JP7258842B2 - 回折光学素子を用いたレーザ発生器 - Google Patents

回折光学素子を用いたレーザ発生器 Download PDF

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関連出願の相互参照
[0001] 本出願は、米国特許法第119条及び/又は同法第120条により、2018年1月5日に「回折光学素子を用いたレーザ発生器」なる名称の米国予備出願第62/614,234号及び2017年7月13日に「異なる波長を用いて組織アブレーションを実行する方法」なる名称の米国予備出願第62/532,286号の優先権を主張するもので、これら両者は参照により全ての目的に関し全体として本明細書に組み込まれるものである。
[0002] 本開示は、広くはレーザ発生器のための装置、方法及びシステムに係り、更に詳細には、レーザビームを供給する際に光ファイバカテーテルがレーザ発生器に結合することを可能にする光学アセンブリを備えたレーザ発生器に関する。
[0003] 患者の血管構造内でレーザ粥腫切除術を実行し、且つ、使い捨て光ファイバカテーテルを用いる場合、該カテーテルは、典型的に、The Spectranetics Corporation, Colorado Springs, CO, USAにより製造されるCVX-300(登録商標)エキシマレーザシステム等のレーザ発生器に結合される。CVX-300(登録商標)エキシマレーザシステムは、約135ナノ秒(nsec)のパルス幅を持つ308ナノメートルのレーザビームを生成する。他のレーザシステムは、異なる波長及びパルス幅を持つレーザビームを生成することができる。例えば、第3高調波で動作するNd:YAGレーザは、約8nsecのパルス幅を持つ355ナノメートルのレーザビームを生成する。約135nsecのパルス幅を持つ308ナノメートルレーザビームは140ミリジュール(mJ)の最大エネルギ出力を生成することができる一方、約8nsecのパルス幅を持つ355ナノメートルレーザビームは200ミリジュール(mJ)の最大エネルギ出力を生成することができる。しかしながら、エネルギを供給するために使用される当該レーザカテーテル内の光ファイバは、パルス内のエネルギ量が特定の閾値を超えると故障する可能性がある。このような故障の可能性は、当該レーザビームが本来的に一層大きなピークパワーを有する場合に増加される。例えば、135nsecのパルス幅を持つ308ナノメートルレーザビームと比較して、355ナノメートルレーザビームのパルス幅の相対的に短い持続時間(例えば、8nsec)により、該355ナノメートルレーザビームは所与のパルスに対して大幅に高いピークパワーを有さねばならない。何故なら、該355ナノメートルビームのパルス幅は308ナノメートルビームのパルス幅の長さより16倍以上短いからである。
従って、パワーレベルが光ファイバ供給装置の損傷閾値を超えることを防止すべく該光ファイバを介して進むエネルギのピークパワーを減少させるためにレーザビームのパルス幅を増加させる必要性が存在する。更に、レーザビームの波長とは無関係に、光ファイバを損傷させる可能性を更に減少させるためにレーザシステム及び/又は使い捨て光ファイバカテーテルから出射するレーザビームの強度の対称性及び均一性を改善する必要性も存在し得る。
[0004] 本開示の装置は、レーザビームのパルス幅を増加させると共に光ファイバを介して進むエネルギのピークパワーを減少させ、これにより、パワーレベルを最小にし、及び/又は該パワーレベルが光ファイバ供給装置の損傷閾値を超えることを防止する。更に、本開示の装置は、光ファイバを損傷させる可能性を更に減少させるためにレーザシステム及び/又は使い捨て光ファイバカテーテルから出射するレーザビームの強度の対称性及び均一性を改善する。
[0005] 血管内アブレーションを実行するための装置は、光ビームを生成するレーザ源と、前記レーザ源の下流側の、前記光ビームを受光する光学アセンブリとを有するレーザ発生器を含み、前記光学アセンブリは、前記光ビームを受光する波長板と、前記波長板の下流側の、前記光ビームを受光して該ビームの第1部分を反射すると共に該ビームの第2部分を通過させる薄膜偏光子と、前記ビームの前記第1部分を受光するビーム廃棄部(dump)と、前記波長板の下流側の、前記ビームの前記第2部分を受光するビーム拡大器と、前記ビーム拡大器の下流側の、前記光ビームの前記第2部分を受光する拡散器と、前記拡散器の下流側の、前記光ビームの前記第2部分を受光すると共に該光ビームの該第2部分を放出する混合ファイバと、を有する。
[0006] 先の段落のレーザ発生器において、前記レーザ源は約355ナノメートルを有する光ビームを生成する。
[0007] 先の段落のレーザ発生器において、前記レーザ源は約10ナノメートルと約5000ナノメートルとの間の光ビームを生成する。
[0008] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記拡散器は回折光学素子である。
[0009] 血管内アブレーションを実行するための他の装置は、パルス幅を持つ複数のパルスを有する光ビームを生成するレーザ源と、前記レーザ源の下流側の、前記光ビームを受光する光学アセンブリとを有するレーザ発生器を含み、前記光学アセンブリは、前記光ビームを受光する波長板と、前記波長板の下流側の、前記光ビームを受光して該ビームの第1部分を反射すると共に該ビームの前記パルス幅を持つ第2部分を通過させる薄膜偏光子と、前記ビームの前記第1部分を受光するビーム廃棄部と、前記ビームの前記第2部分における前記複数のパルスの少なくとも1つのパルス幅を伸張する手段と、前記パルス幅を伸張する手段の下流側の、第2ビームの他の部分を受光及び放出する拡散器と、を有する。
[0010] 先の段落のレーザ発生器において、前記複数のパルスの少なくとも1つのパルス幅を伸張する手段は、ビームスプリッタ及びビーム経路を形成する複数のミラーを有する。
[0011] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記ミラーの少なくとも1つは平行移動可能である。
[0012] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記複数のパルスの少なくとも1つのパルス幅を伸張する手段はビームスプリッタを有する。
[0013] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記ビームスプリッタは前記ビームの前記第2部分を第1ビーム及び第2ビームに分割する。
[0014] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記ビームスプリッタは、前記第2ビームが時間遅延ループを通過した後に該第2ビームを前記第1ビームと結合する。
[0015] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記時間遅延ループは複数のミラーを有する。
[0016] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記時間遅延ループは混合ファイバ(mixing fiber)を有する。
[0017] 先の段落の何れかのレーザ発生器において、前記混合ファイバはコヒーレンス混合ファイバである。
