JP7162666B2 - 像面検出技術を使用して対象のパラメータを測定するための方法及び装置 - Google Patents

Description

関連出願の相互参照
[0001] 本出願は、２０１８年２月１４日に出願された欧州特許出願公開第１８１５６６２５．８号の優先権を主張するものであり、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

[0002] 本発明は、例えば、リソグラフィ技術によるデバイスの製造に使用可能なメトロロジ方法及び装置、並びにリソグラフィ技術を使用してデバイスを製造する方法に関する。本発明は、特に、像面検出技術を使用して対象のパラメータを測定するための方法及び装置に関する。

[0003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常は基板のターゲット部分上に施す機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その事例では、ＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンを生成するために、マスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスが使用されることがある。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、１つ又はいくつかのダイの一部分を含む）に転写することができる。パターンの転写は、典型的には、基板上に設けられた放射感応性材料（例えば、レジスト）層上への結像により行われる。概して、単一の基板は、連続的にパターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含む。

[0004] リソグラフィプロセスでは、プロセス制御及び検証などのために、作製された構造の測定を頻繁に行うことが望ましい。クリティカルディメンジョン（「ＣＤ」）を測定するためにしばしば使用される、走査電子顕微鏡と、デバイスにおける２つの層のアライメントの精度である、オーバーレイを測定するための専用ツールとを含む、かかる測定を行うための種々のツールが知られている。ＣＤ及びオーバーレイは、前述の測定ツールのいくつかを使用して測定され得る、本明細書では交換可能に対象の特性とも呼ばれる、２つの代表的な対象のパラメータである。近年、リソグラフィ分野で使用される、種々の形態のスキャトロメータが開発されている。これらのツール又はデバイスは、ターゲット上に放射ビームを誘導し、散乱放射の１つ又は複数の特性を測定し、これらの特性は、１つ又は複数の対象のパラメータに関連付けられる場合がある。例えば、波長の関数としての単一反射角での強度、反射角の関数としての１つ若しくは複数の波長における強度、又は反射角の関数としての偏光を使用して、回折「スペクトル」を得ることができ、この回折「スペクトル」から、ターゲットの対象のパラメータを決定することができる。

[0005] 既知のスキャトロメータの例としては、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願公開第２００６／００３３９２１号及び米国特許出願公開第２０１０／０２０１９６３号で説明されているタイプの角度分解スキャトロメータが挙げられ、これら特許文献の開示全体が参照により本明細書に組み込まれる。そのようなスキャトロメータによって使用されるターゲットは、比較的大きな格子（例えば、４０μｍ×４０μｍ）であり、測定ビームは格子よりも小さなスポットを生成する（つまり、格子がアンダーフィルされる）。再現によるフィーチャ形状の測定に加えて、回折に基づくオーバーレイは、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願公開第２００６／００６６８５５号で説明されているような装置を使用して測定することができ、この特許文献の開示全体が参照により本明細書に組み込まれる。回折次数の暗視野結像を使用する、回折に基づくオーバーレイメトロロジは、より小さなターゲットのオーバーレイ及び他のパラメータの測定を可能にする。これらのターゲットは、照明スポットよりも小さいものとすることができ、且つ基板上の製品構造によって取り囲まれてもよい。隣接する製品構造から生じる強度は、像平面の暗視野検出によって、オーバーレイターゲットから生じる強度から効率的に分離することができる。

[0006] 暗視野結像メトロロジの例は、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願公開第２０１０／０３２８６５５号及び米国特許出願公開第２０１１／００６９２９２号に見出すことができ、これら特許文献の開示全体が参照により本明細書に組み込まれる。本技術のさらなる発展形態は、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願公開第２０１１／００２７７０４号、米国特許出願公開第２０１１／００４３７９１号、米国特許出願公開第２０１１／０１０２７５３号、米国特許出願公開第２０１２／００４４４７０号、米国特許出願公開第２０１２／０１２３５８１号、米国特許出願公開第２０１２／０２４２９７０号、米国特許出願公開第２０１３／０２５８３１０号、及び米国特許出願公開第２０１３／０２７１７４０号、並びに国際公開第２０１３／１７８４２２号で説明されており、これらの各特許文献の開示全体が参照により本明細書に組み込まれる。典型的には、これらの方法では、ターゲット構造の特性として非対称性を測定することが望ましい。ターゲットは、非対称性の測定値を使用して、非限定的に、オーバーレイ、焦点、及び／又はドーズ量などの、種々の対象のパラメータの測定値を得ることができるように設計することができる。ターゲット構造の非対称性は、スキャトロメータを使用して回折スペクトルの両側部分間の強度の差を検出することによって測定される。非対称性の測定値を得るために、例えば、＋１及び－１の回折次数の強度が比較されてもよい。

[0007] これらの既知の技術では、ターゲット内の周期構造（格子）から＋１及び－１の回折次数を得るために、適切な照明モード及像検出モードが使用される。各回折次数は、分離した瞳像又は暗視野像に捕捉されてもよく、又は技術を使用して、＋１及び－１次数の両方を単一の瞳像又は暗視野像の異なる部分に捕捉することができ、これによって、各測定に関連する時間的不利益が低減される。暗視野結像技術では、複数の格子を含む複合ターゲットは、同時に結像でき、異なる向きで異なるようにバイアスをかけられた格子から回折次数を同時に捕捉することを可能にする。本発明の譲受人に譲渡された上述の米国特許出願公開第２０１１／０１０２７５３号で説明されているように、複数の光学楔要素を追加的に使用して、暗視野結像において、１つ又は複数の格子の＋１及び－１次数の両方を単一像に捕捉することも可能である。回折スペクトルの各部分を使用するターゲットの像は、像センサ上で空間的に離れているように見える。これによって、対象のパラメータの各測定に関連する時間的不利益がさらに低減される。

[0008] 多くの場合、得られた非対称性信号は、対象の性能パラメータだけでなく、程度は未知であるが、プロセス変数に依存する。対象のパラメータの測定精度を向上させるために、暗視野像結果を利用して共偏光光を測定することが可能な方法及び装置が必要である。

[0009] 本発明の特徴及び利点、並びに種々の実施形態の構造及び動作について、添付の図面を参照しながら以下に詳細に説明する。本発明は本明細書で説明する具体的な実施形態に限定されないことに留意されたい。そのような実施形態は、単なる例示の目的で本明細書において提示される。追加の実施形態は、本明細書に含まれる教示に基づいて当業者に明らかになるであろう。

[0010] 一態様では、光学システムと結像システムとを含む検査装置が提供される。光学システムは、１つ又は複数のフィーチャを含むターゲットに入射する照明ビームを出力するように構成されてもよい。照明ビームは、ターゲットに入射したときに第１の偏光を含むように構成されてもよい。結像システムは、１つ又は複数のフィーチャによって散乱された照明ビームの少なくとも一部分を表す強度データを得るように構成されてもよく、照明ビームの部分は、第１の偏光に直交する第２の偏光を含む。結像システムは、強度データに基づいて１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成し且つ第２の偏光を有する照明ビームの部分の量に基づいて１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定するようにさらに構成されてもよい。

[0011] 別の態様において、方法が提供される。本方法は、１つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットに入射するように光学システムから照明ビームを出力することと、第１のフィルタコンポーネントを使用して照明ビームに第１の偏光を持たせることと、第２のフィルタコンポーネントが第１のフィルタコンポーネントに直交して位置する、第２のフィルタコンポーネントを使用して、１つ又は複数のフィーチャから散乱する照明ビームの少なくとも一部分に第２の偏光を持たせることと、結像システムによって、照明ビームの少なくとも一部分を表す強度データを得ることと、強度データに基づいて１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成することと、第２の偏光を有する照明ビームの部分の量に基づいて１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定することとを含み得る。

[0012] さらに別の態様において、システムが提供される。システムは、光学システムと、第１のフィルタコンポーネントと、ターゲットと、第２のフィルタコンポーネントとを含み得る。光学システムは、照明ビームを出力するように構成されてもよい。第１のフィルタコンポーネントは、照明ビームが、第１のフィルタコンポーネントを通過した後に、第１の偏光を有するように偏光されるように、照明ビームを受け取って照明ビームに第１の偏光を持たせるように構成されてもよい。ターゲットは、１つ又は複数のフィーチャを含み得、第１の偏光を有する照明ビームがターゲットに入射し、１つ又は複数のフィーチャによって散乱された照明ビームの少なくとも一部分が、第１の偏光に直交する第２の偏光を含む。第２のフィルタコンポーネントは、第２の偏光を含む照明ビームの部分を受け取るように構成されてもよく、第２のフィルタコンポーネントを通過した後に、照明ビームの残り部分が、第２の偏光を有する照明ビームの残り部分の量に関連付けられ且つ１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータを表すように、第２のフィルタコンポーネントが、照明ビームの部分に第２の偏光を持たせるように構成される。

[0013] ここで、本発明の実施形態について添付の図面を参照しながら例として説明する。

[0014]種々の実施形態による、半導体デバイスの生産設備を形成する他の装置と共にリソグラフィ装置を描く。 [0015]（ａ）種々の実施形態による、角度分解スキャトロメトリ及び暗視野結像検査法を実行するようになされた検査装置と、（ｂ）種々の実施形態による、装置内のターゲット格子による入射放射の回折の拡大詳細をそれぞれ概略的に図示する。 [0016]種々の実施形態による、ゼロ次及びより高次の回折放射の重ね合わせた図を用いて、図２の装置で使用される１対の波長選択フィルタを概略的に図示する。 [0017]種々の実施形態による、代表的な検査装置の例示図である。 [0018]種々の実施形態による、図４の代表的な検査装置内で用いられる楔要素の例示図である。 [0018]種々の実施形態による、図４の代表的な検査装置内で用いられる楔要素の例示図である。 [0019]種々の実施形態による、図４の代表的なリソグラフィ装置内で使用される２つの代表的なフィルタコンポーネントの例示図である。 [0019]種々の実施形態による、図４の代表的なリソグラフィ装置内で使用される２つの代表的なフィルタコンポーネントの例示図である。 [0020]種々の実施形態による、図４の代表的なリソグラフィ装置内で使用される別の２つの代表的なフィルタコンポーネントの例示図である。 [0020]種々の実施形態による、図４の代表的なリソグラフィ装置内で使用される別の２つの代表的なフィルタコンポーネントの例示図である。 [0021]種々の実施形態による、図４の検査装置を使用して測定された対象のパラメータを表す像の例示のグラフである。 [0022]種々の実施形態による、フィルタコンポーネントを通過した後に楔要素によってオフセットされる代表的な粒子経路の例示図である。 [0023]種々の実施形態による、基板の２つの層間のオーバーレイの例示図である。 [0024]種々の実施形態による、対象のパラメータを測定するために検査装置と併せて２段階フィルタリング技術を適用するための代表的なプロセスの例示的なフローチャートである。 [0025]種々の実施形態による、代表的なコンピュータシステムの例示図である。

[0026] 本発明の実施形態を詳細に説明する前に、本発明の実施形態が実施され得る例示の環境を提示することが有益である。

[0027] 図１は、種々の実施形態による、半導体デバイスの生産設備を形成する他の装置と共にリソグラフィ装置を描いている。図１は、リソグラフィ大量製造プロセスを実施する産業設備の一部分としてのリソグラフィ装置ＬＡを１００で示している。本例では、製造プロセスは、半導体ウェーハなどの基板上の半導体製品（集積回路）の製造に適している。当業者であれば、このプロセスの変形例において異なるタイプの基板を処理することによって多様な製品を製造できることが分かるであろう。今日、商業的に非常に重要である半導体製品の生産は、単なる例として使用される。

