JP7279840B1 - laminate - Google Patents

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Abstract

【課題】剥離性樹脂層の剥離不良が生じにくい積層体を提供する。【解決手段】積層体は、ガラス基板と、ガラス基板上に配置された積層樹脂層とを有し、積層樹脂層が、ガラス基板側から、中間樹脂層と、剥離性樹脂層とを有し、ガラス基板の積層樹脂層側の表面には、積層樹脂層が配置されてない周縁領域があり、ガラス基板の長辺の長さが400mm以上であり、ガラス基板の短辺の長さが320mm以上であり、ガラス基板の少なくとも1つの角部において、角部の頂点から最も近接した位置にある積層樹脂層までの距離Xが4mm以上である。【選択図】図2Kind Code: A1 A laminate is provided in which peeling failure of a peelable resin layer is less likely to occur. A laminate has a glass substrate and a laminated resin layer disposed on the glass substrate, and the laminated resin layer has an intermediate resin layer and a peelable resin layer from the glass substrate side. , the surface of the glass substrate on the side of the laminated resin layer has a peripheral region where the laminated resin layer is not arranged, the length of the long side of the glass substrate is 400 mm or more, and the length of the short side of the glass substrate is 320 mm. As described above, in at least one corner of the glass substrate, the distance X from the apex of the corner to the closest laminated resin layer is 4 mm or more. [Selection drawing] Fig. 2

Description

本発明は、積層体に関する。 The present invention relates to laminates.

太陽電池(PV);液晶パネル(LCD);有機ELパネル(OLED);電磁波、X線、紫外線、可視光線、赤外線などを感知する受信センサーパネル;などの電子デバイスの薄型化、軽量化が進行している。それに伴い、電子デバイスに用いるポリイミド基板などの基板の薄板化も進行している。薄板化により基板の強度が不足すると、基板のハンドリング性が低下し、基板上に電子デバイス用部材を形成する工程などにおいて問題が生じる場合がある。 Electronic devices such as solar cells (PV); liquid crystal panels (LCD); organic EL panels (OLED); receiving sensor panels that detect electromagnetic waves, X-rays, ultraviolet rays, visible light rays, infrared rays, etc. are becoming thinner and lighter. are doing. Along with this, substrates such as polyimide substrates used in electronic devices are becoming thinner. If the strength of the substrate is insufficient due to the thinning, the handleability of the substrate is lowered, and problems may occur in the process of forming electronic device members on the substrate.

そこで、最近では、基板のハンドリング性を良好にするため、支持基板上にポリイミド基板を配置した積層体を用いる技術が提案されている(特許文献1)。より具体的には、特許文献1では、熱硬化性樹脂組成物硬化体層上にポリイミドワニスを塗布して、樹脂ワニス硬化フィルム(ポリイミド層に該当)を形成して、樹脂ワニス硬化フィルム上に精密素子を配置できることが開示されている。 Therefore, recently, in order to improve the handleability of the substrate, a technique using a laminate in which a polyimide substrate is arranged on a support substrate has been proposed (Patent Document 1). More specifically, in Patent Document 1, a polyimide varnish is applied on a thermosetting resin composition cured body layer to form a resin varnish cured film (corresponding to a polyimide layer), and a resin varnish cured film is coated with It is disclosed that precision elements can be placed.

特開2018-193544号公報JP 2018-193544 A

特許文献1の熱硬化性樹脂組成物硬化体層上にポリイミドワニスを塗布して、樹脂ワニス硬化フィルムを形成する前に、熱硬化性樹脂組成物硬化体層上にPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム等の剥離性樹脂層を設けた積層体をハンドリングすることがある。
本発明者等は、上記ポリイミドワニスで形成されたポリイミド膜を得る際に、剥離性樹脂層を有するガラス基板(支持基板)を用いる技術について検討した。剥離性を有するガラス基板を準備する際に、ガラス基板が大きいときに、剥離性樹脂層を剥離しにくい等の剥離性に問題があることを見出した。
Polyimide varnish is applied on the cured thermosetting resin composition layer of Patent Document 1, and before forming a resin varnish cured film, a PET (polyethylene terephthalate) film or the like is applied on the cured thermosetting resin composition layer. In some cases, a laminate provided with a peelable resin layer is handled.
The present inventors have studied a technique of using a glass substrate (support substrate) having a peelable resin layer when obtaining a polyimide film formed from the polyimide varnish. When preparing a peelable glass substrate, when the glass substrate is large, it has been found that there is a problem with peelability such as difficulty in peeling the peelable resin layer.

本発明は、剥離性樹脂層の剥離不良が生じにくい積層体を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a laminate in which peeling failure of a peelable resin layer is less likely to occur.

本発明者らは、鋭意検討した結果、以下の構成により上述の課題を解決できることを見出した。
(1)ガラス基板と、ガラス基板上に配置された積層樹脂層とを有し、積層樹脂層が、ガラス基板側から、中間樹脂層と、剥離性樹脂層とを有し、ガラス基板の積層樹脂層側の表面には、積層樹脂層が配置されてない周縁領域があり、ガラス基板の長辺の長さが400mm以上であり、ガラス基板の短辺の長さが320mm以上であり、ガラス基板の少なくとも1つの角部において、角部の頂点から最も近接した位置にある積層樹脂層までの距離Xが4mm以上である、積層体。
As a result of intensive studies, the inventors have found that the above-described problems can be solved by the following configuration.
(1) Having a glass substrate and a laminated resin layer disposed on the glass substrate, the laminated resin layer having an intermediate resin layer and a peelable resin layer from the glass substrate side, and laminating the glass substrate The surface on the resin layer side has a peripheral area where the laminated resin layer is not arranged, the length of the long side of the glass substrate is 400 mm or more, the length of the short side of the glass substrate is 320 mm or more, and the glass substrate A layered product, wherein a distance X from a vertex of at least one corner of the substrate to the closest layered resin layer is 4 mm or more.

(2)ガラス基板の一辺上の点から最も近接した位置にある積層樹脂層までの距離のうち最小の距離Yが1mm以上である、(1)に記載の積層体。
(3)距離Xが21mm以下である、(1)又は(2)に記載の積層体。
(4)距離Yが15mm以下である、(1)~(3)のいずれか1つに記載の積層体。
(5)ガラス基板の1つの角部の頂点から最も近接した積層樹脂層の位置P1と、ガラス基板の1つの角部と隣接する角部の頂点から最も近接した積層樹脂層の位置P2とし、位置P1とP2とを結ぶ直線よりも、ガラス基板の辺側に積層樹脂層が存在する、(1)~(4)のいずれか1つに記載の積層体。
(6)ガラス基板の4つの各角部における距離Xのうち、少なくとも1つが異なる、(1)~(5)のいずれか1つに記載の積層体。
(7)ガラス基板の4つの各辺における距離Yのうち、少なくとも1つが異なる、(2)に記載の積層体。
(8)積層樹脂層は、複数の領域に分割されている、(1)~(7)のいずれか1つに記載の積層体。
(9)中間樹脂層は、シリコーン樹脂で構成される、(1)~(8)のいずれか1つに記載の積層体。
(10)剥離性樹脂層は、ポリエチレンテレフタレートで構成される、(1)~(9)のいずれか1つに記載の積層体。
(11)ガラス基板の厚みは、0.2~1mmである、(1)~(10)のいずれか1つに記載の積層体。
(12)ガラス基板のヤング率は、100GPa以下である、(1)~(11)のいずれか1つに記載の積層体。
(2) The laminate according to (1), wherein the minimum distance Y of distances from a point on one side of the glass substrate to the closest laminated resin layer is 1 mm or more.
(3) The laminate according to (1) or (2), wherein the distance X is 21 mm or less.
(4) The laminate according to any one of (1) to (3), wherein the distance Y is 15 mm or less.
(5) The position P1 of the laminated resin layer closest to the vertex of one corner of the glass substrate and the position P2 of the laminated resin layer closest to the vertex of the corner adjacent to one corner of the glass substrate, The laminate according to any one of (1) to (4), wherein the laminated resin layer is present on the side of the glass substrate with respect to the straight line connecting the positions P1 and P2.
(6) The laminate according to any one of (1) to (5), wherein at least one of the distances X at the four corners of the glass substrate is different.
(7) The laminate according to (2), wherein at least one of the distances Y on each of the four sides of the glass substrate is different.
(8) The laminate according to any one of (1) to (7), wherein the laminated resin layer is divided into a plurality of regions.
(9) The laminate according to any one of (1) to (8), wherein the intermediate resin layer is composed of a silicone resin.
(10) The laminate according to any one of (1) to (9), wherein the peelable resin layer is made of polyethylene terephthalate.
(11) The laminate according to any one of (1) to (10), wherein the glass substrate has a thickness of 0.2 to 1 mm.
(12) The laminate according to any one of (1) to (11), wherein the glass substrate has a Young's modulus of 100 GPa or less.

本発明によれば、剥離性樹脂層の剥離不良が生じにくい積層体を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated body which the peeling resin layer is hard to produce the peeling defect can be provided.

本発明の実施形態の積層体の第1の例を示す模式的断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is typical sectional drawing which shows the 1st example of the laminated body of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の積層体の第1の例を示す模式的平面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic plan view which shows the 1st example of the laminated body of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の積層体の第2の例を示す模式的平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view showing a second example of the laminate according to the embodiment of the invention; 本発明の実施形態の積層体の第3の例を示す模式的平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view showing a third example of the laminate according to the embodiment of the invention; 本発明の実施形態の積層体の第4の例を示す模式的平面図である。FIG. 10 is a schematic plan view showing a fourth example of the laminate according to the embodiment of the invention;

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。ただし、以下の実施形態は本発明を説明するための例示的なものであり、以下に示す実施形態に制限されることはない。なお、本発明の範囲を逸脱することなく、以下の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the following embodiments are exemplifications for explaining the present invention, and are not limited to the embodiments shown below. Various modifications and replacements can be made to the following embodiments without departing from the scope of the present invention.
A numerical range represented using "to" means a range including the numerical values described before and after "to" as lower and upper limits.

