JP7197440B2 - 磁気記録媒体、磁気記録再生装置およびε－酸化鉄粉末 - Google Patents

Description

本発明は、磁気記録媒体、磁気記録再生装置およびε－酸化鉄粉末に関する。

磁気記録媒体に使用される強磁性粉末として、近年、ε－酸化鉄粉末が注目を集めている（例えば特許文献１参照）。

ＷＯ２０１５／１９８５１４Ａ１

磁気記録媒体は、データバックアップ、アーカイブ等のためのデータストレージメディアとして、近年、様々な環境下で使用される。磁気記録媒体の使用環境の一態様としては、高温環境が挙げられる。
以上に鑑み本発明者は、ε－酸化鉄粉末を磁性層に含む磁気記録媒体の高温環境下での再生特性について検討を重ねた。その結果、ε－酸化鉄粉末を磁性層に含む従来の磁気記録媒体については、高温環境下で再生出力が減衰しやすい傾向があることが明らかとなった。磁気記録媒体のデータストレージメディアとしての信頼性を高めるためには、再生出力の減衰が少ないことが望ましい。

本発明の一態様は、ε－酸化鉄粉末を磁性層に含む磁気記録媒体であって、高温環境下での再生出力の減衰が少ない磁気記録媒体を提供することを目的とする。

本発明の一態様は、
非磁性支持体と強磁性粉末を含む磁性層とを有する磁気記録媒体であって、
異方性磁界分布が１．２０以下であり、かつ
上記強磁性粉末がε－酸化鉄粉末である磁気記録媒体、
に関する。

一態様では、上記異方性磁界分布は、１．１５以下であることができる。

一態様では、上記異方性磁界分布は、０．９５以下であることができる。

一態様では、上記異方性磁界分布は、０．４０以上０．９５以下であることができる。

一態様では、上記磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋは、５０００Ｏｅ以上であることができる。単位に関して、１［Ｏｅ］＝１０^３／４π［Ａ／ｍ］である。

一態様では、上記磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋは、５０００Ｏｅ以上３３０００Ｏｅ以下であることができる。

一態様では、上記ε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは、５．０ｎｍ以上２０．０ｎｍ以下であることができる。

一態様では、上記磁気記録媒体は、磁気テープであることができる。

一態様では、上記磁気記録媒体は、上記非磁性支持体と上記磁性層との間に、非磁性粉末を含む非磁性層を有することができる。

一態様では、上記磁気記録媒体は、上記非磁性支持体の上記磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末を含むバックコート層を有することができる。

本発明の一態様は、上記磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、を有する磁気記録再生装置に関する。

本発明の一態様は、異方性磁界分布が１．５０以下であるε－酸化鉄粉末に関する。

一態様では、上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布は、１．４０以下であることができる。

一態様では、上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布は、１．１５以下であることができる。

一態様では、上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布は、０．５０以上１．１５以下であることができる。

一態様では、上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界Ｈｋは、５０００Ｏｅ以上であることができる。

一態様では、上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界Ｈｋは、５０００Ｏｅ以上３３０００Ｏｅ以下であることができる。

一態様では、上記ε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは、５．０ｎｍ以上２０．０ｎｍ以下であることができる。

本発明の一態様によれば、ε－酸化鉄粉末を磁性層に含み、高温環境下での再生出力の減衰が少ない磁気記録媒体を提供することができる。また、本発明の一態様によれば、かかる磁気記録媒体を含む磁気記録再生装置を提供することができる。更に、本発明の一態様によれば、上記磁気記録媒体の作製に好適に使用可能なε－酸化鉄粉末を提供することができる。

［磁気記録媒体］
本発明の一態様は、非磁性支持体と強磁性粉末を含む磁性層とを有する磁気記録媒体であって、異方性磁界分布が１．２０以下であり、かつ上記強磁性粉末がε－酸化鉄粉末である磁気記録媒体に関する。

上記磁気記録媒体は、磁性層の強磁性粉末としてε－酸化鉄粉末を含む。本発明および本明細書において、「ε－酸化鉄粉末」とは、Ｘ線回折分析によって、主相としてε－酸化鉄型の結晶構造（ε相）が検出される強磁性粉末をいうものとする。例えば、Ｘ線回折分析によって得られるＸ線回折スペクトルにおいて最も高強度の回折ピークがε－酸化鉄型の結晶構造（ε相）に帰属される場合、ε－酸化鉄型の結晶構造が主相として検出されたと判断するものとする。主相のε相に加えてα相および／またはγ相が含まれていてもよく、含まれなくてもよい。本発明および本明細書におけるε－酸化鉄粉末には、鉄と酸素から構成される所謂無置換型のε－酸化鉄の粉末と、鉄を置換する一種以上の置換元素を含む所謂置換型のε－酸化鉄の粉末とが包含される。

先に記載したように、ε－酸化鉄粉末を磁性層に含む従来の磁気記録媒体には、高温環境下で再生出力が減衰しやすい傾向が見られた。この理由は、ε－酸化鉄粉末は各種強磁性粉末の中でも磁化相転移温度Ｔｃが比較的低い傾向があるため、高温で信号が経時で減衰し易いためと推察される。なお高温環境とは、例えば雰囲気温度が３０℃超の環境であることができ、雰囲気温度が３０℃超～６０℃程度の環境であることができる。これに対し本発明者は鋭意検討を重ねた結果、ε－酸化鉄粉末を含む磁性層を有する磁気記録媒体の異方性磁界分布を１．２０以下とすることにより、そのような再生出力の減衰を抑制することが可能になることを新たに見出した。以下において、高温環境下での再生出力の減衰を、単に再生出力の減衰とも記載する。

＜異方性磁界分布、異方性磁界Ｈｋ＞
本発明および本明細書において、磁気記録媒体の異方性磁界分布とは、振動試料型磁力計（ＶＳＭ；ｖｉｂｒａｔｉｎｇ ｓａｍｐｌｅ ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ）を用いてレマネンス（ｒｅｍａｎｅｎｎｃｅ）法によって以下の方法により求められる値とする。測定は、サンプル温度２３℃で行う。サンプル周囲の雰囲気温度を２３℃とすることにより、温度平衡が成り立つことによってサンプル温度を２３℃とすることができる。
ＶＳＭとしては、２つの方向（ｘ方向およびｙ方向）の磁化測定が可能な２軸ＶＳＭを使用する。「ｙ方向」は磁気記録媒体の厚み方向とし、「ｘ方向」はテープ状の磁気記録媒体については長手方向とし、ディスク状の磁気記録媒体については半径方向とする。
測定対象の磁気記録媒体からＶＳＭに導入可能なサイズのサンプルを切り出し、このサンプルをＶＳＭのサンプルロッドに取り付けて測定を行う。
まずｘ方向に外部磁界Ｈｍを印加してサンプルを飽和磁化させた後（即ちｙ方向のサンプル磁界をゼロにした後）、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。上記で印加される外部磁界Ｈｍは、サンプルを飽和磁化させることができる値であればよい。
その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ１を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ１は、Ｈｍより小さい。
その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ２を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ２は、Ｈ１より大きい。
その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ３を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ３は、Ｈ２より大きい。
以上のように、ｘ方向の印加磁界を、Ｈ１→０→Ｈ２→０→Ｈ３→０ ・・・・・と変化させて順次ｙ方向の残留磁化を測定する。各測定のためにｘ方向に印加される磁界は、直前の測定のために印加される磁界より大きい。最終測定のためにｘ方向に印加する磁界は任意に設定可能である。
以上のように測定されたｙ方向の残留磁化を、グラフ（縦軸：ｙ方向の残留磁化の大きさ、横軸：ｘ方向の印加磁界の大きさ）にプロットする。このプロットを微分し、得られた微分曲線をフォークト関数によりフィッティングして近似曲線を作成する。作成された近似曲線のピーク位置の横軸の値を異方性磁界Ｈｋとする。異方性磁界分布は、
異方性磁界分布＝上記近似曲線の半値幅／異方性磁界Ｈｋ
として算出する。

