JP7263220B2 - シランカップリング被膜の膜厚推定方法 - Google Patents
シランカップリング被膜の膜厚推定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7263220B2 JP7263220B2 JP2019217163A JP2019217163A JP7263220B2 JP 7263220 B2 JP7263220 B2 JP 7263220B2 JP 2019217163 A JP2019217163 A JP 2019217163A JP 2019217163 A JP2019217163 A JP 2019217163A JP 7263220 B2 JP7263220 B2 JP 7263220B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silane coupling
- film
- concentration
- film thickness
- mixed solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
ここで、本実施形態に係るシランカップリング被膜の膜厚推定方法と他の方法とを比較する。
12 シランカップリング被膜
Claims (4)
- 銅の表面にシランカップリング被膜が形成された測定対象物を過酸化水素水と硫酸との混合溶液に浸漬させ、銅及びシランカップリング剤を前記混合溶液に溶解させると共に、前記シランカップリング剤を構成するシリコン分子の結合を切断するステップと、
前記混合溶液中のシリコン原子の濃度を定量分析するステップと、
事前に作成したシリコン原子の濃度とシランカップリング被膜の膜厚との関係を示す検量線、及び前記定量分析するステップで分析した前記シリコン原子の濃度に基づいて、前記シランカップリング被膜の膜厚を推定するステップと、を有するシランカップリング被膜の膜厚推定方法。 - 前記検量線を事前に作成するステップは、
銅の表面にシランカップリング被膜が形成された検量線作成用積層体の一部分を切り出して過酸化水素水と硫酸との混合溶液に浸漬させ、銅及びシランカップリング剤を前記混合溶液に溶解させると共に、前記シランカップリング剤を構成するシリコン分子の結合を切断するステップと、
前記混合溶液中のシリコン原子の濃度を定量分析するステップと、
前記検量線作成用積層体の他の部分を切り出して断面を露出させ、前記シランカップリング被膜の膜厚を測定するステップと、
前記定量分析するステップの結果と前記膜厚を測定するステップの結果を用いて前記検量線を作成するステップと、を有する請求項1に記載のシランカップリング被膜の膜厚推定方法。 - 前記混合溶液中の過酸化水素の濃度が3%以上、かつ硫酸の濃度が3%以上である請求項1又は2に記載のシランカップリング被膜の膜厚推定方法。
- 前記混合溶液中の硫酸の濃度が10%以下である請求項1乃至3の何れか一項に記載のシランカップリング被膜の膜厚推定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019217163A JP7263220B2 (ja) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | シランカップリング被膜の膜厚推定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019217163A JP7263220B2 (ja) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | シランカップリング被膜の膜厚推定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021085850A JP2021085850A (ja) | 2021-06-03 |
JP7263220B2 true JP7263220B2 (ja) | 2023-04-24 |
Family
ID=76088771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019217163A Active JP7263220B2 (ja) | 2019-11-29 | 2019-11-29 | シランカップリング被膜の膜厚推定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7263220B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008071810A (ja) | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Fujifilm Corp | 半導体デバイスの研磨方法 |
WO2009110364A1 (ja) | 2008-03-04 | 2009-09-11 | 日本ペイント株式会社 | 銅の表面処理剤および表面処理方法 |
JP2011231404A (ja) | 2011-04-27 | 2011-11-17 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 表面処理金属板及びその表面処理方法、並びに樹脂被覆金属板、缶及び缶蓋 |
JP2016017882A (ja) | 2014-07-09 | 2016-02-01 | 新光電気工業株式会社 | 膜厚測定機能付き基板及び絶縁層の膜厚測定方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2834885B2 (ja) * | 1990-11-07 | 1998-12-14 | 四国化成工業株式会社 | 銅及び銅合金の表面処理方法 |
JP2891226B2 (ja) * | 1997-02-27 | 1999-05-17 | 日本電気株式会社 | エッチング量測定装置 |
-
2019
- 2019-11-29 JP JP2019217163A patent/JP7263220B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008071810A (ja) | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Fujifilm Corp | 半導体デバイスの研磨方法 |
WO2009110364A1 (ja) | 2008-03-04 | 2009-09-11 | 日本ペイント株式会社 | 銅の表面処理剤および表面処理方法 |
JP2011231404A (ja) | 2011-04-27 | 2011-11-17 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 表面処理金属板及びその表面処理方法、並びに樹脂被覆金属板、缶及び缶蓋 |
JP2016017882A (ja) | 2014-07-09 | 2016-02-01 | 新光電気工業株式会社 | 膜厚測定機能付き基板及び絶縁層の膜厚測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021085850A (ja) | 2021-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5722861B2 (ja) | 検査方法及び検査装置 | |
CN107406964B (zh) | 金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法 | |
Wagner et al. | Quantitative analysis of binary adsorbed protein films by time of flight secondary ion mass spectrometry | |
JP2012154950A (ja) | 光電子分光法を使用した層厚測定 | |
Tornow et al. | Quality assurance concepts for adhesive bonding of composite aircraft structures–characterisation of adherent surfaces by extended NDT | |
EP2693195A1 (en) | Spr sensor cell, and spr sensor | |
EP2821775A1 (en) | Spr sensor cell, and spr sensor | |
JP7263220B2 (ja) | シランカップリング被膜の膜厚推定方法 | |
JP2005062188A (ja) | 厚さ測定装置及び厚さ測定方法 | |
WO2012042862A1 (ja) | レジストパターンの形成方法およびそれを利用した基板の加工方法 | |
TW201245659A (en) | Method for determining film thickness of soi layer of soi wafer | |
JP2004003959A (ja) | 蛍光x線測定方法とそれを用いた測定装置、加工方法および加工装置 | |
US20140132959A1 (en) | Spr sensor cell and spr sensor | |
CN104568533B (zh) | Tem分析样品的制备方法 | |
EP2757363A1 (en) | Spr sensor cell and spr sensor | |
JP7483742B2 (ja) | 堆積プロセスを監視する方法およびシステム | |
Ariga et al. | Quantification of elemental area densities in multiple metal layers (Au/Ni/Cu) on a Cr-coated quartz glass substrate for certification of NMIJ CRM 5208-a | |
JP4569058B2 (ja) | 陽極接合基板の評価方法 | |
JP2006201040A (ja) | 膜厚測定方法 | |
EP2821776A1 (en) | Spr sensor cell, and spr sensor | |
JP2006337266A (ja) | ガラス基板膜厚の検知方法及びガラス基板の薄膜化方法 | |
US5039612A (en) | Method for detecting surface oxidation on titanium aluminide metallic material | |
JP4653345B2 (ja) | パターン検査方法 | |
Barbosa et al. | Establishing a Link Between Carbon Concentration and Contact Angle on HMDS Surfaces | |
KR100674314B1 (ko) | 인쇄회로기판의 표면처리용 osp 막의 두께 측정방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220707 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230322 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7263220 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |