JP7178654B2 - Composite manufacturing/dismantling method and gel-like resin composition - Google Patents

Composite manufacturing/dismantling method and gel-like resin composition Download PDF

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Description

本発明は、部材が組み込まれた複合体の製造・解体方法並びに当該複合体の製造・解体方法に使用されるゲル状樹脂組成物に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing/dismantling a composite in which a member is incorporated, and a gel-like resin composition used in the method for manufacturing/dismantling the composite.

表示用パネル、タッチパネル、センサー、レンズ、電池用部品、半導体用部品、及びこれらの部品を外装する筐体等の部材は、これらの部材が組み込まれる映像・画像表示装置、撮像装置、通信装置、家庭用電気製品、電池、集積回路等の複合体を製造する工程で、その表面の汚染及び/又は加工を回避すべき領域がある。 Display panels, touch panels, sensors, lenses, battery parts, semiconductor parts, and members such as housings that wrap these parts are used for video/image display devices, imaging devices, communication devices, In the process of manufacturing composites such as consumer electronics, batteries, integrated circuits, etc., there are areas where contamination and/or processing of their surfaces should be avoided.

例えば、表示用パネル、タッチパネル等の光学部材は、曲面構造を有するなどデザイン性の多様化、筐体部材のガラスへの移行、部品の配置・配線構造の複雑化が進行しているため、これらの部材が組み込まれる光学製品を製造する工程で、各部材の表面の汚染を回避すべき領域に保護フィルムを貼付したり液状樹脂で被覆したりして、表面の傷や汚れ等の汚染を防いでいる(例えば、特許文献1及び2)。 For example, optical members such as display panels and touch panels are diversifying in terms of design, such as having a curved surface structure, shifting to glass for housing members, and complicating the layout and wiring structure of parts. In the process of manufacturing an optical product that incorporates the above components, the areas of the surface of each component that should be protected from contamination are covered with a protective film or coated with liquid resin to prevent surface contamination such as scratches and stains. (For example, Patent Documents 1 and 2).

例えば、太陽電池等の電池用部品、半導体部品等の電子部材にめっき配線する際には、各部材表面のメッキ加工する領域以外のメッキ加工を回避すべき領域をレジスト材で保護する必要があり、スクリーン印刷可能なレジスト材が広く使用されている(例えば、特許文献3)。 For example, when plating wiring to battery parts such as solar cells and electronic parts such as semiconductor parts, it is necessary to protect the areas where plating should be avoided other than the areas to be plated on the surface of each part with a resist material. , screen-printable resist materials are widely used (eg, US Pat.

例えば、半導体の製造工程において、例えば、シリコンウエハー製造工程でシリコンウエハー表面の研磨加工、シリコン表面のエッチング加工、Si基板上のSiO膜のエッチング加工等のケミカルエッチング加工がなされることがあり、ケミカルエッチング加工したい領域以外のケミカルエッチング加工を回避すべき領域をレジスト材で保護する必要がある(例えば、特許文献4)。 For example, in the semiconductor manufacturing process, chemical etching such as polishing of the silicon wafer surface, etching of the silicon surface, and etching of the SiO2 film on the Si substrate may be performed in the silicon wafer manufacturing process. It is necessary to protect regions other than the regions to be chemically etched, which should be avoided from chemical etching, with a resist material (for example, Patent Document 4).

例えば、表示用パネル、タッチバネル、センサー、レンズ、電池用部品、半導体用部品などは部品の製造工程、組み立て工程、使用時、分解工程で表面の傷や汚れ等の汚染を防ぐ必要の他に、さらに修理や分解交換時の安全性確保のために表面の傷を防いだり、部材再利用のために汚染や傷を防いだりする必要がある(例えば、特許文献5)。 For example, for display panels, touch panels, sensors, lenses, battery parts, semiconductor parts, etc., it is necessary to prevent contamination such as scratches and stains on the surface during the manufacturing process, assembly process, use, and disassembly process of parts. Furthermore, it is necessary to prevent scratches on the surface in order to ensure safety during repair or disassembly and replacement, and to prevent contamination and scratches in order to reuse the member (for example, Patent Document 5).

特開2013-237171号公報JP 2013-237171 A 特開2009-289717号公報JP 2009-289717 A 特開2005-138299号公報JP-A-2005-138299 特開2003-045783号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-045783 特開2013-141761号公報JP 2013-141761 A

しかし、複合体を製造する工程で、組み込まれる部材の表面の汚染及び/又は加工を回避すべき領域の従来の保護技術では、例えば、以下のような課題がある。 However, in the process of manufacturing a composite, conventional protection techniques for areas where contamination and/or processing of the surface of a member to be incorporated should be avoided have the following problems, for example.

フィルムを使用した保護技術では、部材の曲面形状など複雑な形状に対応することは困難で作業性、歩留まりの点で課題がある。 With the protection technology using film, it is difficult to handle complicated shapes such as curved surfaces of members, and there are issues in terms of workability and yield.

液状樹脂を使用した保護技術では、汚染を回避すべき領域以外への流出や部材隙間などへの樹脂の流入があるため、液状樹脂が汚染源になりうるため、工程管理負荷が大きくなるという点で課題がある。 In the protection technology using liquid resin, the liquid resin can become a source of contamination because it flows out to areas other than areas where contamination should be avoided and flows into gaps between members, which increases the process control load. I have a problem.

スクリーン印刷可能な液状レジスト材は、除去又は洗浄工程を組み込むことによる作業負荷及びコストの増加が想定される。さらに、従来の液状レジスト材ではスクリーン印刷の際に狙った開口幅、細線精度などが出せないなど、印刷性に課題がある。 Screen-printable liquid resist materials are expected to increase workload and cost by incorporating removal or cleaning steps. In addition, conventional liquid resist materials have printability issues, such as being unable to achieve the desired opening width and fine line accuracy during screen printing.

エッチング加工時に使用されるレジスト材は、エッチング加工前に部材の表面で硬化させる工程、物理的に剥離又は薬液を使用して剥離する方法、ガスと化学反応させることでアッシング(灰化)する方法等で除去又は洗浄する工程での工程負荷が大きい。 The resist material used in the etching process is hardened on the surface of the member before etching, physically stripped or stripped using a chemical solution, and ashing (ashing) by chemical reaction with gas. The process load is large in the process of removing or washing with, etc.

本発明は、部材の表面の汚染及び/又は加工を回避すべき領域を、
当該領域以外に流出又は流入することなく被覆して、
当該部材を複合体に組込み・取外し過程での当該表面の汚染を回避し、
当該部材の表面に必要な加工をする間の当該加工の回避を可能とするゲル状樹脂組成物を使用した複合体の製造・解体方法、及び、当該ゲル状樹脂組成物を提供することを課題とする。
The present invention provides a region where contamination and/or processing of the surface of a member should be avoided,
Covering without outflow or inflow outside the area,
Avoiding contamination of the surface during the process of incorporating and removing the member from the composite,
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing and dismantling a composite using a gel resin composition that enables avoidance of the necessary processing while the surface of the member is being processed, and to provide the gel resin composition. and

本発明は、
〔1〕表面Sを備える部材の組込み及び/若しくは取外し工程(以下「組込・解体工程」ともいう)、並びに/又は、前記表面Sを加工する部材表面加工工程を有する前記部材が組み込まれた複合体の製造・解体方法であって、
前記組込み及び/若しくは取外し工程、並びに/又は、前記部材表面加工工程において、
前記表面Sの汚染及び/又は加工を回避すべき領域をゲル状樹脂組成物で被覆する部材表面塗膜工程を有し、
前記ゲル状樹脂組成物が、
0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する、及び/又は、
チキソトロピック性を有する複合体の製造・解体方法(以下「本発明1」ともいう)、及び
〔2〕前項〔1〕記載の複合体の製造方法に使用される前項〔1〕記載のゲル状樹脂組成物(以下「本発明2」ともいう)に関する。
なお、以下では、本発明1及び2をまとめて「本発明」ともいう。
The present invention
[1] A step of assembling and/or removing a member having a surface S (hereinafter also referred to as a “assembling/disassembling step”), and/or a member surface processing step of processing the surface S. A method for manufacturing and dismantling a composite,
In the assembling and/or removing step and/or the member surface processing step,
A member surface coating step of coating a region of the surface S where contamination and/or processing should be avoided with a gel resin composition,
The gel resin composition is
having a liquid-to-gel transition temperature (Tc) between 0 and 150° C., and/or
A method for producing and dismantling a composite having thixotropic properties (hereinafter also referred to as "the present invention 1"), and [2] The gel form described in the preceding item [1], which is used in the method for manufacturing the composite described in the preceding item [1]. It relates to a resin composition (hereinafter also referred to as “Invention 2”).
In addition, below, this invention 1 and 2 are collectively called "this invention."

本発明によれば、部材の表面の汚染及び/又は加工を回避すべき領域を、
当該領域以外に流出又は流入することなく被覆して、
当該部材を複合体に組込み・取外し過程での当該表面の汚染を回避し、
当該部材の表面に必要な加工をする間の当該加工の回避を可能とするゲル状樹脂組成物を使用した、複合体の製造・解体方法、及び、当該ゲル状樹脂組成物を提供することができる。
According to the present invention, the area where contamination and/or processing of the surface of the member should be avoided is
Covering without outflow or inflow outside the area,
Avoiding contamination of the surface during the process of incorporating and removing the member from the composite,
It is possible to provide a method for manufacturing and dismantling a composite using a gel resin composition that enables avoidance of the necessary processing while the surface of the member is being processed, and the gel resin composition. can.

部材表面塗膜工程の実施態様例1Embodiment 1 of member surface coating process 製造実施例3のゲル状樹脂組成物シートを基台から剥離する態様例Mode example of peeling the gel resin composition sheet of Production Example 3 from the base 部材表面塗膜工程の実施態様例2Embodiment 2 of member surface coating process 部材表面塗膜工程の実施態様例3Embodiment 3 of member surface coating process

〔表面Sを備える部材及び当該部材が組み込まれた複合体〕
本発明において、表面Sを備える部材及び当該部材が組み込まれた複合体は、以下を例示できる。
[Member provided with surface S and composite in which said member is incorporated]
In the present invention, the member provided with the surface S and the composite in which the member is incorporated can be exemplified below.

(1)表示用パネル、タッチパネル、センサー、レンズ、電池用部品、半導体用部品、及びこれらの部品を外装する筐体等の部材が組み込まれる、映像・画像表示装置、撮像装置、通信装置、家庭用電気製品、電池、集積回路等の複合体。 (1) Display panels, touch panels, sensors, lenses, battery parts, semiconductor parts, and video/image display devices, imaging devices, communication devices, homes, etc. that incorporate members such as housings that exterior these parts Composites such as electronic products, batteries, integrated circuits, etc.

(2)表示用パネル、タッチパネル等の光学部材、好ましくは、表面Sが曲面構造を有する及び/又はガラス素材である光学部材が組み込まれる複合体である光学製品。
さらに具体的には、液晶表示パネル;有機EL表示パネル;保護パネル;タッチパネル;環境光センサー、近接センサー、指紋センサー、認証センサーなどのセンサー;カメラ;ガラス又はプラスチック板;ラスチックフィルム等の複数の部材を貼合した部材を備える複合体である液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、タッチパネル表示体、等の情報表示装置が挙げられ、さらに、これらの情報表示装置とその他の電子素子を備える複合体である電子手帳、携帯電話、スマートフォン、携帯オーディオプレーヤー、携帯情報端末(PDA)、タブレット端末等の携帯電子端末、パソコン、TV、カーナビゲーションシステム等の情報処理機器が挙げられる。
(2) An optical product such as a display panel, a touch panel, or the like, preferably a composite in which an optical member whose surface S has a curved structure and/or is made of glass is incorporated.
More specifically, liquid crystal display panel; organic EL display panel; protective panel; touch panel; sensor such as ambient light sensor, proximity sensor, fingerprint sensor, authentication sensor; camera; glass or plastic plate; Information display devices such as liquid crystal displays, organic EL displays, touch panel displays, etc., which are composites comprising a member laminated with the electronic Portable electronic terminals such as notebooks, mobile phones, smart phones, portable audio players, personal digital assistants (PDAs), tablet terminals, etc., and information processing equipment such as personal computers, TVs, and car navigation systems.

(3)めっき配線が施される部材が組み込まれる複合体である太陽電池、半導体等の電子部品、シリコンウエハー部材が組み込まれる複合体である半導体が挙げられる。 (3) Electronic components such as solar cells, semiconductors, etc., which are composites in which members to which plated wiring is applied are incorporated, and semiconductors, which are composites in which silicon wafer members are incorporated.

上記例示した部材に備わる表面Sは、例えば、樹脂、シリコン、金属、ガラス、セラミックス等で構成されており、さらに具体的には、ガラス、PET、TAC、COP、ポリイミド、PMMA、ポリカーボネート、塩化ビニル、PVA、ポリエチレン、ポリプロピレン、シリコン、グラファイト、アルミニウム、銅、銀、SUS等が好ましく、部材の表面に有機ハードコート層や無機ハードコート層が処理されていても良く、導電性を持たせるためにITOやIZO、カーボンナノチューブなどの透明導電性材料が処理されていても良く、電極や配線材料として表面に銀、銅などの金属がパターニングされていても良い。 The surface S provided on the members exemplified above is made of, for example, resin, silicon, metal, glass, ceramics, etc. More specifically, glass, PET, TAC, COP, polyimide, PMMA, polycarbonate, vinyl chloride , PVA, polyethylene, polypropylene, silicon, graphite, aluminum, copper, silver, SUS, etc., are preferable, and the surface of the member may be treated with an organic hard coat layer or an inorganic hard coat layer to provide conductivity. A transparent conductive material such as ITO, IZO, or carbon nanotubes may be processed, and a metal such as silver or copper may be patterned on the surface as an electrode or wiring material.

(4)本発明の対象となる表面Sを備える部材としては、表示用パネル、タッチパネル、センサー、レンズ、電池用部品及び半導体用部品からなる群から選ばれる少なくとも1種の部品、並びに/又は前記部品を外装する筐体が好ましく、本発明の対象となる複合体は、表面Sを備える部材が組み込まれた筐体で構成されていることが好ましい。 (4) The member having the surface S to be the object of the present invention includes at least one component selected from the group consisting of a display panel, a touch panel, a sensor, a lens, a battery component, and a semiconductor component, and/or the above A housing that covers the parts is preferable, and the composite that is the object of the present invention is preferably configured by a housing in which a member having the surface S is incorporated.

(5)表面Sを備える部材及び当該部材が組み込まれた複合体が、表面Sを備える部材の組込み及び/若しくは取外し工程、並びに/又は、表面Sを加工する部材表面加工工程を有する前記部材が組み込まれた複合体の製造・解体方法に供される場合、本発明の対象となる部材表面加工としては、後述するような配線形成加工、メッキ形成加工及びエッチング加工からなる群から選ばれる少なくとも1種の部材表面加工が好ましい。 (5) A member having a surface S and a composite into which the member is incorporated have a step of installing and/or removing a member having the surface S and/or a member surface processing step of processing the surface S. When used in a method for manufacturing and dismantling an assembled composite, the member surface processing to be the object of the present invention is at least one selected from the group consisting of wiring forming processing, plating forming processing, and etching processing as described later. A kind of member surface treatment is preferred.

〔ゲル状樹脂組成物〕
<保護膜形成性>
本発明におけるゲル状樹脂組成物(以下「ゲル状樹脂組成物」ともいう)は、本発明1の部材表面塗膜工程で、表面Sの所定領域にゲル状樹脂組成物を塗工した際に、当該所定領域に均一に当該所定領域から流出しないような塗膜形成性と、その後、表面Sに所定の加工がなされる際又は汚染物質が接触する際に、塗膜領域は当該加工がなされない又は汚染物質で損傷しない程度の塗膜耐性が必要である(ゲル状樹脂組成物の塗膜形成性及び塗膜耐性を以下では「保護膜形成性」という)。
[Gel resin composition]
<Protective film formability>
The gel-like resin composition (hereinafter also referred to as "gel-like resin composition") in the present invention is obtained by applying the gel-like resin composition to a predetermined region of the surface S in the member surface coating step of the first invention. , the coating film formability such that it does not flow out from the predetermined region uniformly on the predetermined region, and when the surface S is subsequently subjected to a predetermined processing or when a contaminant comes into contact, the coating film region is free from the processing. (The coating film-forming property and coating film resistance of the gel resin composition are hereinafter referred to as "protective film-forming properties").

ゲル状樹脂組成物は、保護膜形成性の観点から、
0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する、及び/又は、
チキソトロピック性を有する。
From the viewpoint of protective film formation, the gel resin composition
having a liquid-to-gel transition temperature (Tc) between 0 and 150° C., and/or
It has thixotropic properties.

<液状-ゲル状転移温度(Tc)>
ゲル状樹脂組成物が、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)、及び/又は、チキソトロピック性を有するとは、ゲル状樹脂組成物が物理架橋ゲルであることを意味する。
Tc及びチキソトロピック性の測定は実施例に記載された条件で行う。
<Liquid-gel transition temperature (Tc)>
That the gel resin composition has a liquid-gel transition temperature (Tc) at 0 to 150° C. and/or thixotropic properties means that the gel resin composition is a physically crosslinked gel.
The Tc and thixotropic properties are measured under the conditions described in Examples.

物理架橋ゲルは、水素結合、疎水性凝集、イオン結合などの非共有結合で架橋されているゲルで,温度変化や外力により架橋が生成消滅するため、前者ではTcを有し(熱可逆ゲルとも呼ばれる)、後者ではチキソトロピック性を有することになる。 Physically crosslinked gels are gels that are crosslinked by non-covalent bonds such as hydrogen bonds, hydrophobic aggregation, and ionic bonds, and the former has Tc (also known as thermoreversible gel) because the crosslinks are generated and disappear due to temperature changes and external forces. ), the latter will have thixotropic properties.

一般に、ゲル状樹脂組成物とは、組成物を構成する化合物が架橋されて個々の化合物の熱運動が抑制されるため、組成物全体の流動性が大きく低減した物質であり、架橋の構造・寿命により、化学架橋ゲルと物理架橋ゲルに分類される。 In general, a gel resin composition is a substance in which the fluidity of the composition as a whole is greatly reduced because the compounds that make up the composition are crosslinked to suppress the thermal movement of individual compounds. They are classified into chemical cross-linked gels and physical cross-linked gels according to their lifespan.

化学架橋ゲルは共有結合で架橋されたゲルで、構成化合物の熱運動では結合が切れず、架橋寿命は実質的に無限大である。化学架橋ゲルの連結構造(トポロジカルな3次元構造)は、ゲルが生成した時点のまま不変に保たれる。 A chemically crosslinked gel is a gel that is crosslinked by covalent bonds, and the bonds cannot be broken by thermal motion of constituent compounds, and the crosslink life is practically infinite. The connecting structure (topological three-dimensional structure) of the chemically crosslinked gel remains unchanged as it was when the gel was produced.

物理架橋ゲルは、水素結合、疎水性凝集、イオン結合などの非共有結合で架橋されているゲルで,温度変化や外力により架橋が生成消滅するため、前者ではTcを有し(熱可逆ゲルとも呼ばれる)、後者ではチキソトロピック性を有することになる。 Physically crosslinked gels are gels that are crosslinked by non-covalent bonds such as hydrogen bonds, hydrophobic aggregation, and ionic bonds, and the former has Tc (also known as thermoreversible gel) because the crosslinks are generated and disappear due to temperature changes and external forces. ), the latter will have thixotropic properties.

本発明に適用できる好適なゲル状樹脂組成物は、保護膜形成性の観点から、一部化学架橋されていても、全体が物理架橋ゲルであることが好ましく、化学架橋されていない物理架橋ゲルであることがより好ましい。 A suitable gel-like resin composition that can be applied to the present invention is preferably a physically crosslinked gel as a whole, even if it is partially chemically crosslinked, from the viewpoint of protective film-forming properties, and is not a chemically crosslinked physical crosslinked gel. is more preferable.

ゲル状樹脂組成物がTcを有するとは、ゲル状樹脂組成物はTc以上で液状となり、温度Tc未満では自然流動しないゲル状態(即ち、ゲル状樹脂組成物)であることを意味する。 The fact that the gel resin composition has Tc means that the gel resin composition becomes liquid at Tc or higher and is in a gel state (i.e., gel resin composition) that does not naturally flow at temperatures lower than Tc.

ゲル状樹脂組成物は、保護膜形成性の観点から、好ましくは10~100℃の間で、より好ましくは20~90℃の間で、更に好ましくは30~80℃の範囲でTcを有する。 The gel resin composition preferably has a Tc of 10 to 100°C, more preferably 20 to 90°C, still more preferably 30 to 80°C, from the viewpoint of protective film-forming properties.

<チキソトロピック性>
ゲル状樹脂組成物がチキソトロピック性を有するとは、ゲル状樹脂組成物の剪断速度vにおける粘度ηが、
30℃<Tcの場合は25℃で、0℃≦Tc≦30℃の場合はTc-20℃で、
η0.1が、10~10000Pa・s、好ましくは30~5000Pa・s、より好ましくは50~3000Pa・sであり、
η10が、3~500Pa・s、好ましくは5~300Pa・s、より好ましくは5~150Pa・sである性状を有することである。
なお、Tcを有さないゲル状樹脂組成物は30℃<Tcの場合に従う。
粘度ηの測定は実施例に記載した条件で行う。
<Thixotropic property>
A gel resin composition having thixotropic properties means that the viscosity η v of the gel resin composition at a shear rate v is
at 25°C if 30°C<Tc, and at Tc-20°C if 0°C≤Tc≤30°C,
η 0.1 is 10 to 10000 Pa s, preferably 30 to 5000 Pa s, more preferably 50 to 3000 Pa s,
η10 is 3 to 500 Pa·s, preferably 5 to 300 Pa·s, more preferably 5 to 150 Pa·s.
In addition, the gel-like resin composition having no Tc complies with the case of 30° C.<Tc.
The viscosity ηv is measured under the conditions described in Examples.

部材表面塗膜工程での保護膜形成性の観点を考慮すると、
η0.1が、10~10000Pa・s、好ましくは30~5000Pa・s、より好ましくは50~3000Pa・sであり、
ηが、好ましくは10~1000Pa・s、より好ましくは20~700Pa・s、更に好ましくは30~500Pa・sであり、
η10が、好ましくは3~500Pa・s、より好ましくは5~300Pa・s、更に好ましくは5~150Pa・sであり、
=η0.1/ηが、好ましくは1.1~20、より好ましくは1.2~15、更に好ましくは1.25~10である。
=η/η10が、好ましくは1.1~20、より好ましくは1.2~15、更に好ましくは1.25~10である。
Considering the protective film formability in the member surface coating process,
η 0.1 is 10 to 10000 Pa s, preferably 30 to 5000 Pa s, more preferably 50 to 3000 Pa s,
η 1 is preferably 10 to 1000 Pa·s, more preferably 20 to 700 Pa·s, still more preferably 30 to 500 Pa·s,
η 10 is preferably 3 to 500 Pa s, more preferably 5 to 300 Pa s, still more preferably 5 to 150 Pa s,
x 10.11 is preferably 1.1-20, more preferably 1.2-15, still more preferably 1.25-10.
x 2110 is preferably from 1.1 to 20, more preferably from 1.2 to 15, even more preferably from 1.25 to 10.

及びxが1より大きい(好ましくは1.2以上大きい)と、ゲル状樹脂組成物を例えばシート状に成形する際に、塗布装置を使用して所定の範囲に塗布したときに、塗布装置から押出されているときは適度に流動し、押出された後は流動が止まるため、所定の範囲からの流出や糸引きなどによる汚染が生じ難く、所定の範囲に均一に塗付することが可能となる。 When x 1 and x 2 are greater than 1 (preferably greater than 1.2), when the gel resin composition is molded into a sheet, for example, when applied to a predetermined range using an applicator, It flows moderately when it is extruded from the applicator, and the flow stops after it is extruded, so it is difficult to cause contamination due to outflow from the specified area or stringiness, and it can be applied evenly to the specified area. becomes possible.

<貯蔵剛性率>
本発明に適用できるゲル状樹脂組成物は、保護膜形成性の観点から、ゲル状態の貯蔵剛性率が、30℃<Tcの場合は25℃で、0℃≦Tc≦30℃の場合はTc-20℃で、0.01~10000kPaであることが好ましい。
貯蔵剛性率の測定は実施例に記載された条件で行う。
<Storage modulus>
The gel resin composition applicable to the present invention has a storage modulus in the gel state of 25° C. when 30° C.<Tc, and Tc when 0° C. ≤ Tc ≤ 30° C. It is preferably 0.01 to 10000 kPa at -20°C.
The storage modulus is measured under the conditions described in Examples.