以上の方法により、磁気記録媒体の異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋを求めることができる。
一方、強磁性粉末（ε－酸化鉄粉末）の異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋは、ＶＳＭのサンプルロッドに強磁性粉末を入れたカプセルを取り付け、任意の方向をｘ方向とし、ｘ方向に対して同平面内の９０°の方向をｙ方向として上記と同様の方法で測定を行い求めるものとする。カプセルに入れる強磁性粉末の量は、例えば１０ｍｇ以上（例えば１００ｍｇ程度）とすることができる。カプセル内は強磁性粉末のみによって満たしてもよく、カプセル内を満たす量より強磁性粉末の量が少量の場合には非磁性の材料によってカプセル内の空間を埋めて強磁性粉末を固定してもよい。

上記磁気記録媒体の異方性磁界分布は１．２０以下であり、再生出力の減衰をより一層抑制する観点からは、１．１５以下であることが好ましく、１．１０以下であることがより好ましく、１．０５以下であることが更に好ましく、１．００以下であることが一層好ましく、０．９５以下であることがより一層好ましく、０．９０以下であることが更に一層好ましく、０．８５以下であることがなお一層好ましく、０．８０以下であることがなおより一層好ましい。また、上記磁気記録媒体の異方性磁界分布が上記範囲であることは、磁気記録媒体の電磁変換特性向上の観点からも好ましい。また、上記磁気記録媒体の異方性磁界分布は、例えば０．３０以上、０．３５以上または０．４０以上であることができる。再生出力の減衰を抑制する観点からは、ここで例示した値を下回ることも好ましい。

また、上記磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋは、５０００Ｏｅ以上であることが好ましく、７０００Ｏｅ以上であることがより好ましく、９０００Ｏｅ以上であることが更に好ましい。例えば磁性層の強磁性粉末として異方性磁界Ｈｋが高いε－酸化鉄粉末を使用することによって、磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋを高めることができる。異方性磁界Ｈｋが高く平均粒子サイズが小さい強磁性粉末を使用することは、記録密度向上の観点から好ましい。上記磁気記録媒体の異方性磁界Ｈｋは、記録適性の観点からは、３３０００Ｏｅ以下であることが好ましく、２５０００Ｏｅ以下であることがより好ましく、２００００Ｏｅ以下であることが更に好ましい。

磁気記録媒体の異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋは、例えば、磁性層形成のために使用されるε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋによって制御することができる。この点から、上記磁気記録媒体の磁性層形成のために使用されるε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布は、１．５０以下であることが好ましく、１．４５以下であることがより好ましく、１．４０以下であることが更に好ましく、１．３５以下であることが一層好ましく、１．３０以下であることがより一層好ましく、１．２５以下であることが更に一層好ましく、１．２０以下であることがなお一層好ましく、１．１５以下であることがなおより一層好ましく、１．１０以下であることがなお更に一層好ましい。また、上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布は、例えば０．４０以上、０．４５以上または０．５０以上であることができる。再生出力の減衰が少ない磁気記録媒体を作製する観点からは、ここで例示した値を下回ることも好ましい。また、上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界Ｈｋは、５０００Ｏｅ以上であることが好ましく、７０００Ｏｅ以上であることがより好ましく、９０００Ｏｅ以上であることが更に好ましい。上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界Ｈｋは、３３０００Ｏｅ以下であることが好ましく、２５０００Ｏｅ以下であることがより好ましく、２００００Ｏｅ以下であることが更に好ましく、１５０００Ｏｅ以下であることが一層好ましく、１３０００Ｏｅ以下であることがより一層好ましく、１１０００Ｏｅ以下であることが更に一層好ましい。

＜磁性層＞
（強磁性粉末）
上記磁気記録媒体は、磁性層の強磁性粉末としてε－酸化鉄粉末を含む。ε－酸化鉄粉末の詳細については、後述する。磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０～９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。

上記磁気記録媒体の磁性層に含まれるε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは、記録密度向上の観点からは５．０ｎｍ以上であることが好ましく、６．０ｎｍ以上であることがより好ましく、７．０ｎｍ以上であることが更に好ましく、８．０ｎｍ以上であることが一層好ましい。また、磁化の安定性の観点からは、ε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは、２０．０ｎｍ以下であることが好ましく、１８．０ｎｍ以下であることがより好ましく、１６．０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１４．０ｎｍ以下であることが一層好ましい。ε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは、例えばε－酸化鉄粉末の製造条件によって調整できる。

本発明および本明細書において、特記しない限り、ε－酸化鉄粉末等の各種粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントするか、ディスプレイに表示する等して、粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、粉末の平均粒子サイズとする。
上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて行うことができる。後述の実施例に示す平均粒子サイズは、特記しない限り、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて測定された値である。本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。例えば、強磁性粉末とは、複数の強磁性粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。

粒子サイズ測定のために磁気記録媒体から試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１－０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。

本発明および本明細書において、特記しない限り、粉末を構成する粒子のサイズ（粒子サイズ）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。

また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、特記しない限り、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、特記しない限り、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。

（結合剤、硬化剤）
上記磁気記録媒体は塗布型の磁気記録媒体であることができ、磁性層に結合剤を含むことができる。結合剤は、一種以上の樹脂である。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。これらの樹脂は、後述する非磁性層および／またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。
以上の結合剤については、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００２８～００３１を参照できる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記測定条件により測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。後述の実施例に示す結合剤の重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ－Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ（Ｉｎｎｅｒ Ｄｉａｍｅｔｅｒ）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）

また、結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。この点は、他の層を形成するために用いられる組成物が硬化剤を含む場合に、この組成物を用いて形成される層についても同様である。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１２４～０１２５を参照できる。磁性層形成用組成物の硬化剤の含有量は、結合剤１００．０質量部に対して例えば０～８０．０質量部であることができ、磁性層の強度向上の観点からは５０．０～８０．０質量部であることができる。

（添加剤）
磁性層には、必要に応じて一種以上の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、一例として、上記の硬化剤が挙げられる。また、磁性層に含まれる添加剤としては、非磁性粉末（例えば無機粉末、カーボンブラック等）、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤等を挙げることができる。例えば、潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０～００３３、００３５および００３６を参照できる。後述する非磁性層に潤滑剤が含まれていてもよい。非磁性層に含まれ得る潤滑剤については、特開２０１６－１２６８１７号公報の段落００３０～００３１、００３４、００３５および００３６を参照できる。分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１および００７１を参照できる。分散剤を非磁性層形成用組成物に添加してもよい。非磁性層形成用組成物に添加し得る分散剤については、特開２０１２－１３３８３７号公報の段落００６１を参照できる。また、磁性層に含まれ得る非磁性粉末としては、研磨剤として機能することができる非磁性粉末、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性粉末（例えば非磁性コロイド粒子等）等が挙げられる。なお後述の実施例に示すコロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）の平均粒子サイズは、特開２０１１－０４８８７８号公報の段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められた値である。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して、または公知の方法で製造して、任意の量で使用することができる。研磨剤を含む磁性層に研磨剤の分散性を向上させるために使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３－１３１２８５号公報の段落００１２～００２２に記載の分散剤を挙げることができる。

以上説明した磁性層は、非磁性支持体表面上に直接、または非磁性層を介して間接的に、設けることができる。

＜非磁性層＞
次に非磁性層について説明する。上記磁気記録媒体は、非磁性支持体表面上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体表面上に非磁性粉末を含む非磁性層を介して磁性層を有していてもよい。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機粉末でも有機粉末でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機粉末としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１４６～０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００４０～００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０～９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９０質量％の範囲である。

非磁性層は、結合剤を含むことができ、添加剤を含むこともできる。非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。

本発明および本明細書において、非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が１００Ｏｅ以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が１００Ｏｅ以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。

＜非磁性支持体＞
次に、非磁性支持体について説明する。非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、加熱処理等を行ってもよい。

＜バックコート層＞
上記磁気記録媒体は、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末を含むバックコート層を有することもできる。バックコート層には、カーボンブラックおよび無機粉末のいずれか一方または両方が含有されていることが好ましい。バックコート層は、結合剤を含むことができ、添加剤を含むこともできる。バックコート層の結合剤および添加剤については、バックコート層に関する公知技術を適用することができ、磁性層および／または非磁性層の処方に関する公知技術を適用することもできる。例えば、特開２００６－３３１６２５号公報の段落００１８～００２０および米国特許第７，０２９，７７４号明細書の第４欄６５行目～第５欄３８行目の記載を、バックコート層について参照できる。