[0018] 本開示は、先の段落の何れかのレーザ発生器を使用する方法も含み、該方法は、前記レーザ発生器を複数の光ファイバを有するカテーテルに結合するステップと、前記カテーテルを患者の血管系に挿入するステップと、前記患者の血管系に対する閉塞の少なくとも一部を除去するステップとを有する。
[0019] “少なくとも1つ”、“1以上”及び“及び/又は”なる語句は、働きが共に連接的及び離接的である開放型表現である。例えば、“A、B及びCの少なくとも1つ”、“A、B又はCの少なくとも1つ”、“A、B及びCの1以上”、“A、B又はCの1以上”及び“A、B及び/又はC”なる表現の各々は、A単独、B単独、C単独、A及びBが一緒、A及びCが一緒、B及びCが一緒、又はA、B及びCが一緒であることを意味する。上記表現におけるA、B及びCの各々が、X、Y及びZ等の要素又はX1~Xn、Y1~Ym及びZ1~Zo等の一群の要素を参照する場合、上記語句は、X、Y及びZから選択される単一の要素、同一の群から選択される要素の組み合わせ(例えば、X1及びX2)及び2以上の群から選択される要素の組み合わせ(例えば、Y1及びZo)を参照することを意図するものである。
[0020] 単数形の主体は、該主体の1以上を示す。かくして、単数形、“1以上の”及び“少なくとも1つの”なる用語は、ここでは、入れ替え可能に用いることができる。“有する”、“含む”及び“持つ”なる用語も入れ替え可能に用いることができることに注意されたい。
[0021] ここで使用される“有する”なる用語には、米国特許法第112条(f)に従って可能な限り最も広い解釈が付与されるべきである。従って、“有する”なる用語を含む請求項は、ここに記載される全ての構造、材料又は動作及びこれらの均等物の全てをカバーすべきものである。更に、上記構造、材料又は動作及びこれらの均等物の全ては、本発明の概要、図面の簡単な説明、詳細な説明、要約書及び請求項自体に記載される全てのものを含むべきものである。
[0022] 以下の文献が参照により組み込まれる。(1)米国特許第5,315,614号;(2)米国特許第7,050,692号;(3)米国特許第8,059,274号;並びに(4)証拠書類1の最終頁に掲載された、これらに限定されるものではないが、文献(a)Tianheng Wang, Patrick D. Kumavor, and Quing Zhu, Application of laser pulse stretching scheme for efficiently delivering laser energy in photoacoustic imaging, Journal of Biomedical Optics 17(6), 061218-1 to 061218-8 (June 2012);同(b)Rajeev Khare and Paritosh K. Shukla, Ch. 10 - Temporal Stretching of Laser Pulses, Coherence and Ultrashort Pulse Laser Emission, Coherence and Ultrashort Pulse Laser Emission (November 2010);及び同(c)Amir Herzog, Dror Malka, Zeev Zalevsky, and Amiel A. Ishaaya, Effect of spatial coherence on damage occurrence in multimode optical fibers, p. 415, February 1, 2015 / Vol.40, No. 3 / OPTICS LETTERSを含む文献。
[0023] 本開示を通して示される全ての最大数値限定は、代替として各及び全ての一層小さな数値限定を含むものと見なされる(このような一層小さな数値限定が明示的に記載されたかのように)。本開示を通して示される全ての最小数値限定は、代替として各及び全ての一層大きな数値限定を含むものと見なされる(このような一層大きな数値限定が明示的に記載されたかのように)。本開示を通して示される全ての数値範囲は、斯様な一層広い数値範囲内に入る各及び全ての一層狭い数値範囲を含むものと見なされる(このような一層狭い数値範囲が明示的に記載されたかのように)。
[0024] 上記は、本開示の幾つかの態様の理解を提供するための該開示の簡略化された概要である。この概要は、本開示並びに該開示の種々の態様、実施態様及び構成の詳細な概要でもなく網羅的概要でもない。この概要は、本開示の重要又は重大な要素を識別しようとするものでも、本開示の範囲を限定しようとするものでもなく、本開示の選択された概念を以下に示される一層詳細な説明の紹介として簡略化された形で提示しようとするものである。理解されるように、本開示の他の態様、実施態様及び構成は、上述した又は以下に詳細に記載されるフィーチャの1以上を単独で又は組み合わせで用いて可能となる。
[0025] 当該特許又は出願のファイルは、カラーで記載された少なくとも1つの図面を含んでいる。カラー図面を伴う該特許又は特許出願公開文献の写しは、要求及び必要経費の支払いにより当該オフィスにより提供されるであろう。
[0026] 添付図面は、本開示の幾つかの例を解説するために本明細書に組み込まれると共に該明細書の一部を形成するものである。これら図面は、当該説明と共に、本開示の原理を説明するものである。図面は、本開示がどの様にしてなされ及び使用されるかについての可能な及び代替的な例を単に示すもので、本開示を図示及び記載された例のみに限定するものと見なされるべきではない。更なるフィーチャ及び利点は、以下に参照される図面により図示される本開示の種々の態様、実施態様及び構成の後述する更に詳細な説明から明らかとなるであろう。
[0027] 図1は、本開示のレーザカテーテル及びレーザ発生器を含む例示的アブレーションシステムを示す。 [0028] 図2Aは、本開示のレーザカテーテル又は光ファイバカテーテルの斜視図である。 [0029] 図2Bは、長方形ファイバカプラの光ファイバの断面図である。 [0030] 図3は、本開示のレーザカテーテル又は光ファイバカテーテルの遠端部の斜視図である。 [0031] 図4は、本開示のレーザカテーテル又は光ファイバカテーテルの遠端部の端面図である。 [0032] 図5は、本開示のアブレーションシステムの概略図である。 [0033] 図6は、本開示の代替アブレーションシステムの概略図である。 [0034] 図7Aは、図6に示されたアブレーションシステムから放出されるエネルギ信号の図であり、該エネルギ信号はビームスプリッタに元々入射したエネルギの約40パーセントである。 [0035] 図7Bは、図6に示されたアブレーションシステムから放出されるエネルギ信号の図であり、該エネルギ信号はビームスプリッタに元々入射したエネルギの約40パーセント及び時間遅延ループを介して進行する残りのエネルギを合成及び重ね合わせることにより形成された結果的信号である。 [0036] 図8Aは、円形光学アセンブリを用いた図6に示されたアブレーションシステムから放出されるレーザビームのエネルギ密度を示す着色図である。 [0037] 図8Bは、長方形光学アセンブリを用いた図6に示されたアブレーションシステムから放出されるレーザビームのエネルギ密度を示す着色図である。 [0038] 図9は、ビーム伸張技術を含む図6に図示されたものと同様又は同一の355nmレーザシステムから放出されるものの、ビーム伸張技術を採用しない308nmレーザシステムに対するアブレーション速度の比較である。 [0039] 図10Aは、約5グラムの下向きの力を付与する単一の600ミクロン光ファイバにより図6に図示されたものと同様又は同一の355nmレーザシステムを用いて豚大動脈にアブレーションされた孔の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。 [0040] 図10Bは、約5グラムの下向きの力を付与する単一の600ミクロン光ファイバにより308nmレーザシステムを用いて豚大動脈にアブレーションされた孔の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。 [0041] 図11Aは、約5グラムの下向きの力を付与する単一の600ミクロン光ファイバにより図6に図示されたものと同様又は同一の355nmレーザシステムを用いて豚大動脈にアブレーションされた孔の組織学的断面の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。 [0042] 図11Bは、約5グラムの下向きの力を付与する単一の600ミクロン光ファイバにより308nmレーザシステムを用いて豚大動脈にアブレーションされた孔の組織学的断面の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。 [043] 図12は、本開示の更に他のアブレーションシステムの概略図である。
[0044] 図面の各図は必ずしも実寸通りではないと理解されるべきである。特定の事例において、本開示の理解のために必要ではない又は他の詳細を理解することを困難にさせる詳細は省略されている。勿論、本開示は必ずしも本明細書に記載される特定の実施態様に限定されるものではないと理解されるべきである。
[0045] 本開示の何れの実施態様を詳細に説明する前に、本開示は、適用が以下の記載において述べられ又は以下の図面において図示される構成の詳細及び構成要素の配置に限定されるものではないと理解されるべきである。本開示は、他の実施態様が可能であると共に、種々の方法で実施化又は実行することができるものである。また、本明細書で使用される表現及び用語は説明の目的のためのものであり、限定するものと見なされるべきでないと理解されるべきである。本明細書における“含む”、“有する”又は“持つ”及びこれらの変形は、その後に掲載される項目及びその均等物並びに追加の項目を含むものである。
[0046] 添付図面において、同様の構成要素及び/又はフィーチャは同様の符号を有し得る。更に、同一のタイプの種々の要素は、当該符号に斯かる同様の要素の間で区別する文字を後続させることにより区別され得るものである。明細書において最初の符号のみが用いられる場合、当該説明は第2の符号とは無関係に同一の最初の符号を有する同様の構成要素の何れにも当てはまり得る。
[0047] 図1を参照すると、本開示の例示的アブレーションシステム100が図示されている。アブレーションシステム100は、レーザコントローラ135に結合されたレーザ装置130を含む。コントローラ135は、レーザ130を制御するようにプログラムされた1以上の計算装置を含む。コントローラ135は、レーザ発生器等のレーザ装置130の内部のもの又は外部のものとすることができる。レーザ装置130は、エキシマレーザ、Nd:YAGレーザ又は他の好適なレーザを含むことができる。幾つかの実施態様において、レーザ130は紫外周波数範囲の光を生成する。一実施態様において、レーザ130は光エネルギをパルスで生成する。
[0048] レーザ130は、カプラ(連結器)140を介してレーザエネルギ供給システム120(例示的にはレーザカテーテル150)の近端に接続される。レーザカテーテル150は1以上の伝送部材を含み、該伝送部材はレーザ130からレーザエネルギを受信すると共に該受信されたレーザエネルギをレーザエネルギカテーテル150の第1の近端160から該レーザカテーテル150の第2の遠端170に向かって伝送する。カテーテル150の遠端部170は人体110の血管又は組織内に挿入することができる。幾つかの実施態様において、上記伝送部材として光ファイバ等の複数のライトガイドを使用し、これらライトガイドはレーザ130からのレーザ光を、カテーテル150を介して人体110の標的領域へと導く。
[0049] 例示的なレーザカテーテル装置又はアセンブリは、レーザカテーテル及び/又はレーザシースを含むことができる。レーザカテーテル又はレーザシースの例は、The Spectranetics Corporation社によりELCATM(登録商標)及びTurbo Elite(登録商標)(これらは、閉塞動脈を再開通させる、病変形態を変化させる及びステント留置を容易化する等の冠動脈インターベンション又は抹消血管インターベンションのために各々使用される)並びにSLSII(登録商標)及びGlideLight(登録商標)(これらは、外科的に埋め込まれたリードの除去のために使用される)なる商品名で販売されている。レーザカテーテルの作用(遠)端は、典型的に、エネルギを放出して目標組織をアブレーションする複数のレーザ放出部を有する。レーザカテーテルの反対側の(近)端部は、典型的に、光ファイバカプラ140及び光学歪解放(ストレインリリーフ)部材145を有する。光ファイバカプラ140はレーザシステム又は発生器130につながる。レーザシステムの1つの斯様な例は、これもThe Spectranetics Corporation社により販売されているCVX-300エキシマレーザシステムである。
[0050] 図1のレーザコントローラ135は非一時的コンピュータ読取可能な媒体(例えば、メモリ)を含み、該媒体は、実行された場合に、1以上のプロセッサにアブレーションシステム100のレーザ130及び/又は他の要素を制御させる命令及び/又はロジックを含む。コントローラ135は、操作者からの入力を受信するための1以上の入力装置を含む。例示的入力装置は、レーザ130のユーザ制御を提供するキー、釦、タッチスクリーン、ダイヤル、スイッチ、マウス及びトラックボールを含む。コントローラ135は、更に、操作者にフィードバック又は情報を提供するための1以上の出力装置を含む。例示的な出力装置は、ユーザフィードバック又は情報を提供するディスプレイ、ライト、オーディオ装置を含む。
[0051] レーザ130のレーザ源はレーザコントローラ135に動作的に結合される。レーザ源は、レーザ信号又はビームを発生すると共に該レーザ信号をカテーテル150の光ファイバ束を介して人に供給するように動作する。光ファイバ束は、レーザ信号を人体110の標的領域に供給するための供給装置として機能する。
[0052] 図1は、カテーテル150が人体の脚に好ましくは大腿動脈を介して侵入することを示している。前述したように、心動脈疾患(CAD)又は末梢動脈疾患(PAD)の何れかを治療することが望ましい。大腿動脈に侵入した後、当該カテーテル150がCADを治療しようとする場合、該カテーテル150は患者の血管系を介して冠動脈に向けられるであろう。代わりに、カテーテル150がPADを治療しようとする場合、該カテーテル150は患者の血管系を介して、膝の下の血管構造、特には該患者の脚及び/又は足内の血管構造等の末梢動脈へ向けられるであろう。
