前記基板材料の研磨環境の変化に基づいて設定する第3ステップと、
前記第3ステップにて設定された前記第2オートフェーシングの実行レシピに基づいて、前記定盤の温度安定後に前記所定条件の成立を判断したとき、前記第2オートフェーシングを行う第4ステップと、
を有することを特徴とするフェーシング方法
In the facing method according to claim 7,
After the temperature of the surface plate is stabilized, an execution recipe for second autofacing, which is facing to be executed when a predetermined condition is satisfied, is set based on a change in the polishing environment of the substrate material after the temperature of the surface plate is stabilized. a third step;
a fourth step of performing the second autofacing when it is determined that the predetermined condition is satisfied after the temperature of the surface plate is stabilized based on the execution recipe of the second autofacing set in the third step;
A facing method comprising:
JP2019224080A 2019-12-11 2019-12-11 Facing device and facing method Active JP7283750B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019224080A JP7283750B2 (en) 2019-12-11 2019-12-11 Facing device and facing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019224080A JP7283750B2 (en) 2019-12-11 2019-12-11 Facing device and facing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021091054A JP2021091054A (en) 2021-06-17
JP7283750B2 true JP7283750B2 (en) 2023-05-30

Family

ID=76311373

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019224080A Active JP7283750B2 (en) 2019-12-11 2019-12-11 Facing device and facing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7283750B2 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002046058A (en) 2000-08-02 2002-02-12 Super Silicon Kenkyusho:Kk Method of dressing polishing cloth for double-sided polishing
JP2004047876A (en) 2002-07-15 2004-02-12 Tokyo Seimitsu Co Ltd Polishing device and polishing process
JP2017071017A (en) 2015-10-07 2017-04-13 株式会社ミズホ Correction method for flatness and evenness of lapping machine and grind

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06285765A (en) * 1993-04-05 1994-10-11 Shonan Kagaku Kk Facing machine

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002046058A (en) 2000-08-02 2002-02-12 Super Silicon Kenkyusho:Kk Method of dressing polishing cloth for double-sided polishing
JP2004047876A (en) 2002-07-15 2004-02-12 Tokyo Seimitsu Co Ltd Polishing device and polishing process
JP2017071017A (en) 2015-10-07 2017-04-13 株式会社ミズホ Correction method for flatness and evenness of lapping machine and grind

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021091054A (en) 2021-06-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI449595B (en) Polishing method and polishing device
US20170252889A1 (en) Polishing apparatus
US10744616B2 (en) Wafer polishing method and apparatus
TWI451488B (en) Polishing apparatus
EP2478999A2 (en) Polishing method and polishing apparatus
KR101584265B1 (en) Lens spherical surface grinding method using dish-shaped grindstone
JP2007287787A (en) Method and equipment for manufacturing semiconductor device
WO2013112764A1 (en) Retaining ring monitoring and control of pressure
JP2011224680A (en) Polishing method and device
JP2000326210A (en) Rotary working device
JP7283750B2 (en) Facing device and facing method
JP2000061838A (en) Dressing device and dressing method
JP2006516933A (en) Polishing equipment
JP7172636B2 (en) Machine tool maintenance support device and machine tool system
JP2021142628A (en) Thickness measurement device for polishing pad
JP2003236748A (en) Grinder
JP2002144226A (en) Grinding device
KR20190009682A (en) An method for controlling grinding apparatus
JP5218892B2 (en) Consumable evaluation method
JP2002103202A (en) Polishing method and polishing device
JP5984253B2 (en) Surface processing method for surface plate for polishing machine and surface plate for polishing machine
JP2002222784A (en) Plane polishing method and apparatus thereof
JP3377860B2 (en) Polishing control device for semiconductor wafer
KR101259315B1 (en) Method for polishing semiconductor wafer, and device for polishing semiconductor wafer
JP2002086342A (en) Initial dressing method for abrasive cloth

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220614

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230323

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230404

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230410

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230425

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230511

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7283750

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150