JP7206736B2 - Measuring device and measuring method - Google Patents

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Description

本発明は、計測装置および計測方法に関する。 The present invention relates to a measuring device and a measuring method.

特許文献1には、面状に並ぶように配置され、発光面から正面側に向かって光を放射する複数の発光パネルと、複数の発光パネルのうちの隣り合う発光パネルの外縁に沿って延在するように位置し、発光面から放射された光の一部を正面側に向けて反射する反射面を有する光量補正部材と、複数の発光パネルおよび光量補正部材に間隔を隔ててこれらと対向するように配置され、発光面から放射された光および反射面に反射した光を拡散させる光拡散部材と、を備え、反射面は、発光面の側から発光パネルの外縁の側に向かうにつれて発光面から遠ざかる方向に延びる形状を有し、反射面は、第1反射領域と、第1反射領域に比べて発光面の近くに位置しかつ第1反射領域の反射率よりも高い反射率を有する第2反射領域と、を含む、面発光ユニットが開示されている。 In Patent Document 1, a plurality of light-emitting panels that are arranged in a plane and emit light from a light-emitting surface toward the front side, and a light-emitting panel extending along the outer edge of the adjacent light-emitting panel among the plurality of light-emitting panels. a light amount correction member having a reflecting surface that reflects part of the light emitted from the light emitting surface toward the front side, and a plurality of light emitting panels and the light amount correction member that face the plurality of light emitting panels and the light amount correction member with a gap therebetween. and a light diffusing member that diffuses the light emitted from the light emitting surface and the light reflected by the reflecting surface, and the reflecting surface emits light from the light emitting surface toward the outer edge of the light emitting panel. The reflective surface has a shape extending in a direction away from the surface, and the reflective surface has a first reflective area and a reflectance that is located closer to the light emitting surface than the first reflective area and has a higher reflectance than the first reflective area. A surface emitting unit is disclosed that includes a second reflective area.

特許文献2には、2枚の透明基板の間に液晶層を挟持してなる液晶表示素子と、液晶表示素子を背面から照明するバックライトおよび液晶表示素子とバックライトの間に設置した光拡散板を備え、バックライトが、出光面の反対側に反射率向上のためのドット印刷パターンを有する透明な板体で形成した導光板と、この導光板の少なくとも1辺に沿って設置した線状ランプと、導光板の背面に設置した反射板を有し、導光板のドット印刷パターンを有彩色としたことを特徴とする液晶表示装置が開示されている。 Patent Document 2 discloses a liquid crystal display element having a liquid crystal layer sandwiched between two transparent substrates, a backlight for illuminating the liquid crystal display element from behind, and a light diffusion device provided between the liquid crystal display element and the backlight. A light guide plate comprising a plate, wherein the backlight is formed of a transparent plate having a dot print pattern for improving reflectance on the opposite side of the light emitting surface, and a linear light guide plate provided along at least one side of the light guide plate A liquid crystal display device is disclosed which has a lamp and a reflector placed on the back of a light guide plate, and is characterized in that the dot print pattern of the light guide plate is a chromatic color.

特許文献3には、農産物に対して光を照射する投光手段と、該投光手段から照射されて農産物を透過または反射した検出光を導く第1導光手段と、投光手段から照射される光を参照光として導くとともに、第1導光手段と光軸が異なる第2導光手段と、第1導光手段で導かれた検出光または第2導光手段で導かれた参照光を任意選択的に通過させまたは遮光する選択手段と、該選択手段により通過した検出光を分析または参照光により校正される分光分析手段と、を具備し、分光分析手段による検出光の分析に基づき農産物の内部品質を測定し得る農産物の内部品質測定装置において、選択手段は、第2導光手段で導かれた参照光を内部で拡散反射させつつ第1導光手段の光軸まで導く拡散板を備えたことを特徴とする農産物の内部品質測定装置が開示されている。 In Patent Document 3, a light projecting means for irradiating light onto agricultural products, a first light guide means for guiding detection light emitted from the light projecting means and transmitted or reflected by the agricultural products, and light emitted from the light projecting means The second light guiding means having an optical axis different from that of the first light guiding means and the detection light guided by the first light guiding means or the reference light guided by the second light guiding means are guided as reference light. Selecting means for optionally passing or shielding, and spectroscopic analysis means for analyzing or calibrating the detected light passed by the selecting means with reference light, In the apparatus for measuring the internal quality of agricultural products capable of measuring the internal quality of agricultural products, the selection means includes a diffusion plate that guides the reference light guided by the second light guide means to the optical axis of the first light guide means while diffusely reflecting the reference light inside. An apparatus for measuring the internal quality of produce is disclosed, comprising:

特開2014-203675号公報JP 2014-203675 A 特開2000-321570号公報JP-A-2000-321570 特開2008-298466号公報JP 2008-298466 A

本発明の課題は、テレセントリック光学系を用いた計測装置において、レンズと対象物との間に散乱手段を配置しない場合と比較して、受光素子で受光される光量の抜け漏れを抑制することが可能な計測装置および計測方法を提供することである。 An object of the present invention is to suppress omission and leakage of the amount of light received by a light receiving element in a measurement apparatus using a telecentric optical system, compared to a case in which no scattering means is arranged between a lens and an object. It is to provide a possible measuring device and measuring method.

上記目的を達成するために、第1の態様の計測装置は、対象物へ照射する照射光を発光する発光部と、前記発光部から発光された前記照射光の発散度合いを変える第1のレンズと、前記第1のレンズから出射された前記照射光を絞る絞り部と、前記絞り部を通過した前記照射光を前記対象物の予め定められた方向から照射するように集光する第2のレンズと、前記絞り部と前記第2のレンズとの間に配置されかつ前記照射光が前記対象物に照射されて反射した反射光を受光する受光部と、前記第2のレンズと前記対象物との間に配置されかつ前記照射光および前記反射光を散乱させる散乱手段と、を含み、前記照射光は前記散乱手段で散乱されて前記対象物に照射され、前記反射光は前記散乱手段で散乱されて前記受光部で受光されるものである。 In order to achieve the above object, a measuring device according to a first aspect includes a light emitting unit that emits irradiation light to irradiate an object, and a first lens that changes the degree of divergence of the irradiation light emitted from the light emitting unit. a diaphragm for narrowing the irradiation light emitted from the first lens; and a second lens for condensing the irradiation light that has passed through the diaphragm so as to irradiate the object from a predetermined direction. a lens, a light-receiving unit arranged between the aperture unit and the second lens for receiving reflected light reflected by the object when the irradiation light is irradiated, the second lens and the object and scattering means for scattering the irradiation light and the reflected light, wherein the irradiation light is scattered by the scattering means and irradiated to the object, and the reflected light is scattered by the scattering means The light is scattered and received by the light receiving section.

第2の態様の計測装置は、第1の態様の計測装置において、前記散乱手段が拡散板であるものである。 A measuring device according to a second aspect is the measuring device according to the first aspect, wherein the scattering means is a diffusion plate.

第3の態様の計測装置は、第1の態様または第2の態様の計測装置において、前記散乱手段は、前記対象物からの距離が、前記第2のレンズと前記対象物との間の距離の1/2以下となる位置に配置されたものである。 A measuring device according to a third aspect is the measuring device according to the first aspect or the second aspect, wherein the scattering means is such that the distance from the object is the distance between the second lens and the object. is arranged at a position that is less than or equal to 1/2 of .

第4の態様の計測装置は、第3の態様の計測装置において、前記散乱手段は、前記対象物からの距離が、前記第2のレンズと前記対象物との間の距離の1/10以上となる位置に配置されたものである。 A measuring device according to a fourth aspect is the measuring device according to the third aspect, wherein the scattering means has a distance from the object that is 1/10 or more of the distance between the second lens and the object. It is placed at a position where

第5の態様の計測装置は、第1の態様または第2の態様の計測装置において、前記散乱手段は前記第2のレンズの前記対象物側の面に形成されているものである。 A measuring device according to a fifth aspect is the measuring device according to the first aspect or the second aspect, wherein the scattering means is formed on the object-side surface of the second lens.

第6の態様の計測装置は、第5の態様の計測装置において、前記散乱手段は前記第2のレンズと一体として形成されているものである。 A measuring device according to a sixth aspect is the measuring device according to the fifth aspect, wherein the scattering means is formed integrally with the second lens.

第7の態様の計測装置は、第1の態様から第4の態様のいずれかの態様の計測装置において、前記散乱手段を前記第2のレンズの光軸方向の異なる複数の位置に保持可能な保持手段をさらに含むものである。 A measuring device according to a seventh aspect is the measuring device according to any one of the first aspect to the fourth aspect, wherein the scattering means can be held at a plurality of different positions in the optical axis direction of the second lens. Further including retaining means.

