JP7206961B2 - 半導体製造装置の管理システム及びその方法 - Google Patents
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Description
本発明の一態様は、半導体製造装置のレシピを決定する、管理システムであって、1以上の記憶装置と、1以上のプロセッサと、を含み、前記1以上の記憶装置は、前記半導体製造装置の過去の処理の履歴情報を格納し、前記1以上のプロセッサは、前記半導体製造装置による次の処理における、特定対象の目標値を取得し、前記履歴情報及び前記目標値に基づき、推定モデルを含む1以上の関数を使用して前記半導体製造装置の前記次の処理のレシピを決定し、前記推定モデルの入力は前記半導体製造装置の前記次の処理のレシピ候補を含み、前記推定モデルの出力は前記特定対象の推定値を含む。
<概要>
説明の簡単化のため、繰り返し実行される成膜処理のレシピが同一とする例を説明する。図1は、比較例によるN回目の成膜処理の膜厚の推定を示す。比較例の推定モデルは、処理履歴情報を参照することなく、レシピから膜厚を推定する。つまり、推定モデルの入力は各回の成膜処理のレシピのみである。成膜装置の経時変化が存在する場合、同一レシピA(入力A)を用いても膜厚(出力)が変動する。したがって、比較例の推定モデルは、N回目の処理に拠る膜厚を正確に推定することができない。つまり、比較例は、目標A(膜厚A)となる入力Aを推定することができない。
実施形態2は、半導体製造装置のメンテナンスの要否を判定する。これにより、メンテナンスの回数を低減できる。例えば、半導体製造管理システム100は、探索により見つけられた最適レシピによる推定結果が、目標値からの許容範囲内に入っていない場合、メンテナンスが必要であると判定する。
実施形態3は、処理対象の基板変更の要否を判定する。これにより、必要な特性を満たしていない基板を新たな基板に適切に変更し、不要な工程数を低減できる。例えば、半導体製造管理システム100は、探索により見つけられた最適レシピによる推定結果が、目標値からの許容範囲内に入っていない場合、基板の変更が必要であると判定する。
実施形態1、2及び3の方法は、レシピ履歴情報を用いるため、膨大な計算量を必要し、計算の長時間化、計算機の処理能力不足が起こり得る。この対処として、変数(レシピの要素)を少なくする方法が考えられるが、それでは探索範囲が狭くなり、最適解の導出に影響が生じる可能性がある。従って、実施形態4、5及び6は、計算量を少なくする手法を説明する。
実施形態5は、計算量を少なくするために、経時変化に影響すると考えられる因子を推定モデルの入力値に加える。図35は、経時変化に影響すると考えられる因子を含む訓練データの入力データ811の例を示す。入力データ811は、実施形態1の訓練データ31の入力データ311に加えて、副生成物膜厚の欄を有する。
実施形態6は、推定モデル(関数)と経時変化関数を使用して半導体製造装置の次の処理のレシピを決定する。本実施形態は、実際の処理結果(訓練データの出力)を、経時変化関数により補正する。経時変化関数による補正は、半導体製造装置の経時変化に起因する成分を除去する。つまり、補正された処理結果は、半導体製造装置の経時変化がないと仮定した処理結果である。
D=g(t)
D_t1=g_a(t1)
D_t2=g_a(t2)
g_a(t)=D_a+f_a(t)
関数D_aは、経時変化に関わりなく、レシピaによって生じる欠陥密度を表す定数である。関数f_a(t)はレシピaの処理において経時変化によって生じる欠陥密度を表す。関数f_a(t)は経時変化関数である。
f_b(t)=cf_a(t)
即ち、gb(t)は
g_b(t)=D_b+f_b(t)=D_b+cf_a(t)
なお、D_bはレシピbによって生じる欠陥密度を表す定数である。
Claims (13)
- 半導体製造装置のレシピを決定する、管理システムであって、
1以上の記憶装置と、
1以上のプロセッサと、を含み、
前記半導体製造装置は、SiC基板上にエピタキシャル成長でSiCを成膜し、
前記1以上の記憶装置は、前記半導体製造装置の過去の成膜処理の履歴情報を格納し、
前記1以上のプロセッサは、
前記半導体製造装置による次の成膜処理における、生成膜の特性の目標値を取得し、
前記履歴情報及び前記目標値に基づき、推定モデルを含む1以上の関数を使用して前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピを決定し、
前記推定モデルの入力は前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピ候補を含み、前記推定モデルの出力は前記生成膜の特性の推定値を含み、
前記推定モデルの入力は、さらに、前記履歴情報を含み
前記履歴情報は、前記半導体製造装置のレシピの履歴及び前記半導体製造装置に対して実行されたメンテナンスについての情報を含み、
前記入力は、前記次の成膜処理の前に前記半導体製造装置に対して実行すべきメンテナンスを含み、
前記1以上のプロセッサは、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスが存在する場合、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスを示すメッセージを出力デバイスに出力し、
前記1以上のプロセッサは、前記推定モデルの前記推定値が前記目標値から許容範囲内にあるレシピ候補を、前記次の成膜処理のレシピと決定する、管理システム。 - 半導体製造装置のレシピを決定する、管理システムであって、
1以上の記憶装置と、
