JP7214364B2 - Wafer processing method - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス基板の上面に金属パターンが配設されたウエーハを切削して個々のデバイスに分割するウエーハの加工方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a wafer processing method for cutting a wafer having a metal pattern on the upper surface of a glass substrate and dividing the wafer into individual devices.
IC、LSI等の複数のデバイスが分割予定ラインによって区画され表面に形成されたウエーハは、ダイシング装置によって個々のデバイスに分割され携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。 A wafer in which a plurality of devices such as ICs and LSIs are partitioned by division lines and formed on the surface thereof is divided into individual devices by a dicing machine and used for electric equipment such as mobile phones and personal computers.
ダイシング装置は、ウエーハを保持する保持手段と、該保持手段に保持されたウエーハに切削水を供給しながら回転する切削ブレードで分割予定ラインを切削する切削手段と、該保持手段と該切削手段とを加工送りする送り手段と、から構成されていて、ウエーハを高精度に切削することができる(例えば、特許文献1を参照。)。 A dicing apparatus includes holding means for holding a wafer, cutting means for cutting a line to be divided by a cutting blade rotating while supplying cutting water to the wafer held by the holding means, holding means and cutting means. and a feeding means for processing and feeding the wafer, and can cut the wafer with high precision (see, for example, Patent Document 1).
特許文献1に記載された従来のダイシング装置により、ガラス基板の上面に蒸着等により金属パターンからなる複数のデバイスが分割予定ラインによって区画されて形成されたウエーハを切削することが試みられている。しかし、特許文献1に記載された従来のダイシング装置では、ウエーハに対して切削ブレードを切り込む位置に向けて切削水を勢いよく噴射して切削を実施するため、ガラス基板に蒸着された金属パターンが剥離、又は金属パターンの一部が損傷してしまうという問題が生じた。 A conventional dicing apparatus described in Patent Document 1 attempts to cut a wafer in which a plurality of devices each having a metal pattern are formed by vapor deposition or the like on the upper surface of a glass substrate and are separated by dividing lines. However, in the conventional dicing apparatus described in Patent Document 1, cutting is performed by vigorously jetting cutting water toward the position where the cutting blade cuts into the wafer, so that the metal pattern deposited on the glass substrate is removed. Problems such as delamination or damage to a portion of the metal pattern arose.
また、上記問題に対処すべく、切削水を供給せずに、たとえば冷却エアーを供給しながら切削する、所謂ドライカットを実施することも考えられる。しかし、ガラス基板の切削部位に切削水を供給せずに切削しようとすると、切削水を供給した際に得られるケモメカニカル効果(水が供給されることで、ガラスを構成する酸素とシリコンの結びつきを弱める効果)が得られず、切削溝の両側が破損してデバイスの品質を著しく低下させることが判明した。 Moreover, in order to deal with the above problem, it is conceivable to carry out so-called dry cutting, in which cutting is performed while cooling air is supplied, for example, without supplying cutting water. However, when cutting is attempted without supplying cutting water to the cutting portion of the glass substrate, the chemo-mechanical effect obtained when supplying cutting water weakening effect) was not obtained, and both sides of the cutting groove were damaged, significantly degrading the quality of the device.
本発明は、上記事実に鑑みなされたものであり、その主たる技術課題は、ガラス基板の上面に蒸着等により形成された金属パターンを含む複数のデバイスが形成されたウエーハを、デバイスの品質を低下させることなく切削することができるウエーハの加工方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above facts. To provide a processing method of a wafer which can be cut without causing any deformation.
