JP7267286B2 - ガラス製品製造装置 - Google Patents

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Description

関連出願の相互参照
本願は、米国特許法第１１９条の下、２０１８年１月１１日出願の韓国特許出願第１０－２０１８－０００４０５０号の優先権の利益を主張し、その内容は依拠され、全体として参照により本明細書に組み込まれる。
本開示は、ガラス製品製造装置に関し、特に、冷却および製造効率が改良されたガラス製品製造装置に関する。
溶融ガラスを、バッチ材料を融解させて生成し、更に、例えば、清澄、攪拌および形成などの処理を行って、ガラス製品を製造する。溶融ガラスを処理する場合、溶融ガラスを高温まで加熱して、次に、様々な処理を行う他の装置に搬送する。
溶融ガラスの温度を、各処理工程に適するように精密に制御する必要がある。このために、溶融ガラスの温度を適切に制御する方法について多くの研究が行われてきた。
本開示の実施形態によれば、ガラス製造装置を開示し、それは、チェンバに配置され、溶融ガラスを攪拌するように構成された攪拌槽と、チェンバに配列され、攪拌槽からの溶融ガラスが中を通って流れる内側空間を有する導管と、チェンバ内で導管に隣接して配置され、流体を導管の周りに噴射するように構成されたノズルとを含む。
ガラス製造装置は、チェンバの内側の環境パラメータを調節するように構成された環境制御部を更に含みうる。
ノズルは、窒素源に接続されたものでありうる。
窒素源は、環境制御部を通り抜けていない窒素を、ノズルに供給しうる。
環境制御部は、チェンバに接続され、更に、チェンバに、所定の湿度、温度および、雰囲気組成比を有する流体を供給するように構成されたものでありうる。
環境制御部は、更に、流体をチェンバに供給するように構成され、ノズルによって噴射された流体と、環境制御部によって供給された流体は、互いに異なるものでありうる。
ノズルによって噴射された流体と、環境制御部によって供給された流体は、温度、湿度、および、雰囲気組成比の少なくとも１つが異なるものでありうる。
ガラス製造装置は、環境制御部を制御するように構成された第１の制御部と、ノズルによって噴射される流体の流れを制御するように構成された第２の制御部とを更に含みうる。
第１の制御部と、第２の制御部は、互いに分離したものでありうる。
ノズルは、流体を、水平面に略垂直な方向に噴射するように構成されたものでありうる。
ノズルは、流体を、水平面に対する角度を成して噴射するように構成されたものでありうる。
本開示の実施形態によれば、ガラス製造装置を開示し、それは、溶融ガラスが中を流れる内側空間を有し、第１の方向に延伸する導管と、流体を導管の周りに噴射するように構成され、第１の方向に沿って配列された複数のノズルとを含む。
複数のノズルは、略等間隔で、導管の延伸方向に沿って配列されたものでありうる。
複数のノズルは、異なる間隔で、導管の延伸方向に沿って配列されたものでありうる。
複数のノズルは、略等間隔で、導管の延伸する延伸方向に沿って配列されたものでありうる。
複数のノズルは、異なる間隔で、導管の延伸する延伸方向に沿って配列されたものでありうる。
複数のノズルの少なくともいくつかは、導管の上方に配置されたものでありうる。
複数のノズルの少なくともいくつかは、導管の下方に配置されたものでありうる。
本開示の実施形態によれば、ガラス製造方法は、溶融ガラスを攪拌槽で攪拌する工程と、攪拌工程の後に、溶融ガラスを導管に通して流す工程と、流体を、導管の周りに噴射する工程とを含む。
溶融ガラスは噴射された流体によって冷却され、噴射された流体と、攪拌槽の周りの雰囲気は、互いに異なる組成を有するものでありうる。
流体は、窒素およびＨ２Ｏを含みうる。
いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置の効果を示すグラフである。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造装置を説明するために概略的に示す図である。 いくつかの実施形態によるガラス製造方法を説明するためのフローチャートである。
ここで、例示的な実施形態を示した添付の図面を参照して、本開示をより完全に記載する。しかしながら、本開示の主題は、多数の異なる形態で実施しうるもので、本明細書に示した例示的な実施形態に限定されると解釈されるべきではない。むしろ、これらの実施形態は、本開示により当業者に主題を伝えるために提供される。図面において、明瞭に示すために、層および領域の厚さを誇張して示しうる。可能な限り、図面中の類似した参照番号は、類似の構成要素を示す。したがって、本開示は、添付の図面に示したような相対的なサイズまたは間隔によって限定されない。
様々な構成要素を記載するのに、「第１の」、「第２の」などの用語を用いうるが、そのような構成要素は、そのような用語に限定されない。これらの用語は、１つの構成要素を他の構成要素から区別するためだけに用いられている。矛盾することなく、例えば、第１の構成要素が第２の構成要素を指すか、または、第２の構成要素が第１の構成要素を指しうる。
本明細書の様々な例示的な実施形態で用いた用語は、例示的な実施形態を記載するためだけに用いたものであり、様々な更なる実施形態を限定すると解釈されるべきではない。文脈からそうでない限りは、単数形の表現は、複数形の表現を含む。本明細書の様々な例示的な実施形態で用いた「含む」、または、「含みうる」という用語は、対応する機能、動作、または、構成要素が存在することを示しうるもので、１つ以上の更なる機能、動作、または、構成要素を限定するものではない。更に、「含む」、および／または、「含み」という用語を本明細書で用いて、記載した特徴、整数、工程、動作、要素、および／または、構成要素が存在することを表しうるが、１つ以上の他の特徴、整数、工程、動作、要素、構成要素、および／または、それらの群が存在または追加されることを排除しない。更に、「少なくとも１つの」という用語を、列挙した要素の前に付けた場合には、列挙した要素全体を修飾するものであって、列挙した個々の要素を修飾するものではない。
ある実施形態を異なる態様で用いた場合には、具体的な処理順序は、記載した順序と異なりうる。例えば、２つの連続して記載した処理を、略同時に行うか、または、記載した順序とは逆の順序で行いうる。
例えば、製造技術、および／または、許容誤差により、図示した形状から異なることが予想される。したがって、本開示の実施形態は、本明細書に記載の特定の形状の領域に限定されると解釈されるべきではなく、例えば、製造に起因して形状が異なることを包含する。本明細書で用いるように、「および／または」という用語は、関連して列挙した項目の１つ以上の任意および全ての組合せを含む。