[0028] リソグラフィ装置（lithographic apparatus）又はリソグラフィ装置（lithography apparatus）（若しくは略して「リソツール」１００）内では、測定ステーションＭＥＡは符号１０２で示されており、露光ステーションＥＸＰは符号１０４で示されている。制御ユニットＬＡＣＵは符号１０６で示されている。この例では、各基板は、測定ステーションと、パターンが施される露光ステーションとに滞在する。光リソグラフィ装置では、例えば、調整された放射及び投影システムを使用してパターニングデバイスＭＡから基板上に製品パターンを転写するために、投影システムが使用される。この転写は、放射感応性レジスト材料の層にパターン像を形成することによって行われる。

[0029] 本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射に対して、又は液浸液の使用若しくは真空の使用などの他の要因に対して適切とされる、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁気型及び静電型光学システム、又はこれらの任意の組み合わせを含む、任意のタイプの投射システムを包含するものとして広く解釈されるべきである。パターニングデバイスＭＡは、パターニングデバイスによって透過又は反射される放射ビームにパターンを付与する、マスク又はレチクルであってもよい。周知の動作モードには、ステッピングモードとスキャンモードがある。周知のように、投影システムは、基板全体にわたる多くのターゲット部分に所望のパターンを施すために、基板及びパターニングデバイスのための支持及び位置決めシステムと様々な様式で協働してもよい。プログラマブルパターニングデバイスは、固定パターンを有するレチクルの代わりに使用されてもよい。放射は、例えば、深紫外線（ＤＵＶ）又は極紫外線（ＥＵＶ）周波帯の電磁放射を含み得る。本開示は、他のタイプのリソグラフィプロセス、例えば、電子ビームによる、例えば、インプリントリソグラフィ及びダイレクトライティングリソグラフィにも適用可能である。

[0030] リソグラフィ装置制御ユニット（「ＬＡＣＵ」）は、種々のアクチュエータ及びセンサの動き及び測定を制御して、装置ＬＡに基板Ｗ及びレチクルＭＡを受け取らせ、パターニング動作を実施させる。ＬＡＣＵはまた、装置の動作に関連する所望の計算を実施する信号処理及びデータ処理能力を含む。実際、制御ユニットＬＡＣＵは、各々が装置内のサブシステム又はコンポーネントのリアルタイムデータ取得、処理及び制御を扱う、多くのサブユニットのシステムとして実現される。

[0031] 露光ステーションＥＸＰで基板にパターンが施される前に、基板は、種々の準備ステップが実行され得るように測定ステーションＭＥＡで処理される。準備ステップは、レベルセンサを使用して基板の表面高さをマッピングすることと、アライメントセンサを使用して基板上のアライメントマークの位置を測定することとを含み得る。アライメントマークは、名目上、規則的な格子パターンで配置される。しかしながら、マークの作成における不正確さに起因し、且つ処理全体を通じて発生する基板の変形にも起因して、マークが理想的な格子から逸脱する。結果として、装置が非常に高い精度で正確な箇所に製品フィーチャを印刷すべきである場合、実際にアライメントセンサは、基板の位置及び向きの測定に加えて、基板エリア全体にわたる多くのマークの位置を詳細に測定しなければならない。装置は、各基板テーブルが、制御ユニットＬＡＣＵによって制御される位置決めシステムを備える、２つの基板テーブルを有するいわゆるデュアルステージタイプであってもよい。一方の基板テーブル上の１つの基板を露光ステーションＥＸＰで露光している間に、別の基板を測定ステーションＭＥＡにおける他方の基板テーブル上に装填することができ、結果として、種々の準備ステップが実行されてもよい。それゆえ、アライメントマークの測定は非常に時間がかかり、２つの基板テーブルを設けることによって、装置のスループットの大幅な向上が可能となる。基板テーブルが測定ステーションにあるとき及び露光ステーションにあるときに位置センサＩＦが基板テーブルの位置を測定できない場合には、基板テーブルの位置を両方のステーションで追跡できるように第２の位置センサが設けられてもよい。リソグラフィ装置ＬＡは、例えば、２つの基板テーブルＷＴａ及びＷＴｂと、２つのステーション（露光ステーション及び測定ステーション）であって、これらの間で基板テーブルを交換できる２つのステーションとを有するいわゆるデュアルステージタイプである。

[0032] 生産設備内では、装置１００は、装置１００によるパターニングのために感光性レジスト及び他のコーティングを基板Ｗに塗布するためのコーティング装置１０８も含む「リソセル」又は「リソクラスタ」の一部分を形成する。装置１００の出力側には、露光パターンを物理的なレジストパターンに現像するためのベーキング装置１１０及び現像装置１１２が設けられる。これらの装置全ての間で、基板ハンドリングシステムは、基板の支持と、１台の装置から次の装置への基板の移送とを引き受ける。総称して「トラック」と呼ばれることが多い、これらの装置は、トラック制御ユニットの制御下にあり、このトラック制御ユニットは、それ自体、監視制御システムＳＣＳによって制御され、監視制御システムＳＣＳはまた、リソグラフィ装置制御ユニットＬＡＣＵを介してリソグラフィ装置も制御する。したがって、スループット及び処理効率を最大にするように異なる装置を動作させることができる。監視制御システムＳＣＳは、各パターン付き基板を作製するために実行すべきステップの定義を非常に詳細に示すレシピ情報Ｒを受け取る。

[0033] リソセルにおいてパターンが施されて現像されたときに、パターン付き基板１２０は、１２２、１２４、及び１２６で図示するような他の処理装置に移送される。種々の装置が、典型的な製造設備において多様な処理ステップを実施する。例として、本実施形態における装置１２２は、エッチングステーションであり、且つ装置１２４は、エッチング後のアニーリングステップを実行する。さらなる物理的及び／又は化学的処理ステップは、さらなる装置１２６などにおいて適用される。実際のデバイスを作製するために、例えば、材料の堆積、表面材料特性の修正（酸化、ドーピング、イオン注入など）、化学機械研磨（ＣＭＰ）などの、数多くのタイプの動作が必要となる可能性がある。装置１２６は、実際には、１つ又は複数の装置において実行される一連の異なる処理ステップを表し得る。

[0034] 周知のように、半導体デバイスの製造は、適切な材料及びパターンを用いて基板上の層毎にデバイス構造を構築するために、かかる処理を多数繰り返すことを伴う。よって、リソクラスタに達した基板１３０は、新たに準備された基板であってもよく、又は基板１３０は、このクラスタで若しくは全く別の装置で既に処理された基板であってもよい。同様に、必要な処理に応じて、装置１２６から出た基板１３２は、後続のパターニング動作のために同じリソクラスタ内に戻されてもよく、異なるクラスタ内でのパターニング動作が予定されていてもよく、又はダイシング及びパッケージングのために送られる完成品であってもよい。

[0035] 製品構造の各層は、プロセスステップの異なる１セットを必要とし、且つ各層で使用される装置１２６は、タイプが完全に異なってもよい。さらに、装置１２６によって適用すべき処理ステップが名目上同じである場合であっても、大型設備では、異なる基板上でステップ１２６を実行するために並行して作業する同一であると考えられるいくつかの機械が存在してもよい。これらの機械間の設定における僅かな相違又は障害は、異なる様式で異なる基板に影響を及ぼすことを意味し得る。エッチング（装置１２２）などの、各層に比較的共通のステップであっても、名目上同一であるがスループットを最大にするために並行して作業するいくつかのエッチング装置によって、実施され得る。さらに、実際には、異なる層は、エッチングすべき材料の詳細に応じて、異なるエッチングプロセス、例えば化学エッチング、プラズマエッチング、及び例えば、異方性エッチングなどの特別な要件を必要とする。

[0036] 前述のように、前の及び／又は後続のプロセスは、他のリソグラフィ装置で実行されてもよく、さらには、異なるタイプのリソグラフィ装置で実行されてもよい。例えば、解像度及びオーバーレイなどのパラメータにおいて要求が非常に多いデバイス製造プロセスにおけるいくつかの層は、要求の少ない他の層よりも高度なリソグラフィツールで実行されてもよい。それゆえ、いくつかの層は液浸型リソグラフィツールで露光されてもよく、その一方で、その他は「ドライ」ツールで露光される。いくつかの層はＤＵＶ波長で動作するツールで露光されてもよく、その一方で、その他はＥＵＶ波長放射を使用して露光される。

[0037] リソグラフィ装置によって露光される基板が正確に一貫して露光されるように、種々の対象のパラメータなどの、それらの基板の特性を測定するために、露光された基板を検査することが望ましい。種々のタイプの対象のパラメータは、限定されるものではないが、後続の層間のオーバーレイエラー、ライン厚さ、ドーズ量、及びクリティカルディメンジョン（「ＣＤ」）を含み得る。よって、リソセルＬＣが位置する製造設備は、リソセルにおいて処理された基板Ｗのいくつか又は全てを受け取るメトロロジシステムＭＥＴも含む。メトロロジ結果は、監視制御システム（ＳＣＳ）１３８に直接又は間接的に提供される。エラーが検出された場合、特に同じバッチの他の基板が露光されないうちに十分に早急に且つ迅速に計測を実行できる場合は、後続の基板の露光に対して調整が行われてもよい。また、既に露光された基板は、歩留まりを向上させるために取り除かれて再加工されるか、又は廃棄されてもよく、それよって、欠陥があると思われる基板にさらなる処理を実行することを回避する。基板のいくつかのターゲット部分にのみ欠陥がある場合には、「良好である」、すなわち欠陥のないターゲット部分に対してのみさらなる露光を実行することができる。

[0038] また、製造プロセスの所望の段階で製品のパラメータの測定を行うために提供される、メトロロジ装置１４０が図１に示されている。最新のリソグラフィ生産設備におけるメトロロジ装置の一般的な例は、スキャトロメータ、例えば角度分解スキャトロメータ又は分光スキャトロメータであり、メトロロジ装置は、装置１２２でのエッチングに先立って現像された基板１２０の特性を測定するために利用されてもよい。メトロロジ装置１４０を使用して、例えば、オーバーレイ及び／又はＣＤなどの、重要な対象のパラメータが、現像されたレジストの指定された精度要件を満たさないことが分かることがある。エッチングステップに先立って、現像されたレジストを剥離し、リソクラスタによって基板１２０を再処理する機会が存在する。また、周知のように、装置１４０からのメトロロジ結果１４２を使用して、監視制御システムＳＣＳ及び／又は制御ユニットＬＡＣＵ１０６が長期にわたる小調整を行うことによって、リソクラスタでのパターニング動作の高精度の性能を維持することができ、それにより、製品が規格外れになって再加工を必要とするリスクが最小限に抑えられる。当然ながら、メトロロジ装置１４０及び／又は他のメトロロジ装置（図示せず）は、処理済み基板１３２、１３４及び投入基板１３０の特性を測定するために利用されてもよい。

例示の検査装置
[0039] 図２（ａ）及び図２（ｂ）は、種々の実施形態による、角度分解スキャトロメトリ及び暗視野結像検査法を実行するようになされた検査装置と、種々の実施形態による、装置内のターゲット格子による入射放射の回折の拡大詳細をそれぞれ概略的に図示している。図２（ａ）は、いわゆる暗視野結像メトロロジを実施する検査装置の要素を概略的に示している。装置は、スタンドアロン型デバイスであってもよく、又は、図１を参照して上で説明したように、（例えば測定ステーションにおける）リソグラフィ装置ＬＡ若しくはリソグラフィセルＬＣに組み込まれてもよい。点線Ｏは、装置全体にわたっていくつかの分岐を有する、光軸を表す。図２（ｂ）には、ターゲット格子構造Ｔ及び回折光線がより詳細に図示されている。