[0053] 図2は、レーザエネルギ供給システム120の限定するものでない例、例示的には、レーザ発生器130に結合するのに適したカプラ140を介してのレーザカテーテル150を示す。例えば、レーザカテーテル150は近端160及び遠端部170を含む。カテーテルカプラ140は、カテーテルの近端部160に配置される。カテーテルカプラ140は、1以上の組の光ファイバ205の形で構成することができる複数の光ファイバ205を含み、これら光ファイバ205は、カプラ140内に収容されること及び遠端部170の遠位先端175において露出されることを含み、レーザカテーテル150の長さ全体にわたり配置される。レーザカテーテル150はT又はYコネクタ180も含み、該コネクタ180はガイドワイヤ190が挿入されるための入口ポート185を有している。レーザカテーテル150は、更に、コネクタ180から遠位先端175におけるカテーテル150の遠端部170まで延びる管腔を含むことができ、これにより、ガイドワイヤ190が当該カテーテル150を介して挿入されることを可能にする。
[0054] 図2Bを参照すると、長方形ファイバカプラ140、特に該カプラ140の近端部の複数の光ファイバ205の束の断面図が示されている。この図におけるカプラ140の断面は長方形として図示されており、該長方形はカプラ140に入力するビームとは異なるアスペクト比に整合させるために幅(W)及び高さ(H)を有する。該幅(W)及び高さ(H)は、カプラ140に入力するビームとは異なるアスペクト比に整合させるための一層小さい若しくは一層大きな幅及び/又は一層小さい若しくは一層大きな高さ等の、この図に示されるものとは異なるものとすることができる。上記ファイバ束の断面は長方形であるとして図示されているが、該ファイバ束の断面は正方形、三角形、円形又は何らかの他の形状とすることもできる。
[0055] ここで図3及び図4を参照すると、本開示による粥腫切除術(アテレクトミ)用のレーザカテーテル150の遠端部が示されている。該レーザカテーテル150は、管腔210を含んでも(図3及び図4に示されるように)又は含まなくてもよい。該レーザカテーテル150に管腔210が含まれる場合、臨床医は管腔210を経るガイドワイヤ(図示略)上で該レーザカテーテルをスライドさせることができる。しかしながら、レーザカテーテルは、内側帯体220と外側ジャケット213との間に位置される別のガイドワイヤ管腔を有することが好ましいであろう。
[0056] 図示されたように、カテーテル150は外側ジャケット213又はスリーブを有する。該外側ジャケット213は、トルク(回転力)、引っ張り力及び圧縮力等のユーザにより印加される力に耐える能力を備えた可撓性アセンブリを有する。レーザカテーテル150の近端部(図示略)は、光ファイバカプラ(図示されないが前述したような)に取り付けられる。該レーザカテーテル150の遠端部は、外側ジャケット213の遠端部に取り付けられたテーパ状外側帯体225、レーザ放出部として機能する複数の光ファイバ205内側の管腔210への入口を提供する開口部を形成する内側帯体220を有する。これら光ファイバ205により放出されるエネルギは、被検者の血管系内の瘢痕組織、プラーク蓄積、石灰沈着及び他のタイプの望ましくない病変又は身体物質を、レーザ放出部10の断面構造のものと略同様のパターンで切断、分離及び/又はアブレーションする。
[0057] この特定の例において、光ファイバ205は概ね同心的な構造で設けられる。光ファイバ205により放出されるエネルギが被検者の血管系内の望ましくない身体物質に接触すると、該エネルギは斯かる物質を概ね同心的な構造で分離及び切断する。図3及び図4は概ね同心的な構造の光ファイバ205を図示しているが、当業者であれば、複数のレーザ放出部を配置する多数の他の方法及び構造が存在することを理解するであろう。従って、図3及び図4は、レーザカテーテル150の遠端部を構成することができる唯一の方法を示すことを意図するものではない。
[0058] 図5を参照すると、コヒーレンス混合(coherence mixing)のための手段を含む本開示のアブレーションシステム400が示されている。コヒーレンス混合は、355ナノメートル等の相対的に短いパルス幅光を伝送する際に使用される光ファイバ内での空間コヒーレンス損傷を低減するための方法である。相対的に短い波長の光を生成するレーザ405の例は、355ナノメートル(nm)の波長、8ナノ秒(nsec)のパルス幅、1~30ヘルツ(Hz)の繰り返し数及び140ミリジュール(mJ)の最大エネルギ出力を有するQuantel DRLレーザ(Quantel社、Bozeman, MT)を含む。レーザ405の代替例は、308ナノメートル(nm)の波長、135ナノ秒(nsec)のパルス幅、1~80ヘルツ(Hz)の繰り返し数及び200ミリジュール(mJ)の最大エネルギ出力を有するSpectranetics社のCVX-300エキシマレーザシステムを含む。
[0059] 前述したように、エネルギを供給するために使用されるレーザカテーテル150内の光ファイバ205は、パルス内のエネルギ量が特定の閾値を超えると故障する可能性がある。このような故障の可能性は、当該レーザビームが本来的に一層大きなピークパワーを有する場合に増加される。例えば、135nsecのパルス幅を持つ308ナノメートルレーザビームと比較して、355ナノメートルレーザビームのパルス幅の相対的に短い持続時間(例えば、8nsec)により、該355ナノメートルレーザビームは所与のパルスに対して大幅に高いピークパワーを有さねばならない。何故なら、該355ナノメートルビームのパルス幅は308ナノメートルビームのパルス幅の長さより16倍以上短いからである。従って、パワーレベルが光ファイバ供給装置の損傷閾値を超えることを防止すべく該光ファイバを介して進むエネルギのピークパワーを減少させるためにレーザビームのパルス幅を増加させる必要性が存在する。
[0060] 図5を続けて参照すると、レーザ光エネルギはレーザ405から単一の光ファイバ520(又は光ファイバ束)内へと放出される。例えば、該レーザ光は前述したように355nmの波長を含み得る。レーザ405を出射した後、該レーザ光はミラー410により偏向することができ、該ミラーは当該レーザ光をエネルギ制御システム415に向ける。エネルギ制御システム415は、レーザ光がレーザ405を出射した後に当該アブレーションシステム400に入射するエネルギの量又は強度を制御する。例えば、エネルギ制御システム415は当該エネルギのレベルを減少させることができる。該エネルギ制御システム415は波長板420及び薄膜偏光子425を含むことができる。波長板420は、該波長板を経て進行する光の偏光状態を変化させる光学装置である。或るタイプの波長板は二分の一波長板であり、該波長板は直線偏光光の偏光方向をずらす。該二分の一波長板は、手動又は電動回転取付具に取り付けることができ、レーザ光進行経路に対して前記薄膜偏光子425より前に配置することができる。従って、波長板420及び薄膜偏光子425等の該エネルギ制御システム415は、部品及びファイバ入力位置合わせの間における光のエネルギレベル並びに供給ファイバ及び/又はカテーテル150の出力を減少させる。波長板420を通過し、次いで薄膜偏光子425により反射される光は、光ビームを吸収するために使用される光学素子であるビーム廃棄部(beam dump)430に向けられる。