部材表面塗膜工程で、温度Tc未満で、表面Sの所定領域にゲル状樹脂組成物で塗工した際に、ゲル状樹脂組成物を表面Sの所定領域を均一な厚みで被覆する程度に液状であるが、当該所定領域外に流出して当該所定領域外の部分をゲル状樹脂組成物自身で汚染させるほど流動性はないことになるため、保護膜形成性の観点から好ましい。 In the member surface coating step, when the gel resin composition is applied to a predetermined region of the surface S at a temperature lower than Tc, the gel resin composition is applied to the predetermined region of the surface S to a uniform thickness. Although it is liquid, it is not so fluid that it flows out of the predetermined region and contaminates the portion outside the predetermined region with the gel resin composition itself, which is preferable from the viewpoint of protective film formation.

<剥離性>
硬化後のゲル状樹脂組成物に上述の貯蔵合成率を ゲル状樹脂組成物の貯蔵剛性率が上記好適範囲にするだけでも一定(製造実施例3におけるの剥離性の評価△程度)の剥離性を有するが、本発明1の部材表面塗膜工程で、表面Sの所定領域にゲル状樹脂組成物を塗膜して表面加工前又は表面加工後に硬化させ、表面加工した後で塗膜を(製造実施例3におけるの剥離性の評価〇程度に)容易に剥離して除去できることが好ましい。
<Peelability>
Even if the above-mentioned storage synthesis rate of the gel-like resin composition after curing is set to the above-mentioned suitable range, the release property is constant (evaluation of release property in Production Example 3 is about △). However, in the member surface coating step of the present invention 1, a gel resin composition is applied to a predetermined region of the surface S, cured before or after surface processing, and the coating film is applied after surface processing ( It is preferable that it can be easily peeled off and removed (evaluation of peelability in Production Example 3).

良好な剥離性を有すると、図2に示すように、硬化後のゲル状樹脂組成物を塗膜は物理的にフィルム形態を維持したまま樹脂が破断することなく剥離できる。 When the resin composition has good peelability, as shown in FIG. 2, the gel-like resin composition after curing can be peeled off without breaking the resin while physically maintaining the film form.

例えば、部材表面加工がケミカルエッチング等のエッチング加工の場合、エッチング加工後に、ゲル状樹脂組成物を硬化させることで剥離時に破断しない皮膜性となることで物理的に剥離でき、レジスト材を使用する場合に発生する薬剤、アッシング残渣などが発生しないため、表面加工前後の工程負荷が軽減される。 For example, when the member surface processing is etching processing such as chemical etching, after etching processing, the gel-like resin composition is cured to become a film that does not break when peeled, so that it can be physically peeled off, and a resist material is used. Since chemicals and ashing residues that occur in other cases do not occur, the process load before and after surface processing is reduced.

ゲル状樹脂組成物に剥離性を付与するには、液状-ゲル状転移温度(Tc)及びチキにチソトロピック性に影響を及ぼさない範囲で、ゲル状樹脂組成物の塗膜の剥離性を向上させる化合物を配合することができる。 In order to impart peelability to the gel resin composition, the peelability of the coating film of the gel resin composition is improved within a range that does not affect the liquid-gel transition temperature (Tc) and the thisotropic properties. A compound that causes the

ゲル状樹脂組成物の剥離性を向上する化合物としては、
ポリエーテル変性シリコーン、ポリエステル変性シリコーン、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン等のシリコーン系化合物;
フルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルカルボン酸等のフッ素系化合物;
パーフルオロ変性シリコーン等のシリコーン-フッ素系化合物;
ポリ(メタ)アクリレート、ポリエーテル変性アクリルポリマー、ポリエステル変性アクリルポリマー、パーフルオロアルキル変性アクリルポリマー等のアクリル系化合物等が挙げられ、市販品としてはポリエーテル変性シロキサン(TEGO GLIDE440、エボニック社)が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
Compounds that improve the peelability of the gel resin composition include:
Silicone compounds such as polyether-modified silicone, polyester-modified silicone, polydimethylsiloxane, and polymethylalkylsiloxane;
fluorine compounds such as fluoroalkylcarboxylic acids and perfluoroalkylcarboxylic acids;
Silicone-fluorine compounds such as perfluoro-modified silicone;
Examples include acrylic compounds such as poly(meth)acrylate, polyether-modified acrylic polymer, polyester-modified acrylic polymer, perfluoroalkyl-modified acrylic polymer, etc. Commercially available products include polyether-modified siloxane (TEGO GLIDE440, Evonik). be done. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

剥離性を向上する化合物の配合量は、ゲル状樹脂組成物を構成する化合物A及び化合物Bの合計100重量部に対して、好ましくは0.01~10重量部、より好ましくは0.1~5重量部、更に好ましくは0.5~3重量部である。 The amount of the compound that improves the peelability is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 100 parts by weight, based on a total of 100 parts by weight of compound A and compound B constituting the gel resin composition. 5 parts by weight, more preferably 0.5 to 3 parts by weight.

<溶剤溶解性>
本発明におけるゲル状樹脂組成物は、例えば、後述する化合物X、Y又はZのように、溶剤溶解性が良好な有機化合物で構成されていると、例えば、部材表面加工がケミカルエッチング等のエッチング加工の場合、エッチング加工後にゲル状樹脂組成物の塗膜を溶剤で容易に洗浄除去でき、レジスト材を使用する場合に発生する薬剤、アッシング残渣などが残らないため、表面加工前後の工程負荷が軽減される。
<Solvent solubility>
When the gel-like resin composition in the present invention is composed of an organic compound having good solvent solubility, for example, like compounds X, Y, or Z described later, for example, the surface processing of the member is etching such as chemical etching. In the case of processing, the coating film of the gel-like resin composition can be easily washed away with a solvent after etching processing, and the chemicals and ashing residues that are generated when using resist materials do not remain, so the processing load before and after surface processing is reduced. mitigated.

溶剤としては、好ましくは、
メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、ミネラルスピリット、シクロヘキサン、n-ヘキサン、メチルシクロヘキサン、スチレンなどの炭化水素類;
ジエチルエーテルなどのエーテル類;
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、炭酸ジエチル、炭酸ジメチル、炭酸プロピレンなどのエステル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン類;
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどの窒素類;
ブチルグリコール、メチルジグリコール、ブチルジグリコール、3-メチル-3-メトキシブタノール、テトラヒドロフランなどのグリコールエーテル類;
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンなどの塩素類;
ジメチルスルホキシド;アセトニトリル;ギ酸、酢酸等のカルボン酸類;及び水からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、
より好ましくは、アルコール類、炭化水素類、エステル類及びケトン類からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、
更に好ましくは、アセトン、ヘキサン、イソプロピルアルコール及び炭酸ジエチルからなる群から選ぶことができる。
As a solvent, preferably
Alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol and benzyl alcohol;
Hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mineral spirits, cyclohexane, n-hexane, methylcyclohexane, styrene;
ethers such as diethyl ether;
Esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl carbonate, dimethyl carbonate, propylene carbonate;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol;
Nitrogens such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone;
Glycol ethers such as butyl glycol, methyl diglycol, butyl diglycol, 3-methyl-3-methoxybutanol, tetrahydrofuran;
Chlorines such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, and chlorobenzene;
dimethyl sulfoxide; acetonitrile; carboxylic acids such as formic acid and acetic acid; and at least one compound selected from the group consisting of water,
More preferably, at least one compound selected from the group consisting of alcohols, hydrocarbons, esters and ketones,
More preferably, it can be selected from the group consisting of acetone, hexane, isopropyl alcohol and diethyl carbonate.

<透明性>
ゲル状樹脂組成物として、例えば、後述の化合物Yを使用すると、チキソトロピー性と透明性を両立することができる。
<Transparency>
By using, for example, a compound Y described later as the gel-like resin composition, both thixotropy and transparency can be achieved.

透明性は、ゲル状樹脂組成物の全光線透過率における、拡散透過率の割合であるHAZE値で評価することができる。 Transparency can be evaluated by the HAZE value, which is the ratio of diffuse transmittance to total light transmittance of the gel-like resin composition.

例えば、光学材料用にチキソトピー性を有するゲル状樹脂組成物を使用する場合、従来の硬化性樹脂組成物では、チキソトピー性を付与するのに、樹脂組成物にフィラーを添加していたが、添加されたフィラーによって光散乱を生じるため、HAZE値が増大し、樹脂組成物を構成する樹脂の全光線透過性に基づく透明性を低下させる。 For example, when a gel-like resin composition having thixotopic properties is used for optical materials, a filler is added to the resin composition to impart thixotopic properties in conventional curable resin compositions. Since the added filler causes light scattering, the HAZE value increases and the transparency based on the total light transmittance of the resin constituting the resin composition is lowered.

ゲル状樹脂組成物では、フィラーを添加しなくても、例えば、後述する化合物X1は、化合物A1及び/又はA2と化合物Bとが相溶してなるゲル状樹脂組成物だけでチキソトピー性を確保できるので、HAZE値を増大させる要因がなく、樹脂組成物を構成する樹脂の全光線透過性に基づく透明性をあまり損なわずに活かすことができる。 In the gel resin composition, even if no filler is added, for example, compound X1 described later secures thixotropic properties only with the gel resin composition in which compound A1 and/or A2 and compound B are compatible. Therefore, there is no factor that increases the HAZE value, and the transparency based on the total light transmittance of the resin constituting the resin composition can be utilized without much loss.

従って、ゲル状樹脂組成物は、表示検査が必要なディスプレイを塗膜する場合等、(例えば、表示検査時に)透明性が必要な場合、HAZE値が好ましくは1.0以下、より好ましくは0.7以下、更に好ましくは0.5以下、更に好ましくは0.3以下、更に好ましくは0.2以下の透明性を確保できるように構成することが好ましい。 Therefore, the gel resin composition has a HAZE value of preferably 1.0 or less, more preferably 0 when transparency is required (for example, during display inspection), such as when coating a display that requires display inspection. 0.7 or less, more preferably 0.5 or less, more preferably 0.3 or less, still more preferably 0.2 or less, is preferably configured so as to ensure transparency.

<ゲル状樹脂組成物の例>
本発明に適用できる好適なゲル状樹脂組成物としては、例えば、
Tcを有するゲル状樹脂組成物(以下「組成物X」という);
Tcを有し、かつ、チキソトロピック性を有する組成物(以下「組成物Y」という);及び、
Tcを有さないが、チキソトロピック性を有するゲル状樹脂組成物(以下「組成物Z」という)が挙げられる。
<Example of gel resin composition>
Suitable gel-like resin compositions applicable to the present invention include, for example,
Gel resin composition having Tc (hereinafter referred to as "composition X");
A composition having Tc and having thixotropic properties (hereinafter referred to as "composition Y"); and
A gel-like resin composition having no Tc but having thixotropic properties (hereinafter referred to as "composition Z") can be mentioned.

(組成物X)
好適な組成物Xとしては以下を例示できる;
(1)特定の(メタ)アクリレート系ブロック共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物(以下「組成物X1」ともいう);
(2)特定のグラフト共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物(以下「組成物X2」ともいう);及び
(3)特定のスチレン系ブロック共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物(以下「組成物X3」ともいう)
(Composition X)
Suitable composition X can be exemplified by:
(1) A compatible composition in which a specific (meth)acrylate-based block copolymer compound and a medium are compatible (hereinafter also referred to as “composition X1”);
(2) a compatible composition in which a specific graft copolymer compound and a medium are compatible (hereinafter also referred to as "composition X2"); and (3) a specific styrenic block copolymer compound and a medium Compatible composition (hereinafter also referred to as "composition X3")

(1)組成物X1
〈組成物X1として好適な相溶性組成物〉
組成物X1としては、
ブロック共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物であって、
前記ブロック共重合体化合物は、
(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体ブロックaと、
(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体ブロックbとのブロック共重合体であり、
前記重合体ブロックaを構成する(メタ)アクリレート単位だけで構成される重合物のガラス転移温度が50℃超180℃以下であり、
前記重合体ブロックbを構成する(メタ)アクリレート単位だけで構成される重合物のガラス転移温度が-100℃以上50℃以下であり、
前記ブロック共重合体化合物は、25℃超150℃以下で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、
前記相溶組成物は、25℃超150℃以下で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する相溶組成物を挙げることができる。
(1) Composition X1
<Compatible composition suitable as composition X1>
As the composition X1,
A compatible composition in which a block copolymer compound and a medium are compatible,
The block copolymer compound is
a polymer block a mainly composed of (meth)acrylate units;
A block copolymer with a polymer block b mainly composed of (meth)acrylate units,
The glass transition temperature of the polymer composed only of (meth)acrylate units constituting the polymer block a is more than 50° C. and 180° C. or less,
The glass transition temperature of the polymer composed only of (meth)acrylate units constituting the polymer block b is −100° C. or more and 50° C. or less,
The block copolymer compound does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc) above 25° C. and 150° C. or less,
Examples of the compatible composition include a compatible composition having a liquid-gel state transition temperature (Tc) above 25° C. and 150° C. or less.

組成物X1の好適な態様は、特開2017-66368号公報に詳細が記載されているが、本発明1においてより好ましい態様を説明する。なお、特開2017-66368号公報と同一の用語は特開2017-66368号公報記載と同じ内容を意味し、特開2017-66368号公報では上記ブロック共重合体化合物は化合物A、媒質は化合物Bと記載されており、本明細書でも同様に記載する。 A preferred embodiment of composition X1 is described in detail in JP-A-2017-66368, and a more preferred embodiment will be described in invention 1. In addition, the same terms as in JP-A-2017-66368 mean the same contents as described in JP-A-2017-66368, and in JP-A-2017-66368, the block copolymer compound is compound A, and the medium is compound B, and is also described in this specification.

重合体ブロックa又は重合体ブロックbを構成可能な(メタ)アクリレート化合物としては、
好ましくは、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;
メトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;
2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート等;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート;及び
ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ノルボルネン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4-tert-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート等の脂環構造含有(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジエチルアクリルアミド等のアクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物であり、
より好ましくは、
メタクリル酸メチル(メチルメタクリレート)及びアクリル酸n-ブチル(ブチルアクリレート)の組み合わせであって、
それぞれの化合物が単独で重合物を構成したときに示すTgに基づいて、重合体ブロックa又は重合体ブロックbの構成単位とする。
As the (meth)acrylate compound that can constitute the polymer block a or the polymer block b,
Preferably, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-octyl Alkyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate;
alkoxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate and phenoxyethyl (meth)acrylate;
hydroxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate;
benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate and the like;
Ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl Di(meth)acrylates such as glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate; and dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, norbornene (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate acrylate, isobornyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 4-tert-butylcyclohexyl (meth)acrylate containing alicyclic structure (meth)acrylate, acryloylmorpholine, diethylacrylamide, etc. selected from the group consisting of acrylamide at least two compounds;
More preferably
A combination of methyl methacrylate (methyl methacrylate) and n-butyl acrylate (butyl acrylate),
The constituent units of polymer block a or polymer block b are determined based on the Tg of each compound when it constitutes a polymer by itself.

重合体ブロックaは、(メタ)アクリレート単位だけで構成されていることが好ましいが、0~150℃で、ブロック共重合体化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、後述する相溶化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する限り、共重合可能な他の化合物単位が含まれていることが許容される、(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体構造である。 The polymer block a is preferably composed only of (meth)acrylate units, but the block copolymer compound does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc) at 0 to 150° C., which will be described later. As long as the compatible compound has a liquid-gel state transition temperature (Tc), it is a polymer structure mainly composed of (meth)acrylate units, which is allowed to contain other copolymerizable compound units. .

重合体ブロックa中の(メタ)アクリレート単位のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 The molar ratio of (meth)acrylate units in polymer block a is preferably 90 to 100 mol %, more preferably 95 to 100 mol %, still more preferably 99 to 100 mol %.

重合体ブロックbは、(メタ)アクリレート単位だけで構成されていることが好ましいが、0~150℃で、ブロック共重合体化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、後述する相溶化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する限り、共重合可能な他の化合物単位が含まれていることが許容される、(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体構造である。 The polymer block b is preferably composed only of (meth)acrylate units, but the block copolymer compound does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc) at 0 to 150° C., which will be described later. As long as the compatible compound has a liquid-gel state transition temperature (Tc), it is a polymer structure mainly composed of (meth)acrylate units, which is allowed to contain other copolymerizable compound units. .

重合体ブロックb中の(メタ)アクリレート単位のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 The molar ratio of (meth)acrylate units in polymer block b is preferably 90 to 100 mol %, more preferably 95 to 100 mol %, still more preferably 99 to 100 mol %.

ブロック共重合体化合物中の重合体ブロックa及びbは、それぞれ重合物a及びbとほぼ同等の重合構造を有すると考えられので、ブロック共重合体化合物のガラス転移点は、重合物a及びbのガラス転移点が含まれる温度範囲、即ち、50℃超180℃以下の温度範囲と、-100℃以上50℃以下の温度範囲とにガラス転移温度を有することが好ましい。ガラス転移点の測定は実施例に記載した条件で行う。 The polymer blocks a and b in the block copolymer compound are considered to have substantially the same polymerization structure as the polymers a and b, respectively, so the glass transition point of the block copolymer compound is , that is, the temperature range of more than 50°C to 180°C and the temperature range of -100°C to 50°C. The glass transition point is measured under the conditions described in Examples.

ブロック共重合体化合物は、後述する相溶組成物の液状-ゲル状転移性の観点から、
重合体ブロックbの両末端に前記重合体ブロックaが結合したトリブロック構造を少なくとも1つ有することが好ましく、
トリブロック構造だけで構成されていることがより好ましいが、
0~150℃で、ブロック共重合体化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、
後述する相溶組成物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する範囲で、
トリブロック構造以外の構造(例えば、重合体ブロックaと重合体ブロックbが結合するジブロック構造)が含まれてよい。
The block copolymer compound, from the viewpoint of the liquid-gel state transition of the compatible composition described later,
It is preferable to have at least one triblock structure in which the polymer block a is bound to both ends of the polymer block b,
Although it is more preferable that it is composed only of a triblock structure,
At 0 to 150° C., the block copolymer compound does not have a liquid-to-gel transition temperature (Tc),
In the range where the compatible composition described later has a liquid-gel state transition temperature (Tc),
A structure other than a triblock structure (for example, a diblock structure in which polymer block a and polymer block b are bonded) may be included.

上記観点から、ブロック共重合体化合物中のトリブロック構造のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 From the above viewpoint, the molar ratio of the triblock structure in the block copolymer compound is preferably 90 to 100 mol%, more preferably 95 to 100 mol%, still more preferably 99 to 100 mol%.

ブロック共重合体化合物としては、市販品である「KURARITY」(登録商標、クラレ社)(例えば、LA2140、LA2250、LA4285、LA2330、LA2270、LA1114、LA1892)を使用することができる。 As the block copolymer compound, commercially available "KURARITY" (registered trademark, Kuraray Co., Ltd.) (for example, LA2140, LA2250, LA4285, LA2330, LA2270, LA1114, LA1892) can be used.

ブロック共重合体化合物は、後述するゲル状の相溶組成物及び相溶組成物粘弾性体の弾性と粘着性を向上する観点から、重合体ブロックaと重合体ブロックbとのブロック共重合体の末端又は側鎖に、ラジカル反応性基、カチオン反応性基、アニオン反応性基及び湿気反応性基からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性官能基を有することによって反応性がさらに付与されていることが好ましい。これらの反応性基の好適な態様は特開2017-66368号公報に記載されている。 The block copolymer compound is a block copolymer of polymer block a and polymer block b from the viewpoint of improving the elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and compatible composition viscoelastic body described later. Reactivity is further imparted by having at least one reactive functional group selected from the group consisting of a radical-reactive group, a cation-reactive group, an anion-reactive group and a moisture-reactive group at the terminal or side chain of preferably. Suitable aspects of these reactive groups are described in JP-A-2017-66368.

組成物X1における媒質は、ブロック共重合体化合物と相溶して、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する本発明の相溶組成物(以下、相溶組成物ともいう)を構成する化合物である。 The medium in composition X1 is the compatible composition of the present invention which is compatible with the block copolymer compound and has a liquid-gel state transition temperature (Tc) at 0 to 150° C. (hereinafter also referred to as compatible composition ) is a compound that constitutes

媒質としては、ブロック共重合体化合物との相溶組成物が流動性を有することができる化合物を目安として選択するとよく、(メタ)アクリレート系モノマー、(メタ)アクリルアミド系モノマー等のラジカル重合性不飽和結合含有モノマー、可塑剤、溶剤などであってよい。 As a medium, it is preferable to select a compound that allows a compatible composition with the block copolymer compound to have fluidity. It may be a saturated bond-containing monomer, a plasticizer, a solvent, and the like.

ブロック共重合体化合物との相溶組成物が流動性を有することができるモノマー化合物としては、
好ましくは、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;メトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート等;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート;4-tert-ブチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ノルボルネン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、等の脂環構造含有(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルフォリン、ジエチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、
より好ましくは、イソデシルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート及び4-tert-ブチルシクロヘキシルアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である。
Monomer compounds that allow the compatible composition with the block copolymer compound to have fluidity include:
Preferably, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-octyl Alkyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate; methoxyethyl (meth)acrylate, phenoxy Alkoxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as ethyl (meth)acrylate; hydroxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate and 2-hydroxybutyl (meth)acrylate ; benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, etc.; ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, Di(meth)acrylates such as 1,4-butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate; 4-tert-butylcyclohexyl acrylate, dicyclo Alicyclic structure-containing (meth)acrylates such as pentenyloxyethyl (meth)acrylate, norbornene (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, (meth)acryloyl At least one compound selected from the group consisting of (meth)acrylamides such as morpholine and diethyl (meth)acrylamide,
More preferably, it is at least one compound selected from the group consisting of isodecyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate and 4-tert-butylcyclohexyl acrylate.

ブロック共重合体化合物との相溶組成物が流動性を有することができる可塑剤としては、
好ましくは、ジブチルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジ(2-エチルヘキシル)フタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸エステル;
アジピン酸ジオクチル、アジピン酸ジイソノニル、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジイソノニル、1,2-シクロヘキサンジカルボン酸ジイソノニル等の多価カルボン酸エステル;
安息香酸アルキル;
トリクレジルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸エステル;
トリメリット酸エステル;
(水添)ポリイソプレン、水酸基含有(水添)ポリイソプレン、(水添)ポリブタジエン、水酸基含有(水添)ポリブタジエン、ポリブテン等のゴム系ポリマー;
熱可塑性エラストマー;
石油樹脂;
脂環族飽和炭化水素樹脂;
テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂等のテルペン系樹脂;
ロジンフェノール等のロジン系樹脂;
不均化ロジンエステル系樹脂、重合ロジンエステル系樹脂、水添ロジンエステル系樹脂等のロジンエステル系樹脂;
キシレン樹脂;及び
アクリルポリマー、アクリルコポリマー等のアクリル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、
より好ましくは、多価カルボン酸エステル及びロジンエステル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である。
As a plasticizer that allows the compatible composition with the block copolymer compound to have fluidity,
Preferably, phthalates such as dibutyl phthalate, diisononyl phthalate, diheptyl phthalate, di(2-ethylhexyl) phthalate, diisodecyl phthalate, butylbenzyl phthalate;
Polyvalent carboxylic acid esters such as dioctyl adipate, diisononyl adipate, dioctyl sebacate, diisononyl sebacate, and diisononyl 1,2-cyclohexanedicarboxylate;
alkyl benzoate;
Phosphate esters such as tricresyl phosphate and tributyl phosphate;
Trimellitate ester;
(Hydrogenated) polyisoprene, hydroxyl group-containing (hydrogenated) polyisoprene, (hydrogenated) polybutadiene, hydroxyl group-containing (hydrogenated) polybutadiene, rubber polymers such as polybutene;
thermoplastic elastomers;
petroleum resin;
Alicyclic saturated hydrocarbon resin;
Terpene resins such as terpene resins, terpene phenolic resins, modified terpene resins, and hydrogenated terpene resins;
Rosin-based resin such as rosin phenol;
Rosin ester resins such as disproportionated rosin ester resins, polymerized rosin ester resins, and hydrogenated rosin ester resins;
xylene resin; and at least one compound selected from the group consisting of acrylic resins such as acrylic polymers and acrylic copolymers;
More preferably, it is at least one compound selected from the group consisting of polyvalent carboxylic acid esters and rosin ester resins.