本発明の積層体の特徴点としては、ガラス基板と、ガラス基板上に配置された積層樹脂層とを有し、積層樹脂層が、ガラス基板側から、中間樹脂層と、剥離性樹脂層とを有し、ガラス基板の積層樹脂層側の表面には、積層樹脂層が配置されてない周縁領域があり、ガラス基板の長辺の長さが400mm以上であり、ガラス基板の短辺の長さが320mm以上であり、ガラス基板の少なくとも1つの角部において、角部の頂点から最も近接した位置にある積層樹脂層までの距離Xが4mm以上であることにより、剥離性樹脂層の剥離不良を抑制できることを知見している。これにより、所望の効果が得られる。 A feature of the laminate of the present invention is that it has a glass substrate and a laminated resin layer disposed on the glass substrate, and the laminated resin layer comprises an intermediate resin layer and a peelable resin layer from the glass substrate side. The surface of the glass substrate on the side of the laminated resin layer has a peripheral area where the laminated resin layer is not arranged, the length of the long side of the glass substrate is 400 mm or more, and the length of the short side of the glass substrate is 320 mm or more, and in at least one corner of the glass substrate, the distance X from the apex of the corner to the closest laminated resin layer is 4 mm or more, so that the detachable resin layer is detached. It is known that it is possible to suppress This provides the desired effect.

<積層体>
図1は本発明の実施形態の積層体の第1の例を示す模式的断面図であり、図2は本発明の実施形態の積層体の第1の例を示す模式的平面図である。
図1に示すように積層体10は、ガラス基板12上に配置された積層樹脂層14とを有する。積層樹脂層14は、ガラス基板12側から、中間樹脂層16と、剥離性樹脂層18とを有する。中間樹脂層16がガラス基板12の表面12aに設けられ、中間樹脂層16と剥離性樹脂層18とが積層されている。積層樹脂層14において、中間樹脂層16と剥離性樹脂層18とは同じ大きさである。積層樹脂層14は、例えば、ガラス基板12の表面12aの法線方向から見た外形が超楕円形である。
<Laminate>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a first example of the laminate according to the embodiment of the invention, and FIG. 2 is a schematic plan view showing the first example of the laminate according to the embodiment of the invention.
As shown in FIG. 1, the laminated body 10 has a laminated resin layer 14 arranged on the glass substrate 12 . The laminated resin layer 14 has an intermediate resin layer 16 and a peelable resin layer 18 from the glass substrate 12 side. An intermediate resin layer 16 is provided on the surface 12a of the glass substrate 12, and the intermediate resin layer 16 and the peelable resin layer 18 are laminated. In the laminated resin layer 14, the intermediate resin layer 16 and the peelable resin layer 18 have the same size. The laminated resin layer 14 has, for example, a superelliptical outer shape when viewed from the normal direction of the surface 12a of the glass substrate 12 .

剥離性樹脂層18が、積層体10から剥離されて、中間樹脂層16上に、例えば、ポリイミド層(図示せず)が形成される。ガラス基板12は、支持基板として機能するものであり、積層樹脂層14側の表面12aの法線方向から見た場合、外形が、例えば、四角形である。
積層体10は、図2に示すようにガラス基板12の長辺12bの長さLが400mm以上であり、ガラス基板12の短辺12cの長さLが320mm以上である。
ガラス基板12は、積層樹脂層14よりも大きく、ガラス基板12の積層樹脂層14側の表面12aには、積層樹脂層14が配置されてない周縁領域13がある。ガラス基板12の周縁領域13の表面12aは露出している。
積層体10では、ガラス基板12の少なくとも1つの角部12dにおいて、角部12dの頂点12eから最も近接した位置にある積層樹脂層14までの距離Xが4mm以上である。
このような積層体10においては、輸送又はオートクレーブ処理で積層体10が加熱されても、ガラス基板12の反りが抑制され、剥離性樹脂層18を剥離しにくくなる等の剥離不良が生じにくい。
The peelable resin layer 18 is peeled off from the laminate 10 and a polyimide layer (not shown), for example, is formed on the intermediate resin layer 16 . The glass substrate 12 functions as a support substrate, and when viewed from the normal direction of the surface 12a on the side of the laminated resin layer 14, the outer shape is, for example, a square.
In the laminate 10, as shown in FIG. 2, the length L1 of the long side 12b of the glass substrate 12 is 400 mm or more, and the length L2 of the short side 12c of the glass substrate 12 is 320 mm or more.
The glass substrate 12 is larger than the laminated resin layer 14, and the surface 12a of the glass substrate 12 on the laminated resin layer 14 side has a peripheral region 13 where the laminated resin layer 14 is not arranged. The surface 12a of the peripheral region 13 of the glass substrate 12 is exposed.
In the laminate 10, in at least one corner 12d of the glass substrate 12, the distance X from the vertex 12e of the corner 12d to the closest laminated resin layer 14 is 4 mm or more.
In such a laminate 10, even if the laminate 10 is heated during transportation or autoclave treatment, warping of the glass substrate 12 is suppressed, and peeling defects such as difficulty in peeling the peelable resin layer 18 are less likely to occur.

ガラス基板12は、外縁が面取りされていることがある。この場合、角部12dの頂点12eも所定の曲率半径を有する円弧になっていることがある。角部12dが円弧の場合、ガラス基板12の各辺の直接部分を各辺の延在方向に延長して、隣接する2つの辺のそれぞれの延長線が交わる点を仮想頂点とする。この仮想頂点のうち、ガラス基板12において対角の関係にある仮想頂点同士を結んで得られる線を仮想対角線とする。この仮想対角線と、円弧とが交わる点を頂点とする。
また、ガラス基板12の角部12dが、オリエンテーションフラットのようにコーナーカットされていることもある。この場合、上述の円弧と同様に、コーナーカットされた形成された辺(図示せず)と、上述の仮想対角線とが交わる点を頂点とする。
The glass substrate 12 may have a chamfered outer edge. In this case, the vertex 12e of the corner 12d may also be an arc having a predetermined radius of curvature. When the corner portion 12d is an arc, the direct portion of each side of the glass substrate 12 is extended in the extending direction of each side, and the point where the extension lines of the two adjacent sides intersect is defined as a virtual vertex. Of these virtual vertices, a line obtained by connecting virtual vertices that are diagonally opposite each other on the glass substrate 12 is defined as a virtual diagonal line. The vertex is the intersection of the virtual diagonal line and the circular arc.
Further, the corner 12d of the glass substrate 12 may be corner-cut like an orientation flat. In this case, as in the case of the circular arc described above, the vertex is the point at which the corner-cut formed side (not shown) and the virtual diagonal line described above intersect.

積層体10は、上述の角部12dの頂点12eから最も近接した位置にある積層樹脂層14までの距離Xが、21mm以下であることが好ましく、10mm以下であることがより好ましい。上述の距離Xが21mm以下であると、ガラス基板12の表面12aに対して積層樹脂層14を設ける領域が広くなるため好ましい。
なお、上述の角部12dの頂点12eから最も近接した位置にある積層樹脂層14までの距離Xは、ガラス基板12の4つの角部12dにおいて、全て同じである必要はない。上述の距離Xは、ガラス基板12の4つの各角部12dのうち、少なくとも1つが異なっていてもよく、全てが異なっていてもよい。また、例えば、4つの角部12dのうち、2つの角部と、残りの2つの角部とをペアにて、2つのペアで、距離Xが異なる構成でもよい。
積層体10は、ガラス基板12の一辺上の点Pから最も近接した位置にある積層樹脂層14までの距離のうち最小の距離Yが1mm以上であることが好ましい。
最小の距離Yが15mm以下であると、ガラス基板12の表面12aに対して積層樹脂層14を設ける領域が広くなるため好ましい。
なお、ガラス基板12の4つの辺において、一辺上の点から最も近接した位置にある積層樹脂層14までの距離のうち最小の距離Yは、ガラス基板12の4つの各辺のうち、少なくとも1つが異なっていてもよく、全てが異なっていてもよい。この場合、積層樹脂層14は、4つの辺のうち、少なくとも1つの辺に寄って配置される。このように積層樹脂層14は、積層樹脂層14の周囲の周縁領域13が均等になるようにガラス基板12の表面12aに配置されることに限定されるものではなく、積層樹脂層14を1つの辺に寄せて配置してもよい。
In the laminate 10, the distance X from the vertex 12e of the corner 12d to the closest laminated resin layer 14 is preferably 21 mm or less, more preferably 10 mm or less. It is preferable that the distance X is 21 mm or less, because the region where the laminated resin layer 14 is provided on the surface 12a of the glass substrate 12 is widened.
Note that the distance X from the vertex 12e of the corner 12d to the closest laminated resin layer 14 does not need to be the same for the four corners 12d of the glass substrate 12. FIG. At least one of the four corners 12d of the glass substrate 12 may differ from the distance X described above, or all may differ from each other. Further, for example, two corners and the remaining two corners of the four corners 12d may be paired, and the distance X may be different between the two pairs.
In the laminated body 10, it is preferable that the minimum distance Y of the distances from the point P on one side of the glass substrate 12 to the closest laminated resin layer 14 is 1 mm or more.
It is preferable that the minimum distance Y is 15 mm or less, because the region where the laminated resin layer 14 is provided with respect to the surface 12a of the glass substrate 12 is widened.
In the four sides of the glass substrate 12, the minimum distance Y among the distances from a point on one side to the closest laminated resin layer 14 is at least one of the four sides of the glass substrate 12. one may be different, or all may be different. In this case, the laminated resin layer 14 is arranged close to at least one of the four sides. As described above, the laminated resin layer 14 is not limited to being arranged on the surface 12a of the glass substrate 12 so that the peripheral region 13 around the laminated resin layer 14 is uniform. They may be placed close to each other.