＜各種厚み＞
非磁性支持体の厚みは、例えば３．０～８０．０μｍであり、３．０～２０．０μｍであることが好ましく、３．０～１０．０μｍであることがより好ましい。
磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができ、一般には０．０１μｍ～０．１５μｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは０．０２μｍ～０．１２μｍであり、更に好ましくは０．０３μｍ～０．１μｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する二層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。二層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。
非磁性層の厚みは、例えば０．１～１．５μｍであり、０．１～１．０μｍであることが好ましい。
バックコート層の厚みは、０．９μｍ以下が好ましく、０．１～０．７μｍが更に好ましい。
磁気記録媒体の各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気記録媒体の厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡を用いて断面観察を行う。断面観察において１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。

＜製造工程＞
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ二段階以上に分かれていてもかまわない。各層形成用組成物の調製に用いられる成分は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。溶媒としては、塗布型磁気記録媒体の製造に通常用いられる各種溶媒の一種または二種以上を用いることができる。溶媒については、例えば特開２０１１－２１６１４９号公報の段落０１５３を参照できる。また、個々の成分を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、結合剤を混練工程、分散工程および分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。上記磁気記録媒体を製造するためには、公知の製造技術を各種工程において用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつものを使用することが好ましい。混練処理の詳細については、特開平１－１０６３３８号公報および特開平１－７９２７４号公報を参照できる。分散機は公知のものを使用することができる。各層形成用組成物を調製する任意の段階において、公知の方法によってろ過を行ってもよい。ろ過は、例えばフィルタろ過によって行うことができる。ろ過に用いるフィルタとしては、例えば孔径０．０１～３μｍのフィルタ（例えばガラス繊維製フィルタ、ポリプロピレン製フィルタ等）を用いることができる。

磁性層は、磁性層形成用組成物を、例えば、非磁性支持体上に直接塗布するか、または非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。バックコート層は、バックコート層形成用組成物を、非磁性支持体の磁性層を有する（または磁性層が追って設けられる）側とは反対側に塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０－２４１１３号公報の段落００５１を参照できる。

塗布工程後には、乾燥処理、磁性層の配向処理、表面平滑化処理（カレンダ処理）等の各種処理を行うことができる。各種工程については、例えば特開２０１０－２４１１３号公報の段落００５２～００５７等の公知技術を参照できる。例えば、磁性層形成用組成物の塗布層には、この塗布層が湿潤状態にあるうちに配向処理を施すことが好ましい。配向処理については、特開２０１０－２３１８４３号公報の段落００６７の記載をはじめとする各種公知技術を適用することができる。例えば、垂直配向処理は、異極対向磁石を用いる方法等の公知の方法によって行うことができる。配向ゾーンでは、乾燥風の温度、風量および／または配向ゾーンにおける磁気テープの搬送速度によって塗布層の乾燥速度を制御することができる。また、配向ゾーンに搬送する前に塗布層を予備乾燥させてもよい。

上記のように製造された磁気記録媒体には、磁気記録再生装置における磁気ヘッドのトラッキング制御、磁気記録媒体の走行速度の制御等を可能とするために、公知の方法によってサーボパターンを形成することができる。「サーボパターンの形成」は、「サーボ信号の記録」ということもできる。上記磁気記録媒体は、テープ状の磁気記録媒体（磁気テープ）であってもよく、ディスク状の磁気記録媒体（磁気ディスク）であってもよい。以下では、磁気テープを例にサーボパターンの形成について説明する。

サーボパターンは、通常、磁気テープの長手方向に沿って形成される。サーボ信号を利用する制御（サーボ制御）の方式としては、タイミングベースサーボ（ＴＢＳ）、アンプリチュードサーボ、周波数サーボ等が挙げられる。

ＥＣＭＡ（Ｅｕｒｏｐｅａｎ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅｒｓ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）―３１９に示される通り、ＬＴＯ（Ｌｉｎｅａｒ Ｔａｐｅ－Ｏｐｅｎ）規格に準拠した磁気テープ（一般に「ＬＴＯテープ」と呼ばれる。）では、タイミングベースサーボ方式が採用されている。このタイミングベースサーボ方式において、サーボパターンは、互いに非平行な一対の磁気ストライプ（「サーボストライプ」とも呼ばれる。）が、磁気テープの長手方向に連続的に複数配置されることによって構成されている。本発明および本明細書において、「タイミングベースサーボパターン」とは、タイミングベースサーボ方式のサーボシステムにおけるヘッドトラッキングを可能とするサーボパターンをいう。上記のように、サーボパターンが互いに非平行な一対の磁気ストライプにより構成される理由は、サーボパターン上を通過するサーボ信号読み取り素子に、その通過位置を教えるためである。具体的には、上記の一対の磁気ストライプは、その間隔が磁気テープの幅方向に沿って連続的に変化するように形成されており、サーボ信号読み取り素子がその間隔を読み取ることによって、サーボパターンとサーボ信号読み取り素子との相対位置を知ることができる。この相対位置の情報が、データトラックのトラッキングを可能にする。そのために、サーボパターン上には、通常、磁気テープの幅方向に沿って、複数のサーボトラックが設定されている。

サーボバンドは、磁気テープの長手方向に連続するサーボ信号により構成される。このサーボバンドは、通常、磁気テープに複数本設けられる。例えば、ＬＴＯテープにおいて、その数は５本である。隣接する２本のサーボバンドに挟まれた領域は、データバンドと呼ばれる。データバンドは、複数のデータトラックで構成されており、各データトラックは、各サーボトラックに対応している。

また、一態様では、特開２００４－３１８９８３号公報に示されているように、各サーボバンドには、サーボバンドの番号を示す情報（「サーボバンドＩＤ（ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）」または「ＵＤＩＭ（Ｕｎｉｑｕｅ ＤａｔａＢａｎｄ Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ）情報」とも呼ばれる。）が埋め込まれている。このサーボバンドＩＤは、サーボバンド中に複数ある一対のサーボストライプのうちの特定のものを、その位置が磁気テープの長手方向に相対的に変位するように、ずらすことによって記録されている。具体的には、複数ある一対のサーボストライプのうちの特定のもののずらし方を、サーボバンド毎に変えている。これにより、記録されたサーボバンドＩＤはサーボバンド毎にユニークなものとなるため、一つのサーボバンドをサーボ信号読み取り素子で読み取るだけで、そのサーボバンドを一意に（ｕｎｉｑｕｅｌｙ）特定することができる。

なお、サーボバンドを一意に特定する方法には、ＥＣＭＡ―３１９に示されているようなスタッガード方式を用いたものもある。このスタッガード方式では、磁気テープの長手方向に連続的に複数配置された、互いに非平行な一対の磁気ストライプ（サーボストライプ）の群を、サーボバンド毎に磁気テープの長手方向にずらすように記録する。隣接するサーボバンド間における、このずらし方の組み合わせは、磁気テープ全体においてユニークなものとされているため、２つのサーボ信号読み取り素子によりサーボパターンを読み取る際に、サーボバンドを一意に特定することも可能となっている。

また、各サーボバンドには、ＥＣＭＡ―３１９に示されている通り、通常、磁気テープの長手方向の位置を示す情報（「ＬＰＯＳ（Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌ Ｐｏｓｉｔｉｏｎ）情報」とも呼ばれる。）も埋め込まれている。このＬＰＯＳ情報も、ＵＤＩＭ情報と同様に、一対のサーボストライプの位置を、磁気テープの長手方向にずらすことによって記録されている。ただし、ＵＤＩＭ情報とは異なり、このＬＰＯＳ情報では、各サーボバンドに同じ信号が記録されている。

