JP7193953B2 - Organic EL device manufacturing method and organic EL device - Google Patents

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Description

本発明は、有機ELデバイスの製造方法及び有機ELデバイスに関する。 The present invention relates to an organic EL device manufacturing method and an organic EL device.

有機EL(エレクトロルミネッセンス)デバイスは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を含むデバイスである。有機ELデバイスでは、各画素内に有機発光層が設けられ、画素毎に光が発せられる〔例えば、国際公開第2008/149499号(特許文献1)〕。 An organic EL (electroluminescence) device is a device including a light-emitting element utilizing electroluminescence of an organic compound. In an organic EL device, an organic light-emitting layer is provided in each pixel, and light is emitted from each pixel [eg, International Publication No. 2008/149499 (Patent Document 1)].

国際公開第2008/149499号WO2008/149499

有機ELデバイスには、低消費電力及び長寿命化の観点から、外部量子効率(EQE)の向上が求められている。
一方、バンク付きの画素を持つ有機ELデバイスにおいては、端部で発光した場合にリーク(短絡)につながる危険性から各画素に設けられる有機発光層の断面形状を長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状にすることによって、リークの危険性を抑えていた。しかし、このような有機ELデバイスにおいて、EQEについては改善の余地があった。
Organic EL devices are required to have improved external quantum efficiency (EQE) from the viewpoint of low power consumption and long life.
On the other hand, in an organic EL device having pixels with banks, the cross-sectional shape of the organic light-emitting layer provided in each pixel is adjusted so that the thickness at the center in the longitudinal direction is at both ends because of the risk of leakage (short circuit) when light is emitted from the edge. The risk of leakage was suppressed by making the concave shape smaller than the thickness. However, in such an organic EL device, there is room for improvement regarding EQE.

本発明の目的は、EQEが良好な有機ELデバイスを提供することにある。
本発明の他の目的は、EQEが良好な有機ELデバイスを生産性良く製造することのできる方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an organic EL device with good EQE.
Another object of the present invention is to provide a method capable of manufacturing an organic EL device with good EQE with good productivity.

本発明は、以下に示す有機ELデバイスの製造方法及び有機ELデバイスを提供する。
[1] 第1の電極と有機発光層と第2の電極とを含む画素を備える有機ELデバイスであって、
前記有機ELデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記画素を規定するためのバンクとを備え、
前記画素は、前記バンク内に配置され、
前記有機発光層は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、前記短手方向の中心を通り前記長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有し、
前記画素は、電流値が10mA/cmであるときの平均輝度が3000cd/m以上であり、
前記画素は、前記断面における最大輝度の値を1とする規格化がなされた前記断面における輝度分布曲線について、下記式(1):
SL(70)≦0.010 (1)
[式中、SL(70)は、前記長手方向中心の位置を0、前記長手方向における一方端の位置を+100、前記長手方向における他方端の位置を-100とするとき、位置+70における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置-70における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。]
を満たす、有機ELデバイス。
[2] 第1の電極と有機発光層と第2の電極とを含む画素を形成する工程を含む有機ELデバイスの製造方法であって、
前記有機ELデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記画素を規定するためのバンクとを備え、
前記画素は、前記バンク内に配置され、
前記画素を形成する工程は、
前記第1の電極上に前記有機発光層を形成する工程と、
前記有機発光層上に前記第2の電極を形成する工程と、
得られた画素を検査する工程と、
を含み、
前記有機発光層は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、前記短手方向の中心を通り前記長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有するように形成され、
前記画素は、電流値が10mA/cmであるときの輝度が3000cd/m以上であり、
前記検査する工程は、前記画素の前記断面における輝度分布曲線の傾きに関する情報を取得し、該情報に基づいて前記画素の良否判定を行う工程を含む、有機ELデバイスの製造方法。
[3] 前記画素の良否判定を行う工程において、前記画素が、前記長手方向中心における輝度で規格化したときの前記断面における輝度分布曲線について、下記式(1):
SL(70)≦0.010 (1)
[式中、SL(70)は、前記長手方向中心の位置を0、前記長手方向における一方端の位置を+100、前記長手方向における他方端の位置を-100とするとき、位置+70における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置-70における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。]
を満たすか否かに基づいて前記画素の良否判定を行う、[2]に記載の有機ELデバイスの製造方法。
[4] 前記第1の電極上に、塗布法によって有機発光層を形成する、[2]又は[3]に記載の有機ELデバイスの製造方法。
The present invention provides an organic EL device manufacturing method and an organic EL device described below.
[1] An organic EL device comprising a pixel including a first electrode, an organic light-emitting layer, and a second electrode,
The organic EL device comprises a substrate and a bank provided on the substrate for defining the pixel,
the pixels are arranged in the bank;
The organic light-emitting layer has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view, and in a cross section passing through the center in the lateral direction and parallel to the longitudinal direction, the thickness at the center in the longitudinal direction is having a concave shape smaller than the thickness,
The pixel has an average luminance of 3000 cd/m 2 or more when the current value is 10 mA/cm 2 ,
For the pixel, the luminance distribution curve in the cross section normalized with the value of the maximum luminance in the cross section being 1, the following formula (1):
SL(70)≦0.010 (1)
[In the formula, SL(70) is the luminance distribution at position +70 when the position of the center in the longitudinal direction is 0, the position of one end in the longitudinal direction is +100, and the position of the other end in the longitudinal direction is −100. It represents the mean value of the absolute value of the slope of the curve and the absolute value of the slope of the luminance distribution curve at position -70. ]
An organic EL device that satisfies
[2] A method for manufacturing an organic EL device, comprising forming a pixel including a first electrode, an organic light-emitting layer, and a second electrode,
The organic EL device comprises a substrate and a bank provided on the substrate for defining the pixel,
the pixels are arranged in the bank;
The step of forming the pixels includes:
forming the organic light-emitting layer on the first electrode;
forming the second electrode on the organic light-emitting layer;
inspecting the resulting pixels;
including
The organic light-emitting layer has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in a plan view, and in a cross section passing through the center in the lateral direction and parallel to the longitudinal direction, the thickness at the center in the longitudinal direction is formed to have a concave shape that is smaller than the thickness;
the pixel has a luminance of 3000 cd/m 2 or more at a current value of 10 mA/cm 2 ;
The method of manufacturing an organic EL device, wherein the inspecting step includes obtaining information about a slope of a luminance distribution curve in the cross section of the pixel, and determining quality of the pixel based on the information.
[3] In the step of determining the quality of the pixel, the luminance distribution curve in the cross section when the pixel is normalized by the luminance at the center in the longitudinal direction is expressed by the following formula (1):
SL(70)≦0.010 (1)
[In the formula, SL(70) is the luminance distribution at position +70 when the position of the center in the longitudinal direction is 0, the position of one end in the longitudinal direction is +100, and the position of the other end in the longitudinal direction is −100. It represents the mean value of the absolute value of the slope of the curve and the absolute value of the slope of the luminance distribution curve at position -70. ]
The method for manufacturing an organic EL device according to [2], wherein the quality determination of the pixel is performed based on whether or not the condition is satisfied.
[4] The method for manufacturing an organic EL device according to [2] or [3], wherein an organic light-emitting layer is formed on the first electrode by a coating method.

EQEが良好な有機ELデバイスを提供することができる。
また、EQEが良好な有機ELデバイスを生産性良く製造することのできる方法を提供することができる。
An organic EL device with good EQE can be provided.
Moreover, it is possible to provide a method capable of manufacturing an organic EL device with good EQE with good productivity.

一実施形態に係る有機ELデバイスを画素形成面側から見たときの平面図である。1 is a plan view when an organic EL device according to one embodiment is viewed from a pixel formation surface side; FIG. 図1のII-II線に沿った断面の一部拡大図である。2 is a partially enlarged view of a cross section taken along line II-II of FIG. 1; FIG. 図1の有機ELデバイスが有するバンク付き基板を説明する図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a banked substrate included in the organic EL device of FIG. 1; 画素の輝度分布曲線の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the luminance distribution curve of a pixel. 有機構造体形成工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an organic structure formation process. 有機発光層形成工程を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the organic light emitting layer formation process. 実施例、比較例及び参考例における有機発光層を形成する際の塗布膜を真空乾燥させる工程での減圧プロファイルを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing pressure reduction profiles in a step of vacuum-drying a coating film when forming an organic light-emitting layer in Examples, Comparative Examples, and Reference Examples.

以下、実施形態を示しながら本発明について説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。 Hereinafter, the present invention will be described while showing embodiments. The same reference numerals are given to the same elements. Redundant explanations are omitted. The dimensional proportions of the drawings do not necessarily match those of the description.

<有機ELデバイス>
図1は、一実施形態に係る有機ELデバイスを画素形成面側から見たときの平面図である。
図1に示される有機ELデバイス1は有機ELディスプレイパネルであり、複数の画素2を有する。それぞれの画素2は、有機EL素子部である。すなわち、有機ELデバイス1は、複数の有機EL素子部が一体的に連結された構成を有する。
本明細書において、「画素」とは、光を発する単位(又は領域)を意味しており、少なくとも第1の電極と有機発光層と第2の電極とを含む。本実施形態において、画素2は、陽極(第1の電極)12、正孔注入層21、正孔輸送層22、有機発光層23及び陰極(第2の電極)30で構成されている。
画素2の発光により画素2は色情報を有する。図1では、画素2を破線で模式的に示している。
<Organic EL device>
FIG. 1 is a plan view of an organic EL device according to one embodiment when viewed from the pixel formation surface side.
The organic EL device 1 shown in FIG. 1 is an organic EL display panel and has multiple pixels 2 . Each pixel 2 is an organic EL element portion. That is, the organic EL device 1 has a configuration in which a plurality of organic EL element portions are integrally connected.
As used herein, a "pixel" means a unit (or region) that emits light, and includes at least a first electrode, an organic light-emitting layer, and a second electrode. In this embodiment, the pixel 2 is composed of an anode (first electrode) 12 , a hole injection layer 21 , a hole transport layer 22 , an organic light emitting layer 23 and a cathode (second electrode) 30 .
Due to the light emission of the pixel 2, the pixel 2 has color information. In FIG. 1, the pixels 2 are schematically indicated by dashed lines.

複数の画素2のそれぞれは、赤色、緑色、及び青色のいずれかの光を出射する。この観点から、有機ELデバイス1は、3種類の画素2、すなわち、赤色の光を出射する赤色画素2R、緑色の光を出射する緑色画素2G及び青色の光を出射する青色画素2Bを有する。以下では、画素2が発光する色を区別して説明する場合には、画素2を、上記のように、赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bと称する場合もある。 Each of the plurality of pixels 2 emits red, green, or blue light. From this point of view, the organic EL device 1 has three types of pixels 2: red pixels 2R that emit red light, green pixels 2G that emit green light, and blue pixels 2B that emit blue light. In the following description, the pixels 2 may be referred to as the red pixel 2R, the green pixel 2G, and the blue pixel 2B as described above when the colors emitted by the pixels 2 are distinguished.