第8の態様の計測装置は、第1の態様からは第4の態様、および第7の態様のいずれかの態様の計測装置において、前記散乱手段を前記第2のレンズの光軸方向に沿って移動させる移動手段をさらに備えたものである。 A measuring device according to an eighth aspect is the measuring device according to any one of the first aspect to the fourth aspect and the seventh aspect, wherein the scattering means is arranged along the optical axis direction of the second lens. It is further provided with a moving means for moving by pressing.

第9の態様の計測装置は、第1の態様からは第4の態様、第7の態様および第8の態様のいずれかの態様の計測装置において、前記散乱手段を前記第2のレンズと前記対象物との間から抜去させる抜去手段をさらに備えたものである。 A measuring device according to a ninth aspect is the measuring device according to any one of the first aspect to the fourth aspect, the seventh aspect, and the eighth aspect, wherein the scattering means is the second lens and the It further comprises an extracting means for extracting from between the object.

第10の態様の計測装置は、第1の態様から第9の態様のいずれかの態様の計測装置において、前記受光部の受光面と前記第2のレンズとの距離が前記第2のレンズの焦点距離と等しくされたものである。 A measuring device according to a tenth aspect is the measuring device according to any one of the first to ninth aspects, wherein the distance between the light receiving surface of the light receiving unit and the second lens is the distance of the second lens. It is made equal to the focal length.

第11の態様の計測装置は、第10の態様の計測装置において、前記第1のレンズと前記絞り部との距離が前記第1のレンズの焦点距離と等しくされたものである。 A measuring device according to an eleventh aspect is the measuring device according to the tenth aspect, wherein the distance between the first lens and the diaphragm is equal to the focal length of the first lens.

上記目的を達成するために、第12の態様の計測方法は、対象物へ照射する照射光を発光する発光部、前記発光部から発光された前記照射光の発散度合いを変える第1のレンズ、前記第1のレンズから出射された前記照射光を絞る絞り部、前記絞り部を通過した前記照射光を前記対象物の予め定められた方向から照射するように集光する第2のレンズ、前記絞り部と前記第2のレンズとの間に配置されかつ前記照射光が前記対象物に照射されて反射した反射光を受光する受光部、および前記第2のレンズと前記対象物との間に配置されかつ前記照射光および前記反射光を散乱させる散乱手段と、を含む計測装置を用いた計測方法であって、前記照射光を前記散乱手段で散乱させて前記対象物に照射し、前記反射光を前記散乱手段で散乱させて前記受光部で受光させ、前記対象物の表面状態を計測するものである。 In order to achieve the above object, a measurement method according to a twelfth aspect includes a light emitting unit that emits irradiation light to irradiate an object, a first lens that changes the degree of divergence of the irradiation light emitted from the light emitting unit, a diaphragm that narrows down the irradiation light emitted from the first lens; a second lens that collects the irradiation light that has passed through the diaphragm so as to irradiate the object from a predetermined direction; a light-receiving unit disposed between the aperture unit and the second lens and receiving reflected light reflected by the irradiation light applied to the object; and between the second lens and the object. A measurement method using a measuring device including a scattering means disposed and arranged to scatter the irradiation light and the reflected light, wherein the irradiation light is scattered by the scattering means and irradiated onto the object, and the reflected light is irradiated to the object. The light is scattered by the scattering means and received by the light receiving section to measure the surface state of the object.

第13の態様の計測方法は、第12の態様の計測方法において、前記対象物に応じて前記散乱手段を変えて前記対象物の表面状態を計測するものである。 A measuring method according to a thirteenth aspect is the measuring method according to the twelfth aspect, wherein the surface state of the object is measured by changing the scattering means according to the object.

第14の態様の計測装置は、第13の態様の計測装置において、各々異なる前記散乱手段を含む前記計測装置を複数備えさせ、前記対象物に応じて複数の前記計測装置のいずれかを選択して計測するものである。 A measuring device according to a fourteenth aspect is the measuring device according to the thirteenth aspect, wherein a plurality of measuring devices each including the different scattering means are provided, and one of the plurality of measuring devices is selected according to the object. It is measured by

第15の態様の計測装置は、第14の態様の計測装置において、複数の前記計測装置のうちの1台は前記散乱手段を含まないものである。 A measuring device according to a fifteenth aspect is the measuring device according to the fourteenth aspect, wherein one of the plurality of measuring devices does not include the scattering means.

第1の態様の計測装置、および第12の態様の計測方法によれば、テレセントリック光学系を用いた計測装置において、レンズと対象物との間に散乱手段を配置しない場合と比較して、受光素子で受光される光量の抜け漏れを抑制することが可能な計測装置および計測方法が提供される、という効果が得られる。 According to the measurement device of the first aspect and the measurement method of the twelfth aspect, in the measurement device using the telecentric optical system, compared with the case where the scattering means is not arranged between the lens and the object, It is possible to obtain the effect of providing a measuring device and a measuring method capable of suppressing omission or leakage of the amount of light received by the element.

第2の態様の計測装置によれば、散乱手段が拡散板以外のものである場合と比較して、所望の散乱角度の散乱光が容易に得られる、という効果が得られる。 According to the measuring device of the second aspect, compared with the case where the scattering means is something other than the diffusion plate, it is possible to obtain the effect that the scattered light with the desired scattering angle can be easily obtained.

第3の態様の計測装置によれば、散乱手段を、対象物からの距離が、第2のレンズと対象物との間の距離の1/2を越える位置に配置させる場合と比較して、散乱光の広がり角度が過剰となることが抑制される、という効果が得られる。 According to the measurement device of the third aspect, compared to the case where the scattering means is arranged at a position where the distance from the object exceeds 1/2 of the distance between the second lens and the object, It is possible to obtain the effect of suppressing the divergence angle of the scattered light from becoming excessive.

第4の態様の計測装置によれば、散乱手段を、対象物からの距離が、第2のレンズと対象物との間の距離の1/10未満となる位置に配置させる場合と比較して、所望の散乱効果が得られないことが抑制される、という効果が得られる。 According to the measurement device of the fourth aspect, compared to the case where the scattering means is arranged at a position where the distance from the object is less than 1/10 of the distance between the second lens and the object , it is possible to prevent the desired scattering effect from being obtained.

第5態様の計測装置によれば、散乱手段を第2のレンズとは独立させて設ける場合と比較して、散乱手段の取り扱いが容易である、という効果が得られる。 According to the measuring device of the fifth mode, compared with the case where the scattering means is provided independently of the second lens, the effect of facilitating the handling of the scattering means can be obtained.

第6の態様の計測装置によれば、散乱手段が第2のレンズと別体で形成されている場合と比較して、散乱手段の製造が容易である、という効果が得られる。 According to the measuring device of the sixth aspect, it is possible to obtain the effect that the scattering means is easier to manufacture than when the scattering means is formed separately from the second lens.

第7の態様の計測装置によれば、散乱手段を第2のレンズの光軸方向の異なる複数の位置に保持可能な保持手段を含まない場合と比較して、散乱手段の光軸方向の位置の調整が容易に行われる、という効果が得られる。 According to the measuring device of the seventh aspect, the position of the scattering means in the optical axis direction is higher than the case where the holding means capable of holding the scattering means at a plurality of positions different in the optical axis direction of the second lens is not included. can be easily adjusted.

第8の態様の計測装置によれば、散乱手段を第2のレンズの光軸方向に沿って移動させる移動手段を備えない場合と比較して、散乱手段の光軸方向の位置の微調整が容易に行われる、という効果が得られる。 According to the measuring device of the eighth aspect, fine adjustment of the position of the scattering means in the direction of the optical axis is possible compared to the case where the moving means for moving the scattering means along the optical axis direction of the second lens is not provided. The effect of being easily performed is obtained.

第9の態様の計測装置によれば、散乱手段を第2のレンズと対象物との間から抜去させる抜去手段を備えない場合と比較して、対象物における反射光の正反射の程度に応じた計測が可能になる、という効果が得られる。 According to the measuring device of the ninth aspect, compared with the case where the removing means for removing the scattering means from between the second lens and the object is not provided, the degree of specular reflection of the reflected light from the object It is possible to obtain the effect of making it possible to measure

第10の態様の計測装置によれば、受光部の受光面と第2のレンズとの距離を第2のレンズの焦点距離と等しくさせない場合と比較して、光学系が片側テレセントリック光学系とされる、という効果が得られる。 According to the measuring device of the tenth aspect, the optical system is a one-side telecentric optical system, compared to the case where the distance between the light receiving surface of the light receiving unit and the second lens is not equal to the focal length of the second lens. You can get the effect of

第11の態様の計測装置によれば、第1のレンズと絞り部との距離を第1のレンズの焦点距離と等しくさせない場合と比較して、光学系が両側テレセントリック光学系とされる、という効果が得られる。 According to the measuring device of the eleventh aspect, the optical system is a double-telecentric optical system, compared to the case where the distance between the first lens and the diaphragm is not equal to the focal length of the first lens. effect is obtained.

第13の態様の計測装置によれば、対象物が変わっても散乱手段を変えないで対象物の表面状態を計測する場合と比較して、対象物の表面状態に応じた散乱の程度が選択される、という効果が得られる。 According to the measuring device of the thirteenth aspect, the degree of scattering is selected according to the surface state of the object, compared to the case where the surface state of the object is measured without changing the scattering means even if the object changes. It is possible to obtain the effect of

第14の態様の計測装置によれば、対象物が変わっても固定された散乱手段を含む計測装置で計測する場合と比較して、対象物の表面状態に応じた計測装置が選択される、という効果が得られる。 According to the measuring device of the fourteenth aspect, the measuring device is selected according to the surface state of the object, compared to the case of measuring with a measuring device including a fixed scattering means even if the object changes. effect is obtained.

第15の態様の計測装置によれば、複数の計測装置のすべてが散乱手段を含む場合と比較して、散乱手段のない場合の反射光が容易に確認される、という効果が得られる。 According to the measuring device of the fifteenth aspect, it is possible to obtain the effect that the reflected light without the scattering means can be easily confirmed as compared with the case where all of the plurality of measuring devices include the scattering means.

第1の実施の形態に係る計測装置の構成の一例を示す側面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a side view which shows an example of a structure of the measuring device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る計測装置の、拡散板がない場合の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation|movement when there is no diffusion plate of the measuring device which concerns on 1st Embodiment. (a)は第1の実施の形態に係る計測装置の計測原理について説明する図、(b)は受光素子の出力分布の比較について説明する図である。(a) is a diagram for explaining the measurement principle of the measurement apparatus according to the first embodiment, and (b) is a diagram for explaining a comparison of output distributions of light receiving elements. 第1の実施の形態に係る計測装置の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation|movement of the measuring device which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係る計測装置の、拡散板の位置について説明する図である。It is a figure explaining the position of the diffusion plate of the measuring device concerning a 1st embodiment. 第1の実施の形態に係る計測装置の、拡散板の配置について説明する図である。It is a figure explaining arrangement|positioning of the diffusion plate of the measuring device which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施の形態に係る計測装置の構成の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of a structure of the measuring device which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施の形態の変形例に係る計測装置の構成の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of a structure of the measuring device based on the modification of 2nd Embodiment. 比較例に係る計測装置の特性について説明する図である。It is a figure explaining the characteristic of the measuring device concerning a comparative example.

以下、図面を参照し、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

[第1の実施の形態]
図1から図6を参照して、本実施の形態に係る計測装置および計測方法について詳細に説明する。まず、図1を参照して、本実施の形態に係る計測装置10の構成の一例について説明する。図1は、計測装置10により対象物の計測を行う場合の構成を示している。
[First embodiment]
A measuring apparatus and a measuring method according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 6. FIG. First, with reference to FIG. 1, an example of the configuration of a measurement device 10 according to this embodiment will be described. FIG. 1 shows a configuration for measuring an object using a measuring device 10. As shown in FIG.

図1に示すように、計測装置10は、発光器14、光学系30、受光器18、拡散板60および制御部20を含んで構成されている。計測装置10は、-X方向に移動する対象物OBの微細領域にZ軸方向から順次光を照射し、各照射光に対する反射光の反射角度分布(光量分布の反射角度依存性)を取得する。取得した反射角度分布を用い、対象物OBの形状の変化や表面状態(シボ、エンボス、表面粗さ、表面欠陥、異物付着等)について、対象物OBとの距離や対象物OBの角度の変動に影響されずに計測がなされる。 As shown in FIG. 1, the measuring device 10 includes a light emitter 14, an optical system 30, a light receiver 18, a diffuser plate 60 and a controller 20. As shown in FIG. The measuring device 10 sequentially irradiates light from the Z-axis direction to a fine region of the object OB moving in the -X direction, and acquires the reflection angle distribution of the reflected light for each irradiation light (reflection angle dependence of the light amount distribution). . Using the acquired reflection angle distribution, changes in the shape of the object OB and surface conditions (texture, emboss, surface roughness, surface defects, adhesion of foreign matter, etc.) can be analyzed. Measurements are made without being affected by

より詳細には、図1に示すように、発光器14は、-X方向に移動する対象物OBが通過する計測領域Tに対して、装置上下方向(Z軸方向)の上方に配置されている。また、発光器14は、基板14A上Y軸方向に並べて実装され、-Z方向を発光方向とする複数の発光素子12を備えている。換言すれば、複数の発光素子12は、対象物OBの移動方向(-X方向)に対して直交(交差)する方向に並べられている。なお、図1では、基板14AのY軸方向の一端部(図中右端)に配置された発光素子12を発光素子12Aと表記し、基板14AのY軸方向他端部(図中左端)に配置された発光素子12を発光素子12Bと表記し、基板14Aの中央に配置された発光素子12を発光素子12Cと表記している。 More specifically, as shown in FIG. 1, the light emitter 14 is arranged above the measurement region T through which the object OB moving in the -X direction passes in the vertical direction of the apparatus (Z-axis direction). there is The light emitter 14 includes a plurality of light emitting elements 12 mounted side by side in the Y-axis direction on the substrate 14A and emitting light in the -Z direction. In other words, the plurality of light emitting elements 12 are arranged in a direction orthogonal (crossing) to the movement direction (−X direction) of the object OB. In FIG. 1, the light emitting element 12 arranged at one end of the substrate 14A in the Y-axis direction (right end in the drawing) is referred to as the light emitting element 12A, and the other end of the substrate 14A in the Y-axis direction (left end in the drawing) has a light emitting element 12A. The arranged light emitting element 12 is denoted as light emitting element 12B, and the light emitting element 12 arranged in the center of substrate 14A is denoted as light emitting element 12C.

本実施の形態に係る複数の発光素子12は、発光素子12Aから発光素子12Bまで、時間差を設けて順次発光されるように構成され、各発光素子12からの光が対象物OBの異なる位置に個別照射される。そして、対象物OBが計測領域Tにおいて-X方向に移動する間に、発光素子12Aから発光素子12Bまでの1周期の発光が複数回繰り返されるように構成されている。 The plurality of light emitting elements 12 according to the present embodiment are configured to sequentially emit light from the light emitting elements 12A to 12B with a time difference, and the light from each light emitting element 12 is directed to different positions on the object OB. Individually irradiated. While the object OB moves in the -X direction in the measurement area T, one cycle of light emission from the light emitting elements 12A to 12B is repeated multiple times.

発光素子12としては特に限定されないが、一例として、面発光レーザ(Vertical Cavity Surface Emitting Laser:VCSEL)、発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)等が用いられる。 Although the light emitting element 12 is not particularly limited, as an example, a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), a light emitting diode (LED), or the like is used.

光学系30は、レンズ32、レンズ34、およびレンズ32とレンズ34との間に配置された絞り40を含み、いわゆる両側テレセントリックレンズとして構成されている。光学系30は、発光器14と対象物OBとの間に配置され、発光素子12から発光された照射光を対象物OBに導くとともに、対象物OBで反射された反射光を受光器18に導く。
つまり、受光器18は、レンズ34から出射された発光素子12からの照射光が対象物OBで反射し、再度レンズ34を透過した光束の少なくとも一部を受光するように構成されている。また、本実施の形態では、レンズ32の光軸とレンズ34の光軸とが共通の光軸Mとされ、この光軸Mが、発光器14の発光素子12Cの中心、および後述する絞り40の開口部42の中心を通っている。なお、本実施の形態では、光学系30を両側テレセントリックレンズとして構成する形態を例示して説明するが、これに限られず、レンズ32側およびレンズ34側のいずれか一方をテレセントリックレンズとする片側テレセントリックレンズとして構成する形態としてもよい。
The optical system 30 includes a lens 32, a lens 34, and a diaphragm 40 arranged between the lenses 32 and 34, and is configured as a so-called double-telecentric lens. The optical system 30 is arranged between the light emitter 14 and the object OB, guides the irradiation light emitted from the light emitting element 12 to the object OB, and transmits the reflected light reflected by the object OB to the light receiver 18. lead.
In other words, the light receiver 18 is configured to receive at least part of the light flux that is emitted from the lens 34 and is reflected by the object OB and transmitted through the lens 34 again. Further, in this embodiment, the optical axis of the lens 32 and the optical axis of the lens 34 are a common optical axis M. through the center of the opening 42 of the . In the present embodiment, a form in which the optical system 30 is configured as a double-telecentric lens will be described as an example. However, the present invention is not limited to this. It may be configured as a lens.

レンズ32は、一例として平面視で円形状の平凸レンズとされ、レンズ32の直径は、発光素子12Aから発光素子12BまでのY軸方向の寸法より長くされている。そのため、各発光素子12から発光された光のほぼすべてはレンズ32を透過し、レンズ32を透過した光は発散度合を変えられ、平行光とされてレンズ34に向かう。 The lens 32 is, for example, a circular plano-convex lens in plan view, and the diameter of the lens 32 is longer than the dimension in the Y-axis direction from the light emitting element 12A to the light emitting element 12B. Therefore, almost all of the light emitted from each light emitting element 12 passes through the lens 32 , and the light that has passed through the lens 32 has its degree of divergence changed and is turned into parallel light and directed to the lens 34 .