図2に示すように、積層体10において、ガラス基板12の1つの角部12dの頂点12eから最も近接した積層樹脂層14の位置P1と、ガラス基板12の1つの角部12dと隣接する角部12dの頂点12eから最も近接した積層樹脂層14の位置P2とし、位置P1と位置P2とを結ぶ直線Lpよりも、ガラス基板12の辺側に積層樹脂層14が存在することが好ましい。すなわち、積層樹脂層14は、上述の直線Lpよりもガラス基板12の辺側に領域14dが存在する。
上述の直線Lpは、図2に示すように長辺12b側と、短辺12c側との両方に存在する。積層樹脂層14において、長辺12b側の直線Lpよりもガラス基板12の長辺12b側に領域14dが存在する。また、積層樹脂層14において、短辺12c側の直線Lpよりもガラス基板12の短辺12c側に領域14dが存在する。
積層体10の剥離性樹脂層18を剥離し、ガラス基板12及び中間樹脂層16上にポリイミド層(図示せず)を形成した場合、上述のように位置P1と位置P2とを結ぶ直線Lpよりもガラス基板12の長辺12b側、又は短辺12c側に積層樹脂層14が存在すると、高温加熱の際に、ポリイミド層の劣化が抑制されて、ポリイミド層にクラックが生じにくいため好ましい。
このことから、積層樹脂層14は、ガラス基板12の表面12aの法線方向から見た外形が四角形(図3参照)よりも、図2に示す積層樹脂層14の外形の方が好ましい。
なお、積層樹脂層14において、領域14dがある場合、距離Xと、距離Yとは、距離X>距離Y×1.4の関係を満たす。
As shown in FIG. 2, in the laminate 10, the position P1 of the laminated resin layer 14 closest to the vertex 12e of one corner 12d of the glass substrate 12 and the corner adjacent to the one corner 12d of the glass substrate 12 Position P2 of the laminated resin layer 14 closest to the vertex 12e of the portion 12d is preferably located on the side of the glass substrate 12 from the straight line Lp connecting the positions P1 and P2. That is, the laminated resin layer 14 has a region 14d on the side of the glass substrate 12 with respect to the straight line Lp.
The straight line Lp described above exists on both the long side 12b side and the short side 12c side as shown in FIG. In the laminated resin layer 14, a region 14d exists on the long side 12b side of the glass substrate 12 with respect to the straight line Lp on the long side 12b side. Further, in the laminated resin layer 14, a region 14d exists on the short side 12c side of the glass substrate 12 with respect to the straight line Lp on the short side 12c side.
When the peelable resin layer 18 of the laminate 10 is peeled off and a polyimide layer (not shown) is formed on the glass substrate 12 and the intermediate resin layer 16, as described above, from the straight line Lp connecting the positions P1 and P2, When the laminated resin layer 14 is present on the long side 12b side or the short side 12c side of the glass substrate 12, deterioration of the polyimide layer is suppressed during high temperature heating, and cracks are less likely to occur in the polyimide layer, which is preferable.
For this reason, the outer shape of the laminated resin layer 14 shown in FIG. 2 is preferable to the outer shape of the laminated resin layer 14 when viewed from the normal direction of the surface 12a of the glass substrate 12 is a square (see FIG. 3).
In addition, when the laminated resin layer 14 has the region 14d, the distance X and the distance Y satisfy the relationship of distance X>distance Y×1.4.

積層体10の積層樹脂層14の外形は、上述の距離Xを満たせば、特に限定されるものではなく、四角形でもよく、図3に示す積層体10aのようにガラス基板12の積層樹脂層14側の表面12aの法線方向から見た場合、外形が長方形でもよい。
なお、図3は本発明の実施形態の積層体の第2の例を示す模式的平面図である。図3において、図1及び図2に示す積層体10と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
The outer shape of the laminated resin layer 14 of the laminate 10 is not particularly limited as long as it satisfies the distance X described above, and may be rectangular. Like the laminated body 10a shown in FIG. The outer shape may be rectangular when viewed from the normal direction of the side surface 12a.
In addition, FIG. 3 is a schematic plan view showing a second example of the laminate according to the embodiment of the present invention. In FIG. 3, the same components as those of the laminate 10 shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図4は本発明の実施形態の積層体の第3の例を示す模式的平面図である。図4において、図1及び図2に示す積層体10と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
図4に示す積層体10bは、図1及び図2に示す積層体10に比して、積層樹脂層14が複数の領域に分割されている点が異なり、それ以外は、図1及び図2に示す積層体10と同様の構成である。
積層体10bの積層樹脂層14は、長辺12bの半分の長さの位置に設けられ、短辺12cに沿って延びた直線状の溝19により、2つの領域15a、15bに分割されている。2つの領域15a、15bは、形状及び大きさが同じである。
溝19は、積層樹脂層14の表面14aからガラス基板12の表面12aに達しており、溝19には積層樹脂層14がなく、ガラス基板12の表面12aが露出している。
溝19の長辺12bの延在方向における長さ、すなわち、溝19の幅Zは、例えば、上述の距離Yよりも広くてもよい。
溝19は、例えば、カッター又はレーザーを用いて積層樹脂層14を切断して、取り除くことにより形成される。また、積層樹脂層14は間をあけて配置して溝19を設けてもよい。
また、積層樹脂層14が2つの領域に分割されているが、分割数は、2に限定されるものではないが、例えば、3~240でもよい。
2つの領域15a、15bは、形状及び大きさが同じであることに限定されるものではなく、形状又は大きさのうち、少なくとも一方が異なってもよい。
短辺12cに沿って延びた直線状の溝19に限定されるものではなく、短辺12cの半分の長さの位置に設けられ、長辺12bに沿って延びた直線状の溝19により、積層樹脂層14が分割されてもよい。
FIG. 4 is a schematic plan view showing a third example of the laminate according to the embodiment of the invention. In FIG. 4, the same components as those of the laminate 10 shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
The laminate 10b shown in FIG. 4 differs from the laminate 10 shown in FIGS. 1 and 2 in that the laminated resin layer 14 is divided into a plurality of regions. It has the same configuration as the laminate 10 shown in FIG.
The laminated resin layer 14 of the laminated body 10b is provided at a position half the length of the long side 12b and divided into two regions 15a and 15b by a linear groove 19 extending along the short side 12c. . The two regions 15a, 15b have the same shape and size.
The groove 19 extends from the surface 14a of the laminated resin layer 14 to the surface 12a of the glass substrate 12. The groove 19 has no laminated resin layer 14, and the surface 12a of the glass substrate 12 is exposed.
The length in the extending direction of the long side 12b of the groove 19, that is, the width Z of the groove 19 may be wider than the distance Y described above, for example.
The groove 19 is formed by cutting and removing the laminated resin layer 14 using a cutter or laser, for example. Further, the grooves 19 may be provided in the laminated resin layers 14 with a space therebetween.
Also, although the laminated resin layer 14 is divided into two regions, the number of divisions is not limited to 2, but may be 3 to 240, for example.
The two regions 15a and 15b are not limited to having the same shape and size, and at least one of the shape and size may be different.
It is not limited to the linear groove 19 extending along the short side 12c. The laminated resin layer 14 may be divided.

図3に示す積層樹脂層14の形状が、ガラス基板12の積層樹脂層14側の表面12aの法線方向から見た場合に四角形の場合でも、積層樹脂層14は複数の領域に分割されていてもよい。具体的には、図5に示す積層体10cの積層樹脂層14のように、溝19により2つの領域15a、15bに分割されていてもよい。
なお、図5は本発明の実施形態の積層体の第4の例を示す模式的平面図である。図3において、図1及び図2に示す積層体10と同一構成物には、同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。
Even if the shape of the laminated resin layer 14 shown in FIG. 3 is a square when viewed from the normal direction of the surface 12a of the glass substrate 12 on the laminated resin layer 14 side, the laminated resin layer 14 is divided into a plurality of regions. may Specifically, like the laminated resin layer 14 of the laminated body 10c shown in FIG.
FIG. 5 is a schematic plan view showing a fourth example of the laminate according to the embodiment of the invention. In FIG. 3, the same components as those of the laminate 10 shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

以下では、上記積層体を構成する各部材について詳述する。
(ガラス基板)
ガラス基板は、積層樹脂層14を支持して補強する部材であり、支持基板として機能する。
ガラス基板を構成するガラスとしては、無アルカリホウケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラスが好ましい。酸化物系ガラスとしては、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が40~90質量%のガラスが好ましい。
ガラス基板として、より具体的には、無アルカリホウケイ酸ガラスからなるガラス基板(AGC株式会社製商品名「AN100」)が挙げられる。
ガラス基板の製造方法は、通常、ガラス原料を溶融し、溶融ガラスを板状に成形して得られる。このような成形方法は、一般的なものであってよく、例えば、フロート法、フュージョン法、スロットダウンドロー法が挙げられる。
ガラス基板の形状は、特に制限されないが、輸送及び移送等のハンドリングの観点から、ガラス基板12の積層樹脂層14側の表面12aの法線方向から見た場合、外形が四角形であることが好ましい。
ガラス基板は外形が四角形である場合、ガラス基板の長辺と短辺とは違う長さでもよく、また、ガラス基板の長辺と短辺とが同じ長さでもよい。
Below, each member which comprises the said laminated body is explained in full detail.
(glass substrate)
The glass substrate is a member that supports and reinforces the laminated resin layer 14, and functions as a support substrate.
As the glass constituting the glass substrate, alkali-free borosilicate glass, borosilicate glass, soda lime glass, high silica glass, and other oxide glasses containing silicon oxide as a main component are preferable. As the oxide glass, glass having a silicon oxide content of 40 to 90% by mass in terms of oxide is preferable.
More specifically, the glass substrate includes a glass substrate made of non-alkali borosilicate glass (trade name “AN100” manufactured by AGC Inc.).
A method for producing a glass substrate is generally obtained by melting glass raw materials and forming the molten glass into a plate shape. Such a molding method may be a general one, and examples thereof include a float method, a fusion method, and a slot down-draw method.
The shape of the glass substrate is not particularly limited, but from the viewpoint of handling such as transportation and transfer, when viewed from the normal direction of the surface 12a of the glass substrate 12 on the side of the laminated resin layer 14, the outer shape is preferably rectangular. .
When the glass substrate has a rectangular outer shape, the long sides and short sides of the glass substrate may have different lengths, or the long sides and short sides of the glass substrate may have the same length.