上記のＵＤＩＭ情報およびＬＰＯＳ情報とは異なる他の情報を、サーボバンドに埋め込むことも可能である。この場合、埋め込まれる情報は、ＵＤＩＭ情報のようにサーボバンド毎に異なるものであってもよいし、ＬＰＯＳ情報のようにすべてのサーボバンドに共通のものであってもよい。
また、サーボバンドに情報を埋め込む方法としては、上記以外の方法を採用することも可能である。例えば、一対のサーボストライプの群の中から、所定の対を間引くことによって、所定のコードを記録するようにしてもよい。

サーボパターン形成用ヘッドは、サーボライトヘッドと呼ばれる。サーボライトヘッドは、上記一対の磁気ストライプに対応した一対のギャップを、サーボバンドの数だけ有する。通常、各一対のギャップには、それぞれコアとコイルが接続されており、コイルに電流パルスを供給することによって、コアに発生した磁界が、一対のギャップに漏れ磁界を生じさせることができる。サーボパターンの形成の際には、サーボライトヘッド上に磁気テープを走行させながら電流パルスを入力することによって、一対のギャップに対応した磁気パターンを磁気テープに転写させて、サーボパターンを形成することができる。各ギャップの幅は、形成されるサーボパターンの密度に応じて適宜設定することができる。各ギャップの幅は、例えば、１μｍ以下、１～１０μｍ、１０μｍ以上等に設定可能である。

磁気テープにサーボパターンを形成する前には、磁気テープに対して、通常、消磁（イレース）処理が施される。このイレース処理は、直流磁石または交流磁石を用いて、磁気テープに一様な磁界を加えることによって行うことができる。イレース処理には、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）イレースとＡＣ（Ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ Ｃｕｒｒｅｎｔ）イレースとがある。ＡＣイレースは、磁気テープに印加する磁界の方向を反転させながら、その磁界の強度を徐々に下げることによって行われる。一方、ＤＣイレースは、磁気テープに一方向の磁界を加えることによって行われる。ＤＣイレースには、更に２つの方法がある。第一の方法は、磁気テープの長手方向に沿って一方向の磁界を加える、水平ＤＣイレースである。第二の方法は、磁気テープの厚み方向に沿って一方向の磁界を加える、垂直ＤＣイレースである。イレース処理は、磁気テープ全体に対して行ってもよいし、磁気テープのサーボバンド毎に行ってもよい。

形成されるサーボパターンの磁界の向きは、イレースの向きに応じて決まる。例えば、磁気テープに水平ＤＣイレースが施されている場合、サーボパターンの形成は、磁界の向きがイレースの向きと反対になるように行われる。これにより、サーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号の出力を、大きくすることができる。なお、特開２０１２－５３９４０号公報に示されている通り、垂直ＤＣイレースされた磁気テープに、上記ギャップを用いた磁気パターンの転写を行った場合、形成されたサーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号は、単極パルス形状となる。一方、水平ＤＣイレースされた磁気テープに、上記ギャップを用いた磁気パターンの転写を行った場合、形成されたサーボパターンが読み取られて得られるサーボ信号は、双極パルス形状となる。

磁気テープは、通常、磁気テープカートリッジに収容され、磁気テープカートリッジが磁気記録再生装置に装着される。

磁気テープカートリッジでは、一般に、カートリッジ本体内部に磁気テープがリールに巻き取られた状態で収容されている。リールは、カートリッジ本体内部に回転可能に備えられている。磁気テープカートリッジとしては、カートリッジ本体内部にリールを１つ具備する単リール型の磁気テープカートリッジおよびカートリッジ本体内部にリールを２つ具備する双リール型の磁気テープカートリッジが広く用いられている。単リール型の磁気テープカートリッジは、磁気テープへのデータの記録および／または再生のために磁気記録再生装置に装着されると、磁気テープカートリッジから磁気テープが引き出されて磁気記録再生装置側のリールに巻き取られる。磁気テープカートリッジから巻き取りリールまでの磁気テープ搬送経路には、磁気ヘッドが配置されている。磁気テープカートリッジ側のリール（供給リール）と磁気記録再生装置側のリール（巻き取りリール）との間で、磁気テープの送り出しと巻き取りが行われる。この間、磁気ヘッドと磁気テープの磁性層表面とが接触し摺動することにより、データの記録および／または再生が行われる。これに対し、双リール型の磁気テープカートリッジは、供給リールと巻き取りリールの両リールが、磁気テープカートリッジ内部に具備されている。磁気テープカートリッジは、単リール型および双リール型のいずれの磁気テープカートリッジであってもよい。磁気テープカートリッジのその他の詳細については、公知技術を適用することができる。

［磁気記録再生装置］
本発明の一態様は、上記磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、を含む磁気記録再生装置に関する。

本発明および本明細書において、「磁気記録再生装置」とは、磁気記録媒体へのデータの記録および磁気記録媒体に記録されたデータの再生の少なくとも一方を行うことができる装置を意味するものとする。かかる装置は、一般にドライブと呼ばれる。上記磁気記録再生装置は、摺動型の磁気記録再生装置であることができる。摺動型の磁気記録再生装置とは、磁気記録媒体へのデータの記録および／または記録されたデータの再生を行う際に磁性層表面と磁気ヘッドとが接触し摺動する装置をいう。

上記磁気記録再生装置に含まれる磁気ヘッドは、磁気記録媒体へのデータの記録を行うことができる記録ヘッドであることができ、磁気記録媒体に記録されたデータの再生を行うことができる再生ヘッドであることもできる。また、上記磁気記録再生装置は、一態様では、別々の磁気ヘッドとして、記録ヘッドと再生ヘッドの両方を含むことができる。他の一態様では、上記磁気記録再生装置に含まれる磁気ヘッドは、データの記録のための素子（記録素子）とデータの再生のための素子（再生素子）の両方を１つの磁気ヘッドに備えた構成を有することもできる。以下において、データの記録のための素子および再生のための素子を、「データ用素子」と総称する。再生ヘッドとしては、磁気記録媒体に記録されたデータを感度よく読み取ることができる磁気抵抗効果型（ＭＲ；Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）素子を再生素子として含む磁気ヘッド（ＭＲヘッド）が好ましい。ＭＲヘッドとしては、ＡＭＲ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッド、ＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッド、ＴＭＲ（Ｔｕｎｎｅｌ Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッド等の公知の各種ＭＲヘッドを用いることができる。また、データの記録および／またはデータの再生を行う磁気ヘッドには、サーボ信号読み取り素子が含まれていてもよい。または、データの記録および／またはデータの再生を行う磁気ヘッドとは別のヘッドとして、サーボ信号読み取り素子を備えた磁気ヘッド（サーボヘッド）が上記磁気記録再生装置に含まれていてもよい。例えば、データの記録および／または記録されたデータの再生を行う磁気ヘッド（以下、「記録再生ヘッド」とも呼ぶ。）は、サーボ信号読み取り素子を２つ含むことができ、２つのサーボ信号読み取り素子のそれぞれが、隣接する２つのサーボバンドを同時に読み取ることができる。２つのサーボ信号読み取り素子の間に、１つまたは複数のデータ用素子を配置することができる。

上記磁気記録再生装置において、磁気記録媒体へのデータの記録および／または磁気記録媒体に記録されたデータの再生は、磁気記録媒体の磁性層表面と磁気ヘッドとを接触させて摺動させることにより行うことができる。上記磁気記録再生装置は、本発明の一態様にかかる磁気記録媒体を含むものであればよく、その他については公知技術を適用することができる。

例えば、データの記録および／または記録されたデータの再生の際には、まず、サーボ信号を用いたトラッキングが行われる。すなわち、サーボ信号読み取り素子を所定のサーボトラックに追従させることによって、データ用素子が、目的とするデータトラック上を通過するように制御される。データトラックの移動は、サーボ信号読み取り素子が読み取るサーボトラックを、テープ幅方向に変更することにより行われる。
また、記録再生ヘッドは、他のデータバンドに対する記録および／または再生を行うことも可能である。その際には、先に記載したＵＤＩＭ情報を利用してサーボ信号読み取り素子を所定のサーボバンドに移動させ、そのサーボバンドに対するトラッキングを開始すればよい。