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、ガラス基板の上面に金属パターンが配設された複数のデバイスが複数の分割予定ラインによって区画されたウエーハを個々のデバイスに分割するウエーハの加工方法であって、ポリオレフィン系又はポリエステル系の貼着面に粘着層を有しないシートをウエーハの表面に敷設して加熱することにより軟化し、該シートをウエーハの表面に直接熱圧着するシート圧着工程と、ウエーハの裏面をダイシングテープで貼着すると共にウエーハを収容する開口を有する環状のフレームを該ダイシングテープに貼着するウエーハ支持工程と、切削水を供給しながら環状の切り刃を外周に備えた切削ブレードを回転させウエーハの分割予定ラインに沿って該シートと共に切削して該ウエーハを個々のデバイスに分割する分割工程と、デバイスの表面から該シートを剥離するシート剥離工程と、から少なくとも構成されるウエーハの加工方法が提供される。 In order to solve the main technical problems described above, according to the present invention, a wafer having a plurality of devices having a metal pattern provided on the upper surface of a glass substrate partitioned by a plurality of division lines is divided into individual devices. A processing method in which a polyolefin-based or polyester-based sheet having no adhesive layer on the bonding surface is laid on the surface of a wafer, softened by heating, and then directly heat-pressed onto the surface of the wafer. a wafer supporting step of adhering the back surface of the wafer with a dicing tape and adhering an annular frame having an opening for accommodating the wafer to the dicing tape; At least from a dividing step of rotating the provided cutting blade and cutting the wafer along with the sheet along the dividing line of the wafer to divide the wafer into individual devices, and a sheet peeling step of peeling the sheet from the surface of the device A method for processing structured wafers is provided.
好ましくは、該ウエーハ支持工程において、ウエーハを囲繞する環状の側壁をなすリング部材を配設し、ウエーハの表面を水で覆うためのプールを形成し、該分割工程において、該プールに切削水を満たしウエーハを水没させるようにする。 Preferably, in the wafer supporting step, a ring member forming an annular side wall surrounding the wafer is provided to form a pool for covering the surface of the wafer with water, and in the dividing step, cutting water is supplied to the pool. Allow the filled wafer to be submerged.
該ポリオレフィン系のシートを選択する場合は、ポリエチレンシート、ポリプロピレンシート、ポリスチレンシートのいずれかから選択することができる。該シート圧着工程において、該ポリエチレンシートが選択された場合の加熱温度は120~140℃であり、該ポリプロピレンシートが選択された場合の加熱温度は160~180℃であり、該ポリスチレンシートの加熱温度は220~240℃とすることが好ましい。また、該ポリエステル系のシートを選択する場合は、ポリエチレンテレフタレートシート、ポリエチレンナフタレートシートのいずれかから選択することができる。該シート圧着工程において、該ポリエチレンテレフタレートシートが選択された場合の加熱温度は250~270℃であり、該ポリエチレンナフタレートシートが選択された場合の加熱温度は160~180℃とすることが好ましい。 When the polyolefin-based sheet is selected, it can be selected from polyethylene sheet, polypropylene sheet, and polystyrene sheet. In the sheet pressure bonding step, the heating temperature is 120 to 140 ° C. when the polyethylene sheet is selected, and the heating temperature is 160 to 180 ° C. when the polypropylene sheet is selected, and the heating temperature of the polystyrene sheet is preferably 220 to 240°C. When the polyester-based sheet is selected, it can be selected from either a polyethylene terephthalate sheet or a polyethylene naphthalate sheet. In the sheet pressing step, the heating temperature is preferably 250 to 270° C. when the polyethylene terephthalate sheet is selected, and the heating temperature is preferably 160 to 180° C. when the polyethylene naphthalate sheet is selected.