ガラス基板は、フレキシブルでないことが好ましい。ガラス基板のヤング率は、100GPa以下であることが好ましい。ガラス基板のヤング率は、超音波パルス法により測定された値である。ガラス基板のヤング率が100GPa以下であれば、ガラス基板の運搬時の周辺部材との接触による破損を抑制することができる。ガラス基板のヤング率は65GPa以上であり、ヤング率が65GPa以上であれば、ガラス基板の運搬時の周辺部材との接触による破損を抑制することができる。
ガラス基板の厚みDt(図1参照)は0.2~1mmが好ましい。上記ガラス基板の厚みDtは、ガラス基板12の任意の10点の厚みを測定して、それらを算術平均して求めた値である。
Preferably, the glass substrate is not flexible. The Young's modulus of the glass substrate is preferably 100 GPa or less. The Young's modulus of the glass substrate is a value measured by an ultrasonic pulse method. If the Young's modulus of the glass substrate is 100 GPa or less, breakage due to contact with peripheral members during transportation of the glass substrate can be suppressed. The Young's modulus of the glass substrate is 65 GPa or more, and if the Young's modulus is 65 GPa or more, breakage due to contact with peripheral members during transportation of the glass substrate can be suppressed.
The thickness Dt (see FIG. 1) of the glass substrate is preferably 0.2 to 1 mm. The thickness Dt of the glass substrate is a value obtained by measuring the thickness of the glass substrate 12 at arbitrary 10 points and arithmetically averaging them.

(積層樹脂層)
積層樹脂層14は、上述のように中間樹脂層16と剥離性樹脂層18とをする。例えば、剥離性樹脂層18を剥離した後、ガラス基板12及び中間樹脂層16上にポリイミド層(図示せず)が形成される。
(Laminated resin layer)
The laminated resin layer 14 includes the intermediate resin layer 16 and the peelable resin layer 18 as described above. For example, after peeling the peelable resin layer 18 , a polyimide layer (not shown) is formed on the glass substrate 12 and the intermediate resin layer 16 .

[中間樹脂層]
中間樹脂層16は、ガラス基板12の表面12aに形成されている。
中間樹脂層16は、その上に配置されるポリイミド層(図示せず)の剥離を防止するための膜である。
中間樹脂層16の材質としては、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂、フッ素樹脂が挙げられる。また、いくつかの種類の樹脂を混合して中間樹脂層16を構成することもできる。
なかでも、耐熱性や剥離性の点から、中間樹脂層16の材質として、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂が好ましく、シリコーン樹脂がより好ましく、縮合硬化型シリコーンより形成されるシリコーン樹脂がより好ましい。シリコーン樹脂で構成された中間樹脂層16のことを、シリコーン樹脂層という。
以下では、中間樹脂層16がシリコーン樹脂層である形態について詳述する。
[Intermediate resin layer]
The intermediate resin layer 16 is formed on the surface 12 a of the glass substrate 12 .
The intermediate resin layer 16 is a film for preventing peeling of a polyimide layer (not shown) placed thereon.
Examples of materials for the intermediate resin layer 16 include acrylic resins, polyolefin resins, polyurethane resins, polyimide resins, silicone resins, polyimide silicone resins, and fluorine resins. Also, the intermediate resin layer 16 can be formed by mixing several kinds of resins.
Among them, silicone resins and polyimide silicone resins are preferable as the material of the intermediate resin layer 16 in terms of heat resistance and peelability, silicone resins are more preferable, and silicone resins formed from condensation curing silicone are more preferable. The intermediate resin layer 16 made of silicone resin is called a silicone resin layer.
Below, the form in which the intermediate resin layer 16 is a silicone resin layer will be described in detail.

シリコーン樹脂とは、所定のオルガノシロキシ単位を含む樹脂であり、通常、硬化性シリコーンを硬化させて得られる。硬化性シリコーンは、その硬化機構により付加硬化型シリコーン、縮合硬化型シリコーン、紫外線硬化型シリコーン、及び、電子線硬化型シリコーンに分類されるが、いずれも使用できる。なかでも、縮合硬化型シリコーンが好ましい。
縮合硬化型シリコーンとしては、モノマーである加水分解性オルガノシラン化合物若しくはその混合物(モノマー混合物)、又は、モノマー又はモノマー混合物を部分加水分解縮合反応させて得られる部分加水分解縮合物(オルガノポリシロキサン)を好適に用いることができる。
この縮合硬化型シリコーンを用いて、加水分解・縮合反応(ゾルゲル反応)を進行させることにより、シリコーン樹脂を形成できる。
A silicone resin is a resin containing a predetermined organosiloxy unit, and is usually obtained by curing a curable silicone. Curable silicones are classified into addition-curing silicones, condensation-curing silicones, UV-curing silicones, and electron beam-curing silicones according to their curing mechanisms, and any of them can be used. Among them, condensation-curing silicone is preferred.
Condensation-curable silicones include hydrolyzable organosilane compounds that are monomers or mixtures thereof (monomer mixtures), or partially hydrolyzed condensates (organopolysiloxanes) obtained by partially hydrolyzing and condensing monomers or monomer mixtures. can be preferably used.
A silicone resin can be formed by proceeding a hydrolysis/condensation reaction (sol-gel reaction) using this condensation-curable silicone.

中間樹脂層16は、硬化性シリコーンを含む硬化性組成物を用いて形成されることが好ましい。
硬化性組成物は、硬化性シリコーンのほかに、溶媒、白金触媒(硬化性シリコーンとして付加反応型シリコーンを用いる場合)、レベリング剤、金属化合物などを含んでいてもよい。金属化合物に含まれる金属元素としては、例えば、3d遷移金属、4d遷移金属、ランタノイド系金属、ビスマス(Bi)、アルミニウム(Al)、スズ(Sn)が挙げられる。金属化合物の含有量は、特に制限されず、適宜調整される。
The intermediate resin layer 16 is preferably formed using a curable composition containing curable silicone.
The curable composition may contain, in addition to the curable silicone, a solvent, a platinum catalyst (when an addition-reactive silicone is used as the curable silicone), a leveling agent, a metal compound, and the like. Examples of metal elements contained in metal compounds include 3d transition metals, 4d transition metals, lanthanide metals, bismuth (Bi), aluminum (Al), and tin (Sn). The content of the metal compound is not particularly limited and is adjusted as appropriate.

中間樹脂層16は、ヒドロキシ基を有することが好ましい。中間樹脂層16のシリコーン樹脂を構成するSi-O-Si結合の一部が切れて、ヒドロキシ基が現れ得る。また、縮合反応型シリコーンを用いる場合には、そのヒドロキシ基が、中間樹脂層16のヒドロキシ基になり得る。 The intermediate resin layer 16 preferably has hydroxy groups. A portion of the Si--O--Si bonds that constitute the silicone resin of the intermediate resin layer 16 may be broken to reveal hydroxy groups. Moreover, when condensation reaction type silicone is used, its hydroxy group can become the hydroxy group of the intermediate resin layer 16 .

中間樹脂層16の厚さは、一方の樹脂基板を剥離した後、中間層の樹脂基板が配置されていない側にガラス製の支持基板を積層するときに異物の埋め込み性に優れる点で、1μm以上が好ましく、6μm以上がより好ましい。中間樹脂層16の厚さの上限は、加工コストやプロセスタクトの点で、50μm以下が好ましく、30μm以下がより好ましく、12μm以下がさらに好ましい。
なお、異物埋め込み性に優れるとは、ガラス基板12と中間樹脂層16との間に異物があっても、中間樹脂層16によって異物が埋め込まれことを意味する。異物の埋め込み性が優れると、中間樹脂層16に異物による凸部が生じにくい。このことから、異物埋め込み性に優れると、上述のように中間樹脂層16上にポリイミド層を形成し、さらにポリイミド層上に電子デバイス用部材を形成した際、凸部による電子デバイス用部材中での断線等のリスクが抑制される。
中間樹脂層16の厚さは、5点以上の任意の位置における中間樹脂層16の厚さを三鷹光器株式会社製の非接触表面性状測定装置「PF-60」を用いて測定し、それらを算術平均したものである。
The thickness of the intermediate resin layer 16 is 1 .mu.m because it is excellent in embedding foreign matter when a support substrate made of glass is laminated on the side of the intermediate layer on which the resin substrate is not arranged after peeling off one of the resin substrates. 6 μm or more is preferable, and 6 μm or more is more preferable. The upper limit of the thickness of the intermediate resin layer 16 is preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, and even more preferably 12 μm or less in terms of processing cost and process tact.
It should be noted that excellent foreign matter embedding property means that even if foreign matter exists between the glass substrate 12 and the intermediate resin layer 16 , the foreign matter is embedded by the intermediate resin layer 16 . If the embedding property of foreign matter is excellent, the intermediate resin layer 16 is less likely to have protrusions due to foreign matter. From this, when the polyimide layer is formed on the intermediate resin layer 16 as described above, and the electronic device member is formed on the polyimide layer, when the foreign matter embedding property is excellent, the protrusions in the electronic device member This reduces the risk of wire disconnection, etc.
The thickness of the intermediate resin layer 16 is determined by measuring the thickness of the intermediate resin layer 16 at five or more arbitrary positions using a non-contact surface texture measuring device "PF-60" manufactured by Mitaka Kohki Co., Ltd. is the arithmetic mean of

[剥離性樹脂層]
剥離性樹脂層18は、中間樹脂層16上に配置されるものであり、中間樹脂層16を保護する。
剥離性樹脂層18は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリオレフィン樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン)、又はポリウレタン樹脂で構成される。中でも、入手しやすい点から、剥離性樹脂層18を構成する樹脂は、ポリエステル樹脂が好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好ましい。
[Peelable resin layer]
The peelable resin layer 18 is arranged on the intermediate resin layer 16 and protects the intermediate resin layer 16 .
The peelable resin layer 18 is composed of, for example, polyimide resin, polyester resin (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), polyolefin resin (eg, polyethylene, polypropylene), or polyurethane resin. Among them, polyester resin is preferable, and polyethylene terephthalate is more preferable as the resin constituting the peelable resin layer 18 because of easy availability.