[0061] 図5に示されるように、薄膜偏光子425は当該光の一部をビーム廃棄部430に、該光の残部をミラー435に反射する。かくして、エネルギ制御システム415を通過した後、当該光ビームはミラー435により偏向され、次いで、ビーム拡大器(beam expander)440により拡大される。該ビーム拡大器440は、当該系の光学経路における更に下流の光学機器に入力するレーザ光のエネルギ密度を低減することを助け得る。当該レーザ光のエネルギ密度を低減することは、当該光が光学部品の損傷の閾レベルを超えることを防止し、これにより斯かる光学部品の有効寿命を増加させる助けとなる。例えば、ビーム拡大器440は当該光ビームのサイズを2.5倍に、1.5,2.0,3.0,3.5,4.0,4.5,5.0,5.5,6.0,6.5倍等の他の増分で、又はこれらの間の何らかの増分で拡大することができる。或るタイプのビーム拡大器440は、2つの光学レンズ445、450を含むケプラ望遠鏡を含むことができる。
[0062] ビーム拡大器440を出射した後、当該光ビームは拡散器/レンズアセンブリ460が後続するシャッタ455を通過する。シャッタ455は、光が下流の光学系に侵入するか又は侵入しないかを切り換える(オン/オフする)。拡散器/レンズアセンブリ460は、回折光学素子(DOE)等の設計加工拡散器(engineered diffuser)465及び該拡散器465の下流のレンズ470を含むことができる。設計加工拡散器465は、好ましくは、該設計加工拡散器465を出射するビームの形状が混合ファイバ475及び/又は供給ファイバ510の形状に類似するように設計及び/又は選択されるであろう。例えば、該設計加工拡散器465を出射するビームの形状が円形であることが望ましい場合、Holo/Or Ltd. 13B Einstein Street, Science Park, Ness Ziona, 7403617 Israelにより製造されるP.N.: RH-217-U-Y-Aを使用することが望ましいであろう。この設計加工拡散器は円形ビームを出力するからである。この拡散器の仕様は以下の通りである:
Figure 0007258842000001
[0063] 他の例として、当該設計加工拡散器465を出射するビームの形状が正方形であることが望ましい場合、Holo/Or Ltd. 13B Einstein Street, Science Park, Ness Ziona, 7403617 Israelにより製造されるP.N.: HM-271-U-Y-Aを使用することが望ましいであろう。この設計加工拡散器は正方形ビームを出力するからである。この拡散器の仕様は以下の通りである:
Figure 0007258842000002
[0064] 前述したように、拡散器/レンズアセンブリ460は回折光学素子(DOE)等の設計加工拡散器465及び該拡散器465の下流のレンズ470を含むことができる。レンズ470は、コヒーレンス混合ファイバ475の入力面上に入射するよう収束される1.17mmスポットを生成する100mmの焦点距離のレンズとすることができる。コヒーレンス混合ファイバ475は、該ファイバに入射する典型的にコヒーレントなレーザ光が該混合ファイバの相対的に長い長さ及び大きな直径により位相外れとなるようにし、これにより、光の部分が他の部分に対して時間遅延されるような光を放出する。該ファイバに入射すると共に該ファイバの中心に沿って可能な最短経路を辿る光子は、該ファイバに一層急な角度で入射し、該ファイバの内壁で連続的に跳ね返る光子よりも大幅に短い経路長(路程)を有する。当該ファイバに入射する光子の異なる角度及び該ファイバの上記長さにより、当該レーザ光のコヒーレンスは出力端では混合及び/又はスクランブルされ、これにより、該混合ファイバに入射するものよりもコヒーレントでない結果的光ビームを生成する。この余りコヒーレントでない光が一層小さな供給ファイバに投入される場合、該光の強め合う干渉を達成する能力は大幅に低下される。該コヒーレンス混合ファイバ475は、1.5mmコア直径及び1.5メートル長の石英ガラスマルチモードファイバとすることができる。該混合ファイバ475を出射する光は、2つの焦点距離のレンズ485、490を含むことができるコリメータを用いてコリメートされる。例えば、レンズ485は75mmの焦点距離のレンズとすることができる一方、レンズ490は25mmの焦点距離のレンズとすることができる。
[0065] 拡散器/レンズアセンブリ460に対し入射及び/又は出射するビームのパルス幅が、ThorlabsのDET10Aフォトダイオード(Thorlabs社, Newton, NJ.)等のパルス検出器465を用いて測定された。該パルス検出器465は、組織アブレーション実験の間におけるパルスを計数するためにオシロスコープも起動した。拡散器/レンズアセンブリ460を出射するビームは、供給ファイバ510に入射し、エネルギ検出器495により測定される。エネルギ検出器495の一例は、Gentec Maestroエネルギメータ(Gentec-EO社, Lake Oswego, OR.)である。供給ファイバ510の一例は、ポリイミドバッファコーティングを備えるUVグレードの石英ガラスコア及びクラッドを含み、該ファイバは1.1~1のコアクラッド比及び0.22開口数を有する(Polymicro Technologies, Phoenix, AZ)。図5の供給ファイバ510は単一ファイバとして記載されているが、該供給ファイバ510は、他の例として、図1、図2A、図2B、図3及び図4に関して前述したレーザカテーテル150におけるファイバ205の束とすることもできる。
[0066] コヒーレンス混合例
[0067] 図5のアブレーションシステム400を使用し、斯かるシステムへのコヒーレンス混合ファイバ475の組み込みにより達成されるコヒーレンス混合方法の使用を含んで、20Hzで150mJ/mm2のフルエンスに対応する42mJまでのエネルギ出力が、600μmコア径ファイバを介して一貫して達成された。レーザ出力から600μm光ファイバへの結合効率は、約30%であった。これらの結果で報告されるファイバの150mJ/mm2出力は、140mJレーザ出力により制限された。この伝送試験は、各回当たり5分の持続時間で5回繰り返され、ゼロのファイバ故障の結果となった。即ち、当該ファイバは、ファイバが構築される石英ガラス材料の損傷閾値を光が超過することにより壊れることも又は損傷されることもなかった。
[0068] 図6を参照すると、ビームのパルス幅を伸張する手段を含む本開示のアブレーションシステム500が示されている。オリジナルのレーザビームのパルス幅を伸張して、結果的レーザビームを生成することにより、オリジナルのパルスに含まれる全体的エネルギを維持しながら、該結果的光パルス(又は複数の光パルス)のピークパワーを当該オリジナルの光パルスのピークパワーに対して減少させることができる。また、オリジナルパルスのピークを低下させることにより、光ファイバを介して一層高いエネルギレベルを伝送することができる。当該ビームのパルス幅を伸張する手段は、1つのビームを2つのビームに分割し、これら分割されたビームのうちの一方を、光学遅延ループを介して伝送し、これら分割されたビームを結果的ビームに再結合する光学要素の使用を含む。
[0069] 図6を続けて参照すると、当該アブレーションシステム500は図5のアブレーションシステム400と、図6における波長板520の上流側の光学要素が図5における拡散器/レンズアセンブリ460の上流側の光学要素と同一である点で類似している。簡略化の目的で、これらの光学要素は図6を参照して再度説明されることはない。図6のアブレーションシステム500は、シャッタ455とビームスプリッタ525との間に波長板520を含む。この波長板520を回転させることにより、ビームスプリッタ525を出射する分割されたビームの透過及び/又は反射特性(該分割されたビームのエネルギ強度及び該分割されたビームの比)を調整することができ、これにより、図7A及び図7Bにおけるパルス705及び710の高さ又は振幅の斯かるパルスの振幅が同一又は同様となるような修正を可能にする。従って、結果的パルス715は、一層相対的に一貫性があり且つ同様の振幅の実効幅を有する。