ブロック共重合体化合物に対して溶剤として作用する媒質としては、
好ましくは、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、ミネラルスピリット、シクロヘキサン、n-ヘキサン、メチルシクロヘキサン、スチレンなどの炭化水素類;
ジエチルエーテルなどのエーテル類;
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、炭酸ジエチル、炭酸ジメチル、炭酸プロピレンなどのエステル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン類;
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドンなどの窒素類;
ブチルグリコール、メチルジグリコール、ブチルジグリコール、3-メチル-3-メトキシブタノール、テトラヒドロフランなどのグリコールエーテル類;
塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンなどの塩素類;
ジメチルスルホキシド;アセトニトリル;ギ酸、酢酸等のカルボン酸類;及び水からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、
より好ましくは、アルコール類、炭化水素類、エステル類及びケトン類からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、
更に好ましくは、アセトン、ヘキサン、酢酸エチル、イソプロピルアルコール及び炭酸ジエチルからなる群から選ぶことができる。
As a medium acting as a solvent for the block copolymer compound,
Preferably, alcohols such as methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, benzyl alcohol;
Hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, mineral spirits, cyclohexane, n-hexane, methylcyclohexane, styrene;
ethers such as diethyl ether;
Esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl carbonate, dimethyl carbonate, propylene carbonate;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol;
Nitrogens such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone;
Glycol ethers such as butyl glycol, methyl diglycol, butyl diglycol, 3-methyl-3-methoxybutanol, tetrahydrofuran;
Chlorines such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, and chlorobenzene;
dimethyl sulfoxide; acetonitrile; carboxylic acids such as formic acid and acetic acid; and at least one compound selected from the group consisting of water,
More preferably, at least one compound selected from the group consisting of alcohols, hydrocarbons, esters and ketones,
More preferably, it can be selected from the group consisting of acetone, hexane, ethyl acetate, isopropyl alcohol and diethyl carbonate.

媒質の粘度は、ブロック共重合体化合物と相溶して、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する本発明の相溶組成物を製造できる範囲であればよいが、
ブロック共重合体化合物との相溶組成物を容易に製造する観点から、媒質の粘度は、
好ましくは0.001~10Pa・sであり、より好ましくは0.001~1Pa・sであり、更に好ましくは0.001~0.5Pa・sである。
The viscosity of the medium may be within a range that is compatible with the block copolymer compound and capable of producing the compatible composition of the present invention having a liquid-gel state transition temperature (Tc) at 0 to 150°C.
From the viewpoint of easily producing a compatible composition with a block copolymer compound, the viscosity of the medium is
It is preferably 0.001 to 10 Pa·s, more preferably 0.001 to 1 Pa·s, still more preferably 0.001 to 0.5 Pa·s.

なお、媒質がオリゴマー等の場合で温度Tcよりも低温環境で高粘度又は固体の場合でも、温度Tcよりも高温環境では低粘度になったり、低粘度の他の媒質には溶解したり、溶剤に溶解したりするので、これらを組合せてブロック共重合体化合物と混錬して相溶組成物を製造できる。 In addition, even if the medium is an oligomer or the like and has a high viscosity or solid in an environment at a temperature lower than the temperature Tc, the viscosity becomes low in an environment at a temperature higher than the temperature Tc. These can be combined and kneaded with the block copolymer compound to produce a compatible composition.

<組成物X1として好適な相溶組成物の物性>
ブロック共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物は、0~150℃で、ブロック共重合体化合物は液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、相溶組成物は液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する組成物である。
<Physical properties of compatible composition suitable as composition X1>
A compatible composition in which a block copolymer compound and a medium are compatible with each other has a temperature of 0 to 150° C., and the block copolymer compound does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc). is a composition with a liquid-to-gel transition temperature (Tc).

相溶組成物は、
温度Tc以上(好ましくは温度Tcよりも10℃以上高温、より好ましくは温度Tcよりも15℃以上高温、更に好ましくは温度Tcよりも20℃以上高温)の温度では、大気圧下で水平なガラスプレート上に0.01g以上滴下すると自然流動する液状体であるが、
温度Tc未満(好ましくは温度Tcよりも10℃以上低温、より好ましくは温度Tcよりも15℃以上低温、更に好ましくは温度Tcよりも20℃以上低温)の温度では、大気圧下で水平なガラスプレート上に0.01g以上静置しても流動しないゲル状体である。
The compatible composition is
At a temperature Tc or higher (preferably 10°C or higher than the temperature Tc, more preferably 15°C or higher than the temperature Tc, more preferably 20°C or higher than the temperature Tc), the horizontal glass under atmospheric pressure It is a liquid that naturally flows when 0.01 g or more is dropped on a plate,
At temperatures below the temperature Tc (preferably 10° C. or more below the temperature Tc, more preferably 15° C. or more below the temperature Tc, and even more preferably 20° C. or above below the temperature Tc), the horizontal glass under atmospheric pressure It is a gel-like material that does not flow even when 0.01 g or more is left on a plate.

相溶組成物は、温度Tcの前後(好ましくはTc±10℃の温度範囲、より好ましくはTc±15℃の温度範囲、更に好ましくはTc±20℃の温度範囲)の温度で、ゲル状体と液状体に可逆的に変化する。 The compatible composition is a gel-like body at a temperature around Tc (preferably Tc ± 10 ° C temperature range, more preferably Tc ± 15 ° C temperature range, still more preferably Tc ± 20 ° C temperature range) and reversibly change to a liquid state.

相溶組成物をゲル状で使用できる温度範囲が広く、あまり高温で液状にする必要がないという観点から、温度Tcは、好ましくは10~100℃、より好ましくは20~90℃、更に好ましくは30~80℃である。 From the viewpoint that the compatible composition can be used in a gel form over a wide temperature range and does not need to be liquefied at a very high temperature, the temperature Tc is preferably 10 to 100° C., more preferably 20 to 90° C., and still more preferably 30 to 80°C.

温度Tcは、
重合物aのTgが高い(メタ)アクリレート単位でブロック重合体aを構成するか、媒質の配合比率を少なくすると、高温側に設定でき、
重合物aのTgが低い(メタ)アクリレート単位でブロック重合体aを構成するか、媒質の配合比率を大きくすると、低温側に設定できる。
The temperature Tc is
If the block polymer a is composed of (meth)acrylate units having a high Tg of the polymer a, or if the mixing ratio of the medium is reduced, the temperature can be set to the high temperature side.
The low temperature can be set by forming the block polymer a from (meth)acrylate units having a low Tg of the polymer a or by increasing the mixing ratio of the medium.

相溶性組成物は、保護膜形成性の観点から、化合物A100質量部に対して、化合物Bの質量部は、好ましくは200~1000質量部、より好ましくは250~800質量部である。 In the compatible composition, the amount of compound B is preferably 200 to 1,000 parts by mass, more preferably 250 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of compound A, from the viewpoint of protective film-forming properties.

相溶性組成物が相溶組成物粘弾性体である場合、保護膜形成性に好適な粘弾性特性の観点から、化合物B中の反応性化合物の含有割合は、好ましくは20~80質量%、より好ましくは25~70質量%、更に好ましくは30~60質量%である。 When the compatible composition is a compatible composition viscoelastic body, the content of the reactive compound in compound B is preferably 20 to 80% by mass, from the viewpoint of viscoelastic properties suitable for protective film formation. More preferably 25 to 70% by mass, still more preferably 30 to 60% by mass.

相溶性組成物が相溶組成物粘弾性体である場合、加える重合開始剤は、少なくとも化合物A及び化合物Bの合計に対して、好ましく1~10質量%、より好ましくは2~8質量%、更に好ましくは2.5~7.5質量%である。 When the compatible composition is a compatible composition viscoelastic body, the polymerization initiator to be added is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 8% by mass, with respect to the total of at least compound A and compound B, More preferably, it is 2.5 to 7.5% by mass.

〈組成物X1として好適な相溶組成物粘弾性体〉
以下に説明する組成物X1の相溶組成物粘弾性体の好適物性は、組成物X1、X2及びX3並びに組成物Yの相溶組成物粘弾性体の好適物性でもある。
<Compatible composition viscoelastic body suitable as composition X1>
The preferred physical properties of the compatible composition viscoelastic body of composition X1 described below are also the preferred physical properties of the compatible composition viscoelastic body of compositions X1, X2 and X3 and composition Y.

相溶性組成物は、保護膜形成性及び剥離性の観点から、化合物A(好ましくは、反応性がさらに付与された化合物A)、化合物Bとしてラジカル反応性、カチオン反応性、アニオン反応性及び湿気反応性からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性を有する反応性化合物(好ましくは、更に可塑剤との組合せ)並びに重合開始剤を含有することが好ましい(以下、化合物A(好ましくは、反応性がさらに付与された化合物A)、化合物Bとしてラジカル反応性、カチオン反応性、アニオン反応性及び湿気反応性からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性を有する反応性化合物(好ましくは、更に可塑剤との組合せ)並びに重合開始剤を含有するゲル状の相溶性組成物を相溶組成物粘弾性体ともいう)。 From the viewpoints of protective film-forming properties and peelability, the compatible composition includes compound A (preferably compound A to which reactivity is further imparted) and compound B having radical reactivity, cation reactivity, anion reactivity and moisture reactivity. It is preferable to contain at least one reactive compound having reactivity selected from the group consisting of reactivity (preferably in combination with a plasticizer) and a polymerization initiator (hereinafter referred to as compound A (preferably, reaction A reactive compound having at least one reactivity selected from the group consisting of radical reactivity, cation reactivity, anion reactivity and moisture reactivity (preferably, further A gel-like compatible composition containing a combination with a plasticizer) and a polymerization initiator is also referred to as a compatible composition viscoelastic body).

以下に説明する組成物X1の相溶組成物粘弾性体の好適物性は、組成物X1、X2及びX3並びに組成物Yの相溶組成物粘弾性体の好適物性でもある。 The preferred physical properties of the compatible composition viscoelastic body of composition X1 described below are also the preferred physical properties of the compatible composition viscoelastic body of compositions X1, X2 and X3 and composition Y.

シートを構成できる程度の弾性率としては、
25℃において、好ましくは0.3~1000kPa、より好ましくは0.5~500kPa、更に好ましくは0.5~200kPaであり、
25℃において、弾性率が0.3kPa未満の場合は、温度Tc-20℃において、好ましくは0.5~500kPa、より好ましくは1~200kPaである。
The elastic modulus that can form a sheet is
At 25° C., it is preferably 0.3 to 1000 kPa, more preferably 0.5 to 500 kPa, still more preferably 0.5 to 200 kPa,
When the elastic modulus is less than 0.3 kPa at 25°C, it is preferably 0.5 to 500 kPa, more preferably 1 to 200 kPa at temperature Tc-20°C.

なお、相溶組成物粘弾性体の弾性率は実施例に記載した測定条件で測定する。 The elastic modulus of the compatible composition viscoelastic body is measured under the measurement conditions described in Examples.

シートを構成できる程度の伸びとして、
好ましくは10~1000%、より好ましくは30~800%、更に好ましくは50~500%であり、
シートを構成できる程度の破壊強度として、
好ましくは1×10~1×107Pa、より好ましくは1×10~1×10Pa、更に好ましくは1×10~1×10Paである。
As a degree of elongation that can form a sheet,
preferably 10 to 1000%, more preferably 30 to 800%, still more preferably 50 to 500%,
As a breaking strength that can form a sheet,
It is preferably from 1×10 2 to 1×10 7 Pa, more preferably from 1×10 2 to 1×10 6 Pa, still more preferably from 1×10 3 to 1×10 5 Pa.

なお、相溶組成物粘弾性体の伸びと破断強度は、ダンベル引張試験によって測定することができる。具体的には、相溶組成物粘弾性体の弾性率が、
25℃で0.3Pa以上の場合は25℃で、
0.3Pa未満の場合は温度Tc-20℃で、以下の条件で測定できる。
The elongation and breaking strength of the compatible composition viscoelastic body can be measured by a dumbbell tensile test. Specifically, the elastic modulus of the compatible composition viscoelastic body is
If 0.3 Pa or more at 25°C, at 25°C,
In the case of less than 0.3 Pa, the temperature can be measured at Tc-20° C. under the following conditions.

《ダンベル試験》
(1)相溶組成物粘弾性体を温度Tc+20℃で液状にした後ダンベルの型に流し込み温度Tc未満の温度に冷却(実際は室温)して厚み1mmのダンベル試験片を作製する。
(2)ダンベル試験片を引張試験機(ミネベア製テクノグラフ、TG-2kN)にて10mm/minの引張り速度で引張り、測定結果から伸び率及び破断強度を読み取る。
《Dumbbell test》
(1) After liquefying the compatible composition viscoelastic body at temperature Tc + 20°C, it is poured into a dumbbell mold and cooled to a temperature below temperature Tc (actually room temperature) to prepare a dumbbell test piece with a thickness of 1 mm.
(2) A dumbbell test piece is pulled at a tensile speed of 10 mm/min with a tensile tester (Technograph manufactured by Minebea, TG-2kN), and the elongation rate and breaking strength are read from the measurement results.

相溶組成物粘弾性体はこの粘着性によって、部材表面塗膜工程において表面S上の所定領域に安定して塗膜できる。 The compatible composition viscoelastic body can be stably coated on a predetermined region on the surface S in the member surface coating process due to this adhesiveness.

さらに、相溶組成物粘弾性体の層に加熱、光照射及び加湿からなる群から選ばれる少なくとも1の処理をして、相溶組成物粘弾性体の層を熱硬化、光硬化及び湿硬化からなる群から選ばれる少なくとも1種の硬化をさせて、液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さない硬化体にすることで、硬化した相溶組成物粘弾性体の層が温度Tc以上の高温環境でも流動性のない粘弾性体のままとなり、耐久性のある保護膜を形成できる。 Further, the compatible composition viscoelastic layer is subjected to at least one treatment selected from the group consisting of heating, light irradiation and humidification, and the compatible composition viscoelastic layer is heat-cured, photo-cured and wet-cured. By curing at least one selected from the group consisting of to obtain a cured body that does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc), the layer of the cured compatible composition viscoelastic body has a temperature Tc or higher It remains a non-fluid viscoelastic body even in a high temperature environment, and can form a durable protective film.

(2)組成物X2
<組成物X2として好適な相溶組成物>
組成物X2としては、
グラフト共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物であって、
前記グラフト共重合体化合物は、
(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体ブロックaと、
(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体ブロックbとのグラフト共重合体化合物であり、
前記重合体ブロックaを構成する(メタ)アクリレート単位だけで構成される重合物のガラス転移温度が30℃超180℃以下であり、
前記重合体ブロックbを構成する(メタ)アクリレート単位だけで構成される重合物のガラス転移温度が-100℃以上30℃以下であり、
前記グラフト共重合体化合物は、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、
前記相溶組成物は、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する相溶組成物を挙げることができる。
(2) Composition X2
<Compatible composition suitable as composition X2>
As the composition X2,
A compatible composition in which a graft copolymer compound and a medium are compatible,
The graft copolymer compound is
a polymer block a mainly composed of (meth)acrylate units;
A graft copolymer compound with a polymer block b mainly composed of (meth)acrylate units,
A polymer composed only of (meth)acrylate units constituting the polymer block a has a glass transition temperature of more than 30° C. and 180° C. or less,
The glass transition temperature of the polymer composed only of (meth)acrylate units constituting the polymer block b is −100° C. or more and 30° C. or less,
The graft copolymer compound does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc) at 0 to 150°C,
Examples of the compatible composition include compatible compositions having a liquid-to-gel transition temperature (Tc) at 0 to 150°C.

重合体ブロックaを構成する(メタ)アクリレート単位は、それ単体で構成される重合物(以下、重合物aという)のガラス転移温度が30℃超180℃以下となる(メタ)アクリレート化合物が重合した際に形成される。なお、ガラス転移温度の安定性の観点から、重合物aの重量平均分子量は、好ましくは1×10以上、より好ましくは1×10~1×10、更に好ましくは1×10~1×10である。 The (meth)acrylate unit constituting the polymer block a is polymerized with a (meth)acrylate compound having a glass transition temperature of more than 30° C. and 180° C. or less in a polymer (hereinafter referred to as polymer a) composed of the polymer block a. formed when From the viewpoint of the stability of the glass transition temperature, the weight average molecular weight of the polymer a is preferably 1×10 5 or more, more preferably 1×10 5 to 1×10 9 , still more preferably 1×10 5 to 1×10 9 . 1×10 7 .

重合体ブロックbを構成する(メタ)アクリレート単位は、それ単体で構成される重合物(以下、重合物bという)のガラス転移温度が-100℃以上30℃以下となる(メタ)アクリレート化合物が重合した際に形成される。なお、ガラス転移温度の安定性の観点から、重合物bの重量平均分子量は、好ましくは1×10以上、より好ましくは1×10~1×10、更に好ましくは1×10~1×10である。 The (meth)acrylate unit constituting the polymer block b is a (meth)acrylate compound having a glass transition temperature of −100° C. or more and 30° C. or less of a polymer (hereinafter referred to as polymer b) composed of the polymer block b. Formed during polymerization. From the viewpoint of the stability of the glass transition temperature, the weight average molecular weight of the polymer b is preferably 1×10 5 or more, more preferably 1×10 5 to 1×10 9 , and still more preferably 1×10 5 to 1×10 9 . 1×10 7 .

なお、重量平均分子量は、GPCに基づいて測定されたものであり、好ましくは、以下の条件で測定される:
測定装置:島津製作所社製GPCシステム;
カラムの種類:有機溶媒系SECカラム(東ソー社製);
溶剤の種類:テトラヒドロフラン(THF)。
The weight average molecular weight is measured based on GPC, preferably under the following conditions:
Measuring device: GPC system manufactured by Shimadzu Corporation;
Column type: organic solvent-based SEC column (manufactured by Tosoh Corporation);
Type of solvent: Tetrahydrofuran (THF).

重合体ブロックa又は重合体ブロックbを構成可能な(メタ)アクリレート化合物としては、
好ましくは、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;
メトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;
2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート等;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート;及び
ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ノルボルネン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4-tert-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート等の脂環構造含有(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジエチルアクリルアミド等のアクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも2種の化合物であり、
より好ましくは、少なくともどちらかがメタクリレート化合物である。
As the (meth)acrylate compound that can constitute the polymer block a or the polymer block b,
Preferably, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-octyl Alkyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate;
alkoxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate and phenoxyethyl (meth)acrylate;
hydroxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate;
benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate and the like;
Ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl Di(meth)acrylates such as glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate; and dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, norbornene (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate acrylate, isobornyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 4-tert-butylcyclohexyl (meth)acrylate containing alicyclic structure (meth)acrylate, acryloylmorpholine, diethylacrylamide, etc. selected from the group consisting of acrylamide at least two compounds;
More preferably, at least one of them is a methacrylate compound.

それぞれの化合物が単独で重合物を構成したときに示すTgに基づいて、重合体ブロックa又は重合体ブロックbの構成単位とする。 The constituent units of polymer block a or polymer block b are determined based on the Tg of each compound when it constitutes a polymer by itself.

重合体ブロックaは、(メタ)アクリレート単位だけで構成されていることが好ましいが、0~150℃で、化合物Aが液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、後述する相溶化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する限り、共重合可能な他の化合物単位が含まれていることが許容される、(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体構造である。 The polymer block a is preferably composed only of (meth)acrylate units, but at 0 to 150 ° C., the compound A does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc), and a compatible compound described later is a polymer structure mainly composed of (meth)acrylate units, which is allowed to contain other copolymerizable compound units as long as it has a liquid-gel state transition temperature (Tc).

重合体ブロックa中の(メタ)アクリレート単位のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 The molar ratio of (meth)acrylate units in polymer block a is preferably 90 to 100 mol %, more preferably 95 to 100 mol %, still more preferably 99 to 100 mol %.

重合体ブロックbは、(メタ)アクリレート単位だけで構成されていることが好ましいが、0~150℃で、化合物Aが液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、後述する相溶化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する限り、共重合可能な他の化合物単位が含まれていることが許容される、(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体構造である。 The polymer block b is preferably composed only of (meth)acrylate units, but at 0 to 150 ° C., the compound A does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc), and a compatible compound described later is a polymer structure mainly composed of (meth)acrylate units, which is allowed to contain other copolymerizable compound units as long as it has a liquid-gel state transition temperature (Tc).

重合体ブロックb中の(メタ)アクリレート単位のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 The molar ratio of (meth)acrylate units in polymer block b is preferably 90 to 100 mol %, more preferably 95 to 100 mol %, still more preferably 99 to 100 mol %.

化合物A中の重合体ブロックa及びbは、それぞれ重合物a及びbとほぼ同等の重合構造を有すると考えられので、化合物Aのガラス転移点は、重合物a及びbのガラス転移点が含まれる温度範囲、例えば、30℃超180℃以下の温度範囲と、-100℃以上30℃以下の温度範囲とにガラス転移温度を有することが好ましい。 Since polymer blocks a and b in compound A are considered to have polymer structures substantially equivalent to those of polymers a and b, respectively, the glass transition point of compound A includes the glass transition points of polymers a and b. For example, it preferably has a glass transition temperature in a temperature range of more than 30°C to 180°C and a temperature range of -100°C to 30°C.

グラフト共重合体化合物は、重合体ブロックaと重合体ブロックbとのグラフト共重合体であり、
例えば、重合体ブロックaは(メタ)アクリレート単位が線状に結合した構造で、重合体ブロックaの構成単位の少なくとも一つが、さらに重合体ブロックbを構成する(メタ)アクリレート単位と結合して重合体ブロックaから枝分かれしたように重合体ブロックbが結合した構造をとる。
The graft copolymer compound is a graft copolymer of polymer block a and polymer block b,
For example, the polymer block a has a structure in which (meth)acrylate units are linearly bonded, and at least one of the constituent units of the polymer block a is further bonded to the (meth)acrylate unit constituting the polymer block b. It has a structure in which the polymer block b is bonded as if it were branched from the polymer block a.

重合体ブロックaの複数の構成単位のそれぞれに重合体ブロックbが結合している場合、重合体ブロックaを幹、それぞれの重合体ブロックbを枝と呼ぶ。 When polymer block b is bonded to each of a plurality of constitutional units of polymer block a, polymer block a is called a trunk, and each polymer block b is called a branch.

グラフト共重合体化合物は、重合体ブロックaを幹、重合体ブロックbを枝とするグラフト共重合体でもよいし、重合体ブロックbを幹、重合体ブロックaを枝とするグラフト共重合体でもよい。 The graft copolymer compound may be a graft copolymer having polymer block a as a trunk and polymer block b as branches, or a graft copolymer having polymer block b as a trunk and polymer block a as branches. good.

グラフト共重合体化合物は、例えば、重合体ブロックaを予め製造し、重合体ブロックaの末端を構成するアクリレート単位aと(メタ)アクリレート単位bとを共重合して、(メタ)アクリレート単位bと(メタ)アクリレート単位aとの共重合体で幹が構成される場合がある。
この場合、幹中の(メタ)アクリレート単位aを(メタ)アクリレート単位bに置き換えた(メタ)アクリレート単位bの重合物を重合体ブロックbとみなし、重合体ブロックaから(メタ)アクリレート単位aを除いた重合体ブロックaの部分を枝とみなす。
The graft copolymer compound is obtained, for example, by preliminarily producing a polymer block a, copolymerizing the acrylate units ae and the (meth)acrylate units be constituting the terminals of the polymer block a to obtain (meth)acrylate The trunk may be composed of a copolymer of units b e and (meth)acrylate units a e .
In this case, the polymer of the (meth)acrylate units b e in which the (meth)acrylate units ae in the trunk are replaced with the (meth)acrylate units b e is regarded as the polymer block b, and from the polymer block a to the (meth) The portion of the polymer block a excluding the acrylate unit a e is considered a branch.

枝を重合体aで構成する場合、後述する相溶組成物が液状-ゲル状転移性の観点から、GPC法による数平均分子量が好ましくは3000~100000、好ましくは5000~50000であり、ガラス転移温度は30℃超180℃以下、好ましくは40℃超180℃以下、より好ましくは50℃超180℃以下、更に好ましくは枝の片末端が好ましくは60℃超180℃以下であり、(メタ)アクリロイル基を有する、好ましくはメタクリレート単位、より好ましくはメチルメタクリレート単位(MMA)等のメタクリレート単位であり(但し、メタクリル酸、アクリル酸エステル、アクリロニトリルなどのビニルモノマ-単位が少量含まれていてもよい)で構成される。 When the branch is composed of the polymer a, the number average molecular weight according to the GPC method is preferably 3000 to 100000, preferably 5000 to 50000, from the viewpoint of the liquid-gel state transition of the compatible composition described later, and the glass transition The temperature is higher than 30°C and lower than or equal to 180°C, preferably higher than 40°C and lower than or equal to 180°C, more preferably higher than 50°C and lower than or equal to 180°C, still more preferably one end of the branch is preferably higher than 60°C and lower than or equal to 180°C, and (meta) A methacrylate unit having an acryloyl group, preferably a methacrylate unit, more preferably a methacrylate unit such as a methyl methacrylate unit (MMA) (however, a small amount of vinyl monomer units such as methacrylic acid, acrylic acid esters, and acrylonitrile may be contained). consists of

幹を重合体bで構成する場合、後述する液相溶組成物が液状-ゲル状転移性の観点から、GPC法による数平均分子量が好ましくは5000~200000、好ましくは10000~150000であり、ガラス転移温度は-100℃以上30℃以下、好ましくは-100℃以上20℃以下、より好ましくは-100℃以上10℃以下、更に好ましくは-100℃以上0℃以下であり、好ましくはてエチルアクリレート単位(EA)、n-ブチルアクリレート単位(nBA)及びラウリルメタクリレート単位(LMA)からなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリレート単位、より好ましくはエチルアクリレート単位(EA)及び/又はn-ブチルアクリレート単位(n-BA)で構成される。 When the trunk is composed of the polymer b, the number average molecular weight according to the GPC method is preferably 5000 to 200000, preferably 10000 to 150000, from the viewpoint of the liquid-to-gel state transition property of the liquid compatible composition described later, and the glass The transition temperature is -100°C or higher and 30°C or lower, preferably -100°C or higher and 20°C or lower, more preferably -100°C or higher and 10°C or lower, still more preferably -100°C or higher and 0°C or lower, preferably ethyl acrylate. At least one (meth)acrylate unit selected from the group consisting of units (EA), n-butyl acrylate units (nBA) and lauryl methacrylate units (LMA), more preferably ethyl acrylate units (EA) and/or n- It is composed of butyl acrylate units (n-BA).