剥離性樹脂層の厚みは、外部から受けた力の影響を低減するために、20μm以上が好ましく、30μm以上がより好ましく、50μm以上がさらに好ましい。剥離性樹脂層の厚みの上限値としては、500μm以下が好ましく、300μm以下がより好ましく、100μm以下がさらに好ましい。 The thickness of the peelable resin layer is preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, and even more preferably 50 μm or more, in order to reduce the influence of external force. The upper limit of the thickness of the peelable resin layer is preferably 500 µm or less, more preferably 300 µm or less, and even more preferably 100 µm or less.

剥離性樹脂層は、中間樹脂層16側の表面に、さらに密着層を有していてもよい。
密着層としては、公知の粘着層を用いることができる。粘着層を構成する粘着剤としては、例えば、(メタ)アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤が挙げられる。
また、密着層は樹脂で構成されていてもよく、樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、エチレン-酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレンエラストマーが挙げられる。
剥離性樹脂層の中間樹脂層16側の表面粗さ(Ra)は、剥離性樹脂層を剥離した際の剥離力が低減するため、50nm以下が好ましく、30nm以下がより好ましく、15nm以下がさらに好ましい。また、Raは、剥離性樹脂層と中間樹脂層とが密着した状態を維持できるため、0.1nm以上が好ましく、0.5nm以上がより好ましい。表面粗さ(Ra)は、三菱ケミカルシステム株式会社製の非接触表面・層断面形状計測システム「VertscanR3300-lite」を用いて測定する。
The peelable resin layer may further have an adhesion layer on the surface on the intermediate resin layer 16 side.
A known adhesive layer can be used as the adhesive layer. Examples of adhesives constituting the adhesive layer include (meth)acrylic adhesives, silicone adhesives, and urethane adhesives.
Further, the adhesion layer may be made of a resin, and examples of the resin include vinyl acetate resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, (meth)acrylic resin, and butyral resin. , polyurethane resins, and polystyrene elastomers.
The surface roughness (Ra) of the peelable resin layer on the intermediate resin layer 16 side is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and further preferably 15 nm or less, because the peeling force when peeling the peelable resin layer is reduced. preferable. Ra is preferably 0.1 nm or more, and more preferably 0.5 nm or more, so that the peelable resin layer and the intermediate resin layer can be kept in close contact with each other. The surface roughness (Ra) is measured using a non-contact surface/layer profile measuring system "Vertscan R3300-lite" manufactured by Mitsubishi Chemical Systems Corporation.

<積層体の製造方法>
積層体の製造方法は、特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
例えば、ガラス基板12上の所定の領域の中間樹脂層16を形成し、その後、中間樹脂層16上に剥離性樹脂層18を形成する方法が挙げられる。
以下、各層の製造手順について詳述する。
<Method for manufacturing laminate>
A method for manufacturing the laminate is not particularly limited, and known methods may be used.
For example, there is a method of forming the intermediate resin layer 16 in a predetermined area on the glass substrate 12 and then forming the peelable resin layer 18 on the intermediate resin layer 16 .
The manufacturing procedure for each layer will be described in detail below.

まず、ガラス基板12上の所定の領域の中間樹脂層16を形成する。
中間樹脂層16の形成方法は、中間樹脂層16の材料によって適宜最適な方法が選択される。例えば、中間樹脂層16としてシリコーン樹脂層を形成する場合、上述した、硬化性シリコーンを含む硬化性組成物をガラス基板12上の所定の領域に塗布して、塗膜に対して加熱処理を施す方法が挙げられる。
First, an intermediate resin layer 16 is formed in a predetermined area on the glass substrate 12 .
As for the method of forming the intermediate resin layer 16 , an optimum method is appropriately selected depending on the material of the intermediate resin layer 16 . For example, when forming a silicone resin layer as the intermediate resin layer 16, the above-described curable composition containing curable silicone is applied to a predetermined region on the glass substrate 12, and the coating is subjected to heat treatment. method.

なかでも、中間樹脂層16としてシリコーン樹脂層を用いる場合、生産性が優れる場合、仮支持体と仮支持体上に配置された加熱処理後にシリコーン樹脂層となる前駆体膜とを有する転写フィルム(積層フィルム)を用意して、転写フィルム中の前駆体膜をガラス基板12上の所定の位置に貼り合わせて、得られたガラス基板12、前駆体膜、及び、仮支持体を有する積層体に対して加熱処理を施す方法が挙げられる。加熱処理を施すことによりシリコーン樹脂層が形成される。
以下、上記手順について詳述する。
Among them, when a silicone resin layer is used as the intermediate resin layer 16 and the productivity is excellent, a transfer film ( Laminated film) is prepared, the precursor film in the transfer film is attached to a predetermined position on the glass substrate 12, and the obtained glass substrate 12, the precursor film, and the laminate having the temporary support A method of heat-treating is exemplified. A silicone resin layer is formed by performing heat treatment.
The above procedure will be described in detail below.

上記では、まず、加熱処理後にシリコーン樹脂層となる前駆体膜と、剥離性樹脂層となるPETフィルムとを有する転写フィルムを用意する。転写フィルムには、PETフィルムに前駆体膜が形成されている。転写フィルムの前駆体膜をガラス基板12上の所定の位置に貼り合わせて積層基体を得る。
上記の転写フィルムをガラス基板12に貼り合わせた後に、得られた積層基体をアルカリ洗剤で洗浄してもよい。また、アルカリ洗剤で洗浄した後、必要に応じて、純水でリンスしてもよい。さらに、純水でリンスした後、必要に応じて、エアナイフで水切りしてもよい。
In the above, first, a transfer film having a precursor film that becomes a silicone resin layer after heat treatment and a PET film that becomes a peelable resin layer is prepared. The transfer film has a precursor film formed on a PET film. The precursor film of the transfer film is attached to a predetermined position on the glass substrate 12 to obtain a laminated substrate.
After bonding the transfer film to the glass substrate 12, the obtained laminated substrate may be washed with an alkaline detergent. Also, after cleaning with an alkaline detergent, the substrate may be rinsed with pure water, if necessary. Furthermore, after rinsing with pure water, if necessary, the water may be drained with an air knife.

シリコーン樹脂層を形成するための加熱処理の際には、圧力をかけながら実施することが好ましい。具体的には、オートクレーブを用いて加熱処理及び加圧処理を実施することが好ましい。
加熱処理の際の加熱温度としては、50~350℃が好ましく、55~300℃がより好ましく、60~250℃がさらに好ましい。加熱時間としては、10~60分間が好ましく、20~40分間がより好ましい。
加圧処理の際の圧力としては、0.5~1.5MPaが好ましく、0.8~1.0MPaがより好ましい。
The heat treatment for forming the silicone resin layer is preferably carried out while applying pressure. Specifically, heat treatment and pressure treatment are preferably performed using an autoclave.
The heating temperature for the heat treatment is preferably 50 to 350°C, more preferably 55 to 300°C, even more preferably 60 to 250°C. The heating time is preferably 10 to 60 minutes, more preferably 20 to 40 minutes.
The pressure for pressurization is preferably 0.5 to 1.5 MPa, more preferably 0.8 to 1.0 MPa.

また、加熱処理は、複数回行ってもよい。加熱処理を複数回実施する場合、それぞれの加熱条件を変更してもよい。 Further, the heat treatment may be performed multiple times. When the heat treatment is performed multiple times, the heating conditions may be changed for each.

次に、積層基体において、転写フィルムのPETフィルム側から、PETフィルム(剥離性樹脂層18)及びシリコーン樹脂層(中間樹脂層16)を所定のサイズに切断して、積層体を形成する。
また、例えば、転写フィルムを所定のサイズに切断した後に、所定のサイズの転写フィルムを、ガラス基板に貼付けてもよい。また、転写フィルムをガラス基板に貼付けた後に、転写フィルムを所定のサイズに切断してもよい。
図4に示す溝19がある積層体を形成する場合、積層基体において、転写フィルムを所定のサイズに切断した後、さらに転写フィルムをPETフィルム側から切断して、溝19を形成する。
これ以外に、転写フィルムを所定のサイズに切断した後に、所定のサイズの転写フィルムを、溝19となる間隔をあけてガラス基板に貼付けてもよい。
また、図4に示す溝19がある積層体を形成する場合でも、転写フィルムをガラス基板に貼付けた後に、転写フィルムを所定のサイズに切断してもよい。
Next, in the laminated substrate, the PET film (releasable resin layer 18) and the silicone resin layer (intermediate resin layer 16) are cut into a predetermined size from the PET film side of the transfer film to form a laminate.
Further, for example, after cutting the transfer film into a predetermined size, the transfer film of a predetermined size may be attached to the glass substrate. Alternatively, after the transfer film is attached to the glass substrate, the transfer film may be cut into a predetermined size.
When forming a laminate having grooves 19 shown in FIG. 4, after cutting the transfer film into a predetermined size in the laminated substrate, the transfer film is further cut from the PET film side to form the grooves 19 .
Alternatively, after cutting the transfer film into a predetermined size, the transfer film of a predetermined size may be pasted on the glass substrate with an interval to form the groove 19 .
Moreover, even when forming a laminate having the grooves 19 shown in FIG. 4, the transfer film may be cut into a predetermined size after being attached to the glass substrate.