［ε－酸化鉄粉末］
本発明の一態様は、異方性磁界分布が１．５０以下であるε－酸化鉄粉末に関する。

上記ε－酸化鉄粉末は、先に説明した本発明の一態様にかかる磁気記録媒体の製造のために好適である。上記ε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋについては、上記磁気記録媒体の磁性層形成に使用可能なε－酸化鉄粉末に関する先の記載を参照できる。また、平均粒子サイズについても同様である。

＜ε－酸化鉄粉末の製造方法＞
ε－酸化鉄粉末の製造方法としては、ゲーサイトから作製する方法、逆ミセル法等が知られている。上記製造方法は、いずれも公知である。また、Ｆｅの一部がＧａ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｒｈ等の置換元素によって置換されたε－酸化鉄粉末を製造する方法については、例えば、Ｊ． Ｊｐｎ． Ｓｏｃ． Ｐｏｗｄｅｒ Ｍｅｔａｌｌｕｒｇｙ Ｖｏｌ． ６１ Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ， Ｎｏ． Ｓ１， ｐｐ． Ｓ２８０－Ｓ２８４、Ｊ． Ｍａｔｅｒ． Ｃｈｅｍ． Ｃ， ２０１３， １， ｐｐ．５２００－５２０６等を参照できる。

一例として、例えば、上記ε－酸化鉄粉末は、
ε－酸化鉄の前駆体を調製すること（以下、「前駆体調製工程」とも記載する。）、
上記前駆体を被膜形成処理に付すこと（以下、「被膜形成工程」とも記載する。）、
上記被膜形成処理後の上記前駆体に熱処理を施すことにより、上記前駆体をε－酸化鉄に転換すること（以下、「熱処理工程」とも記載する。）、および
上記ε－酸化鉄を被膜除去処理に付すこと（以下、「被膜除去工程」とも記載する。）、
を経てε－酸化鉄粉末を得る製造方法によって得ることができる。以下に、かかる製造方法について更に説明する。ただし以下に記載する製造方法は例示であって、本発明の一態様にかかるε－酸化鉄粉末は、以下に例示する製造方法によって製造されたものに限定されるものではない。

（前駆体調製工程）
ε－酸化鉄の前駆体とは、加熱されることによりε－酸化鉄型の結晶構造を主相として含むものとなる物質をいう。前駆体は、例えば、鉄および結晶構造において鉄の一部を置換し得る元素を含有する水酸化物、オキシ水酸化物（酸化水酸化物）等であることができる。前駆体調製工程は、共沈法、逆ミセル法等を利用して行うことができる。かかる前駆体の調製方法は公知であり、上記製造方法における前駆体調製工程は、公知の方法によって行うことができる。例えば、前駆体の調製方法については、特開２００８－１７４４０５号公報の段落００１７～００２１および同公報の実施例、ＷＯ２０１６／０４７５５９Ａ１の段落００２５～００４６および同公報の実施例、ＷＯ２００８／１４９７８５Ａ１の段落００３８～００４０、００４２、００４４～００４５および同公報の実施例等の公知技術を参照できる。

鉄の一部を置換する置換元素を含まないε－酸化鉄は、組成式：Ｆｅ_２Ｏ_３により表すことができる。一方、鉄の一部が、例えば一種～三種の元素により置換されたε－酸化鉄は、組成式：Ａ^１ _ｘＡ^２ _ｙＡ^３ _ｚＦｅ_{（２－ｘ－ｙ－ｚ）}Ｏ_３により表すことができる。Ａ^１ _、Ａ^２およびＡ^３はそれぞれ独立に鉄を置換する置換元素を表し、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立に０以上１未満であり、ただし少なくとも１つが０超であり、ｘ＋ｙ＋ｚは２未満である。上記ε－酸化鉄粉末は、鉄を置換する置換元素を含まなくてもよく、含んでもよい。置換元素の種類および置換量によって、異方性磁界Ｈｋ等のε－酸化鉄粉末の磁気特性を調整することができる。置換元素が含まれる場合、置換元素としては、Ｇａ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｒｈ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ等の一種以上を挙げることができる。例えば、上記組成式において、Ａ^１はＧａ、Ａｌ、ＩｎまたはＲｈであることができ、Ａ^２はＭｎ、Ｃｏ、ＮｉまたはＺｎであることができ、Ａ^３はＴｉまたはＳｎであることができる。置換元素としては、Ｇａ、ＣｏおよびＴｉの一種以上が好ましい。ε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布は、鉄を置換する元素の種類が多いほど値が大きくなり易い傾向があり、鉄を置換する元素の置換量が多いほど大きくなり易い傾向がある。この場合、例えば後述するように熱処理工程の熱処理条件を調整することによって、異方性磁界分布の値を小さくすることができる。鉄を置換する置換元素を含むε－酸化鉄粉末を製造する場合、ε－酸化鉄におけるＦｅの供給源となる化合物の一部を、置換元素の化合物に置き換えればよい。その置換量によって、得られるε－酸化鉄粉末の組成を制御することができる。鉄および各種置換元素の供給源となる化合物としては、例えば、硝酸塩、硫酸塩、塩化物等の無機塩（水和物であってもよい。）、ペンタキス（シュウ酸水素）塩等の有機塩（水和物であってもよい。）、水酸化物、オキシ水酸化物等を挙げることができる。

（被膜形成工程）
前駆体を被膜形成処理後に加熱すると、前駆体がε－酸化鉄に転換する反応を被膜下で進行させることができる。また、被膜は、加熱時に焼結が起こることを防ぐ役割を果たすこともできると考えられる。被膜形成処理は、被膜形成の容易性の観点からは、溶液中で行うことが好ましく、前駆体を含む溶液に被膜形成剤（被膜形成のための化合物）を添加して行うことがより好ましい。例えば、前駆体調製に引き続き同じ溶液中で被膜形成処理を行う場合には、前駆体調製後の溶液に被膜形成剤を添加し撹拌することにより、前駆体に被膜を形成することができる。溶液中で前駆体に被膜を形成することが容易な点で好ましい被膜としては、ケイ素含有被膜を挙げることができる。ケイ素含有被膜を形成するための被膜形成剤としては、例えば、アルコキシシラン等のシラン化合物を挙げることができる。シラン化合物の加水分解によって、好ましくはゾル－ゲル法を利用して、前駆体にケイ素含有被膜を形成することができる。シラン化合物の具体例としては、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ；Ｔｅｔｒａｅｔｈｙｌ ｏｒｔｈｏｓｉｌｉｃａｔｅ）、テトラメトキシシランおよび各種シランカップリング剤を例示できる。被膜形成処理については、例えば、特開２００８－１７４４０５号公報の段落００２２および同公報の実施例、ＷＯ２０１６／０４７５５９Ａ１の段落００４７～００４９および同公報の実施例、ＷＯ２００８／１４９７８５Ａ１の段落００４１、００４３および同公報の実施例等の公知技術を参照できる。例えば、被膜形成処理は、前駆体および被膜形成剤を含む５０～９０℃の液温の溶液を５～３６時間程度撹拌することによって行うことができる。なお被膜は前駆体の表面の全部を覆ってもよく、前駆体表面の一部に被膜によって被覆されていない部分があってもよい。

（熱処理工程）
上記被膜形成処理後の前駆体に熱処理を施すことにより、前駆体をε－酸化鉄に転換することができる。熱処理は、例えば被膜形成処理を行った溶液から採取した粉末（被膜を有する前駆体の粉末）に対して行うことができる。熱処理工程については、例えば、特開２００８－１７４４０５号公報の段落００２３および同公報の実施例、ＷＯ２０１６／０４７５５９Ａ１の段落００５０および同公報の実施例、ＷＯ２００８／１４９７８５Ａ１の段落００４１、００４３および同公報の実施例等の公知技術を参照できる。熱処理工程は、例えば、熱処理炉内で炉内温度を室温から９００～１２００℃の範囲の加熱温度に昇温し、この範囲の加熱温度で４～２０時間、好ましくは６～１０時間保持し、その後室温まで降温することによって行うことができる。室温とは、例えば２０℃±５℃の温度であることができる。上記昇温時の昇温速度は、０．５～２０．０℃／ｍｉｎの範囲であることが好ましく、１．０～１０．０℃／ｍｉｎの範囲であることがより好ましい。また、上記降温時の降温速度は０．２～２．０℃／ｍｉｎの範囲であることが好ましく、０．４～１．０℃／ｍｉｎの範囲であることがより好ましい。上記加熱温度での保持時間を長くするほどε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布の値は小さくなり易く、上記降温時の降温速度を遅くするほどε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布の値は小さくなり易い。