グラフト共重合体化合物の合計量W及び数平均分子量(重量平均分子量)Mとからグラフト共重合体化合物の総モル数NをN=W/Mで算出し、
枝を構成する予め合成した重合体ブロックaの合計量w及び数平均分子量(重量平均分子量)mとから、重合体ブロックaの総モル数nをn=w/mで算出して、
幹1本を構成する重合体ブロックbの数平均分子量(重量平均分子量)mと幹1本当たりの枝の数nを、m+n・m=M、n=n/N と定義して、mを算出し、これを重合体ブロックbの数平均分子量(重量平均分子量)としてもよい。
The total number of moles N of the graft copolymer compound is calculated from the total amount W of the graft copolymer compound and the number average molecular weight (weight average molecular weight) M as N=W/M,
Based on the total amount wa of the pre-synthesized polymer blocks a constituting the branches and the number average molecular weight (weight average molecular weight) ma, the total number of moles na of the polymer blocks a can be calculated as na = wa / ma . Calculate,
The number average molecular weight (weight average molecular weight) m b of the polymer block b constituting one trunk and the number n x of branches per trunk are expressed as m b + n x · ma = M, n x = n a / N 2 may be defined, m b may be calculated, and used as the number average molecular weight (weight average molecular weight) of the polymer block b.

後述する相溶組成物の液状-ゲル状転移性の観点から、グラフト共重合体化合物を構成する重合体ブロックaと重合体ブロックbの質量比(a/b)は、好ましくは5~95/95~5、より好ましくは10~90/90~10、更に好ましくは15~85/85~15である。 From the viewpoint of the liquid-gel state transition of the compatible composition described later, the mass ratio (a/b) of the polymer block a and the polymer block b constituting the graft copolymer compound is preferably 5 to 95/ 95-5, more preferably 10-90/90-10, still more preferably 15-85/85-15.

後述する液相溶組成物が液状-ゲル状転移性の観点から、グラフト共重合体化合物の重量平均分子量は好ましくは8000~300000、より好ましくは15000~280000、更に好ましくは30000~250000である。 The weight average molecular weight of the graft copolymer compound is preferably 8,000 to 300,000, more preferably 15,000 to 280,000, and still more preferably 30,000 to 250,000, from the viewpoint of the liquid-to-gel transition of the liquid-compatible composition described below.

グラフト共重合体化合物は、例えば、特開平5-170838号公報、特開平6-234822号公報に記載された製造方法で得ることができ、例えば、表1に記載した三菱レイヨン社の市販品を使用できる。 The graft copolymer compound can be obtained, for example, by the production methods described in JP-A-5-170838 and JP-A-6-234822. Available.

Figure 0007178654000001
Figure 0007178654000001

〈組成物X2として好適な相溶組成物粘弾性体〉
組成物X1として好適な相溶組成物と同様に、保護膜形成性及び剥離性の観点から、組成物X2として好適な相溶組成物も、化合物A(好ましくは、反応性がさらに付与された化合物A)、化合物Bとしてラジカル反応性、カチオン反応性、アニオン反応性及び湿気反応性からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性を有する反応性化合物(好ましくは、更に可塑剤との組合せ)並びに重合開始剤を含有することが好ましい(以下、化合物A(好ましくは、反応性がさらに付与された化合物A)、化合物Bとしてラジカル反応性、カチオン反応性、アニオン反応性及び湿気反応性からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性を有する反応性化合物(好ましくは、更に可塑剤との組合せ)並びに重合開始剤を含有するゲル状の相溶性組成物を相溶組成物粘弾性体ともいう)。
<Compatible composition viscoelastic body suitable as composition X2>
Similar to the compatible composition suitable as the composition X1, the compatible composition suitable as the composition X2 from the viewpoint of protective film formation and peelability is also compound A (preferably, reactivity is further imparted Reactive compounds having at least one reactivity selected from the group consisting of radical reactivity, cation reactivity, anion reactivity and moisture reactivity as compound A) and compound B (preferably in combination with a plasticizer) and preferably contains a polymerization initiator (hereinafter referred to as compound A (preferably compound A to which reactivity is further imparted), compound B consisting of radical reactivity, cation reactivity, anion reactivity and moisture reactivity A gel-like compatible composition containing at least one reactive compound selected from the group (preferably in combination with a plasticizer) and a polymerization initiator is also referred to as a compatible composition viscoelastic body. ).

組成物X2における媒質は、グラフト共重合体化合物と相溶して、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する本発明の相溶組成物(以下、相溶組成物ともいう)を構成する化合物であり、例えば組成物X1における媒質を好適に挙げることができる。 The medium in composition X2 is the compatible composition of the present invention which is compatible with the graft copolymer compound and has a liquid-to-gel transition temperature (Tc) at 0 to 150° C. ), and for example, the medium in the composition X1 can be preferably mentioned.

グラフト共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物は、0~150℃で、化合物Aは液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、
相溶組成物は液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する組成物であり、
組成物X1における相溶組成物と同様の性状を有することが好ましい。
The compatible composition in which the graft copolymer compound and the medium are compatible with each other has a temperature of 0 to 150° C., and the compound A does not have a liquid-gel state transition temperature (Tc),
The compatible composition is a composition having a liquid-gel transition temperature (Tc),
It preferably has the same properties as the compatible composition in composition X1.

なお、温度Tcは、
重合物aのTgが高い(メタ)アクリレート単位でブロック重合体aを構成するか、化合物Bの配合比率を少なくすると、高温側に設定でき、
重合物aのTgが低い(メタ)アクリレート単位でブロック重合体aを構成するか、化合物Bの配合比率を大きくすると、低温側に設定できる。
Note that the temperature Tc is
If the block polymer a is composed of (meth)acrylate units having a high Tg of the polymer a, or if the blending ratio of the compound B is reduced, the temperature can be set to the high temperature side.
The temperature can be set to the low temperature side by configuring the block polymer a with (meth)acrylate units having a low Tg of the polymer a or by increasing the compounding ratio of the compound B.

相溶性組成物は、液状時の部材への塗付性及び相転移性の観点から、グラフト共重合体化合物100質量部に対して、媒質の質量部は、好ましくは200~1000質量部、より好ましくは250~800質量部である。 From the standpoint of the compatibility with the composition when it is in a liquid state, from the viewpoint of the spreadability to the member and the phase transition property, the weight part of the medium is preferably 200 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the graft copolymer compound. It is preferably 250 to 800 parts by mass.

相溶性組成物が相溶組成物粘弾性体である場合、耐久性、応力緩和性に適した粘弾性特性の観点から、媒質の反応性化合物の含有割合は、好ましくは20~100質量%、より好ましくは25~95質量%、更に好ましくは30~90質量%である。 When the compatible composition is a compatible composition viscoelastic body, the content of the reactive compound in the medium is preferably 20 to 100% by mass, from the viewpoint of viscoelastic properties suitable for durability and stress relaxation. More preferably 25 to 95% by mass, still more preferably 30 to 90% by mass.

相溶性組成物が相溶組成物粘弾性体である場合、加える重合開始剤は、少なくともグラフト共重合体化合物及び媒質の合計に対して、好ましく1~10質量%、より好ましくは2~8質量%、更に好ましくは2.5~7.5質量%である。 When the compatible composition is a compatible composition viscoelastic body, the polymerization initiator to be added is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 8% by mass, with respect to the total of at least the graft copolymer compound and the medium. %, more preferably 2.5 to 7.5 mass %.

(3)組成物X3
〈組成物X3として好適な相溶性組成物〉
組成物X3としては、
ブロック共重合体化合物と媒質とが相溶してなる相溶組成物であって、
前記ブロック共重合体化合物は、
スチレン系化合物単位を主体とする重合体ブロックaと、
アルケン系化合物、ジエン系化合物及びアルキン系化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素系化合物の単位を主体とする重合体ブロックb、又は(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体ブロックbとのブロック共重合体構造を有する化合物であり、
前記重合体ブロックbを構成する(メタ)アクリレート単位だけで構成される重合物のガラス転移温度が-100℃以上50℃以下であり、
前記相溶組成物は、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する相溶組成物を挙げることができる。
(3) Composition X3
<Compatible composition suitable as composition X3>
As the composition X3,
A compatible composition in which a block copolymer compound and a medium are compatible,
The block copolymer compound is
a polymer block a mainly composed of styrene-based compound units;
Polymer block b 1 mainly composed of units of at least one hydrocarbon-based compound selected from the group consisting of alkene-based compounds, diene-based compounds and alkyne-based compounds, or polymer block mainly composed of (meth)acrylate units A compound having a block copolymer structure with b2,
A polymer composed only of (meth)acrylate units constituting the polymer block b2 has a glass transition temperature of −100° C. or more and 50° C. or less,
Examples of the compatible composition include compatible compositions having a liquid-to-gel transition temperature (Tc) at 0 to 150°C.

以下、重合体ブロックaと重合体ブロックbとのブロック共重合体構造を有する化合物を化合物Aといい、重合体ブロックaと(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体ブロックbとのブロック共重合体構造を有する化合物を化合物Aという。 Hereinafter, a compound having a block copolymer structure of polymer block a and polymer block b1 will be referred to as compound A1, and polymer block a and polymer block b2 mainly composed of ( meth)acrylate units. A compound having a block copolymer structure is referred to as compound A2 .

重合体ブロックaを構成するスチレン系化合物単位は、スチレン系化合物であるスチレン及び/又はビニル基と芳香環構造を維持したスチレンの誘導体が重合した際に形成される。以下、重合に使用するスチレン又はスチレンの誘導体をベース化合物と呼ぶ。 The styrene-based compound unit constituting the polymer block a is formed when styrene and/or a styrene-based compound and/or a styrene derivative maintaining an aromatic ring structure are polymerized with a vinyl group. Hereinafter, styrene or a styrene derivative used for polymerization is referred to as a base compound.

重合体ブロックaを構成可能なスチレン系化合物としては、後述する硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、
好ましくは、スチレン;α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、1,3-ジメチルスチレン、4-tert-ブチルスチレン、4-ヘキシルスチレンなどのアルキル基置換スチレン;p-ヒドロキシスチレンなどのヒドロキシル基置換スチレン;p-メトキシスチレン、4-tert-ブトキシスチレンなどのアルコキシ基置換スチレン;4-アミノスチレンなどのアミノ基置換スチレン;及び4-クロロスチレン、4-ブロモスチレンなどのハロゲン置換スチレンからなる群から選ばれる少なくとも1種のスチレン系化合物、
より好ましくは、スチレンである。
From the viewpoint of the compatibility of the curable resin composition described later and the liquid-to-gel state transition property, the styrenic compound that can constitute the polymer block a includes:
preferably styrene; α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 1,3-dimethylstyrene, 4-tert-butylstyrene, alkyl group-substituted styrene such as 4-hexylstyrene; hydroxyl group-substituted styrenes such as p-hydroxystyrene; alkoxy group-substituted styrenes such as p-methoxystyrene and 4-tert-butoxystyrene; amino group-substituted styrenes such as 4-aminostyrene; and 4-chlorostyrene and 4-bromostyrene. At least one styrenic compound selected from the group consisting of halogen-substituted styrenes such as
Styrene is more preferred.

重合体ブロックaは、スチレン系化合物単位だけで構成されていることが好ましいが、後述する硬化性樹脂組成物が相溶性と液状-ゲル状転移性を有する限り、共重合可能な他の化合物単位が含まれていることが許容される、スチレン系化合物単位を主体とする重合体構造である。 Polymer block a is preferably composed only of styrene compound units, but as long as the curable resin composition described later has compatibility and liquid-to-gel state transition properties, other copolymerizable compound units is a polymer structure mainly composed of styrenic compound units, which is allowed to contain

重合体ブロックa中のスチレン系化合物単位のモル比は、後述する硬化性樹脂組成物の液状-ゲル状転移性の観点から、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 The molar ratio of the styrenic compound units in the polymer block a is preferably 90 to 100 mol%, more preferably 95 to 100 mol%, from the viewpoint of the liquid-to-gel state transition of the curable resin composition described later. More preferably, it is 99 to 100 mol %.

なお、重量平均分子量は、GPCに基づいて測定されたものであり、好ましくは、以下の条件で測定される(以下、同様である):
測定装置:島津製作所社製GPCシステム;
カラムの種類:有機溶媒系SECカラム(東ソー社製);
溶剤の種類:テトラヒドロフラン(THF)。
The weight-average molecular weight is measured based on GPC, preferably under the following conditions (the same shall apply hereinafter):
Measuring device: GPC system manufactured by Shimadzu Corporation;
Column type: organic solvent-based SEC column (manufactured by Tosoh Corporation);
Type of solvent: Tetrahydrofuran (THF).

(3.1)化合物A
重合体ブロックbを構成する特定炭化水素系化合物単位は、後述する特定炭化水素系化合物が重合した際に形成される。
(3.1) Compound A 1
The specific hydrocarbon - based compound unit constituting the polymer block b1 is formed when the specific hydrocarbon-based compound described later is polymerized.

重合体ブロックbを構成可能な特定炭化水素系化合物としては、後述する硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、
アルケン系化合物としては、エチレン、プロピレン等のアルケン及び/又はこれらの(共)重合体並びにこれらの水添化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物であり、
ジエン系化合物としては、ブタジエン、イソプレン等のジエン及び/又はこれらの(共)重合体並びにこれらの水添化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物であり、
アルキン系化合物としては、アセチレン等のアルキン及び/又はこれらの(共)重合体
並びにこれらの水添化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である。
なお、本明細書では、重合体又は共重合体を「(共)重合体」と表記する。
The specific hydrocarbon - based compound that can constitute the polymer block b1 includes, from the viewpoint of compatibility with the curable resin composition described below and liquid-to-gel state transition,
The alkene-based compound is at least one compound selected from alkenes such as ethylene and propylene and/or (co)polymers thereof and hydrogenated compounds thereof,
The diene compound is at least one compound selected from dienes such as butadiene and isoprene and/or (co)polymers thereof and hydrogenated compounds thereof,
The alkyne compound is at least one compound selected from the group consisting of alkynes such as acetylene and/or (co)polymers thereof and hydrogenated compounds thereof.
In addition, in this specification, a polymer or a copolymer is described as a "(co)polymer".

重合体ブロックbを構成可能な特定炭化水素系化合物としては、後述する硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、上述の化合物の中では、水添化合物の態様であることが好ましい。 As the specific hydrocarbon - based compound that can constitute the polymer block b1, from the viewpoint of the compatibility of the curable resin composition described later and the liquid-to-gel state transition property, among the above-mentioned compounds, hydrogenated compounds are preferred. is preferably

上述の好適な特定炭化水素系化合物において、同様の観点から、
ベースとなるアルケンとしては、好ましくはエチレン及び/又はプロピレンであり、
ベースとなるジエンとしては、好ましくはブタジエン及び/又はイソプレンであり、
ベースとなるアルキンとしては、好ましくはアセチレンである。
なお、本明細書では、例えば、「アルケン」、「アルケンの重合体」及び「アルケンの重合体の水添加物」の構成要素のアルケンを「ベースとなるアルケン」という。
From the same point of view, in the preferred specific hydrocarbon-based compound described above,
The base alkene is preferably ethylene and/or propylene,
The base diene is preferably butadiene and/or isoprene,
The base alkyne is preferably acetylene.
In this specification, for example, an alkene that is a constituent of "alkene", "alkene polymer", and "water additive of alkene polymer" is referred to as "base alkene".

上述の好適な特定炭化水素系化合物において、同様の観点から、ベースとなる炭化水素としては、
好ましくはジエン及び/又はアルキンであり、より好ましくはジエンであり、
更に好ましくはブタジエン、イソプレン及びアセチレンからなる群から選ばれる少なくとも1種の炭化水素化合物であり、更に好ましくはブタジエン及び/又はイソプレンである。
In the preferred specific hydrocarbon-based compound described above, from the same point of view, as a base hydrocarbon,
preferably diene and/or alkyne, more preferably diene,
More preferably, it is at least one hydrocarbon compound selected from the group consisting of butadiene, isoprene and acetylene, more preferably butadiene and/or isoprene.

重合体ブロックbは、特定炭化水素系化合物単位だけで構成されていることが好ましいが、後述する硬化性樹脂組成物が相溶性と液状-ゲル状転移性を有する限り、共重合可能な他の化合物単位が含まれていることが許容される、特定炭化水素系化合物単位を主体とする重合体構造である。 It is preferable that the polymer block b1 is composed only of specific hydrocarbon-based compound units. It is a polymer structure mainly composed of specific hydrocarbon-based compound units, which is allowed to contain compound units of

後述する硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、
重合物bの重量平均分子量は、好ましくは1×10以上、より好ましくは1×10~1×10、更に好ましくは1×10~1×10であり、
重合体ブロックb中の特定炭化水素系化合物単位のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。
From the viewpoint of compatibility and liquid-gel state transition of the curable resin composition described later,
The weight average molecular weight of the polymer b 2 is preferably 1×10 5 or more, more preferably 1×10 5 to 1×10 9 , still more preferably 1×10 5 to 1×10 7 ,
The molar ratio of the specific hydrocarbon compound units in the polymer block b1 is preferably 90 to 100 mol%, more preferably 95 to 100 mol%, still more preferably 99 to 100 mol%.

硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、化合物Aの重量平均分子量は、好ましくは10000~500000、より好ましくは30000~400000、更に好ましくは50000~300000である。 The weight average molecular weight of Compound A1 is preferably from 10,000 to 500,000, more preferably from 30,000 to 400,000, and even more preferably from 50,000 to 300,000, from the viewpoint of compatibility and liquid-to-gel state transition of the curable resin composition.

硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、化合物Aは、
重合体ブロックbの両末端に重合体ブロックaが結合したトリブロック体構造又は重合体ブロックaと重合体ブロックbが結合するジブロック体構造であることが好ましく、トリブロック体構造であることがより好ましい。
From the viewpoint of compatibility and liquid - gel state transition property of the curable resin composition, the compound A1 is
It is preferably a triblock structure in which the polymer block a is bonded to both ends of the polymer block b1 or a diblock structure in which the polymer block a and the polymer block b1 are bonded, and is preferably a triblock structure. is more preferable.

後述する硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、
重合体ブロックaと重合体ブロックbの合計質量中の重合体ブロックaの質量%が高い方が好ましい。
From the viewpoint of compatibility and liquid-gel state transition of the curable resin composition described later,
It is preferable that the mass % of polymer block a in the total mass of polymer block a and polymer block b1 is high.

後述する硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、化合物A中の重合体ブロックa及び重合体ブロックbの合計のモル%は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 From the viewpoint of the compatibility and liquid-to-gel state transition of the curable resin composition described later, the total mol% of polymer block a and polymer block b1 in compound A is preferably 90 to 100 mol%, More preferably 95 to 100 mol %, still more preferably 99 to 100 mol %.

化合物Aの重合体ブロックaと重合体ブロックbの各構造と結合形態は、後述する硬化性樹脂組成物が相溶性と液状-ゲル状転移性を有するように選択すればよく、例えば表1に挙げた市販品から選択することができる。 Each structure and bonding form of polymer block a and polymer block b1 of compound A1 may be selected so that the curable resin composition described later has compatibility and liquid-to-gel state transition. It can be selected from the commercially available products listed in 1.

なお、表2において、ハイブラー、セプトン、クレイトン及びタフテックは登録商標であり、
Sはスチレンをベース化合物とする単位、Bはブタジエンをベースとする単位、Iはイソプレンをベースとする単位、n-BAはn-ブチルアクリレートをベース化合物とする単位であり、
「a」は重合体ブロックa、「b」は重合体ブロックb、「b」は重合体ブロックb、「a-b」は重合体ブロックaと重合体ブロックbのジブロック共重合体、「a-b-a」「a-b-a」はそれぞれ重合体ブロックaと重合体ブロックb又はbのトリブロック共重合体をそれぞれ表す。
In Table 2, Hybler, Septon, Kraton and Tuftec are registered trademarks.
S is a styrene-based unit, B is a butadiene-based unit, I is an isoprene-based unit, n-BA is an n-butyl acrylate-based unit,
“a” is polymer block a, “b 1 ” is polymer block b 1 , “b 2 ” is polymer block b 2 , and “ab 1 ” is polymer block a and polymer block b 1 . The block copolymers "ab 1 -a" and "ab 2 -a" represent triblock copolymers of polymer block a and polymer block b 1 or b 2 respectively.

Figure 0007178654000002
Figure 0007178654000002

(3.2)化合物A
重合体ブロックbを構成する(メタ)アクリレート単位は、それ単体で構成される重合物(以下、重合物bという)のガラス転移温度が-100℃以上50℃以下となる(メタ)アクリレート化合物が重合した際に形成される。なお、ガラス転移温度の安定性の観点から、重合物bの重量平均分子量は、好ましくは1×10以上、より好ましくは1×10~1×10、更に好ましくは1×10~1×10である。
(3.2) Compound A2
The (meth)acrylate unit that constitutes the polymer block b2 is a (meth)acrylate whose glass transition temperature is −100° C. or more and 50° C. or less of a polymer (hereinafter referred to as polymer b2) composed of the polymer block b2. It is formed when a compound polymerizes. From the viewpoint of the stability of the glass transition temperature, the weight average molecular weight of the polymer b2 is preferably 1×10 5 or more, more preferably 1×10 5 to 1×10 9 , and still more preferably 1×10 5 . ˜1×10 7 .

重合体ブロックbを構成可能な(メタ)アクリレート化合物としては、
好ましくは、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;
メトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;
2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ置換アルキル(メタ)アクリレート;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート等;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート;及び
ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ノルボルネン(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4-tert-ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート等の脂環構造含有(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、ジエチルアクリルアミド等のアクリルアミドからなる群から選ばれる化合物であり、
より好ましくは、アクリル酸n-ブチル(ブチルアクリレート)である。
As the (meth)acrylate compound that can constitute the polymer block b2 ,
Preferably, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, n-octyl Alkyl (meth)acrylates such as (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and stearyl (meth)acrylate;
alkoxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as methoxyethyl (meth)acrylate and phenoxyethyl (meth)acrylate;
hydroxy-substituted alkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate;
benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate and the like;
Ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, 1,3-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl Di(meth)acrylates such as glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate; and dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, norbornene (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate acrylate, isobornyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 4-tert-butylcyclohexyl (meth)acrylate containing alicyclic structure (meth)acrylate, acryloylmorpholine, diethylacrylamide, etc. selected from the group consisting of acrylamide is a compound,
More preferred is n-butyl acrylate (butyl acrylate).

後述する硬化性樹脂組成物が相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、重合体ブロックbは、(メタ)アクリレート単位だけで構成されていることが好ましいが、0~150℃で、化合物Aが液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、後述する相溶化合物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する限り、共重合可能な他の化合物単位が含まれていることが許容される、(メタ)アクリレート単位を主体とする重合体構造である。 From the viewpoint of compatibility and liquid-to-gel state transition of the curable resin composition described later, the polymer block b2 is preferably composed only of (meth)acrylate units. As long as the compound A does not have a liquid-gel transition temperature (Tc) and the compatible compound described later has a liquid-gel transition temperature (Tc), other copolymerizable compound units are included. is a polymer structure mainly composed of (meth)acrylate units.

後述する硬化性樹脂組成物が相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、重合体ブロックb中の(メタ)アクリレート単位のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 From the viewpoint of the compatibility and liquid-to-gel state transition of the curable resin composition described later, the molar ratio of ( meth)acrylate units in the polymer block b2 is preferably 90 to 100 mol%, more preferably 95 It is up to 100 mol %, more preferably 99 to 100 mol %.

化合物A中の重合体ブロックbは、重合物bとほぼ同等の重合構造を有すると考えられので、化合物Aのガラス転移点は、重合物bのガラス転移点が含まれる温度範囲、即ち、-100℃以上50℃以下の温度範囲にガラス転移温度を有することが好ましい。
い。
Since the polymer block b2 in the compound A2 is considered to have a polymerization structure almost equivalent to that of the polymer b2 , the glass transition point of the compound A2 is the temperature at which the glass transition point of the polymer b2 is included. It is preferred to have a glass transition temperature in the range, ie -100°C to 50°C.
stomach.