以下に、実施例などにより本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって制限されるものではない。以下、例1~例4は比較例であり、例5~例13は実施例である。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, etc., but the present invention is not limited to these examples. Hereinafter, Examples 1 to 4 are comparative examples, and Examples 5 to 13 are examples.

(硬化性シリコーンの調製)
1Lのフラスコに、トリエトキシメチルシラン(179g)、トルエン(300g)、酢酸(5g)を加えて、混合物を25℃で20分間撹拌後、さらに、60℃に加熱して12時間反応させて、反応粗液を得た。
得られた反応粗液を25℃に冷却後、水(300g)を用いて、反応粗液を3回洗浄した。洗浄された反応粗液にクロロトリメチルシラン(70g)を加えて、混合物を25℃で20分間撹拌後、さらに、50℃に加熱して12時間反応させた。得られた反応粗液を25℃に冷却後、水(300g)を用いて、反応粗液を3回洗浄した。
洗浄された反応粗液からトルエンを減圧留去し、スラリー状態にした後、真空乾燥機で終夜乾燥することにより、白色のオルガノポリシロキサン化合物である硬化性シリコーン1を得た。
硬化性シリコーン1は、M単位、T単位のモル比が13:87、有機基は全てメチル基、平均OX基数が0.02であった。M単位は(R)3SiO1/2で表されるオルガノシロキシ単位を意味し、T単位はRSiO3/2で表されるオルガノシロキシ単位を意味し、各式におけるRは水素原子又は有機基を表す。平均OX基数は、Si原子1個に平均で何個のOX基(Xは水素原子又は炭化水素基)が結合しているかを表した数値である。
(Preparation of curable silicone)
Triethoxymethylsilane (179 g), toluene (300 g), and acetic acid (5 g) were added to a 1 L flask, and the mixture was stirred at 25°C for 20 minutes and then heated to 60°C for 12 hours to react. A reaction crude liquid was obtained.
After cooling the obtained reaction crude liquid to 25° C., the reaction crude liquid was washed with water (300 g) three times. Chlorotrimethylsilane (70 g) was added to the washed reaction crude liquid, and the mixture was stirred at 25° C. for 20 minutes, then heated to 50° C. and reacted for 12 hours. After cooling the obtained reaction crude liquid to 25° C., the reaction crude liquid was washed with water (300 g) three times.
Toluene was distilled off under reduced pressure from the washed reaction crude liquid, and the resulting slurry was dried overnight in a vacuum dryer to obtain curable silicone 1, which is a white organopolysiloxane compound.
Curable silicone 1 had a molar ratio of M units to T units of 13:87, all organic groups were methyl groups, and the average number of OX groups was 0.02. M unit means an organosiloxy unit represented by (R)3SiO 1/2 , T unit means an organosiloxy unit represented by RSiO 3/2 , and R in each formula represents a hydrogen atom or an organic group. show. The average number of OX groups is a numerical value representing the average number of OX groups (X is a hydrogen atom or a hydrocarbon group) bonded to one Si atom.

(硬化性組成物の調製)
硬化性シリコーン1(20g)と、金属化合物としてオクチル酸ジルコニウム化合物(「オルガチックスZC-200」、マツモトファインケミカル株式会社製)(0.16g)と、2-エチルヘキサン酸セリウム(III)(Alfa Aesar社製、金属含有率12質量%)(0.17g)、溶媒としてIsoper G(東燃ゼネラル石油株式会社製)(19.7g)とを混合し、得られた混合液を、孔径0.45μmのフィルタを用いてろ過することにより、硬化性組成物1を得た。
(Preparation of curable composition)
Curable silicone 1 (20 g), a zirconium octoate compound (“Orgatics ZC-200”, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.) (0.16 g) as a metal compound, and cerium (III) 2-ethylhexanoate (Alfa Aesar company, metal content 12% by mass) (0.17 g), and Isoper G (manufactured by TonenGeneral Sekiyu K.K.) (19.7 g) as a solvent. A curable composition 1 was obtained by filtering using a filter.

(積層フィルムの作製)
剥離性樹脂層になる離型フィルムとしてPETフィルム(東洋紡社製、東洋紡エステル(登録商標)フィルム HPE(高密度ポリエチレン)、厚さ50μm)を準備し、このフィルム表面上に調製した硬化性組成物1を塗布し、ホットプレートを用いて140℃で10分間加熱することにより、シリコーン樹脂層を形成した。
塗布したシリコーン樹脂層の上に保護フィルムとして、PETフィルム(東洋紡社製、東洋紡エステル(登録商標)フィルム HPE、厚さ50μm)を貼合し、離型フィルム、シリコーン樹脂層(中間層)及び保護フィルムがこの順に積層された積層フィルム1を得た。得られた積層フィルム1の厚さは、110μmであった。
(Production of laminated film)
Prepare a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Toyobo Ester (registered trademark) film HPE (high density polyethylene), thickness 50 μm) as a release film that will be the release resin layer, and prepare a curable composition on the surface of this film. 1 and heated at 140° C. for 10 minutes using a hot plate to form a silicone resin layer.
As a protective film on the applied silicone resin layer, a PET film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Toyobo Ester (registered trademark) film HPE, thickness 50 μm) is laminated, and a release film, silicone resin layer (intermediate layer) and protection A laminated film 1 was obtained in which the films were laminated in this order. The thickness of the obtained laminated film 1 was 110 μm.

(積層フィルムの切断)
積層フィルム1の離型フィルムのPETフィルム側からカッターを挿入し、所望のサイズ(400×320mm、880×690mm、890×700mm、912×722mm、914.4×724.4mm、918×728mm、920×730mm)に切断した。これにより、積層樹脂層の外形が、四角形に形成される。
例1では、カッターを用いて、400×320mmのサイズに切断した。
また、積層フィルム1を打ち抜き機(タマリ機工株式会社製油圧裁断機、装置名「TP-12801000×100TON」)に配置し、刃幅0.5mm、刃角30度のトムソン刃で作製された刃型(398×318mmの角R6.2mm、458×728mmの角R6.2mm、910×720mmの角R0.1mm、910×724mmの角R0.1mm、918×728mmの角R6.2mm、920×730mmの角R4.8mm)を離型フィルムのPETフィルム側から入射し、積層フィルム1を切断した。これにより、積層樹脂層の外形が、四隅が曲線で構成された超楕円形に形成される。ここで、角Rとは、積層樹脂層の外形の4隅を構成する曲線の曲率半径を示す。
なお、積層樹脂層の切断方式として、カッターを用いる方式をカッター方式という。また、積層樹脂層の切断方式として、打ち抜き機を用いる方式を打ち抜き方式という。
(Cutting of laminated film)
A cutter is inserted from the PET film side of the release film of the laminated film 1, and the desired size (400 × 320 mm, 880 × 690 mm, 890 × 700 mm, 912 × 722 mm, 914.4 × 724.4 mm, 918 × 728 mm, 920 ×730 mm). As a result, the outer shape of the laminated resin layer is formed into a quadrangle.
In Example 1, a cutter was used to cut into a size of 400×320 mm.
In addition, the laminated film 1 was placed in a punching machine (Hydraulic cutting machine manufactured by Tamari Kiko Co., Ltd., device name “TP-12801000 × 100 TON”), and a blade made of a Thomson blade with a blade width of 0.5 mm and a blade angle of 30 degrees. Mold (398 × 318 mm corner R 6.2 mm, 458 × 728 mm corner R 6.2 mm, 910 × 720 mm corner R 0.1 mm, 910 × 724 mm corner R 0.1 mm, 918 × 728 mm corner R 6.2 mm, 920 × 730 mm (R 4.8 mm) was incident from the PET film side of the release film, and the laminated film 1 was cut. As a result, the outer shape of the laminated resin layer is formed into a superelliptical shape with four curved corners. Here, the angle R indicates the radius of curvature of the curved lines forming the four corners of the outer shape of the laminated resin layer.
As a method for cutting the laminated resin layer, a method using a cutter is called a cutter method. As a method for cutting the laminated resin layer, a method using a punching machine is called a punching method.

(ガラス基板の中に1枚の積層フィルムが配置される積層基板の作製)
下記表1の例1~12に相当する。
水系ガラス洗浄剤(株式会社パーカーコーポレーション製「PK―LCG213」)で洗浄後、純水で洗浄した920×730mm、厚み0.5mm、又は400×320mm、厚み0.5mmの角部、及び辺部が面取されているガラス基板「AN Wizus」(支持基板、ヤング率85GPa)と、保護フィルムが剥離された積層フィルム1のシリコーン樹脂層が形成されたPETフィルムとを貼合して、ガラス基板、シリコーン樹脂層、及びPETフィルムがこの順で配置された積層体を作製した。なお、上記貼合の際には、ガラス基板の側面(辺)とシリコーン樹脂層、及びPETフィルムの距離と、ガラス基板の角部とシリコーン樹脂層、及びPETフィルムの距離とが下記表1に示す例1の関係となるように、ガラス基板とシリコーン樹脂層、及びPETフィルムとを貼合した。
例1は、上述の400×320mm、厚み0.5mmのガラス基板を用いた。
例2~13は、上述の920×730mm、厚み0.5mmのガラス基板を用いた。
(Preparation of a laminated substrate in which one laminated film is arranged in a glass substrate)
It corresponds to Examples 1 to 12 in Table 1 below.
After washing with a water-based glass cleaning agent (“PK-LCG213” manufactured by Parker Corporation), the corners and sides of 920 × 730 mm and a thickness of 0.5 mm or 400 × 320 mm and a thickness of 0.5 mm were washed with pure water. A chamfered glass substrate "AN Wizus" (support substrate, Young's modulus 85 GPa) and a PET film formed with a silicone resin layer of the laminated film 1 from which the protective film has been peeled are bonded together, and the glass substrate , a silicone resin layer, and a PET film were arranged in this order. In the lamination, the distance between the side surface (side) of the glass substrate, the silicone resin layer, and the PET film, and the distance between the corner of the glass substrate, the silicone resin layer, and the PET film are shown in Table 1 below. The glass substrate, the silicone resin layer, and the PET film were laminated so as to have the relationship shown in Example 1.
Example 1 used the glass substrate of 400×320 mm and thickness of 0.5 mm described above.
Examples 2 to 13 used the above glass substrates of 920×730 mm and 0.5 mm thickness.