[0070] ビームのパルス幅を伸張する手段は、ビームスプリッタ525及び一連のミラー530,535,540,545を含むことができる。該一連のミラーは、予め定められた時間遅延を生じるために当該光学遅延ループ内のビームが特定の距離を進行するようにさせる光学経路を形成するように設計される。例えば、120インチの光学経路長は、約10nsなる所定の時間遅延を生じる。より長い光学経路長は一層長い時間遅延を生じ得る一方、より短い光学経路長は一層短い時間遅延を生じるであろう。本開示は、10ns以外の時間遅延を生じるために他の光学経路長を用いることも想定する。光学経路長及び時間遅延を調整する1つのやり方は、ミラー530,535,540,545の1つ又は全てを移動させることを含む。ミラー530,535,540,545の全てを固定又は移動可能にすることができるが、図6は、軸方向に平行移動可能であり、これにより、光学遅延経路の長さ及びパルスのピーク間の対応する距離の調整(又は複数の調整)を可能にするミラー535の一例を示す。
[0071] 当該光学遅延ループはビームスプリッタ525で始まり、このビームスプリッタは該ビームスプリッタ525に入射するオリジナルのビームを2つのビームに分割し、これら2つのビームのうちの一方は該光学遅延ループを介して進行し、該2つのビームのうちの他方は該遅延ループには入らず、ミラー550及びコリメータ480に向けられる。当該遅延ループを介して進行するビームが該ループを通過した後、ビームスプリッタ525は該遅延ループを通過したビームを該遅延ループに入らなかったビームと再結合させ、これにより結果的ビームを生成する。ビームスプリッタ525が斯かる2つの分割されたビームを再結合すると、結果的ビームは、該ビームスプリッタ525に入射したオリジナルのビームと同じ量のエネルギを有するが、該結果的ビームのピークパワーは大幅に減少されるであろう(例えば、オリジナルビームのピークパワーの半分未満)。該結果的ビームのピークパワーはビームスプリッタ525に入射するオリジナルビームと比較して大幅に減少される。何故なら、当該光学遅延ループは、該遅延ループを通過したビームが、当該ビームのうちの予め定められた時間において該光学遅延ループに元々入射しなかった部分と重なり合うようにさせ、かくして、これら2つの部分のピークエネルギレベルは斯かる予め定められた時間だけオフセットされるようになり、これにより一層長いパルス幅を持つように見える結果的ビームを生じさせる(これら2つの分割されたビームのピークエネルギレベルは互いに隣接し、組み合わさって、一層長い持続時間の単一のピークであるように見えるからである)からである。
[0072] 図7Aを参照すると、図6に示されたアブレーションシステムにおいてビームスプリッタ525からミラー550に向かって発するエネルギ信号が図示されている。ビームスプリッタ525が40/60ビームスプリッタであると仮定して、該ビームスプリッタ525は波長板520からオリジナルビームを受光し、該オリジナルビームを2つのビームに分割し、その場合において、ビームスプリッタ525に元々入射したエネルギの約40%を持つ一方のビームは当該光学遅延ループを介して進行せずにミラー550に向けられ、他方の分割されたビームはビームスプリッタに元々入射したエネルギの約60%を有し、該光学遅延ループを介して進行する。図7Aのエネルギ信号705は当該光学遅延ループを介して進行しない分割ビームを表すもので、このビームは約7.5ナノ秒(ns)のパルス幅を有する。従って、ビームスプリッタ525に入射したオリジナルビームは、図7Aに示されたものより約2.5倍大きなピークパワーを有するであろうが、該オリジナルエネルギ信号のパルス幅は依然として約7.5nsであろう。かくして、図7Aの信号により生成されるエネルギの量は、ビームスプリッタ525に入射するオリジナル信号のエネルギ量の約40%である。従って、ビームスプリッタ525に入射するエネルギ量の60%は、時間遅延ループに入射する分割ビームにおけるものとなる。40/60ビームスプリッタが説明されているが、本開示の範囲は、5/95,10/90,15/85,20/80,25/75,30/70,35/65,45/55,50/50,55/45,60/40,65/35,70/30,75/25,80/20,85/15,90/10,95/5及び何らかの他の比等の他の比を持つ他のビームスプリッタを含む。また、当該オリジナルビームを受光するビームスプリッタは該オリジナルビームを2つのビームに分割することができ、当該光学遅延ループを経て進行する一方のビームは該ビームスプリッタに元々入射したエネルギの如何なるパーセンテージを有することもでき、他方の分割ビームは該光学遅延ループを経て進行しない残りのパーセンテージのエネルギを有することができる。他の比のビームスプリッタを使用することは、結果的信号のピークエネルギを調整することになるであろう。
[0073] 図7Bを参照すると、図6に図示されたアブレーションシステムから放出される結果的エネルギ信号が示されており、この場合において、該結果的エネルギ信号は、当該時間遅延ループに入射しなかった、ビームスプリッタ525に元々入射したエネルギの約40%を有する分割ビームと、該時間遅延ループに入射した、該時間遅延ループを介して進行した残りのエネルギを含む分割ビームとの組合せである。図7Bに示されるように、第1ピーク705は当該光学遅延ループを介して進行しなかったビーム又はパルスに関連する一方、第2ピーク710は該光学遅延ループを介して進行したビーム又はパルスに関連する。当業者であれば理解することができるように、これら2つのピークは実質的に同一の高さを有し、このことは各パルスが実質的に同一のエネルギ量を有することを意味し、これら2つのパルスが組み合わされた場合、結果的信号はビームスプリッタ525に入射したものと実質的に同一のエネルギ量を有するが、該結果的信号のピークエネルギは、低下されると共に、当該ビームスプリッタに入射したパルス幅(7.5nm)の実効的に2倍長い伸張されたパルス幅(15nm)を有する一層長い期間715にわたり広がり、これにより、供給ファイバ(又は複数のファイバ)510の可能性のある損傷を最少化する。本例はオリジナルパルスの幅を結果的ビームにおけるパルス幅へ2倍長く伸張することを示しているが、本開示はオリジナルパルスの幅を1~10の間の何らかの増分等の他の長さに伸張することも含む。
[0074] 再び図6を参照すると、当該アブレーションシステム500は、図5のコヒーレンス混合ファイバ475がビームのパルス幅を伸張する手段により置換されると共に、図6のアブレーションシステム500はシャッタ455とビームスプリッタ525との間に波長板520も含む点を除き、図5のアブレーションシステム400と類似している。ビームのパルス幅を伸張する手段は、ビームスプリッタ525及び一連のミラー530,535,540,545を含むことができる。該一連のミラーは、約120インチの光学経路長にわたり約10nsecの予め定められた時間遅延を生じるように設計される。これらミラーのうちのミラー535等の1以上のミラーが軸方向に平行移動し、これにより、該光学遅延経路の長さ及びパルスのピーク間の対応する距離の調整(又は複数の調整)を可能にすることも望ましいものであり得る。