化合物Aは、後述する液相溶組成物が液状-ゲル状転移性の観点から、
重合体ブロックbの両末端に前記重合体ブロックaが結合したトリブロック構造を少なくとも1つ有することが好ましく、
トリブロック構造だけで構成されていることがより好ましいが、
0~150℃で、化合物Aが液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、
後述する相溶組成物が液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する範囲で、
トリブロック構造以外の構造(例えば、重合体ブロックaと重合体ブロックbが結合するジブロック構造)が含まれてよい。
Compound A2 , from the viewpoint of the liquid-to-gel state transition properties of the liquid-compatible composition described later,
It is preferable to have at least one triblock structure in which the polymer block a is bound to both ends of the polymer block b2,
Although it is more preferable that it is composed only of a triblock structure,
from 0 to 150° C., compound A has no liquid-to-gel transition temperature (Tc),
In the range where the compatible composition described later has a liquid-gel state transition temperature (Tc),
A structure other than a triblock structure (for example, a diblock structure in which polymer block a and polymer block b2 are bonded) may be included.

上記観点から、化合物A中のトリブロック構造のモル比は、好ましくは90~100モル%、より好ましくは95~100モル%、更に好ましくは99~100モル%である。 From the above viewpoint, the molar ratio of the triblock structure in compound A2 is preferably 90 to 100 mol%, more preferably 95 to 100 mol%, still more preferably 99 to 100 mol%.

化合物Aとしては、アルケマ社から市販されるスチレンを単位とする重合体ブロックaとn-ブチルアクリレートを単位とする重合体ブロックbとするトリブロック構造物(重合体ブロックa-重合体ブロックb-重合体ブロックa)を使用することができる。 Compound A2 is a triblock structure ( polymer block a - polymer block b 2 -polymer blocks a) can be used.

硬化性樹脂組成物の相溶性と液状-ゲル状転移性の観点から、化合物Aの重量平均分子量は、好ましくは10000~500000、より好ましくは30000~400000、更に好ましくは50000~300000である。 The weight average molecular weight of compound A2 is preferably 10,000 to 500,000, more preferably 30,000 to 400,000, still more preferably 50,000 to 300,000, from the viewpoint of compatibility of the curable resin composition and liquid-to-gel state transition.

(3.3)媒質
組成物X3における媒質は、化合物A又はAと相溶して、0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する組成物Xにおける相溶組成物(以下、相溶組成物ともいう)を構成する化合物であり、例えば組成物X3における媒質を好適に挙げることができる。
( 3.3) Medium The medium in composition X3 is a compatible composition in composition X3 that is compatible with compound A1 or A2 and has a liquid-gel state transition temperature (Tc) at 0 to 150 ° C. (hereinafter also referred to as a compatible composition), and suitable examples thereof include the medium in composition X3.

(3.4)相溶組成物
化合物A又はAと媒質とが相溶してなる相溶組成物は、
0~150℃で、
化合物A又はAは液状-ゲル状転移温度(Tc)を有さず、
相溶組成物は液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する組成物であり、
組成物X1における相溶組成物と同様の性状を有することが好ましい。
(3.4) Compatible composition A compatible composition in which compound A1 or A2 and a medium are compatible,
from 0 to 150°C,
Compound A 1 or A 2 does not have a liquid-gel transition temperature (Tc),
The compatible composition is a composition having a liquid-gel transition temperature (Tc),
It preferably has the same properties as the compatible composition in composition X1.

相溶性組成物は、液状時の部材への塗付性及び相転移性の観点から、化合物A又はA100質量部に対して、媒質の質量部は、好ましくは200~1000質量部、より好ましくは250~800質量部である。 From the standpoints of the compatibility composition when it is in a liquid state, from the viewpoint of the spreadability to members and the phase transition property, the weight part of the medium is preferably 200 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound A 1 or A 2 . More preferably 250 to 800 parts by mass.

〈組成物X3として好適な相溶性組成物粘弾性体〉
組成物X1として好適な相溶組成物と同様の観点から、組成物X3として好適な相溶組成物も、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上する観点から、化合物A又はA(好ましくは、反応性がさらに付与された化合物A又はA)、化合物Bとしてラジカル反応性、カチオン反応性、アニオン反応性及び湿気反応性からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性を有する反応性化合物(好ましくは、更に可塑剤との組合せ)並びに重合開始剤を含有することが好ましい(以下、化合物A又はA(好ましくは、反応性がさらに付与された化合物A又はA)、化合物Bとしてラジカル反応性、カチオン反応性、アニオン反応性及び湿気反応性からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性を有する反応性化合物(好ましくは、更に可塑剤との組合せ)並びに重合開始剤を含有するゲル状の相溶性組成物を相溶組成物粘弾性体ともいう)。
<Compatible composition viscoelastic body suitable as composition X3>
From the same viewpoint as the compatible composition suitable as the composition X1, the compatible composition suitable as the composition X3 also improves the elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and the compatible composition at the time of curing. from the viewpoint of the compound A 1 or A 2 (preferably the compound A 1 or A 2 further provided with reactivity), and the group consisting of radical reactivity, cation reactivity, anion reactivity and moisture reactivity as the compound B It is preferable to contain at least one reactive compound having reactivity selected from (preferably further combined with a plasticizer) and a polymerization initiator (hereinafter, compound A 1 or A 2 (preferably, reactive is further provided with a compound A 1 or A 2 ), and a reactive compound (preferably is further combined with a plasticizer) and a gel-like compatible composition containing a polymerization initiator is also referred to as a compatible composition viscoelastic body).

相溶性組成物が相溶組成物粘弾性体である場合、粘弾性特性の観点から、媒質中の反応性化合物の含有割合は、好ましくは20~100質量%、より好ましくは25~95質量%、更に好ましくは30~90質量%である。 When the compatible composition is a compatible composition viscoelastic body, the content of the reactive compound in the medium is preferably 20 to 100% by mass, more preferably 25 to 95% by mass, from the viewpoint of viscoelastic properties. , more preferably 30 to 90% by mass.

相溶性組成物が相溶組成物粘弾性体である場合、加える重合開始剤は、少なくとも化合物A又はA及び媒質の合計に対して、好ましく1~10質量%、より好ましくは2~8質量%、更に好ましくは2.5~7.5質量%である。 When the compatible composition is a compatible composition viscoelastic body, the polymerization initiator to be added is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 8%, relative to the total of at least compound A 1 or A 2 and the medium. % by mass, more preferably 2.5 to 7.5% by mass.

組成物X1、X2又はX3における相溶組成物は、液状-ゲル状転移温度(Tc)を有するという性状を阻害しない範囲で、後述するような媒質以外の添加剤を任意に配合することができ、その場合の媒質以外の添加剤の配合量は、配合物の全質量中、好ましくは0~50質量%、より好ましくは0~30質量%である。 The compatible composition in the composition X1, X2 or X3 can optionally contain additives other than the medium as described later within a range that does not impair the property of having a liquid-gel state transition temperature (Tc). , In that case, the amount of additives other than the medium is preferably 0 to 50% by mass, more preferably 0 to 30% by mass, of the total mass of the compound.

相溶組成物は、相転移性及び/又は粘弾性特性を阻害しない範囲で、例えば、酸化防止剤、濡れ剤、界面活性剤、イオン性液体、消泡剤、紫外線吸収剤、光安定剤、無機、有機各種フィラー、ポリマー等の添加剤を含めることができる。 The compatible composition includes, for example, an antioxidant, a wetting agent, a surfactant, an ionic liquid, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a Additives such as inorganic and organic fillers and polymers can be included.

なお、相溶組成物中の添加剤とは、相溶組成物中に配合される添加剤と、相溶組成物と共に配合される添加剤を併せたものをいう。 The additive in the compatible composition is a combination of the additive blended in the compatible composition and the additive blended together with the compatible composition.

組成物X1、X2及びX3は、フィラーのような光を散乱させる化合物を添加させなければ、透明にすることができ、好ましくは0.3mmの厚みにおけるHAZE値1.0以下にすることができるので、光硬化性を利用する場合に効率のよい光照射をすることができる。 Compositions X1, X2 and X3 can be transparent without the addition of light-scattering compounds such as fillers, preferably with a HAZE value of 1.0 or less at a thickness of 0.3 mm. Therefore, efficient light irradiation can be performed when photocurability is utilized.

HAZE値は、相溶性組成物の全光線透過率における、拡散透過率の割合を表し、効率のよい光照射の観点から、HAZE値は、好ましくは0.7以下、より好ましくは0.5以下、更に好ましくは0.3以下、更に好ましくは0.2以下にするとよい。 The HAZE value represents the ratio of diffuse transmittance to the total light transmittance of the compatible composition, and from the viewpoint of efficient light irradiation, the HAZE value is preferably 0.7 or less, more preferably 0.5 or less. , more preferably 0.3 or less, more preferably 0.2 or less.

(組成物Y)
例えば、組成物X1において、相溶組成物を得るためのブロック共重合体化合物および媒質を選択すると、さらにゲル状体においてチキソトロピー性を有する相溶性組成物(以下、チキソトロピック相溶性組成物ともいう)を構成し、さらに光学透明性と両立するチキソトロピック相溶性組成物を構成することができる。
(Composition Y)
For example, in composition X1, when a block copolymer compound and a medium for obtaining a compatible composition are selected, a compatible composition having thixotropic properties in a gel form (hereinafter also referred to as a thixotropic compatible composition ) and can also constitute thixotropic compatible compositions that are compatible with optical clarity.

相溶性組成物が相溶性とチキソトロピー性を有するという観点から、相溶性組成物中、ブロック共重合体化合物100質量部に対して、媒質は好ましくは100~1000質量部、より好ましくは120~600質量部を配合する。 From the viewpoint that the compatible composition has compatibility and thixotropic properties, the medium is preferably 100 to 1000 parts by mass, more preferably 120 to 600 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the block copolymer compound in the compatible composition. Combine parts by mass.

(組成物Z)
Tcを有さないチキソトロピック性のゲル状樹脂組成物である組成物Zとしては、例えば、チキソトピック性を有しない液状媒質にレオロジー調整剤を添加してチキソトロピック性が付与された組成物が挙げられる。
(Composition Z)
Composition Z, which is a thixotropic gel-like resin composition having no Tc, is, for example, a composition imparted with thixotropic properties by adding a rheology modifier to a liquid medium having no thixotropic properties. mentioned.

組成物Zを調整する際に使用できる媒質としては、
水、アルコール、酢酸、ギ酸、アセトン、アセトニトリル、エチレングリコール、グリセリン等の水系媒質;
ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ヘキサン、酢酸エチル、炭酸ジエチル等の非水系媒質;及び
油脂、鉱油、石油系溶媒等の油系媒質等が挙げられ、
これらに反応性の低いレオロジー調整剤を添加してチキソトロピック性を付与して組成物Zとすることができる。
Media that can be used in preparing composition Z include:
Aqueous media such as water, alcohol, acetic acid, formic acid, acetone, acetonitrile, ethylene glycol, glycerin;
non-aqueous media such as benzene, toluene, xylene, diethyl ether, hexane, ethyl acetate and diethyl carbonate;
Composition Z can be obtained by adding a rheology modifier having low reactivity to these to impart thixotropic properties.

レオロジー調整剤としては、例えば、
シリカ、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、石綿粉、酸化銅、水酸化銅、酸化鉄、アルミナ、酸化亜鉛、酸化鉛、マグネシア、酸化スズ等の金属酸化物粒子、炭酸カルシウム、カーボン、シリカ、マイカ、スメクタイト、カーボンブラック等の無機微粒子;
ポリスチレンビーズ、ポリエチレン粒子、アクリル粒子、ポリシロキサン樹脂粒子、イソプレンゴム粒子、ポリアミド粒子等の有機微粒子;
ポリエチレン、ポリシロキサン、ポリアクリル、ポリアミド、ポリビニルアルコール、アルキル変性セルロース、ペプチド、ポリペプチド等の高分子化合物;及び
アマイドワックス、水添ひまし油誘導体、1,3,5-トリス(トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレート、変性ポリエステルポリオール、エチルセルロース、メチルセルロース、セルロース誘導体、有機ベントナイト等の有機化合物などを挙げることができる。
Examples of rheology modifiers include:
Silica, fumed silica, precipitated silica, asbestos powder, copper oxide, copper hydroxide, iron oxide, alumina, zinc oxide, lead oxide, magnesia, tin oxide and other metal oxide particles, calcium carbonate, carbon, silica, mica , smectite, inorganic fine particles such as carbon black;
Organic fine particles such as polystyrene beads, polyethylene particles, acrylic particles, polysiloxane resin particles, isoprene rubber particles, polyamide particles;
Polymer compounds such as polyethylene, polysiloxane, polyacryl, polyamide, polyvinyl alcohol, alkyl-modified cellulose, peptide, polypeptide; and amide wax, hydrogenated castor oil derivative, 1,3,5-tris(trialkoxysilylalkyl) isocyanate Organic compounds such as nurate, modified polyester polyol, ethyl cellulose, methyl cellulose, cellulose derivatives, and organic bentonite can be used.

レオロジー調整剤として、さらに具体的には、以下を挙げることができる:
特開2017-066278号公報に例示されるアマイドワックス、水添ひまし油、1,3,5-トリス(トリアルコキシシリルアルキル)イソシアヌレート等の有機化合物;ヒュームドシリカ、カーボンブラック等の無機化合物;
エチルセルロース、BYK-405、410、411、415、420、425、420、430、431等(ビック・ケミー株式会社)、Disparlonチクソトロピック剤シリーズ(楠本化成)等の市販品;
ポリシロキサン、ポリアクリル、ポリアミド、ポリビニルアルコール、アルキル変性セルロース、ペプチド、ポリペプチド、及びこれらのうち2つ以上の構造を有する共重合体;
ポリスチレンビーズ、ポリエチレン粒子、アクリル粒子、ポリシロキサン樹脂粒子、イソプレンゴム粒子、ポリアミド粒子等の有機微粒子;
特開2014-082328号公報に例示される酸化銅、水酸化銅、酸化鉄、アルミナ、酸化亜鉛、酸化鉛、マグネシア、酸化スズ等の金属酸化物粒子、炭酸カルシウム、カーボン、シリカ、マイカ、スメクタイト等の無機微粒子;及び
特開2014-019802号公報に例示される揺変剤とも呼ばれる、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ及び石綿粉等の無機揺変剤;有機ベントナイト、変性ポリエステルポリオール、脂肪酸アマイド等の有機揺変剤;水添ヒマシ油誘導体、脂肪酸アマイドワックス、ステアリル酸アルミニウム、ステアリル酸バリウム等。
Rheology modifiers may more specifically include:
Organic compounds such as amide wax, hydrogenated castor oil, and 1,3,5-tris (trialkoxysilylalkyl) isocyanurate exemplified in JP-A-2017-066278; inorganic compounds such as fumed silica and carbon black;
Commercial products such as ethyl cellulose, BYK-405, 410, 411, 415, 420, 425, 420, 430, 431 (Bic Chemie Co., Ltd.), Disparlon thixotropic agent series (Kusumoto Kasei);
Polysiloxane, polyacryl, polyamide, polyvinyl alcohol, alkyl-modified cellulose, peptide, polypeptide, and copolymers having two or more structures thereof;
Organic fine particles such as polystyrene beads, polyethylene particles, acrylic particles, polysiloxane resin particles, isoprene rubber particles, polyamide particles;
Metal oxide particles such as copper oxide, copper hydroxide, iron oxide, alumina, zinc oxide, lead oxide, magnesia, tin oxide, calcium carbonate, carbon, silica, mica, smectite, which are exemplified in JP-A-2014-082328 and inorganic thixotropic agents such as fumed silica, precipitated silica and asbestos powder, also called thixotropic agents exemplified in JP-A-2014-019802; organic bentonites, modified polyester polyols, fatty acid amides, etc. organic thixotropic agents; hydrogenated castor oil derivatives, fatty acid amide waxes, aluminum stearate, barium stearate and the like.

組成物Zにおけるチキソトピック性を有しない液状媒質としては、組成物X、Yで挙げた好適な媒質が使用できる。 As the non-thixopic liquid medium in composition Z, the suitable mediums listed for compositions X and Y can be used.

組成物Zにおけるレオロジー調整剤としては、
シリカ、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、アマイドワックス、水添ひまし油誘導体、セルロース誘導体が好ましく、
アマイドワックス、水添ひまし油誘導体、セルロース誘導体がより好ましく、
アマイドワックスが更に好ましい。
As rheology modifiers in composition Z,
Silica, fumed silica, precipitated silica, amide wax, hydrogenated castor oil derivatives, and cellulose derivatives are preferred.
Amide wax, hydrogenated castor oil derivatives, and cellulose derivatives are more preferred.
Amide waxes are more preferred.

なお、チキソトピック性を有しない液状媒質にレオロジー調整剤を添加してチキソトロピック性が付与された組成物では、液状媒質中のレオロジー調整剤の配列の規則性が温度によっても急激に転移する場合は、Tcを有するに至る場合があり、このような組成物は組成物Yに属することになる。 In addition, in a composition in which a rheology modifier is added to a liquid medium that does not have thixotropic properties to impart thixotropic properties, the regularity of the arrangement of the rheology modifier in the liquid medium may change rapidly even with temperature. may lead to having a Tc and such compositions would belong to composition Y.

(5)より好適なゲル状樹脂組成物
本発明1及び2に適用されるゲル状樹脂組成物は、例えば、シート状に成形して、シート状ゲル状樹脂組成物を塗膜してから、湿気、熱又は光によって適度に硬化することで、保護膜形成性及び剥離性が向上する。
(5) A more suitable gel resin composition The gel resin composition to be applied to the present inventions 1 and 2 is, for example, molded into a sheet, coated with the sheet gel resin composition, Appropriate curing by moisture, heat or light improves protective film formation and releasability.

例えば、組成物X1、X2及びX3並びに組成物Yにおける化合物A及び化合物Bについていえば、以下のような態様が好適である。 For example, regarding the compounds A and B in the compositions X1, X2 and X3 and the composition Y, the following aspects are preferable.

化合物Aは、保護膜形成性及び剥離性の観点から、重合体ブロックaと重合体ブロックbとのブロック共重合体の末端又は側鎖に、ラジカル反応性基、カチオン反応性基、アニオン反応性基及び湿気反応性基からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性官能基を有することによって反応性がさらに付与されていることが好ましい。 From the viewpoint of protective film-forming property and releasability, compound A has a radical-reactive group, a cation-reactive group, and an anion-reactive group at the end or side chain of the block copolymer of polymer block a and polymer block b. Reactivity is preferably further imparted by having at least one reactive functional group selected from the group consisting of groups and moisture-reactive groups.

なお、本明細書では空気中の水分(湿気)によって重合反応する反応性基のことを湿気反応性基といい、硬化性組成物中の湿気反応性基の重合反応による硬化性組成物の硬化を湿硬化という。 In this specification, a reactive group that undergoes a polymerization reaction with moisture (humidity) in the air is referred to as a moisture-reactive group, and curing of the curable composition by the polymerization reaction of the moisture-reactive group in the curable composition is called wet curing.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上するため、前述のラジカル反応性基としては、
好ましくは、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、ウレタン(メタ)アクリレート、ビニル基、ビニルエーテル、アリルエーテル、マレイミド及び無水マレイン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の、
より好ましくは、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ウレタン(メタ)アクリレート及びビニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種の、
更に好ましくは、(メタ)アクリレート及びウレタン(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種のラジカル反応性基である。
From the viewpoint of protective film formation and releasability, in order to improve the elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and the compatible composition at the time of curing, the above-mentioned radical-reactive groups include:
Preferably, at least one selected from the group consisting of (meth)acrylate, (meth)acrylamide, (meth)acrylonitrile, urethane (meth)acrylate, vinyl group, vinyl ether, allyl ether, maleimide and maleic anhydride,
More preferably, at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates, (meth)acrylamides, urethane (meth)acrylates and vinyl ethers,
More preferably, it is at least one radical reactive group selected from the group consisting of (meth)acrylates and urethane (meth)acrylates.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上するため、前述のカチオン反応性基としては、
好ましくは、エポキシ、オキセタン及びビニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種のカチオン反応性基である。
From the viewpoint of protective film formation and releasability, in order to improve the elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and the compatible composition at the time of curing, the above-mentioned cation-reactive groups include:
Preferably, it is at least one cationic reactive group selected from the group consisting of epoxy, oxetane and vinyl ether.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上するため、前述のアニオン反応性基としては、好ましくはエポキシ、オキセタン及びビニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種のアニオン反応性基である。 From the viewpoint of protective film formation and releasability, in order to improve the elasticity and adhesiveness of the gel-type compatible composition and the compatible composition at the time of curing, the above-described anion-reactive groups are preferably epoxy and oxetane. and at least one anion-reactive group selected from the group consisting of vinyl ethers.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上するため、前述の湿気反応性基としては、好ましくはイソシアネート基及び/又はアルコキシシリル基である。 From the viewpoint of protective film formability and releasability, in order to improve the elasticity and adhesiveness of the gel compatible composition and the compatible composition at the time of curing, the above-mentioned moisture-reactive groups are preferably isocyanate groups and /or an alkoxysilyl group.

化合物Bは、保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上するため、ラジカル反応性、カチオン反応性、アニオン反応性及び湿気反応性からなる群から選ばれる少なくとも1種の反応性を有する反応性化合物を使用することが好ましい。 From the viewpoint of protective film formation and releasability, the compound B is radical-reactive, cationic-reactive, and anionic-reactive, in order to improve the elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and the compatible composition when cured. It is preferred to use a reactive compound having at least one reactivity selected from the group consisting of moisture reactivity and moisture reactivity.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上するため、化合物Bにおけるラジカル反応性化合物としては、
好ましくは、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、ウレタン(メタ)アクリレート、ビニル基、ビニルエーテル、アリルエーテル、マレイミド及び無水マレイン酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の、
より好ましくは、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ウレタン(メタ)アクリレート及びビニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種の、
更に好ましくは、(メタ)アクリレート及びウレタン(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも1種のラジカル反応性基(ラジカル反応の速度と安定性の観点からは好ましくは2官能以上の多官能)を有する反応性化合物である。
From the viewpoint of protective film formability and releasability, in order to improve the elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and the compatible composition at the time of curing, the radical-reactive compound in compound B is
Preferably, at least one selected from the group consisting of (meth)acrylate, (meth)acrylamide, (meth)acrylonitrile, urethane (meth)acrylate, vinyl group, vinyl ether, allyl ether, maleimide and maleic anhydride,
More preferably, at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates, (meth)acrylamides, urethane (meth)acrylates and vinyl ethers,
More preferably, at least one radical-reactive group selected from the group consisting of (meth)acrylates and urethane (meth)acrylates (preferably bifunctional or higher polyfunctional from the viewpoint of radical reaction speed and stability) It is a reactive compound with

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の弾性と粘着性を向上するため、化合物Bにおけるカチオン反応性化合物としては、
好ましくは、エポキシ、オキセタン及びビニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種のカチオン反応性を有する反応性化合物である。
From the viewpoint of protective film formability and releasability, in order to improve the elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and the compatible composition at the time of curing, the cation-reactive compound in compound B is:
Preferably, it is at least one cationic reactive compound selected from the group consisting of epoxy, oxetane and vinyl ether.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の強度、弾性及び粘着性を向上するため、アニオン反応性化合物としては、好ましくはエポキシ、オキセタン及びビニルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種のアニオン反応性化合物である。 From the viewpoint of protective film formability and releasability, the anion-reactive compound is preferably epoxy or oxetane in order to improve the strength, elasticity, and adhesiveness of the gel-type compatible composition and the compatible composition when cured. and at least one anion-reactive compound selected from the group consisting of vinyl ethers.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の強度、弾性及び粘着性を向上するため、化合物Bにおける湿気反応性化合物としては、好ましくはイソシアネート基及び/又はアルコキシシラン基である。 From the viewpoint of protective film formability and releasability, the moisture-reactive compound in compound B is preferably They are isocyanate groups and/or alkoxysilane groups.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の強度、弾性及び粘着性を向上するため、好ましくは、
ラジカル反応性基を有する化合物Aとラジカル反応性化合物である化合物Bとの組合せ、
カチオン反応性基を有する化合物Aとカチオン反応性化合物である化合物Bとの組合せ、
アニオン反応性基を有する化合物Aとアニオン反応性化合物である化合物Bとの組合せ、及び、
湿気反応性基を有する化合物Aと湿気反応性化合物である化合物Bとの組合せからなる群から選ばれる少なくとも1の組合せによって相溶性組成物を構成する。
From the viewpoint of protective film formability and releasability, in order to improve the strength, elasticity and adhesiveness of the gel compatible composition and the compatible composition at the time of curing, preferably:
combination of compound A having a radical reactive group and compound B which is a radical reactive compound;
a combination of compound A having a cation-reactive group and compound B, which is a cation-reactive compound;
A combination of a compound A having an anion-reactive group and a compound B that is an anion-reactive compound, and
A compatible composition is composed of at least one combination selected from the group consisting of compound A having a moisture-reactive group and compound B that is a moisture-reactive compound.

