JP7189776B2 - 横型旋盤 - Google Patents
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Description
本発明は、光ファイバ多孔質母材製造用の横型旋盤に関する。
近年、生産性を向上させるため、光ファイバ用ガラス母材の大型化が進んでいる。光ファイバ用ガラス母材は、例えば、ＶＡＤ（Vapor Phase Axial Deposition）法やＭＣＶＤ（Modified Chemical Vapor Deposition）法、ＯＶＤ（Outside Vapor Deposition）法などの周知の方法によって作製される。
このうち、ＯＶＤ法は、バーナに可燃性ガス、助燃性ガス、ガラス原料を導入して火炎加水分解反応させて生成されるガラス微粒子を、回転するターゲット（基材）の半径方向に堆積させて、光ファイバ用ガラス母材の元となる多孔質母材を製造する方法である。特許文献１には、ターゲットを、その長手方向が重力方向（垂直方向）になるように把持しつつ回転させる縦型旋盤を用い、熱膨張差によって把持力が低下することを防止する機能によって、ターゲットの外周に形成される多孔質ガラスの径方向の変化を補正して改善する機構が記載されている。縦型旋盤を用いてターゲットを把持しつつ回転させる際に、縦型旋盤の上部に設けられたチャックが加熱されるため、チャックが加熱されることによる影響が無視できないためである。
一方、多孔質母材の製造時に、長手方向が略水平方向になるようにターゲットを把持しつつ固定する横型旋盤を用いる場合、ターゲットの加熱時に軸方向に沿った熱膨張が発生することによって、ターゲットがたわんで振れ回りが発生する可能性があった。ターゲットの振れ回りが発生すると、光ファイバのガラス母材から製造する最終製品としての光ファイバのコアが偏心して、光ファイバの品質が悪化するという問題が生じる。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、ターゲットを長手方向が水平方向になるように把持しつつ固定する横型旋盤において、加熱による軸方向に沿ったターゲットの熱膨張に起因した振れ回りを抑制し、光ファイバのコアの偏心を抑制できる横型旋盤を提供することにある。
上述した課題を解決し、上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る横型旋盤は、ターゲットの両端を前記ターゲットの長手方向が略水平方向になるように把持して固定し、前記長手方向に平行な軸を回転軸として前記ターゲットを回転させる、光ファイバ多孔質母材製造用の横型旋盤であって、前記ターゲットの回転軸方向の熱膨張による寸法変化を吸収する熱膨張吸収機構を有することを特徴とする。
本発明の一態様に係る横型旋盤は、上記の発明において、前記ターゲットの一端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第１チャック爪と、前記ターゲットの他端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第２チャック爪とを備え、前記熱膨張吸収機構は、前記第２チャック爪が、前記ターゲットの前記回転軸方向に可動に構成された機構であることを特徴とする。本発明の一態様に係る横型旋盤は、この構成において、前記第２チャック爪に対して前記回転軸方向に引張力を作用する弾性部材を備えることを特徴とする。
本発明の一態様に係る横型旋盤は、上記の発明において、前記ターゲットの一端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第１チャック爪と、前記ターゲットの他端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第２チャック爪とを備え、前記熱膨張吸収機構は、前記第１チャック爪と前記第２チャック爪との少なくとも一方のチャック爪が、前記ターゲットとの接触部分における前記ターゲットとの摩擦力が熱膨張により前記ターゲットの前記回転軸方向に生じる熱膨張力未満になるように構成された機構であることを特徴とする。本発明の一態様に係る横型旋盤は、この構成において、前記少なくとも一方のチャック爪における前記ターゲットとの接触部分が、軟鋼又はフッ素樹脂から構成されていることを特徴とする。