1以上のプロセッサと、を含み、
前記半導体製造装置は、SiC基板上にエピタキシャル成長でSiCを成膜し、
前記1以上の記憶装置は、前記半導体製造装置の過去の成膜処理の履歴情報を格納し、
前記1以上のプロセッサは、
前記半導体製造装置による次の成膜処理における、生成膜の特性の目標値を取得し、
前記履歴情報及び前記目標値に基づき、推定モデルを含む1以上の関数を使用して前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピを決定し、
前記推定モデルの入力は前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピ候補を含み、前記推定モデルの出力は前記生成膜の特性の推定値を含み、
前記推定モデルの入力は、さらに、前記履歴情報を含み
前記履歴情報は、前記半導体製造装置のレシピの履歴及び前記半導体製造装置に対して実行されたメンテナンスについての情報を含み、
前記入力は、前記次の成膜処理の前に前記半導体製造装置に対して実行すべきメンテナンスを含み、
前記1以上のプロセッサは、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスが存在する場合、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスを示すメッセージを出力デバイスに出力し、
前記履歴情報は、前記半導体製造装置による過去の成膜処理における累積値を含み、
前記累積値は、前記半導体製造装置内の副生成物の膜厚である、管理システム。 - 半導体製造装置のレシピを決定する、管理システムであって、
1以上の記憶装置と、
1以上のプロセッサと、を含み、
前記半導体製造装置は、SiC基板上にエピタキシャル成長でSiCを成膜し、
前記1以上の記憶装置は、前記半導体製造装置の過去の成膜処理の履歴情報を格納し、
前記1以上のプロセッサは、
前記半導体製造装置による次の成膜処理における、生成膜の特性の目標値を取得し、
前記履歴情報及び前記目標値に基づき、推定モデルを含む1以上の関数を使用して前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピを決定し、
前記推定モデルの入力は前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピ候補を含み、前記推定モデルの出力は前記生成膜の特性の推定値を含み、
前記推定モデルの入力は、さらに、前記履歴情報を含み
前記履歴情報は、前記半導体製造装置のレシピの履歴及び前記半導体製造装置に対して実行されたメンテナンスについての情報を含み、
前記入力は、前記次の成膜処理の前に前記半導体製造装置に対して実行すべきメンテナンスを含み、
前記1以上のプロセッサは、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスが存在する場合、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスを示すメッセージを出力デバイスに出力し、
前記1以上の関数は、前記半導体製造装置の経時変化を示す経時変化関数を含み、前記経時変化関数は、前記履歴情報に基づき構成され、
前記1以上のプロセッサは、前記経時変化関数により前記目標値及び/又は前記推定値を補正した後に前記目標値と前記推定値との比較を行い、前記比較の結果に基づいて前記レシピを決定する、管理システム。 - 請求項1又は3に記載の管理システムであって、
前記履歴情報は、前記半導体製造装置による過去の成膜処理における累積値を含む、管理システム。 - 請求項4に記載の管理システムであって、
前記累積値は、前記半導体製造装置による過去の成膜処理のレシピ要素又は処理生成物の累積値である、管理システム。 - 請求項1、2又は3に記載の管理システムであって、
前記推定モデルの入力は、さらに、前記次の成膜処理の対象物である基板の情報を含む、管理システム。 - 請求項1又は2に記載の管理システムであって、
前記1以上の関数は、前記半導体製造装置の経時変化を示す経時変化関数を含み、前記経時変化関数は、前記履歴情報に基づき構成され、
前記1以上のプロセッサは、前記経時変化関数の値と規定値との比較結果に基づき前記半導体製造装置のメンテナンスの要否を判定する、管理システム。 - 請求項3に記載の管理システムであって、
前記1以上のプロセッサは、前記経時変化関数の値と規定値との比較結果に基づき前記半導体製造装置のメンテナンスの要否を判定する、管理システム。 - 請求項1、2又は3に記載の管理システムであって、
前記半導体製造装置は、クラスタ装置に含まれる処理チャンバであり、
前記クラスタ装置は、前記生成膜の特性の実測値を得るための分析を行う分析チャンバをさらに含む、管理システム。 - 請求項1、2又は3に記載の管理システムであって、
前記半導体製造装置は、クラスタ装置に含まれる処理チャンバであり、
前記クラスタ装置は、前記処理チャンバにより処理された基板を再生する再生チャンバをさらに含む、管理システム。 - 管理システムが、半導体製造装置のレシピを決定する方法であって、
前記半導体製造装置は、SiC基板上にエピタキシャル成長でSiCを成膜し、
前記管理システムは、前記半導体製造装置の過去の成膜処理の履歴情報を格納し、
前記方法は、
前記管理システムが、前記半導体製造装置による次の成膜処理における、生成膜の特性の目標値を取得し、
前記管理システムが、前記履歴情報及び前記生成膜の特性の目標値に基づき、推定モデルを含む1以上の関数を使用して前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピを決定し、