本発明のウエーハの加工方法は、ポリオレフィン系又はポリエステル系の貼着面に粘着層を有しないシートをウエーハの表面に敷設して加熱することにより軟化し、該シートをウエーハの表面に直接熱圧着するシート圧着工程と、ウエーハの裏面をダイシングテープで貼着すると共にウエーハを収容する開口を有する環状のフレームを該ダイシングテープに貼着するウエーハ支持工程と、切削水を供給しながら環状の切り刃を外周に備えた切削ブレードを回転させウエーハの分割予定ラインに沿って該シートと共に切削して該ウエーハを個々のデバイスに分割する分割工程と、デバイスの表面から該シートを剥離するシート剥離工程と、から少なくとも構成されることにより、切削水を供給しても、ガラス基板に敷設された金属パターンが剥離したり、破損したりすることなく、ケモメカニカル効果によって円滑にウエーハを分割することができる。また、シートは糊剤等による粘着層を持たず、熱圧着によってウエーハに配設されるため、デバイスからシートを剥離する際にも、金属パターンを破損したりすることがなく、デバイスの品質を低下させることがない。 In the wafer processing method of the present invention, a polyolefin-based or polyester-based sheet having no adhesive layer on the bonding surface is laid on the surface of the wafer and heated to soften it, and the sheet is directly thermocompression bonded to the surface of the wafer. a wafer support step of adhering the back surface of the wafer with a dicing tape and adhering an annular frame having an opening for accommodating the wafer to the dicing tape; and an annular cutting edge while supplying cutting water. a cutting blade provided on the outer circumference of the wafer and cutting the sheet along the wafer dividing line to divide the wafer into individual devices; and a sheet peeling process of peeling the sheet from the surface of the device. , so that even if cutting water is supplied, the metal pattern laid on the glass substrate does not peel off or break, and the wafer can be smoothly divided by the chemo-mechanical effect. . In addition, since the sheet does not have an adhesive layer such as glue and is attached to the wafer by thermocompression, the metal pattern is not damaged when the sheet is peeled off from the device, resulting in improved device quality. does not reduce
以下、本発明の実施形態に係るウエーハの加工方法について、添付図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, a wafer processing method according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
本実施形態のウエーハの加工方法を実施するに当たり、まず、図1(a)に示すように、本実施形態において被加工物となるウエーハ10を用意する。このウエーハ10は3mm程度の厚さを有する円盤形状のガラス基板を備え、該ガラス基板の上面が複数の分割予定ライン14によって区画され、該区画された各領域のそれぞれに、スパッタリングや真空蒸着による薄膜法等により形成された金属パターンを含むデバイス12が形成されている。
In carrying out the wafer processing method of the present embodiment, first, as shown in FIG. 1A, a
(シート圧着工程)
上記したウエーハ10を用意したならば、シート圧着工程を実施する。より具体的には、まず、図1(a)に示すように、シート圧着工程を実施するためのチャックテーブル20を用意する。チャックテーブル20は、通気性を有する多孔質のポーラスセラミックからなる円盤形状の吸着チャック20aと、吸着チャック20aの外周を囲繞する円形枠部20bとからなる。チャックテーブル20は、図示しない吸引手段に接続され、吸着チャック20aの上面(保持面)に載置されるウエーハ10を吸引保持する。