複数の画素2は、二次元配列(又はマトリックス状)に配置されている。二次元配列の互いに直交する二方向をX方向(又は行方向)及びY方向(又は列方向)とも称す。この場合、複数の画素2を構成する3種類の赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bは、例えば、以下の(i)、(ii)、(iii)の列を、Y方向にこの順で繰り返し配置することによって、それぞれ整列して配置される。
(i)赤色画素2RがX方向に所定の間隔をあけて配置される列。
(ii)緑色画素2GがX方向に所定の間隔をあけて配置される列。
(iii)青色画素2BがX方向に所定の間隔をあけて配置される列。
A plurality of pixels 2 are arranged in a two-dimensional array (or matrix). The two orthogonal directions of the two-dimensional array are also called X direction (or row direction) and Y direction (or column direction). In this case, the three types of red pixels 2R, green pixels 2G, and blue pixels 2B that constitute the plurality of pixels 2 are, for example, arranged in the following columns (i), (ii), and (iii) in this order in the Y direction. By repeatedly arranging with , they are aligned with each other.
(i) A row in which red pixels 2R are arranged at predetermined intervals in the X direction.
(ii) A row in which the green pixels 2G are arranged at predetermined intervals in the X direction.
(iii) A row in which the blue pixels 2B are arranged at predetermined intervals in the X direction.

有機ELデバイス1は、例えば、並列された赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bを一つの表示画素単位として、表示画素単位に含まれる赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bを制御することでフルカラー表示を行うことができる。 The organic EL device 1 controls the red pixel 2R, the green pixel 2G, and the blue pixel 2B included in the display pixel unit, for example, with the red pixel 2R, the green pixel 2G, and the blue pixel 2B arranged in parallel as one display pixel unit. Full-color display can be performed by

各列における画素2の間の間隔、各行における画素2の間の間隔、画素2の配置例及び画素2の数等は、有機ELデバイス1の仕様等に応じて適宜設定される。 The spacing between the pixels 2 in each column, the spacing between the pixels 2 in each row, an arrangement example of the pixels 2, the number of the pixels 2, and the like are appropriately set according to the specifications of the organic EL device 1 and the like.

有機ELデバイス1の構成についてより詳細に説明する。
図2は、図1のII-II線に沿った断面の一部拡大図である。図3は、図1の有機ELデバイスが有するバンク付き基板を説明する図面であり、図2からバンク付き基板10以外の構成要素を省略した図面に対応する。
有機ELデバイス1は、バンク付き基板10と、複数の有機EL構造部20と、陰極(第2の電極)30とを備える。有機ELデバイス1は、トップエミッション型のデバイスでもよいし、ボトムエミッション型のデバイスでもよい。以下では断らない限り、ボトムエミッション型、すなわち、バンク付き基板10側から光を取り出す場合について説明する。
図2及び図3に示されるように、バンク付き基板10は、基板11と、複数の陽極(第1の電極)12と、バンク13とを有する。
The configuration of the organic EL device 1 will be described in more detail.
FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view taken along line II-II of FIG. FIG. 3 is a drawing for explaining the banked substrate of the organic EL device of FIG. 1, and corresponds to the drawing in which components other than the banked substrate 10 are omitted from FIG.
The organic EL device 1 includes a banked substrate 10 , a plurality of organic EL structures 20 , and a cathode (second electrode) 30 . The organic EL device 1 may be a top emission type device or a bottom emission type device. Unless otherwise specified, the bottom emission type, that is, the case where light is extracted from the banked substrate 10 side will be described below.
As shown in FIGS. 2 and 3 , the banked substrate 10 has a substrate 11 , a plurality of anodes (first electrodes) 12 and banks 13 .

(1)基板
基板11は、可視光(波長400nm~800nmの光)に対して透光性を有する板状の透明部材である。基板11は、陽極12及びバンク13を支持する支持体である。基板11の厚みは、例えば30μm以上1100μm以下である。基板11は、例えばガラス基板又はシリコン基板等のリジッド基板であってもよいし、プラスチック基板又は高分子フィルム等の可撓性基板であってもよい。可撓性基板を用いることで、有機ELデバイス1が可撓性を有し得る。
(1) Substrate The substrate 11 is a plate-shaped transparent member that transmits visible light (light with a wavelength of 400 nm to 800 nm). The substrate 11 is a support that supports the anodes 12 and the banks 13 . The thickness of the substrate 11 is, for example, 30 μm or more and 1100 μm or less. The substrate 11 may be, for example, a rigid substrate such as a glass substrate or a silicon substrate, or a flexible substrate such as a plastic substrate or a polymer film. By using a flexible substrate, the organic EL device 1 can have flexibility.

基板11には画素2を駆動させるための回路が予め形成されていてもよい。基板11には、例えばTFT(Thin Film Transistor)やキャパシタ等があらかじめ形成されていてもよい。 A circuit for driving the pixels 2 may be formed in advance on the substrate 11 . For example, a TFT (Thin Film Transistor), a capacitor, or the like may be formed in advance on the substrate 11 .

(2)陽極(第1の電極)
陽極12は、基板11の表面11a上において各画素2に対応する画素領域2a上に設けられている。陽極12の平面視形状(基板11の厚み方向から見た形状)としては、例えば、長方形、正方形等の四角形、他の多角形、及び、四角形や他の多角形において角部に丸味を付けた形状等が挙げられる。陽極12の平面視形状は、円形又は楕円形でもよい。また、陽極12の平面視形状は、四角形や他の多角形において、少なくとも1辺を弧状(例えば円弧状)にした形状でもよい。
(2) Anode (first electrode)
The anode 12 is provided on the pixel region 2a corresponding to each pixel 2 on the surface 11a of the substrate 11 . The planar shape of the anode 12 (the shape viewed from the thickness direction of the substrate 11) may be, for example, a rectangle, a square such as a square, other polygons, and a rectangle or other polygon with rounded corners. shape and the like. The planar shape of the anode 12 may be circular or elliptical. The planar shape of the anode 12 may be a quadrangle or other polygon with at least one side arcuate (for example, arcuate).

陽極12は、金属酸化物、金属硫化物及び金属等からなる薄膜を用いることができ、具体的には酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物(Indium Tin Oxide:略称ITO)、インジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide:略称IZO)、金、白金、銀、及び銅等からなる薄膜が用いられる。有機ELデバイス1がバンク付き基板10側から光を出射する場合、光透過性を示す陽極12が用いられる。 The anode 12 can use a thin film made of metal oxide, metal sulfide, metal, etc. Specifically, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (abbreviated as ITO), indium A thin film made of zinc oxide (Indium Zinc Oxide: abbreviated as IZO), gold, platinum, silver, copper, or the like is used. When the organic EL device 1 emits light from the banked substrate 10 side, an anode 12 exhibiting optical transparency is used.

陽極12の厚みは、光透過性、電気伝導度等を考慮して適宜決定することができる。陽極12の厚みは、例えば10nm以上10μm以下であり、好ましくは20nm以上1μm以下であり、より好ましくは50nm以上500nm以下である。 The thickness of the anode 12 can be appropriately determined in consideration of light transmittance, electrical conductivity, and the like. The thickness of the anode 12 is, for example, 10 nm or more and 10 μm or less, preferably 20 nm or more and 1 μm or less, more preferably 50 nm or more and 500 nm or less.

陽極12は、蒸着法又は塗布法によって形成され得る。蒸着法で形成する場合には、陽極12の材料からなる層を基板11上に形成した後、その層を複数の陽極12のパターンにパターニングすればよい。塗布法で陽極12を形成する際には、陽極12の材料を含む塗布液を、複数の陽極12に対応したパターンで基板11上に塗布した後に、塗布膜を乾燥させることによって形成され得る。あるいは、陽極12となるべき材料からなる塗布膜を基板11に形成し乾燥させた後、陽極12のパターンにパターニングしてもよい。 Anode 12 can be formed by a vapor deposition method or a coating method. In the case of forming by vapor deposition, a layer made of the material of the anode 12 is formed on the substrate 11 and then patterned into a pattern of a plurality of anodes 12 . When forming the anodes 12 by a coating method, a coating liquid containing the material of the anodes 12 is coated on the substrate 11 in a pattern corresponding to the plurality of anodes 12, and then the coating film is dried. Alternatively, a coating film made of a material to be the anode 12 may be formed on the substrate 11 and dried, and then patterned into the pattern of the anode 12 .

陽極12の形成において塗布法を利用する場合、塗布法としては、インクジェット印刷法が挙げられるが、その他、公知の塗布法、例えば、スリットコート法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、及びノズルプリント法等を用いてもよい。陽極12の材料を含む塗布液の溶媒は、陽極12の材料を溶解できる溶媒であればよい。 When a coating method is used to form the anode 12, examples of the coating method include an inkjet printing method, and other known coating methods such as a slit coating method, a micro gravure coating method, a gravure coating method, and a bar coating method. , a roll coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, a nozzle printing method, and the like may be used. The solvent of the coating liquid containing the material of the anode 12 may be any solvent that can dissolve the material of the anode 12 .

一実施形態において、陽極12と基板11との間には、絶縁層等で構成される層が設けられてもよい。絶縁層等の層も基板11の一部とみなすこともできる。 In one embodiment, a layer composed of an insulating layer or the like may be provided between the anode 12 and the substrate 11 . Layers such as insulating layers may also be considered part of the substrate 11 .

(3)バンク
バンク13は、図2及び図3に示されるように、各陽極12の周囲に設けられる。バンク13は、隣り合う陽極12の間に渡っても設けられている。バンク13の一部は、陽極12の周縁部に被さっていてもよい。バンク13は、画素2(画素領域2a)を規定(区画)するための隔壁である。すなわち、バンク13は、基板11の表面11a上において予め設定されている画素領域2aを区画する開口を有するようなパターンで基板11上に設けられている。本実施形態では、図1に示されるように、複数の画素2が二次元配列で配置されているため、格子状のバンク13が基板11に設けられている。
(3) Banks Banks 13 are provided around each anode 12, as shown in FIGS. Banks 13 are also provided across adjacent anodes 12 . A portion of bank 13 may cover the peripheral edge of anode 12 . The bank 13 is a partition for defining (partitioning) the pixels 2 (pixel regions 2a). That is, the banks 13 are provided on the substrate 11 in such a pattern as to have openings defining the pixel regions 2a preset on the surface 11a of the substrate 11 . In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a grid-shaped bank 13 is provided on the substrate 11 because a plurality of pixels 2 are arranged in a two-dimensional array.