図１ａから１ｉは、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ａを概略的に示す断面図である。
図１ａを参照すると、いくつかの実施形態によれば、ガラス製造装置１ａは、溶融槽１００、清澄槽２００、攪拌槽３００、冷却システム４００ａ、環境制御システム４５０、送出槽５００、および、形成装置７００を含みうる。いくつかの実施形態によれば、ガラス製造装置１ａは、シート状のガラスを製造しうる。
溶融槽１００、清澄槽２００、攪拌槽３００、送出槽５００、および、形成装置７００は、直列に配置されたガラス製造処理ステーションでありうる。ガラス製品を製造する所定の処理を、これらのステーションで行う。いくつかの実施形態によれば、製造処理は、ダウンドロー処理、および、スロットドローフュージョン形成処理を含みうる。いくつかの実施形態によれば、製造処理は、ダブルフュージョン処理、および、フロートガラス形成処理を含みうる。
いくつかの実施形態によれば、溶融槽１００、清澄槽２００、攪拌槽３００、送出槽５００、および、形成装置７００は、各々、白金、もしくは、白金ロジウム、白金イリジウム、および、それらの組合せなどの白金含有金属を含みうる。いくつかの実施形態によれば、溶融槽１００、清澄槽２００、攪拌槽３００、送出槽５００、および、形成装置７００は、各々、パラジウム、レニウム、ルテニウム、および、オスミウム、並びに、他の耐火金属を含みうる。いくつかの実施形態によれば、形成装置７００は、セラミック材料、または、ガラスセラミック耐火材料を含みうる。
溶融槽１００は、バッチ材料１１を保存槽１０から受け取りうる。バッチ材料１１は、駆動装置１５によって動力を与えられたバッチ送出装置１３によって溶融槽１００に投入されうる。選択的制御部１７は、矢印ａ１が示すように、望ましい量のバッチ材料１１が溶融槽１００に投入されるように駆動装置１５を動作させるように構成されうる。いくつかの実施形態によれば、ガラス高さプローブ１９を用いて、立て管２１内の溶融ガラスＭＧの高さを測定し、測定した溶融ガラスＭＧの高さを、通信線２３を介して制御部１７に送信しうる。
溶融槽１００は、バッチ材料１１を加熱して融解しうる。バッチ材料１１が溶融槽１００で融解すると、気泡ＦＭが形成されうる。溶融槽１００は、保存槽１０から、バッチ材料１１を融解させることによって生成された溶融ガラスＭＧを受け取るように構成されうる。バッチ材料１１は、ガラス原料である。いくつかの実施形態によれば、酸化スズなどの清澄剤を、バッチ材料１１に加えうる。
いくつかの実施形態によれば、清澄槽２００は、第１の導管１５０によって、溶融槽１００に接続されうる。第１の導管１５０は、溶融ガラスＭＧが流れうる通路である内側空間を含みうる。下記のような第２、第３の導管２５０、３５０も、溶融ガラスＭＧが流れうる通路を提供しうる。第１から第３の導管１５０、２５０、３５０は、各々、導電性を有して高温条件で使用可能な材料を含みうる。いくつかの実施形態によれば、第１から第３の導管１５０、２５０、３５０は、各々、白金含有金属、例えば、白金、白金ロジウム、白金イリジウム、または、それらの組合せを含みうる。いくつかの実施形態によれば、第１から第３の導管１５０、２５０、３５０は、各々、耐火金属、例えば、モリブデン、パラジウム、レニウム、タンタル、チタン、タングステン、ルテニウム、オスミウム、ジルコニウム、または、それらの合金、並びに／若しくは、二酸化ジルコニウムを含みうる。
いくつかの実施形態によれば、第３の導管３５０は、空洞で略円筒状か、空洞で略楕円筒状の形状を有しうる。しかしながら、本実施形態は、それらに限定されず、必要に応じて、第３の導管３５０は、空洞で四角柱状か、正四角柱状の形状で、丸まった角部を有しうる。
いくつかの実施形態によれば、清澄槽２００は、精製管として機能する。いくつかの実施形態によれば、清澄槽２００は、溶融槽１００の下流側に位置しうる。清澄槽２００は、溶融ガラスＭＧを溶融槽１００から受け取りうる。いくつかの実施形態によれば、清澄槽２００で高温処理を行って、ブリスターを溶融ガラスＭＧから除去しうる。いくつかの実施形態によれば、清澄槽２００は、溶融ガラスＭＧが清澄槽２００を通り抜ける間に溶融ガラスＭＧを加熱することによってブリスターを溶融ガラスＭＧから除去するように構成される。いくつかの実施形態によれば、溶融ガラスＭＧが清澄槽２００で加熱される時に、溶融ガラスＭＧに含まれた清澄剤が酸化還元反応を生じ、それにより、酸素が溶融ガラスＭＧから除去されうる。具体的には、溶融ガラスＭＧに含まれたブリスターは、酸素、二酸化炭素、および／または、二酸化硫黄を含み、清澄剤の還元反応で生成された酸素と結合し、したがって、ブリスターの体積が増加しうる。成長したブリスターは、清澄槽２００の溶融ガラスＭＧの自由表面に向かって浮かび上がり、溶融ガラスＭＧから分離しうる。ブリスターは、清澄槽２００の上部の気相空間を通って清澄槽２００の外側に排出されうる。
送出槽５００は、攪拌槽３００の下流側に位置しうる。送出槽５００は、第３の導管３５０によって、攪拌槽３００に接続されうる。放出導管６００は、送出槽５００に接続されうる。溶融ガラスＭＧは、形成装置７００の投入口６５０に放出導管６００を通して送られうる。
形成装置７００は、溶融ガラスＭＧを送出槽５００から受け取りうる。形成装置７００は、溶融ガラスＭＧを、シート状ガラス製品へと形成しうる。例えば、形成装置７００は、溶融ガラスＭＧを形成するフュージョンドロー機を含みうる。形成装置７００へと流れる溶融ガラスＭＧの一部は、形成装置７００から溢れうる。溢れた溶融ガラスＭＧは、重力によって、下方に向かって移動し、エッジロール７５０および引張ロール８００などの適切に配列されたロールの組合せにより、溶融ガラスリボンＲＢＢを形成する。
いくつかの実施形態によれば、攪拌槽３００は、清澄槽２００の下流側に位置しうる。攪拌槽３００は、清澄槽２００から供給された溶融ガラスＭＧを均一にしうる。攪拌部３１０は、攪拌槽３００に位置し、攪拌槽３００と相対的に回転して、その中の溶融ガラスＭＧを流れさせうる。攪拌部３１０は、溶融ガラスＭＧを、溶融ガラスＭＧの成分が均一に分布するように攪拌させうる。