[0075] 前述したように、設計加工拡散器465は当該ビームを円形又は正方形等の所望の形状に収束させることを補助する。設計加工拡散器465は図6のアブレーションシステム500にも、該設計加工拡散器465がビームのパルス幅を伸張する手段の下流に配置されるようにして、組み込まれる。斯様な手段及び設計加工拡散器465の組合せは、アブレーションシステム500が、斯かる設計加工拡散器を備えないアブレーションシステム500を出射する結果的ビームと比較して、増加された対称性及び均質性を持つ結果的ビームを出力することを可能にする。図8Aに示されるように、円形のビームを出力する設計加工拡散器465により生成されるビームのエネルギ密度は対称であると共に相対的に均質である一方、図8Bに示されるように、正方形のビームを出力する設計加工拡散器465により生成されるビームのエネルギ密度は対称であると共に相対的に均質である。図6における供給ファイバ510は単一のファイバとすることができるが、該供給ファイバ510は、代わりに、図1、図2A、図2B、図3及び図4に関して前述したように、レーザカテーテル150内のファイバ205の束とすることもできる。
[0076] パルス幅伸張例1
[0077] 355nmレーザにより上述したパルス伸張送出方法を用い、単一の600μmファイバを介して20Hzで56mJまでのエネルギ出力が達成された。この出力エネルギは、200mJ/mm2のフルエンスに対応する。レーザ出力から600μm光ファイバへの結合効率は、40%程度であった。達成されるファイバ出力エネルギは、140mJのレーザ出力エネルギに制限された。この伝送試験は各回当たり5分の持続時間で5回繰り返され、ファイバの故障はゼロであった。
[0078] パルス幅伸張例2
[0079] 355nmレーザにより上述したパルス伸張送出方法を用い、2.0mm(97x100μmコア径ファイバ)マルチファイバカテーテルが大気中で55mJ/mm2のフルエンスに対応する43.5mJのエネルギで試験された。レーザ出力から該マルチファイバカテーテルへの結合効率は、約31%であった。達成されるファイバ出力エネルギは、この送出方法を用いて利用可能な全エネルギにより制限された。当該カテーテルのカプラ、先端又は中間シャフトのファイバ損傷は観測されなかった。この伝送試験は各回当たり5分の持続時間で5回繰り返され、ファイバの故障はゼロであった。段落3.2では観察され、この送出方法を用いて存在しないファイバ損傷がないことは、ファイバ結合レンズの前のDOEの配置により達成される均質化された入射ビームプロファイルによるものと考えられる。
[0080] 組織アブレーション例
[0081] 308nm光に対する355nmレーザ光の組織アブレーション比較を実行するために、新鮮な豚大動脈組織が使用された。該組織は収穫日の翌日配達で送られた。該組織は、塩水の袋に入れられ、使用するまで15℃で保管された。全ての組織が、試験前の組織劣化を制限するために収穫から5日以内に試験された。比較結果が示される場合、サンプルは同一の組織から取り出され、試験は同じ日に実行された。
[0082] 厚さが一貫した平らな組織サンプルを作製するために当該豚大動脈は切り取られた。このサンプルは、次いで、内膜面を上にしてコルクシートにピン留めされた。該コルクシートは、当該組織がまたがる貫通孔を有するものであった。該コルク及び組織サンプルは、次いで、ペトリ皿(シャーレ)内に配置され、塩水に沈められた。該シャーレは、当該ファイバの下向き力を設定及び監視するためにデジタルスケール(秤)上に配置された。当該光ファイバは、印加される下向き力の微調整を可能にするシーソー型平衡状態に保持された。
[0083] 当該レーザビーム経路におけるファイバ結合より前のシャッタが、供給ファイバへの光を可能にするために開かれた。当該組織は、ファイバを貫通する際に監視された。該ファイバが該組織の背面から出た時に、前記シャッタは閉じられ、貫通のために費やされたパルスの数が記録された。当該組織は試験の後に取り外され、アブレーションされた孔の位置において厚さがダイヤル厚さ計を用いて測定された。次いで、パルス当たりの貫通度が計算され、比較された。
[0084] 当該組織試験は、60mJ/mm2のフルエンスを伝送する600μmの単一ファイバを用いて、355nm及び308nmに対して20Hzのパルス繰り返し数で実行された。典型的に、60mJ/mm2のフルエンス出力は、現在Spectranetics CVXエキシマレーザを用いている医師により使用されるエネルギフルエンス設定を表すものである。20Hzなるパルス繰り返し数は、試験される355nmレーザの仕様内に入るように選定された。試験は、当該光ファイバに印加される4つの異なる下向き力で実行された。完全な貫通サンプルが、355nm及び308nmに対して各下向き力で収集された。試験の後、当該組織サンプルは50倍の倍率で写真撮影され、10%のホルマリン溶液内で固定された。
[0085] 組織サンプルは、外部検査室に送られ、病理組織検査のために処理された。各サンプルのスライド断片が、光学顕微鏡評価及び撮像のためにヘマトキシリン・エオジン(H&E)により着色された。図9は、当該組織アブレーション例に記載された方法を用いた異なる印加ファイバ力における355nmと308nmとの間の比較組織貫通速度を示す。308nm光の貫通は、1grの下向き力で約3倍、当該ファイバに対する10grの下向き力で約8倍速い貫通であった。アブレーションされた孔の外見は、1grの力では同様であるが、ファイバの10grの下向き力で生成される308nmの孔の方が小さい。これらの試験結果は、貫通速度に関してのみ分析された。
[0086] 当該試験の間において、遠端部ファイバ故障は、355nmサンプル試験の間では40サンプルのうち4回、308nm試験の間では40サンプルのうち0回観測された。これらのファイバ損傷は、短いパルス幅の355nmレーザ光の一層高いピークパワーの結果であったと思われる。
[0087] 図10Aは、図6に図示されたものと同様又は同一の355nmレーザシステムを用い、約5グラムの下向き力を印加する単一の600ミクロン光ファイバで豚大動脈にアブレーションされた孔の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。図10Bは、308nmレーザシステムを用い、約5グラムの下向き力を印加する単一の600ミクロン光ファイバで豚大動脈にアブレーションされた孔の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。図10A及び図10Bにおけるアブレーションされた孔は、同様の外見を有し、50xの倍率で見た際に可視炭化は示さなかった。
[0088] 図11Aは、図6に図示されたものと同様又は同一の355nmレーザシステムを用い、約5グラムの下向き力を印加する単一の600ミクロン光ファイバで豚大動脈にアブレーションされた孔の組織断面の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。図11Bは、308nmレーザシステムを用い、約5グラムの下向き力を印加する単一の600ミクロン光ファイバで豚大動脈にアブレーションされた孔の組織断面の画像であり、該ファイバは約60mJ/mm2を20Hzで出力する。本開示の多数の変形例及び変更例を用いることができる。本開示の幾つかのフィーチャを他のフィーチャを提供せずに提供することが可能であろう。図11A及び図11Bは、レーザにより形成された孔が、結果的な局所的組織破壊及び欠陥を覆う熱発生組織変性を伴う、血管壁を経る全厚さであったことを示している。当該ファイバ貫通は、動脈サンプルの内膜面から開始された。