バンク13は、例えば、樹脂から構成することができる。バンク13は、例えば、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物である。撥液剤の例としては、フッ素樹脂を含有する撥液剤が挙げられる。バンク13で規定される画素領域2a上には、後述するように、例えば塗布法によって有機発光層23等の有機層が形成される。よって、バンク13は、通常、バンク13で規定される画素領域2a上に塗布法を利用して有機層を形成する際に、その有機層を好適に形成可能な特性(例えば濡れ性)を有するように形成されている。 The bank 13 can be made of resin, for example. The bank 13 is, for example, a cured product of a photosensitive resin composition containing a liquid-repellent agent. Examples of liquid-repellent agents include liquid-repellent agents containing fluororesin. On the pixel region 2a defined by the bank 13, an organic layer such as an organic light-emitting layer 23 is formed by, for example, a coating method, as will be described later. Therefore, the bank 13 normally has a property (for example, wettability) that enables the formation of an organic layer preferably when the organic layer is formed on the pixel region 2a defined by the bank 13 using a coating method. is formed as

バンク13の形状及びその配置は、画素2の数及び解像度等の有機ELデバイス1の仕様や製造の容易さ等に応じて適宜設定される。例えば、図2及び図3において、バンク13の画素領域2aに望む側面13aは、基板11の表面11aに対して実質的に直交している。しかしながら、側面13aは、表面11aに対して鋭角をなすように傾斜していてもよいし、鈍角をなすように傾斜していてもよい。側面13aと、表面11aとが鋭角である場合、バンク13の形状は順テーパ型として知られており、側面13aと、基板11の表面とが鈍角である場合、バンク13の形状は逆テーパ型として知られている。バンク13の厚み(高さ)は、例えば0.3μm以上5μm以下程度である。 The shape and arrangement of the bank 13 are appropriately set according to the specifications of the organic EL device 1 such as the number of pixels 2 and resolution, ease of manufacture, and the like. For example, in FIGS. 2 and 3, the side surface 13a of the bank 13 facing the pixel region 2a is substantially perpendicular to the surface 11a of the substrate 11. As shown in FIG. However, the side surface 13a may be inclined at an acute angle or an obtuse angle with respect to the surface 11a. When the side 13a and the surface 11a form an acute angle, the shape of the bank 13 is known as forward taper, and when the side 13a and the surface of the substrate 11 form an obtuse angle, the shape of the bank 13 is a reverse taper. known as The thickness (height) of the bank 13 is, for example, about 0.3 μm or more and 5 μm or less.

バンク付き基板10は、例えば、基板11に予め設定される複数の画素領域2a上に陽極12を形成した後に、バンク13を形成することで製造することができる。 The banked substrate 10 can be manufactured, for example, by forming the banks 13 after forming the anodes 12 on a plurality of pixel regions 2a preset on the substrate 11 .

バンク13は、例えば、塗布法を利用して形成することができる。具体的には、バンク13の材料を含む塗布液を、陽極12が形成された基板11に塗布してなる塗布膜を乾燥させた後、その塗布膜を所定のパターンにパターニングすることで形成できる。塗布法としては、例えば、スピンコート法、スリットコート法等が挙げられる。バンク13を含む塗布液の溶媒は、バンク13の材料を溶解できる溶媒であればよい。 The bank 13 can be formed using, for example, a coating method. Specifically, the bank 13 can be formed by applying a coating liquid containing the material of the bank 13 to the substrate 11 on which the anode 12 is formed, drying the coating film, and then patterning the coating film into a predetermined pattern. . Examples of coating methods include a spin coating method and a slit coating method. The solvent of the coating liquid containing the bank 13 may be any solvent that can dissolve the material of the bank 13 .

(4)正孔注入層
正孔注入層21は、陽極12から有機発光層23への正孔注入効率を改善する機能を有する有機層である。正孔注入層21の材料は公知の正孔注入材料が用いられ得る。正孔注入材料としては、例えば、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム及び酸化アルミニウム等の酸化物;フェニルアミン化合物;スターバースト型アミン化合物;フタロシアニン化合物;アモルファスカーボン;ポリアニリン;ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体が挙げられる。
(4) Hole injection layer The hole injection layer 21 is an organic layer that has a function of improving the efficiency of hole injection from the anode 12 to the organic light emitting layer 23 . A known hole injection material can be used for the material of the hole injection layer 21 . Examples of hole injection materials include oxides such as vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide and aluminum oxide; phenylamine compounds; starburst type amine compounds; phthalocyanine compounds; and polythiophene derivatives such as

正孔注入層21の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、求められる特性及び層の形成し易さ等を勘案して適宜決定される。正孔注入層21の厚みは、例えば1nm以上1μm以下であり、好ましくは2nm以上500nm以下であり、より好ましくは5nm以上200nm以下である。 The optimum thickness of the hole injection layer 21 varies depending on the material used, and is appropriately determined in consideration of the required properties, ease of layer formation, and the like. The thickness of the hole injection layer 21 is, for example, 1 nm or more and 1 μm or less, preferably 2 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 200 nm or less.

正孔注入層21は、必要に応じて、画素2の種類毎、すなわち、赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2B毎にその材料又は厚みを異ならせて設けられる。正孔注入層21の形成工程の簡易さの観点から、同じ材料、同じ厚みで全ての正孔注入層21を形成してもよい。 The hole injection layer 21 is provided with a different material or thickness for each type of pixel 2, that is, for each red pixel 2R, green pixel 2G, and blue pixel 2B, as required. From the viewpoint of simplification of the process of forming the hole injection layers 21, all the hole injection layers 21 may be formed with the same material and the same thickness.

(5)正孔輸送層
正孔輸送層22は、陽極12、正孔注入層21又は陽極12により近い正孔輸送層22から有機発光層23への正孔注入を改善する機能を有する層である。正孔輸送層22の材料には、公知の正孔輸送入材料が用いられ得る。正孔輸送層22の材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン若しくはその誘導体、ピラゾリン若しくはその誘導体、アリールアミン若しくはその誘導体、スチルベン若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン若しくはその誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ(p-フェニレンビニレン)若しくはその誘導体、及びポリ(2,5-チエニレンビニレン)若しくはその誘導体等が挙げられる。また、特開2012-144722号公報に開示されている正孔輸層材料も挙げることができる。
(5) Hole-Transporting Layer The hole-transporting layer 22 is a layer having a function of improving hole injection from the anode 12, the hole-injecting layer 21, or the hole-transporting layer 22 closer to the anode 12 to the organic light-emitting layer 23. be. A known hole-transporting material can be used for the material of the hole-transporting layer 22 . Materials for the hole transport layer 22 include, for example, polyvinylcarbazole or derivatives thereof, polysilane or derivatives thereof, polysiloxane having aromatic amines in side chains or main chains or derivatives thereof, pyrazolines or derivatives thereof, arylamines or derivatives thereof. , stilbene or derivatives thereof, triphenyldiamine or derivatives thereof, polyaniline or derivatives thereof, polythiophene or derivatives thereof, polyarylamines or derivatives thereof, polypyrrole or derivatives thereof, poly(p-phenylene vinylene) or derivatives thereof, and poly(2 , 5-thienylene vinylene) or derivatives thereof. Further, a hole transport layer material disclosed in JP-A-2012-144722 can also be mentioned.

正孔輸送層22の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように適宜設定される。正孔輸送層22の厚みは、例えば1nm以上1μm以下であり、好ましくは2nm以上500nm以下であり、より好ましくは5nm以上200nm以下である。 The optimum thickness of the hole transport layer 22 differs depending on the material used, and is appropriately set so that the driving voltage and the luminous efficiency are appropriate values. The thickness of the hole transport layer 22 is, for example, 1 nm or more and 1 μm or less, preferably 2 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 200 nm or less.

正孔輸送層22は、必要に応じて、画素2の種類毎、すなわち、赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2B毎にその材料又は厚みを異ならせて設けられる。正孔輸送層22の形成工程の簡易さの観点から、同じ材料、同じ厚みで全ての正孔注入層21を形成してもよい。 The hole transport layer 22 is provided with a different material or thickness for each type of pixel 2, that is, for each red pixel 2R, green pixel 2G, and blue pixel 2B, if necessary. From the viewpoint of simplification of the process of forming the hole transport layer 22, all the hole injection layers 21 may be formed with the same material and the same thickness.

(6)有機発光層
有機発光層23は、正孔輸送層22上に設けられる。有機発光層23は、所定の波長の光を発光する機能を有する有機層である。有機発光層23は、通常、主として蛍光及び/又はりん光を発光する有機物、あるいは、該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。
有機発光層23に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。有機発光層23を構成する発光材料としては、例えば、下記の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料が挙げられる。
(6) Organic Light Emitting Layer The organic light emitting layer 23 is provided on the hole transport layer 22 . The organic light emitting layer 23 is an organic layer having a function of emitting light of a predetermined wavelength. The organic light-emitting layer 23 is usually formed of an organic material that mainly emits fluorescence and/or phosphorescence, or the organic material and a dopant that assists this. A dopant is added, for example, to improve the luminous efficiency or change the luminous wavelength.
The organic substance contained in the organic light-emitting layer 23 may be a low-molecular-weight compound or a high-molecular-weight compound. Examples of the light-emitting material forming the organic light-emitting layer 23 include the following dye-based materials, metal complex-based materials, polymer-based materials, and dopant materials.

色素系の発光材料としては、例えば、シクロペンダミン若しくはその誘導体、テトラフェニルブタジエン若しくはその誘導体、トリフェニルアミン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、ピラゾロキノリン若しくはその誘導体、ジスチリルベンゼン若しくはその誘導体、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、ピロール若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン若しくはその誘導体、ペリレン若しくはその誘導体、オリゴチオフェン若しくはその誘導体、オキサジアゾールダイマー若しくはその誘導体、ピラゾリンダイマー若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体等が挙げられる。 Examples of dye-based luminescent materials include cyclopentamine or its derivatives, tetraphenylbutadiene or its derivatives, triphenylamine or its derivatives, oxadiazole or its derivatives, pyrazoloquinoline or its derivatives, distyrylbenzene or its derivatives. derivatives, distyrylarylene or its derivatives, pyrrole or its derivatives, thiophene ring compounds, pyridine ring compounds, perinone or its derivatives, perylene or its derivatives, oligothiophene or its derivatives, oxadiazole dimer or its derivatives, pyrazoline dimer or derivatives thereof, quinacridone or derivatives thereof, coumarin or derivatives thereof, and the like;

金属錯体系の発光材料としては、例えば、Tb、Eu、Dy等の希土類金属、又はAl、Zn、Be、Pt、Ir等を中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を配位子に有する金属錯体が挙げられる。金属錯体としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体等が挙げられる。 Examples of metal complex-based light-emitting materials include rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, or Al, Zn, Be, Pt, and Ir. Examples thereof include metal complexes having imidazole, quinoline structures, etc. as ligands. Examples of metal complexes include metal complexes that emit light from a triplet excited state such as iridium complexes and platinum complexes, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol beryllium complexes, benzoxazolylzinc complexes, benzothiazolezinc complexes, and azomethylzinc complexes. , porphyrin-zinc complex, phenanthroline-europium complex, and the like.

高分子系の発光材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、ポリアセチレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、上記色素材料、金属錯体材料を高分子化した材料等が挙げられる。 Polymer-based luminescent materials include, for example, polyparaphenylenevinylene or its derivatives, polythiophene or its derivatives, polyparaphenylene or its derivatives, polysilane or its derivatives, polyacetylene or its derivatives, polyfluorene or its derivatives, polyvinylcarbazole or Examples thereof include derivatives thereof, dye materials described above, and materials obtained by polymerizing metal complex materials.

上記発光材料のうち、赤色に発光する材料(以下、「赤色発光材料」ともいう。)としては、例えば、クマリン若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。赤色発光材料としては、特開2011-105701号公報に開示されている材料も挙げられる。 Among the above light-emitting materials, materials that emit red light (hereinafter also referred to as "red light-emitting materials") include, for example, coumarin or derivatives thereof, thiophene ring compounds, polymers thereof, polyparaphenylene vinylene or derivatives thereof. , polythiophene or its derivatives, polyfluorene or its derivatives, and the like. Materials disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-105701 can also be used as red light-emitting materials.