ガラス製造装置１ａは、溶融ガラスＭＧが清澄槽２００に到達するまで所定の温度より高く維持されるように、第１の導管１５０を通る溶融ガラスＭＧを加熱するように構成されうる。例えば、第１の導管１５０を通って流れる溶融ガラスＭＧに、第１の導管１５０を通って流れる溶融ガラスＭＧからの熱伝導および対流による熱損失以上の量の熱を供給することによって、溶融ガラスＭＧの冷却を防ぎうる。いくつかの実施形態によれば、第１の導管１５０を通る溶融ガラスＭＧは、溶融槽１００に含まれる溶融ガラスＭＧより高い温度を有しうる。いくつかの実施形態によれば、第１の導管１５０を通る溶融ガラスＭＧは、清澄槽２００に含まれる溶融ガラスＭＧより低い温度を有しうる。
ガラス製造装置１ａは、第１の導管１５０に沿って流れる溶融ガラスＭＧを直接加熱するように構成されうる。具体的には、第１の導管１５０は、その中を電流が通るように構成されうる。第１の導管１５０が電流によって加熱されることによって、第１の導管１５０に沿って流れる溶融ガラスＭＧが加熱されうる。
いくつかの実施形態によれば、第１の導管１５０に電流を与えるために、ガラス製造装置１ａは、第１の導管１５０に接続したフランジ、および、電線を通してフランジに電気的に接続された電源を含みうる。いくつかの実施形態によれば、電源は、交流または直流を生成しうる。フランジは、複数個、備えられうる。例えば、２つのフランジが、第１の導管１５０の２つの端部に設けられうる。しかしながら、いくつかの実施形態によれば、ガラス製造装置１ａは、第１の導管１５０を加熱する外部熱源を含みうる。
いくつかの実施形態によれば、ガラス製造装置１ａは、チェンバＣＢも含みうる。いくつかの実施形態によれば、チェンバＣＢは、清澄槽２００、攪拌槽３００、および、送出槽５００が配置されうる内側空間を有しうる。いくつかの実施形態によれば、保存槽１０、溶融槽１００、第１の導管１５０、および、形成装置７００は、チェンバＣＢの外側に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、第２の導管２５０および第３の導管３５０は、チェンバＣＢに配置されうる。いくつかの実施形態によれば、チェンバＣＢは、略直方体状の形状を有しうるが、それに限定されない。高品質ガラスを製作するには精密な環境制御が必要なので、各処理に対応する槽および槽に接続された導管の環境を、精密に制御することが必要である。いくつかの実施形態によれば、チェンバＣＢは、清澄処理およびその後の処理の間、溶融ガラスＭＧを含む導管および槽の周りの雰囲気と、通常の雰囲気とを分離することによって、処理環境の精密な制御を提供しうる。いくつかの実施形態によれば、チェンバＣＢは、清澄槽２００、第２の導管２５０、攪拌槽３００、第３の導管３５０、および、送出槽５００の周りの雰囲気を、チェンバＣＢの外側の雰囲気から分離するように構成される。
記載の便宜上、チェンバＣＢが略直方体状の形状を有するものと仮定して次の実施形態を記載する。しかしながら、当業者であれば、これらの実施形態を、他の様々な形状を有するチェンバＣＢに略同様に適用しうることが容易に分かるだろう。
説明の便宜上、第１から第３の方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ方向）を以下のように定義する。チェンバＣＢが略直方体状の形状を有する場合、第１の方向（Ｘ方向）および第２の方向（Ｙ方向）は、チェンバＣＢの底面に平行でありうる。第１の方向（Ｘ方向）は、溶融ガラスＭＧが処理の進行により実質的に移動する方向でありうる。第２の方向（Ｙ方向）は、第１の方向（Ｘ方向）に略垂直な方向でありうる。第２の方向（Ｙ方向）は、断面図の描画方向に垂直な方向に対応しうる。第３の方向（Ｚ方向）は、第１の方向（Ｘ方向）および第２の方向（Ｙ方向）に略垂直な方向でありうる。
いくつかの実施形態によれば、ガラス製造装置１ａは、環境制御システム４５０も含みうる。環境制御システム４５０は、チェンバＣＢ内の環境を制御するように構成されうる。いくつかの実施形態によれば、環境制御システム４５０は、チェンバＣＢ内の雰囲気を制御するように構成されうる。いくつかの実施形態によれば、環境制御システム４５０は、チェンバＣＢ内の温度、湿度、および、雰囲気組成比の少なくとも１つを制御しうる。いくつかの実施形態によれば、環境制御システム４５０は、環境制御部４６０および第１の制御部４７０を含みうる。
いくつかの実施形態によれば、環境制御部４６０は、流体をチェンバＣＢに提供しうる。いくつかの実施形態によれば、環境制御部４６０は、所定の条件を有する流体を供給しうる。いくつかの実施形態によれば、環境制御部４６０は、所定の湿度、温度、および、雰囲気組成比を有する流体をチェンバＣＢに供給しうる。いくつかの実施形態によれば、環境制御部４６０は、流体を、チェンバＣＢに設けられた流体投入口ＶＴを通して供給しうる。いくつかの実施形態によれば、環境制御部４６０は、冷却コイル、加熱コイル、加湿部、および、様々な気体を提供可能な気体源を含みうる。様々な気体は、窒素または酸素でありうる。
第１の制御部４７０は、様々なコマンドを環境制御部４６０に発してチェンバＣＢの環境を制御する処理部を含みうる。いくつかの実施形態によれば、第１の制御部４７０は、命令を環境制御部４６０に送り、チェンバＣＢの環境を制御しうる。第１の制御部４７０は、ワークステーションコンピュータ、デスクトップコンピュータ、ラップトップコンピュータ、タブレットコンピュータなどの計算装置でありうる。第１の制御部４７０は、チェンバ内の環境についてフィードバックを受信、測定データを受信、環境の調節などの機能を行うためのソフトウェアを保存しうる。いくつかの実施形態によれば、第１の制御部４７０は、環境制御部４６０に命令を送り、チェンバＣＢ内の雰囲気を制御しうる。いくつかの実施形態によれば、第１の制御部４７０は、環境制御部４６０に命令を送り、チェンバＣＢの温度、湿度、および、雰囲気組成比の少なくとも１つを制御しうる。
いくつかの実施形態によれば、ガラス製造装置１ａは、直接冷却システム４００ａを含みうる。いくつかの実施形態によれば、直接冷却システム４００ａは、少なくとも１つのノズル４１０、流体をノズル４１０に供給するように構成された流体源４３０、ノズル４１０を流体源４３０に接続する流体導管４２０、および、直接冷却システム４００ａを制御する第２の制御部４４０を含む。
いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、チェンバＣＢ内に配置される。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、第３の導管３５０に隣接して配置されうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、流体を第３の導管３５０の周りに噴射するように構成される。
いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、第３の導管３５０に向かって位置合わせされうる。いくつかの実施形態によれば、第３の導管３５０は、ノズル４１０が流体を実質的に出射する方向に沿って配置されうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、流体を、チェンバＣＢの底面に、または、水平面に略垂直な方向、例えば、第３の方向（Ｚ方向）に噴射しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、第３の導管３５０の上方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、垂直方向に第３の導管３５０と重なりうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、流体を、第３の導管３５０に向かって直接噴射するように構成されうる。流体を第３の導管３５０に向かって噴射するとは、噴射された流体が、最初に噴射された方向と略同じ方向に進行しながら第３の導管３５０に到達することを示す。しかしながら、この記載は、噴射された流体が、最初に噴射された方向と同じ方向ではなく進行して導管３５０に到達するような他の状況を排除するものではない。
いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、流体を、第３の導管３５０の周りに均一に噴射しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、溶融ガラスＭＧの第１の方向（Ｘ方向）に沿った温度変化が均一になるように、流体を噴射しうる。本明細書において、溶融ガラスＭＧの第１の方向（Ｘ方向）に沿った温度変化が均一であるとは、溶融ガラスＭＧの温度が第１の方向（Ｘ方向）に応じたものであり、第２の方向（Ｙ方向）に実質的に応じたものではないことを示す。
いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は広がって所定の領域に到達しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、流体を噴霧するように噴射しうる。噴射された流体は、水平方向に放射されうる。いくつかの実施形態によれば、各ノズル４１０から噴射された流体は、第３の導管３５０の表面の所定の面積を有する領域に達しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、第３の導管３５０の上面の少なくとも一部に達しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体によって覆われた面積は、第３の導管３５０の上面の面積以上でありうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、第３の導管３５０の上面全体を実質的に覆いうる。上面は、導管３５０の中心を通り延伸方向に平行な平面の上方に位置する第３の導管３５０の一部の外面でありうる。その代わりに、上面は、チェンバＣＢの天井部に対向する第３の導管３５０の外面の一部のことを称しうる。第３の導管３５０の特定の部分の垂線の延長線が、チェンバＣＢの天井を延伸させた平面と接触する時に、その第３の導管３５０の特定の部分とチェンバＣＢは互いに対向する。しかしながら、導管３５０の上面の上記記載は、理解のためであり、ノズル４１０によって噴射された流体によって覆われた導管３５０の表面について他の状況を排除するものではない。いくつかの場合において、ノズル４１０によって噴射された流体の一部は、第３の導管３５０の下面に達しうる。下面の意味は、上記のような上面の意味と同様でありうる。
いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、複数のノズルを含みうる。いくつかの実施形態によれば、複数のノズル４１０は、ある方向に沿って配列される。いくつかの実施形態によれば、複数のノズル４１０は、第１の方向（Ｘ方向）に沿って配列されうる。
しかしながら、ノズル４１０の配列は、それに限定されない。他の実施形態によれば、ノズル４１０の配列は、図１ａの配列と異なりうる。これを、図１ｂから１ｉ、および、図３ａ、３ｂを参照して、次に記載する。
図１ｂを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｂは、直接冷却システム４００ｂを含みうる。直接冷却システム４００ｂは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、隣接したノズル４１０間の距離は互いに異なりうる。いくつかの実施形態によれば、いくつかの隣接したノズル４１０間の距離は、他の隣接したノズル４１０間の距離より大きいことがありうる。いくつかの実施形態によれば、冷却効率は、ノズル４１０を、第３の導管３５０を冷却するのに必要な程度に応じた密度で配列することによって改良されうる。
図１ｃを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｃは、直接冷却システム４００ｃを含みうる。直接冷却システム４００ｃは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、隣接したノズル４１０間の距離は互いに異なりうる。いくつかの実施形態によれば、各ノズル４１０と第３の導管３５０の間の距離は、互いに異なりうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０のうち、いくつかの各ノズルと第３の導管３５０の間の距離は、他の各ノズル４１０と第３の導管３５０の間の距離より大きいことがありうる。
図１ｄを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｄは、直接冷却システム４００ｄを含みうる。直接冷却システム４００ｄは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、第３の導管３５０の下方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、第３の導管３５０の下面に達しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、第３の導管３５０の下面の少なくとも一部に達しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体によって覆われた面積は、第３の導管３５０の下面に対応する面積以上でありうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、第３の導管３５０の下面全体を実質的に覆いうる。しかしながら、本実施形態は、それに限定されず、いくつかの場合において、ノズル４１０によって噴射された流体の一部は、第３の導管３５０の上面に達しうる。