レンズ34は、一例として平面視で円形状の平凸レンズとされ、本実施の形態では、レンズ34の直径は、レンズ32の直径より長くされている。そして、レンズ34は、レンズ32から出射されてレンズ34を透過する光束を対象物OBの表面200に向けて集光する。 The lens 34 is, for example, a circular plano-convex lens in plan view, and in the present embodiment, the diameter of the lens 34 is longer than the diameter of the lens 32 . Then, the lens 34 converges the light beam emitted from the lens 32 and transmitted through the lens 34 toward the surface 200 of the object OB.

絞り40には、略円形状の開口部42が形成されており、この開口部42によって、発光素子12から発光されレンズ32を透過してレンズ34に入射する光束を絞る。より具体的には、絞り40は、板面をX-Y平面に平行とされた板状とされ、開口部42によって形成される円形状は光軸Mを中心軸としている。そして、Z軸方向において、この開口部42とレンズ32との距離は、レンズ32の焦点距離と略等しくされ、開口部42とレンズ34との距離は、レンズ34の焦点距離と略等しくされている。なお、以上の、開口部42、レンズ32、およびレンズ34の配置と、レンズ32、34の焦点距離との関係は光学系30を両側テレセントリック光学系とするための条件である。しかしながら、この距離関係は要求されるテレセントリック光学系としての機能(性能)に応じて定めればよいもので、厳密性は要求されず、例えば焦点距離(焦点面)から±10%程度ずれたとしても問題とはならない。 A substantially circular opening 42 is formed in the diaphragm 40 , and this opening 42 narrows the light beam emitted from the light emitting element 12 and transmitted through the lens 32 to enter the lens 34 . More specifically, the diaphragm 40 has a plate-like shape with its plate surface parallel to the XY plane, and the circular shape formed by the aperture 42 has the optical axis M as its central axis. In the Z-axis direction, the distance between the opening 42 and the lens 32 is substantially equal to the focal length of the lens 32, and the distance between the opening 42 and the lens 34 is substantially equal to the focal length of the lens 34. there is The relationship between the arrangement of the aperture 42, the lens 32, and the lens 34 and the focal lengths of the lenses 32 and 34 is a condition for making the optical system 30 a double-telecentric optical system. However, this distance relationship should be determined according to the required function (performance) of the telecentric optical system, and strictness is not required. is not a problem either.

制御部20は、図示しないCPU、ROM、RAM等を含んで構成され、発光素子12の発光タイミングの制御や、受光素子16による受光光量の取り込みタイミングの制御等を行う。また、制御部20は、後述する拡散板60の移動における制御や、拡散板60の位置調整等の制御を行う場合もある。 The control unit 20 includes a CPU, ROM, RAM, etc. (not shown), and controls the timing of light emission by the light emitting element 12 and the timing of capturing the amount of light received by the light receiving element 16 . The control unit 20 may also control the movement of the diffusion plate 60, which will be described later, and the position adjustment of the diffusion plate 60 in some cases.

計測装置10はさらに拡散板60を備えている。図1に示すように、本実施の形態に係る拡散板60はレンズ34と対象物OBとの間に挿入、抜去がなされるように配置されている。すなわち、拡散板60は回転軸Cを中心に回転がなされるように構成されており、レンズ34と対象物OBとの間に出し入れが可能となるように構成されている。拡散板60の詳細については後述する。 The measurement device 10 further includes a diffuser plate 60 . As shown in FIG. 1, the diffusion plate 60 according to this embodiment is arranged so that it can be inserted and removed between the lens 34 and the object OB. That is, the diffuser plate 60 is configured to rotate around the rotation axis C, and is configured to be able to be put in and taken out between the lens 34 and the object OB. Details of the diffusion plate 60 will be described later.

次に、図2を参照して、計測装置10の動作について説明する。図2は発光器14からの照射光IFによる対象物OBへの光の照射、および対象物OBにおける反射光RFの受光素子16への入射を示している。なお、図2では、照射光IFおよび反射光RFについて容易に理解できるよう拡散板60の図示を省略している。発光器14に搭載された発光素子12は、一例として-Y方向に順次発光する。光学系30は順次発光された各発光素子12からの光束を、発光素子12の位置によらずに、細く絞られかつ光軸Mに平行な照射光IFとして+Y方向に順次対象物OBに照射する。図2(a)は、複数の発光素子12のうちの1番目の発光素子12が発光した状態を、図2(b)は、複数の発光素子12のうちの2番目の発光素子12が発光した状態を、図2(c)は、複数の発光素子12のうちのn番目の発光素子12が発光した状態を、各々示している。 Next, operation of the measuring device 10 will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows the illumination of the object OB with the illumination light IF from the light emitter 14 and the incidence of the reflected light RF from the object OB on the light receiving element 16 . In FIG. 2, illustration of the diffusion plate 60 is omitted so that the irradiation light IF and the reflected light RF can be easily understood. The light-emitting elements 12 mounted on the light-emitting device 14 sequentially emit light in the -Y direction, for example. The optical system 30 sequentially irradiates the object OB in the +Y direction with the luminous fluxes from the light emitting elements 12 that are sequentially emitted as irradiation light IF that is narrowed and parallel to the optical axis M regardless of the positions of the light emitting elements 12. do. 2A shows a state in which the first light emitting element 12 out of the plurality of light emitting elements 12 emits light, and FIG. 2B shows a state in which the second light emitting element 12 out of the plurality of light emitting elements 12 emits light. FIG. 2C shows the state in which the n-th light emitting element 12 among the plurality of light emitting elements 12 emits light.

図2(a)から(c)に示すように、各発光素子12を発光させて走査することにより、細く絞られ互いに平行な略円形の光束(スポット)が対象物OBに個別照射される。さらに、本実施の形態に係る計測装置10では、照射光IFの光束のレンズ34による集光点付近に対象物OBを配置することにより、対象物OBにおける各照射光IFの照射領域がほぼ同径の微細な領域とされている。このことにより、計測装置10では、対象物OBの位置がZ軸方向で上下変動しても、ほぼ同じ照射径で各照射光が照射されるため、対象物OBの像のボケが極めて小さくされる。この際照射光IFは拡散板60を透過するが、拡散板60の作用については後述する。 As shown in FIGS. 2(a) to 2(c), each light-emitting element 12 is caused to emit light for scanning, so that the object OB is individually irradiated with light beams (spots) that are narrowly focused and substantially parallel to each other and substantially circular. Furthermore, in the measurement apparatus 10 according to the present embodiment, by arranging the object OB in the vicinity of the condensing point of the luminous flux of the irradiation light IF by the lens 34, the irradiation areas of the irradiation light IF on the object OB are substantially the same. It is defined as a fine-diameter region. As a result, even if the position of the object OB fluctuates up and down in the Z-axis direction, the measurement apparatus 10 irradiates each irradiation light beam with substantially the same irradiation diameter, so that blurring of the image of the object OB is extremely reduced. be. At this time, the irradiation light IF passes through the diffuser plate 60, and the action of the diffuser plate 60 will be described later.

受光器18は、複数の受光素子16を含んで構成され、対象物OBで反射され光学系30のレンズ34を透過した反射光RFを受光する。すなわち、図2(a)から(c)に示すように、発光素子12の各々からの照射光IFが対象物OBに順次照射され、反射することにより反射光RFが発生する。対象物OBの表面200の状態に応じ照射光IFは様々な方向に反射されるが、本実施の形態では、一例として照射光のIFの表面200への入射点を通る、光軸Mに平行な軸を中心として0°~60°の角度の範囲の反射光RFを受光する。従って、1個の発光素子12から発光される照射光IFに対応する受光器18の受光領域は、略円形となる。そして、対象物OBのZ軸方向の位置によらず、同じ反射角度の反射光RFは同じ受光素子16で受光される。以上の動作により、計測装置10では対象物OB上の複数の照射点における各々の反射強度分布が計測される。なお、本実施の形態に係る受光器18は、レンズ32とレンズ34との間に配置された絞り40の、Z軸方向下側に配置され、受光面のZ軸方向の位置は開口部42の位置と同じ位置とされている。受光素子16としては、特に制限はないが、例えば、フォトダイオード(Photodiode:PD)、電荷結合素子(Charge-Coupled Device:CCD)等が用いられる。なお、本実施の形態では「反射角度」はZ軸方向を基準にして(0度として)測るものとしている。 The light receiver 18 includes a plurality of light receiving elements 16 and receives the reflected light RF that has been reflected by the object OB and transmitted through the lens 34 of the optical system 30 . That is, as shown in FIGS. 2A to 2C, the object OB is sequentially irradiated with the irradiation light IF from each of the light emitting elements 12, and is reflected to generate the reflected light RF. The irradiation light IF is reflected in various directions depending on the state of the surface 200 of the object OB. It receives the reflected light RF within an angle range of 0° to 60° about the axis. Therefore, the light receiving area of the light receiver 18 corresponding to the irradiation light IF emitted from one light emitting element 12 is substantially circular. The reflected light RF having the same reflection angle is received by the same light receiving element 16 regardless of the position of the object OB in the Z-axis direction. Through the above operations, the measurement apparatus 10 measures each reflection intensity distribution at a plurality of irradiation points on the object OB. The photodetector 18 according to the present embodiment is arranged below the stop 40 arranged between the lens 32 and the lens 34 in the Z-axis direction. is the same as the position of The light-receiving element 16 is not particularly limited, but for example, a photodiode (PD), a charge-coupled device (CCD), or the like is used. In this embodiment, the "angle of reflection" is measured with reference to the Z-axis direction (0 degrees).