(ガラス基板の中に2枚の積層フィルムが配置される積層基板の作製)
下記表1の例13に相当する。
水系ガラス洗浄剤で洗浄後、純水で洗浄した920×730mm、厚み0.5mmの角部、及び辺部が面取されているガラス基板「AN Wizus」(支持基板)と、保護フィルムを剥離した458×728mmの積層フィルム1のシリコーン樹脂層が形成されたPETフィルムとを貼合した後に、さらにもう1枚の458×728mmの保護フィルムが剥離された積層フィルム1のシリコーン樹脂層が形成されたPETフィルムを貼合し、ガラス基板にシリコーン樹脂層、及びPETフィルムを2枚配置し、ガラス基板、シリコーン樹脂層、及びPETフィルムがこの順で配置された積層体を作製した。なお、上記貼合の際には、2枚の保護フィルムが剥離された積層フィルム1の長辺に沿った距離は、ガラス基板の側面(辺)と、保護フィルムが剥離された積層フィルム1との距離よりも大きい。
(Preparation of a laminated substrate in which two laminated films are arranged in a glass substrate)
This corresponds to Example 13 in Table 1 below.
After washing with a water-based glass cleaning agent, the glass substrate "AN Wizus" (supporting substrate) of 920 × 730 mm, 0.5 mm thick, with chamfered corners and sides was washed with pure water, and the protective film was peeled off. After laminating the laminated film 1 of 458 × 728 mm with the PET film on which the silicone resin layer was formed, another protective film of 458 × 728 mm was peeled off to form the silicone resin layer of the laminated film 1. The two PET films were laminated, and a silicone resin layer and two PET films were arranged on a glass substrate to prepare a laminate in which the glass substrate, the silicone resin layer and the PET film were arranged in this order. In addition, during the lamination, the distance along the long side of the laminated film 1 from which the two protective films are peeled is the side surface (side) of the glass substrate and the laminated film 1 from which the protective film is peeled. greater than the distance of

(積層基板の加熱)
得られた積層体のガラス基板とホットプレートが接触するように配置して、60℃で、30分間加熱した後、積層体を1日間クリーンルーム環境下(室温23℃、湿度55%)で静置させた。
(Heating of laminated substrate)
The obtained laminate was placed so that the glass substrate and the hot plate were in contact with each other, heated at 60° C. for 30 minutes, and then allowed to stand for 1 day in a clean room environment (room temperature 23° C., humidity 55%). let me

<例2~12>
上記貼合の際に、ガラス基板の側面(辺)とシリコーン樹脂層、及びPETフィルムの距離とガラス基板の角部とシリコーン樹脂層、及びPETフィルムの距離とを、下記表1に示す例2~12の関係となるように、ガラス基板と、シリコーン樹脂層及びPETフィルム(保護フィルムが剥離された積層フィルム1)とを貼合した以外は、例1と同様の手順に従って積層体を得た。
<Examples 2 to 12>
At the time of lamination, the distance between the side surface (side) of the glass substrate and the silicone resin layer and the PET film and the distance between the corner of the glass substrate and the silicone resin layer and the PET film are shown in Table 1 below. A laminate was obtained according to the same procedure as in Example 1, except that the glass substrate, the silicone resin layer and the PET film (laminated film 1 from which the protective film was peeled) were laminated so that the relationship of 12 was obtained. .

例2では、積層フィルム1をカッターを用いて920×730mmのサイズに切断した。例3では、積層フィルム1を打ち抜き機を用いて920×730mm(角R4.8mm)のサイズに切断した。
例4では、積層フィルム1をカッターを用いて918×728mmのサイズに切断した。例5では、積層フィルム1を打ち抜き機を用いて918×728mm(角R6.2mm)のサイズに切断した。
例6では、積層フィルム1をカッターを用いて914.4×724.4mmのサイズに切断した。例7では、積層フィルム1を打ち抜き機を用いて398×318mm(角R6.2mm)のサイズに切断した。
In Example 2, laminated film 1 was cut into a size of 920×730 mm using a cutter. In Example 3, the laminate film 1 was cut into a size of 920×730 mm (corner radius 4.8 mm) using a punching machine.
In Example 4, laminated film 1 was cut into a size of 918×728 mm using a cutter. In Example 5, laminated film 1 was cut into a size of 918×728 mm (corner radius 6.2 mm) using a punch.
In Example 6, laminated film 1 was cut into a size of 914.4×724.4 mm using a cutter. In Example 7, laminated film 1 was cut into a size of 398×318 mm (corner radius 6.2 mm) using a punch.

例8では、積層フィルム1をカッターを用いて912×722mmのサイズに切断した。例9では、積層フィルム1を打ち抜き機を用いて910×720mm(角R0.1mm)のサイズに切断した。
例10では、積層フィルム1をカッターを用いて890×700mmのサイズに切断した。例11では、積層フィルム1をカッターを用いて880×690mmのサイズに切断した。
例12では、積層フィルム1を打ち抜き機を用いて910×724mm(角R0.1mm)のサイズに切断した。例12は、上記貼合の際に、より具体的には、ガラス基板(920×730mm)の短辺12c(図2参照)における距離Yをそれぞれ5mm、長辺12b(図2参照)における距離Yを1mmと5mmとなるように、シリコーン樹脂層及びPETフィルム(保護フィルムが剥離された積層フィルム1)をガラス基板に貼合した。
In Example 8, laminated film 1 was cut into a size of 912×722 mm using a cutter. In Example 9, laminated film 1 was cut into a size of 910×720 mm (corner radius 0.1 mm) using a punch.
In Example 10, laminated film 1 was cut into a size of 890×700 mm using a cutter. In Example 11, laminated film 1 was cut into a size of 880×690 mm using a cutter.
In Example 12, laminated film 1 was cut into a size of 910×724 mm (corner radius 0.1 mm) using a punch. In Example 12, during the bonding, more specifically, the distance Y on the short side 12c (see FIG. 2) of the glass substrate (920×730 mm) is 5 mm, and the distance on the long side 12b (see FIG. 2) The silicone resin layer and the PET film (laminated film 1 from which the protective film was peeled off) were bonded to the glass substrate so that Y was 1 mm and 5 mm.

<例13>
例13では、積層フィルム1を打ち抜き機を用いて458×728mm(角R6.2mm)のサイズに切断して、2つのシリコーン樹脂層及びPETフィルムを得た。
例13は、上記貼合の際に、ガラス基板の側面と、シリコーン樹脂層及びPETフィルムとの距離と、ガラス基板の角部と、シリコーン樹脂層及びPETフィルムの距離とを表1の例13の関係となるように、ガラス基板に、2つのシリコーン樹脂層及びPETフィルム(保護フィルムが剥離された積層フィルム1)を貼合した。例13では、2つのシリコーン樹脂層及びPETフィルムの間に溝ができるように間をあけて貼合した。なお、溝はガラス基板12の長辺の中間の位置に設け、溝の幅を2mmとした。
<Example 13>
In Example 13, laminated film 1 was cut into a size of 458×728 mm (corner radius 6.2 mm) using a puncher to obtain two silicone resin layers and a PET film.
In Example 13, the distance between the side surface of the glass substrate, the silicone resin layer and the PET film, and the distance between the corner of the glass substrate and the silicone resin layer and the PET film are adjusted to Example 13 in Table 1 during the lamination. Two silicone resin layers and a PET film (laminated film 1 from which the protective film was peeled off) were bonded to the glass substrate so that the relationship of . In Example 13, the two silicone resin layers and the PET film were laminated with a gap therebetween so that a groove could be formed between them. The groove was provided in the middle of the long side of the glass substrate 12, and the width of the groove was 2 mm.

<反りの評価>
ガラス基板、シリコーン樹脂層、及びPETフィルムからなる積層体を石定盤の上に、ガラス基板と石定盤が接触するように静置させて、積層体の角部のガラス基板と石定盤の隙間をシックネスゲージ(シンワ測定株式会社製、シックネスゲージD 65mm 25枚組(製品名))を用いて測定した。4角のうち、最大となる隙間量(反り量)を評価した。また、PETフィルムの角にスコッチテープ(3M株式会社製スコッチ メンディングテープ幅「810-1-18D」)を貼り付けて、PETフィルムを引き上げ剥離した。積層体を蛍光灯の下に置いて、シリコーン樹脂層の光の反射状態に基づいて、目視にて剥離後の欠点の有無を観察した。
A:最大の反り量が0.2mmよりも小さくて、剥離後欠点が生じない
B:最大の反り量が0.2mm以上で、剥離後欠点が生じる
<Evaluation of warpage>
A laminate composed of a glass substrate, a silicone resin layer, and a PET film is placed on a granite plate so that the glass substrate and the granite plate are in contact with each other, and the glass substrate and the granite plate at the corners of the laminate are separated. was measured using a thickness gauge (manufactured by Shinwa Kiseki Co., Ltd., thickness gauge D 65 mm, 25 pieces (product name)). Among the four corners, the maximum gap amount (warp amount) was evaluated. A scotch tape (scotch mending tape width "810-1-18D" manufactured by 3M Co., Ltd.) was attached to the corners of the PET film, and the PET film was pulled up and peeled off. The laminate was placed under a fluorescent lamp, and the presence or absence of defects after peeling was visually observed based on the light reflection state of the silicone resin layer.
A: The maximum amount of warp is less than 0.2 mm, and no defect occurs after peeling. B: The maximum amount of warp is 0.2 mm or more, and the defect occurs after peeling.

