JP7193369B2 - スパッタリング装置 - Google Patents
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- ターゲットが設けられる真空チャンバを有し、この真空チャンバ内でターゲットに対向させて処理すべき基板をセットし、プラズマ雰囲気を形成してターゲットをスパッタリングすることでターゲットから飛散するスパッタ粒子を基板表面に付着、堆積させて所定の薄膜を成膜するスパッタリング装置であって、
基板面内で互いに直交する方向をX軸方向及びY軸方向、これらX軸方向及びY軸方向に直交する方向をZ軸方向とし、基板中心をターゲット中心からX軸方向一方にオフセットさせた状態で基板を保持するステージと、ステージをZ軸回りに回転駆動する駆動手段と、基板とターゲットとの間の空間でターゲットに正対させて設けられ、Z軸方向に貫通する複数の開口を有してターゲットから飛散するスパッタ粒子のうちZ軸方向に対して所定角を超えて基板の表面に斜入射するものを規制するコリメータとを備えるものにおいて、
基板中心がオフセットされる方向をX軸プラス方向、その逆方向をX軸マイナス方向とし、各開口のうち基板中心とターゲット中心との間の中心間距離の半分より短いX軸方向長さを持つものを第1開口、中心間距離と同等以上のX軸方向長さを持つものを第2開口として、いずれかの第1開口を起点開口とし、ターゲットに正対させてコリメータを配置した状態で、起点開口はその長さ方向一端が基板中心上に位置してX軸マイナス方向でX軸に対称に延在し、この起点開口に隣接してX軸マイナス方向に複数の第1開口が存すると共にX軸マイナス方向の一端に位置する第1開口がターゲット中心を跨ぎ、このターゲット中心を跨ぐ第1開口にX軸マイナス方向に隣接させて第2開口が存することを特徴とするスパッタリング装置。 - 前記第1開口より短いX軸方向長さを持つものを第3開口とし、前記起点開口のX軸プラス方向側に隣接させて第3開口が存することを特徴とする請求項1記載のスパッタリング装置。
- 前記第1開口と同等の開口面積を持つものを第4開口とし、前記起点開口及び前記第1開口のY軸方向両側に夫々複数個の第4開口が隣接して存することを特徴とする請求項1または請求項2記載のスパッタリング装置。
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