本発明に係る横型旋盤によれば、ターゲットを長手方向が水平方向になるように把持しつつ固定する横型旋盤において、加熱による軸方向に沿ったターゲットの熱膨張に起因した振れ回りを抑制し、光ファイバのコアの偏心を抑制可能となる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、以下の実施形態により本発明が限定されるものではない。また、各図面において、同一又は対応する要素には適宜同一の符号を付し、重複した説明を適宜省略する。さらに、図面は模式的なものであり、各要素の寸法の関係などは、現実のものとは異なる場合があることに留意する必要がある。図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。
まず、本発明の第１の実施形態による光ファイバ多孔質母材製造用の横型旋盤について説明する。図１は、第１の実施形態による横型旋盤を示す側面図である。
図１に示すように、第１の実施形態による横型旋盤１は、回転モータ１１、固定側チャックブロック１２、固定側チャック爪１３、軸受部１４、可動側チャックブロック１５、可動側チャック爪１６、及びベアリング１７を備えて構成される。
回転モータ１１は、固定側チャックブロック１２及び第１チャック爪としての固定側チャック爪１３を、回転軸Ｏを中心として回転させるように構成されている。固定側チャック爪１３は、固定側チャックブロック１２に固定されている。可動側チャック爪１６は可動側チャックブロック１５に固定されている。
可動側チャックブロック１５には、第２チャック爪としての可動側チャック爪１６が設けられた側とは反対側に凸状部１５ａが設けられている。凸状部１５ａの回転軸Ｏに垂直な断面は例えば略円形状である。軸受部１４には、回転軸Ｏに垂直な断面が例えば略円形状の凹状部１４ａが、凸状部１５ａを挿入可能に形成されている。ベアリング１７は、例えばボールブッシングからなり、凹状部１４ａの内周側面と凸状部１５ａとの外周側面との間に設けられている。これにより、可動側チャックブロック１５及び可動側チャック爪１６は、軸受部１４に対して回転軸Ｏ方向に沿って可動自在、かつ回転軸Ｏを中心として回転自在に構成される。
固定側チャック爪１３及び可動側チャック爪１６は、例えば石英ガラスからなるターゲットロッド５０の長手方向が回転軸Ｏ方向に平行で略水平方向になるように、ターゲットロッド５０の両端をそれぞれ把持可能に構成される。固定側チャック爪１３及び可動側チャック爪１６によってターゲットロッド５０の両端が把持された状態で、回転モータ１１を回転させることにより、回転軸Ｏを中心としてターゲットとしてのターゲットロッド５０を回転させることができる。
以上のように構成された横型旋盤１において、酸水素バーナ１８は、火炎によってターゲットロッド５０にガラス微粒子を堆積可能、かつ横型旋盤１及びターゲットロッド５０に対して、回転軸Ｏ方向に沿って移動可能に構成される。なお、酸水素バーナ１８を静止状態に固定して、横型旋盤１を回転軸Ｏ方向に沿って移動可能に構成してもよい。すなわち、酸水素バーナ１８は、横型旋盤１に対して回転軸Ｏ方向に沿って相対移動可能に構成される。また、酸水素バーナ１８は、必要に応じてターゲットロッド５０が加熱されない位置に退避可能に構成してもよい。また、酸水素バーナ１８は、１本に限定されるものではなく、複数本から構成することも可能である。
また、可動側チャックブロック１５及び可動側チャック爪１６は、ターゲットロッド５０を加熱する前の状態で、凹状部１４ａの凸状部１５ａ側の面と、凸状部１５ａの凹状部１４ａ側の面との間の可動域の範囲で移動可能である。なお、可動域の長さは、加熱されるターゲットロッド５０の熱膨張による延伸長に応じて、適宜設定可能である。
次に、ターゲットロッド５０にガラス微粒子を堆積させる場合について説明する。ターゲットロッド５０は、固定側チャック爪１３及び可動側チャック爪１６によって両端が把持されつつ、回転モータ１１の駆動によって回転されるとともに、酸水素バーナ１８の火炎によって加熱される。ターゲットロッド５０は、外周にガラス微粒子が堆積されるとともに、回転軸Ｏ方向に沿って熱膨張する。ターゲットロッド５０が回転軸Ｏ方向に沿って熱膨張すると、可動側チャックブロック１５及び可動側チャック爪１６に、ターゲットロッド５０の熱膨張による力（以下、熱膨張力）が作用する。可動側チャックブロック１５及び可動側チャック爪１６は、回転軸Ｏ方向に沿って、ターゲットロッド５０が延伸する向きに移動する。