（被膜除去工程）
上記熱処理工程を行うことにより、被膜を有する前駆体をε－酸化鉄に転換することができる。こうして得られるε－酸化鉄には被膜が残留しているため、好ましくは、被膜除去処理を行う。被膜除去処理については、例えば、特開２００８－１７４４０５号公報の段落００２５および同公報の実施例、ＷＯ２００８／１４９７８５Ａ１の段落００５３および同公報の実施例等の公知技術を参照できる。被膜除去処理は、例えば、被膜を有するε－酸化鉄を、４ｍｏｌ／Ｌ程度の濃度の液温６０～９０℃程度の水酸化ナトリウム水溶液中で、５～３６時間撹拌することによって行うことができる。ただし本発明の一態様にかかるε－酸化鉄粉末は、被膜除去処理を経ずに製造されたもの、即ち被膜を有するものであってもよい。また、被膜除去処理において完全に被膜が除去されず、一部の被膜が残留しているものでもよい。

以上記載した各種工程の前および／または後に、公知の工程を任意に実施することもできる。かかる工程としては、例えば、分級、ろ過、洗浄、乾燥等の各種の公知の工程を挙げることができる。例えば分級は、遠心分離、デカンテーション等の公知の分級処理によって行うことができる。分級処理を行うことにより異方性磁界分布が小さいε－酸化鉄粉末が得られ易くなる傾向がある。

以下に、本発明を実施例により更に具体的に説明する。ただし本発明は、実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の「部」および「％」は、特記しない限り、「質量部」および「質量％」を示す。「ｅｑ」は、当量（ ｅｑｕｉｖａｌｅｎｔ）であり、ＳＩ単位に換算不可の単位である。また、下記工程および評価は、特記しない限り、２３℃±１℃の大気雰囲気中で行った。

［実施例１］
＜ε－酸化鉄粉末の作製＞
純水９０．０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．３ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物１．３ｇ、硝酸コバルト（ＩＩ）６水和物１９０ｍｇ、硫酸チタン（ＩＶ）１５０ｍｇ、およびポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１．５ｇを溶解させたものを、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、雰囲気温度２５℃の条件下で、濃度２５％のアンモニア水溶液４．０ｇを添加し、雰囲気温度２５℃の温度条件のまま２時間撹拌した。得られた溶液に、クエン酸１ｇを純水９ｇに溶解させて得たクエン酸溶液を加え、１時間撹拌した。撹拌後に沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で乾燥させた。
乾燥させた粉末に純水８００ｇを加えて再度粉末を水に分散させて分散液を得た。得られた分散液を液温５０℃に昇温し、撹拌しながら濃度２５％アンモニア水溶液を４０ｇ滴下した。５０℃の温度を保ったまま１時間撹拌した後、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）１４ｍＬを滴下し、２４時間撹拌した。得られた反応溶液に、硫酸アンモニウム５０ｇを加え、沈殿した粉末を遠心分離によって採集し、純水で洗浄し、炉内温度８０℃の加熱炉内で２４時間乾燥させ、強磁性粉末の前駆体を得た。
得られた強磁性粉末の前駆体を、大気雰囲気下、熱処理炉内で以下の条件で焼成（熱処理）した。まず、炉内温度を２０℃から４．０℃／ｍｉｎの昇温速度で表１に示す温度まで昇温した。続けて、この温度を８時間保持した。その後、炉内温度を表１に示す降温速度で２０℃まで降温した。
加熱処理した強磁性粉末の前駆体を、４ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶液中に投入し、液温を７０℃に維持して２４時間撹拌することにより、加熱処理した強磁性粉末の前駆体から不純物であるケイ酸化合物を除去した。
その後、遠心分離処理により、ケイ酸化合物を除去した強磁性粉末を採集し、純水で洗浄を行い、強磁性粉末を得た。
得られた強磁性粉末の組成を高周波誘導結合プラズマ発光分光分析（ＩＣＰ－ＯＥＳ；Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｐｌａｓｍａ－Ｏｐｔｉｃａｌ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）により確認したところ、Ｇａ、ＣｏおよびＴｉ置換型ε－酸化鉄（ε－Ｇａ_０．２８Ｃｏ_０．０５Ｔｉ_０．０５Ｆｅ_１．６２Ｏ_３）であった。また、上記で得られた強磁性粉末について、Ｘ線回折分析を行った。Ｘ線回折分析は、ＣｕＫα線を電圧４５ｋＶかつ強度４０ｍＡの条件で走査し、下記条件でＸ線回折パターンを測定することによって行った。Ｘ線回折分析により得られたＸ線回折パターンのピークから、得られた強磁性粉末が、α相およびγ相の結晶構造を含まない、ε相の単相の結晶構造（ε－酸化鉄型の結晶構造）を有することを確認した。即ち、ε－酸化鉄粉末が作製されたことを確認した。
ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ Ｘ’Ｐｅｒｔ Ｐｒｏ回折計、ＰＩＸｃｅｌ検出器
入射ビームおよび回折ビームのＳｏｌｌｅｒスリット：０．０１７ラジアン
分散スリットの固定角：１／４度
マスク：１０ｍｍ
散乱防止スリット：１／４度
測定モード：連続
１段階あたりの測定時間：３秒
測定速度：毎秒０．０１７度
測定ステップ：０．０５度

後述の方法で作製された各強磁性粉末についても実施例１と同様のＸ線回折分析を行い、各強磁性粉末が、α相およびγ相の結晶構造を含まない、ε相の単相の結晶構造（ε－酸化鉄型の結晶構造）を有することを確認した。即ち、ε－酸化鉄粉末であることを確認した。
また、後述の方法で作製された強磁性粉末の組成を高周波誘導結合プラズマ発光分光分析（ＩＣＰ－ＯＥＳ）により確認したところ、表１に示す組成を有するＧａ、ＣｏおよびＴｉ置換型ε－酸化鉄であった。

＜磁気記録媒体（磁気テープ）の作製＞
（１）磁性層形成用組成物の処方
（磁性液）
上記で作製された強磁性粉末：１００．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：１４．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．４ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：１５０．０部
メチルエチルケトン：１５０．０部
オレイン酸：２．０部
（研磨剤液）
研磨剤液Ａ
アルミナ研磨剤（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）：３．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：０．３部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．３ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：２６．７部
研磨剤液Ｂ
ダイヤモンド研磨剤（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）：１．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：０．１部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．３ｍｅｑ／ｇ）
シクロヘキサノン：２６．７部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ：１００ｎｍ）：０．２部
メチルエチルケトン：１．４部
（その他の成分）
ステアリン酸：２．０部
ブチルステアレート：６．０部
ポリイソシアネート（東ソー社製コロネート）：２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン：２００．０部
メチルエチルケトン：２００．０部

（２）非磁性層形成用組成物の処方
非磁性無機粉末 α－酸化鉄：１００．０部
平均粒子サイズ：１０ｎｍ
平均針状比：１．９
ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ－Ｅｍｍｅｔｔ－Ｔｅｌｌｅｒ）比表面積：７５ｍ^２／ｇ
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２５．０部
ＳＯ_３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂：１８．０部
（重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ_３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ）
ステアリン酸：１．０部
シクロヘキサノン：３００．０部
メチルエチルケトン：３００．０部

（３）バックコート層形成用組成物の処方
非磁性無機粉末 α－酸化鉄：８０．０部
平均粒子サイズ：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ^２／ｇ
カーボンブラック（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）：２０．０部
塩化ビニル共重合体：１３．０部
スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂：６．０部
フェニルホスホン酸：３．０部
シクロヘキサノン：１５５．０部
メチルエチルケトン：１５５．０部
ステアリン酸：３．０部
ブチルステアレート：３．０部
ポリイソシアネート：５．０部
シクロヘキサノン：２００．０部