緑色に発光する材料(以下、「緑色発光材料」ともいう。)としては、例えば、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。緑色発光材料としては、特開2012-036388号公報に開示されている材料も挙げられる。 Materials that emit green light (hereinafter also referred to as "green light-emitting materials") include, for example, quinacridone or derivatives thereof, coumarin or derivatives thereof, polymers thereof, polyparaphenylene vinylene or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof, derivatives and the like. Materials disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2012-036388 can also be used as green light-emitting materials.

青色に発光する材料(以下、「青色発光材料」ともいう。)としては、例えば、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。青色発光材料としては、特開2012-144722号公報に開示されている材料も挙げられる。 Materials that emit blue light (hereinafter also referred to as “blue light emitting materials”) include, for example, distyrylarylene or derivatives thereof, oxadiazole or derivatives thereof, polymers thereof, polyvinylcarbazole or derivatives thereof, polyparallel Phenylene or derivatives thereof, polyfluorene or derivatives thereof, and the like are included. Materials disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2012-144722 are also examples of blue light-emitting materials.

ドーパント材料としては、例えば、ペリレン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、ルブレン若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、スクアリウム若しくはその誘導体、ポルフィリン若しくはその誘導体、スチリル色素、テトラセン若しくはその誘導体、ピラゾロン若しくはその誘導体、デカシクレン若しくはその誘導体、フェノキサゾン若しくはその誘導体等が挙げられる。 Dopant materials include, for example, perylene or its derivatives, coumarin or its derivatives, rubrene or its derivatives, quinacridone or its derivatives, squalium or its derivatives, porphyrin or its derivatives, styryl dyes, tetracene or its derivatives, pyrazolone or its derivatives, decacyclene or derivatives thereof, phenoxazone or derivatives thereof, and the like.

有機発光層23は、画素2の種類、すなわち、赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bに応じて設けられる。赤色画素2Rに対応する凹部14の正孔輸送層22上には、赤色を発光する有機発光層23が設けられ、緑色画素2Gに対応する凹部14の正孔輸送層22上には、緑色を発光する有機発光層23が設けられ、青色画素2Bに対応する凹部14の正孔輸送層22上には、青色を発光する有機発光層23が設けられる。以下、赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bに含まれる有機発光層23を赤色発光層23R、緑色発光層23G及び青色発光層23Bとも称する場合がある。 The organic light emitting layer 23 is provided according to the type of the pixel 2, ie, the red pixel 2R, the green pixel 2G and the blue pixel 2B. An organic light emitting layer 23 that emits red light is provided on the hole transport layer 22 of the recess 14 corresponding to the red pixel 2R, and a green light is provided on the hole transport layer 22 of the recess 14 corresponding to the green pixel 2G. An organic light-emitting layer 23 that emits light is provided, and the organic light-emitting layer 23 that emits blue light is provided on the hole transport layer 22 in the recess 14 corresponding to the blue pixel 2B. Hereinafter, the organic light emitting layers 23 included in the red pixel 2R, the green pixel 2G and the blue pixel 2B may also be referred to as a red light emitting layer 23R, a green light emitting layer 23G and a blue light emitting layer 23B.

図2に示されるように、複数の有機EL構造部20は、バンク付き基板10において、バンク13と陽極12とで形成される凹部14(図2及び図3参照)内に設けられる。本実施形態において、有機EL構造部20は、正孔注入層21、正孔輸送層22及び有機発光層23を有する。
すなわち、各画素2は、バンク13内(バンク13によって規定される凹部14内)に配置される。
As shown in FIG. 2, the plurality of organic EL structures 20 are provided in recesses 14 (see FIGS. 2 and 3) formed by banks 13 and anodes 12 in substrate 10 with banks. In this embodiment, the organic EL structure section 20 has a hole injection layer 21 , a hole transport layer 22 and an organic light emitting layer 23 .
That is, each pixel 2 is arranged within the bank 13 (inside the recess 14 defined by the bank 13).

少なくとも1つの画素2において、好ましくはすべての画素2において、有機発光層23は、図1に示されるように、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。本明細書において、平面視とは、層の厚み方向から見ることを意味する。本実施形態において、有機EL構造部20を構成する各層は、平面視において同一形状である。
長手方向と短手方向とを有する形状としては、長方形、長方形の角部に丸味を付けた形状、長方形における少なくとも1辺を弧状(例えば円弧状)にした形状、楕円形等が挙げられる。
In at least one pixel 2, preferably in all pixels 2, the organic light-emitting layer 23 has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view, as shown in FIG. In this specification, "planar view" means viewing from the thickness direction of the layer. In this embodiment, each layer forming the organic EL structure section 20 has the same shape in a plan view.
Examples of the shape having a longitudinal direction and a lateral direction include a rectangle, a rectangular shape with rounded corners, a rectangular shape with at least one side arcuate (for example, arcuate), and an elliptical shape.

少なくとも1つの画素2において、好ましくはすべての画素2において、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する有機発光層23は、短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有する(図2参照)。このような凹形状を付与することによって、リークや局所発光を生じやすい有機発光層23の外周部への電流注入量を減らして画素の輝度特定低下を抑えることができる。
上記凹形状を有する有機発光層23における長手方向両端の厚みと中心の厚みとの差は、例えば1nm以上20nm以下であり、輝度向上及びEQE向上の観点から、好ましくは1nm以上10nm以下であり、より好ましくは1nm以上5nm以下である。
有機発光層の平均的な厚みは、例えば1nm以上2μm以下であり、好ましくは5nm以上500nm以下であり、より好ましくは10nm以上100nm以下である。
In at least one pixel 2, preferably in all pixels 2, the organic light-emitting layer 23 having a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view has a cross section parallel to the longitudinal direction passing through the center of the lateral direction. , has a concave shape in which the thickness at the center in the longitudinal direction is smaller than the thickness at both ends (see FIG. 2). By providing such a recessed shape, it is possible to reduce the amount of current injected into the outer peripheral portion of the organic light-emitting layer 23 where leakage and local light emission are likely to occur, thereby suppressing a decrease in specific luminance of the pixel.
The difference between the thickness at both ends in the longitudinal direction and the thickness at the center of the organic light-emitting layer 23 having the concave shape is, for example, 1 nm or more and 20 nm or less, and from the viewpoint of improving luminance and EQE, it is preferably 1 nm or more and 10 nm or less. It is more preferably 1 nm or more and 5 nm or less.
The average thickness of the organic light-emitting layer is, for example, 1 nm or more and 2 μm or less, preferably 5 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 100 nm or less.

有機発光層23が凹形状を有していることは、例えば光学顕微鏡を用いて断面を観察することによって確認することができる。
バンク13内に塗布法によって有機発光層23を形成すると、表面張力の影響によって、通常、有機発光層23は凹形状を有することとなる。
The fact that the organic light-emitting layer 23 has a concave shape can be confirmed by observing the cross section using an optical microscope, for example.
When the organic light-emitting layer 23 is formed in the bank 13 by a coating method, the organic light-emitting layer 23 usually has a concave shape due to the influence of surface tension.

(7)陰極(第2の電極)
陰極30は、有機発光層23上に設けられる。陰極30の材料としては、仕事関数が小さく、有機発光層23への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。また、本実施形態で説明しているように、有機ELデバイス1が陽極12側から光を取り出す場合には、有機発光層23から放射される光を陰極30で陽極12側に反射するために、陰極30の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。陰極30には、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属及び周期表の13族金属等を用いることができる。また、陰極30として、導電性金属酸化物又は導電性有機物等からなる透明導電性陰極を用いることもできる。
(7) Cathode (second electrode)
A cathode 30 is provided on the organic light-emitting layer 23 . As a material for the cathode 30, a material having a small work function, easy injection of electrons into the organic light-emitting layer 23, and high electrical conductivity is preferable. Further, as described in this embodiment, when the organic EL device 1 extracts light from the anode 12 side, the light emitted from the organic light emitting layer 23 is reflected by the cathode 30 toward the anode 12 side. As a material for the cathode 30, a material having a high visible light reflectance is preferable. For the cathode 30, for example, alkali metals, alkaline earth metals, transition metals, group 13 metals of the periodic table, and the like can be used. Moreover, as the cathode 30, a transparent conductive cathode made of a conductive metal oxide, a conductive organic substance, or the like can be used.

陰極30の厚みは、電気伝導度、耐久性を考慮して適宜設定される。陰極30の厚みは、例えば10nm以上10μm以下であり、好ましくは20nm以上1μm以下であり、より好ましくは50nm以上500nm以下である。
有機発光層23と陰極30との間に、電子注入層、電子輸送層等の他の層を1又は2以上設けてもよい。
電子注入層は、陰極から有機発光層への電子注入効率を改善する機能を有する層である。電子注入層には公知の電子注入材料を用いることができる。このように電子注入層を設ける場合には、電子注入層と有機発光層との間に、電子輸送層が設けられてもよい。電子輸送層は、陰極、電子注入層又は陰極により近い電子輸送層からの電子注入を改善する機能を有する層である。電子輸送層には公知の電子輸送材料を用いることができる。
The thickness of the cathode 30 is appropriately set in consideration of electrical conductivity and durability. The thickness of the cathode 30 is, for example, 10 nm or more and 10 μm or less, preferably 20 nm or more and 1 μm or less, and more preferably 50 nm or more and 500 nm or less.
One or more other layers such as an electron injection layer and an electron transport layer may be provided between the organic light emitting layer 23 and the cathode 30 .
The electron injection layer is a layer having a function of improving electron injection efficiency from the cathode to the organic light emitting layer. A known electron injection material can be used for the electron injection layer. When the electron injection layer is provided in this manner, an electron transport layer may be provided between the electron injection layer and the organic light-emitting layer. The electron-transporting layer is a layer that has the function of improving electron injection from the cathode, the electron-injecting layer, or an electron-transporting layer closer to the cathode. A known electron transport material can be used for the electron transport layer.

本実施形態では、陰極30は複数の画素2が設けられる表示領域の全面に形成される。すなわち、陰極30は、有機発光層23上だけでなく、バンク13上にも形成され、複数の画素2に共通の陰極として設けられる。 In this embodiment, the cathode 30 is formed over the entire surface of the display area in which the plurality of pixels 2 are provided. That is, the cathode 30 is formed not only on the organic light-emitting layer 23 but also on the bank 13 and provided as a common cathode for the plurality of pixels 2 .

図1及び図2では図示を省略しているが、有機ELデバイス1の陰極30上には、通常、封止基板が設けられる。その他、有機ELデバイス1は、例えば、有機ELパネルディスプレイパネルが備える公知の他の要素を備え得る。 Although not shown in FIGS. 1 and 2, a sealing substrate is usually provided on the cathode 30 of the organic EL device 1. As shown in FIG. In addition, the organic EL device 1 may have other known elements that an organic EL panel display panel has, for example.

