JP7165819B2 - レーザ機械加工システムにおいてレーザビームの焦点位置を設定するための装置、同装置を備えるレーザ機械加工システム、およびレーザ機械加工システムにおいてレーザビームの焦点位置を設定するための方法 - Google Patents
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Description
zt(ΔP,t)=A・m2・ΔP・(1-e-t/τ)
を使用して計算するように構成されており、ここで、ΔP=P-P0であり、Pは、時間tにおける現在のレーザ出力を示し、P0は、基準レーザ出力を示す。時間t=0は、基準出力の変化が生じる時間、すなわちΔP≠0のときとして定義される。レーザ出力がΔPだけ変化すると、熱レンズまたは温度により誘発される屈折力の変化が、時定数τにしたがって変化することがある。この変化は、焦点位置の変化につながり、焦点位置の変化は、修正項zt(ΔP,t)を用いて表すことができる。修正項zt(ΔP,t)は、熱レンズの前記動力学を考慮して、実際の焦点位置をより正確に決定および設定できるようにする。特に、制御ユニットは、修正項zt(ΔP,t)によって表される熱レンズの動的効果が補償されるように、所定の焦点位置Zを設定することができる。その結果、機械加工品質を改善することができる。
L1=L1(Z) (1)
焦点位置zは、レーザ出力Pおよび時間tに依存するので、式(1)を制御曲線として容易に保存することはできない。リアルタイムでの正確な焦点設定を可能にするために、焦点位置zは、以下のように表されてもよい:
z=z(P,t)=z0(P0)+zt(ΔP,t)+zOffset (2)
焦点位置zは、レーザ出力Pおよび時間tに依存する。この実施形態では、焦点位置zは、3つの成分に分割されてもよい:
1.第1の成分z0(P0)は定常であるか、または時間に依存しないが、基準レーザ出力P0に依存することがある。考えられる1つの実装形態が、図3~図5に示してあり、以下で説明する。
2.第2の成分zt(ΔP,t)は、レーザ出力および時間に依存する。ΔPは、ΔP=P-P0として定義される。言い換えれば、ΔPは、現在の出力と定常項の基準レーザ出力P0との差として定義される。さらなる詳細事項は、以下で説明する。
3.第3の成分zOffsetは、オフセット値である。この成分は、たとえば光学機械公差の調整として機能する。この成分は、時間および出力に依存しない。
最も単純な事例において、定常成分z0(P0)は、P=0kWに対して熱レンズのない状態でのレーザビーム光学部品の位置L1、すなわちL1(P0=0kW)を表す。L1の例示的な記述が、図4および図5に示してある。レーザビーム光学部品の位置L1は、異なる基準レーザ出力P01およびP02ごとに異なる。位置L1は、たとえば光線追跡ソフトウェアを使用して計算可能である。ここで、熱レンズがモデル化される。すなわち温度勾配の結果として、光学構成要素の屈折率nも勾配になる。これらの勾配をモデル化するための異なる手法が存在する。第1近似では、たとえば光学軸に対して垂直な軸rに沿った放物線状の勾配が使用されてもよく、図3に示してあるように:
n(r)=n0+c2・r2 (3)
であり、ここで、
第2の成分zt(ΔP,t)は、焦点シフトの動的挙動を表し、特に図6に示してある挙動を表す。図6は、出力がΔP1からΔP5まで様々に変化するが、所定の焦点位置Zは変化しない状態での、焦点位置zの例示的な動的挙動を示す。この成分の目的は、所与の焦点位置Zが一定に保たれるように、熱レンズの動的挙動により引き起こされる焦点シフトを補償することである。
zt(ΔP,t)=A・m2・ΔP・(1-e-t/τ) (5)
mは、光学システム(すなわち、レーザビーム光学部品)の倍率であり、Aは、出力単位当たりの定常状態における2つの出力値間の焦点シフトの大きさを示す第1のパラメータであり、τは、熱レンズの発生の時間スケールを表す。ここで、時間t=0は、出力の変化が生じる時間、すなわちΔP≠0のときとして定義される。その後、すなわちt>0のとき、出力は、少なくとも所定の時間間隔にわたって好ましくは一定である。
Claims (15)
- レーザ機械加工システム(100)において、レーザビーム(10)の所定の焦点位置Zを設定するための装置(200)であって、
前記焦点位置zを設定するための設定ユニット(150)と、
焦点位置zの時間依存値ztを、第1のパラメータ、第2のパラメータ、および第3のパラメータに基づき計算するように構成されたコンピューティングユニットと、
前記レーザビーム(10)の前記所定の焦点位置Zを、前記焦点位置zの前記時間依存値ztに基づき、前記設定ユニット(150)によって設定するように構成された制御ユニットとを備え、
前記第1のパラメータが、レーザ出力依存性の焦点シフトAを示し、
前記第2のパラメータが、レーザビーム光学部品のうちの少なくとも1つの光学素子の、温度により誘発される屈折力の変化に起因した、1/eになる焦点位置の変化の時定数τを示し、
前記第3のパラメータが、時間tの点における現在のレーザ出力Pを示す
ことを特徴とする装置(200)。 - 請求項1に記載の装置(200)であって、前記コンピューティングユニットが、前記焦点位置zの前記時間依存値ztを、前記レーザビーム光学部品の倍率mを示すさらなるパラメータに基づき計算するようにさらに構成されていることを特徴とする装置(200)。
- 請求項2に記載の装置(200)であって、前記コンピューティングユニットが、前記焦点位置zの前記時間依存値ztを、式