保護膜形成性及び剥離性の観点から、ゲル状の相溶組成物及び硬化時の相溶組成物の強度、弾性及び粘着性を向上するため、相溶組成物は、反応性化合物の種類に応じて適切な重合開始剤を含有していることが好ましい。 From the viewpoint of protective film formation and releasability, in order to improve the strength, elasticity and adhesiveness of the gel-like compatible composition and the compatible composition at the time of curing, the compatible composition is selected according to the type of reactive compound. It is preferable to contain an appropriate polymerization initiator accordingly.

反応性化合物がラジカル反応性化合物の場合は、重合開始剤としては、
好ましくは、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、ベンゾフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシド、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)ブタノン-1、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-メチルチオ]フェニル]-2-モルホリノプロパンー1-オン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、2-ヒドロキシ-2-メチル-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノールオリゴマー、2-ヒドロキシ-2-メチル-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノールオリゴマー、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパノン、イソプロピルチオキサントン、o-ベンゾイル安息香酸メチル、[4-(メチルフェニルチオ)フェニル]フェニルメタン、2,4-ジエチルチオキサントン、2ークロロチオキサントン、エチルアントラキノン、ベンゾフェノンアンモニウム塩、チオキサントンアンモニウム塩、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、4-メチルベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、1,4ジベンゾイルベンゼン、10-ブチル-2-クロロアクリドン、2,2’ビス(o-クロロフェニル)4,5,4’,5’-テトラキス(3,4,5-トリメトキシフェニル)1,2’-ビイミダゾール、2,2’ビス(o-クロロフェニル)4,5,4’,5’-テトラフェニル-1,2’-ビイミダゾール、2-ベンゾイルナフタレン、4-ベンゾイル ビフェニル、4-ベンゾイルジフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)-フェニル)チタニウム、o-メチルベンゾイルベンゾエート、p-ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p-ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエチルエステル、活性ターシャリアミン、カルバゾール・フェノン系光反応開始剤化合物、アクリジン系光反応開始剤化合物、及び、トリアジン系光反応開始剤化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物であり、
より好ましくは、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン及び/又は2,4,6-トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシドである。
When the reactive compound is a radical reactive compound, the polymerization initiator is
preferably 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, benzophenone, 2,2-dimethoxy -1,2-diphenylethan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4 -morpholinophenyl)butanone-1,2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 2-methyl-1-[4-methylthio]phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin isopropyl ether, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, 2-hydroxy-2-methyl-[4-(1-methylvinyl)phenyl] propanol oligomer, 2-hydroxy-2-methyl-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanol oligomer, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone, isopropylthioxanthone, methyl o-benzoylbenzoate , [4-(methylphenylthio)phenyl]phenylmethane, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, ethylanthraquinone, benzophenone ammonium salt, thioxanthone ammonium salt, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4 ,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4,4′- bisdiethylaminobenzophenone, 1,4 dibenzoylbenzene, 10-butyl-2-chloroacridone, 2,2'bis(o-chlorophenyl)4,5,4',5'-tetrakis(3,4,5-tri methoxyphenyl)1,2'-biimidazole, 2,2'bis(o-chlorophenyl)4,5,4',5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2-benzoylnaphthalene, 4-benzoyl biphenyl, 4-benzoyldiphenyl ether, acrylated benzophenone, bis(η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)-bis( 2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl)-phenyl) titanium, o-methylbenzoyl benzoate, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid isoamylethyl ester, active tertiary at least one compound selected from the group consisting of amines, carbazole-phenone photoinitiator compounds, acridine photoinitiator compounds, and triazine photoinitiator compounds;
More preferred are 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and/or 2,4,6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide.

反応性化合物がカチオン反応性化合物の場合は、重合開始剤としては、
好ましくはアリールジアゾニウム塩、ジアリールハロニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリホスホニウム塩、鉄アレン錯体、チタノセン錯体及びアリールシラノールアルミニウム錯体からなる群から選ばれる少なくとも1種のイオン性光酸発生剤化合物、並びに/又は、ニトロベンジルエステル、スルホン酸誘導体、燐酸エステル、フェノールスルホン酸エステル、ジアゾナフトキノン及びN-ヒドロキシイミドスルホナートからなる群から選ばれる少なくとも1種の非イオン性光酸発生剤化合物である。
When the reactive compound is a cationic reactive compound, the polymerization initiator is
at least one ionic photoacid generator compound preferably selected from the group consisting of aryldiazonium salts, diarylhalonium salts, triarylsulfonium salts, triphosphonium salts, iron allene complexes, titanocene complexes and arylsilanol aluminum complexes, and or at least one nonionic photoacid generator compound selected from the group consisting of nitrobenzyl esters, sulfonic acid derivatives, phosphoric esters, phenolsulfonic acid esters, diazonaphthoquinones and N-hydroxyimidosulfonates.

反応性化合物がアニオン反応性化合物の場合は、重合開始剤としては、
好ましくは、1,10-ジアミノデカン、4,4’-トリメチレンジピペラジン、カルバメート類化合物及びその誘導体、コバルト-アミン錯体類化合物、アミノオキシイミノ類化合物及びアンモニウムボレート類化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である。
When the reactive compound is an anion-reactive compound, the polymerization initiator is
Preferably, it is selected from the group consisting of 1,10-diaminodecane, 4,4′-trimethylenedipiperazine, carbamate compounds and derivatives thereof, cobalt-amine complex compounds, aminooxyimino compounds and ammonium borate compounds. at least one compound;

反応性化合物が湿気反応性化合物の場合は、重合開始剤としては、
好ましくは、シラノール縮合触媒としてテトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、チタンテトラアセチルアセトナート及びビスアセチルアセトナトジイソプロポキシチタンからなる群から選ばれる少なくとも1種のチタン化合物、
ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエート、ジブチル錫フタレート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジエチルヘキサノレート、ジブチル錫ジメチルマレエート、ジブチル錫ジエチルマレエート、ジブチル錫ジブチルマレエート、ジブチル錫ジオクチルマレエート、ジブチル錫ジトリデシルマレエート、ジブチル錫ジベンジルマレエート、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジエチルマレエート、ジオクチル錫ジオクチルマレエート、ジブチル錫ジメトキサイド、ジブチル錫ジノニルフェノキサイド、ジブテニル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、ジブチル錫ジエチルアセトアセトナート、ジブチル錫オキサイドとシリケート化合物との反応物及びジブチル錫オキサイドとフタル酸エステルとの反応物からなる群から選ばれる少なくとも1種の4価の有機錫化合物、
アルミニウムトリスアセチルアセトナート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテートからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機アルミニウム化合物、
ジルコニウムテトラアセチルアセトナートなどのジルコニウム化合物、
アミン系化合物、酸性リン酸エステル、酸性リン酸エステルとアミン系化合物との反応物、飽和または不飽和の多価カルボン酸またはその酸無水物、カルボン酸化合物とアミン系化合物との塩など反応物、オクチル酸鉛、並びに、
イソシアネート反応触媒からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である。
When the reactive compound is a moisture-reactive compound, the polymerization initiator is
Preferably, at least one titanium compound selected from the group consisting of tetrabutyl titanate, tetrapropyl titanate, titanium tetraacetylacetonate and bisacetylacetonato diisopropoxytitanium as a silanol condensation catalyst;
Dibutyltin dilaurate, dibutyltin maleate, dibutyltin phthalate, dibutyltin dioctate, dibutyltin diethylhexanolate, dibutyltin dimethyl maleate, dibutyltin diethyl maleate, dibutyltin dibutyl maleate, dibutyltin dioctyl maleate, dibutyltin ditridecyl Maleate, dibutyltin dibenzyl maleate, dibutyltin diacetate, dioctyltin diethyl maleate, dioctyltin dioctyl maleate, dibutyltin dimethoxide, dibutyltin dinonylphenoxide, dibutenyltin oxide, dibutyltin diacetylacetonate, dibutyltin at least one tetravalent organotin compound selected from the group consisting of diethylacetoacetonate, a reaction product of dibutyltin oxide and a silicate compound, and a reaction product of dibutyltin oxide and a phthalate;
at least one organoaluminum compound selected from the group consisting of aluminum trisacetylacetonate, aluminum trisethylacetoacetate and diisopropoxyaluminumethylacetoacetate;
zirconium compounds such as zirconium tetraacetylacetonate,
Reactants such as amine compounds, acidic phosphoric esters, reaction products of acidic phosphoric esters and amine compounds, saturated or unsaturated polycarboxylic acids or their acid anhydrides, salts of carboxylic acid compounds and amine compounds, etc. , lead octylate, and
It is at least one compound selected from the group consisting of isocyanate reaction catalysts.

イソシアネート反応触媒としては、
好ましくは、トリエチルアミン、ベンジルメチルアミン、N,N´,N´-トリメチルアミノエチルピペラジン、トリエチレンジアミン及びジメチルエタノールアミンからなる群から選ばれる少なくとも1種のアミン類化合物、
トリエチルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン類化合物、
ジブチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、錫オクトエート及びジブチル錫ジエチルヘキサノレートからなる群から選ばれる少なくとも1種の有機スズ化合物、
ジ(2-エチルヘキサン酸)鉛、ナフテン酸鉛、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、並びに、ナフテン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の化合物である。
As an isocyanate reaction catalyst,
Preferably, at least one amine compound selected from the group consisting of triethylamine, benzylmethylamine, N,N',N'-trimethylaminoethylpiperazine, triethylenediamine and dimethylethanolamine,
trialkylphosphine compounds such as triethylphosphine,
at least one organotin compound selected from the group consisting of dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, tin octoate and dibutyltin diethylhexanolate;
It is at least one compound selected from lead di(2-ethylhexanoate), lead naphthenate, copper naphthenate, cobalt naphthenate, and zinc naphthenate.

相溶性組成物が硬化性である場合、耐久性、及び応力緩和性の観点から、化合物B中の反応性化合物の含有割合は、好ましくは20~100質量%、より好ましくは25~95質量%、更に好ましくは30~90質量%である。 When the compatible composition is curable, the content of the reactive compound in compound B is preferably 20 to 100% by mass, more preferably 25 to 95% by mass, from the viewpoint of durability and stress relaxation. , more preferably 30 to 90% by mass.

相溶性組成物が硬化性である場合、加える重合開始剤は、少なくともブロック共重合体化合物及び媒質の合計に対して、好ましく1~10質量%、より好ましくは2~8質量%、更に好ましくは2.5~7.5質量%である。 When the compatible composition is curable, the polymerization initiator to be added is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 2 to 8% by mass, and still more preferably 2.5 to 7.5% by mass.

湿気硬化する化合物としては、例えば、イソシアネート基、アルコキシシリル基、又はケイ素原子に結合した水酸基若しくは加水分解性基を有しシロキサン結合を形成することにより架橋し得る反応性ケイ素基等の湿気反応性基を有する有機化合物が挙げられ、湿気反応性基の加水分解反応等によって架橋することで硬化物が得られる。 Moisture-curable compounds include, for example, isocyanate groups, alkoxysilyl groups, or reactive silicon groups having hydroxyl groups or hydrolyzable groups bonded to silicon atoms and capable of cross-linking by forming siloxane bonds. A cured product can be obtained by cross-linking through a hydrolysis reaction or the like of a moisture-reactive group.

熱硬化する成分化合物としては、硬化剤及び/又は熱重合開始剤の存在下で加熱することにより反応するエポキシ系、オキセタン系、ビニルエーテル系、フェノール系、熱硬性ポリウレタン系、不飽和ポリエステル系、(メタ)アクリル酸エステル化合物、(メタ)アクリルアミド系、(メタ)アクリロニトリル系、ビニル系化合物、アリルエーテル系、マレイミド及び無水マレイン酸、エポキシアリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等のモノマー及び/又はオリゴマーが挙げられる。 Examples of thermosetting component compounds include epoxy-based, oxetane-based, vinyl ether-based, phenol-based, thermosetting polyurethane-based, unsaturated polyester-based, ( Monomers and/or oligomers such as meth)acrylate compounds, (meth)acrylamides, (meth)acrylonitrile, vinyl compounds, allyl ethers, maleimide and maleic anhydride, epoxy arylates, urethane acrylates, and polyester acrylates. be done.

光硬化する成分化合物としては、例えば光重合開始剤及び/又は光増感剤の存在下で紫外線照射により反応するエポキシ系、オキセタン系、ビニルエーテル系、(メタ)アクリル酸エステル化合物、(メタ)アクリルアミド系、(メタ)アクリロニトリル系、ビニル系、ビニルエーテル系、アリルエーテル系、マレイミド及び無水マレイン酸、エポキシアリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等のモノマー及び/又はオリゴマーが挙げられる。 Examples of photocurable component compounds include epoxy-based, oxetane-based, vinyl ether-based, (meth)acrylic acid ester compounds, and (meth)acrylamides that react with ultraviolet irradiation in the presence of a photopolymerization initiator and/or a photosensitizer. (meth)acrylonitrile-based, vinyl-based, vinyl ether-based, allyl ether-based, maleimide and maleic anhydride, epoxy arylates, urethane acrylates, polyester acrylates and other monomers and/or oligomers.

ゲル状樹脂組成物の硬化体は、保護膜形成の観点から、弾性率の範囲が、25℃おいて、好ましくは0.1~10000000kPa、より好ましくは1~1000000kPa、更に好ましくは10~100000kPaである。 From the viewpoint of forming a protective film, the cured product of the gel resin composition preferably has an elastic modulus range of 0.1 to 10,000,000 kPa, more preferably 1 to 1,000,000 kPa, and still more preferably 10 to 100,000 kPa at 25°C. be.

上述したようにゲル状樹脂組成物は、部材1及び部材2の貼合材として使用する際にシート状であることが好ましいので、容易にシート化できるという観点から組成物X1、X2又はX3であることが好ましい。 As described above, the gel resin composition is preferably in the form of a sheet when used as a bonding material for the member 1 and the member 2. Therefore, the composition X1, X2 or X3 can be easily formed into a sheet. Preferably.

組成物X1、X2、X3又はYは、保護膜形成性及び剥離性の観点から、好ましくは湿気、熱又は光等により、より好ましくは熱又は光により、更に好ましくは光により硬化する硬化性を有し、硬化後の組成物が特開2017-066368段落0062に説明される相溶組成物粘弾性体であることが好ましい。 The composition X1, X2, X3 or Y preferably has a curability to be cured by moisture, heat or light, more preferably by heat or light, still more preferably by light, from the viewpoint of protective film-forming property and peelability. It is preferable that the composition after curing is a compatible composition viscoelastic body described in paragraph 0062 of JP-A-2017-066368.

<ゲル状樹脂組成物の実施態様例>
(1)組成物X1の実施態様例
表3及び4を参照して説明する。
化合物a1を100g及び化合物b1を400g評量して、容器(材質SUS316製、容量2000ml)に充填し、80℃、大気圧下で、スリーワンモーター(新東科学社製)を使用して200回転/分で360分間攪拌して、実施態様例1-1の相溶組成物を得ることができる。
<Embodiment Example of Gel Resin Composition>
(1) Embodiment Examples of Composition X1 Description will be made with reference to Tables 3 and 4.
100 g of compound a1 and 400 g of compound b1 are weighed, filled in a container (made of SUS316, capacity 2000 ml), and rotated 200 times at 80° C. under atmospheric pressure using a three-one motor (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.). /min for 360 minutes to obtain the compatible composition of Embodiment 1-1.

化合物a1及び化合物b1を、表3及び4記載の化合物に置き換えて、表3及び4記載の配合で、実施態様例1-1と同様にして実施例1-2~23の相溶組成物を得ることできる。 Compound a1 and compound b1 were replaced with the compounds shown in Tables 3 and 4, and the formulations shown in Tables 3 and 4 were used to prepare compatible compositions of Examples 1-2 to 1-23 in the same manner as in Embodiment Example 1-1. can get.

〈組成物X1の化合物原料〉
(1-1)化合物A
重合体ブロックaがメチルメタクリレートで構成され、
重合体ブロックbがブチルアクリレートで構成された、
重合体ブロックa-重合体ブロックb-重合体ブロックaのトリブロック共重合体化合物及び重合体ブロックa-重合体ブロックbのジブロック共重合体化合物を使用した。
<Compound raw material of composition X1>
(1-1) Compound A
polymer block a is composed of methyl methacrylate,
polymer block b is composed of butyl acrylate,
A triblock copolymer compound of polymer block a—polymer block b—polymer block a and a diblock copolymer compound of polymer block a—polymer block b were used.

ブチルアクリレートの重合物(重合物a)のガラス転移温度は-25℃、
メチルメタクリレートの重合物(重合物b)のガラス転移温度は140℃である。
The glass transition temperature of the butyl acrylate polymer (polymer a) is −25° C.,
The glass transition temperature of the methyl methacrylate polymer (polymer b) is 140°C.

化合物a1:KURARITY LA2140(登録商標、クラレ社)
化合物a2:KURARITY LA2250(登録商標、クラレ社)
化合物a3:KURARITY LA2330(登録商標、クラレ社)
化合物a4:KURARITY LA4285(登録商標、クラレ社)
Compound a1: KURARITY LA2140 (registered trademark, Kuraray Co., Ltd.)
Compound a2: KURARITY LA2250 (registered trademark, Kuraray Co., Ltd.)
Compound a3: KURARITY LA2330 (registered trademark, Kuraray Co., Ltd.)
Compound a4: KURARITY LA4285 (registered trademark, Kuraray Co., Ltd.)

重合体ブロックa及び重合体ブロックbの合計質量中、重合体ブロックaが、
LA2140では約20質量%、LA2250では約30質量%、
LA2330では約20質量%、LA4285は約50質量%、
LA1892では約50質量%、LA1114は約10質量%であり、
LA2140、LA2250、LA2330、LA4285はトリブロック体、
後述するLA1892、LA1114はジブロック体で、
分子量はLA2330>LA2140=LA2250=LA4285=LA1114=LA1892である。
In the total mass of polymer block a and polymer block b, polymer block a
About 20% by mass for LA2140, about 30% by mass for LA2250,
About 20% by mass for LA2330, about 50% by mass for LA4285,
LA1892 is about 50% by mass, LA1114 is about 10% by mass,
LA2140, LA2250, LA2330 and LA4285 are triblocks;
LA1892 and LA1114 described later are diblock bodies,
The molecular weights are LA2330>LA2140=LA2250=LA4285=LA1114=LA1892.

(1-2)化合物B
化合物b1:イソデシルアクリレート(サートマー社製、SR395)
化合物b2:4-tert-ブチルシクロヘキシルアクリレート(Rahn社製、genomer1119)
化合物b3:4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製、4-HBA)
化合物b4:ジイソノニルシクロヘキシルジカルボキシレート(BASF社製、DINCH)
化合物b5:安息香酸アルキル(アルキルの炭素原子数12~16)(Lipo Chemicals社製、Liponate NEB)
化合物b6:水添ロジンエステル(荒川化学工業社製、KE-311)
化合物b7:エポキシ系エステル(4,5-エポキシ-1,2-シクロヘキサンジカルボン酸ビス(2-エチルヘキシル))(DIC社製、W150)
化合物b8:不均化ロジンエステル(荒川化学社製、ME-D)
化合物b9:トリエチレングリコール ビス(2-エチルヘキサノエート)(Proviron社製、Proviplast1783)
(1-2) Compound B
Compound b1: isodecyl acrylate (SR395, manufactured by Sartomer)
Compound b2: 4-tert-butylcyclohexyl acrylate (manufactured by Rahn, genomer1119)
Compound b3: 4-hydroxybutyl acrylate (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd., 4-HBA)
Compound b4: diisononylcyclohexyl dicarboxylate (manufactured by BASF, DINCH)
Compound b5: alkyl benzoate (alkyl has 12 to 16 carbon atoms) (Liponate NEB, manufactured by Lipo Chemicals)
Compound b6: hydrogenated rosin ester (KE-311, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.)
Compound b7: Epoxy ester (4,5-epoxy-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid bis(2-ethylhexyl)) (manufactured by DIC, W150)
Compound b8: Disproportionated rosin ester (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd., ME-D)
Compound b9: triethylene glycol bis(2-ethylhexanoate) (manufactured by Proviron, Proviplast 1783)

(1-3)化合物B1(ラジカル反応性2官能化合物及び多官能化合物)
化合物b1-1:PPGウレタンアクリレート(KSM社製、UA10000B)
化合物b1-2:脂肪族ウレタンアクリレート(ダイセル・オルネクス社製、EB270)
化合物b1-3:1.9-ノナンジオールジアクリレート(共栄社化学社製、1,9-NDA)
化合物b1-4:ポリブタジエンウレタンアクリレート(日本曹達、TE-2000)
(1-3) Compound B1 (radical-reactive bifunctional compound and polyfunctional compound)
Compound b1-1: PPG urethane acrylate (UA10000B manufactured by KSM)
Compound b1-2: Aliphatic urethane acrylate (EB270, manufactured by Daicel Allnex)
Compound b1-3: 1.9-nonanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., 1,9-NDA)
Compound b1-4: polybutadiene urethane acrylate (Nippon Soda, TE-2000)

(1-4)化合物B2(ラジカル反応性モノマー化合物)
化合物b2-1:4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製、4-HBA)
化合物b2-2:ラウリルアクリレート(共栄社化学社製、LA)
化合物b2-3:イソデシルアクリレート(サートマー社製、SR395)
化合物b2-4:イソボルニルアクリレート(日本化薬社製、RM-1002)
化合物b2-5:4-tert-ブチルシクロヘキシルアクリレート(Rahn社製genomer1119)
化合物b2-6:ペンタメチルピペリジルメタクリレ-ト(日立化成社製、FA-711MM)
(1-4) Compound B2 (radical-reactive monomer compound)
Compound b2-1: 4-hydroxybutyl acrylate (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd., 4-HBA)
Compound b2-2: Lauryl acrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., LA)
Compound b2-3: isodecyl acrylate (Sartomer, SR395)
Compound b2-4: isobornyl acrylate (manufactured by Nippon Kayaku, RM-1002)
Compound b2-5: 4-tert-butylcyclohexyl acrylate (genomer 1119 manufactured by Rahn)
Compound b2-6: Pentamethylpiperidyl methacrylate (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., FA-711MM)

(1-5)その他の化合物
化合物r1:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(BASF社製、I-184)
化合物r2:2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルーフォスフィンオキサイド(BASF社製、I-TPO)
(1-5) Other compounds Compound r1: 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (manufactured by BASF, I-184)
Compound r2: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (manufactured by BASF, I-TPO)

Figure 0007178654000003
Figure 0007178654000003

Figure 0007178654000004
Figure 0007178654000004

(2)組成物X2の実施態様例
表5及び6を参照して説明する。
化合物a1を100g及び化合物b1を200g評量して、容器(材質SUS316製、容量2000ml)に充填し、80℃、大気圧下で、スリーワンモーター(新東科学社製)を使用して200回転/分で360分間攪拌して、実施態様例2-1の相溶組成物を得ることができる。
(2) Embodiment Examples of Composition X2 Description will be made with reference to Tables 5 and 6.
100 g of compound a1 and 200 g of compound b1 are weighed, filled in a container (made of SUS316, capacity 2000 ml), and rotated 200 times at 80 ° C. under atmospheric pressure using a three-one motor (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.). /min for 360 minutes to obtain the compatible composition of Embodiment 2-1.

実施態様例2-1における化合物a1及び化合物b1を、表5及び6記載の化合物に置き換えて、表5及び6記載の配合で、実施例態様例2-1と同様にして実施態様例2-2~14を得ることができる。 Compound a1 and compound b1 in Embodiment Example 2-1 are replaced with the compounds described in Tables 5 and 6, and the formulations described in Tables 5 and 6 are used in the same manner as in Example Embodiment 2-1. Embodiment Example 2- 2-14 can be obtained.

〈組成物X2の化合物原料〉
(2-1)化合物A
重合体ブロックaがメチルメタクリレート単位(MMA)で構成され、
重合体ブロックbがn-ブチルアクリレート単位(nBA)で構成され、
幹が重合体ブロックbで、枝が重合体ブロックaであるグラフト共重合体化合物を使用した。
<Compound raw material of composition X2>
(2-1) Compound A
polymer block a is composed of methyl methacrylate units (MMA),
polymer block b is composed of n-butyl acrylate units (nBA),
A graft copolymer compound was used in which the trunk was polymer block b and the branches were polymer block a.

メチルメタクリレートの重合物(重合物a)のガラス転移温度は140℃、
n-ブチルアクリレートの重合物(重合物b)のガラス転移温度が-25℃である。
The glass transition temperature of the methyl methacrylate polymer (polymer a) is 140°C.
The glass transition temperature of the n-butyl acrylate polymer (polymer b) is -25°C.