この際、可動側チャックブロック１５の凸状部１５ａが、回転軸Ｏ方向に沿って軸受部１４の凹状部１４ａ内を移動する。すなわち、軸受部１４が移動することなく、可動側チャックブロック１５及び可動側チャック爪１６がターゲットロッド５０の延伸する向きに移動することで、横型旋盤１において、ターゲットロッド５０の熱膨張による回転軸Ｏ方向の寸法変化分を吸収することになる。これにより、凹状部１４ａ、凸状部１５ａ、及びベアリング１７が、横型旋盤１において、ターゲットロッド５０の回転軸Ｏ方向に沿った熱膨張による回転軸Ｏ方向の寸法変化分を吸収する熱膨張吸収機構を構成する。
以上説明した本発明の第１の実施形態による横型旋盤１によれば、ターゲットロッド５０が加熱される際に、熱膨張によって回転軸Ｏ方向に沿って延伸した場合であっても、ターゲットロッド５０の膨張による延伸分を、軸受部１４の凹状部１４ａによって吸収できる。これにより、ターゲットロッド５０が延伸によってたわんで振り回りが発生することを抑制できる。したがって、回転軸Ｏを中心としてターゲットロッド５０を回転させつつガラス微粒子を堆積させる場合においても、ターゲットロッド５０の振幅を小さくすることができ、最終製品としての光ファイバのコアの偏心を抑制できる。
次に、本発明の第２の実施形態による光ファイバ多孔質母材製造用の横型旋盤について説明する。図２は、第２の実施形態による横型旋盤を示す側面図である。図２に示すように、第２の実施形態による横型旋盤２は、回転モータ２１、固定側チャックブロック２２、固定側チャック爪２３、軸受部２４、可動側チャックブロック２５、可動側チャック爪２６、ベアリング２７、及び弾性部材２８を備えて構成される。回転モータ２１、固定側チャックブロック２２、固定側チャック爪２３、軸受部２４、可動側チャックブロック２５、可動側チャック爪２６、及びベアリング２７はそれぞれ、第１の実施形態による回転モータ１１、固定側チャックブロック１２、固定側チャック爪１３、軸受部１４、可動側チャックブロック１５、可動側チャック爪１６、及びベアリング１７と同様である。また、酸水素バーナ２９は、第１の実施形態による酸水素バーナ１８と同様であって、１本に限定されるものではなく、複数本から構成することも可能である。
第２の実施形態による横型旋盤２においては、第１の実施形態と異なり、軸受部２４の凹状部２４ａにおける可動側チャックブロック２５の凸状部２５ａ側の面と凸状部２５ａの凹状部２４ａ側の面との間に、弾性部材２８が設けられている。弾性部材２８によって、凹状部２４ａにおける凸状部２５ａ側の面と凸状部２５ａにおける凹状部２４ａ側の面とが連結されている。弾性部材２８は、例えば引張バネからなる。弾性部材２８は、可動側チャックブロック２５の可動域内において、軸受部２４及び可動側チャックブロック２５に対して弾性部材２８の縮む向きに引張力を作用可能に構成される。なお、可動域の長さは、加熱されるターゲットロッド５０の熱膨張による延伸長に応じて、適宜設定可能である。
以上のように構成された横型旋盤２において、酸水素バーナ２９は、火炎によってターゲットロッド５０にガラス微粒子を堆積可能、かつ横型旋盤２及びターゲットロッド５０に対して、回転軸Ｏ方向に沿って移動可能に構成される。なお、酸水素バーナ２９を静止状態に固定して、横型旋盤２を回転軸Ｏ方向に沿って移動可能に構成してもよい。すなわち、酸水素バーナ２９は、横型旋盤２に対して回転軸Ｏ方向に沿って相対移動可能に構成される。また、酸水素バーナ２９は、必要に応じてターゲットロッド５０が加熱されない位置に退避可能に構成してもよい。
次に、ターゲットロッド５０にガラス微粒子を堆積させる場合について説明する。ターゲットロッド５０は、第１チャック爪としての固定側チャック爪２３及び第２チャック爪としての可動側チャック爪２６によって両端が把持されつつ、回転モータ２１の駆動によって回転されるとともに、酸水素バーナ２９の火炎によって加熱される。ターゲットロッド５０は、外周にガラス微粒子が堆積されるとともに、回転軸Ｏ方向に沿って熱膨張する。ターゲットロッド５０は、回転軸Ｏ方向に沿って熱膨張する一方、弾性部材２８によって可動側チャックブロック２５及び可動側チャック爪２６を介してターゲットロッド５０が膨張する方向に力が作用している。可動側チャックブロック２５及び可動側チャック爪２６は、回転軸Ｏ方向に沿って、弾性部材２８の力が作用する向き、すなわちターゲットロッド５０が熱膨張によって延伸する向きに移動する。