（４）磁気テープの作製
上記磁性液の各種成分を分散させて磁性液を調製した。分散処理は、バッチ式縦型サンドミルにおいて、分散ビーズとしてビーズ径０．５ｍｍのジルコニアビーズを使用して行い、分散時間は２４時間とした。
研磨剤液は、以下の方法によって調製した。上記研磨剤液Ａの各種成分を分散させて調製した分散液と上記研磨剤液Ｂの各種成分を分散させて調製した分散液とを調製した。これら二種の分散液を混合後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ，３００Ｗ）で２４時間超音波分散処理を行うことにより、研磨剤液を調製した。
こうして得られた磁性液および研磨剤液を他の成分（シリカゾル、その他の成分および仕上げ添加溶媒）と混合後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で３０分間超音波分散処理を行った。その後、０．５μｍの孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い磁性層形成用組成物を調製した。
非磁性層形成用組成物については、上記の各種成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散した。分散ビーズとしては、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズを使用した。得られた分散液を０．５μｍの孔径を有するフィルタを用いてろ過して非磁性層形成用組成物を調製した。
バックコート層形成用組成物については、潤滑剤（ステアリン酸およびブチルステアレート）、ポリイソシアネートおよびシクロヘキサノン２００．０部を除いた上記の各種成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機により、粒径１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パスあたりの滞留時間を２分間とし、１２パスの分散処理を行った。その後、こうして得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで撹拌した。こうして得られた分散液を１μｍの孔径を有するフィルタを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を調製した。
その後、厚み５．０μｍの二軸延伸ポリエチレンナフタレート製支持体に、乾燥後の厚みが０．１μｍになるように非磁性層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、その上に乾燥後の厚みが０．０７μｍになるように磁性層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。この塗布層を、湿潤状態にあるうちに、磁場強度０．６Ｔの磁場を塗布層の表面に対し垂直方向に印加して垂直配向処理を行った後、乾燥させた。その後、上記支持体の非磁性層と磁性層を形成した表面とは反対側の表面に、乾燥後の厚みが０．４μｍになるようにバックコート層形成用組成物を塗布し乾燥させてバックコート層を形成した。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで、速度１００ｍ／分、線圧２９４ｋＮ／ｍ、カレンダロールの表面温度１００℃で表面平滑化処理（カレンダ処理）を行った後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間加熱処理を行った。加熱処理後、１／２インチ幅にスリットし、磁気テープを得た。１インチ＝０．０２５４メートルである。

［実施例２～５］
ε－酸化鉄粉末の作製において、前駆体の熱処理条件を表１に示すように変更した点以外、実施例１と同様にε－酸化鉄粉末の作製および磁気テープの作製を行った。

［実施例６］
ε－酸化鉄粉末の作製において、純水９０．０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物７．８ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物２．２ｇおよびポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１．５ｇを溶解させたものを、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、雰囲気温度２５℃の条件下で、濃度２５％のアンモニア水溶液４．０ｇを添加し、雰囲気温度２５℃の温度条件のまま２時間撹拌した。その後は実施例１と同様にε－酸化鉄粉末の作製および磁気テープの作製を行った。

［実施例７］
ε－酸化鉄粉末の作製において、純水９０．０ｇに、硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．０ｇ、硝酸ガリウム（ＩＩＩ）８水和物２．０ｇおよびポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）１．５ｇを溶解させたものを、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、大気雰囲気中、雰囲気温度２５℃の条件下で、濃度２５％のアンモニア水溶液４．０ｇを添加し、雰囲気温度２５℃の温度条件のまま２時間撹拌した。その後は実施例１と同様にε－酸化鉄粉末の作製および磁気テープの作製を行った。

［実施例８］
ε－酸化鉄粉末の作製において、遠心分離処理によりケイ酸化合物を除去した強磁性粉末を採集し純水で洗浄を行った後、得られた粉末に対して以下の処理（分級）を施した点以外、実施例７と同様にε－酸化鉄粉末の作製および磁気テープの作製を行った。
上記の純水洗浄後に得られた粉末５ｇ、クエン酸２．０ｇ、ジルコニアビーズ１５０ｇおよび純水２５ｇを密閉容器に入れ、ペイントシェーカーにて４．０時間分散処理を行った。その後、純水を１８０ｇ添加し、ビーズと液とを分離し、遠心分離を行い強磁性粉末を沈殿させた後、上澄みを除去した。その後、純水を１９０ｇ添加し、ホモジナイザーにて再分散処理を行い、濃度２５％のアンモニア水にてｐＨを１０．０に調整し、強磁性粉末の粒子の分散液を得た。得られた分散液を、遠心分離機を用いて１５２００Ｇ（重力加速度）の遠心力で１８０分間処理した後、デカンテーションにより沈殿物（粗大粒子）と上澄み液とを分離した。続いて、得られた上澄み液を、遠心分離機を用いて１５２００Ｇの遠心力で７２０分間処理した後、デカンテーションにより微小粒子が分散している上澄み液と沈殿物とを分離した。得られた沈殿物を、純水で洗浄し、内部雰囲気温度９５℃の乾燥機において２４時間乾燥させて強磁性粉末を得た。

［比較例１、２］
ε－酸化鉄粉末の作製において、前駆体の熱処理条件を表１に示すように変更した点以外、実施例１と同様にε－酸化鉄粉末の作製および磁気テープの作製を行った。

［評価方法］
（１）磁気記録媒体（磁気テープ）の異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋ
実施例および比較例の各磁気テープから長さ３ｃｍのサンプルを切り出し、このサンプルについてＶＳＭとして玉川製作所製ＴＭ－ＶＳＭ６０５０－ＳＭ型を使用して先に記載した方法によって異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋを求めた。Ｈｍ＝５００００Ｏｅ、Ｈ１＝５００Ｏｅとし、各測定のためにｘ方向に印加される磁界は、直前の測定のために印加される磁界＋５００Ｏｅとし、Ｈ６０＝３００００Ｏｅまで測定を行った。

（２）ε－酸化鉄粉末の異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋ
実施例および比較例の各強磁性粉末（ε－酸化鉄粉末）１００ｍｇをカプセル内に入れ、カプセル内の空間をパラフィンで埋めた後、このカプセルを上記（１）と同じＶＳＭのサンプルロッドに取り付け、先に記載した方法によって異方性磁界分布および異方性磁界Ｈｋを求めた。Ｈｍ＝５００００Ｏｅ、Ｈ１＝５００Ｏｅとし、各測定のためにｘ方向に印加される磁界は、直前の測定のために印加される磁界＋５００Ｏｅとし、Ｈ６０＝３００００Ｏｅまで測定を行った。

（３）強磁性粉末の平均粒子サイズ
実施例および比較例で使用した各強磁性粉末について、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ－９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ－４００を用いて、先に記載の方法によって平均粒子サイズを求めた。

（４）高温環境下での再生出力の減衰率
記録ヘッド（ＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ－Ｉｎ－Ｇａｐ）ヘッド、ギャップ長０．１５μｍ、記録トラック幅１．８μｍ）と再生ヘッド（ＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッド、再生トラック幅１μｍ）をループテスターに取り付けて、再生装置とした。
実施例および比較例の各磁気テープ（テープ長１００ｍ）に、線記録密度２００ｋｆｃｉの信号を記録した後、雰囲気温度５５℃の環境下で、記録信号を上記再生装置にて繰り返し再生を行い、記録から再生までの時間に対する再生出力の減衰率を測定した。再生出力の減衰が検出下限（－０．５％／ｄｅｃａｄｅ）を下回ったものは、表１に「＞－０．５」と表記した。単位ｋｆｃｉとは、線記録密度の単位（ＳＩ単位系に換算不可）であり、ｆｃｉは、ｆｌｕｘ ｃｈａｎｇｅ ｐｅｒ ｉｎｃｈである。
信号を記録した磁気記録媒体を繰り返し再生した場合における、再生出力の低下の程度が少ないほど、即ち、再生出力減衰率の数値（絶対値）が小さいほど、再生出力の減衰が抑制されていることを示す。