[0040] 冒頭に引用した先行出願で説明されているように、図２（ａ）の暗視野結像装置は、分光スキャトロメータの代わりに又は分光スキャトロメータに加えて使用され得る多目的角度分解スキャトロメータの一部分であってもよい。いくつかの実施形態では、検査装置は、光学システム２００を含み得る。光学システム２００は、照明システム１２によって調整され得る、放射を放出することが可能な放射源１１を含み得る。例えば、照明システム１２は、コリメートレンズシステム１２ａと、カラーフィルタ１２ｂと、ポラライザ１２ｃと、アパーチャデバイス１３とを含み得る。この特定のシナリオでは、光学システム２００の出力は、特定の波長（例えば、４００ｎｍ）を有する照明ビームであり得るが、照明ビームの特性は、取得すべき測定値に応じて調整されてもよい。調整された放射は、照明経路ＩＰをたどり、照明経路ＩＰ内で部分反射面１５によって反射され、顕微鏡対物レンズ１６を介して基板Ｗ上のスポットＳに合焦される。メトロロジターゲットＴは、基板Ｗ上に形成されてもよい。レンズ１６は、一実施形態では、好ましくは少なくとも０．９、より好ましくは少なくとも０．９５の高い開口数（ＮＡ）を有する。所望であれば、液浸流体を使用して１を超える開口数を得ることができる。

[0041] この例における対物レンズ１６は、ターゲットＴによって散乱された放射を収集する役割も果たす。この戻り放射用として収集経路ＣＰが概略的に示されている。多目的スキャトロメータは、収集経路に２つ以上の測定分岐を有し得る。図示の例は、瞳結像光学システム１８及び瞳像センサ１９を備える瞳結像分岐を含む。以下により詳細に説明する、結像分岐も示されている。さらに、実用装置には、例えば、強度正規化のため、捕捉ターゲットの粗い結像のため、合焦などのための基準放射を収集するために、追加の光学システム及び分岐が含まれ得る。これらの詳細は、上述の先行公報に見出すことができる。

[0042] メトロロジターゲットＴが基板Ｗに設けられる場合、メトロロジターゲットＴは、現像後に、バーが固体レジストラインから形成され得るように印刷され得る、１Ｄ格子であってもよい。ターゲットＴは、現像後に、格子が固体レジストピラー又はレジスト内のビアから形成されるように印刷され得る、２Ｄ格子であってもよい。バー、ピラー、及び／又はビアは、代替的に、基板にエッチングで形成されてもよい。これらの格子の各々は、検査装置を使用して特性（例えば、対象のパラメータ）が調べられ得るターゲット構造の例である。格子の場合に、例えば、構造は周期的である。

[0043] 光学システム２００、特に照明システム１２の種々のコンポーネントは、同じ装置内で異なるメトロロジ「レシピ」を実施するために調整可能とすることができる。照明放射の特性として波長（色）及び偏光を選択することに加えて、光学システム２００及び／又は照明システム１２は、異なる照明プロファイルを実施するように調整することができる。アパーチャデバイス１３の平面は、対物レンズ１６の瞳面及び瞳像検出器１９の平面と共役である。それゆえ、アパーチャデバイス１３によって定められる照明プロファイルは、スポットＳにおいて基板Ｗに入射する光の角度分布を規定する。異なる照明プロファイルを実施するために、照明経路にアパーチャデバイス１３を設けることができる。アパーチャデバイス１３は、可動式スライダ又はホイールに取り付けられた異なる開口を備え得る。アパーチャデバイスは、プログラマブル空間光変調器を代替的に備え得る。さらなる代替案として、光ファイバは、照明瞳面内の異なる箇所に配置され、光ファイバのそれぞれの箇所で光を搬送するか又は光を搬送しないように選択的に使用されてもよい。これらの変形例は、全て上記で引用した文献に記載され、例示されている。

[0044] 照明モードに応じて、光学システム２００は、入射角が図２（ｂ）の「Ｉ」で示すように例示の光線３０ａを出力させてもよい。ターゲットＴによって反射されたゼロ次光線の経路は、「０」（光軸「Ｏ」と混同しないように）と符号が付されている。同様に、同じ照明モード又は第２の照明モードでは、光線３０ｂは、光学システム２００によって出力することができ、その場合、入射角及び反射角は、第１のモードと比較して入れ替えられる。図２（ａ）では、例えば、第１及び第２の例示の照明モードの０次光線は、それぞれ０ａ及び０ｂと符号が付されている。

[0045] 図２（ｂ）により詳細に示すように、ターゲット構造の例としてのターゲット格子Ｔは、基板Ｗが対物レンズ１６の光軸Ｏに垂直な状態で配置される。オフアクシス照明プロファイルの場合、軸Ｏから外れた角度から格子Ｔに衝突する照明Ｉの光線３０ａは、０次光線（実線０）及び２つの１次光線（一点鎖線＋１及び二点鎖線－１）を生じさせる。オーバーフィルされた小さなターゲット格子では、これらの光線は、メトロロジターゲット格子Ｔ及び他のフィーチャを含む基板のエリアを覆う多くの平行光線の１つに過ぎないことに留意されたい。例えば、照明光線３０ａを含む照明ビームは（有用な光量を得るのに必要な）有限幅を有するので、入射光線Ｉは、実際にはある角度範囲を占め、回折光線０及び＋１／－１はある程度広がる。小さなターゲットの点像分布関数によれば、各次数＋１及び－１は、図示のような単一の理想的な光線ではなく、ある角度範囲にわたってさらに広がる。

[0046] 暗視野結像用の収集経路の分岐では、交換可能に結像システム２０とも呼ばれ得る、結像システム２０は、センサ２３（例えばＣＣＤ又はＣＭＯＳセンサ）上に基板Ｗ上のターゲットの像Ｔ’を形成してもよい。開口絞り２１は、対物レンズ１６の瞳面と共役である収集経路ＣＰの結像分岐の平面に設けられてもよい。開口絞り２１は、瞳孔絞りと呼ばれることもある。開口絞り２１は、照明開口が異なる形状をとることができるのと同様に、異なる形状をとることができる。開口絞り２１は、レンズ１６の有効開口と組み合わせて、散乱放射のどの部分がセンサ２３上に像を生成するために使用されるかを決定する。典型的には、開口絞り２１は、センサ２３上に形成されるターゲットの像が１次ビームのみから形成されるように、０次の回折ビームを遮断するように機能する。両方の１次ビームが結合して像を形成する例では、これは、暗視野顕微鏡検査法と同等の、いわゆる暗視野像である。

[0047] 結像システム２０のセンサ２３によって捕捉された像は、画像プロセッサ及びコントローラＰＵに出力され、その機能は、実行される特定のタイプの測定に依存する。結像システム２０は、一実施形態では、画像プロセッサ及びコントローラＰＵを含み得るが、いくつかの実施形態では、画像プロセッサ及びコントローラＰＵは、結像システム２０とは別個のものであり且つ結像システム２０と通信してもよい。本目的のために、ターゲット構造の非対称性の測定が実行される。非対称性測定は、ターゲット構造の知識と組み合わせて、ターゲット構造を形成するために使用されるリソグラフィプロセスの性能パラメータ（例えば、対象のパラメータ）の測定値を得ることができる。このようにして測定できる対象のパラメータには、例えば、オーバーレイ、焦点、ＣＤ及びドーズ量が含まれる。同じ非対称性測定方法を通じてこれらの異なる対象のパラメータの測定を可能にするように、特別なターゲット設計が提供されてもよい。

[0048] 再び図２（ｂ）及び照明光線３０ａを参照すると、ターゲット格子からの＋１次回折光線は、対物レンズ１６に入射し、センサ２３で記録された像に寄与し得る。光線３０ｂは、光線３０ａとは反対の角度で入射するので、－１次回折光線が対物レンズに入射して像に寄与する。開口絞り２１は、オフアクシス照明を使用するときに０次放射を遮断するように構成されてもよい。上述の先行公報で説明されているように、照明モードは、Ｘ及びＹ方向のオフアクシス照明で定義することができる。

[0049] これらの異なる照明モードの下でのターゲット格子の像を比較することによって、非対称性測定値を得ることができる。代替的に、同じ照明モードを維持するが、ターゲットを回転させることによって、非対称性測定値を得ることができる。オフアクシス照明が示されているが、代わりにターゲットのオンアクシス照明が使用されてもよく、修正されたオフアクシス開口絞り２１を使用して、実質的に１つのみの１次回折光をセンサに送ることができる。さらなる例では、１対のオフアクシスプリズム２２が、オンアクシス照明モードと組み合わせて使用され得る。本明細書では楔要素とも呼ばれる、これらのプリズムは、２つの連続的な像捕捉ステップを必要とせずに回折光線を検出して比較できるように、回折光線（例えば、＋１次及び－１次）をセンサ２３上の異なる箇所にそらす効果をもたらす。例えば、図２（ａ）では、照明光線３０ａからの＋１次回折を使用して作られた像Ｔ’（＋１ａ）は、照明光線３０ｂからの－１次回折を使用して作られた像Ｔ’（－１ｂ）から空間的に離れている。この技術は、本発明の譲受人に譲渡された上述の米国特許出願公開第２０１１／０１０２７５３号に開示されており、その内容は参照によって本明細書に組み込まれる。１次ビームの代わりに、又は１次ビームに加えて、第２の（２次）、第３の（３次）、及びより高次のビーム（図２ａ及び図２ｂには図示せず）を測定に使用することができる。さらなる変形形態として、対物レンズ１６の真下でターゲット自体を１８０度回転させ、反対の回折次数を使用して像を捕捉する間に、オフアクシス照明モードを一定に保つことができる。

[0050] 従来のレンズに基づく結像システムが図示されているが、本明細書で開示する技術は、プレノプティックカメラ、さらに、いわゆる「レンズレス」又は「デジタル」結像システムに等しく適用することができる。それゆえ、回折放射用の処理システムのどの部分が光学領域で実装されるか、並びにどれが電子領域及びソフトウェア領域で実装されるかといった設計上の選択肢が広い。

２波長捕捉－原理
[0051] 図３は、種々の実施形態による、ゼロ次及びより高次の回折放射の重ね合わせた図を用いて、図２ａ及び図２ｂの装置で使用される１対の波長選択フィルタを概略的に図示している。図３は、図２（ａ）の装置において２つの波長の回折スペクトルを同時に捕捉することを可能にするための分割式波長選択フィルタの使用を図示している。第１のフィルタ３００は、光学システム２００におけるアパーチャデバイス１３の代わりに使用されてもよい。第１のフィルタ３００は、光波長スペクトルにおける１つ又は複数の第１の通過帯域を有する第１の部分３００－１と、１つ又は複数の第２の通過帯域を有する第２の部分３００－２とを備える。このようなフィルタは、例えば、特性の異なる２つのフィルタをセグメントに切断して所望の配置でセグメントを互いに接着することによって製作することができる。

[0052] 第２のフィルタ３１０は、開口絞り２１の代わりに使用されてもよい。フィルタ３１０は、フィルタ３００と形態が非常に類似しており、第２の波長範囲内の放射を遮断する一方で第１の波長範囲内の放射を透過する第１の部分３１０－１を有し、且つ第１の波長範囲内の放射を遮断する一方で第２の波長範囲内の放射を透過する第２の部分３１０－１を有し得る。