(8)画素の輝度特性及び輝度分布特性
有機ELデバイス1において、複数の画素2のうち少なくとも1つは、下記〔A〕及び〔B〕を充足する。以下、下記〔A〕及び〔B〕を充足する画素を「特定画素」とも称する。
〔A〕電流値が10mA/cmであるときの平均輝度が3000cd/m以上である。
〔B〕有機発光層23の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面における最大輝度の値を1とする規格化がなされた該断面における輝度分布曲線について、下記式(1):
SL(70)≦0.010 (1)
を満たす。
(8) Pixel Luminance Characteristics and Luminance Distribution Characteristics In the organic EL device 1, at least one of the plurality of pixels 2 satisfies the following [A] and [B]. Hereinafter, pixels satisfying the following [A] and [B] are also referred to as "specific pixels".
[A] The average luminance is 3000 cd/m 2 or more when the current value is 10 mA/cm 2 .
[B] The luminance distribution curve in a cross section that passes through the center in the short direction of the organic light-emitting layer 23 and is parallel to the longitudinal direction is normalized by setting the value of the maximum luminance to 1 in the cross section, and the following formula (1):
SL(70)≦0.010 (1)
meet.

本発明は、上記〔A〕を満たすような輝度効率(単位:cd/A)の高い特定画素を含む有機ELデバイスにおいて、EQE向上効果を有意に向上させる。ここでいう輝度効率は、輝度(単位:cd/m)の値を、電流値(単位:mA/cm)で除したものである。
上記平均輝度とは、有機発光層23の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面における有機発光層23の長手方向にわたる輝度の平均値を意味する。
電流値が10mA/cmであるときの平均輝度は、好ましくは4000cd/m以上であり、より好ましくは5000cd/m以上である。
The present invention significantly improves the EQE improvement effect in an organic EL device including specific pixels with high luminance efficiency (unit: cd/A) that satisfies the above [A]. The luminance efficiency here is obtained by dividing the value of luminance (unit: cd/m 2 ) by the current value (unit: mA/cm 2 ).
The average luminance means an average value of luminance over the longitudinal direction of the organic light emitting layer 23 in a cross section passing through the center of the organic light emitting layer 23 in the short direction and parallel to the longitudinal direction.
The average luminance when the current value is 10 mA/cm 2 is preferably 4000 cd/m 2 or more, more preferably 5000 cd/m 2 or more.

電流値が10mA/cmであるときの平均輝度(平均輝度効率)は、主に、有機発光層23に含まれる発光材料の種類に依存する。したがって、複数の画素2が有する有機発光層23の少なくとも1つに用いる発光材料として、例えば上で例示した発光材料の中から、電流値が10mA/cmであるときの平均輝度が上記範囲になるものを選んで用いる。 The average luminance (average luminance efficiency) when the current value is 10 mA/cm 2 mainly depends on the type of light-emitting material contained in the organic light-emitting layer 23 . Therefore, as the light-emitting material used for at least one of the organic light-emitting layers 23 of the plurality of pixels 2, for example, among the light-emitting materials exemplified above, the average luminance when the current value is 10 mA/cm 2 falls within the above range. Choose and use whatever you want.

上記〔B〕について説明すると、画素の輝度分布曲線の一例を示す図4を参照して、SL(70)は、有機発光層(画素)の長手方向中心の位置を0、長手方向における一方端の位置を+100、長手方向における他方端の位置を-100とするとき、位置+70における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置-70における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。
ここでいう輝度分布曲線とは、有機発光層(画素)の長手方向における位置(横軸)と、その位置における輝度(縦軸)との関係を示す曲線グラフをいい、縦軸の輝度は、有機発光層23の長手方向中心における最大輝度の値を1とする規格化がなされている(図4参照)。
To explain [B] above, referring to FIG. 4 showing an example of a brightness distribution curve of a pixel, SL (70) is set to 0 at the center in the longitudinal direction of the organic light-emitting layer (pixel) and 0 at one end in the longitudinal direction. When the position of +100 and the position of the other end in the longitudinal direction is -100, the absolute value of the slope of the luminance distribution curve at position +70 and the absolute value of the slope of the luminance distribution curve at position -70. .
The term "luminance distribution curve" as used herein refers to a curve graph showing the relationship between the position (horizontal axis) in the longitudinal direction of the organic light-emitting layer (pixel) and the luminance (vertical axis) at that position. Normalization is performed by setting the value of the maximum luminance at the center in the longitudinal direction of the organic light emitting layer 23 to 1 (see FIG. 4).

位置+70における輝度分布曲線の傾きとは、該輝度分布曲線の座標を(位置,この位置における輝度)とするとき、5つの座標点(+68.4,この位置における輝度)、(+69.2,この位置における輝度)、(+70.0,この位置における輝度)、(+70.8,この位置における輝度)及び(+71.6,この位置における輝度)を用いて線形近似を行って得られる直線の傾きを意味する。
同様に、位置-70における輝度分布曲線の傾きとは、5つの座標点(-71.6,この位置における輝度)、(-70.8,この位置における輝度)、(-70.0,この位置における輝度)、(-69.2,この位置における輝度)及び(-68.4,この位置における輝度)を用いて線形近似を行って得られる直線の傾きを意味する。
The slope of the luminance distribution curve at the position +70 is five coordinate points (+68.4, luminance at this position), (+69.2, (brightness at this position), (+70.0, brightness at this position), (+70.8, brightness at this position) and (+71.6, brightness at this position). means tilt.
Similarly, the slope of the luminance distribution curve at position -70 is five coordinate points (-71.6, luminance at this position), (-70.8, luminance at this position), (-70.0, this (-69.2, luminance at this position), (-69.2, luminance at this position), and (-68.4, luminance at this position).

〔A〕及び〔B〕を充足する特定画素及びそれを含む有機ELデバイスは、〔A〕を充足するが〔B〕を充足しない画素及びそれを含む有機ELデバイスに比べて、より高いEQEを示すことができる。これは、画素の中でも、EQEがより低い発光を生じる領域部分の割合が減少し、EQEがより高い発光を生じる領域部分の割合が増加するためであると推測される。 A specific pixel satisfying [A] and [B] and an organic EL device including the same have higher EQE than a pixel satisfying [A] but not [B] and an organic EL device including the same. can be shown. This is presumed to be due to the fact that the proportion of the area where the EQE emits light is reduced and the proportion of the area where the EQE emits light increases in the pixel.

SL(70)は、EQE向上効果の観点から、好ましくは0.008以下であり、より好ましくは0.005以下であり、さらに好ましくは0.003以下であり、特に好ましくは0.002以下である。
SL(70)は、0の近傍が望ましい。
SL (70) is preferably 0.008 or less, more preferably 0.005 or less, still more preferably 0.003 or less, and particularly preferably 0.002 or less, from the viewpoint of the EQE improvement effect. be.
SL(70) is preferably near zero.

EQE向上効果をより顕著に得るためには、特定画素は、〔A〕及び〔B〕を充足し、かつ、下記〔C〕を充足することが好ましい。
〔C〕横軸を画素に供給する電流量(単位:mA/cm)とし、縦軸を平均輝度(単位:cd/m)とする、電流量と平均輝度との関係を示すグラフにおいて、電流量の増加に従って、その電流値における平均輝度の値をその電流値で除した値(すなわち、上記グラフにおけるその電流値での傾きであり、その電流値での上記平均輝度効率を意味する。)が次第に低下する。
上記低下の程度が大きいほど、EQE向上効果が大きくなる傾向にある。
In order to obtain the EQE improvement effect more remarkably, the specific pixel preferably satisfies [A] and [B] and satisfies [C] below.
[C] A graph showing the relationship between the amount of current supplied to the pixel (unit: mA/cm 2 ) and the average luminance (unit: cd/m 2 ) on the vertical axis, showing the relationship between the amount of current supplied to the pixel and the average luminance , as the amount of current increases, the value obtained by dividing the average luminance value at that current value by that current value (that is, the slope at that current value in the graph above, which means the average luminance efficiency at that current value ) gradually decreases.
There is a tendency that the greater the degree of decrease, the greater the effect of improving EQE.

なお、本発明者らの検討により、上記輝度分布曲線の傾きを求める位置が、例えば絶対値で80を超える場合のように有機発光層の端部である(位置が絶対値で100である)か、又は端部に近い場合には、外乱等の要因もあり、上記輝度分布曲線の傾きとEQEとの間に関係性が認められないことが明らかとなっている。
上記輝度分布曲線の傾きを求める位置が、例えば絶対値で60より小さい場合にも、上記輝度分布曲線の傾きとEQEとの間に関係性が認められないことが明らかとなっている。
これに対して、上記輝度分布曲線の傾きを求める位置が、例えば絶対値で60以上80以下である場合には上記関係性を認めることができ、とりわけ絶対値で70である場合にはその関係性がより明確であり、SL(70)が0.010以下であるときと、そうでないときとで、EQEに有意な差が認められることが明らかとなった。
According to studies by the present inventors, the position for obtaining the slope of the luminance distribution curve is the edge of the organic light-emitting layer, for example, when the absolute value exceeds 80 (the position is 100 in absolute value). It has been clarified that there is no relationship between the slope of the luminance distribution curve and the EQE when it is close to the edge or due to factors such as disturbance.
It has been clarified that even when the absolute value of the position for obtaining the slope of the luminance distribution curve is less than 60, there is no relationship between the slope of the luminance distribution curve and the EQE.
On the other hand, when the position for obtaining the slope of the luminance distribution curve is, for example, 60 or more and 80 or less in absolute value, the above relationship can be recognized, especially when the absolute value is 70, the relationship It has become clear that there is a significant difference in EQE between when SL(70) is 0.010 or less and when it is not.

本発明において、有機ELデバイスが複数の画素を有する場合、少なくとも1つの画素が特定画素であれば、その画素においてEQE向上効果を得ることができる。ただし、有機ELデバイスとしてのEQE向上効果の観点から、有機ELデバイスは、2以上の特定画素を有することが好ましく、できるだけ多くの特定画素を有することがより好ましい。
有機ELデバイスとしてのEQE向上効果の観点及び有機ELデバイスの生産性向上のから、有機ELデバイスは、すべての赤色画素2Rが特定画素であるか、すべての緑色画素2Gが特定画素であるか、又は、すべての青色画素2Bが特定画素であることが好ましい。特に緑色画素2Gではその視感度曲線の特性上、輝度が上昇しやすいため、特定画素であることが好ましく、次いで赤色画素2R、青色画素2Bの順で特定画素であることがより好ましい。さらに、すべての赤色画素2R、すべての緑色画素2G及びすべての青色画素2Bからなる群より選択される2種以上の画素が特定画素であることが特に好ましい。
In the present invention, when the organic EL device has a plurality of pixels, if at least one pixel is a specific pixel, the EQE improvement effect can be obtained for that pixel. However, from the viewpoint of improving the EQE as an organic EL device, the organic EL device preferably has two or more specific pixels, and more preferably has as many specific pixels as possible.
From the viewpoint of the EQE improvement effect as an organic EL device and the productivity improvement of the organic EL device, whether all red pixels 2R are specific pixels or all green pixels 2G are specific pixels, Alternatively, all blue pixels 2B are preferably specific pixels. In particular, the green pixel 2G tends to increase in brightness due to the characteristics of the luminosity curve, so it is preferable that the green pixel 2G be the specific pixel, and it is more preferable that the red pixel 2R and the blue pixel 2B be the specific pixels in this order. Furthermore, it is particularly preferable that two or more pixels selected from the group consisting of all red pixels 2R, all green pixels 2G and all blue pixels 2B are specific pixels.