<基板有効面積率の評価>
ガラス基板の面積と、シリコーン樹脂層及びPETフィルムの面積との比率を計算して評価した。
A:基板有効面積率が90.5%よりも大きい
B:基板有効面積率が90.5%以下
<Evaluation of substrate effective area ratio>
The ratio of the area of the glass substrate to the area of the silicone resin layer and the PET film was calculated and evaluated.
A: Substrate effective area ratio is greater than 90.5% B: Substrate effective area ratio is 90.5% or less

(ポリイミド層の形成)
ガラス基板とシリコーン樹脂層、及びPETフィルムからなる例5と例6の積層体のPETフィルムを剥離して、クリーンオーブンを用いて大気雰囲気下にて250℃で30分間加熱した。次にシリコーン樹脂層にコロナ処理を施した後、無色ポリイミドワニス(三菱ガス化学株式会社製「ネオプリムH230」)を塗布した後、ホットプレートを用いて80℃で20分間加熱した。続いて、イナートガスオーブンを用いて窒素雰囲気下400℃で30分間加熱し(キュア工程)、ガラス基板、シリコーン樹脂層、及びポリイミド層(厚み:7μm)をこの順に有する積層サンプルを作製した。
(窒化ケイ素層の形成)
次に、プラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)装置を用いて、積層サンプルのポリイミド層の全面に厚み100nmの窒化ケイ素層を作製した。
(Formation of polyimide layer)
The glass substrate, the silicone resin layer, and the PET films of the laminates of Examples 5 and 6, which consist of the PET films, were peeled off and heated at 250° C. for 30 minutes in an air atmosphere using a clean oven. Next, after the silicone resin layer was subjected to corona treatment, a colorless polyimide varnish (“Neoplim H230” manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.) was applied and then heated at 80° C. for 20 minutes using a hot plate. Subsequently, using an inert gas oven, it was heated at 400° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere (curing step) to prepare a laminated sample having a glass substrate, a silicone resin layer, and a polyimide layer (thickness: 7 μm) in this order.
(Formation of silicon nitride layer)
Next, using a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus, a silicon nitride layer having a thickness of 100 nm was formed on the entire surface of the polyimide layer of the laminated sample.

<耐熱評価>
例5及び例6に基づく積層サンプルに対して、窒素雰囲気下にて、420℃で1時間加熱して、耐熱試験を実施した。耐熱試験後の積層サンプルの外観を目視で確認し、ポリイミド層において、ガラス基板の1つの角部の頂点から最も近接した積層樹脂層の位置P1と、ガラス基板の1つの角部と隣接する角部の頂点から最も近接した積層樹脂層の位置P2とを結ぶ直線よりも、ガラス基板の辺側にクラックが発生したかどうかを評価した。
A:クラックが発生した
B:クラックが発生しない
なお、耐熱評価は、例1~13のうち、例5及び例6だけ評価している。このため、残りの例1~4及び例7~13については、表1の「耐熱評価」の欄に「‐」と記した。
<Heat resistance evaluation>
A heat resistance test was performed on the laminate samples based on Examples 5 and 6 by heating at 420° C. for 1 hour under a nitrogen atmosphere. Visually check the appearance of the laminated sample after the heat resistance test, and in the polyimide layer, the position P1 of the laminated resin layer closest to the vertex of one corner of the glass substrate and the corner adjacent to one corner of the glass substrate It was evaluated whether or not a crack occurred on the side of the glass substrate relative to the straight line connecting the apex of the part and the position P2 of the laminated resin layer closest to it.
A: Crack occurred B: Crack did not occur Note that, among Examples 1 to 13, only Examples 5 and 6 were evaluated for heat resistance. For this reason, the remaining Examples 1 to 4 and Examples 7 to 13 are marked with "-" in the "Heat resistance evaluation" column of Table 1.

Figure 0007279840000002
Figure 0007279840000002

例1~4と例5~13との比較より、ガラス基板の角部の頂点から最も近接した位置にある積層樹脂層までの距離Xが4mm以上あれば、剥離後欠点が生じにくいことが分かった。
例1~10及び例12~13と、例11との比較より、ガラス基板の角部の頂点から最も近接した位置にある積層樹脂層までの距離Xが21mm以下であり、ガラス基板の一辺上の点から最も近接した位置にある積層樹脂層までの距離のうち最小の距離Yが15mm以下であれば、有効面積が向上することが分かった。
例5と例6との比較から、例5はガラス基板の1つの角部の頂点から最も近接した積層樹脂層の位置P1と、ガラス基板の1つの角部と隣接する角部の頂点から最も近接した積層樹脂層の位置P2とを結ぶ直線よりも、ガラス基板の辺側に積層樹脂層が存在するころとからクラックが生じにくいことが分かった。
From the comparison between Examples 1 to 4 and Examples 5 to 13, it was found that if the distance X from the apex of the corner of the glass substrate to the closest laminated resin layer is 4 mm or more, defects are less likely to occur after peeling. rice field.
From a comparison between Examples 1 to 10 and Examples 12 to 13 and Example 11, the distance X from the vertex of the corner of the glass substrate to the closest laminated resin layer is 21 mm or less, and the distance X is 21 mm or less, and on one side of the glass substrate. It was found that the effective area is improved if the minimum distance Y among the distances from the point to the laminated resin layer at the closest position is 15 mm or less.
From the comparison between Examples 5 and 6, Example 5 is the position P1 of the laminated resin layer closest to the vertex of one corner of the glass substrate and the position P1 of the laminated resin layer closest to the vertex of the corner adjacent to one corner of the glass substrate. It was found that cracks are less likely to occur because the laminated resin layer exists on the side of the glass substrate rather than the straight line connecting the adjacent position P2 of the laminated resin layer.

10、10a、10b、10c 積層体
12 ガラス基板
12a 表面
12b 長辺
12c 短辺
12d 角部
12e 頂点
13 周縁領域
14 積層樹脂層
14a 表面
14d 領域
15a 領域
15b 領域
16 中間樹脂層
18 剥離性樹脂層
19 溝
Dt 厚み
Lp 直線
P1、P2 位置
X 距離
Y 距離
Z 幅
Reference Signs List 10, 10a, 10b, 10c Laminate 12 Glass substrate 12a Surface 12b Long side 12c Short side 12d Corner 12e Vertex 13 Peripheral area 14 Laminated resin layer 14a Surface 14d Area 15a Area 15b Area 16 Intermediate resin layer 18 Releasable resin layer 19 Groove Dt Thickness Lp Line P1, P2 Position X Distance Y Distance Z Width

Claims (11)

ガラス基板と、前記ガラス基板上に配置された積層樹脂層とを有し、
前記積層樹脂層が、前記ガラス基板側から、中間樹脂層と、剥離性樹脂層とを有し、
前記ガラス基板の前記積層樹脂層側の表面には、前記積層樹脂層配置されてない周縁領域があり、
前記ガラス基板の長辺の長さが400mm以上であり、
前記ガラス基板の短辺の長さが320mm以上であり、
前記ガラス基板の少なくとも1つの角部において、前記角部の頂点から最も近接した位置にある前記積層樹脂層までの距離Xが4mm以上であり、
前記積層樹脂層は、複数の領域に分割されている、積層体。
Having a glass substrate and a laminated resin layer disposed on the glass substrate,
The laminated resin layer has an intermediate resin layer and a peelable resin layer from the glass substrate side,
The surface of the glass substrate on the side of the laminated resin layer has a peripheral area where the laminated resin layer is not arranged,
The length of the long side of the glass substrate is 400 mm or more,
The length of the short side of the glass substrate is 320 mm or more,
In at least one corner of the glass substrate, the distance X from the apex of the corner to the closest laminated resin layer is 4 mm or more,
The laminated body , wherein the laminated resin layer is divided into a plurality of regions .
前記ガラス基板の一辺上の点から最も近接した位置にある前記積層樹脂層までの距離のうち最小の距離Yが1mm以上である、請求項1に記載の積層体。 2. The laminate according to claim 1, wherein a minimum distance Y of distances from a point on one side of the glass substrate to the closest position to the laminated resin layer is 1 mm or more. 前記距離Xが21mm以下である、請求項1に記載の積層体。 2. The laminate according to claim 1, wherein said distance X is 21 mm or less. 前記距離Yが15mm以下である、請求項1に記載の積層体。 2. The laminate according to claim 1, wherein said distance Y is 15 mm or less. 前記ガラス基板の1つの角部の頂点から最も近接した前記積層樹脂層の位置P1と、前記ガラス基板の1つの前記角部と隣接する角部の頂点から最も近接した前記積層樹脂層の位置P2とし、前記位置P1と前記P2とを結ぶ直線よりも、前記ガラス基板の辺側に前記積層樹脂層が存在する、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。A position P1 of the laminated resin layer closest to the vertex of one corner of the glass substrate, and a position P2 of the laminated resin layer closest to the vertex of the corner adjacent to the one corner of the glass substrate. 5. The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the laminated resin layer is present on the side of the glass substrate with respect to a straight line connecting the positions P1 and P2. 前記ガラス基板の4つの各角部における前記距離Xのうち、少なくとも1つが異なる、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein at least one of the distances X at each of the four corners of the glass substrate is different. 前記ガラス基板の4つの各辺における前記距離Yのうち、少なくとも1つが異なる、請求項2に記載の積層体。 3. The laminate according to claim 2, wherein at least one of the distances Y on each of the four sides of the glass substrate is different. 前記中間樹脂層は、シリコーン樹脂で構成される、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the intermediate resin layer is made of a silicone resin. 前記剥離性樹脂層は、ポリエチレンテレフタレートで構成される、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the peelable resin layer is made of polyethylene terephthalate. 前記ガラス基板の厚みは、0.2~1mmである、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。 The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the glass substrate has a thickness of 0.2 to 1 mm. 前記ガラス基板のヤング率は、100GPa以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の積層体。
The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the Young's modulus of the glass substrate is 100 GPa or less.
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