[0053] 図３には、フィルタ３００を通過する２つの例示の照明光線３０２及び３０４が図示されている。照明光線３０２及び３０４は、一実施形態では、光学システム２００によって出力された照明ビームの一部分に相当し得る。対応する位置３０２’及び３０４’が、第２のフィルタ３１０の図面に表されている。例示的な実施形態では、第２のフィルタ３１０は、第２のフィルタ３１０の第１の部分３１０－１が、フィルタの中心を通過する光軸Ｏに関して、瞳面内の、第１のフィルタ３００の第２の部分３００－２とは正反対の部分に位置するように配置される。同様に、例示的な実施形態では、第２のフィルタ３１０の第２の部分３１０－２は、瞳面内の、第１のフィルタ３００の第１の部分３００－１とは正反対の部分に位置する。照明光線３０２、３０４からのゼロ次反射光線は、第２のフィルタ３１０上の位置３０２”及び３０４”に達する。フィルタ３００の第１の部分を通過する照明光線の角度位置にかかわらず、対応するゼロ次反射光線は、フィルタ３１０の第２の部分によって遮断される。同様に、フィルタ３００の第２の部分を通過する照明光線の角度位置にかかわらず、対応するゼロ次反射光線は、フィルタ３１０の第１の部分によって遮断される。

[0054] ここで、ターゲットＴによって散乱される１次回折放射（図２ｂ）を考慮すると、３０２Ｘは、Ｘ方向に周期的である格子構造に当たったときの照明ビームの照明光線３０２からの回折光線の位置を表す。同様に３０２Ｙは、Ｙ方向に周期的である格子構造に当たったときの、照明光線３０２からの回折光線の位置を表す。さらに、３０４Ｘ及び３０４Ｙは、照明光線３０４からの回折光線を表す。これらの回折光線の各々は、第１のフィルタ３００における照明光線が通過した部分と実質的に同じ波長特性を有する（例えば、波長間の差が５％未満である）第２のフィルタ３１０の一部分に当たる。よって、スキャトロメータの収集光学システムでは、波長の異なる光線を同時に透過させ、より高次の回折光線を通過させ、同時に、全ての波長及び角度位置についてゼロ次反射光線を遮断することができる。

[0055] 収集光学システムの光軸に関して、各分割式波長選択フィルタ３００、３１０が、互いに正反対に位置決めされた第１の部分を有することが分かるであろう。ターゲット構造の第１の周期方向（例えば、Ｘ方向又はＹ方向）を横切る第１の対称線３２０に関して、各分割式波長選択フィルタ３００、３１０は、第２の部分に対称的に対向する第１の部分を有する。また、上記構造の第２の周期方向を横切る第２の対称線３２２に関して、各分割式波長選択フィルタは、この場合も、第２の部分に対称的に対向する第１の部分を有する。

[0056] 図３に図示するフィルタの特定の分割は、本発明の譲受人に譲渡された上述の米国特許出願公開第２０１０／０２０１９６３号でより詳細に説明されている分割式照明開口に基づいている。しかしながら、単に透過部分及び不透過部分を有するのではなく、本開示の分割式波長選択フィルタは、相補的にスペクトルを透過させる第１の部分及び第２の部分を有する。収集経路ＣＰに第２のそのようなフィルタを適切な向きで配置することによって、２つの波長に対する既知の分割式開口の利点を同時に得ることができる。所望であれば、分割の他の配置が適用されてもよい。例えば、いくつかの用途では、２つの半部からなるフィルタを作るだけで十分である場合がある。

[0057] 開口絞り及び／又は瞳孔絞りの代わりに波長選択フィルタを設けるのではなく、波長選択フィルタは、従来のアパーチャデバイス及び／又は視野絞りと直列に、別々に取り付けることができる。カラーフィルタ１２ｂは、例えば、別の可能な位置をとる。

[0058] 再び図２ａを参照すると、例示的な実施形態では、光学システム２００の放射源１１は、１対の狭帯域放射源１１－１及び１１－２と、光ファイバ１１ａなどの、共通の搬送システムとによって実装することができる。放射源１１－１及び１１－２、並びに光ファイバ１１ａが光学システム２００の外部にあるように示されているが、当業者であれば、これが単に代表的なものに過ぎず、いくつかの実施形態では、光学システム２００が、放射源１１－１及び１１－２の１つ又は複数と光ファイバ１１ａとを含むことを認識するであろう。この例における第１の放射源１１－１は、少なくとも第１の波長範囲内の波長範囲に調節することができ、その一方で、第２の放射源１１－２は、少なくとも第２の波長範囲内の波長範囲に調節することができる。

[0059] 一般的に言えば、メトロロジツールを使用してターゲットの１つ又は複数のフィーチャに関連する、オーバーレイなどの、対象のパラメータが測定され得る種々の方法がある。例えば、対象のパラメータは、当業者に知られているように、結像モード又は瞳モードで測定されてもよい。

[0060] 図４は、種々の実施形態による、代表的な検査装置の例示図である。非限定的な実施形態では、図１のリソグラフィ装置ＬＡの１つ又は複数の部分／コンポーネントに相当し得る、検査装置４００は、図２（ａ）の光学システム２００などの、光学システム２００を含み得る。光学システム２００は、例示的で非限定的な実施形態では、照明ビームを出力するための機構としての役割を果たし得る、放射源４０２を含む。例えば、放射源４０２は、光学システム２００によって放出され得る、照明ビームを生成してもよい。本明細書で説明するように、照明ビームは、本明細書では交換可能に「光」、「放射」及び／又は「放射ビーム」と呼ばれることもある。例示的な例として、放射源４０２は、直径約４００マイクロメートルの点光源であり得る、光ファイバ又は他の照明源に相当し得る。しかしながら、当業者であれば、これが単に代表的なものに過ぎないことを認識するであろう。さらに、光学システム２００は、レンズ１２ａ～ｃ又は開口１３を含むように示されていないが、これは単に分かりやすくするためである。

[0061] 検査装置４００はまた、種々の箇所に且つ種々の向きに配置された反射コンポーネント４０４ａ～ｄを含み得る。反射コンポーネント４０４ａ～ｄは、放射源４０２によって生成され光学システム２００によって放出された照明ビームが特定の方向に誘導されるようにし、これによって、装置４００の種々の追加のコンポーネントと相互作用されるように構成されてもよい。例えば、反射コンポーネント４０４ａは、光学システム２００によって出力された照明ビームを受け取ってもよく、且つ最小限の吸収（例えば、５％未満の吸収）で照明ビームが入射角から反射角に再誘導されるようにしてもよい。いくつかの実施形態では、反射コンポーネント４０４ａ～ｄは、入射角に対して９０度の角度で光を反射させるように設計されてもよいが、これは単に例示的なものに過ぎない。

[0062] 検査装置４００はまた、本明細書では総称して、例えばレンズ４０６と呼ばれる、レンズ４０６ａ～ｇを含み得る。各レンズ４０６は、放射源４０２から放出されたときの光の初期の直径よりも大きいか、初期の直径に等しいか、又は初期の直径よりも小さい直径を有するように光を合焦させるように構成される。例えば、レンズ４０６ａは、１０ｃｍの焦点距離を有し得る。いくつかの実施形態では、レンズ４０６ａ～ｇの各々は、実質的に同様の焦点距離を有し得るが、これは必須ではない。

[0063] 反射コンポーネント４０４ａに反射してレンズ４０６ａを通過した後に、照明ビームは、反射コンポーネント４０４ｂに反射し、レンズ４０６ｂを通過して、反射コンポーネント４０４ｃに反射してもよい。照明ビームは、反射コンポーネント４０４ｃに反射した後に、視野面４０８ａに達する。視野面４０８ａは、放射源４０２の正確な像を表し得る。視野面４０８ａは、一実施形態では、ターゲットＴに入射するビームのサイズを選択するために使用することが可能な開口に相当し得る。視野面４０８ａは、結像デバイス（例えば、瞳像検出器１９）が、視野面４０８ａを通過する前又は通過した後に照明ビームの像を得ることを可能にし得る。視野面４０８ａを通過した後に、照明ビームはさらに、フィルタコンポーネントが配置され得る、第１の瞳面を形成する、別のレンズ４０６ｃを通過してもよい。例えば、図４に見られるように、照明ビームは、レンズ４０６ｃを通過した後に、第１のフィルタコンポーネント４１０ａへ誘導され得る。

[0064] 以下により詳細に説明する、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、第１の方式で光をフィルタリングするために照明ビームに第１のフィルタリング構成を適用するように構成されてもよい。例えば、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、照明ビームに第１の偏光構成を適用することによって、通過する光を偏光させるように構成されてもよい。また、いくつかの実施形態では、照明モードセレクタは、第１のフィルタコンポーネント４１０ａに照明が入射する前の、検査装置４００内に含まれてもよい。照明モードセレクタは、ターゲットＴに照射されるときに照明ビームがどのように誘導されるかを決定するように構成されてもよい。例えば、照明モードセレクタは、照明ビームがターゲットＴに入射する、特定の角度又は１セットの角度の選択を可能にしてもよい。照明モードセレクタは、例えば、照明モードセレクタが照明ビームを受け取ったときに特定の入射角でターゲットＴに照明ビームを入射させるように動作可能な１セットの開口を含み得る。

[0065] いくつかの実施形態では、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、各々が２つのフィルタリング構成の一方を有する、同じサイズの４つのセグメントを含み得る。例えば、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、第１のセグメントを通過した光が第１の偏光を有するように光を偏光させる第１の偏光を有する第１のセグメントと、第２のセグメントを通過した光が第２の偏光を有するように光を偏光させる第２の偏光を有する第２のセグメントと、第２の偏光を有する第３のセグメントと、第１の偏光を有する第４のセグメントとを含む偏光開口に相当し得る。例示の実施形態では、第１のセグメント及び第４のセグメントは、コンポーネント４１０ａの中心に対して点対称であり、第２のセグメント及び第３のセグメントは、中心に対して点対称である。しかしながら、以下にさらに詳述するように、当業者であれば、追加のフィルタリング技術が第１のフィルタコンポーネント４１０ａに実装され得ることを認識し得る。さらに、いくつかの実施形態では、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、本明細書では交換可能に開口及び／又は偏光子と呼ばれることがある。

[0066] 第１のフィルタコンポーネント４１０ａを通過した後に、フィルタリングされた照明ビーム（例えば、偏光照明ビーム）は、ターゲットＴに向かう同じ方向に照明ビームの少なくとも一部分が連続することを可能にするように構成された、ビームスプリッタ４１２を通過してもよい。照明ビームは、別のフィルタコンポーネント４１０ｃに到達する前に、別のレンズ４０６ｆと、視野面４０８ａと実質的に同様であり得る、追加の視野面４０８ｂと、追加のレンズ４０６ｄとを通過してもよい。フィルタコンポーネント４１０ｃを通過した後に、フィルタリングされた照明ビームは、いくつかの実施形態では、ターゲットＴ（例えば、ウェーハ）上に像を作るように構成された顕微鏡対物レンズに相当し得る、レンズ４０６ｅを通過してもよい。例えば、レンズ４０６ｅは、図２（ａ）の顕微鏡対物レンズ１６と実質的に同様であってもよい。

[0067] 例示的な実施形態では、ターゲットＴは、フィルタリングされた照明ビームが散乱し得る、１つ又は複数のフィーチャ（例えば、ターゲットＴの表面から離れて上方に突出する構造、トレンチなどの、ターゲットＴ内に延びる構造、及び／又は他の任意の構造）を含み得る。フィルタリングされた照明ビームは、ターゲットＴの種々のフィーチャと相互作用してもよく、且つレンズ４０６ｅに向かって戻るように散乱してもよい。いくつかの実施形態では、ターゲットＴにおいて、フィルタリングされた照明ビームは、第１の状態から第２に状態に変換される。例えば、照明ビームは、第１のフィルタコンポーネント４１０ａを通過した後にｓ偏光されてもよい。ターゲットＴと相互作用したときに、当業者に知られているように、ｓ偏光照明ビームは、ｐ偏光されるように変換されてもよい。同様に、照明ビームがｐ偏光されるように第１のフィルタコンポーネント４１０ａにおいて照明ビームがフィルタリングされた場合、照明ビームは、ターゲットＴに入射したときにｓ偏光されるように変換される。