(Sheet crimping process)
After the
ウエーハ10と、チャックテーブル20とを用意したならば、図に示すように、吸着チャック20aの保持面に対して、ウエーハ10の裏面10b側を下にして、吸着チャック20aの中心に載置する。吸着チャック20aにウエーハ10を載置したならば、図1(b)に示すように、ウエーハ10の表面10a側に、20~100μmの厚みで形成された円形のポリオレフィン系シート、たとえば、ポリエチレン(PE)シート30を載置する。図1(b)から理解されるように、吸着チャック20aの直径は、ウエーハ10の直径よりもやや大きく設定されており、ウエーハ10が吸着チャック20aの中心に載置されることにより、ウエーハ10の外周を囲む吸着チャック20aが露出する。さらに、ポリエチレンシート30は、吸着チャック20aの直径よりも大きい直径で形成され、好ましくは、チャックテーブル20の円形枠部20bの外径よりも僅かに小さい直径で形成される。これにより、吸着チャック20aは、ウエーハ10及びポリエチレンシート30で覆われる。なお、ポリエチレンシート30のウエーハ10に載置される載置面側には糊剤等の粘着層は形成されていない。
After the
チャックテーブル20にウエーハ10、及びポリエチレンシート30を載置したならば、吸引ポンプ等を含む図示しない吸引手段を作動させて、吸引力Vmを吸着チャック20aに作用させ、ウエーハ10、及びポリエチレンシート30を吸引する。上記したように、ウエーハ10及びポリエチレンシート30によって、吸着チャック20aの上面(保持面)全面が覆われているため、吸引力Vmは、ウエーハ10及びポリエチレンシート30全体に作用し、ウエーハ10とポリエチレンシート30とを吸着チャック20a上に吸引保持すると共に、ウエーハ10とポリエチレンシート30との間に残存していた空気を吸引して両者を密着させる。ウエーハ10の表面10aには、金属パターンを含む複数のデバイス12によって微小な凹凸が形成されており、チャックテーブル20の図示しない吸引手段によって吸引保持されることにより、ウエーハ10の表面10aの凹凸面にポリエチレンシート30が密着した状態になる。
After the
吸引手段を作動させることによりウエーハ10の表面10aの凹凸面にポリエチレンシート30を密着した状態にしたならば、図2(a)に示すように、チャックテーブル20の上方に、ポリエチレンシート30をウエーハ10に熱圧着する熱圧着手段としての熱風吹付け手段40を位置付ける。熱風吹付け手段40は、チャックテーブル20側と対面する出口側(図中下側)にサーモスタット等の温度調整手段を備えたヒータ部を備えると共に、反対側(図中上側)にモータ等により駆動されるファン部を備え、該ヒータ部、及びファン部を駆動することにより、ウエーハ10に向けて熱風Wを吹き付けることが可能に構成されている。この熱風吹付け手段40によってポリエチレンシート30が覆うウエーハ10の表面10a側全体に熱風Wを吹き付け、ポリエチレンシート30を融点近傍の120~140℃に加熱し、ポリエチレンシート30が徐々に軟化する。このように熱風吹付け手段40によって加熱すると共に、チャックテーブル20側の図示しない吸引手段によって作用する負圧と、外部の圧力(大気圧)との圧力差を作用させることで、ウエーハ10の表面10aにポリエチレンシート30が熱圧着されて、ウエーハ10とポリエチレンシート30とが一体化し、シート圧着工程が完了する。なお、ポリエチレンシート30を加熱してウエーハ10と熱圧着する熱圧着手段は、図2(a)に示す熱風吹付け手段40に限定されず、他の手段を選択することも可能である。図2(b)、及び図2(c)を参照しながら、他の熱圧着手段について説明する。
When the
他の熱圧着手段としては、上記した熱風吹付け手段40に替えて、図2(b)に示す赤外線照射手段50(一部のみ示す。)が選択されてもよい。赤外線照射手段50は、赤外線Lを照射することにより照射対象を加熱する手段である。熱圧着手段として赤外線照射手段50を選択した場合は、図2(b)に示すように、上記熱風吹付け手段40を選択した場合と同様に、ウエーハ10、及びポリエチレンシート30を吸引保持したチャックテーブル20の上方に、ポリエチレンシート30を加熱するための赤外線照射手段50を位置付ける。赤外線照射手段50をチャックテーブル20の上方に位置付けたならば、赤外線照射手段50によってポリエチレンシート30が覆うウエーハ10全体に赤外線Lを照射し、ポリエチレンシート30が融点近傍の120~140℃に加熱する。ポリエチレンシート30は加熱されることにより徐々に軟化し、ウエーハ10の表面10a側にポリエチレンシート30が密着した状態で熱圧着されて、ウエーハ10とポリエチレンシート30とが一体化し、シート圧着工程が完了する。
As another thermocompression bonding means, instead of the hot air blowing means 40 described above, an infrared irradiation means 50 (only a part of which is shown) shown in FIG. 2(b) may be selected. The infrared irradiation means 50 is means for heating an irradiation target by irradiating infrared rays L. As shown in FIG. When the infrared irradiation means 50 is selected as the thermocompression bonding means, as shown in FIG. 2B, the