この際、可動側チャックブロック２５の凸状部２５ａが、回転軸Ｏ方向に沿って軸受部２４の凹状部２４ａ内を移動する。すなわち、軸受部２４が移動することなく、可動側チャックブロック２５及び可動側チャック爪２６がターゲットロッド５０の延伸する向きに移動することで、横型旋盤２において、ターゲットロッド５０の熱膨張による回転軸Ｏ方向の寸法変化分を吸収することになる。これにより、凹状部２４ａ、凸状部２５ａ、ベアリング２７、及び弾性部材２８が、横型旋盤２において、ターゲットロッド５０の回転軸Ｏ方向に沿った熱膨張による回転軸Ｏ方向の寸法変化分を吸収する熱膨張吸収機構を構成する。
以上説明した本発明の第２の実施形態による横型旋盤２によれば、ターゲットロッド５０が加熱される際に、熱膨張によって回転軸Ｏ方向に沿って延伸した場合であっても、弾性部材２８によって、ターゲットロッド５０の膨張による延伸分を、軸受部２４の凹状部２４ａに吸収できる。したがって、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、弾性部材２８の引張力によって、ターゲットロッド５０の熱膨張によるたわみを低減できるので、ターゲットロッド５０の振れ回りの発生を抑制できる。
次に、本発明の第３の実施形態による光ファイバ多孔質母材製造用の横型旋盤について説明する。図３は、第３の実施形態による横型旋盤を示す側面図である。図３に示すように、第３の実施形態による横型旋盤３は、回転モータ３１、固定側チャックブロック３２、固定側チャック爪３３、吸収側軸受部３４、吸収側チャックブロック３５、及び吸収側チャック爪３６を備えて構成される。回転モータ３１、固定側チャックブロック３２、及び第１チャック爪としての固定側チャック爪３３は、それぞれ、第１の実施形態による回転モータ１１、固定側チャックブロック１２、及び固定側チャック爪１３と同様である。また、酸水素バーナ３７は、第１の実施形態による酸水素バーナ１８と同様であって、１本に限定されるものではなく、複数本から構成することも可能である。
第３の実施形態による横型旋盤３においては、第１の実施形態と異なり、吸収側軸受部３４は、吸収側チャック爪３６が固定された吸収側チャックブロック３５を、ターゲットロッド５０の回転軸Ｏの回りで回転可能に構成されている。これにより、固定側チャック爪３３がターゲットロッド５０の一端を把持するとともに、吸収側チャック爪３６がターゲットロッド５０の他端を把持した状態で、回転モータ３１を回転させることにより、ターゲットロッド５０を回転軸Ｏの回りで回転させることができる。
第２チャック爪としての吸収側チャック爪３６における少なくともターゲットロッド５０と接触する部分は、摩擦係数が低い材質から構成されている。摩擦係数が低い材質とは、吸収側チャック爪３６によってターゲットロッド５０に加圧する力（ワーク加圧力）を、ターゲットロッド５０のがたつきが発生しない大きさの力とした場合でも、ターゲットロッド５０との接触部分に生じる摩擦力をターゲットロッド５０の熱膨張力より小さくできる材質である。摩擦係数が低い材質とは、具体的に、ターゲットロッド５０との間において、摩擦係数が０．５１の軟鋼や、摩擦係数が０．１の例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）などのフッ素樹脂である。ワーク加圧力は、吸収側チャック爪３６とターゲットロッド５０との間に生じる摩擦力に応じて、種々の範囲を設定し得る。また、吸収側チャック爪３６の代わりに、固定側チャック爪３３における少なくともターゲットロッド５０との接触部分を、摩擦係数が低い材質から構成してもよい。また、固定側チャック爪３３及び吸収側チャック爪３６の両方におけるターゲットロッド５０との接触部分を、摩擦係数が低い材質から構成してもよい。