図１ｅを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｅは、直接冷却システム４００ｅを含みうる。直接冷却システム４００ｅは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の上方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の下方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、第３の導管３５０の上面および下面に達しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、第３の導管３５０の外面全体を実質的に覆いうる。第３の導管３５０の上方に配置されたノズル４１０の数は、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０の数に等しいことがありうる。いくつかの実施形態において、第３の導管３５０の上方に配置されたノズル４１０は、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０と垂直方向に重なりうる。いくつかの実施形態によれば、第３の導管３５０の上方に配置されたノズル４１０の水平方向の配列は、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０の水平方向の配列と略同じである。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０を、第３の導管３５０の上方と下方に配列することによって、冷却効率を更に高めうる。
図１ｆを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｆは、直接冷却システム４００ｆを含みうる。直接冷却システム４００ｆは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の上方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の下方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、第３の導管３５０の上方に配置されたノズル４１０の数は、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０の数より多いことがありうる。いくつかの実施形態によれば、更に冷却する必要がある場合には、ノズル４１０を、第３の導管３５０の一部の下方に更に備えて、冷却効率を更に高めうる。図１ｆを参照すると、ノズル４１０を、攪拌槽３００に隣接した第３の導管３５０の一部の下方に更に備えうるが、この態様は、それに限定されない。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０を、送出槽５００に隣接した第３の導管３５０の一部の下方に、または、第３の導管３５０の略中心部分の下方に、更に備えうる。
図１ｇを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｇは、直接冷却システム４００ｇを含みうる。直接冷却システム４００ｇは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の上方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の下方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０の数は、第３の導管３５０の上方に配置されたノズル４１０の数より多いことがありうる。いくつかの実施形態によれば、更なる冷却効率を必要とする場合には、ノズル４１０を、第３の導管３５０の一部の上方に更に備えて、冷却効率を更に高めうる。図１ｇを参照すると、ノズル４１０を、攪拌槽３００に隣接した第３の導管３５０の一部の上方に更に備えうるが、この態様は、それに限定されない。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０を、送出槽５００に隣接した第３の導管３５０の一部の上方に、または、第３の導管３５０の略中心部分の上方に、更に備えうる。
図１ｈを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｈは、直接冷却システム４００ｈを含みうる。直接冷却システム４００ｈは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の上方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、いくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の下方に配置されうる。いくつかの実施形態によれば、第３の導管３５０の上方に配置されたノズル４１０の数は、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０の数に等しいことがありうる。第３の導管３５０の上方に配置されたノズル４１０の水平方向の配列は、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０の水平方向の配列と異なることがありうる。いくつかの実施形態によれば、第３の導管３５０の上方に配置された少なくともいくつかのノズル４１０は、第３の導管３５０の下方に配置されたノズル４１０と垂直方向に重ならないことがありうる。
図１ｉを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ｉは、直接冷却システム４００ｉを含みうる。直接冷却システム４００ｉは、複数のノズル４１０を含む。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、水平面に対して傾斜した方向に向けられうる。ノズル４１０の向きは、ノズル４１０の縦軸（例えば、噴射軸）と水平面の間の角度によって画定されうる。したがって、ノズル４１０は、流体を、水平面に対して角度を成して噴射する。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、チェンバＣＢの底面に対して傾斜した方向に向けられうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、流体を、第３の方向（Ｚ方向）に対して傾斜した方向に噴射しうる。