さらに、別の熱圧着手段として、図2(c)に示す加熱ローラ手段60(一部のみ示す。)が選択されてもよい。より具体的には、ウエーハ10及びポリエチレンシート30を吸引保持した状態のチャックテーブル20の上方に、ポリエチレンシート30を加熱し押圧するための加熱ローラ手段60を位置付ける。詳細は省略するが、加熱ローラ手段60は、図示しないヒータを内蔵する加熱ローラ62と、加熱ローラ62を回転させるための回転軸64とを備え、加熱ローラ62の表面には、フッ素樹脂加工が施されている。加熱ローラ手段60をチャックテーブル20の上方に位置付けたならば、加熱ローラ62に内蔵されたヒータを作動し、ポリエチレンシート30が覆うウエーハ10の表面10a側全体を押圧して加熱ローラ62を矢印R1で示す方向に回転させながら、矢印X方向に移動させる。加熱ローラ62に内蔵された図示しないヒータは、ポリエチレンシート30が融点近傍の120~140℃になるように調整される。この加熱、及び押圧により、上記熱風吹付け手段40、又は赤外線照射手段50によって一体化されるのと同様に、ウエーハ10の表面10aのデバイス12によって形成された微小な凹凸面にポリエチレンシート30を密着させた状態で熱圧着することができ、ウエーハ10とポリエチレンシート30とが一体化し、シート圧着工程が完了する。なお、シート圧着工程を実施するさらに別の熱圧着手段として、上記した加熱ローラ62に代えて、ヒータを備えた板状の押圧部材を採用し、ポリエチレンシート30を押圧しウエーハ10と熱圧着することもできる。また、上記した各熱圧着手段によってポリエチレンシート30を加熱する際の温度として、ポリエチレンシート30の融点近傍の温度(120℃~140℃)としたが、これよりも若干低い温度、たとえば、融点近傍から50℃程度低い温度までの温度範囲で設定されてもよい。
Furthermore, as another thermocompression bonding means, a heating roller means 60 (only part of which is shown) shown in FIG. 2(c) may be selected. More specifically, a heating roller means 60 for heating and pressing the
本実施形態では、上記したシート圧着工程に続き、後工程で実施される分割工程に配慮して、ポリエチレンシート30をウエーハ10の外形形状に沿って切断する切断工程を実施する。なお、この切断工程は、必ずしも実施される必要はないが、この切断工程を実施した方がポリエチレンシート30と一体化されたウエーハ10を扱い易くなり、後述する分割工程にとって好都合である。以下に、図3を参照しながら切断工程について説明する。
In this embodiment, following the above-described sheet pressure bonding step, a cutting step is performed to cut the
(切断工程)
図3に示すように、ウエーハ10及びポリエチレンシート30を吸引保持したチャックテーブル20上に、切断手段70(一部のみ示す。)を位置付ける。より具体的には、切断手段70は、ポリエチレンシート30を切断するための円盤形状のブレードカッター72と、ブレードカッター72を矢印R2で示す方向に回転駆動するためのモータ74とを備え、ブレードカッター72の刃先を、ウエーハ10の外周位置になるように位置付ける。ブレードカッター72がウエーハ10の外周位置に位置付けられたならば、ブレードカッター72をポリエチレンシート30の厚みだけ切込み送りし、チャックテーブル20を矢印R3で示す方向に回転させる。これにより、ポリエチレンシート30が、ウエーハ10の外周に沿って切断され、ウエーハ10の外周からはみ出したポリエチレンシート30の外周部を切断して切り離すことができる。以上により、切断工程が完了する。
(Cutting process)
As shown in FIG. 3, the cutting means 70 (only part of which is shown) is positioned on the chuck table 20 holding the
(ウエーハ支持工程)
上記した切断工程を完了したならば、ウエーハ支持工程を実施する。ウエーハ支持工程について、図4、及び図5を参照しながら説明する。ウエーハ支持工程を実施するに際し、図4に示すように、ウエーハ10を収容することが可能な大きさの開口Faを有する環状のフレームFを用意する。フレームFを用意したならば、ウエーハ10の裏面10bをダイシングテープTに貼着すると共に、ウエーハ10をフレームFの開口Faの中央に位置付けて、ダイシングテープTにフレームFを貼着し、ダイシングテープTを介してウエーハ10をフレームFで支持する。
(Wafer support process)
After completing the cutting process described above, the wafer supporting process is performed. The wafer support process will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. As shown in FIG. 4, when performing the wafer supporting process, an annular frame F having an opening Fa large enough to accommodate the
本実施形態では、さらに、図5に示すように、ウエーハ10を囲繞する環状の側壁をなすリング部材80を用意する。このリング部材80は、たとえば、スポンジやウレタン等の柔軟性のある発泡性の樹脂部材から構成することができる。図5に示すように、リング部材80は、ウエーハ10よりも大きな内径で形成され、ダイシングテープT上に、ウエーハ10を囲繞するように配設される。ダイシングテープT上に配設されるリング部材80の厚さ(高さ)は、ウエーハ10の表面10a側に敷設されたポリエチレンシート30の表面高さよりも高くなるように、たとえば6mm程度の厚さで設定される。なお、このリング部材80は、フレームFの開口Faよりも僅かに大きな径として、フレームF上に配設することもできる。以上により、ウエーハ支持工程が完了する。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 5, a
ウエーハ支持工程が完了したならば、次いで、ウエーハ10を個々のデバイス12に分割する分割工程を実施する。図6を参照しながら、分割工程について説明する。