[0068] ターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャから散乱した後に、変換された照明ビーム又はその少なくとも一部分は、ビームスプリッタ４１２に到達するまで、フィルタリングされた照明ビームの同じ光学系のいくつか、すなわち、レンズ４０６ｅ、フィルタコンポーネント４１０ｃ、レンズ４０６ｄ、視野面４０８ｂ、及びレンズ４０６ｆを横切ってもよい。ビームスプリッタ４１２では、変換された照明ビームは、変換された照明ビームの入射角の方向に垂直な方向に再誘導されてもよい。例えば、変換された照明ビームがビームスプリッタ４１２に０度で入射する場合、反射され変換された照明ビームは９０度で進み得る。

[0069] ビームスプリッタ４１２に続いて、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂが、反射され変換された照明ビームの経路に沿って位置し且つ第１のフィルタコンポーネント４１０ａに垂直に配置されてもよい。以下により詳細に説明する、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂが第１のフィルタコンポーネント４１０ａの方式とは逆の方式で入射光をフィルタリングすることを除いて、第１のフィルタコンポーネント４１０ａと実質的に同様であってもよい。例えば、第１のフィルタコンポーネント４１０ａが、入射する照明ビーム（例えば、照明ビーム）に第１のフィルタリング構成（例えば、第１の偏光方式）を適用する場合には、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、その入射光（例えば、反射され変換された照明ビーム）に第２のフィルタリング構成（例えば、第２の偏光方式）を適用する。反射され変換された照明ビームに直交フィルタリング構成を適用することによって、照明ビームのいかなる対称成分も相殺される可能性があり、残り得る全ては照明ビームの非対称成分である。非対称成分は、１つ又は複数のフィーチャ（例えば、オーバーレイ、ＣＤなど）に関連する対象のパラメータに関連する情報を表し得る。換言すれば、図示のような、第１のフィルタコンポーネント４１０ａと第２のフィルタコンポーネント４１０ｂとの組み合わせは、ｓ偏光されてｓ偏光される光、及びｐ偏光されてｐ偏光される光を遮断し、ｓ偏光されてｐ偏光される光及び／又はｐ偏光されてｓ偏光される光のみを残す。

[0070] いくつかの実施形態では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂもまた、各々が２つのフィルタリング構成の一方を有する、同じサイズの４つのセグメントを含み得る。例えば、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、第１のセグメントを通過した光が（上で説明したように）第２の偏光を有するように光を偏光させるような第２の偏光を有する第１のセグメントと、第２のセグメントを通過した光が（上で説明したように）第１の偏光を有するように光を偏光させるような第１の偏光を有する第２のセグメントと、第１の偏光を有する第３のセグメントと、第２の偏光を有する第４のセグメントとを含む偏光開口であって、第１のセグメント及び第４のセグメントが、コンポーネント４１０ｂの中心に対して点対称であり、且つ第２のセグメント及び第３のセグメントが中心に対して点対称である、偏光開口に相当し得る。この特定の実施形態では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの第１のセグメントは、第１のフィルタコンポーネント４１０ａの第１のセグメントの偏光とは逆の偏光を有する。しかしながら、以下にさらに詳述するように、当業者であれば、追加のフィルタリング技術が第２のフィルタコンポーネント４１０ｂに実装され得ることを認識し得る。さらに、いくつかの実施形態では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、本明細書では交換可能に開口及び／又は偏光子と呼ばれることがある。

[0071] いくつかの実施形態では、楔要素４１６は、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの後ろに含まれてもよい。楔要素４１６は、一実施形態では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂと整列するように構成され配置されてもよい。換言すれば、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの１つのセグメントを通過する光の一部分は、楔要素４１６の対応する楔４半部（例えば、楔４半部４１６ａ～ｄ）を通過するように構成される。楔要素４１６は、以下により詳細に説明するように、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの各セグメントをひいては楔要素４１６の対応する楔４半部を通過する照明ビームの部分を再誘導する、オフセットするとも呼ばれる、ように構成されてもよい。このことは、結像システム２０の結像デバイス４１４によって見られたときに、結像システム２０によって生成された像データによって表される像内で光が分離されることを容易にする。さらに、図４に見られるように、後続の楔要素４１６は、共偏光照明ビーム（例えば、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂを通過した後に反射され変換された照明ビーム）を結像デバイス４１４に向けて誘導し得る、反射コンポーネント４０４ｄ及びレンズ４０６ｇであってもよい。いくつかの実施形態では、結像システム２０は、瞳像を解像するために実質的に結像デバイス４１４に近接して位置し得る、追加の視野面４０８ｃを含み得る。結像デバイス４１４は、いくつかの実施形態では、フィルタコンポーネント４１０ａ及び４１０ｂの各フィルタリングセグメントに関連する像をレンダリングすることを可能にし得る、ＣＣＤ撮像カメラであってもよい。

[0072] いくつかの実施形態では、結像システム２０は、この特定のシナリオでは、反射され変換された照明ビームに相当し得る、照明ビームの少なくとも一部分を表す強度データを得るように構成されてもよい。例えば、照明ビームの非対称成分（もしあれば）は、結像システム２０、特に結像デバイス４１４に誘導されてもよい。結像システム２０、特に結像デバイス４１４は、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂを通過する照明ビームの一部分を表す放射を受け取るように構成されてもよい。それゆえ、この強度データは、交差偏光放射を、ひいてはターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャに関連する非対称性の量を表す。強度データを受信したときに、結像システム２０は、生成され得る入射照明ビームが散乱する１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを、強度データに基づいて生成してもよい。ここでもまた、強度データは、結像システム２０に受け取られた照明ビームの非対称成分に関するものである。いくつかの実施形態では、結像システム２０は、入射光を受け取るように動作可能な結像デバイス４１４と、１つ又は複数のプロセッサと、１つ又は複数のコンピュータプログラムを実行する命令を含むメモリとを含み得る。例えば、結像システム２０は、照明ビームに関連する強度データを受信したときに、メモリに記憶されたコンピュータプログラムが、像を表す像データを生成する１つ又は複数のプロセッサによって実行されるように構成されてもよく、この像は、照明ビームが散乱したターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャを表したものである。像データを使用して、１つ又は複数のプロセッサは、１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータを測定するために、追加のコンピュータプログラムにアクセスしてもよく、或いは１つ又は複数の追加のデバイス／システムに像データを提供してもよい。例えば、像データは、１つ又は複数のフィーチャに関連するオーバーレイの量を測定するために使用されてもよい。

[0073] 図５（ａ）及び図５（ｂ）は、種々の実施形態による、図４の代表的な検査装置内で用いられる楔要素の例示図である。総称してフィルタコンポーネント４１０と呼ばれることがある、フィルタコンポーネント４１０ａ、４１０ｂは、いくつかの実施形態では、略円形であってもよい。この特定のシナリオでは、楔要素４１６もまた、略円形であってもよい。上述のように、本発明の譲受人に譲渡された米国特許出願公開第２０１１／０１０２７５３号で説明されているように、光学楔要素とも呼ばれ得る、楔要素４１６は、暗視野結像で単一像内のターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャの０、＋１、１次反射光のうちの１つ又は複数を捕捉することを可能にし得る。例えば、楔要素４１６は、２つの連続的な像捕捉ステップを必要とせずに回折光線を検出して比較できるように回折光線（例えば、０次及び／又は＋１次及び－１次）を結像システム２０の結像デバイス４１４上の異なる箇所にそらす１つ又は複数のプリズムに相当し得る。

[0074] 上述のように、楔要素４１６は、図５ｂのシナリオ５５０に見られるように、４つの楔４半部４１６ａ～ｄを含み得る。楔４半部４１６ａ～ｄの各々は、フィルタコンポーネント４１０ｂの１つの４分円に相当し得る。楔４半部４１６ａ～ｄは各々、いくつかの実施形態では、対応する瞳に当たる光を像の４つの４分円の対応する１つに僅かに異なる方向に再誘導することが可能な小プリズム又は他の構造であってもよい。結果として、結像デバイス４１４は、図８ａを参照して以下に見られるように、各像が楔４半部４１６ａ～ｄのうちの１つに関連付けられる、４つの別個の像を表示するように構成されてもよい。

[0075] 一般的に言えば、入射光ビーム、すなわち光波は、第１のフィルタコンポーネント４１０ａの第１の箇所においてフィルタコンポーネントに入射してもよい。例えば、入射光ビームは、２次元平面内の箇所（Ｘ１，Ｙ１）で第１のフィルタコンポーネント４１０ａに入射してもよい。それゆえ、出射波は、第１のフィルタコンポーネント４１０ａ（例えば、箇所（－Ｘ１，－Ｙ１））の原点に対して点対称に位置する。交差偏光測定について、入射点（例えば、箇所（Ｘ１，Ｙ１））における入射波の偏光は、出射点（例えば、箇所（Ｘ１，－Ｙ１））に直交する。照明ビーム及びフィルタコンポーネントのこれらの特性を利用することによって、オーバーレイ及び／又はＣＤなどの、対象のパラメータの測定がなされてもよい。例えば、ターゲットを１対の点に対して反対方向に照明することで、ターゲットの非対称性に関連する情報が、点対称であるフィルタリングによって決定されてもよい。

[0076] 図６（ａ）及び図６（ｂ）は、種々の実施形態による、図４の代表的なリソグラフィ装置内で使用される２つの代表的なフィルタコンポーネントの例示図である。図６（ａ）及び図６（ｂ）に見られるように、代表的な第１のフィルタコンポーネント４１０ａ及び代表的な第２のフィルタコンポーネント４１０ｂが示されている。第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、例示的な実施形態では、第１の半部６００ａと第２の半部６００ｂとを含む。第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、例示的な実施形態では、第１の半部６５０ａと第２の半部６５０ｂとを含む。いくつかの実施形態では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂが「出射偏光フィルタ」に相当し得るのに対して、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは「入射偏光フィルタ」に相当し得る。

[0077] 例として、第１のフィルタコンポーネント４１０ａの第１の半部６００ａは、第１の半部６００ａにおける色勾配で分かるように任意の偏光設計を含み得る。この特定のシナリオでは、第１の半部６００ａ内の各点は、異なる偏光を有し得る。例えば、第１の半部６００ａ内の各点に対する異なるタイプの偏光は、限定されるものではないが、直線偏光、円偏光、及び楕円偏光を含み得る。

[0078] 前述の例を続けると、第２の半部６００ｂは、第２の半部６００ｂの偏光設計が第１の半部６００ａに対して点対称である、色勾配も有する偏光設計を含み得る。それゆえ、第１の半部６００ａ内の点（Ｘ１，Ｙ１）が第１の偏光を有する場合、第１のフィルタコンポーネント４１０ａの原点／中心に対する対称点（－Ｘ１，－Ｙ１）は、第１の偏光に直交する第２の偏光を有する。

[0079] 第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、例示的な実施形態では、第１の半部６５０ａと第２の半部６５０ｂとを含む。第１の半部６５０ａ及び第２の半部６５０ｂは、第１の半部６５０ａ及び第２の半部６５０ｂが第１の半部６００ａ及び第２の半部６００ｂに対して対応する直交偏光状態を含むことを除いて、第１の半部６００ａ及び第２の半部６００ｂと実質的に同様であってもよい。この直交偏光状態を用いることによって、結像デバイス４１４によって検出されたいかなる光も、ターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャにおける非対称性の結果である。