図３ａ、３ｂを参照すると、いくつかの実施形態によるガラス製造装置は、複数のノズル４１０を含む直接冷却システムを含みうる。説明の便宜上、攪拌槽３００、第３の導管３５０、および、送出槽５００のみを、図３ａに示している。図３ｂは、図３ａの平面図である。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、複数のノズルを含む。いくつかの実施形態によれば、複数のノズル４１０は、第１の方向（Ｘ方向）に沿って配列されうる。いくつかの実施形態によれば、複数のノズル４１０は、第２の方向（Ｙ方向）に沿って配列されうる。複数のノズル４１０は、第１および第２の方向（Ｘ方向およびＹ方向）の行および列に配列されて、複数のノズル４１０の水平位置が行列を形成するようにしうる。いくつかの実施形態によれば、隣接したノズル４１０間の距離は、互いに略等しいことがありうる。いくつかの実施形態によれば、各ノズル４１０と、第３の導管３５０の間の距離は、互いに略等しいことがありうる。
再び、図１ａを参照すると、ノズル４１０は、流体を、流体源４３０から流体導管４２０を通して受け取りうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、環境制御部４６０によって提供された流体と異なりうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体は、環境制御部４６０を通らずに、流体源４３０から直接供給されうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０によって噴射された流体と、環境制御部４６０によって供給された流体とは、温度、湿度、および、雰囲気組成比の少なくとも１つが異なりうる。
いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、流体を第３の導管３５０の周りに噴射して、第３の導管３５０を冷却するように構成されうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、冷却するための窒素を、第３の導管３５０に噴射するように構成されうる。いくつかの実施形態によれば、流体源４３０は、窒素源を含みうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、高純度窒素（例えば、窒素の部分圧比が９９．９％以上）を噴射するように構成される。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、湿度制御のための流体を噴射しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、Ｈ２Ｏを噴射しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、Ｈ２Ｏを噴霧しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、水蒸気状態または微細液体粒子状態であるＨ２Ｏを噴霧しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、蒸気状態のＨ２Ｏまたは微細液体粒子状態のＨ２Ｏを噴射しうる。いくつかの実施形態によれば、流体源４３０は、Ｈ２Ｏ源を含みうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、窒素およびＨ２Ｏを同時に噴射しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、窒素の噴射を規制する調整部を含みうる。いくつかの実施形態によれば、窒素の噴射を規制する調整部は、窒素の開始および停止、速度、並びに、流量の少なくとも１つを規制しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、Ｈ２Ｏの噴射または噴霧を規制する調整部を含みうる。Ｈ２Ｏの噴射または噴霧を規制する調整部は、Ｈ２Ｏの開始および停止、速度、並びに、流量の少なくとも１つを規制しうる。
第２の制御部４４０は、ある命令を生成して、直接冷却システム４００ａを制御する。いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、第３の導管３５０の状態を制御する様々な命令を発することが可能である処理部を含みうる。いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、ノズル４１０の噴射を制御しうる。いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、ノズル４１０によって噴射された流体の流れ（例えば、流量）も制御しうる。いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、第３の導管３５０に含まれた溶融ガラスＭＧの温度を制御しうる。いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、ワークステーションコンピュータ、デスクトップコンピュータ、ラップトップコンピュータ、タブレットコンピュータなどの計算装置でありうる。いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、第３の導管３５０内の溶融ガラスＭＧの状態についてのフィードバックを受信、ノズル４１０の噴射を調節するための測定データを受信するなどの機能を行うためのソフトウェアを保存しうる。いくつかの実施形態によれば、温度センサを備えて、溶融ガラスＭＧの温度を測定し、第２の制御部４４０は、第３の導管３５０内の溶融ガラスＭＧの温度を、温度センサの温度測定結果に基づいて、フィードバック制御を介して調節しうる。例えば、溶融ガラスＭＧの温度が、要求される値より高い場合には、ノズル４１０によって噴射される流体の量を増加させうる。反対に、溶融ガラスの温度が、要求される値より低い場合には、ノズル４１０によって噴射される流体の量を減少させうる。
いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、噴射する流体の種類、組成、速度、流量、および、流体が達する面積の少なくとも１つを制御しうる。このようにして、第３の導管に到達する流体の量を制御し、したがって、第３の導管の冷却を制御しうる。
いくつかの実施形態によれば、第２の制御部４４０は、第１の制御部４７０とは別に備えられうる。第２の制御部４４０は、第１の制御部４７０と分離されうる。いくつかの実施形態によれば、第１の制御部４７０および第２の制御部４４０は、同一のワークステーションコンピュータ、デスクトップコンピュータ、ラップトップコンピュータ、タブレットコンピュータなどの計算装置に含まれた別々の処理部、および／または、ソフトウェア要素でありうる。
冷却処理は、溶融ガラスＭＧの温度を低下させる処理である。従来から、環境制御部４６０は、チェンバＣＢへと流体を循環させることによって、第３の導管３５０内の溶融ガラスＭＧを冷却する。この場合、流体の流れが第３の導管３５０の周りで停滞すると、チェンバＣＢ内の流体と第３の導管３５０の間での熱交換が弱まり、冷却効率が低下する。従来から、冷却効率を改良するために、耐火性材料を含む導管が研究されてきた。しかしながら、冷却効率の大きな改良は実現されなかった。その結果、そのような冷却処理により、ガラス製造効率が低下されてきた。
この問題を解決するために、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ａは、チェンバＣＢ内の環境制御部４６０とは別に、流体を第３の導管３５０に直接噴射するように構成された複数のノズル４１０を含みうる。したがって、第３の導管３５０内の溶融ガラスＭＧについての冷却効率を改良しうる。具体的には、流体を第３の導管３５０の周りに噴射することによって、噴射された流体が、第３の導管３５０の周りを囲む気流層を押しやりうる。したがって、第３の導管３５０の周りでの流体の停滞を防ぐことが可能である。
ガラス製造のためのチェンバＣＢの雰囲気を、精密に制御する必要がある。したがって、ガラス製造のためのチェンバＣＢの雰囲気環境が、ノズル４１０によって提供された窒素により変化しないのが望ましい。したがって、環境制御部４６０によって供給される窒素の量を、ノズル４１０によって供給される窒素の量を介して削減することによって、チェンバＣＢ全体の雰囲気組成（成分気体の分圧など）、温度、および、湿度を、従来と等しいレベルに維持しうる。チェンバＣＢの雰囲気での変化による針状Ｐｔ欠陥の生成を防ぐために、酸素の分圧、および、チェンバＣＢの全圧力を所定の値に維持しうる。第１から第３の導管３５０内の温度は非常に高いので、白金が酸素と結合し蒸発して、ＰｔＯ２を形成しうる。蒸発したＰｔＯ２が冷却されて窒素と出会うと、ＮＯが形成され、Ｐｔは凝固して溶融ガラス内に留まる。針状Ｐｔとは、溶融ガラスに含まれた固体Ｐｔによりガラス製品に形成された針状の欠陥である。このために、ノズル４１０によって噴射される窒素の総量を、環境制御部４５０によって提供される窒素の量未満にしうる。しかしながら、本実施形態は、それに限定されず、処理条件および環境に応じて、ノズル４１０によって噴射される窒素の総量は、環境制御部４５０によって提供される窒素の量より多くてもよい。
ノズル４１０によって噴射された高純度の窒素は、全チェンバの雰囲気より低い湿度を有し、それにより、第３の導管３５０の周りで局所的に湿度が低下しうる。いくつかの実施形態によれば、ノズル４１０は、Ｈ２Ｏを第３の導管３５０の周りに噴霧することによって、第３の導管３５０の周りの湿度を調節しうる。したがって、乾燥した環境で発生しうる、水素が高温の白金に浸透する現象により、ブリスターなどの欠陥が生成されるのを防ぎうる。導管内の溶融ガラスは、比較的高い濃度の水素を有する。Ｈ２の原子質量および原子サイズは非常に小さいので、Ｈ２分子は、白金系導管または槽を通って進行することが可能である。この現象を、水素浸透と称する。チェンバＣＢ内の水素濃度をあるレベルに維持して、水素の浸透を防ぐ。外部の水素濃度を、湿度を介して制御し、導管の外側の局所的水素濃度が低下すると、水素浸透を生じる可能性が高まる。水素は、溶融ガラス内でＯＨ－イオンの形で存在するので、Ｈ２浸透を生じると、Ｏ２は、溶融ガラスに留まり、ガラス製品にブリスター欠陥を生じる。
図２は、実験例によるガラス製造装置１ａ（図１ａを参照）を説明するグラフである。
図１ａおよび２を参照すると、実験例において、ノズル４１０を通る窒素の流量が約４８０Ｌ／分の場合、第３の導管に冷却パワーは、約７．６ｋＷだけ高まる。ノズル４１０が最大量の窒素を噴射する場合を推定することによって、更に約１３．２ｋＷの冷却パワーを実現すると予想される。
ガラス製造中の第３の導管３５０の冷却パワーが、約５．０ｋＷだけ上昇すると、ガラスの流量が、約４５．３６ｋｇ／時だけ増加したので、いくつかの実施形態によるガラス製造装置１ａは、ガラスの流量を、約９３．４４ｋｇ／時、増加させることが可能であると推定される。
実験例によれば、ノズル４１０を導入することによるガラス流の変化、欠陥数の増加、製造されたガラス製品の品質低下などの悪影響がないことが確認された。具体的には、ガラス製造処理における溶融により失われたガラスの総量が、従来例の４．４％から、実験例の４．３８％に削減された。ガラスの溶融による損失とは、ブリスターまたは針状Ｐｔなどの欠陥を有する製品の全製造量に対するパーセンテージである。
図４は、いくつかの実施形態によるガラス製造方法を説明するためのフローチャートである。
図１ａおよび４を参照すると、ガラス製造方法は、攪拌槽３００で溶融ガラスＭＧを攪拌する工程（Ｐ１０１０）と、攪拌された溶融ガラスＭＧを導管３５０に通して流す工程（Ｐ１０２０）と、流体を導管３５０の周りに噴射する工程（Ｐ１０３０）とを含む。溶融ガラスＭＧを攪拌する工程（Ｐ１０１０）は、図１ａを参照して記載したように、攪拌槽３００で行われる。流体を導管３５０の周りに噴射する工程（Ｐ１０３０）は、図１ａから１ｉ、および、図３ａ、３ｂを参照して記載したのと同じである。
本開示を、特に例示的な実施形態を参照して示し記載したが、以下の請求項の精神および範囲を逸脱することなく、形状および詳細事項を様々に変更しることが分かるだろう。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
ガラス製造装置において、
チェンバに配置され、溶融ガラスを攪拌するように構成された攪拌槽と、
前記チェンバに配列され、前記攪拌槽からの前記溶融ガラスが中を通って流れる内側空間を有する導管と、
前記チェンバ内で前記導管に隣接して配置され、流体を該導管の周りに噴射するように構成されたノズルと
を含む装置。
実施形態２