受光器18における受光素子16の個数については特に制限はないが、本実施の形態では一例として32個としている。32個の受光素子16は一例として絞り40の開口部42を挟んで1列に配置されている。一方、発光器14における発光素子12の個数についても特に制限はないが、本実施の形態では一例として250個とされている。つまり、対象物OBを計測する場合、1個の発光素子12からの照射光IFによって32個の受光光量が取得される。従って、対象物OBが計測領域Tを移動する間の1回の走査において250個の照射光IFが照射され、各々の照射光IFに対する反射光RFによって32個ずつの受光光量が取得される Although the number of light receiving elements 16 in the light receiver 18 is not particularly limited, the number is 32 as an example in the present embodiment. As an example, the 32 light receiving elements 16 are arranged in a line across the aperture 42 of the diaphragm 40 . On the other hand, the number of light-emitting elements 12 in the light-emitting device 14 is not particularly limited, but is set to 250 as an example in the present embodiment. That is, when measuring the object OB, 32 received light amounts are obtained by the irradiation light IF from one light emitting element 12 . Therefore, 250 irradiation light IFs are emitted in one scan while the object OB moves in the measurement region T, and 32 received light amounts are acquired by the reflected light RF for each irradiation light IF.

ここで、図9を参照して、比較例に係る計測装置100の特性のひとつについて説明する。テレセントリック光学系を用いた比較例に係る計測装置100では、対象物OBからの反射光RFにおいて正反射光が支配的であった場合、大部分の反射光RFが絞り40の開口部42を通過して十分な光量を受光できない場合があった。正反射光が支配的となるのは、例えば対象物OBの表面が鏡面に近い場合である。この状態を図示したのが図9(a)である。すなわち、照射光IFが対象物OBに照射されて反射した反射光RFにおいて、正反射光、すなわち反射角度が約0度の反射光が支配的である場合、大部分の反射光RFが絞り40の開口部42を通過してレンズ32の方向に戻ってしまう。この場合は反射光RFがほとんど受光素子16に入射されないことになる。 Here, one characteristic of the measuring device 100 according to the comparative example will be described with reference to FIG. 9 . In the measurement apparatus 100 according to the comparative example using the telecentric optical system, when specularly reflected light is dominant in the reflected light RF from the object OB, most of the reflected light RF passes through the aperture 42 of the diaphragm 40. Therefore, there were cases where a sufficient amount of light could not be received. Specularly reflected light is dominant, for example, when the surface of the object OB is close to a mirror surface. This state is illustrated in FIG. 9(a). That is, in the reflected light RF that is reflected by the object OB irradiated with the irradiation light IF, if specular reflected light, that is, reflected light with a reflection angle of about 0 degrees is dominant, most of the reflected light RF is passes through the opening 42 and returns toward the lens 32 . In this case, the reflected light RF hardly enters the light receiving element 16 .

反射光RFが開口部42に向かわないようにする一つの方法として、図9(b)に示すように対象物OBを傾ける、すなわち反射角度を0度以外の角度とすることで反射光RFの方向を受光素子16の方向に変換することが考えられる。しかしながら、この場合は光量が光軸を中心とする狭い範囲に集中した反射光RFが特定の受光素子16に入射されるので、該受光素子16が飽和する場合がある。受光素子16が飽和すると、当然ながら異なる対象物OBの間での反射光量、あるいは反射率を比較することができない。あるいは、対象物OBを傾けても、図9(c)に示すように対象物OBに凹凸70がある場合には、凹凸の表面の状態によって反射光RFの反射角度がほとんど0度となってやはり開口部42を通過してしまうことも考えられる。 As one method for preventing the reflected light RF from going to the opening 42, the object OB is tilted as shown in FIG. It is conceivable to convert the direction to the direction of the light receiving element 16 . However, in this case, the reflected light RF whose light intensity is concentrated in a narrow range centered on the optical axis is incident on a specific light receiving element 16, so that the light receiving element 16 may be saturated. When the light-receiving element 16 is saturated, it is of course impossible to compare the amount of reflected light or the reflectance between different objects OB. Alternatively, even if the object OB is tilted, if the object OB has unevenness 70 as shown in FIG. It is conceivable that the light will pass through the opening 42 as well.

そこで本発明では、レンズ34と対象物OBとの間に散乱手段(拡散板60)を配置した。このことにより、照射光IFおよび反射光RFが完全拡散に近い状態の光となるので、テレセントリック光学系を用いた計測装置において、レンズと対象物との間に散乱手段を配置しない場合と比較して、受光素子で受光される光量の抜け漏れが抑制される。 Therefore, in the present invention, a scattering means (diffusion plate 60) is arranged between the lens 34 and the object OB. As a result, the irradiation light IF and the reflected light RF become light in a state close to perfect diffusion. Therefore, leakage of the amount of light received by the light receiving element is suppressed.

図3を参照して、計測装置10の計測原理について説明する。図3(a)は拡散板60を配置させた場合の計測装置10の構成を示している。図3(a)に示すように、拡散板60の作用によって照射光IFは拡散されて対象物OBに照射される。本実施の形態では拡散板60として完全拡散に近い特性を有する透過型の拡散板を用いている。そのため拡散板60から出射する照射光IFは等方的に広がり、方向によらずほぼ等しい強度の照射光IFが対象物OBに照射される。なお、拡散板60の形態に特に制限はないが、例えば基材の表面にマイクロレンズ状の凹凸が形成されたものが好ましい。また、凹凸は照射光IFのスポットサイズと比較して小さい方が、計測精度の観点からは好ましい。 The measurement principle of the measurement device 10 will be described with reference to FIG. FIG. 3(a) shows the configuration of the measuring device 10 when the diffusion plate 60 is arranged. As shown in FIG. 3A, the diffuser plate 60 diffuses the irradiation light IF and irradiates the object OB. In this embodiment, a transmissive diffuser plate having characteristics close to perfect diffusion is used as the diffuser plate 60 . Therefore, the irradiation light IF emitted from the diffuser plate 60 spreads isotropically, and the object OB is irradiated with the irradiation light IF having substantially the same intensity regardless of the direction. Although the form of the diffusion plate 60 is not particularly limited, for example, it is preferable that the diffusion plate 60 has microlens-like irregularities formed on the surface of the base material. From the viewpoint of measurement accuracy, it is preferable that the unevenness is smaller than the spot size of the irradiation light IF.

一方、照射光IFが対象物OBに照射されて発生した反射光RFも拡散板60を通過することにより拡散される。反射光IFが拡散されることにより複数の受光素子16に分散されて受光される。以上の拡散板の作用によって、たとえ対象物OBにおける反射光RFにおいて正反射光が支配的であった場合でも、多方向へ向かうほぼ均一な拡散反射光となる。その結果、反射光RFのほぼすべてが絞り40の開口部42に向かうということがなくなり、複数の受光素子16で分散して受光されるので、受光素子16で受光される光量の抜け漏れが抑制されるとともに、受光素子16が飽和するということも抑制される。従って、正反射光が大きい対象物OB同士の反射光量、あるいは反射率の比較が容易になされる。 On the other hand, the reflected light RF generated when the object OB is irradiated with the irradiation light IF is also diffused by passing through the diffusion plate 60 . As the reflected light IF is diffused, it is dispersed and received by the plurality of light receiving elements 16 . Due to the action of the diffuser plate described above, even if the specularly reflected light is dominant in the reflected light RF from the object OB, the diffusely reflected light is substantially uniform in many directions. As a result, almost all of the reflected light RF is not directed toward the aperture 42 of the diaphragm 40, and is received by the plurality of light receiving elements 16 in a dispersed manner. At the same time, saturation of the light receiving element 16 is also suppressed. Therefore, it is possible to easily compare the amount of reflected light or the reflectance between the objects OB having large amounts of specularly reflected light.