[0089] 図12を参照すると、本開示の他のアブレーションシステム600が示されている。該アブレーションシステム600は図6のアブレーションシステム500と、図12におけるビームのパルス幅を伸張する手段が、図6に示された如くビームスプリッタ525及び一連のミラー530,535,540,545を使用する代わりに、ビームスプリッタ525及び分割されたビームを通過させて所望の予め定められた時間遅延を生じさせるために十分な長さの光学コヒーレンス混合ファイバ610を含み得る点を除き類似している。続けて図12を参照すると、ビームスプリッタ525と光学コヒーレンス混合ファイバ610との間に結合レンズ605を含めることが望ましく、当該ビームスプリッタを含む光学経路に再入射する際に当該光をコリメートするために2つの光学レンズ620,625を含むコリメータ615を含めることが望ましいであろう。ビームのパルス幅を伸張する手段に光学コヒーレンス混合ファイバ610を組み込むことは、当該アブレーションシステムに、一層長い期間にわたりエネルギを拡散させることによりオリジナルビームのピークエネルギを減少させると共に一層均質化された信号を生成し、これにより、供給ファイバ(又は複数のファイバ)510に対する可能性のある損傷を最少化するという利点をもたらす。
[0090] 本開示は、種々の態様、実施態様及び/又は構成において、本明細書において実質的に図示及び説明されたような要素、方法、処理、システム及び/又は装置を、これらの種々の態様、実施態様、構成、部分的組み合わせ及び/又は部分組を含み含むものである。当業者であれば、本開示を理解すれば、開示された態様、実施態様及び/又は構成をどの様に実行及び使用するかを理解するであろう。本開示は、種々の態様、実施態様及び/又は構成において、例えば実施構成の性能を改善し、容易さを達成し及び/又は費用を低減するために、本明細書に図示及び/又は説明されていない項目が無い場合に又はこれらの種々の態様、実施態様及び/又は構成において、以前の装置又は処理で使用されていなかったような項目の無い場合を含み、装置及び処理を提供することを含む。
[0091] 上記記載は、図示及び説明の目的で提供されたものである。上記記載は、本開示を、本明細書に開示された形態又は複数の形態に限定しようとするものではない。例えば、前記概要において、本開示の種々のフィーチャは、本開示を容易にする目的で1以上の態様、実施態様及び/又は構成に一緒にグループ化することができる。本開示の態様、実施態様及び/又は構成のフィーチャは、上述したもの以外の代替的態様、実施態様及び/又は構成に組み合わせることができる。この開示方法は、請求項が各請求項に明示的に記載されたもの以上のフィーチャを必要とするという意図を反映するものと解釈されるべきではない。むしろ、後述する請求項が反映するように、発明的態様は、開示された前記単一の態様、実施態様及び/又は構成の全フィーチャ未満に存する。このように、後述する請求項は、これにより、本概要に組み込まれるものであり、各請求項は、それ自体で、本開示の別個の実施態様となるものである。
[0092] 更に、当該説明は1以上の態様、実施態様及び/又は構成並びに特定の変形例及び変更例の説明を含んでいるが、他の変形例、組み合わせ及び変更例も、本開示を理解したなら、本開示の範囲内に入るものである(例えば、当業者の技術及び知識内であるように)。請求項に記載されたものの代替的、交換可能な及び/又は均等な構造、機能、範囲又はステップを含む、許される限りの代替的態様、実施態様及び/又は構成を含む権利を得ようとするものである(斯様な代替的、交換可能な及び/又は均等な構造、機能、範囲又はステップが本明細書に開示されているか否かに拘わらず、且つ、如何なる特許可能な主題を公共に提供することを意図せずに)。

Claims (14)

  1. 光ビームを生成するレーザ源と、
    前記レーザ源の下流側の、前記光ビームを受光する光学アセンブリと、
    を有するレーザ発生器であって、
    前記光学アセンブリが、
    前記光ビームを受光する波長板と、
    前記波長板の下流側の、前記光ビームを受光して該光ビームの第1部分を反射すると共に該光ビームの第2部分を通過させる薄膜偏光子と、
    前記光ビームの前記第1部分を受光するビーム廃棄部と、
    前記波長板の下流側の、前記光ビームの前記第2部分を受光するビーム拡大器と、
    前記ビーム拡大器の下流側の、前記光ビームの前記第2部分を受光する拡散器と、
    前記拡散器の下流側の、前記光ビームの前記第2部分を受光すると共に該光ビームの該第2部分を放出する混合ファイバと、
    を有する、レーザ発生器。
  2. 前記レーザ源が355ナノメートルの波長を有する光ビームを生成する、請求項1に記載のレーザ発生器。
  3. 前記レーザ源が10ナノメートルと5000ナノメートルとの間の波長を有する光ビームを生成する、請求項1に記載のレーザ発生器。
  4. 前記拡散器が回折光学素子である、請求項1に記載のレーザ発生器。
  5. パルス幅を持つ複数のパルスを有する光ビームを生成するレーザ源と、
    前記レーザ源の下流側の、前記光ビームを受光する光学アセンブリと、
    を有するレーザ発生器であって、
    前記光学アセンブリが、
    前記光ビームを受光する波長板と、
    前記波長板の下流側の、前記光ビームを受光して該光ビームの第1部分を反射すると共に該光ビームの前記パルス幅を持つ第2部分を通過させる薄膜偏光子と、
    前記光ビームの前記第1部分を受光するビーム廃棄部と、
    前記光ビームの前記第2部分における前記複数のパルスの少なくとも1つのパルス幅を伸張する手段と、
    前記パルス幅を伸張する手段の下流側の、第2ビームの他の部分を受光及び放出する拡散器と、
    を有する、レーザ発生器。
  6. 前記複数のパルスの少なくとも1つのパルス幅を伸張する手段が、ビームスプリッタ及びビーム経路を形成する複数のミラーを有する、請求項5に記載のレーザ発生器。
  7. 前記ミラーの少なくとも1つが平行移動可能である、請求項6に記載のレーザ発生器。
  8. 前記複数のパルスの少なくとも1つのパルス幅を伸張する手段がビームスプリッタを有する、請求項5に記載のレーザ発生器。
  9. 前記ビームスプリッタが前記光ビームの前記第2部分を第1ビーム及び第2ビームに分割する、請求項8に記載のレーザ発生器。
  10. 前記ビームスプリッタは、前記第2ビームが時間遅延ループを通過した後に該第2ビームを前記第1ビームと結合する、請求項9に記載のレーザ発生器。
  11. 前記時間遅延ループが複数のミラーを有する、請求項10に記載のレーザ発生器。
  12. 前記時間遅延ループが混合ファイバを有する、請求項10に記載のレーザ発生器。
  13. 前記混合ファイバがコヒーレンス混合ファイバである、請求項12に記載のレーザ発生器。
  14. 患者の血管系内の閉塞の少なくとも一部を除去するシステムであって、
    請求項1又は5に記載のレーザ発生器と、
    複数の光ファイバを有するカテーテルと、を備え、
    前記カテーテルは、前記患者の血管系に挿入されるとともに、前記患者の血管系内の閉塞の少なくとも一部を除去するように構成されている、システム。
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