zt(ΔP,t)=A・m2・ΔP・(1-e-t/τ)
を使用して計算するように構成されており、
ここでΔP=P-P0であり、P0は基準レーザ出力を示し、時間t=0は、レーザ出力の変化ΔP≠0が生じる時間として定義される
ことを特徴とする装置(200)。 - 請求項3に記載の装置(200)であって、前記コンピューティングユニットは、前記レーザ出力Pが既知のときに、フィルタ信号によって項ΔP・(1-e-t/τ)を指数関数的に近似し、前記時間tに明示的には依存しないzt(ΔP)を用いて、レーザ出力の関数として前記焦点位置zの前記時間依存値ztを計算するように構成されていることを特徴とする装置(200)。
- 請求項3または4に記載の装置(200)であって、前記現在のレーザ出力Pを検出するための手段(220)をさらに備え、前記手段(220)が、1つ以上の出力センサおよび/またはデータインターフェースであって、それを介して前記現在のレーザビーム出力に関するデータを受信することができる、1つ以上の出力センサおよび/またはデータインターフェースを備えることを特徴とする装置(200)。
- 請求項1から5のいずれか1項に記載の装置(200)であって、前記制御ユニットが、前記レーザビーム(10)の前記所定の焦点位置Zを、前記焦点位置の前記時間依存値ztおよび定常値z0に基づき設定するように構成されており、前記定常値z0が、基準レーザ出力P0に対する焦点位置zを示すことを特徴とする装置(200)。
- 請求項6に記載の装置(200)であって、前記コンピューティングユニットにおいてまたは前記制御ユニットにおいて、前記焦点位置Zを設定するように構成された前記レーザビーム光学部品のうちの少なくとも1つの可動光学素子の位置L1が、少なくとも1つの基準レーザ出力P0に対する焦点位置の定常値z0に対応した制御曲線として記憶されることを特徴とする装置(200)。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の装置(200)であって、前記制御ユニットが、前記レーザビーム(10)の前記所定の焦点位置Zを、さらにオフセットzOffに基づき設定するように構成されていることを特徴とする装置(200)。
- 請求項1から8のいずれか1項に記載の装置(200)であって、少なくとも前記レーザ出力に依存した焦点シフトA、および/または前記時定数τ、および/または少なくとも1つのオフセットzOffに関するユーザ入力を受け取るように構成されたユーザインターフェースをさらに備えることを特徴とする装置(200)。
- 請求項2から9のいずれか1項に記載の装置(200)であって、前記レーザビーム光学部品が、異なる設定可能な倍率miを有するズームシステムを備え、オフセットzOff,miが、前記倍率miごとに設定されることが可能であることを特徴とする装置(200)。
- 請求項1から10までのいずれか1項に記載の装置(200)であって、前記焦点位置zを設定するための前記設定ユニット(150)が、前記焦点位置を設定するように構成された前記レーザビーム光学部品のうちの少なくとも1つの可動光学素子の位置L1を設定するように構成されていることを特徴とする装置(200)。
- 請求項11に記載の装置(200)であって、前記コンピューティングユニットが、前記所定の焦点位置Zに対応する前記設定ユニット(150)のための設定値を計算するように構成され、前記設定値が、前記所定の焦点位置Zに対応する前記可動光学素子の位置を含むことを特徴とする装置(200)。
- 請求項1から12のいずれか1項に記載の装置(200)であって、前記レーザビーム光学部品(115、120)が、コリメータ光学部品(115)、焦点合わせ光学部品(120)、ズーム光学部品、ビームシェイピング光学部品、および保護ガラスからなるグループから選択される少なくとも1つの光学素子を備え、前記少なくとも1つの光学素子が、温度依存性の屈折力を有し、および/または可動であり、前記焦点位置Zを設定するように構成されていることを特徴とする装置(200)。
- レーザビームによって加工物を機械加工するためのレーザ機械加工システム(100)であって、
前記レーザビーム(110)のビーム経路内のレーザビーム光学部品(115、120)であって、温度依存性の屈折力を有する少なくとも1つの光学素子を備えるレーザビーム光学部品(115、120)と、
請求項1から13のいずれか1項に記載の装置(200)と
を備えることを特徴とするレーザ機械加工システム(100)。 - レーザ機械加工システム(100)において、レーザビーム(10)の所定の焦点位置(Z)を設定するための方法であって、
第1のパラメータ、第2のパラメータ、および第3のパラメータを提供するステップであって、前記第1のパラメータが、レーザ出力依存性の焦点シフトAを示し、前記第2のパラメータが、レーザビーム光学部品のうちの少なくとも1つの光学素子の、温度により誘発される屈折力の変化に起因した、1/eになる焦点位置の変化の時定数τを示し、前記第3のパラメータが、時間tにおける現在のレーザ出力Pを示す、ステップと、
前記焦点位置(z)の時間依存値ztを、前記第1のパラメータ、前記第2のパラメータ、および前記第3のパラメータに基づき計算するステップと、
前記レーザビーム(10)の前記所定の焦点位置(Z)を、前記時間依存値ztに基づき設定するステップと
を含むことを特徴とする方法。
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