[0080] いくつかの実施形態では、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、フィルタコンポーネント４１０ａの中心軸に対して角度θでオフセットされてもよい。θは、このシナリオでは、０度から１８０度までの任意の値であってもよい。さらに、このシナリオでは、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂが、図４を参照して上に見られるように、第１のフィルタコンポーネント４１０ａの位置に対して９０度で位置するが、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂはまた、角度θで角度付けされる。

[0081] 図７ａ及び図７ｂは、種々の実施形態による、図４の代表的なリソグラフィ装置内で使用される別の２つの代表的なフィルタコンポーネントの例示図である。非限定的で例示的な実施形態では、第１のフィルタコンポーネント４１０ａ及び第２のフィルタコンポーネント４１０ｂが示されている。第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、一実施形態では、４つのセグメント、すなわち、第１のセグメント７００ａと、第２のセグメント７００ｂと、第３のセグメント７００ｃと、第４のセグメント７００ｄとに分割されてもよい。同様に、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、一実施形態では、４つのセグメント、すなわち、第１のセグメント７５０ａと、第２のセグメント７５０ｂと、第３のセグメント７５０ｃと、第４のセグメント７５０ｄとに分割されてもよい。セグメント７００ａ～ｄ及び７５０ａ～ｄは各々、サイズ及び形状が実質的に同様であってもよく、且つ微小偏光子アレイ（例えば、小型偏光子の組立体）及び／又は空間光変調器を使用して形成されてもよい。例示の実施形態では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂが「検出偏光子」に相当し得る一方で、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは「照明偏光子」に相当し得る。

[0082] 一実施形態では、第１のフィルタコンポーネント４１０ａの第１のセグメント７００ａは、第１の偏光方式が用いられるように構成されてもよい。例えば、第１のセグメント７００ａは、半径方向偏光プロファイルを含み得る。半径方向偏光プロファイルは、ターゲットＴに入射するｐ偏光光が生成されるように作成されてもよい。第１のフィルタコンポーネント４１０ａの第２のセグメント７００ｂは、第１のフィルタコンポーネント４１０ａ内の第１のセグメント７００ａに対称的に対向して位置するとともに、同様に、半径方向偏光プロファイルを含み得る。第１のフィルタコンポーネント４１０ａの第３のセグメント７００ｃは、一実施形態では、第２の偏光方式が用いられるように構成されてもよい。例えば、第３のセグメント７００ｃは、接線方向偏光プロファイルを含み得る。接線方向偏光プロファイルは、ターゲットＴに入射するｓ偏光光が生成されるように作成されてもよい。第１のフィルタコンポーネント４１０ａの第４のセグメント７００ｄは、第１のフィルタコンポーネント４１０ａ内の第３のセグメント７００ｃに対称的に対向して位置するとともに、同様に、接線方向偏光プロファイルを含み得る。

[0083] 一実施形態では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの第１のセグメント７５０ａは、第２の偏光方式が用いられるように構成されてもよい。例えば、第１のセグメント７５０ａは、接線方向偏光プロファイルを含み得る。第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの第２のセグメント７５０ｂは、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂ内の第１のセグメント７５０ｂに対称的に対向して位置するとともに、同様に、接線方向偏光プロファイルを含み得る。第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの第３のセグメント７００ｃは、一実施形態では、第１の偏光方式が用いられるように構成されてもよい。例えば、第３のセグメント７５０ｃは、半径方向偏光プロファイルを含み得る。第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの第４のセグメント７５０ｄは、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂ内の第３のセグメント７５０ｃに対称的に対向して位置するとともに、同様に、半径方向偏光プロファイルを含み得る。

[0084] 図８ａは、種々の実施形態による、図４の検査装置を使用して測定された対象のパラメータを表す像の例示のグラフである。図示の実施形態では、像８００は、各々がゼロ次視野像に相当する、２つのスポット含む。像８００は、上で説明したように、結像デバイス４１４に受け取られた反射され変換された照明ビームの非対称成分に基づいて、結像システム２０が、像８００を表す像データを生成する、例示の像に相当し得る。２つのスポットは、右側からターゲットＴに入射して左側から検出される、放射源４０２によって生成された照明ビームから生じる像を反映し、その一方で、他のスポットは、左側からターゲットＴに入射して右側から検出される照明から生じる像を反映する。ターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャ内に非対称性が存在しない場合には、各スポットの強度分布が等しくなる。しかしながら、１つ又は複数のフィーチャ（例えば、オーバーレイ）の非対称性から生じる関連する対象のパラメータが存在する場合、強度分布の差が視認可能である。さらに、２つのスポットは、各像が視認可能となるように各スポットの配置を僅かにオフセットする、楔要素４１６によって、表示された像内に広げられる。換言すれば、楔要素４１６が存在しないと、複数の結像プロセスが必要となり、さもなければ、２つ（以上）のスポットが像８００内で重なり合うことになる。

[0085] 図８（ｂ）は、種々の実施形態による、フィルタコンポーネントを通過した後に楔要素によってオフセットされる代表的な粒子経路の例示図である。図８ｂのシナリオ８５０に見られるように、反射され変換された照明ビームが、ビームスプリッタ４１２によって再誘導された後に、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂを通過するときに、反射され変換された照明ビームは、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂを通過する。第２のフィルタコンポーネント４１０ｂでは、照明ビームの粒子は、ターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャから照明ビームの粒子が散乱する向き及び角度に応じて、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの種々のセグメントを通過する。特定の粒子が通過する第２のフィルタコンポーネント４１０ｂのセグメントに応じて、その粒子は、楔要素４１６の対応する楔４半部に向けて誘導される。例示的な実施形態では、楔要素４１６は、中心軸Ｃに沿って第２のフィルタコンポーネント４１０ｂと位置合わせされる。

[0086] 楔要素４１６は、楔要素４１６を通過する粒子が楔要素４１６への入射角に対して角度βで誘導されるように構成されてもよい。例えば、楔要素４１６は、各々が入射粒子をｘ軸に沿った別の角度でそらすのみならず角度βで正ｙ方向にそらすことが可能である、楔４半部から構成されてもよい。それゆえ、楔要素４１６は、楔４半部４１６ａ～ｄの各々を通過する各粒子を結像デバイス４１４の４つの４分円に分けてもよく、これによって、像内の４つの別個のスポット（例えば、図８ａの例では、２つのスポットのみが像８００内に示されている）を生み出す。換言すれば、楔要素４１６は、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの第１のセグメントを通過する照明ビームの部分の第１の部分を楔要素４１６への入射角に対して角度βだけオフセットし、且つ第２のフィルタコンポーネント４１０ｂの第２のセグメントを通過する照明ビームの部分の第２の部分を角度βだけオフセットしてもよい。そのようにすることで、結像システム２０によって生成された像データによって表される像８００は、第１の部分を表す第１のスポットと、第２の部分を表す第２のスポットとを含む。

[0087] 図９は、種々の実施形態による、基板の２つの層間のオーバーレイの例示図である。シナリオ９００は、例示的な実施形態では、ターゲットＴの２つの層の側面プロファイルを含み、前述の技術を使用して測定され得る例示の対象のパラメータ（例えば、オーバーレイ）を描き得る。ターゲットＴは、第１の層Ｌ１と第２の層Ｌ２とを含み得る。層Ｌ１及びＬ２は各々、あるパターンで配置された１つ又は複数のフィーチャを含み得る。層Ｌ１とＬ２とは、ある距離だけ分離され、ターゲットＴは、各々が同じ距離又は僅かに異なる距離だけ分離される、層Ｌ１及びＬ２の上及び／又は下に追加の層をそれぞれ含み得る。

[0088] 一実施形態では、各層のフィーチャは格子に相当し、この格子は、略ブロック状構成であり得るが、これは単に代表的なものに過ぎない。例えば、層Ｌ１は、１つ又は複数のフィーチャ９０２を含み得、且つ層Ｌ２は、１つ又は複数のフィーチャ９０４を含み得る。シナリオ９００では、オーバーレイＯＶは、それぞれ、第１の層Ｌ１のフィーチャ９０２と第２の層Ｌ２のフィーチャ９０４との間に存在する。追加のオーバーレイは、ターゲットＴの他の層のフィーチャ間に存在し得る。それゆえ、シナリオ９００は、分かりやすくするために単一のオーバーレイを描いており、限定的であるように意図されていない。実施形態では、オーバーレイＯＶが１次元であるものとして示されているが、当業者であれば、オーバーレイがさらなる次元で存在することもあり且つ前述のオーバーレイが単に例示的なものに過ぎないことを認識するであろう。

[0089] 図１０は、種々の実施形態による、対象のパラメータを測定するために検査装置と併せて２段階フィルタリング技術を適用するための代表的なプロセスの例示的なフローチャートである。非限定的な実施形態では、プロセス１０００が、ステップ１００２で開始してもよい。ステップ１００２では、光学システムが、１つ又は複数の特性を有する照明ビームを出力してもよい。例えば、光学システム２００は、検査装置４００を介してターゲットＴに誘導され得る、ある特定の特性（例えば、約４００μｍの直径、特定の波長など）を有する照明ビーム（例えば、光）を生成し得る、放射源４０２を含み得る。照明ビームは、ターゲットＴ上に位置する１つ又は複数のフィーチャに関連する、オーバーレイ、ＣＤなどの、対象のパラメータを測定するために用いられてもよい。

[0090] ステップ１００４では、第１のフィルタコンポーネントが、照明ビームに第１の偏光構成を適用するために使用されてもよい。例えば、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、照明ビームに第１の偏光を持たせてもよい。照明ビームは、図４に見られるように、１つ又は複数の反射コンポーネント（例えば、反射コンポーネント４０４ａ～ｃ）を使用して、及び１つ又は複数のレンズ（例えば、レンズ４０６ａ～ｃ）を使用して、第１のフィルタコンポーネント４１０ａに誘導されてもよい。第１の偏光は、いくつかの実施形態では、出力光が第１の方式で偏光されるように、入射する照明ビームを偏光させてもよい。例えば、図６ａ～図７ｂに見られるように、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、複数のセグメントに分割されてもよく、各セグメントは、第１のフィルタコンポーネント４１０ａの各点における偏光構成が第１のフィルタコンポーネント４１０ａの中心に対して点対称であるような特定の偏光構成を有する。例えば、図７ａに見られるように、第１のフィルタコンポーネント４１０ａは、実質的に同様のサイズ及び形状の４つのセグメント７００ａ～ｄを含み得る。第１のセグメント７００ａはｓ偏光されてもよく、対称セグメントであるセグメント７００ｂもｓ偏光されてもよい。フィルタコンポーネント４１０ａの中心に対して対称である、第３のセグメント７００ｃ及び第４のセグメント７００ｄは各々、ｐ偏光されてもよい。したがって、セグメント７００ａ及び７００ｂを通過する光がｓ偏光されてもよく、それに対して、セグメント７００ｃ及び７００ｄを通過する光がｐ偏光されてもよい。

[0091] ステップ１００６では、偏光照明ビームは、ターゲットの１つ又は複数のフィーチャに入射してもよく、且つ１つ又は複数のフィーチャから散乱してもよい。光が散乱すると、光は元の偏光から直交偏光に変換される。例えば、１つ又は複数のフィーチャ（例えば、オーバーレイ）に非対称性がある場合、ｓ偏光された入射光は、ｐ偏光された光として反射される。いくつかの実施形態では、散乱された照明ビームとも呼ばれ得る、変換された照明ビームの少なくとも一部分は、ビームスプリッタ４１２に向かって戻るように誘導されてもよい。例えば、ターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャから散乱した後に、散乱された照明ビームは、入射角に対して略反対方向に戻るように再誘導されてもよい。さらに、１つ又は複数のフィーチャの非対称性は、ターゲットＴに入射する照明ビームの対応する部分についての偏光の変化に関連し得る。いくつかの実施形態では、ターゲットの１つ又は複数のフィーチャに反射された反射光は、０次光に相当する。