次に、ターゲットロッド５０にガラス微粒子を堆積させる場合について説明する。ターゲットロッド５０は、固定側チャック爪３３及び吸収側チャック爪３６によって両端が把持されつつ、回転モータ３１の駆動によって回転されるとともに、酸水素バーナ３７の火炎によって加熱される。ターゲットロッド５０は、外周にガラス微粒子が堆積されるとともに、回転軸Ｏ方向に沿って熱膨張する。ターゲットロッド５０が回転軸Ｏ方向に沿って熱膨張すると、ターゲットロッド５０の熱膨張力は、固定側チャック爪３３及び吸収側チャック爪３６に作用する。なお、吸収側チャック爪３６によってターゲットロッド５０の一端を把持する際には、吸収側チャック爪３６の把持部分の端部と、ターゲットロッド５０の把持部分との間に、ターゲットロッド５０の熱膨張分よりも大きい可動域を確保しておく。また、ターゲットロッド５０は、吸収側チャック爪３６によって、回転方向のずれが発生しない大きさ、かつ吸収側チャック爪３６との接触部分における摩擦力が熱膨張力より小さくなる把持力で把持されている。そのため、ターゲットロッド５０は、膨張する方向に伸張しつつ吸収側チャック爪３６との接触部分を摺動する。すなわち、吸収側軸受部３４が移動することなく、ターゲットロッド５０の延伸分が吸収側チャック爪３６の可動域内に収まる。すなわち、横型旋盤３において、ターゲットロッド５０の熱膨張による回転軸Ｏ方向の寸法変化分を吸収することになる。これにより、吸収側チャック爪３６が、横型旋盤３において、ターゲットロッド５０の回転軸Ｏ方向に沿った熱膨張による回転軸Ｏ方向の寸法変化分を吸収する熱膨張吸収機構を構成する。
（実施例）
次に、第３の実施形態による横型旋盤３の実施例について説明する。第１実施例として、吸収側チャック爪３６における少なくともターゲットロッド５０との接触部分を構成する摩擦係数が低い材質として軟鋼を用いる。図４は、横型旋盤３の吸収側チャック爪３６に軟鋼を用いた第１実施例における、ワーク加圧力に対するターゲットロッド５０の振幅を示すグラフである。また、第２実施例として、吸収側チャック爪３６における少なくともターゲットロッド５０との接触部分を構成する摩擦係数が低い材質としてフッ素樹脂を用いる。図５は、横型旋盤３の吸収側チャック爪３６にフッ素樹脂を用いた第２実施例における、ワーク加圧力に対するターゲットロッド５０の振幅を示すグラフである。ここで、ターゲットロッド５０は、石英ガラスからなる。図６は、ターゲットロッド５０の振幅を説明するための略線図である。図６に示すように、ターゲットロッド５０の振幅とは、図６（ａ）に示すターゲットロッド５０が回転軸Ｏに平行な通常状態に比して、図６（ｂ）に示すターゲットロッド５０が回転軸Ｏに対して外側にたわんだ、いわゆる振れ回りの状態における最大変位（ｍｍ）を意味する。
次に、第３の実施形態による横型旋盤３の実施例について説明する。第１実施例として、吸収側チャック爪３６における少なくともターゲットロッド５０との接触部分を構成する摩擦係数が低い材質として軟鋼を用いる。図４は、横型旋盤３の吸収側チャック爪３６に軟鋼を用いた第１実施例における、ワーク加圧力に対するターゲットロッド５０の振幅を示すグラフである。また、第２実施例として、吸収側チャック爪３６における少なくともターゲットロッド５０との接触部分を構成する摩擦係数が低い材質としてフッ素樹脂を用いる。図５は、横型旋盤３の吸収側チャック爪３６にフッ素樹脂を用いた第２実施例における、ワーク加圧力に対するターゲットロッド５０の振幅を示すグラフである。ここで、ターゲットロッド５０は、石英ガラスからなる。図６は、ターゲットロッド５０の振幅を説明するための略線図である。図６に示すように、ターゲットロッド５０の振幅とは、図６（ａ）に示すターゲットロッド５０が回転軸Ｏに平行な通常状態に比して、図６（ｂ）に示すターゲットロッド５０が回転軸Ｏに対して外側にたわんだ、いわゆる振れ回りの状態における最大変位（ｍｍ）を意味する。
図４に示すように、吸収側チャック爪３６のワーク加圧力を３ｋｇｆから増加させ、１２ｋｇｆより大きくすると、ワーク加圧力が１２ｋｇｆ以下の場合に比して、ターゲットロッド５０の振幅が大幅に増加することが分かる。これは、吸収側チャック爪３６のワーク加圧力を１２ｋｇｆより大きくすると、吸収側チャック爪３６とターゲットロッド５０との間の最大静止摩擦力がターゲットロッド５０の熱膨張力より大きくなり、延伸部分を吸収できなくなるためである。すなわち、吸収側チャック爪３６のターゲットロッド５０との接触部分を軟鋼から構成する場合、ワーク加圧力を所定値である１２ｋｇｆ以下とすることにより、ターゲットロッド５０の熱膨張による延伸長を、横型旋盤３によって吸収できる。その上で、ワーク加圧力を３ｋｇｆ以上、好適には６ｋｇｆ以上とすることで、ターゲットロッド５０の回転方向のずれを小さく抑制できる。