図4は、図9に示す比較例に係る計測装置の動作に対応させた本実施の形態に係る計測装置10の動作を示している。計測装置10では拡散板60を配置させているので、いずれの場合にも照射光IFおよび反射光RFが拡散し、特定の方向に大きな光強度を有する正反射光が支配的な反射光RFが多方向に向かうほぼ均一な拡散反射光となる。図4では特定の一の発光素子12からの照射光IFについて示しているが、他の発光素子12からの照射光IFについても同様である。すなわち、照射光IFの照射点(反射点)は発光素子12に応じて異なるが、計測装置10では受光素子16がレンズ34の焦点面に配置されているので、照射点(反射点)がX-Y平面内のいずれの位置に存在しても、反射角度に対応した受光素子16で受光される。 FIG. 4 shows the operation of the measuring device 10 according to the present embodiment corresponding to the operation of the measuring device according to the comparative example shown in FIG. Since the diffusion plate 60 is arranged in the measurement apparatus 10, the irradiation light IF and the reflected light RF are diffused in both cases, and the reflected light RF, which is dominated by specularly reflected light having a large light intensity in a specific direction, is Almost uniform diffusely reflected light in multiple directions is obtained. Although FIG. 4 shows the irradiation light IF from one specific light emitting element 12, the irradiation light IF from other light emitting elements 12 is the same. That is, although the irradiation point (reflection point) of the irradiation light IF differs depending on the light emitting element 12, the light receiving element 16 is arranged on the focal plane of the lens 34 in the measurement apparatus 10, so the irradiation point (reflection point) is X The light is received by the light-receiving element 16 corresponding to the reflection angle at any position in the -Y plane.

次に図3(b)を参照して、本実施の形態に係る計測装置10における受光素子16の出力分布の比較(反射率の比較)について説明する。図3(b)は受光光量(図3(b)では「光強度」と表記)の反射角度依存性(以下、「光強度特性」)を示している。すなわち、横軸は0度を中心として正方向(+)、負方向(-)に反射角度をとり、縦軸は任意スケールの光強度としている。反射角度と受光素子16は対応している(換言すれば、同じ反射角度の反射光は同じ受光素子16で受光される)ので、横軸は受光素子16の位置と考えてもよい。図3(b)では各々曲線C1、C2、C3で示された3個の対象物OBの光強度特性を示している。これらの光強度特性を比較する場合は、ある特定の角度θにおける光強度で比較してもよいし、あるいは特定の角度範囲における光強度で比較してもよい。さらに、図3(b)に示す特性の全反射角度範囲の積分値で比較してもよい。なお、受光可能な反射角度の範囲は計測装置10のY軸方向の大きさに影響を与えるが、本実施の形態では、上述したように一例として-60度<θ<+60度の範囲としている。 Next, with reference to FIG. 3B, a comparison of the output distribution (reflectance comparison) of the light receiving element 16 in the measuring device 10 according to the present embodiment will be described. FIG. 3(b) shows the reflection angle dependence (hereinafter referred to as "light intensity characteristic") of the amount of received light (denoted as "light intensity" in FIG. 3(b)). That is, the horizontal axis represents the reflection angle in the positive direction (+) and the negative direction (-) with 0 degrees as the center, and the vertical axis represents the light intensity on an arbitrary scale. Since the angle of reflection corresponds to the light receiving element 16 (in other words, reflected light with the same angle of reflection is received by the same light receiving element 16), the horizontal axis may be considered as the position of the light receiving element 16. FIG. FIG. 3(b) shows the light intensity characteristics of three objects OB indicated by curves C1, C2 and C3, respectively. When comparing these light intensity characteristics, the light intensity at a specific angle θ may be compared, or the light intensity at a specific angle range may be compared. Furthermore, the integrated value of the total reflection angle range of the characteristics shown in FIG. 3(b) may be used for comparison. Although the range of reflection angles that can receive light affects the size of the measurement apparatus 10 in the Y-axis direction, in the present embodiment, as described above, the range is −60 degrees <θ<+60 degrees as an example. .

次に、図5を参照して、計測装置10における拡散板60のZ軸方向の位置について説明する。拡散板60の性質から、図5において拡散板60のZ軸方向上の位置が対象物OBから遠ざかるにつれて照射光IFのスポットサイズが大きくなる。本実施の形態に係る計測装置10の主旨から照射光IFのスポットサイズは拡散板がない場合に比べてある程度大きくされるが、必要以上に大きくなると計測精度が落ちる可能性がある。そのため、原則的には拡散板60を対象物OBに近接させて配置することが望ましい。例えば、レンズ34と対象物OBとの間の距離の1/2以下となる位置に拡散板60を配置させてもよい。この場合、拡散板60を必要以上に対象物OBに近づける散乱の効果が減少するので、例えばレンズ34と対象物OBとの間の距離の1/10以上となる位置に配置させてもよい。 Next, the position of the diffusion plate 60 in the Z-axis direction in the measuring device 10 will be described with reference to FIG. Due to the properties of the diffuser plate 60, the spot size of the irradiation light IF increases as the position of the diffuser plate 60 in the Z-axis direction in FIG. 5 moves away from the object OB. Although the spot size of the irradiation light IF is made somewhat larger than the case without the diffuser plate in accordance with the gist of the measurement apparatus 10 according to the present embodiment, there is a possibility that the measurement accuracy will drop if the spot size becomes larger than necessary. Therefore, in principle, it is desirable to dispose the diffusion plate 60 close to the object OB. For example, the diffuser plate 60 may be arranged at a position that is less than half the distance between the lens 34 and the object OB. In this case, the scattering effect of bringing the diffusion plate 60 closer to the object OB than necessary is reduced, so the diffusion plate 60 may be arranged at a position that is, for example, 1/10 or more of the distance between the lens 34 and the object OB.

拡散板60のZ軸方向の位置の設定についてより詳細に説明する。上記の拡散板60の性質から、拡散板60のZ軸方向の位置はスポットサイズ、拡散された反射光RFの広がりの範囲等を勘案して設定するのが好ましい。例えば、スポットサイズに上限を設けておき、そのスポットサイズの範囲内で、必要な反射光RFの広がり角度が得られるように拡散板60のZ軸上の位置を設定してもよい。あるいは逆に反射光RFの広がり角度に上限を設けてもよい。以上のような考え方で拡散板60を対象物OBに極力近づけて配置することにより、照射光IFの拡散が必要最小限に抑えられ、かつ照射スポットサイズが必要以上に大きくなることが回避された上で、反射光RFの大部分が絞り40の開口部42に向かうことが抑制され、かつ複数の受光素子16で分散されて受光されるので、受光素子16の出力の飽和も抑制される。 Setting the position of the diffusion plate 60 in the Z-axis direction will be described in more detail. From the properties of the diffuser plate 60 described above, it is preferable to set the position of the diffuser plate 60 in the Z-axis direction in consideration of the spot size, the spread range of the diffused reflected light RF, and the like. For example, an upper limit may be set for the spot size, and the position of the diffuser plate 60 on the Z axis may be set so that the required divergence angle of the reflected light RF can be obtained within the range of the spot size. Alternatively, conversely, an upper limit may be set for the spread angle of the reflected light RF. By arranging the diffuser plate 60 as close to the object OB as possible based on the concept described above, the diffusion of the irradiation light IF can be suppressed to a necessary minimum and the size of the irradiation spot can be prevented from becoming larger than necessary. In addition, most of the reflected light RF is suppressed from going to the opening 42 of the diaphragm 40, and is received by the plurality of light receiving elements 16 in a dispersed manner, so that the saturation of the output of the light receiving elements 16 is also suppressed.

ここで、照射光IFのスポットサイズの具体的な大きさは、拡散板60への入射前で一例として10μmから100μmの範囲の大きさである。スポットサイズをこの範囲の値とすることにより、対象物OBの面内、あるいは対象物の内部が高い空間分解能で計測される。そのため、図5に示すように拡散板60を対象物OBと近接させて配置することにより、照射光IFの拡散が必要最低限に抑えられ、対象物OBの反射率の面内バラツキも評価される。 Here, the specific size of the spot size of the irradiation light IF is, for example, in the range of 10 μm to 100 μm before incidence on the diffuser plate 60 . By setting the spot size to a value within this range, the inside of the object OB or the inside of the object can be measured with high spatial resolution. Therefore, by arranging the diffuser plate 60 close to the object OB as shown in FIG. 5, the diffusion of the irradiation light IF can be suppressed to the necessary minimum, and the in-plane variation of the reflectance of the object OB can also be evaluated. be.