[0092] さらに、光の方向性が逆にされ、極性が切り替えられた場合に、差が検出されない。例えば、１つ又は複数のフィーチャに対して入射角θで入射するｓ偏光された光は、ｐ偏光光として出射角θで反射される（例えば、入射角は反射角に等しい）。次いで、出射角θに等しい角度で入射するｐ偏光光が、入射角θで反射されてｓ偏光される。それゆえ、非対称性を測定するために、第１の偏光を有するように偏光された入射光であって、第２の偏光を有して出射する光と、第１の偏光を有して入射する反対方向からの光であって、第２の偏光を有して出射する光との比較がなされてもよい。非対称性を測定するこのプロセスは、「交差偏光検出」と呼ばれることがある。

[0093] ステップ１００８では、変換された照明ビームが、ビームスプリッタにおいて受け取られ、ターゲットに向けて誘導された偏光照明ビームの方向に直交する方向に再誘導されてもよい。例えば、ターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャから散乱する照明ビームの部分であって、上で説明したように偏光が変換された照明ビームの部分が、ビームスプリッタ４１２を入射してもよい。入射したときに、変換された照明ビームは、第１のフィルタコンポーネント４１０ａを通過した偏光照明ビームの初期方向に直交する方向に再誘導されてもよい。

[0094] ステップ１０１０では、第２のフィルタコンポーネントを使用して、第２のフィルタリング構成が、変換された照明ビームに適用されてもよい。例えば、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、変換された照明ビームに第２の偏光を持たせてもよい。第２の偏光は、いくつかの実施形態では、出力光が第２の方式で偏光されるように、入射する変換された照明ビームを偏光させてもよい。例えば、図６ａ～図７ｂに見られるように、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂは、複数のセグメントに分割されてもよく、各セグメントは、第１のフィルタコンポーネント４１０ｂの各点における偏光構成が第１のフィルタコンポーネント４１０ｂの中心に対して点対称であるような特定の偏光構成を有する。例えば、図７ｂに見られるように、第１のフィルタコンポーネント４１０ｂは、実質的に同じサイズ及び形状７５０ａ～ｄの４つのセグメントを含み得る。第１のセグメント７５０ａはｐ偏光されてもよく、対称セグメントであるセグメント７５０ｂもｐ偏光されてもよい。フィルタコンポーネント４１０ｂの中心に対して対称である、第３のセグメント７５０ｃ及び第４のセグメント７５０ｄは各々、ｓ偏光されてもよい。したがって、セグメント７５０ａ及び７５０ｂを通過する光がｐ偏光されてもよく、それに対して、セグメント７５０ｃ及び７５０ｄを通過する光がｓ偏光されてもよい。

[0095] 第１のフィルタコンポーネント４１０ａの向きに垂直な角度で第２のフィルタコンポーネント４１０ｂを適用し、且つ第１のフィルタコンポーネント４１０ａに対して交差偏光構成（例えば、直交偏光）を有することによって、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂを通過する何れの光も、交差偏光される。ターゲットＴに入射するｓ偏光された光であって、ターゲットに反射してさらにｓ偏光される光は、１つ又は複数のフィーチャの非対称性に関連する情報を含まない。したがって、第２の偏光構成の適用後の残りの信号は、測定すべき対象のパラメータに関連する情報を含む。

[0096] ステップ８１２では、第２のフィルタコンポーネント４１０ｂによって遮断されない照明ビームの部分の強度を表す強度データが、結像システム２０によって検出されてもよい。例えば、共偏光光信号の一部分の強度を表す強度データは、結像システム２０の結像デバイス４１４によって検出されてもよい。そして、結像デバイス４１４は、ターゲットＴの１つ又は複数のフィーチャに関連する非対称性の量を表すターゲットの１つ又は複数の像をレンダリングするように構成されてもよい。

[0097] 図１１は、種々の実施形態による、代表的なコンピュータシステムの例示図である。図１１を参照すると、コンピュータシステム１１００が示されている。コンピュータシステム１１００は、情報を通信するためのバス１１０２又は他の通信機構と、情報を処理するためにバス１１０２と結合されたプロセッサ１１０４（又は複数のプロセッサ１１０４及び１１０５）とを含む。コンピュータシステム１１００はまた、プロセッサ１１０４によって実行すべき命令及び情報を記憶するためにバス１１０２に結合された、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）又は他の動的記憶デバイスなどの、メインメモリ１１０６を含む。また、メインメモリ１１０６は、プロセッサ１１０４によって実行すべき命令の実行中に一時変数又は他の中間情報を記憶するために使用されてもよい。コンピュータシステム１１００は、プロセッサ１１０４用の静的情報及び命令を記憶するための、バス１１０２に結合された読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）１１０８又は他の静的記憶デバイスをさらに含む。磁気ディスク又は光ディスクなどの、記憶デバイス１１１０は、情報及び命令を記憶するために提供され、バス１１０２に結合される。

[0098] コンピュータシステム１１００は、コンピュータユーザに対して情報を表示するための陰極線管（ＣＲＴ）又はフラットパネル又はタッチパネルディスプレイなどの、ディスプレイ１１１２にバス１１０２を介して結合されてもよい。英数字キー及び他のキーを含む、入力デバイス１１１４が、プロセッサ１１０４に情報及びコマンド選択を伝達するためにバス１１０２に結合される。別のタイプのユーザ入力デバイスは、プロセッサ１１０４に方向情報及びコマンド選択を伝達するための、並びにディスプレイ１１１２上でのカーソル移動を制御するための、マウス、トラックボール、又はカーソル方向キーなどの、カーソル制御１１１６である。この入力デバイスは、典型的には、デバイスが平面内の位置を指定することを可能にする、２つの軸、すなわち、第１の軸（例えばｘ）及び第２の軸（例えばｙ）における２自由度を有する。また、入力デバイスとしてタッチパネル（画面）ディスプレイが使用されてもよい。

[0099] コンピュータシステム１１００は、メインメモリ１１０６に含まれる１つ又は複数の命令の１つ又は複数のシーケンスをプロセッサ１１０４が実行することに応答して本明細書の処理ユニットとして機能するのに好適であり得る。そのような命令は、記憶デバイス１１１０などの、別のコンピュータ可読媒体からメインメモリ１１０６に読み込まれてもよい。メインメモリ１１０６に含まれる命令のシーケンスの実行によって、プロセッサ１１０４が、本明細書で説明するプロセスを実行する。また、メインメモリ１１０６に含まれる命令のシーケンスを実行するために、マルチプロセッシング構成における１つ又は複数のプロセッサが用いられてもよい。代替的な実施形態では、ソフトウェア命令の代わりに又はソフトウェア命令と組み合わせて、ハードワイヤード回路が使用されてもよい。したがって、実施形態は、ハードウェア回路とソフトウェアとのいかなる特定の組み合わせにも限定されない。

[00100] 本明細書で使用される場合、「コンピュータ可読媒体」という用語は、実行するためにプロセッサ１１０４に命令を提供することに関与する任意の媒体を指す。そのような媒体は、限定されるものではないが、不揮発性媒体、揮発性媒体、及び伝送媒体を含む、多くの形態をとり得る。不揮発性媒体は、例えば、記憶デバイス１１１０などの、光ディスク又は磁気ディスクを含む。揮発性媒体は、メインメモリ１１０６などの、動的メモリを含む。伝送媒体は、バス１１０２を構成するワイヤを含む、同軸ケーブル、銅線、及び光ファイバを含む。伝送媒体は、無線周波数（ＲＦ）及び赤外線（ＩＲ）データ通信中に発生したものなどの、音波又は光波の形態をとることもできる。コンピュータ可読媒体の一般的な形態は、例えば、フロッピーディスク、フレキシブルディスク、ハードディスク、磁気テープ、他の任意の磁気媒体、ＣＤ－ＲＯＭ、ＤＶＤ、他の任意の光媒体、パンチカード、紙テープ、孔のパターンを有する他の任意の物理的媒体、ＲＡＭ、ＰＲＯＭ、ＥＰＲＯＭ、ＦＬＡＳＨ(登録商標）－ＥＰＲＯＭ、他の任意のメモリチップ若しくはカートリッジ、以下で説明する搬送波、又はコンピュータが読み取ることができる他の任意の媒体を含む。

[00101] 種々の形態のコンピュータ可読媒体は、実行するために１つ又は複数の命令の１つ又は複数のシーケンスをプロセッサ１１０４に搬送することに関与し得る。例えば、命令は、最初は、リモートコンピュータの磁気ディスク上にあってもよい。リモートコンピュータは、その動的メモリに命令をロードし、モデムを使用して電話回線で命令を送信することができる。コンピュータシステム１１００に対してローカルなモデムは、電話回線でデータを受信し、赤外線送信機を使用してデータを赤外線信号に変換することができる。バス１１０２に結合された赤外線検出器は、赤外線信号で搬送されたデータを受信し、そのデータをバス１１０２に乗せることができる。バス１１０２はデータをメインメモリ１１０６へ運び、メインメモリ１１０６からプロセッサ１１０４が命令を受信して実行する。メインメモリ１１０６が受信した命令は、任意選択的に、プロセッサ１１０４による実行前又は実行後に記憶デバイス１１１０に記憶されてもよい。

[00102] コンピュータシステム１１００はまた、バス１１０２に結合された通信インターフェース１１１８を含み得る。通信インターフェース１１１８は、ローカルネットワーク１１２２に接続されたネットワークリンク１１２０への双方向データ通信結合を提供する。例えば、通信インターフェース１１１８は、対応するタイプの電話回線へのデータ通信接続を提供するためのサービス総合デジタル網（ＩＳＤＮ）カード又はモデムであってもよい。別の例として、通信インターフェース１１１８は、互換性のあるＬＡＮへのデータ通信接続を提供するためのローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）カードであってもよい。無線リンクも実装されてもよい。そのような任意の実施態様では、通信インターフェース１１１８は、種々のタイプの情報を表すデジタルデータストリームを搬送する電気信号、電磁信号又は光信号を送受信する。

[00103] ネットワークリンク１１２０は、典型的には、１つ又は複数のネットワークを通じて他のデータデバイスとのデータ通信を行う。例えば、ネットワークリンク１１２０は、ローカルネットワーク１１２２を通じてのホストコンピュータ１１２４への接続、又はインターネットサービスプロバイダ（ＩＳＰ）１１２６によって動作させるデータ機器への接続を提供してもよい。次いで、ＩＳＰ１１２６は、現在は一般的に「インターネット」と呼ばれる、世界的なパケットデータ通信網１１２８を通じてデータ通信サービスを提供する。ローカルネットワーク１１２２とインターネット１１２８は両方とも、デジタルデータストリームを搬送する電気信号、電磁信号又は光信号を使用する。種々のネットワークを通じての信号、及びコンピュータシステム１１００に又はコンピュータシステム１１００からデジタルデータを搬送する、通信インターフェース１１１８を通じてのネットワークリンク１１２０上の信号は、情報を輸送する代表的な形態の搬送波である。

