JP7244132B2 - 超音波基盤のエアロゾル発生装置 - Google Patents
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Description
[項目1]
液状のエアロゾル形成基材を貯蔵する液体貯蔵槽と、
上記貯蔵されたエアロゾル形成基材を吸収するウィク(wick)と、
超音波を通じて上記吸収されたエアロゾル形成基材を気化させてエアロゾルを発生させる超音波振動子と、
上記超音波振動子を制御する制御部と、を含み、
上記ウィクの少なくとも一部分と上記超音波振動子の少なくとも一部分は、平たい形態を有する、超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目2]
上記ウィクの平たい部分の厚さは、1mm以下である、項目1に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目3]
上記ウィクの面積は、上記超音波振動子の面積より大きい、項目1または2に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目4]
上記ウィクと上記超音波振動子の平たい部分は、互いに密着するように配置される、項目1から3のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目5]
上記ウィクの平たい部分は、ウィクの中心部分であり、
上記ウィクの外郭の部分に配置されて、上記ウィクの外郭を固定するダンパー(damper)をさらに含む、項目1から4のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目6]
上記超音波振動子に密着配置されて、上記超音波振動子の振動を吸収するダンパー(damper)をさらに含む、項目1から5のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目7]
上記エアロゾル発生装置の外観を形成するケースをさらに含み、
上記超音波振動子は、上記ウィクの下部方向に位置し、
上記ダンパーは、上記ケースと上記超音波振動子との間の隙間を密封するように配置される、項目6に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目8]
上記ウィクの平たい部分に隣接してエアロゾル発生領域が形成され、
外気が上記エアロゾル発生領域の中心付近に流入するように形成された第1気流パスと、
上記発生したエアロゾルが上記エアロゾル発生領域の外郭付近からマウスピース方向に移動するように形成された第2気流パスと、をさらに含む、項目1から7のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目9]
上記第2気流パスは、複数個であり、
上記複数個の第2気流パスを通じて移動したエアロゾルは、上記マウスピースで会って外部に排出される、項目8に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目10]
上記液体貯蔵槽と上記ウィクは、交換可能なカートリッジの少なくとも一部を構成し、
上記超音波振動子と上記制御部は、上記カートリッジと結合される制御本体の少なくとも一部を構成する、項目1から9のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目11]
上記制御本体の開放された上端部が上記カートリッジの下部と結合され、
上記超音波振動子は、開放された上端部の付近に位置する、項目10に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目12]
上記カートリッジは、上記ウィクを弾性的に支持する弾性体をさらに含み、
上記弾性体が伸張するにつれて、上記ウィクの平たい部分が上記超音波振動子側に移動する、項目10または11に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目13]
上記カートリッジは、上記制御本体と結合される前に、上記弾性体が圧縮された状態で密封部材により密封されている、項目12に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
[項目14]
上記吸収されたエアロゾル形成基材を加熱するヒーターをさらに含む、項目1から13のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
Claims (13)
- 交換可能なカートリッジと、
前記カートリッジと結合される制御本体と、を備え、
前記カートリッジは、液状のエアロゾル形成基材を貯蔵する液体貯蔵槽と、
前記貯蔵されたエアロゾル形成基材を吸収するウィク(wick)と、
前記ウィクを弾性的に支持する弾性体と、を含み、
前記制御本体は、超音波を通じて前記吸収されたエアロゾル形成基材を気化させてエアロゾルを発生させる超音波振動子と、
前記超音波振動子を制御する制御部と、を含み、
前記ウィクの少なくとも一部分と前記超音波振動子の少なくとも一部分は、平たい形態を有し、
前記カートリッジは、前記制御本体と結合される前に、前記弾性体が圧縮された状態で密封部材により密封されている、
超音波基盤のエアロゾル発生装置。 - 前記吸収されたエアロゾル形成基材を加熱するヒーターをさらに含む、請求項1に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
- 前記ウィクの平たい部分の厚さは、1mm以下である、請求項1または2に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
- 前記ウィクの面積は、前記超音波振動子の面積より大きい、請求項1から3のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
- 前記ウィクと前記超音波振動子の平たい部分は、互いに密着するように配置される、請求項1から4のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
- 前記ウィクの平たい部分は、ウィクの中心部分であり、
前記ウィクの外郭の部分に配置されて、前記ウィクの外郭を固定するダンパー(damper)をさらに含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。 - 前記超音波振動子に密着配置されて、前記超音波振動子の振動を吸収するダンパー(damper)をさらに含む、請求項1から6のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
- 前記エアロゾル発生装置の外観を形成するケースをさらに含み、
前記超音波振動子は、前記ウィクの下部方向に位置し、
前記ダンパーは、前記ケースと前記超音波振動子との間の隙間を密封するように配置される、請求項7に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。 - 前記ウィクの平たい部分に隣接してエアロゾル発生領域が形成され、
外気が前記エアロゾル発生領域の中心付近に流入するように形成された第1気流パスと、
前記発生したエアロゾルが前記エアロゾル発生領域の外郭付近からマウスピース方向に移動するように形成された第2気流パスと、をさらに含む、請求項1から8のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。 - 前記第2気流パスは、複数個であり、
前記複数個の第2気流パスを通じて移動したエアロゾルは、前記マウスピースで会って外部に排出される、請求項9に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。 - 前記制御本体の開放された上端部が前記カートリッジの下部と結合され、
前記超音波振動子は、開放された上端部の付近に位置する、請求項1から10のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。 - 前記弾性体が伸張するにつれて、前記ウィクの平たい部分が前記超音波振動子側に移動する、請求項1から11のいずれか一項に記載の超音波基盤のエアロゾル発生装置。
- 液状のエアロゾル形成基材を貯蔵する液体貯蔵槽と、
前記貯蔵されたエアロゾル形成基材を吸収するウィク(wick)と、
超音波を通じて前記吸収されたエアロゾル形成基材を気化させてエアロゾルを発生させる超音波振動子と、
前記超音波振動子を制御する制御部と、
前記吸収されたエアロゾル形成基材を加熱するヒーターと、を含み、
前記ウィクの少なくとも一部分と上記超音波振動子の少なくとも一部分は、平たい形態を有し、
前記制御部は、エアロゾル発生装置の使用者のパフパターンを分析して、前記使用者のパフ長さまたはパフ強度が増加する場合、ヒーターの加熱温度を増加させ、前記使用者のパフ長さまたはパフ強度が減少する場合、前記ヒーターの加熱温度を減少させる、
超音波基盤のエアロゾル発生装置。
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