図6は、拡散板60の位置のさまざまな形態を示している。図6(a)は、拡散板60を対象物OBに近接して配置した場合の照射光IF、反射光RFの状態を、図6(b)は、拡散板60を対象物OBから離間させて配置した場合の照射光IF、反射光RFの状態を、各々示している。また、計測装置10に係る拡散板60はZ軸方向の移動だけではなく、図6(c)に示すようにレンズ34と対象物OBとの間からの抜去もなされるように構成されている。拡散板60の抜去機能は、例えば反射光RFの性質の確認のために用いられる。つまり、通常は計測装置10を拡散板60がない状態で用いる場合で、例えば受光器18からの出力信号が異常に小さい等の現象が発生した場合に、拡散板60を挿入してみる。その場合、原因が正反射光の過剰な発生にあれば受光器18からは出力信号が正常に出力されるので、受光器18の出力異常の原因が速やかに把握される。 FIG. 6 shows various configurations of the position of the diffuser plate 60. FIG. FIG. 6A shows the state of the irradiated light IF and the reflected light RF when the diffusion plate 60 is arranged close to the object OB, and FIG. The states of the irradiated light IF and the reflected light RF are respectively shown when they are arranged in the same direction. Further, the diffuser plate 60 associated with the measuring apparatus 10 is configured not only to move in the Z-axis direction, but also to be removed from between the lens 34 and the object OB as shown in FIG. 6(c). . The function of removing the diffuser plate 60 is used, for example, to confirm the properties of the reflected light RF. In other words, when the measurement apparatus 10 is normally used without the diffuser plate 60, insert the diffuser plate 60 when a phenomenon such as an abnormally small output signal from the light receiver 18 occurs. In this case, if the cause is excessive specularly reflected light, the output signal is normally output from the photodetector 18, so the cause of the output abnormality of the photodetector 18 can be quickly grasped.

[第2の実施の形態]
図7を参照して本実施の形態に係る計測装置10Aについて説明する。計測装置10Aは、上記実施の形態に係る計測装置10に拡散板60の保持手段を付加した形態である。
従って、計測装置10と同様の構成には同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
[Second embodiment]
A measuring device 10A according to the present embodiment will be described with reference to FIG. The measurement device 10A has a configuration in which holding means for the diffusion plate 60 is added to the measurement device 10 according to the above embodiment.
Therefore, the same reference numerals are assigned to the same configurations as those of the measuring device 10, and detailed description thereof will be omitted.

図7(a)に示すように、計測装置10Aは拡散板60の保持手段62を備えている。保持手段62は、複数のスロット66を有し、拡散板60をそのいずれかのスロット66に差し込むことによって、拡散板60のZ軸方向の位置が設定されるように構成されている。保持手段62の平面視での形状はスロット66が直線状に配置された棒状の形状としてもよいし、スロット66が三方に配置されたコの字型の形状としてもよい。 As shown in FIG. 7A, the measuring device 10A has holding means 62 for the diffusion plate 60. As shown in FIG. The holding means 62 has a plurality of slots 66 and is configured such that the position of the diffusion plate 60 in the Z-axis direction is set by inserting the diffusion plate 60 into one of the slots 66 . The shape of the holding means 62 in a plan view may be a bar shape with the slots 66 arranged linearly, or a U-shape with the slots 66 arranged on three sides.

図7(a)は拡散板60が対象物OBに一番近いスロット66に挿入された状態を示し、図7(b)は拡散板60が対象物OBから一番遠いスロット66に挿入された状態を示している。また、図7(c)は拡散板60が保持手段62から抜去された状態を示している。このように、本実施の形態に係る計測装置10Aによれば、拡散板60の位置が自由に設定される。 FIG. 7(a) shows the diffusion plate 60 inserted into the slot 66 closest to the object OB, and FIG. 7(b) shows the diffusion plate 60 inserted into the slot 66 farthest from the object OB. state. 7(c) shows a state in which the diffusion plate 60 is removed from the holding means 62. FIG. Thus, according to the measuring device 10A according to the present embodiment, the position of the diffusion plate 60 can be freely set.

<第2の実施の形態の変形例>
図8を参照して、第2の実施の形態の変形例に係る計測装置10Bについて説明する。
上記実施の形態に係る計測装置10Aでは拡散板60の位置の設定を人手により行う形態を例示して説明したが、本実施の形態は保持手段62への挿抜を自動で行って拡散板60の位置の変更を自動的に行う形態である。従って、計測装置10Aと同様の構成には同じ符号を付して詳細な説明を省略する。
<Modification of Second Embodiment>
A measuring device 10B according to a modification of the second embodiment will be described with reference to FIG.
In the measurement apparatus 10A according to the above embodiment, the position of the diffuser plate 60 is manually set. In this form, the position is automatically changed. Therefore, configurations similar to those of the measurement apparatus 10A are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

計測装置10Bは、図8に示すように、拡散板60の移動手段64を備えている。移動手段64は拡散板60を挟持し、図8(a)、(b)に示すように挟持した拡散板60をZ軸方向に移動させ、目的とするスロット66に拡散板60を差し込んで位置決めを行う。あるいは、図8(c)に示すように拡散板60を光路から抜去する。本変形例によれば、拡散板60の位置が自動的に設定される。 The measuring device 10B includes moving means 64 for the diffusion plate 60, as shown in FIG. The moving means 64 clamps the diffusion plate 60, moves the clamped diffusion plate 60 in the Z-axis direction as shown in FIGS. I do. Alternatively, the diffusion plate 60 is removed from the optical path as shown in FIG. 8(c). According to this modification, the position of the diffusion plate 60 is automatically set.

ここで、上記各実施の形態に係る計測装置(10、10A、10B)を用いた計測方法について説明する。本発明に係る計測装置(10、10A、10B)は、例えば製造工程における検査装置としても用いられる。すなわち、例えば対象物OB(製品)の表面の状態、あるいは内部の散乱状態を計測して当該製品の検査が行われる場合がある。この場合例えば、計測装置10Bのように拡散板60が自動的に位置決め、あるいは挿抜される計測装置が用いられる。 Here, a measuring method using the measuring apparatus (10, 10A, 10B) according to each of the above embodiments will be described. The measuring device (10, 10A, 10B) according to the present invention is also used, for example, as an inspection device in the manufacturing process. That is, for example, the product may be inspected by measuring the surface state or the internal scattering state of the object OB (product). In this case, for example, a measurement device such as the measurement device 10B in which the diffusion plate 60 is automatically positioned or inserted/removed is used.

計測装置(10、10A、10B)を用いた検査では、例えば対象物OBの正反射光成分の大きさ等を勘案し、対象物OBに応じて散乱板60を変えて計測してもよい。あるいは、計測装置(10、10A、10B)を複数台設置し、対象物OBに応じて計測装置(10、10A、10B)を選択して計測してもよい。その場合、例えば複数の計測装置(10、10A、10B)のうちの少なくとも1台は散乱板60を備えない(あるいは光路から抜去されている)計測装置(10、10A、10B)としてもよい。このことで、受光される反射光RFがさまざまな正反射光成分を含む場合であっても容易に計測がなされる。 In the inspection using the measurement devices (10, 10A, 10B), the scattering plate 60 may be changed according to the object OB, for example, in consideration of the size of the specularly reflected light component of the object OB. Alternatively, a plurality of measurement devices (10, 10A, 10B) may be installed, and measurement may be performed by selecting one of the measurement devices (10, 10A, 10B) according to the object OB. In that case, for example, at least one of the plurality of measuring devices (10, 10A, 10B) may be the measuring device (10, 10A, 10B) without the scattering plate 60 (or removed from the optical path). This facilitates measurement even when the received reflected light RF contains various specularly reflected light components.

なお、上記各実施の形態では、独立させて拡散板60を配置する形態を例示して説明したが、これに限られない。例えば、レンズ34と一体的化して配置してもよい。すなわち、例えばレンズ34の対象物OB側の面を光が散乱するように加工して拡散板を配置させてもよい。この場合、レンズ34とは別体のシート状の拡散板をレンズ34に貼り付け拡散板を配置してもよいし、レンズ34自体を凹凸加工して拡散板を配置してもよい。 In each of the above-described embodiments, the form in which the diffuser plate 60 is arranged independently has been exemplified and explained, but the present invention is not limited to this. For example, it may be arranged integrally with the lens 34 . That is, for example, the surface of the lens 34 on the object OB side may be processed so as to scatter light, and a diffuser plate may be arranged. In this case, a sheet-like diffuser plate separate from the lens 34 may be attached to the lens 34 to dispose the diffuser plate, or the lens 34 itself may be unevenly processed to dispose the diffuser plate.

また、上記各実施の形態では、すべての発光素子12の照射光IFに拡散板60が挿入される形態を例示して説明したが、これに限られない。複数の発光素子12のうちの一部、例えば半数には拡散板60が挿入され、残りの半数には挿入されないように構成してもよい。このような構成によれば、1つの計測装置で照射光IFの拡散の程度の差による対象物OBの表面での反射特性の違いについて把握される。 Further, in each of the above-described embodiments, a configuration in which the diffuser plate 60 is inserted into the irradiation light IF of all the light emitting elements 12 has been described as an example, but the present invention is not limited to this. The diffuser plate 60 may be inserted into some of the plurality of light emitting elements 12, for example half of them, and not inserted into the other half. According to such a configuration, a single measurement device can grasp the difference in the reflection characteristics on the surface of the object OB due to the difference in the degree of diffusion of the irradiation light IF.