以上の説明では、バンク付き基板が有する第1の電極が陽極であり、第2の電極が陰極であったが、第1の電極が陰極で、第2の電極が陽極でもよい。また、以上の説明では、有機ELデバイスは、赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bの3種類の画素を有していたが、色の種類は、特に限定されず、全ての画素が同じ色を出射してもよい。
以上の説明では、有機発光層とバンク付き基板が有する電極との間に、正孔注入層及び正孔輸送層が形成されていたが、それらは形成されなくてもよい。例えば、バンク付き基板が有する電極に隣接して有機発光層が形成されてもよい。あるいは、正孔輸送層が形成されておらず、正孔注入層に隣接して有機発光層が形成されていてもよい。
有機ELデバイスの例としては、有機ディスプレイパネルに限定されず、有機発光装置であればよい。
In the above description, the first electrode and the second electrode of the banked substrate are the anode and the cathode, respectively, but the first electrode and the second electrode may be the cathode and the anode, respectively. Moreover, in the above description, the organic EL device has three types of pixels, the red pixel 2R, the green pixel 2G, and the blue pixel 2B, but the type of color is not particularly limited, and all the pixels are the same. Color may be emitted.
In the above description, the hole injection layer and the hole transport layer were formed between the organic light-emitting layer and the electrode of the banked substrate, but they do not have to be formed. For example, an organic light-emitting layer may be formed adjacent to the electrodes that the banked substrate has. Alternatively, the hole-transporting layer may not be formed, and the organic light-emitting layer may be formed adjacent to the hole-injecting layer.
Examples of organic EL devices are not limited to organic display panels, and may be organic light emitting devices.

<有機ELデバイスの製造方法>
次に、有機ELデバイス1の製造方法について説明する。ここでは、バンク付き基板10を準備した後の有機ELデバイス1の製造方法について説明する。
有機ELデバイス1の製造方法は画素を形成する工程を含み、画素を形成する工程は、下記の工程を含む。
陽極(第1の電極)12上に有機発光層23を形成する工程(有機発光層形成工程)S101、
有機発光層23上に陰極(第2の電極)30を形成する工程(陰極形成工程)S102、及び
得られた画素を検査する工程S103。
<Method for manufacturing organic EL device>
Next, a method for manufacturing the organic EL device 1 will be described. Here, a method for manufacturing the organic EL device 1 after preparing the banked substrate 10 will be described.
The method for manufacturing the organic EL device 1 includes a step of forming pixels, and the steps of forming pixels include the following steps.
a step of forming an organic light-emitting layer 23 on the anode (first electrode) 12 (organic light-emitting layer forming step) S101;
A step of forming a cathode (second electrode) 30 on the organic light emitting layer 23 (cathode forming step) S102, and a step S103 of inspecting the obtained pixels.

有機ELデバイス1の製造においてはまず、バンク付き基板10を準備した後、工程S101の前に、陽極(第1の電極)12上に有機構造体40を形成する工程(有機構造体形成工程)S100を実施する。有機構造体形成工程S10では、図5に示されるように、画素領域2aに設けられた、換言すれば、凹部14に設けられた陽極12上に正孔注入層21と正孔輸送層22とをこの順に塗布法によって形成して正孔注入層21と正孔輸送層22の積層体である有機構造体40を作製する。有機構造体40は、画素の一部である。 In manufacturing the organic EL device 1, first, after preparing the banked substrate 10, before step S101, a step of forming the organic structure 40 on the anode (first electrode) 12 (organic structure forming step). S100 is implemented. In the organic structure forming step S10, as shown in FIG. 5, a hole injection layer 21 and a hole transport layer 22 are formed on the anode 12 provided in the pixel region 2a, in other words, provided in the concave portion 14. are formed in this order by a coating method to fabricate an organic structure 40 that is a laminate of the hole injection layer 21 and the hole transport layer 22 . Organic structure 40 is part of a pixel.

具体的には、凹部14の陽極12上に、正孔注入材料を含む塗布液を滴下して塗布膜を形成した後、塗布膜を乾燥させることによって、正孔注入層21を形成する。 Specifically, a coating liquid containing a hole injection material is dropped onto the anode 12 of the concave portion 14 to form a coating film, and then the coating film is dried to form the hole injection layer 21 .

塗布法としては、例えば、インクジェット印刷法が挙げられる。ただし、凹部14内に層を形成可能な塗布法であれば他の公知の塗布法、例えば、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、及びノズルプリント法を用いてもよく、好ましくは、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、及びノズルプリント法を用いてもよい。 Examples of the coating method include an inkjet printing method. However, other known coating methods, such as micro gravure coating, gravure coating, bar coating, roll coating, wire bar coating, and spray coating, can be used as long as they are coating methods capable of forming a layer in the recess 14. , screen printing, flexographic printing, offset printing, and nozzle printing, preferably screen printing, flexographic printing, offset printing, and nozzle printing.

塗布液に用いられる溶媒としては、正孔注入材料を溶解できれば限定されないが、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩化物溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等のエステル溶媒等が挙げられる。 The solvent used in the coating solution is not limited as long as it can dissolve the hole injection material. Examples include chloride solvents such as chloroform, methylene chloride, and dichloroethane; ether solvents such as tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene. ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; and ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate and ethyl cellosolve acetate.

塗布膜の乾燥方法は、塗布膜を乾燥できれば限定されないが、真空乾燥及び加熱乾燥等が挙げられる。 A method for drying the coating film is not limited as long as the coating film can be dried, and examples thereof include vacuum drying and heat drying.

次に、正孔輸送材料を含む塗布液を凹部14内の正孔注入層21上に滴下して塗布膜を形成した後、塗布膜を乾燥させることによって、正孔輸送層22を形成する。溶媒及び乾燥方法の例は、正孔注入層21の場合と同様であり得る。 Next, a coating liquid containing a hole transport material is dropped onto the hole injection layer 21 in the recess 14 to form a coating film, and then the coating film is dried to form the hole transport layer 22 . Examples of solvents and drying methods can be the same as for the hole injection layer 21 .

有機構造体形成工程S100を実施した後に、有機発光層形成工程S101を実施する。有機発光層形成工程S101では、図6に示されるように、有機構造体40上に、好ましくは塗布法によって有機発光層23を形成する。
具体的には、有機発光層23となるべき発光材料を含む塗布液をバンク13内、すなわち、凹部14内の正孔輸送層22上に滴下して塗布膜を形成した後、塗布膜を乾燥させることによって、有機発光層23を形成する。
赤色画素2R、緑色画素2G及び青色画素2Bに対応する凹部14には、それぞれ、赤色用発光材料、緑色発光材料、及び青色発光材料を含む塗布液を用いて、赤色発光層23R、緑色発光層23G及び青色発光層23Bを形成する。
After performing the organic structure forming step S100, the organic light emitting layer forming step S101 is performed. In the organic light-emitting layer forming step S101, as shown in FIG. 6, the organic light-emitting layer 23 is formed on the organic structure 40, preferably by a coating method.
Specifically, a coating liquid containing a light-emitting material to be the organic light-emitting layer 23 is dropped in the bank 13, that is, on the hole transport layer 22 in the recess 14 to form a coating film, and then the coating film is dried. Then, the organic light-emitting layer 23 is formed.
In the concave portions 14 corresponding to the red pixel 2R, the green pixel 2G and the blue pixel 2B, the red light emitting layer 23R and the green light emitting layer 23R and the green light emitting layer are formed by using coating liquids containing a red light emitting material, a green light emitting material and a blue light emitting material, respectively. 23G and a blue light emitting layer 23B are formed.

塗布法としては、インクジェット印刷法が例示されるが、正孔注入層21について例示したその他の公知の塗布法も利用し得る。塗布液に用いられる溶媒は、発光材料を溶解できれば限定されず、正孔注入層21の形成の際に例示した溶媒と同様であり得る。 As an application method, an inkjet printing method is exemplified, but other known application methods exemplified for the hole injection layer 21 can also be used. The solvent used for the coating liquid is not limited as long as it can dissolve the light-emitting material, and may be the same as the solvents exemplified for the formation of the hole injection layer 21 .

塗布膜の乾燥方法は、正孔注入層21の場合と同様に、塗布膜を乾燥できれば限定されないが、真空乾燥及び加熱乾燥等が挙げられる。 The method for drying the coating film is not limited as long as the coating film can be dried in the same manner as in the case of the hole injection layer 21, but examples thereof include vacuum drying and heat drying.

有機発光層形成工程S101により、凹部14内において陽極12上には、有機構造体40と有機発光層23とからなる有機EL構造体20が形成される。 The organic EL structure 20 including the organic structure 40 and the organic light emitting layer 23 is formed on the anode 12 in the recess 14 by the organic light emitting layer forming step S101.

上述のように、少なくとも1つの画素2において、好ましくはすべての画素2において、有機発光層23は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。本実施形態に係る有機ELデバイス1において、有機EL構造部20を構成する各層は、平面視において同一形状である。
また上述のように、少なくとも1つの画素2において、好ましくはすべての画素2において、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する有機発光層23は、短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有する(図6参照)。
バンク13内に塗布法によって有機発光層23を形成すると、表面張力の影響によって、通常、有機発光層23は凹形状を有することとなる。
As described above, in at least one pixel 2, preferably in all pixels 2, the organic light-emitting layer 23 has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view. In the organic EL device 1 according to this embodiment, each layer forming the organic EL structure section 20 has the same shape in plan view.
Further, as described above, in at least one pixel 2, preferably in all pixels 2, the organic light-emitting layer 23 having a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view has a longitudinal direction passing through the center of the lateral direction. In a cross section parallel to the direction, it has a concave shape in which the thickness at the center in the longitudinal direction is smaller than the thickness at both ends (see FIG. 6).
When the organic light-emitting layer 23 is formed in the bank 13 by a coating method, the organic light-emitting layer 23 usually has a concave shape due to the influence of surface tension.

有機発光層形成工程S101では、複数の画素2のうち少なくとも1つが上記〔A〕を満たすように有機発光層23が形成される。上記〔A〕を満たすように、例えば上で例示した発光材料の中から、電流値が10mA/cmであるときの平均輝度が上記範囲になる発光材料を選んで有機発光層23を形成する。〔A〕の詳細については上述の記載が引用される。 In the organic light-emitting layer forming step S101, the organic light-emitting layer 23 is formed so that at least one of the plurality of pixels 2 satisfies the above [A]. In order to satisfy the above [A], the organic light-emitting layer 23 is formed by selecting, for example, from among the light-emitting materials exemplified above, a light-emitting material having an average luminance in the above range at a current value of 10 mA/cm 2 . . For the details of [A], the above description is cited.