Once the wafer support process is completed, a division process is then performed to divide the
図6(a)に示すように、分割工程は、たとえば、スピンドルユニット91を備えた切削装置90(装置全体の図示は省略する。)により実行される。スピンドルユニット91は、回転スピンドル92の先端部に固定された切削ブレード93を保持するスピンドルハウジング94を備えている。スピンドルハウジング94には、切削ブレード93に隣接する位置に切削水供給手段95が配設されており、切削水WTをリング部材80の内側に向けて供給することが可能に構成されている。本実施形態では、ウエーハ10を囲繞して環状の側壁をなすリング部材80が配設されており、上記した切削水供給手段95からリング部材80内側に切削水WTを供給することにより、図6(b)に一部を拡大した側面図として示すように、リング部材80内に切削水WTを満たすプールを形成する。当該プールの水深は、切削水WTが供給された場合にウエーハ10に熱圧着されたポリエチレンシート30が、完全に水没する深さになるように設定されている。高速回転させられる切削ブレード93を、切削装置90の該プール内にて支持されたウエーハ10に対して下降させて切り込ませ、ウエーハ10を切削ブレード93に対して矢印Xで示す加工送り方向に移動させることで、分割予定ライン14に沿ってポリエチレンシート30と共にウエーハ10を完全に分割する深さで、所定の溝幅(例えば、50μm)の分離溝100を形成する。ウエーハ10を、切削ブレード93に対して適宜移動させることで、ウエーハ10の全ての分割予定ライン14に沿って分離溝100を形成し、個々のデバイス12に分割する。以上により、分割工程が完了する。
As shown in FIG. 6(a), the dividing step is performed, for example, by a cutting device 90 (illustration of the entire device is omitted) provided with a
上記分割工程では、表面10a側にポリエチレンシート30が貼着されたウエーハ10が、リング部材80内に形成されるプールに完全に水没した状態で切削ブレード93によって切削される。これにより、ガラス基板を綺麗に切削するためのケモメカニカル効果が得られる状態で切削することができると共に、切削水供給手段95から供給された切削水の勢いが、プールに貯留される切削水WTによって抑えられた状態で切削するため、高速で回転する切削ブレード93によって切削しても、ポリエチレンシート30が剥離することなくウエーハ10を綺麗に分割することができる。さらに、切削水供給手段95によって供給される切削水WTの量は、切削時の切削ブレード93の回転に伴ってリング部材80の外に掃き出された切削水WTを補給するものであるから、リング部材80によってプールを形成せずに、切削部位に切削水を集中して供給する場合の切削水の供給量に比べ、大きく削減することが可能になる。また、リング部材80は、柔軟性のある発泡性の樹脂(たとえば、スポンジ、ウレタン等)で構成されていることから、仮に切削ブレード93が触れても切削ブレード93の刃が欠ける等の問題が生じることもなく、好都合である。
In the dividing step, the
(シート剥離工程)
上記したように、分割工程が完了したならば、次いで、シート剥離工程を実施する。図7を参照しながら、個々のデバイス12の表面10aからポリエチレンシート30を剥離するシート剥離工程について説明する。
(Sheet peeling process)
As described above, when the dividing process is completed, the sheet peeling process is then performed. A sheet peeling process for peeling the
シート剥離工程を実施する際には、まず、図7(a)に示すように、リング部材80をダイシングテープT上から取り除く。ダイシングテープT上からリング部材80を取り除き、乾燥工程等により水分を除去したならば、図7(b)に示すように、ポリエチレンシート30が貼着されたウエーハ10の上面に幅広の粘着テープ32を貼り付け、ウエーハ10の上面からポリエチレンシート30を剥離する。ポリエチレンシート30は、上記した分割工程において、デバイス12と共に小片に分割されており、図に示すような幅広の粘着テープ32を使用することで、一気に剥離させることができる。また、ポリエチレンシート30は、糊剤等による粘着層を備えず、熱圧着によってウエーハ10の表面10aに敷設されているものであるため、ポリエチレンシート30をウエーハ10の表面10aから剥離しても、金属パターンを剥離したり、破損したりしてデバイス12の品質を低下させることが抑制される。なお、ポリエチレンシート30をウエーハ10から剥離する際に、ポリエチレンシート30に対し若干の加熱、或いは冷却を加えることで、より剥離しやすくすることができる。
When performing the sheet peeling process, first, the
上記した実施形態では、シート圧着工程においてウエーハ10の表面10aに熱圧着するシートとして、ポリオレフィン系シートの中からポリエチレンシート30を選択したが、本発明はこれに限定されず、糊剤等の粘着層を備えなくても熱圧着によってウエーハ10に敷設することが可能なシートであれば、他のシートを選択することができる。例えば、ポリオレフィン系シートであれば、ポリプロピレン(PP)シート、ポリスチレン(PS)シートのいずれかから選択してもよい。また、糊剤等の粘着層を備えなくても熱圧着によってウエーハ10に敷設することが可能なシートとしては、ポリエステル系シートから選択することもできる。本実施形態のポリエチレンシート30に替えて適用可能なポリエステル系シートとしては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート(PET)シート、ポリエチレンナフタレート(PEN)シートのいずれかから選択してもよい。