また、上記各実施の形態では拡散板60を1枚配置させる形態を例示して説明したが、これに限られず、要求される拡散の程度等に応じて複数枚用いてもよい。 Further, in each of the above-described embodiments, a mode in which one diffuser plate 60 is arranged has been described as an example, but the present invention is not limited to this, and a plurality of diffuser plates may be used according to the required degree of diffusion.

10、10A、10B 計測装置
12、12A、12B、12C 発光素子
14 発光器
14A 基板
16 受光素子
18 受光器
20 制御部
30 光学系
32 レンズ
34 レンズ
40 絞り
42 開口部
60 拡散板
62 保持手段
64 移動手段
66 スロット
70 凹凸
100 計測装置
200 表面
C 回転軸
IF 照射光
M 光軸
RF 反射光
OB 対象物
C1、C2、C3 曲線
T 計測領域
10, 10A, 10B Measuring device 12, 12A, 12B, 12C Light emitting element 14 Light emitting device 14A Substrate 16 Light receiving element 18 Light receiving device 20 Control unit 30 Optical system 32 Lens 34 Lens 40 Diaphragm 42 Opening 60 Diffusion plate 62 Holding means 64 Movement means 66 slot 70 unevenness 100 measuring device 200 surface C rotation axis IF irradiation light M optical axis RF reflected light OB object C1, C2, C3 curve T measurement area

Claims (13)

対象物へ照射する照射光を発光する発光部と、
前記発光部から発光された前記照射光の発散度合いを変える第1のレンズと、
前記第1のレンズから出射された前記照射光を絞る絞り部と、
前記絞り部を通過した前記照射光を前記対象物の予め定められた方向から照射するように集光する第2のレンズと、
前記絞り部と前記第2のレンズとの間に配置されかつ前記照射光が前記対象物に照射されて反射した反射光を受光する受光部と、
前記第2のレンズと前記対象物との間であって、前記対象物からの距離が、前記第2のレンズと前記対象物との間の距離の1/2以下となる位置に配置されかつ前記照射光および前記反射光を散乱させる散乱手段と、を含み、
前記照射光は前記散乱手段で散乱されて前記対象物に照射され、前記反射光は前記散乱手段で散乱されて前記受光部で受光される
計測装置。
a light emitting unit that emits irradiation light to irradiate an object;
a first lens that changes the degree of divergence of the irradiation light emitted from the light emitting unit;
a diaphragm that narrows down the irradiation light emitted from the first lens;
a second lens that collects the irradiation light that has passed through the diaphragm so as to irradiate the object from a predetermined direction;
a light-receiving unit arranged between the aperture unit and the second lens and configured to receive reflected light reflected by the irradiation light applied to the object;
between the second lens and the object, the distance from the object being 1/2 or less of the distance between the second lens and the object, and a scattering means for scattering the irradiated light and the reflected light,
The irradiation light is scattered by the scattering means and irradiated onto the object, and the reflected light is scattered by the scattering means and received by the light receiving unit.
前記散乱手段が拡散板である
請求項1に記載の計測装置。
The measuring device according to claim 1, wherein the scattering means is a diffusion plate.
前記散乱手段は、前記対象物からの距離が、前記第2のレンズと前記対象物との間の距離の1/10以上となる位置に配置された
請求項1または請求項2に記載の計測装置。
The measurement according to claim 1 or 2 , wherein the scattering means is arranged at a position where the distance from the object is 1/10 or more of the distance between the second lens and the object. Device.
対象物へ照射する照射光を発光する発光部と、
前記発光部から発光された前記照射光の発散度合いを変える第1のレンズと、
前記第1のレンズから出射された前記照射光を絞る絞り部と、
前記絞り部を通過した前記照射光を前記対象物の予め定められた方向から照射するように集光する第2のレンズと、
前記絞り部と前記第2のレンズとの間に配置されかつ前記照射光が前記対象物に照射されて反射した反射光を受光する受光部と、
前記第2のレンズの前記対象物側の面に形成されかつ前記照射光および前記反射光を散乱させる散乱手段と、を含み、
前記照射光は前記散乱手段で散乱されて前記対象物に照射され、前記反射光は前記散乱手段で散乱されて前記受光部で受光される
測装置。
a light emitting unit that emits irradiation light to irradiate an object;
a first lens that changes the degree of divergence of the irradiation light emitted from the light emitting unit;
a diaphragm that narrows down the irradiation light emitted from the first lens;
a second lens that collects the irradiation light that has passed through the diaphragm so as to irradiate the object from a predetermined direction;
a light-receiving unit arranged between the aperture unit and the second lens and configured to receive reflected light reflected by the irradiation light applied to the object;
a scattering means formed on the object-side surface of the second lens for scattering the irradiation light and the reflected light;
The irradiation light is scattered by the scattering means and irradiated to the object, and the reflected light is scattered by the scattering means and received by the light receiving section.
measuring device.
前記散乱手段は前記第2のレンズと一体として形成されている
請求項に記載の計測装置。
The measuring device according to claim 4 , wherein the scattering means is formed integrally with the second lens.
前記散乱手段を前記第2のレンズの光軸方向の異なる複数の位置に保持可能な保持手段をさらに含む
請求項1から請求項のいずれか1項に記載の計測装置。
6. The measuring apparatus according to any one of claims 1 to 5 , further comprising holding means capable of holding the scattering means at a plurality of different positions in the optical axis direction of the second lens.
前記散乱手段を前記第2のレンズの光軸方向に沿って移動させる移動手段をさらに備えた
請求項1から請求項、および請求項のいずれか1項に記載の計測装置。
7. The measuring apparatus according to claim 1 , further comprising moving means for moving said scattering means along the optical axis direction of said second lens.
前記散乱手段を前記第2のレンズと前記対象物との間から抜去させる抜去手段をさらに備えた
請求項1から請求項、請求項、および請求項のいずれか1項に記載の計測装置。
The measurement according to any one of claims 1 to 3 , claim 6 , and claim 7 , further comprising removing means for removing said scattering means from between said second lens and said object. Device.
前記受光部の受光面と前記第2のレンズとの距離が前記第2のレンズの焦点距離と等しくされた
請求項1から請求項のいずれか1項に記載の計測装置。
The measuring device according to any one of claims 1 to 8 , wherein the distance between the light receiving surface of the light receiving unit and the second lens is equal to the focal length of the second lens.
前記第1のレンズと前記絞り部との距離が前記第1のレンズの焦点距離と等しくされた 請求項に記載の計測装置。 The measuring device according to claim 9 , wherein the distance between the first lens and the diaphragm is equal to the focal length of the first lens. 対象物へ照射する照射光を発光する発光部、前記発光部から発光された前記照射光の発散度合いを変える第1のレンズ、前記第1のレンズから出射された前記照射光を絞る絞り部、前記絞り部を通過した前記照射光を前記対象物の予め定められた方向から照射するように集光する第2のレンズ、前記絞り部と前記第2のレンズとの間に配置されかつ前記照射光が前記対象物に照射されて反射した反射光を受光する受光部、および前記第2のレンズと前記対象物との間に配置されかつ前記照射光および前記反射光を散乱させる散乱手段と、を含む計測装置を用いた計測方法であって、
前記照射光を前記散乱手段で散乱させて前記対象物に照射し、前記反射光を前記散乱手段で散乱させて前記受光部で受光させ、前記対象物の表面状態を計測し、前記対象物に応じて前記散乱手段を変えて前記対象物の表面状態を計測する
計測方法。
a light emitting unit that emits irradiation light to irradiate an object; a first lens that changes the degree of divergence of the irradiation light emitted from the light emitting unit; a diaphragm that narrows down the irradiation light emitted from the first lens; a second lens for condensing the irradiation light that has passed through the diaphragm so as to irradiate the object from a predetermined direction; a light-receiving unit that receives reflected light reflected by the object irradiated with light, and a scattering means that is disposed between the second lens and the object and scatters the irradiated light and the reflected light; A measuring method using a measuring device comprising
The irradiation light is scattered by the scattering means and irradiated to the object, the reflected light is scattered by the scattering means and received by the light receiving unit, the surface state of the object is measured, and the object is irradiated with the light. measuring method for measuring the surface state of the object by changing the scattering means according to the
各々異なる前記散乱手段を含む前記計測装置を複数備えさせ、
前記対象物に応じて複数の前記計測装置のいずれかを選択して計測する
請求項11に記載の計測方法。
providing a plurality of the measurement devices each including the different scattering means;
The measuring method according to claim 11 , wherein one of the plurality of measuring devices is selected and measured according to the object.
複数の前記計測装置のうちの1台は前記散乱手段を含まない
請求項12に記載の計測方法。
13. The measuring method according to claim 12 , wherein one of the plurality of measuring devices does not include the scattering means.
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