化合物a-1:NB5015(三菱レイヨン社)
化合物a-2:NB5065(三菱レイヨン社)
化合物a-3:NB5066(三菱レイヨン社)
化合物a-4:NB5073(三菱レイヨン社)
化合物a-5:NB5088(三菱レイヨン社)
Compound a-1: NB5015 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
Compound a-2: NB5065 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
Compound a-3: NB5066 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
Compound a-4: NB5073 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
Compound a-5: NB5088 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)

(2-2)化合物B
化合物b-1:ライトアクリレートLA(ラウリルアクリレート、共栄社化学社)
化合物b-2:SR395(イソデシルアクリレート、サートマー社)
化合物b-3:Proviplast1783(トリエチレングリコールビス(2-エチルヘキサノエート、Proviron社)
化合物b-4:DINCH(ジイソノニルシクロヘキシルジカルボキシレート、BASF社)
化合物b1-1:水添ロジンエステル(荒川化学工業社製、KE-311)
化合物b1-2:DINCH(ジイソノニルシクロヘキシルジカルボキシレート、BASF社)
化合物b2-1:TE-2000(ポリブタジエンウレタンアクリレート、日本曹達社)
化合物b2-2:脂肪族ウレタンアクリレート(ダイセル・オルネクス社製、EB270)
化合物b2-3:PPGウレタンアクリレート(KSM社製、UA10000B)
化合物b3-1:ライトアクリレートLA(ラウリルアクリレート、共栄社化学社)
化合物b3-2:ペンタメチルピペリジルメタクリレ-ト(日立化成社製、FA-711MM)
化合物b3-3:イソボルニルアクリレート(日本化薬社製、RM-1002)
(2-2) Compound B
Compound b-1: Light acrylate LA (lauryl acrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Compound b-2: SR395 (isodecyl acrylate, Sartomer)
Compound b-3: Proviplast 1783 (triethylene glycol bis(2-ethylhexanoate, Proviron)
Compound b-4: DINCH (diisononylcyclohexyl dicarboxylate, BASF)
Compound b1-1: Hydrogenated rosin ester (KE-311, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.)
Compound b1-2: DINCH (diisononylcyclohexyl dicarboxylate, BASF)
Compound b2-1: TE-2000 (polybutadiene urethane acrylate, Nippon Soda Co., Ltd.)
Compound b2-2: Aliphatic urethane acrylate (EB270, manufactured by Daicel Allnex)
Compound b2-3: PPG urethane acrylate (manufactured by KSM, UA10000B)
Compound b3-1: Light acrylate LA (lauryl acrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Compound b3-2: pentamethylpiperidyl methacrylate (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., FA-711MM)
Compound b3-3: isobornyl acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., RM-1002)

(2-3)その他の化合物
化合物r-1:I-184(1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、BASF社)
(2-3) Other compounds Compound r-1: I-184 (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, BASF)

Figure 0007178654000005
Figure 0007178654000005

Figure 0007178654000006
Figure 0007178654000006

(3)組成物X3の実施態様例
表7~11を参照して説明する。
化合物Aとして化合物a1-1を100g及び化合物Bとして化合物b-4を200g評量して、容器(材質SUS316製、容量2000ml)に充填し、80℃、大気圧下で、スリーワンモーター(新東科学社製)を使用して200回転/分で360分間攪拌して、実施態様例3-1-1の相溶組成物を得ることができる。
(3) Embodiment Examples of Composition X3 Description will be made with reference to Tables 7 to 11.
100 g of compound a1-1 as compound A1 and 200 g of compound b-4 as compound B are weighed, filled in a container (made of SUS316, capacity: 2000 ml), 80 ° C., under atmospheric pressure, three-one motor (new manufactured by Tokagaku) and stirred at 200 rpm for 360 minutes to obtain the compatible composition of Embodiment 3-1-1.

実施例3-1-1における化合物Aを表8~10記載の化合物A又はAに置き換え、化合物Bを表8~10記載の他の化合物Bに置き換え、さらにその他の化合物を加えて、表8~10記載の配合で、実施例3-1-1と同様にして実施例3-1-2~16及び3-2-1~3の相溶組成物を得ることができる。 Replace compound A 1 in Example 3-1-1 with compound A 1 or A 2 listed in Tables 8 to 10, replace compound B with another compound B listed in Tables 8 to 10, and add other compounds , the compatible compositions of Examples 3-1-2 to 3-1-16 and 3-2-1 to 3-2-1 can be obtained in the same manner as in Example 3-1-1 with the formulations shown in Tables 8 to 10.

〈組成物X3の化合物原料〉
(3-1)化合物A
表7記載の化合物を使用できる。重合物bのガラス転移温度は-25℃である。
<Compound raw material of composition X3>
(3-1) Compound A
Compounds listed in Table 7 can be used. The glass transition temperature of polymer b2 is -25°C.

Figure 0007178654000007
Figure 0007178654000007

(3-2)化合物B
化合物b-1:サラコス99(イソノナン酸イソノニル、日清オイリオ社)
化合物b-2:DINCH(ジイソノニルシクロヘキシルジカルボキシレート、BASF社)
化合物b-3:サラコスP-8(パルミチン酸-2-エチルヘキシル、日清オイリオ社)
化合物b-4:genomer1119(4-tertブチルシクロヘキシルアクリレート、Rahn社)
化合物b-5:SR395(イソデシルアクリレート、サートマー社)
化合物b-6:KE-311(水添ロジンエステル、荒川化学社)
化合物b-7:アルコンP-100(炭化水素樹脂、荒川化学社)
化合物b-8:クリアロンM-105(水添芳香族変性テルペン樹脂、ヤスハラケミカル社)
化合物b-9:TE-2000(ポリブタジエンウレタンアクリレート、日本曹達社)
化合物b-10:1.9ND-A(ノナンジオールジアクリレート、共栄社)
化合物b-11:エステモールN-01(ジカプリン酸ネオペンチルグリコール、日清オイリオ社)
化合物b-12:HOB(2-ヒドロキシブチルメタクリレート、共栄社)
(3-2) Compound B
Compound b-1: Salacos 99 (isononyl isononanoate, Nisshin OilliO Co., Ltd.)
Compound b-2: DINCH (diisononylcyclohexyl dicarboxylate, BASF)
Compound b-3: Salacos P-8 (2-ethylhexyl palmitate, Nisshin OilliO Co., Ltd.)
Compound b-4: genomer1119 (4-tertbutylcyclohexyl acrylate, Rahn)
Compound b-5: SR395 (isodecyl acrylate, Sartomer)
Compound b-6: KE-311 (hydrogenated rosin ester, Arakawa Chemical Co., Ltd.)
Compound b-7: Alcon P-100 (hydrocarbon resin, Arakawa Chemical Co., Ltd.)
Compound b-8: Clearon M-105 (hydrogenated aromatic modified terpene resin, Yasuhara Chemical Co.)
Compound b-9: TE-2000 (polybutadiene urethane acrylate, Nippon Soda Co., Ltd.)
Compound b-10: 1.9ND-A (nonanediol diacrylate, Kyoeisha)
Compound b-11: Estemol N-01 (neopentyl glycol dicaprate, Nisshin OilliO Co., Ltd.)
Compound b-12: HOB (2-hydroxybutyl methacrylate, Kyoeisha)

(3-3)その他の化合物
化合物r-1:I-184(1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、BASF社)
(3-3) Other compounds Compound r-1: I-184 (1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, BASF)

Figure 0007178654000008
Figure 0007178654000008

Figure 0007178654000009
Figure 0007178654000009

Figure 0007178654000010
Figure 0007178654000010

〔部材表面塗膜工程の実施態様例〕
A.実施態様例1:表示用デバイスが組込まれた複合体の場合
携帯電話・パソコン・ディスプレイ等の表示用デバイスが組込まれた筐体で構成されている複合体の組込・解体工程では、
最終の複合体組立工程で、曲面形状をした表示デバイスの表面Sの汚れを防ぐために、表面S全体をゲル状樹脂組成物で塗膜する部材表面塗膜工程と、
当該複合体を使用する段階、もしくは修理する段階で、当該塗膜を除去する部材表面塗膜除去工程とを有する。
[Embodiment example of member surface coating process]
A. Embodiment 1: In the case of a composite with a built-in display device In the process of assembling and dismantling a composite composed of a housing in which a display device such as a mobile phone, a personal computer, or a display is built,
In the final composite assembly step, a member surface coating step of coating the entire surface S with a gel resin composition in order to prevent the surface S of the curved display device from being soiled;
and a member surface coating film removing step of removing the coating film in the step of using or repairing the composite.

ゲル状樹脂組成物を用いることで、塗膜時は液状樹脂として取り扱え、塗膜形成後は温度低下又は吐出応力が消滅して流動性が抑制され、塗膜部分以外への流出を防ぐことができる。さらに光硬化後の特性をフィルムとして取り扱い可能な皮膜物性、剥離できる程度の表面密着性に調整することで従来使用されてきた保護フィルム代替シート(以下「ゲル状樹脂組成物シート」ともいう)として取り扱うことが出来る。 By using a gel resin composition, it can be handled as a liquid resin at the time of coating, and after the coating film is formed, the temperature drops or the ejection stress disappears, suppressing fluidity and preventing outflow to areas other than the coating film. can. Furthermore, by adjusting the properties after photocuring to film physical properties that can be handled as a film and surface adhesion to the extent that it can be peeled off, it can be used as a substitute sheet for protective films (hereinafter also referred to as "gel-like resin composition sheet") that has been conventionally used. can handle.

必要に応じて、部材表面塗膜工程と部材表面塗膜除去工程の間に、塗膜を光等で硬化させる塗膜硬化工程を有してよく、硬化した塗膜は物理的に容易に剥離することができる(図2)。 If necessary, there may be a coating film curing step for curing the coating film with light or the like between the member surface coating film step and the member surface coating film removing step, and the cured coating film can be physically easily peeled off. (Fig. 2).

透明性と光硬化性を有するゲル状樹脂組成物を使用した塗膜は、硬化後も表示体の検査工程や異物検査に影響を及ぼさないという効果を奏し、保護性を強化するために厚膜にした場合にも塗膜全体が光硬化して良好な保護性、剥離性を維持する。 A coating film that uses a gel-like resin composition that has transparency and photo-curing properties has the effect of not affecting the inspection process of the display or foreign matter inspection even after curing. The entire coating film is photocured to maintain good protective properties and peelability.

以下、図1及び2を参照して説明する。 Description will be made below with reference to FIGS.

<部材表面塗膜工程>
(1)態様例1
塗膜装置として例えばスリットコートやナイフコート、カーテンコート、スプレーコートなどのコーティング装置、ディスペンサー、ジェットディスペンサーなどの塗布装置、スクリーン印刷、グラビア印刷などの印刷装置を使用して、
ゲル状樹脂組成物を、好ましくはTc+5℃以上、より好ましくはTc+10℃以上、更に好ましくはTc+15℃以上に加温して、表示デバイスの表面S上に所望の領域・形状に塗膜して、
好ましくはTc-5℃以下、より好ましくはTc-10℃以下、更に好ましくはTc-15℃以下の環境で自然冷却してゲル状樹脂組成物シートにする。
<Member surface coating process>
(1) Aspect example 1
As a coating device, for example, coating devices such as slit coat, knife coat, curtain coat, and spray coat, coating devices such as dispensers and jet dispensers, and printing devices such as screen printing and gravure printing,
The gel resin composition is preferably heated to Tc+5° C. or higher, more preferably Tc+10° C. or higher, and still more preferably Tc+15° C. or higher, and coated on the surface S of the display device in a desired region and shape,
It is preferably Tc-5°C or lower, more preferably Tc-10°C or lower, still more preferably Tc-15°C or lower, and naturally cooled to form a gel resin composition sheet.

(2)態様例2
予め剥離性基台上にゲル状樹脂組成物シートを製造し、目的形状にカットして表面Sに転写することで塗膜を形成しても良い。
ゲル状樹脂組成物シートはゲル状樹脂組成物を加温して塗膜装置で塗布しても、ゲル状樹脂組成物を溶剤に希釈して室温で塗布し溶剤を揮発させてゲル状組成物シートにしても良い。
ゲル状樹脂組成物がチキソトロピー性を有すれば、Tc以下の温度でも塗膜することができる。
(2) Aspect example 2
Alternatively, a gel resin composition sheet may be prepared on a releasable base in advance, cut into a desired shape, and transferred to the surface S to form a coating film.
The gel resin composition sheet can be obtained by heating the gel resin composition and coating it with a coating device, or by diluting the gel resin composition with a solvent and applying it at room temperature to volatilize the solvent to form a gel composition. You can use it as a seat.
If the gel resin composition has thixotropy, it can be coated even at a temperature of Tc or lower.

ゲル状樹脂組成物が光硬化性であれば、当該塗膜の後に、例えば光照射装置から紫外線を照射して当該塗膜を光硬化させる塗膜硬化工程を設けることができる。 If the gel-like resin composition is photocurable, a coating film curing step of photocuring the coating film by, for example, irradiating ultraviolet rays from a light irradiation device can be provided after the coating film.

塗膜厚は、保護膜形成性及び剥離性の観点から、好ましくは1~3000μm、より好ましくは5~1000μm、更に好ましくは10~500μmである。 The coating thickness is preferably 1 to 3000 μm, more preferably 5 to 1000 μm, still more preferably 10 to 500 μm, from the viewpoints of protective film formation and releasability.

<部材表面塗膜除去工程>
(1)態様例1
ゲル状樹脂組成物の塗膜は、保護シートとして使用した後、Tc以上に加温したり溶剤に溶解させたりしして液状にして除去することができる。
<Part surface coating removal process>
(1) Aspect example 1
After being used as a protective sheet, the coating film of the gel-like resin composition can be liquefied by heating to Tc or higher or dissolved in a solvent to be removed.

(2)態様例2
光硬化されたゲル状樹脂組成物は剥離に耐えうる皮膜性、適度な界面強度を発現することで、表示デバイスの表面S上に形成されたゲル状樹脂組成物の塗膜を物理的に剥離することができる。
(2) Aspect example 2
The photocured gel-like resin composition exhibits a film property that can withstand peeling and an appropriate interfacial strength, thereby physically peeling off the coating film of the gel-like resin composition formed on the surface S of the display device. can do.

B.実施態様例2:配線形成部材が組込まれた複合体の場合
半導体部品等の電子部材にメッキ配線する際には、
部材表面加工工程でメッキ加工する領域以外のメッキ加工を回避すべき領域を、ゲル状樹脂組成物で塗膜して保護する部材表面塗膜工程を有する。
透明性と光硬化性を有するゲル状樹脂組成物を使用した塗膜は、硬化後も部材表面のダメージや異物検査に影響を及ぼさないという効果を奏し、保護性を強化するために厚膜にした場合にも塗膜全体が光硬化して良好な保護性、剥離性を維持する。
B. Embodiment 2: Composite in which Wiring Forming Member is Built When wiring is plated on an electronic member such as a semiconductor component,
It has a member surface coating step of coating with a gel-like resin composition to protect a region other than the region to be plated in the member surface processing step, where plating should be avoided.
A coating film that uses a gel-like resin composition that has transparency and photo-curing properties has the effect of not affecting the damage on the surface of the member or affecting the foreign matter inspection even after curing. Even when the coating is applied, the entire coating film is photocured and good protective properties and peelability are maintained.

以下、図3を参照して説明する。 Description will be made below with reference to FIG.

<部材表面塗膜工程>
(1)態様例1
塗膜装置として例えばスリットコートやナイフコート、カーテンコート、スプレーコートなどのコーティング装置、ディスペンサー、ジェットディスペンサーなどの塗布装置、スクリーン印刷、グラビア印刷などの印刷装置を使用して、
ゲル状樹脂組成物を、好ましくはTc+5℃以上、より好ましくはTc+10℃以上、更に好ましくはTc+15℃以上に加温して、表示デバイスの表面S上に所望の領域・形状に塗膜して、
好ましくはTc-5℃以下、より好ましくはTc-10℃以下、更に好ましくはTc-15℃以下の環境で自然冷却する。
(2)態様例2
予め剥離性基台上にゲル状樹脂組成物シートを製造し、目的形状にカットして表面Sに転写することで塗膜を形成しても良い。
ゲル状樹脂組成物シートはゲル状樹脂組成物を加温して塗膜装置で塗布しても、ゲル状樹脂組成物を溶剤に希釈して室温で塗布し溶剤を揮発させてゲル状組成物シートにしても良い。
ゲル状樹脂組成物がチキソトロピー性を有すれば、Tc以下の温度でも塗膜することができる。
<Member surface coating process>
(1) Aspect example 1
As a coating device, for example, coating devices such as slit coat, knife coat, curtain coat, and spray coat, coating devices such as dispensers and jet dispensers, and printing devices such as screen printing and gravure printing,
The gel resin composition is preferably heated to Tc+5° C. or higher, more preferably Tc+10° C. or higher, and still more preferably Tc+15° C. or higher, and coated on the surface S of the display device in a desired region and shape,
Natural cooling is preferably performed in an environment of Tc-5°C or lower, more preferably Tc-10°C or lower, and still more preferably Tc-15°C or lower.
(2) Aspect example 2
Alternatively, a gel resin composition sheet may be prepared on a releasable base in advance, cut into a desired shape, and transferred to the surface S to form a coating film.
The gel resin composition sheet can be obtained by heating the gel resin composition and coating it with a coating device, or by diluting the gel resin composition with a solvent and applying it at room temperature to volatilize the solvent to form a gel composition. You can use it as a seat.
If the gel resin composition has thixotropy, it can be coated even at a temperature of Tc or lower.

ゲル状樹脂組成物が光硬化性であれば、当該塗膜の後に、例えば光照射装置から紫外線を照射して当該塗膜を光硬化させる塗膜硬化工程を設けることができる。 If the gel-like resin composition is photocurable, a coating film curing step of photocuring the coating film by, for example, irradiating ultraviolet rays from a light irradiation device can be provided after the coating film.

塗膜厚は、保護膜形成性及び剥離性の観点から、好ましくは1~3000μm、より好ましくは5~1000μm、更に好ましくは10~500μmである。 The coating thickness is preferably 1 to 3000 μm, more preferably 5 to 1000 μm, still more preferably 10 to 500 μm, from the viewpoints of protective film formation and releasability.

光硬化後も透明性を有するチキソトロ―性を奏するゲル状樹脂組成物を使用すると、スクリーン印刷が可能で、光硬化後も透明性を維持するため、例えば、検査工程が必要な部材に用いた場合には、除去工程の必要がないめっき保護膜として使用することが可能である。 When a gel-like resin composition that exhibits thixotropy and transparency even after photocuring is used, screen printing is possible, and transparency is maintained even after photocuring. In some cases, it can be used as a plating protective film that does not require a removal step.

<部材表面塗膜除去工程>
(1)態様例1
ゲル状樹脂組成物の塗膜は、保護シートとして使用した後、Tc以上に加温したり溶剤に溶解させたりして液状にして除去することができる。
<Part surface coating removal process>
(1) Aspect example 1
After being used as a protective sheet, the coating film of the gel resin composition can be liquefied by heating to Tc or higher or dissolved in a solvent to be removed.

(2)態様例2
光硬化されたゲル状樹脂組成物は剥離に耐えうる皮膜性、適度な界面強度を発現することで、表示デバイスの表面S上に形成されたゲル状樹脂組成物の塗膜を物理的に剥離することができる。
(2) Aspect example 2
The photocured gel-like resin composition exhibits a film property that can withstand peeling and an appropriate interfacial strength, thereby physically peeling off the coating film of the gel-like resin composition formed on the surface S of the display device. can do.

C.実施態様例3:ケミカルエッチング加工される部材を組込んだ複合体の場合
例えば、半導体部品・光学部品に使用されるケイ素系部材の部材表面加工工程として、
シリコン基板としてのウエハー部材ではウエハー表面の研磨、
シリコン部材表面に微細立体パターンを形成させるシリコンエッチング、
シリコン基板上のSiO膜のエッチング処理などのケミカルエッチング加工が挙げられる。
C. Embodiment 3: In the case of a composite incorporating a member to be chemically etched For example, as a member surface processing step for silicon-based members used for semiconductor parts and optical parts,
Polishing of the wafer surface for wafer members as silicon substrates,
Silicon etching to form a fine three-dimensional pattern on the surface of a silicon member,
A chemical etching process such as an etching process of a SiO2 film on a silicon substrate can be mentioned.

ケミカルエッチング加工工程で、表面Sのエッチング対象箇所以外をゲル状樹脂組成物で塗膜する部材表面塗膜工程と、
必要な場合、当該塗膜を除去する部材表面塗膜除去工程とを有する。
A member surface coating step of coating with a gel-like resin composition a portion of the surface S other than the portion to be etched in the chemical etching step;
If necessary, a member surface coating film removing step for removing the coating film.

保護膜として温度応答性ゲルを使用することで、ゲル状樹脂組成物は、塗膜対象の箇所にのみ塗膜が可能で、ゲル状樹脂組成物として、例えば溶剤溶解性を有する相溶組成物粘弾性体を使用すれば硬化工程が不要な保護膜を作製することが可能であり、物理的な除去工程を経ることなく溶解洗浄で除去可能となり、従来のレジスト塗膜に比べて工程負荷を低減することができる。 By using a temperature-responsive gel as a protective film, the gel resin composition can be coated only on the part to be coated, and the gel resin composition can be, for example, a compatible composition having solvent solubility. By using viscoelastic material, it is possible to create a protective film that does not require a curing process, and it can be removed by dissolution and cleaning without going through a physical removal process, reducing the process load compared to conventional resist coatings. can be reduced.

以下、図4を参照して説明する。 Description will be made below with reference to FIG.

<部材表面塗膜工程>
(1)態様例1
塗膜装置として例えばスリットコートやナイフコート、カーテンコート、スプレーコートなどのコーティング装置、ディスペンサー、ジェットディスペンサーなどの塗布装置、スクリーン印刷、グラビア印刷などの印刷装置を使用して、
ゲル状樹脂組成物を、好ましくはTc+5℃以上、より好ましくはTc+10℃以上、更に好ましくはTc+15℃以上に加温して、表示デバイスの表面S上に所望の領域・形状に塗膜して、
好ましくはTc-5℃以下、より好ましくはTc-10℃以下、更に好ましくはTc-15℃以下の環境で自然冷却する。
(2)態様例2
予め剥離性基台上にゲル状樹脂組成物シートを製造し、目的形状にカットして表面Sに転写することで塗膜を形成しても良い。
ゲル状樹脂組成物シートはゲル状樹脂組成物を加温して塗膜装置で塗布しても、ゲル状樹脂組成物を溶剤に希釈して室温で塗布し溶剤を揮発させてゲル状組成物シートにしても良い。
ゲル状樹脂組成物がチキソトロピー性を有すれば、Tc以下の温度でも塗膜することができる。
<Member surface coating process>
(1) Aspect example 1
As a coating device, for example, coating devices such as slit coat, knife coat, curtain coat, and spray coat, coating devices such as dispensers and jet dispensers, and printing devices such as screen printing and gravure printing,
The gel resin composition is preferably heated to Tc+5° C. or higher, more preferably Tc+10° C. or higher, and still more preferably Tc+15° C. or higher, and coated on the surface S of the display device in a desired region and shape,
Natural cooling is preferably performed in an environment of Tc-5°C or lower, more preferably Tc-10°C or lower, and still more preferably Tc-15°C or lower.
(2) Aspect example 2
Alternatively, a gel resin composition sheet may be prepared on a releasable base in advance, cut into a desired shape, and transferred to the surface S to form a coating film.
The gel resin composition sheet can be obtained by heating the gel resin composition and coating it with a coating device, or by diluting the gel resin composition with a solvent and applying it at room temperature to volatilize the solvent to form a gel composition. You can use it as a seat.
If the gel resin composition has thixotropy, it can be coated even at a temperature of Tc or lower.

ゲル状樹脂組成物が光硬化性であれば、当該塗膜の後に、例えば紫外線を照射して当該塗膜を光硬化させる塗膜硬化工程を設けることができる。 If the gel-like resin composition is photocurable, a coating film curing step of photocuring the coating film by irradiating ultraviolet rays, for example, can be provided after the coating film.

塗膜厚は、保護膜形成性及び剥離性の観点から、好ましくは1~3000μm、より好ましくは5~1000μm、更に好ましくは10~500μmである。 The coating thickness is preferably 1 to 3000 μm, more preferably 5 to 1000 μm, still more preferably 10 to 500 μm, from the viewpoints of protective film formation and releasability.

必要に応じて、光硬化性のゲル状樹脂組成物を使用でき、当該塗膜の後に、例えば紫外線を照射して当該塗膜を光硬化させる。 If necessary, a photocurable gel-like resin composition can be used, and the coating film is photocured by, for example, ultraviolet irradiation after the coating film.

<部材表面塗膜除去工程>
(1)態様例1
ゲル状樹脂組成物の塗膜は、保護シートとして使用した後、Tc以上に加温したり溶剤に溶解させたりして液状にして除去することができる。
<Part surface coating removal process>
(1) Aspect example 1
After being used as a protective sheet, the coating film of the gel resin composition can be liquefied by heating to Tc or higher or dissolved in a solvent to be removed.

(2)態様例2
光硬化されたゲル状樹脂組成物は剥離に耐えうる皮膜性、適度な界面強度を発現することで、表示デバイスの表面S上に形成されたゲル状樹脂組成物の塗膜を物理的に剥離することができる。
(2) Aspect example 2
The photocured gel-like resin composition exhibits a film property that can withstand peeling and an appropriate interfacial strength, thereby physically peeling off the coating film of the gel-like resin composition formed on the surface S of the display device. can do.