有機発光層23を形成した後、陰極(第2の電極)30を形成する工程(陰極形成工程)S102を実施する。陰極30の形成方法としては、例えば、陽極12の場合と同様の蒸着法及び塗布法が挙げられる。この工程では、複数の凹部14に形成された有機発光層23上に渡って陰極30を形成する。これにより、バンク13内に画素2が形成された図1及び図2に示される有機ELデバイス1が得られる。 After forming the organic light emitting layer 23, the step of forming the cathode (second electrode) 30 (cathode forming step) S102 is performed. Methods for forming the cathode 30 include, for example, vapor deposition and coating methods similar to those for the anode 12 . In this step, the cathode 30 is formed over the organic light emitting layer 23 formed in the plurality of recesses 14 . As a result, the organic EL device 1 shown in FIGS. 1 and 2 in which the pixels 2 are formed in the banks 13 is obtained.

陰極形成工程S102の後、得られた画素を検査する工程(検査工程)S103を実施する。検査工程S103は、画素に含まれる有機発光層23の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面における輝度分布曲線の傾きに関する情報を取得し、該情報に基づいて該画素の良否判定を行う工程を含む。輝度分布曲線については上述の記載が引用される。
画素の輝度分布曲線を測定し、該曲線から得られる情報に基づいて画素の良否判定を行う方法によれば、有機発光層23そのものの形状(例えば厚みや厚み分布等)を測定し、その測定結果に基づいて画素の良否判定を行う方法に比べて簡便にかつ容易に良否判定を行えるため、有機ELデバイス1の生産性を向上させることができる。
After the cathode formation step S102, a step (inspection step) S103 of inspecting the obtained pixels is performed. The inspection step S103 acquires information about the slope of the luminance distribution curve in a cross section parallel to the longitudinal direction passing through the center of the short side direction of the organic light emitting layer 23 included in the pixel, and determines whether the pixel is good or bad based on the information. including the step of As for the luminance distribution curve, the above description is cited.
According to the method of measuring the luminance distribution curve of a pixel and determining the quality of the pixel based on the information obtained from the curve, the shape (for example, thickness, thickness distribution, etc.) of the organic light-emitting layer 23 itself is measured, and the measurement is performed. The productivity of the organic EL device 1 can be improved because the quality determination can be performed more simply and easily than the method of determining the quality of the pixels based on the result.

輝度分布曲線の傾きに関する情報は、好ましくは、絶対値で60以上80以下の位置での輝度分布曲線の傾きに関する情報であり、より好ましくは、絶対値で70の位置での輝度分布曲線の傾きに関する情報、すなわち、SL(70)である。輝度分布曲線の傾きに関する情報として、絶対値で60以上80以下の位置での輝度分布曲線の傾きに関する情報、とりわけSL(70)を選択することにより、簡便に画素の良否判定を行えるとともに、上記式(1)を満たすか否かを良否判定基準とすることにより、EQEが良好な有機ELデバイスを精度良く生産することができる。
SL(70)、その範囲及び好ましい範囲、並びに式(1)については上述の記載が引用される。
The information about the slope of the brightness distribution curve is preferably information about the slope of the brightness distribution curve at a position of 60 or more and 80 or less in absolute value, more preferably the slope of the brightness distribution curve at a position of 70 in absolute value. , namely SL (70). By selecting the information on the slope of the brightness distribution curve at a position with an absolute value of 60 or more and 80 or less, especially SL(70), as the information on the slope of the brightness distribution curve, it is possible to easily judge whether the pixel is good or bad, and By using whether or not the expression (1) is satisfied as the quality judgment criterion, an organic EL device with good EQE can be produced with high accuracy.
SL(70), its range and preferred range, and formula (1) are referred to above.

上記〔B〕を満たすように画素を形成する方法としては、有機発光層23の形成において、塗布膜を真空乾燥させる工程における減圧プロファイル(乾燥炉内の気体を排気しながら減圧する操作における排気時間と乾燥炉内の真空度との関係)及び/又は乾燥温度を調整することが挙げられる。例えば、一例として、減圧にする速度を比較的大きくしたり、乾燥温度を低めに設定したりすることは、〔B〕を充足する画素を形成するうえで有利となる。
上記〔A〕を満たす画素について行う検査工程S103において、例えば、上記式(1)を満たすか否かを良否判定基準とし、SL(70)が0.010を超える場合、上記〔B〕を満たすようにするために、有機発光層23の形成について上記調整を行う工程を実施することが好ましい。
As a method of forming pixels so as to satisfy the above [B], in the formation of the organic light emitting layer 23, the pressure reduction profile in the process of vacuum drying the coating film (exhaust time in the operation of reducing pressure while exhausting the gas in the drying furnace and the degree of vacuum in the drying oven) and/or adjusting the drying temperature. For example, as an example, it is advantageous to form a pixel that satisfies [B] by increasing the depressurizing speed or setting the drying temperature to a relatively low level.
In the inspection step S103 performed for the pixels satisfying the above [A], for example, whether or not the above formula (1) is satisfied is used as a pass/fail judgment criterion, and if SL(70) exceeds 0.010, the above [B] is satisfied. In order to achieve this, it is preferable to perform the step of adjusting the formation of the organic light-emitting layer 23 as described above.

本発明に係る製造方法によって得られる有機ELデバイスは、EQE向上の観点から、特定画素、すなわち、上記〔A〕及び〔B〕を満たす画素を少なくとも1つ含む。ただし、有機ELデバイスとしてのEQE向上効果の観点から、有機ELデバイスは、2以上の特定画素を有することが好ましく、できるだけ多くの特定画素を有することがより好ましい。
有機ELデバイスとしてのEQE向上効果の観点及び有機ELデバイスの生産性向上のから、有機ELデバイスは、すべての赤色画素2Rが特定画素であるか、すべての緑色画素2Gが特定画素であるか、又は、すべての青色画素2Bが特定画素であることが好ましい。特に緑色画素2Gではその視感度曲線の特性上、輝度が上昇しやすいため、特定画素であることが好ましく、次いで赤色画素2R、青色画素2Bの順で特定画素であることがより好ましい。さらに、すべての赤色画素2R、すべての緑色画素2G及びすべての青色画素2Bからなる群より選択される2種以上の画素が特定画素であることが特に好ましい。
From the viewpoint of improving EQE, the organic EL device obtained by the manufacturing method according to the present invention includes at least one specific pixel, that is, a pixel that satisfies the above [A] and [B]. However, from the viewpoint of improving the EQE as an organic EL device, the organic EL device preferably has two or more specific pixels, and more preferably has as many specific pixels as possible.
From the viewpoint of the EQE improvement effect as an organic EL device and the productivity improvement of the organic EL device, whether all red pixels 2R are specific pixels or all green pixels 2G are specific pixels, Alternatively, all blue pixels 2B are preferably specific pixels. In particular, the green pixel 2G tends to increase in brightness due to the characteristics of the luminosity curve, so it is preferable that the green pixel 2G be the specific pixel, and it is more preferable that the red pixel 2R and the blue pixel 2B be the specific pixels in this order. Furthermore, it is particularly preferable that two or more pixels selected from the group consisting of all red pixels 2R, all green pixels 2G and all blue pixels 2B are specific pixels.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
バンク付き基板10の複数の凹部14に、陽極12側から正孔注入層21、正孔輸送層22及び有機発光層23を形成し、有機発光層23上に陰極30を形成して複数の画素を作製した。これにより有機ELデバイスを得た。正孔注入層21、正孔輸送層22及び有機発光層23は、インクジェット印刷法により各層に対応する塗布液を用いて塗布膜を形成し、真空乾燥させることで形成した。各凹部14内の有機発光層23として緑色発光層23Gを使用した。画素を構成する有機EL構造部20は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。
非接触3次元表面形状測定装置(Zygo社製)を用いて確認したところ、有機発光層23は、短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有していた。以下の実施例2、比較例1及び2、並びに参考例1及び2においても同様であった。
<Example 1>
A hole injection layer 21, a hole transport layer 22 and an organic light emitting layer 23 are formed in a plurality of concave portions 14 of a substrate 10 with banks from the anode 12 side, and a cathode 30 is formed on the organic light emitting layer 23 to form a plurality of pixels. was made. An organic EL device was thus obtained. The hole injection layer 21, the hole transport layer 22, and the organic light-emitting layer 23 were formed by forming a coating film using a coating liquid corresponding to each layer by an inkjet printing method, followed by vacuum drying. A green light-emitting layer 23G was used as the organic light-emitting layer 23 in each recess 14 . The organic EL structural portion 20 forming a pixel has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view.
As a result of confirmation using a non-contact three-dimensional surface profile measuring device (manufactured by Zygo), the thickness of the organic light-emitting layer 23 in a cross section parallel to the longitudinal direction passing through the center of the longitudinal direction is the thickness at the center in the longitudinal direction. It had a concave shape smaller than The same was true in Example 2, Comparative Examples 1 and 2, and Reference Examples 1 and 2 below.

形成された複数の画素2において、正孔注入層21、正孔輸送層22及び有機発光層23には、同じ正孔注入材料、正孔輸送材料及び緑色発光材料を使用した。有機発光層23を形成する際に行った真空乾燥において、真空チャンバ内の温度は25℃であった。また、この真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルは図7に示されるとおりとした。 The same hole injection material, hole transport material and green light emitting material were used for the hole injection layer 21, the hole transport layer 22 and the organic light emitting layer 23 in the plurality of pixels 2 thus formed. The temperature in the vacuum chamber was 25° C. in the vacuum drying performed when forming the organic light emitting layer 23 . Also, the pressure reduction profile in the vacuum chamber in this vacuum drying was as shown in FIG.

<実施例2>
有機発光層23を形成する際に行った真空乾燥での乾燥温度を35℃としたこと以外は実施例1と同様にして有機ELデバイス1を作製した。陽極12、正孔注入層21、正孔輸送層22、有機発光層23及び陰極30の材料はそれぞれ、実施例1と実施例2とで同じである。
<Example 2>
An organic EL device 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the drying temperature in the vacuum drying performed when forming the organic light-emitting layer 23 was 35°C. The materials of the anode 12, the hole injection layer 21, the hole transport layer 22, the organic light emitting layer 23 and the cathode 30 are the same in Examples 1 and 2, respectively.

<比較例1>
有機発光層23を形成する際に行った真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルを図7に示されるとおりとしたこと以外は実施例1と同様にして有機ELデバイス1を作製した。陽極12、正孔注入層21、正孔輸送層22、有機発光層23及び陰極30の材料はそれぞれ、実施例1と比較例1とで同じである。
<Comparative Example 1>
An organic EL device 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the pressure reduction profile in the vacuum chamber in the vacuum drying performed when forming the organic light emitting layer 23 was set as shown in FIG. The materials of the anode 12, the hole injection layer 21, the hole transport layer 22, the organic light emitting layer 23, and the cathode 30 are the same in Example 1 and Comparative Example 1, respectively.

<比較例2>
有機発光層23を形成する際に行った真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルを図7に示されるとおりとしたこと以外は実施例1と同様にして有機ELデバイス1を作製した。陽極12、正孔注入層21、正孔輸送層22、有機発光層23及び陰極30の材料はそれぞれ、実施例1と比較例2とで同じである。
<Comparative Example 2>
An organic EL device 1 was produced in the same manner as in Example 1, except that the pressure reduction profile in the vacuum chamber in the vacuum drying performed when forming the organic light emitting layer 23 was set as shown in FIG. The materials of the anode 12, the hole injection layer 21, the hole transport layer 22, the organic light emitting layer 23, and the cathode 30 are the same in Example 1 and Comparative Example 2, respectively.