また、図５に示すように、吸収側チャック爪３６のワーク加圧力を５ｋｇｆから増加させ、６４ｋｇｆより大きくすると、ワーク加圧力が６４ｋｆｇ以下の場合に比して、ターゲットロッド５０の振幅が大幅に増加することが分かる。これは、吸収側チャック爪３６のワーク加圧力を６４ｋｇｆより大きくすると、吸収側チャック爪３６とターゲットロッド５０との間の最大静止摩擦力がターゲットロッド５０の熱膨張力より大きくなり、延伸部分を吸収できなくなるためである。すなわち、吸収側チャック爪３６のターゲットロッド５０との接触部分を例えばＰＴＦＥなどのフッ素樹脂から構成する場合、ワーク加圧力を所定値である６４ｋｇｆ以下とすることにより、ターゲットロッド５０の熱膨張による延伸長を横型旋盤３によって吸収できる。その上で、ワーク加圧力を５ｋｇｆ以上、好適には２０ｋｇｆ以上とすることで、ターゲットロッド５０の回転方向のずれを小さく抑制できる。
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。例えば、上述した実施形態において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。
以上のように、本発明は、光ファイバ多孔質母材を製造する際に好適に利用できる。
１，２，３ 横型旋盤
１１，２１，３１ 回転モータ
１２，２２，３２ 固定側チャックブロック
１３，２３，３３ 固定側チャック爪
１４，２４ 軸受部
１４ａ，２４ａ 凹状部
１５，２５ 可動側チャックブロック
１５ａ，２５ａ 凸状部
１６，２６ 可動側チャック爪
１７，２７ ベアリング
１８，２９，３７ 酸水素バーナ
２８ 弾性部材
３４ 吸収側軸受部
３５ 吸収側チャックブロック
３６ 吸収側チャック爪
５０ ターゲットロッド
Ｏ 回転軸
１１，２１，３１ 回転モータ
１２，２２，３２ 固定側チャックブロック
１３，２３，３３ 固定側チャック爪
１４，２４ 軸受部
１４ａ，２４ａ 凹状部
１５，２５ 可動側チャックブロック
１５ａ，２５ａ 凸状部
１６，２６ 可動側チャック爪
１７，２７ ベアリング
１８，２９，３７ 酸水素バーナ
２８ 弾性部材
３４ 吸収側軸受部
３５ 吸収側チャックブロック
３６ 吸収側チャック爪
５０ ターゲットロッド
Ｏ 回転軸
Claims (4)
- ターゲットの両端を前記ターゲットの長手方向が略水平方向になるように把持して固定し、前記長手方向に平行な軸を回転軸として前記ターゲットを回転させる、光ファイバ多孔質母材製造用の横型旋盤であって、
前記ターゲットの一端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第１チャック爪と、
前記ターゲットの他端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第２チャック爪とを備え、
前記ターゲットの前記回転軸方向の熱膨張による前記回転軸方向に沿った延伸長を吸収する熱膨張吸収機構を有し、
前記熱膨張吸収機構は、前記第２チャック爪が、前記ターゲットの前記回転軸方向に可動に構成された機構である
ことを特徴とする横型旋盤。 - 前記第２チャック爪に対して前記回転軸方向に引張力を作用する弾性部材を備える
ことを特徴とする請求項１に記載の横型旋盤。 - ターゲットの両端を前記ターゲットの長手方向が略水平方向になるように把持して固定し、前記長手方向に平行な軸を回転軸として前記ターゲットを回転させる、光ファイバ多孔質母材製造用の横型旋盤であって、
前記ターゲットの一端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第１チャック爪と、
前記ターゲットの他端を把持し、前記回転軸を中心として回転可能に構成された第２チャック爪とを備え、
前記ターゲットの前記回転軸方向の熱膨張による前記回転軸方向に沿った延伸長を吸収する熱膨張吸収機構を有し、
前記熱膨張吸収機構は、前記第１チャック爪と前記第２チャック爪との少なくとも一方のチャック爪が、前記ターゲットとの接触部分における前記ターゲットとの摩擦力が熱膨張により前記ターゲットの前記回転軸方向に生じる熱膨張力未満になるように構成された機構である
ことを特徴とする横型旋盤。 - 前記少なくとも一方のチャック爪における前記ターゲットとの接触部分が、軟鋼又はフッ素樹脂から構成されている
ことを特徴とする請求項３に記載の横型旋盤。
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