（５）電磁変換特性
ヘッドを固定した１／２インチのリールテスターを用い、実施例および比較例の各磁気テープ（テープ長１００ｍ）を、下記の走行条件で走行させ、下記の記録再生条件で磁気信号を磁気テープの長手方向に記録し、再生した。再生信号を、シバソク社製スペクトラムアナライザーを用いて周波数分析し、３００ｋｆｃｉの出力と０ｋｆｃｉ～６００ｋｆｃｉの範囲で積分したノイズとの比をＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ－ｔｏ－Ｎｏｉｓｅ Ｒａｔｉｏ）とした。ＳＮＲは、磁気テープの走行後、信号が十分に安定してから求めた。表１に、比較例１の値を基準とした相対値としてＳＮＲの測定結果を示す。 －走行条件－
搬送速度（ヘッド／テープ相対速度）：６．０ｍ／ｓ（秒）
１パスあたりの長さ：１００ｍ
走行回数：１０００パス往復
－記録再生条件－
（記録）
記録ヘッド：ＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ－Ｉｎ－Ｇａｐ）ヘッド
記録トラック幅：１．０μｍ
記録ギャップ：０．１５μｍ
ヘッドの飽和磁束密度（Ｂｓ）：１．８Ｔ
記録電流：各磁気テープの最適記録電流
（再生）
再生ヘッド：ＧＭＲヘッド
再生トラック幅：０．５μｍ
シールド（ｓｈ；ｓｈｉｅｌｄ）間距離（ｓｈ－ｓｈ距離）：０．１μｍ
素子厚み：１５ｎｍ
線記録密度：２７０ｋｆｃｉ

以上の結果を表１に示す。

表１に示す結果から、実施例１～８の磁気テープが、比較例１、２の磁気テープと比べて高温環境下での再生出力の減衰が抑制されていることが確認できる。更に、表１に示すように、実施例１～８の磁気テープは、比較例１、２の磁気テープと比べて優れた電磁変換特性を示した。

本発明の一態様は、データバックアップ、アーカイブ等の各種データストレージ用途のために有用である。

Claims (22)

1. 非磁性支持体と強磁性粉末を含む磁性層とを有する磁気記録媒体であって、
   異方性磁界分布が１．２０以下であり、かつ
   前記強磁性粉末がε－酸化鉄粉末であり、
   前記異方性磁界分布は、振動試料型磁力計を用いてレマネンス法によって以下の方法により求められる値である、磁気記録媒体。
   測定は、サンプル温度２３℃で行う。
   振動試料型磁力計としては、２つの方向（ｘ方向およびｙ方向）の磁化測定が可能な２軸振動試料型磁力計を使用する。「ｙ方向」は磁気記録媒体の厚み方向とし、「ｘ方向」はテープ状の磁気記録媒体については長手方向とし、ディスク状の磁気記録媒体については半径方向とする。
   測定対象の磁気記録媒体から振動試料型磁力計に導入可能なサイズのサンプルを切り出し、このサンプルを振動試料型磁力計のサンプルロッドに取り付けて測定を行う。
   まずｘ方向に外部磁界Ｈｍを印加してサンプルを飽和磁化させた後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。
   その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ１を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ１は、Ｈｍより小さい。
   その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ２を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ２は、Ｈ１より大きい。
   その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ３を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ３は、Ｈ２より大きい。
   以上のように、ｘ方向の印加磁界を、Ｈ１→０→Ｈ２→０→Ｈ３→０ ・・・・・と変化させて順次ｙ方向の残留磁化を測定する。各測定のためにｘ方向に印加される磁界は、直前の測定のために印加される磁界より大きい。
   以上のように測定されたｙ方向の残留磁化を、グラフ（縦軸：ｙ方向の残留磁化の大きさ、横軸：ｘ方向の印加磁界の大きさ）にプロットする。このプロットを微分し、得られた微分曲線をフォークト関数によりフィッティングして近似曲線を作成する。作成された近似曲線のピーク位置の横軸の値を異方性磁界Ｈｋとする。異方性磁界分布は、
   異方性磁界分布＝上記近似曲線の半値幅／異方性磁界Ｈｋ
   として算出する。
2. 前記異方性磁界分布が１．１５以下である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 前記異方性磁界分布が０．９５以下である、請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
4. 前記異方性磁界分布が０．４０以上０．９５以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
5. 前記異方性磁界分布が０．４０以上１．２０以下（ただし０．６５を除く）である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
6. 前記異方性磁界分布が０．４０以上０．６２以下または０．７１以上１．２０以下である、請求項１に記載の磁気記録媒体。
7. 異方性磁界Ｈｋが５０００Ｏｅ以上である、請求項１～６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
8. 異方性磁界Ｈｋが５０００Ｏｅ以上３３０００Ｏｅ以下である、請求項１～７のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
9. 前記ε－酸化鉄粉末の平均粒子サイズは、５．０ｎｍ以上２０．０ｎｍ以下である、請求項１～８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
10. 磁気テープである、請求項１～９のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
11. 前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末を含む非磁性層を有する、請求項１～１０のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
12. 前記非磁性支持体の前記磁性層を有する表面側とは反対の表面側に、非磁性粉末を含むバックコート層を有する、請求項１～１１のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
13. 請求項１～１２のいずれか１項に記載の磁気記録媒体と、磁気ヘッドと、を有する磁気記録再生装置。
14. 異方性磁界分布が１．５０以下であり、前記異方性磁界分布は、振動試料型磁力計を用いてレマネンス法によって以下の方法により求められる値である、ε－酸化鉄粉末。
    測定は、サンプル温度２３℃で行う。
    振動試料型磁力計としては、２つの方向（ｘ方向およびｙ方向）の磁化測定が可能な２軸振動試料型磁力計を使用する。振動試料型磁力計のサンプルロッドにε－酸化鉄粉末を入れたカプセルを取り付け、任意の方向をｘ方向とし、ｘ方向に対して同平面内の９０°の方向をｙ方向とする。
    まずｘ方向に外部磁界Ｈｍを印加してサンプルを飽和磁化させた後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。
    その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ１を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ１は、Ｈｍより小さい。
    その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ２を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ２は、Ｈ１より大きい。
    その後、ｘ方向と５°異なる角度から外部磁界Ｈ３を印加した後、印加磁界をゼロにしてｙ方向の残留磁化を測定する。ここでＨ３は、Ｈ２より大きい。
    以上のように、ｘ方向の印加磁界を、Ｈ１→０→Ｈ２→０→Ｈ３→０ ・・・・・と変化させて順次ｙ方向の残留磁化を測定する。各測定のためにｘ方向に印加される磁界は、直前の測定のために印加される磁界より大きい。
    以上のように測定されたｙ方向の残留磁化を、グラフ（縦軸：ｙ方向の残留磁化の大きさ、横軸：ｘ方向の印加磁界の大きさ）にプロットする。このプロットを微分し、得られた微分曲線をフォークト関数によりフィッティングして近似曲線を作成する。作成された近似曲線のピーク位置の横軸の値を異方性磁界Ｈｋとする。異方性磁界分布は、
    異方性磁界分布＝上記近似曲線の半値幅／異方性磁界Ｈｋ
    として算出する。
15. 異方性磁界分布が１．４０以下である、請求項１４に記載のε－酸化鉄粉末。
16. 異方性磁界分布が１．１５以下である、請求項１４または１５に記載のε－酸化鉄粉末。
17. 異方性磁界分布が０．５０以上１．１５以下である、請求項１４～１６のいずれか１項に記載のε－酸化鉄粉末。
18. 異方性磁界分布が０．４０以上１．５０以下（ただし０．６５を除く）である、請求項１４に記載のε－酸化鉄粉末。
19. 異方性磁界分布が０．４０以上０．６０以下または０．７７以上１．５０以下である、請求項１４に記載のε－酸化鉄粉末。
20. 異方性磁界Ｈｋが５０００Ｏｅ以上である、請求項１４～１９のいずれか１項に記載のε－酸化鉄粉末。
21. 異方性磁界Ｈｋが５０００Ｏｅ以上３３０００Ｏｅ以下である、請求項１４～２０のいずれか１項に記載のε－酸化鉄粉末。
22. 平均粒子サイズが５．０ｎｍ以上２０．０ｎｍ以下である、請求項１４～２１のいずれか１項に記載のε－酸化鉄粉末。