前記チェンバの内側の環境パラメータを調節するように構成された環境制御部を、
更に含む、実施形態１に記載のガラス製造装置。
実施形態３
前記ノズルは、窒素源に接続されたものである、実施形態２に記載のガラス製造装置。
実施形態４
前記窒素源は、前記環境制御部を通り抜けていない窒素を、前記ノズルに供給するように構成されたものである、実施形態３に記載のガラス製造装置。
実施形態５
前記環境制御部は、前記チェンバに接続され、更に、該チェンバに、所定の湿度、温度および、雰囲気組成比を有する流体を供給するように構成されたものである、実施形態２に記載のガラス製造装置。
実施形態６
前記環境制御部は、更に、流体を前記チェンバに供給するように構成され、前記ノズルによって噴射された前記流体と、該環境制御部によって供給された前記流体は、互いに異なるものである、実施形態２に記載のガラス製造装置。
実施形態７
前記ノズルによって噴射された前記流体と、前記環境制御部によって供給された前記流体は、温度、湿度、および、雰囲気組成比の少なくとも１つが異なるものである、実施形態６に記載のガラス製造装置。
実施形態８
前記環境制御部を制御するように構成された第１の制御部と、
前記ノズルによって噴射される前記流体の流れを制御するように構成された第２の制御部と、
を更に含む、実施形態２に記載のガラス製造装置。
実施形態９
前記第１の制御部と、前記第２の制御部は、互いに分離したものである、実施形態８に記載のガラス製造装置。
実施形態１０
前記ノズルは、前記流体を、水平面に略垂直な方向に噴射するように構成されたものである、実施形態１に記載のガラス製造装置。
実施形態１１
前記ノズルは、前記流体を、水平面に対する角度を成して噴射するように構成されたものである、実施形態１０に記載のガラス製造装置。
実施形態１２
ガラス製造装置において、
攪拌槽からの溶融ガラスが中を流れる内側空間を有し、第１の方向に延伸する導管と、
流体を前記導管の周りに噴射するように構成され、前記第１の方向に沿って配列された複数のノズルと
を含む装置。
実施形態１３
前記複数のノズルは、略等間隔で、前記導管の延伸方向に沿って配列されたものである、実施形態１２に記載のガラス製造装置。
実施形態１４
前記複数のノズルは、異なる間隔で、前記導管の延伸方向に沿って配列されたものである、実施形態１２に記載のガラス製造装置。
実施形態１５
前記複数のノズルの少なくともいくつかは、前記導管の上方に配置されたものである、実施形態１２に記載のガラス製造装置。
実施形態１６
前記複数のノズルの少なくともいくつかは、前記導管の下方に配置されたものである、実施形態１２に記載のガラス製造装置。
実施形態１７
ガラス製造方法において、
溶融ガラスを攪拌槽で攪拌する工程と、
攪拌工程の後に、前記溶融ガラスを導管に通して流す工程と、
流体を、前記導管の周りに噴射する工程と、
を含む方法。
実施形態１８
前記溶融ガラスは前記噴射された流体によって冷却されるものであり、該噴射された流体と、前記攪拌槽の周りの雰囲気は、互いに異なる組成を有するものである、実施形態１７に記載の方法。
実施形態１９
前記流体は、窒素を含むものである、実施形態１７に記載の方法。
実施形態２０
前記流体は、更に、Ｈ２Ｏを含むものである、実施形態１９に記載の方法。
１００ 溶融槽
２００ 清澄槽
３００ 攪拌槽
３５０ 導管
４１０ ノズル
４５０ 環境制御システム
５００ 送出槽

Claims (11)

  1. ガラス製造装置において、
    チェンバに配置され、溶融ガラスを攪拌するように構成された攪拌槽と、
    前記チェンバに配列され、前記攪拌槽からの前記溶融ガラスが中を通って流れる内側空間を有する導管と、
    前記チェンバ内で前記導管に隣接して配置され、流体を該導管の周りに噴射するように構成されたノズルと、
    前記チェンバの内側の環境パラメータを調節するように構成された環境制御部と
    を含み、
    前記ノズルは、窒素源に接続されたものであり、
    前記窒素源は、前記環境制御部を通り抜けていない窒素を、前記ノズルに供給するように構成されたものであり、
    前記環境制御部は、前記チェンバに接続され、更に、該チェンバに、所定の湿度、温度および、雰囲気組成比を有する流体を供給するように構成されたものである、ガラス製造装置。
  2. 前記ノズルによって噴射された前記流体と、前記環境制御部によって供給された前記流体は、温度、湿度、および、雰囲気組成比の少なくとも１つが異なるものである、請求項１に記載のガラス製造装置。
  3. 前記環境制御部を制御するように構成された第１の制御部と、
    前記ノズルによって噴射される前記流体の流れを制御するように構成された第２の制御部と、
    を更に含む、請求項１に記載のガラス製造装置。
  4. 前記第１の制御部と、前記第２の制御部は、互いに分離したものである、請求項３に記載のガラス製造装置。
  5. 前記ノズルは、前記流体を、水平面に略垂直な方向に噴射するように構成されたものである、請求項１に記載のガラス製造装置。
  6. 前記ノズルは、前記流体を、水平面に対する角度を成して噴射するように構成されたものである、請求項１に記載のガラス製造装置。
  7. ガラス製造装置において、
    攪拌槽からの溶融ガラスが中を流れる内側空間を有し、第１の方向に延伸する導管と、
    流体を前記導管の周りに噴射するように構成され、前記第１の方向に沿って配列された複数のノズルと、
    チェンバの内側の環境パラメータを調節するように構成された環境制御部と
    を含み、
    前記ノズルは、窒素源に接続されたものであり、
    前記窒素源は、前記環境制御部を通り抜けていない窒素を、前記ノズルに供給するように構成されたものであり、
    前記環境制御部は、前記チェンバに接続され、更に、該チェンバに、所定の湿度、温度および、雰囲気組成比を有する流体を供給するように構成されたものである、ガラス製造装置。
  8. 前記複数のノズルは、略等間隔で、前記導管の延伸方向に沿って配列されたものである、請求項７に記載のガラス製造装置。
  9. 前記複数のノズルは、異なる間隔で、前記導管の延伸方向に沿って配列されたものである、請求項７に記載のガラス製造装置。
  10. 前記複数のノズルの少なくともいくつかは、前記導管の上方に配置されたものである、請求項７に記載のガラス製造装置。
  11. 前記複数のノズルの少なくともいくつかは、前記導管の下方に配置されたものである、請求項７に記載のガラス製造装置。
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