前記推定モデルの入力は前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピ候補を含み、
前記推定モデルの出力は前記生成膜の特性の推定値を含み、
前記推定モデルの入力は、さらに、前記履歴情報を含み
前記履歴情報は、前記半導体製造装置のレシピの履歴及び前記半導体製造装置に対して実行されたメンテナンスについての情報を含み、
前記入力は、前記次の成膜処理の前に前記半導体製造装置に対して実行すべきメンテナンスを含み、
前記方法は、
前記管理システムが、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスが存在する場合、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスを示すメッセージを出力デバイスに出力し、
前記管理システムが、前記推定モデルの前記推定値が前記目標値から許容範囲内にあるレシピ候補を、前記次の処理のレシピと決定する、方法。 - 管理システムが、半導体製造装置のレシピを決定する方法であって、
前記半導体製造装置は、SiC基板上にエピタキシャル成長でSiCを成膜し、
前記管理システムは、前記半導体製造装置の過去の成膜処理の履歴情報を格納し、
前記方法は、
前記管理システムが、前記半導体製造装置による次の成膜処理における、生成膜の特性の目標値を取得し、
前記管理システムが、前記履歴情報及び前記生成膜の特性の目標値に基づき、推定モデルを含む1以上の関数を使用して前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピを決定し、
前記推定モデルの入力は前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピ候補を含み、
前記推定モデルの出力は前記生成膜の特性の推定値を含み、
前記推定モデルの入力は、さらに、前記履歴情報を含み
前記履歴情報は、前記半導体製造装置のレシピの履歴及び前記半導体製造装置に対して実行されたメンテナンスについての情報を含み、
前記入力は、前記次の成膜処理の前に前記半導体製造装置に対して実行すべきメンテナンスを含み、
前記方法は、前記管理システムが、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスが存在する場合、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスを示すメッセージを出力デバイスに出力し、
前記履歴情報は、前記半導体製造装置による過去の成膜処理における累積値を含み、
前記累積値は、前記半導体製造装置内の副生成物の膜厚である、方法。 - 管理システムが、半導体製造装置のレシピを決定する方法であって、
前記半導体製造装置は、SiC基板上にエピタキシャル成長でSiCを成膜し、
前記管理システムは、前記半導体製造装置の過去の成膜処理の履歴情報を格納し、
前記方法は、
前記管理システムが、前記半導体製造装置による次の成膜処理における、生成膜の特性の目標値を取得し、
前記管理システムが、前記履歴情報及び前記生成膜の特性の目標値に基づき、推定モデルを含む1以上の関数を使用して前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピを決定し、
前記推定モデルの入力は前記半導体製造装置の前記次の成膜処理のレシピ候補を含み、
前記推定モデルの出力は前記生成膜の特性の推定値を含み、
前記推定モデルの入力は、さらに、前記履歴情報を含み
前記履歴情報は、前記半導体製造装置のレシピの履歴及び前記半導体製造装置に対して実行されたメンテナンスについての情報を含み、
前記入力は、前記次の成膜処理の前に前記半導体製造装置に対して実行すべきメンテナンスを含み、
前記方法は、前記管理システムが、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスが存在する場合、前記次の成膜処理の前に実行すべきメンテナンスを示すメッセージを出力デバイスに出力し、
前記1以上の関数は、前記半導体製造装置の経時変化を示す経時変化関数を含み、前記経時変化関数は、前記履歴情報に基づき構成され、
前記方法は、前記管理システムが、前記経時変化関数により前記目標値及び/又は前記推定値を補正した後に前記目標値と前記推定値との比較を行い、前記比較の結果に基づいて前記レシピを決定する、方法。
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Citations (3)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002312014A (ja) | 2001-04-09 | 2002-10-25 | Hitachi Ltd | 加工物の製造方法、製造装置及び製造用プログラム |
US20030216827A1 (en) | 2002-05-17 | 2003-11-20 | Micron Technology, Inc. | Synthesizing semiconductor process flow models |
JP2009543355A (ja) | 2006-07-03 | 2009-12-03 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 進歩型フロントエンド処理のためのクラスターツール |
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