<参考例1>
バンク付き基板10の複数の凹部14に、陽極12側から正孔注入層21、正孔輸送層22及び有機発光層23を形成し、有機発光層23上に陰極30を形成して複数の画素を作製した。これにより有機ELデバイスを得た。正孔注入層21、正孔輸送層22及び有機発光層23は、インクジェット印刷法により各層に対応する塗布液を用いて塗布膜を形成し、真空乾燥させることで形成した。各凹部14内の有機発光層23として青色発光層23Bを使用した。画素を構成する有機EL構造部20は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有する。
<Reference example 1>
A hole injection layer 21, a hole transport layer 22 and an organic light emitting layer 23 are formed in a plurality of concave portions 14 of a substrate 10 with banks from the anode 12 side, and a cathode 30 is formed on the organic light emitting layer 23 to form a plurality of pixels. was made. An organic EL device was thus obtained. The hole injection layer 21, the hole transport layer 22, and the organic light-emitting layer 23 were formed by forming a coating film using a coating liquid corresponding to each layer by an inkjet printing method, followed by vacuum drying. A blue light-emitting layer 23B was used as the organic light-emitting layer 23 in each recess 14 . The organic EL structural portion 20 forming a pixel has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view.

形成された複数の画素2において、正孔注入層21、正孔輸送層22及び有機発光層23には、同じ正孔注入材料、正孔輸送材料及び青色発光材料を使用した。有機発光層23を形成する際に行った真空乾燥において、真空チャンバ内の温度は35℃であった。また、この真空乾燥での真空チャンバ内の減圧プロファイルは図7に示されるとおりとした。 The same hole injection material, hole transport material and blue light emitting material were used for the hole injection layer 21, the hole transport layer 22 and the organic light emitting layer 23 in the plurality of pixels 2 thus formed. The temperature in the vacuum chamber was 35° C. in the vacuum drying performed when forming the organic light-emitting layer 23 . Also, the pressure reduction profile in the vacuum chamber in this vacuum drying was as shown in FIG.

<参考例2>
有機発光層23を形成する際に行った真空乾燥での乾燥温度を55℃としたこと以外は参考例1と同様にして有機ELデバイス1を作製した。陽極12、正孔注入層21、正孔輸送層22、有機発光層23及び陰極30の材料はそれぞれ、参考例1と参考例2とで同じである。
<Reference example 2>
An organic EL device 1 was produced in the same manner as in Reference Example 1 except that the drying temperature in the vacuum drying performed when forming the organic light-emitting layer 23 was 55°C. The materials of the anode 12, the hole injection layer 21, the hole transport layer 22, the organic light emitting layer 23, and the cathode 30 are the same in Reference Examples 1 and 2, respectively.

[測定・評価]
(1)電流値が10mA/cmであるときの平均輝度
Radiant Vision Systems社製の2次元色彩輝度計を用い、複数の画素のうちの1つについて、印加した電流[単位:mA]及び発光面積[単位:cm]から求められる電流値が10mA/cmとなるときの平均輝度[単位:cd/m]を求めた。結果を表1に示す。平均輝度は、有機発光層23の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面について求めた。
[Measurement/Evaluation]
(1) Average luminance when the current value is 10 mA/cm 2 Using a two-dimensional color luminance meter manufactured by Radiant Vision Systems, applied current [unit: mA] and light emission for one of a plurality of pixels The average luminance [unit: cd/m 2 ] was determined when the current value obtained from the area [unit: cm 2 ] was 10 mA/cm 2 . Table 1 shows the results. The average luminance was obtained for a cross section parallel to the longitudinal direction passing through the center of the organic light-emitting layer 23 in the lateral direction.

(2)輝度分布曲線及びSL(70)
上記(1)の測定を行った画素について、Radiant Vision Systems社製の2次元色彩輝度計を用いて画素内の輝度分布を取得し、輝度分布曲線を求めた。輝度分布曲線は、平均輝度は、有機発光層23の短手方向の中心を通り長手方向に平行な断面について求めた。
また、得られた輝度分布曲線から、上述の定義に従って、SL(70)を求めた。結果を表1に示す。
(2) Luminance distribution curve and SL(70)
About the pixel which performed the measurement of said (1), the luminance distribution in a pixel was acquired using the two-dimensional color luminance meter by the Radiant Vision Systems company, and the luminance distribution curve was calculated|required. For the luminance distribution curve, the average luminance was obtained for a cross section parallel to the longitudinal direction passing through the center of the organic light-emitting layer 23 in the lateral direction.
Also, SL(70) was obtained from the obtained luminance distribution curve according to the above definition. Table 1 shows the results.

(3)EQE
上記(1)の測定を行った画素について、Radiant Vision Systems社製の2次元色彩輝度計を用い、電圧[単位:V]、電流[単位:mA]及び発光スペクトルからEQEを求めた。結果を表1に示す。
(3) EQE
EQE was obtained from the voltage [unit: V], the current [unit: mA] and the emission spectrum using a two-dimensional color luminance meter manufactured by Radiant Vision Systems for the pixels subjected to the measurement in (1) above. Table 1 shows the results.

Figure 0007193953000001
Figure 0007193953000001

1 有機ELデバイス、2 画素、2a 画素領域、2R 赤色画素、2G 緑色画素、2B 青色画素、10 バンク付き基板、11 基板、11a 基板の表面、12 陽極(第1の電極)、13 バンク、13a バンクの側面、14 凹部、20 有機EL構造部、21 正孔注入層、22 正孔輸送層、23 有機発光層、30 陰極(第2の電極)、40 有機構造体。 1 organic EL device, 2 pixel, 2a pixel region, 2R red pixel, 2G green pixel, 2B blue pixel, 10 substrate with bank, 11 substrate, 11a surface of substrate, 12 anode (first electrode), 13 bank, 13a Bank Side 14 Recess 20 Organic EL Structure Part 21 Hole Injection Layer 22 Hole Transport Layer 23 Organic Light Emitting Layer 30 Cathode (Second Electrode) 40 Organic Structure.

Claims (4)

第1の電極と有機発光層と第2の電極とを含む画素を形成する工程を含む有機ELデバイスの製造方法であって、
前記有機ELデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記画素を規定するためのバンクとを備え、
前記画素は、前記バンク内に配置され、
前記画素を形成する工程は、
前記第1の電極上に前記有機発光層を形成する工程と、
前記有機発光層上に前記第2の電極を形成する工程と、
得られた画素を検査する工程と、
を含み、
前記有機発光層は、平面視において長手方向と短手方向とを有する形状を有し、かつ、前記短手方向の中心を通り前記長手方向に平行な断面において、長手方向中心の厚みが両端の厚みよりも小さい凹形状を有するように形成され、
前記画素は、電流値が10mA/cmであるときの輝度が3000cd/m以上であり、
前記検査する工程は、前記画素の前記断面における輝度分布曲線の傾きに関する情報を取得し、該情報に基づいて前記画素の良否判定を行う工程を含み、
前記良否判定を行う工程において、
前記長手方向中心の位置を0、前記長手方向における一方端の位置を+100、前記長手方向における他方端の位置を-100とするとき、
絶対値で60以上80以下の位置の輝度分布曲線の傾きに関する情報に基づいて前記画素の良否判定を行う、有機ELデバイスの製造方法。
A method for manufacturing an organic EL device, comprising forming a pixel including a first electrode, an organic light-emitting layer, and a second electrode,
The organic EL device comprises a substrate and a bank provided on the substrate for defining the pixel,
the pixels are arranged in the bank;
The step of forming the pixels includes:
forming the organic light-emitting layer on the first electrode;
forming the second electrode on the organic light-emitting layer;
inspecting the resulting pixels;
including
The organic light-emitting layer has a shape having a longitudinal direction and a lateral direction in plan view, and in a cross section passing through the center in the lateral direction and parallel to the longitudinal direction, the thickness at the center in the longitudinal direction is formed to have a concave shape that is smaller than the thickness;
the pixel has a luminance of 3000 cd/m 2 or more at a current value of 10 mA/cm 2 ;
The inspecting step includes acquiring information about the slope of a luminance distribution curve in the cross section of the pixel and performing quality determination of the pixel based on the information ,
In the step of performing the quality judgment,
When the position of the center in the longitudinal direction is 0, the position of one end in the longitudinal direction is +100, and the position of the other end in the longitudinal direction is -100,
A method for manufacturing an organic EL device, wherein quality determination of the pixel is performed based on information regarding a slope of a luminance distribution curve at a position of 60 or more and 80 or less in absolute value .
前記画素の良否判定を行う工程において、前記画素が、前記長手方向中心における輝度で規格化したときの前記断面における輝度分布曲線について、In the step of determining whether the pixel is good or bad, the luminance distribution curve in the cross section when the pixel is normalized by the luminance at the center in the longitudinal direction,
前記長手方向中心の位置を0、前記長手方向における一方端の位置を+100、前記長手方向における他方端の位置を-100とするとき、When the position of the center in the longitudinal direction is 0, the position of one end in the longitudinal direction is +100, and the position of the other end in the longitudinal direction is -100,
60≦X≦80である位置+Xにおける輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置-Xにおける輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値に基づいて前記画素の良否判定を行う、請求項1に記載の有機ELデバイスの製造方法。2. Determination of whether the pixel is good or bad based on an average value of the absolute value of the slope of the luminance distribution curve at position +X and the absolute value of the slope of the luminance distribution curve at position -X, where 60≦X≦80. 2. A method for manufacturing the organic EL device according to 1.
前記画素の良否判定を行う工程において、前記画素が、前記長手方向中心における輝度で規格化したときの前記断面における輝度分布曲線について、下記式(1):
SL(70)≦0.010 (1)
[式中、SL(70)は、前記長手方向中心の位置を0、前記長手方向における一方端の位置を+100、前記長手方向における他方端の位置を-100とするとき、位置+70における輝度分布曲線の傾きの絶対値と、位置-70における輝度分布曲線の傾きの絶対値との平均値を表す。]
を満たすか否かに基づいて前記画素の良否判定を行う、請求項1又は2に記載の有機ELデバイスの製造方法。
In the step of determining the quality of the pixel, the luminance distribution curve in the cross section when the pixel is normalized by the luminance at the center in the longitudinal direction is expressed by the following formula (1):
SL(70)≦0.010 (1)
[In the formula, SL(70) is the luminance distribution at position +70 when the position of the center in the longitudinal direction is 0, the position of one end in the longitudinal direction is +100, and the position of the other end in the longitudinal direction is −100. It represents the mean value of the absolute value of the slope of the curve and the absolute value of the slope of the luminance distribution curve at position -70. ]
3. The method of manufacturing an organic EL device according to claim 1 , wherein the quality determination of the pixel is performed based on whether or not the condition is satisfied.
前記第1の電極上に、塗布法によって有機発光層を形成する、請求項1~3のいずれか1項に記載の有機ELデバイスの製造方法。 4. The method for manufacturing an organic EL device according to claim 1 , wherein an organic light-emitting layer is formed on said first electrode by a coating method.
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