In the above-described embodiment, the
上記した実施形態では、シート圧着工程における加熱温度をポリエチレンシート30の融点近傍の120~140℃の範囲になるように設定したが、本発明はこれに限定されず、熱圧着されるシートの種類に応じて加熱温度を設定することが好ましい。例えば、ポリオレフィン系シートとしてポリプロピレンシートを選択した場合は、加熱温度を融点近傍の160~180℃に設定することが好ましい。また、ポリオレフィン系シートとしてポリスチレンシートを選択した場合は、加熱温度を融点近傍の220~240℃に設定することが好ましい。さらに、熱圧着されるポリエステル系シートとしてポリエチレンテレフタレートシートを選択した場合は、加熱温度を融点近傍の250~270℃に設定することが好ましい。また、ポリエステル系シートとしてポリエチレンナフタレートシートを選択した場合は、加熱温度を融点近傍の220~240℃に設定することが好ましい。さらに、該加熱温度は、各融点近傍の温度に限定されず、該融点近傍の温度よりも50℃程度低い温度範囲の温度を設定してもよい。
In the above-described embodiment, the heating temperature in the sheet crimping process is set to be in the range of 120 to 140° C. near the melting point of the
10:ウエーハ
12:デバイス
14:分割予定ライン
20:チャックテーブル
20a:吸着チャック
20b:円形枠部
30:ポリエチレンシート
40:熱風吹付け手段
50:赤外線照射手段
60:加熱ローラ手段
62:加熱ローラ
70:切断手段
72:ブレードカッター
80:リング部材
90:切削装置
91:スピンドルユニット
93:切削ブレード
100:分離溝
F:フレーム
T:ダイシングテープ
WT:切削水
10: Wafer 12: Device 14: Scheduled division line 20: Chuck table 20a:
Claims (6)
ポリオレフィン系又はポリエステル系の貼着面に粘着層を有しないシートをウエーハの表面に敷設して加熱することにより軟化し、該シートをウエーハの表面に直接熱圧着するシート圧着工程と、
ウエーハの裏面をダイシングテープで貼着すると共にウエーハを収容する開口を有する環状のフレームを該ダイシングテープに貼着するウエーハ支持工程と、
切削水を供給しながら環状の切り刃を外周に備えた切削ブレードを回転させウエーハの分割予定ラインに沿って該シートと共に切削して該ウエーハを個々のデバイスに分割する分割工程と、
デバイスの表面から該シートを剥離するシート剥離工程と、
から少なくとも構成されるウエーハの加工方法。 A wafer processing method for dividing a wafer in which a plurality of devices in which a metal pattern is arranged on the upper surface of a glass substrate are separated by a plurality of dividing lines into individual devices, comprising:
A sheet press-bonding step in which a polyolefin-based or polyester-based sheet having no adhesive layer on the sticking surface is laid on the surface of a wafer, softened by heating, and directly heat-pressed onto the surface of the wafer;
a wafer supporting step of adhering the back surface of the wafer with a dicing tape and adhering an annular frame having an opening for housing the wafer to the dicing tape;
a dividing step of rotating a cutting blade having an annular cutting edge on its outer periphery while supplying cutting water to cut the wafer together with the sheet along the dividing line of the wafer to divide the wafer into individual devices;
A sheet peeling step of peeling the sheet from the surface of the device;
A wafer processing method comprising at least:
該分割工程において、該プールに切削水を満たしウエーハを水没させる請求項1に記載のウエーハの加工方法。 In the wafer supporting step, a ring member forming an annular side wall surrounding the wafer is provided to form a pool for covering the surface of the wafer with water;
2. The method of processing a wafer according to claim 1, wherein in said dividing step, said pool is filled with cutting water and said wafer is submerged.
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