〔実施例〕
組成物X1及びYを製造して本発明1の実施例に供した。
〔Example〕
Compositions X1 and Y were prepared and used in Examples of Invention 1.

(1)化合物原料
(1-1)化合物A
化合物a1:KURARITY LA2270(登録商標、クラレ社製)
化合物a2:KURARITY LA1892(登録商標、クラレ社製)
化合物a3:KURARITY LA2250(登録商標、クラレ社製)
(1) compound raw material (1-1) compound A
Compound a1: KURARITY LA2270 (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Compound a2: KURARITY LA1892 (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Compound a3: KURARITY LA2250 (registered trademark, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)

LA2270では、重合体ブロックa及び重合体ブロックbの合計質量中、重合体ブロックaが約40質量%である。 In LA2270, polymer block a is about 40% by mass in the total mass of polymer block a and polymer block b.

(1-2)化合物B
化合物b1:PPGウレタンアクリレート(UA10000B、KSM社製)
化合物b2:ウレタンアクリレートオリゴマー(UN9200A、根上工業)
化合物b3:イソボルニルアクリレート(RM1002、日本触媒社製)
化合物b4:ペンタメチルピペリジルメタクリレ-ト(FA-711MM、日立化成社製)
化合物b5:アクリロイルモルホリン(ACMO、KJケミカルズ社製)
化合物b6:トリペンタエリスリトールオクタアクリレートとトリペンタエリスリトールヘプタアクリレートの混合物(大阪有機化学工業社製、ビスコート#802)
化合物b7:ポリブタジエンウレタンアクリレート(TE-2000、日本曹達社製)
化合物b8:ラウリルアクリレート(LA、共栄社化学社製)
化合物b9:4-ヒドロキシブチルアクリレート(4-HBA、日本化成社製)
化合物b10:水添ロジンエステル(KE-311、荒川化学工業社製)
化合物b11:ビス(2-ブトキシエチル)アジペート(D931、ジェイプラス社製)
化合物b12:ジイソノニルシクロヘキシルジカルボキシレート(DINCH、BASF社)
化合物b13:化合物b16:アクリルポリマー(東亞合成社製、UP1110)
(1-2) Compound B
Compound b1: PPG urethane acrylate (UA10000B, manufactured by KSM)
Compound b2: urethane acrylate oligomer (UN9200A, Negami Industry)
Compound b3: isobornyl acrylate (RM1002, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
Compound b4: Pentamethylpiperidyl methacrylate (FA-711MM, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Compound b5: acryloylmorpholine (ACMO, manufactured by KJ Chemicals)
Compound b6: a mixture of tripentaerythritol octaacrylate and tripentaerythritol heptaacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat #802)
Compound b7: polybutadiene urethane acrylate (TE-2000, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
Compound b8: Lauryl acrylate (LA, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Compound b9: 4-hydroxybutyl acrylate (4-HBA, manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
Compound b10: hydrogenated rosin ester (KE-311, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.)
Compound b11: bis (2-butoxyethyl) adipate (D931, manufactured by J-Plus)
Compound b12: diisononylcyclohexyl dicarboxylate (DINCH, BASF)
Compound b13: Compound b16: Acrylic polymer (manufactured by Toagosei Co., Ltd., UP1110)

(1-3)剥離性を向上させる化合物
化合物c1:ポリエーテル変性シロキサン(エボニック社製、TEGO GLIDE440)
(1-3) Compounds that improve peelability Compound c1: polyether-modified siloxane (manufactured by Evonik, TEGO GLIDE440)

(1-4)その他の化合物
化合物r1:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(I-184、BASF社製)
(1-4) Other compounds Compound r1: 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (I-184, manufactured by BASF)

(2)ゲル状樹脂組成物
表1を参照して説明する。
(2) Gel resin composition Description will be made with reference to Table 1.

(2-1)化合物Aとして化合物a2を300g、化合物Bとして化合物b1、b3~10及びb12並びにr1を表11記載の重量部になるように評量して、容器(材質SUS316製、容量2000ml)に充填し、80℃、大気圧下で、スリーワンモーター(新東科学社製)を使用して200回転/分で360分間攪拌して、実施例1の相溶組成物を得た。 (2-1) 300 g of compound a2 as compound A, compounds b1, b3 to 10 and b12 and r1 as compound B were weighed so as to be the parts by weight shown in Table 11, and a container (made of material SUS316, capacity 2000 ml ) and stirred at 200 rpm for 360 minutes at 80° C. under atmospheric pressure using a Three-One Motor (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.) to obtain a compatible composition of Example 1.

表1記載の実施例1の化合物A、B及びr1を、
実施例2及び3では表1記載の化合物に置き換えて、表1記載の配合で同様にして、ゲル状樹脂組成物を製造し、
実施例1の化合物A、B及びr1を、比較例1~3について表1記載の化合物に置き換えて、表1記載の配合で同様にして、液状組成物を製造した。
Compounds A, B and r1 of Example 1 listed in Table 1,
In Examples 2 and 3, the compound shown in Table 1 was substituted, and a gel resin composition was produced in the same manner with the formulation shown in Table 1,
Liquid compositions were produced in the same manner as described in Table 1 except that the compounds A, B and r1 of Example 1 were replaced with the compounds listed in Table 1 for Comparative Examples 1 to 3.

(2-2)それぞれの実施例及び比較例に対して、以下の物性を測定した。 (2-2) The following physical properties were measured for each example and comparative example.

(2-2-1)ブチルアクリレートの重合物(重合物a)及びメチルメタクリレートの重合物(重合物b)のガラス転移点。
(2-2-2)液状-ゲル状転移温度(Tc)
(2-2-3)複素粘度(Pa・s)
(2-2-4)25℃における貯蔵剛性率(kPa)
(2-2-5)25℃、剪断速度1(sec-1)における粘度η(Pa・s)
(2-2-6)25℃、剪断速度10(sec-1)における粘度η10(Pa・s)
(2-2-7)チキソ比(X=η/η10
(3)測定条件
(2-2-1) Glass transition points of butyl acrylate polymer (polymer a) and methyl methacrylate polymer (polymer b).
(2-2-2) liquid-gel transition temperature (Tc)
(2-2-3) Complex viscosity (Pa s)
(2-2-4) Storage modulus (kPa) at 25°C
(2-2-5) Viscosity η 1 (Pa·s) at 25°C and a shear rate of 1 (sec -1 )
(2-2-6) Viscosity η 10 (Pa·s) at 25°C and a shear rate of 10 (sec -1 )
(2-2-7) thixotropic ratio (X 1 = η 1 / η 10 )
(3) Measurement conditions

〈ガラス転移点〉
重合物a、重合物b及びブロック共重合体化合物のそれぞれについて、200℃に設定した神藤金属工業株式会社製の油圧式熱プレス機を用い、10MPaの圧力で0.5mm厚みにシート成形する。その後、動的粘弾性測定に必要な45mm×10mm×0.5mmの短冊片を切り出す。
セイコーインスツルメンツ社製動的粘弾性装置(DMS6100)を使用し、
引っ張りモードにて、-100℃~200℃の温度範囲(昇温速度3℃/分)、周波数11Hzなる条件で測定して得られたチャートにおける、
tanδのピーク温度を読み取って短冊片を構成する重合物a、重合物b及びブロック共重合体化合物それぞれのガラス転移点とする。
<Glass transition point>
Each of polymer a, polymer b and block copolymer compound is sheet-molded to a thickness of 0.5 mm at a pressure of 10 MPa using a hydraulic heat press machine manufactured by Shindo Metal Industry Co., Ltd. set at 200°C. After that, a strip of 45 mm×10 mm×0.5 mm required for dynamic viscoelasticity measurement is cut out.
Using a dynamic viscoelasticity device (DMS6100) manufactured by Seiko Instruments,
In the chart obtained by measuring in the tensile mode under the conditions of -100 ° C to 200 ° C temperature range (heating rate 3 ° C / min), frequency 11 Hz,
The peak temperature of tan δ is read and taken as the glass transition point of each of polymer a, polymer b and block copolymer compound constituting the strip.

〈液状-ゲル状転移温度Tc及び貯蔵剛性率〉
ゲル状樹脂組成物の貯蔵剛性率G’と損失剛性率G”を、
レオメータ(Anton Paar社製)を使用し、
コーンローター(φ=25mm、ローター角度2°)、周波数1Hz、ひずみ1%で、
150℃から0℃に向けて、2℃/分で冷却して測定し、
25℃超150℃以下の範囲において、貯蔵剛性率G’と損失剛性率G”とが等しくなる温度をTcとする。
<Liquid-gel transition temperature Tc and storage rigidity>
The storage modulus G′ and the loss modulus G″ of the gel resin composition are
Using a rheometer (manufactured by Anton Paar),
Cone rotor (φ = 25 mm, rotor angle 2 °), frequency 1 Hz, strain 1%,
measured by cooling from 150°C to 0°C at 2°C/min,
Tc is the temperature at which the storage modulus G′ and the loss modulus G″ are equal in the range of more than 25° C. and 150° C. or less.

<複素粘度>
レオメータ(Anton Paar社製)を使用し、コーンローター(φ=25mm、ローター角度2°)、周波数1Hz、ひずみ1%で、150℃から0℃に向けて、2℃/分で冷却して測定した。Tc以上の温度領域で測定された数値を複素粘度とした。
<Complex Viscosity>
Using a rheometer (manufactured by Anton Paar), cone rotor (φ = 25 mm, rotor angle 2°), frequency 1 Hz, strain 1%, cooling from 150 ° C. to 0 ° C. at 2 ° C./min. did. A numerical value measured in a temperature range of Tc or higher was defined as a complex viscosity.

<貯蔵剛性率>
レオメータ(Anton Paar社製)を使用し、
コーンローター(φ=25mm、ローター角度2°)、周波数1Hz、ひずみ1%で、
150℃から0℃に向けて、2℃/分で冷却して測定した。
25℃で測定された貯蔵剛性率の数値を読み取った。ただし、転移温度が0℃≦Tc≦30℃の場合はTc-20℃における貯蔵剛性率とした。
<Storage modulus>
Using a rheometer (manufactured by Anton Paar),
Cone rotor (φ = 25 mm, rotor angle 2 °), frequency 1 Hz, strain 1%,
It was measured by cooling from 150°C to 0°C at a rate of 2°C/min.
Storage modulus values measured at 25° C. were read. However, when the transition temperature was 0°C ≤ Tc ≤ 30°C, the storage modulus at Tc-20°C was used.

〈粘度η
レオメータ(Anton Paar社製)を使用し、
コーンローター(φ=25mm、ローター角度2°)、
25℃にて、剪断速度を0.01(sec-1)から100(sec-1)まで変化させて剪断速度vにおける粘度ηを読み取る。
なお、コーンローターにゲル組成物の構造粘性に基づく抵抗が発生せずに測定値が計測できない場合は「測不」とした。
<Viscosity ηv >
Using a rheometer (manufactured by Anton Paar),
Cone rotor (φ = 25mm, rotor angle 2°),
At 25° C., the viscosity η v at shear rate v is read while varying the shear rate from 0.01 (sec −1 ) to 100 (sec −1 ).
When no resistance based on the structural viscosity of the gel composition was generated in the cone rotor and the measured value could not be measured, it was judged as "impossible".

〈チキソ比〉
粘度ηの測定において、剪断速度1(sec-1)および剪断速度10(sec-1)における粘度の比X=η/η10を計算しチキソ比とした。
<Thixotropic ratio>
In measuring the viscosity η v , the viscosity ratio X 1110 at a shear rate of 1 (sec -1 ) and a shear rate of 10 (sec -1 ) was calculated and used as a thixotropic ratio.

(HAZE値の測定条件)
2.5cm×3.8cm×1mmtのガラスの両端に0.3mmtのスペーサーを貼り、硬化性樹脂組成物を挟んでメタルハライドランプ(アイグラフィックス社製、コンベアタイプ)にて、250mW/cm2、3000mJ/cmで硬化性樹脂組成物を硬化させた。ヘイズメーター(日本電食工業社製、NDH5000)にて測定し、全光透過率と拡散透過率の比を求める。
(Conditions for measuring HAZE value)
A 2.5 cm × 3.8 cm × 1 mmt glass was affixed with 0.3 mmt spacers on both ends, and a metal halide lamp (manufactured by igraphics, conveyor type) was used to apply 250 mW/cm and 3000 mJ with a curable resin composition sandwiched therebetween. /cm 2 to cure the curable resin composition. Measure with a haze meter (NDH5000, manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.) to determine the ratio of total light transmittance and diffuse transmittance.

〔製造実施例1及び製造比較例1〕
(保護膜形成性)
実施例1および比較例1記載の組成物について25℃でガラス基板2上にスクリーン印刷装置(ニューロング社製)を用いて、スクリーン厚0.024mm、非印刷部幅1.5mm、塗布速度100mm/secで塗工した。塗布後300秒放置した後、コンベア型紫外線照射装置(アイグフィック社製、メタルハライドランプ)を用いてピーク照度400mW/cm2、積算光量6000mJ/cm(オーク社製 波長350nm)、反応率100%で光硬化させて、ガラス基板2上に硬化物保護膜を作製した。
レーザー顕微鏡(オリンバス社製、LEXT OLS4000)を用いて塗布形状を測定し、非印刷部幅を計測した。
非印刷部幅が1.2mm以上保持されているなら○、1.2mm以下なら×とした。
[Production Example 1 and Production Comparative Example 1]
(Protective film formability)
The compositions described in Example 1 and Comparative Example 1 were printed on a glass substrate 2 at 25° C. using a screen printer (manufactured by Newlong Co., Ltd.), with a screen thickness of 0.024 mm, a non-printed portion width of 1.5 mm, and a coating speed of 100 mm. /sec. After being left for 300 seconds after application, a conveyer-type ultraviolet irradiation device (metal halide lamp manufactured by Aigfic) was used with a peak illuminance of 400 mW/cm2, an integrated light intensity of 6000 mJ/ cm2 (wavelength of 350 nm manufactured by ORC), and a reaction rate of 100%. It was cured to produce a cured protective film on the glass substrate 2 .
The coating shape was measured using a laser microscope (LEXT OLS4000, manufactured by Olympus), and the width of the non-printed portion was measured.
If the width of the non-printed portion was maintained at 1.2 mm or more, it was evaluated as ◯, and if it was 1.2 mm or less, it was evaluated as ×.

〔製造実施例2及び製造比較例2-1及び2-2〕
(1)保護膜形成性
[Production Example 2 and Comparative Production Examples 2-1 and 2-2]
(1) Formability of protective film

(1-1)実施例2記載の組成物:80℃で液状相溶組成物。 (1-1) Composition described in Example 2: Liquid compatible composition at 80°C.

(1-2)比較例2記載の組成物:25℃で液状の組成物。 (1-2) Composition described in Comparative Example 2: A composition that is liquid at 25°C.

(1-3)実施例2記載の組成物は80℃で、比較例2記載の組成物は25℃でガラス基板3上にエアーディスペンサ(ムサシエンジニアリング社製、SHOT MASTER 300)を用いて、内径0.61mmのニードルを用いて塗布して、塗布後300秒間放置した
塗布層を、コンベア型紫外線照射装置(アイグフィック社製、メタルハライドランプ)を用いてピーク照度400mW/cm、積算光量6000mJ/cm(オーク社製 波長350nm)、反応率100%で光硬化させ、実施例の組成物については室温に冷却することで、ガラス基板3上に保護層を作製した。
レーザー顕微鏡(オリンバス社製、LEXT OLS4000)を用いて塗布形状を測定し塗布幅を計測して、
塗布幅の距離が1.0mm以下の場合を○、
塗布幅の距離が1.0mm超の場合を ×
とした。
(1-3) The composition described in Example 2 was at 80 ° C., and the composition described in Comparative Example 2 was at 25 ° C. on the glass substrate 3 using an air dispenser (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd., SHOT MASTER 300). The coating layer was applied using a needle of 0.61 mm and left for 300 seconds after application. 2 (made by Oak Co., wavelength 350 nm), photocured at a reaction rate of 100%, and the composition of Example 2 was cooled to room temperature to prepare a protective layer on the glass substrate 3 .
Using a laser microscope (LEXT OLS4000, manufactured by Olympus), the coating shape is measured and the coating width is measured.
○ when the distance of the coating width is 1.0 mm or less,
× when the distance of the coating width exceeds 1.0 mm
and

(2)溶剤溶解性
(1)と同様の方法で塗布し、比較例2記載の組成物についてはコンベア型紫外線照射装置(アイグフィック社製、メタルハライドランプ)を用いてピーク照度400mW/cm、積算光量6000mJ/cm(オーク社製 波長350nm)、反応率100%で硬化させるものと、硬化させないものを作製し、それぞれ比較例2-1、2-2とした。
それぞれの保護層をアセトン(関東化学製、特級)に浸漬し、10分間放置後の状態を確認して、
保護層が溶解消失している場合を〇、
保護層が残存している場合を×とした。
(2) Solvent Solubility The composition described in Comparative Example 2 was applied in the same manner as in (1), and the peak illuminance was 400 mW/cm 2 using a conveyer-type ultraviolet irradiation device (Aigfic, metal halide lamp). A light amount of 6000 mJ/cm 2 (a wavelength of 350 nm manufactured by Oak Co., Ltd.) and a reaction rate of 100% cured and a non-cured sample were prepared as Comparative Examples 2-1 and 2-2, respectively.
Each protective layer is immersed in acetone (manufactured by Kanto Kagaku, special grade) and left for 10 minutes.
○ when the protective layer has dissolved and disappeared,
The case where the protective layer remained was evaluated as x.

〔製造実施例3及び製造比較例3〕
(1)保護膜形成
実施例3記載の組成物については80℃で液状相溶組成物とし、比較例1記載の組成物については25℃でガラス基板1上にフラットノズル(ムサシエンジニアリング社製30mm幅、SHOT MASTER 300)を用いて、厚さ0.15mmの厚みに塗工した。塗布後300秒間放置した後、コンベア型紫外線照射装置(アイグフィック社製、メタルハライドランプ)を用いてピーク照度400mW/cm2、積算光量6000mJ/cm2(オーク社製 波長350nm)、反応率100%で光硬化させて、ガラス基板1上に硬化物保護膜を作製した。
レーザー顕微鏡(オリンバス社製、LEXT OLS4000)を用いて塗布形状を測定し、膜厚均一部分が保護性能を十分発揮できている部分、液ダレ部分を汚染もしくは保護性能が十分でない部分として液ダレ幅を計測した。
液ダレ幅の距離が0.5mm以下なら○、0.5mm以上なら×とした。
[Production Example 3 and Production Comparative Example 3]
(1) Formation of protective film The composition described in Example 3 was formed into a liquid compatible composition at 80°C, and the composition described in Comparative Example 1 was applied at 25°C to a glass substrate 1 with a flat nozzle (30 mm, manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.). Width, SHOT MASTER 300) was used to coat to a thickness of 0.15 mm. After being left for 300 seconds after application, light curing is performed with a conveyor type ultraviolet irradiation device (Aigfic, metal halide lamp) with a peak illuminance of 400 mW/cm2, an integrated light intensity of 6000 mJ/cm2 (oak company, wavelength 350 nm), and a reaction rate of 100%. Then, a cured product protective film was formed on the glass substrate 1 .
The coating shape is measured using a laser microscope (LEXT OLS4000, manufactured by Olympus Co., Ltd.), and the part where the uniform film thickness can sufficiently demonstrate the protective performance, and the liquid dripping width as the part where the liquid dripping part is contaminated or the protective performance is not sufficient. was measured.
If the distance of the liquid dripping width was 0.5 mm or less, it was evaluated as ◯, and if it was 0.5 mm or more, it was evaluated as x.

(2)剥離性
(1)の試験で使用したガラス基板1上の硬化物膜の角隅をピンセットで摘み剥がし、
樹脂が破断なく剥離した場合を ○、
界面から剥離できたが樹脂が破断した場合を△、
剥離できなかった場合を ×
とした。
(2) Peelability The corners of the cured product film on the glass substrate 1 used in the test of (1) were pinched off with tweezers,
If the resin peels off without breakage,
△ when the resin was broken although it could be peeled off from the interface,
X if the peeling was not possible
and

以上の実施例及び比較例の結果を表11にまとめた。 Table 11 summarizes the results of the above examples and comparative examples.

Figure 0007178654000011
Figure 0007178654000011

1 表面S
2 表面Sを備える部材
3 ゲル状樹脂組成物
31 光硬化したゲル状樹脂組成物
4 光照射装置
5 めっき
6 レジスト
1 surface S
2 Member having surface S 3 Gel-like resin composition 31 Photo-cured gel-like resin composition 4 Light irradiation device 5 Plating 6 Resist

Claims (5)

表面Sを備える部材の組込み及び/若しくは取外し工程、並びに/又は、前記表面Sを加工する部材表面加工工程を有する前記部材が組み込まれた複合体の製造・解体方法であって、
前記組込み及び/若しくは取外し工程、並びに/又は、前記部材表面加工工程において、
前記表面Sの汚染及び/又は加工を回避すべき領域をゲル状樹脂組成物で被覆する部材表面塗膜工程を有し、
前記ゲル状樹脂組成物が、
0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する、及び/又は、
チキソトロピック性を有し、
チキソトロピック性の程度が、前記ゲル状樹脂組成物の剪断速度v(sec -1 )における粘度η (Pa・s)としたときのチキソ比(η /η 10 )が1.1~20の程度であり、
前記表面Sが平滑であり、
前記部材表面加工が、前記表面S上の配線形成加工、メッキ形成加工及びエッチング加工からなる群から選ばれる少なくとも1種の部材表面加工である複合体の製造・解体方法(但し、前記複合体の製造・解体方法が以下の態様である場合を除く:
前記表面Sの汚染及び/又は加工を回避すべき領域をゲル状組成物で被覆する場合に、ポリマーフィルム上にゲル状樹脂組成物が担持された状態で被覆する態様)。
A method for manufacturing and dismantling a composite in which the member is incorporated, which includes a step of assembling and/or removing a member having a surface S and/or a member surface processing step of processing the surface S,
In the assembling and/or removing step and/or the member surface processing step,
A member surface coating step of coating a region of the surface S where contamination and/or processing should be avoided with a gel resin composition,
The gel resin composition is
having a liquid-to-gel transition temperature (Tc) between 0 and 150° C., and/or
having thixotropic properties,
The degree of thixotropic property is 1.1 to 20 when the thixotropic ratio (η 1 10 ) is 1.1 to 20 when the viscosity η v (Pa·s) at the shear rate v (sec −1 ) of the gel-like resin composition is taken. is the degree of
The surface S is smooth,
A method for manufacturing and dismantling a composite, wherein the member surface processing is at least one member surface processing selected from the group consisting of wiring formation processing, plating formation processing, and etching processing on the surface S (however, the composite is Except when the manufacturing/dismantling method is in the following manner:
When the area of the surface S where contamination and/or processing should be avoided is coated with the gel composition, the polymer film is coated with the gel resin composition supported thereon).
前記ゲル状樹脂組成物が熱及び/又は光硬化性を有する請求項1記載の複合体の製造・解体方法。 2. The method for manufacturing and dismantling a composite according to claim 1, wherein said gel resin composition has heat and/or photocurability. 前記部材が、表示用パネル、タッチパネル、センサー、レンズ、電池用部品及び半導体用部品からなる群から選ばれる少なくとも1種の部品、並びに/又は前記部品を外装する筐体である請求項1又は2のいずれか1項記載の複合体の製造・解体方法。 3. The member is at least one component selected from the group consisting of a display panel, a touch panel, a sensor, a lens, a battery component and a semiconductor component, and/ or a housing that covers the component. A method for manufacturing and dismantling a composite according to any one of Claims 1 to 3. 前記複合体が、前記部材が組み込まれた筐体で構成される請求項1~のいずれか1項記載の複合体の製造・解体方法。 The method for manufacturing and dismantling a composite according to any one of claims 1 to 3 , wherein the composite is composed of a housing in which the member is incorporated. 請求項1~のいずれか1項記載の複合体の製造・解体方法に使用されるゲル状樹脂組成物であって、
前記ゲル状樹脂組成物が、
0~150℃で液状-ゲル状転移温度(Tc)を有する、及び/又は、
チキソトロピック性を有し、
チキソトロピック性の程度が、前記ゲル状樹脂組成物の剪断速度v(sec -1 )における粘度η (Pa・s)としたときのチキソ比(η /η 10 )が1.1~20の程度であるゲル状樹脂組成
A gel resin composition used in the method for manufacturing and dismantling a composite according to any one of claims 1 to 4 ,
The gel resin composition is
having a liquid-to-gel transition temperature (Tc) between 0 and 150° C., and/or
having thixotropic properties,
The degree of thixotropic property is 1.1 to 20 when the thixotropic ratio (η 1 10 ) is 1.1 to 20 when the viscosity η v (Pa·s) at the shear rate v (sec −1 ) of the gel-like resin composition is taken. The gel-like resin composition that is the degree of
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