[00104] コンピュータシステム１１００は、ネットワーク、ネットワークリンク１１２０、及び通信インターフェース１１１８を通じて、メッセージを送信し、プログラムコードを含む、データを受信することができる。インターネットの例では、サーバ１１４０は、インターネット１１２８、ＩＳＰ１１２６、ローカルネットワーク１１２２、及び通信インターフェース１１１８を通じて、アプリケーションプログラム用の要求コードを伝送してもよい。１つ又は複数の実施形態によれば、そのようなダウンロードされた１つのアプリケーションは、例えば、本明細書に開示する方法を提供する。受信したコードは、受信したときにプロセッサ１１０４によって実行され、及び／又は、後の実行のために記憶デバイス１１１０又は他の不揮発性記憶装置に記憶されてもよい。このようにして、コンピュータシステム１１００は、搬送波の形態のアプリケーションコードを得てもよい。

結論
[00105] 例において、検査装置であって、１つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットに入射する照明ビームを出力するように構成された光学システムであって、照明ビームが、ターゲットに入射したときに第１の偏光を含むように構成される、光学システムと、１つ又は複数のフィーチャによって散乱された照明ビームの少なくとも一部分であって、第１の偏光に直交する第２の偏光を含む照明ビームの部分を表す強度データを得て、強度データに基づいて１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成し、且つ第２の偏光を有する照明ビームの部分の量に基づいて１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定するように構成された結像システムとを備える、検査装置が提供される。

[00106] 例において、検査装置は、照明ビームが第１のフィルタコンポーネントを通過してターゲットに誘導されるように構成され配置された第１のフィルタコンポーネントであって、ターゲットに入射するのに先立って第１の偏光を有するように照明ビームを偏光させる第１のフィルタコンポーネントと、第２のフィルタコンポーネントが照明ビームの部分を受け取るように構成され第１のフィルタコンポーネントに直交して配置された第２のフィルタコンポーネントであって、第２の偏光を有するように照明ビームの一部を偏光させる第２のフィルタコンポーネントとをさらに備える。

[00107] 例において、第１のフィルタコンポーネントは、第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第１のセグメントと、第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第２のセグメントと、第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第３のセグメントと、第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第４のセグメントとを備え、第２のフィルタコンポーネントは、第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第５のセグメントと、第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第６のセグメントと、第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第７のセグメントと、第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第８のセグメントとを備え、並びに第１のフィルタコンポーネント及び第２のフィルタコンポーネントは、第１のセグメントを通過する照明ビームに関連する放射が第８のセグメントを通過し、第２のセグメントを通過する照明ビームに関連する放射が第７のセグメントを通過し、第３のセグメントを通過する照明ビームに関連する放射が第６のセグメントを通過し、且つ第４のセグメントを通過する照明ビームに関連する放射が第５のセグメントを通過するような向きに配置される。

[00108] 例において、第１のフィルタコンポーネント及び第２のフィルタコンポーネントは、ｓ偏光及びｐ偏光フィルタ、Ｈ偏光及びＶ偏光フィルタ、左円偏光及び右円偏光フィルタ、並びに左楕円偏光及び右楕円偏光フィルタのうちの１つを含む。

[00109] 例において、第２のフィルタコンポーネントは、少なくとも第１のセグメント及び第２のセグメントを備え、検査装置は、第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素であって、第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過する照明ビームの部分の第１の粒子を楔要素への第１の粒子の入射角に対して第１の角度でオフセットし、且つ第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過する照明ビームの部分の第２の粒子を楔要素への第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットするようにさらに構成され、像データによって表される像が、第１の角度だけオフセットされた第１の粒子を表す第１のスポットと、第２の角度だけオフセットされた第２の粒子を表す第２のスポットとを含む、楔要素をさらに備える。

[00110] 例において、像データによって表される像は、４つのスポットであって、各々が互いにオフセットされ且つ第１のセグメント、第２のセグメント、第３のセグメント、及び第４のセグメントの各々を通過して１つ又は複数のフィーチャから散乱する照明ビームと、第５のセグメント、第６のセグメント、第７のセグメント、及び第８のセグメントのうちの対応する１つを通過する照明ビームの部分とを表す、４つのスポットを像内に含む。

[00111] 例において、検査装置は、第１の偏光構成を有する第１のフィルタコンポーネントと、第２の偏光構成を有する第２のフィルタコンポーネントであって、第２の偏光構成が第１の偏光構成に直交する、第２のフィルタコンポーネントとをさらに備える。

[00112] 例において、第１のフィルタコンポーネントは、第１の半部と、第１の半部と比較して第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称である、第２の半部とを備え、且つ第２のフィルタコンポーネントは、第３の半部と、第３の半部と比較して第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称である、第４の半部とを備える。

[00113] 例において、第１のフィルタコンポーネントは、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントを備え、第２のフィルタコンポーネントは、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントの各々を備え、第１の偏光構成は、同じサイズの４つのセグメントの各々を備え、同じサイズの４つのセグメントの偏光の各々が第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であるような、第１の偏光及び第２の偏光の一方であって、同じサイズの４つのセグメントの１つを通過する光を第１の偏光及び第２の偏光の一方に偏光させるように動作可能であり、並びに第２の偏光構成は、同じサイズの４つのセグメントの偏光の各々が第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であり且つ第１のフィルタコンポーネントの対応するセグメントに直交するような、第１の偏光及び第２の偏光の一方であって、同じサイズの４つのセグメントの１つを通過する光を第１の偏光及び第２の偏光の一方に偏光させるように動作可能な同じサイズの４つのセグメントの各々を備える。

[00114] 例において、方法が提供される。本方法は、１つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットに入射するように光学システムから照明ビームを出力することと、第１のフィルタコンポーネントを使用して照明ビームに第１の偏光を持たせることと、第２のフィルタコンポーネントが第１のフィルタコンポーネントに直交して位置する、第２のフィルタコンポーネントを使用して、１つ又は複数のフィーチャから散乱する照明ビームの少なくとも一部分に第２の偏光を持たせることと、結像システムによって、照明ビームの少なくとも一部分を表す強度データを得ることと、強度データに基づいて１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成することと、第２の偏光を有する照明ビームの部分の量に基づいて１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定することとを含む。

[00115] 例において、第１の偏光を持たせることは、ターゲットに入射するのに先立って第１の偏光を有するように照明ビームを偏光させることを含み、且つ第２の偏光を持たせることは、結像システムに受け取られるのに先立って第２の偏光を有するように照明ビームの部分を偏光させることを含む。

[00116] 例において、第２の偏光を持たせることは、第１のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過した照明ビームに関連する放射が第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過するのを容易にすることと、第１のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過した照明ビームに関連する放射が第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過するのを容易にすることと、第１のフィルタコンポーネントの第３のセグメントを通過した照明ビームに関連する放射が第２のフィルタコンポーネントの第３のセグメントを通過するのを容易にすることと、第１のフィルタコンポーネントの第４のセグメントを通過した照明ビームに関連する放射が第２のフィルタコンポーネントの第４のセグメントを通過するのを容易にすることとを含み、第１のフィルタコンポーネントの第１のセグメント、第１のフィルタコンポーネントの第４のセグメント、第２のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、及び第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントは、第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成され、並びに第１のフィルタコンポーネントの第２のセグメント、第１のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメント、及び第２のフィルタコンポーネントの第４のセグメントは、第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成され、第２の偏光は第１の偏光に直交する。

[00117] 例において、本方法は、第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過する照明ビームの部分の第１の粒子を楔要素への第１の粒子の入射角に対して第１の角度で、強度データが得られるのに先立って、且つ第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素を介して、オフセットすることと、第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過する照明ビームの部分の第２の粒子を楔要素への第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットすることとをさらに含み、像データによって表される像が、第１の角度だけオフセットされた第１の粒子を表す第１のスポットと、第２の角度だけオフセットされた第２の粒子を表す第２のスポットとを含む。

[00118] 例において、像データを生成することは、４つのスポットであって、各々が互いにオフセットされ且つ第１のフィルタコンポーネントの第１のセグメント、第１のフィルタコンポーネントの第２のセグメント、第１のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、及び第１のフィルタコンポーネントの第４のセグメントの各々を通過して１つ又は複数のフィーチャから散乱する照明ビームと、第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメント、第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメント、第２のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、及び第２のフィルタコンポーネントの第４のセグメントのうちの１つを通過する照明ビームの部分とを表す、４つのスポットを像内に生成することを含む。

[00119] 例において、システムが提供される。本システムは、照明ビームを出力するように構成された光学システムと、照明ビームが、第１のフィルタコンポーネントを通過した後に、第１の偏光を有するように偏光されるように、照明ビームを受け取って照明ビームに第１の偏光を持たせるように構成された第１のフィルタコンポーネントと、１つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットであって、第１の偏光を有する照明ビームがターゲットに入射し、１つ又は複数のフィーチャによって散乱された照明ビームの少なくとも一部分が、第１の偏光に直交する第２の偏光を含む、ターゲットと、第２の偏光を含む照明ビームの部分を受け取るように構成された第２のフィルタコンポーネントであって、第２のフィルタコンポーネントを通過した後に、照明ビームの残り部分が、第２の偏光を有する照明ビームの残り部分の量に関連付けられ且つ１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータを表すように、第２のフィルタコンポーネントが、照明ビームの部分に第２の偏光を持たせるように構成される、第２のフィルタコンポーネントとを備える。

[00120] 例において、第１のフィルタコンポーネントは、第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された少なくとも第１のセグメントと、第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第２のセグメントとを備え、且つ第２のフィルタコンポーネントは、第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された少なくとも第３のセグメントと、第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第４のセグメントとを備え、第１の偏光は第２の偏光に直交する。

[00121] 例において、第１のフィルタコンポーネントは、第１の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第１のセグメント及び第２のセグメントと、第２の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第３のセグメント及び第４のセグメントとを備え、且つ第２のフィルタコンポーネントは、第１の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第５のセグメント及び第６のセグメントと、第２の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第７のセグメント及び第８のセグメントとを備え、第１の偏光は第２の偏光に直交する。

[00122] 例において、システムは、第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素であって、第２のフィルタリングコンポーネントの第１のセグメントを通過する照明ビームの部分の第１の粒子を楔要素への第１の粒子の入射角に対して第１の角度でオフセットし、且つ第２のフィルタリングコンポーネントの第２のセグメントを通過する照明ビームの部分の第２の粒子を楔要素への第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットするようにさらに構成され、像データによって表される像が、第１の角度だけオフセットされた第１の粒子を表す第１のスポットと、第２の角度だけオフセットされた第２の粒子を表す第２のスポットとを含む、楔要素をさらに備える。

[00123] 例において、第１のフィルタコンポーネントは、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントを備え、第２のフィルタコンポーネントは、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントを備え、第１のフィルタコンポーネントの同じサイズの４つのセグメントの各々は、第１のフィルタコンポーネントの同じサイズの４つのセグメントの各々の偏光が第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であるような第１の偏光及び第２の偏光の一方であって、第１のフィルタコンポーネントの同じサイズの４つのセグメントの対応する１つを通過する光を第１の偏光及び第２の偏光の一方を有するように偏光させるように構成され、且つ第２のフィルタコンポーネントの同じサイズの４つのセグメントの各々は、第２のフィルタコンポーネントの同じサイズの４つのセグメントの各々が第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であり且つ第１のフィルタコンポーネントの対応するセグメントに直交するような第１の偏光及び第２の偏光の一方であって、第２のフィルタコンポーネントの同じサイズの４つのセグメントの対応する１つを通過する光を第１の偏光及び第２の偏光の一方を有するように偏光させるように構成される。

[00124] 本発明によるさらなる実施形態を以下の番号付き条項で説明する。
１．検査装置であって、
１つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットに入射する照明ビームを出力するように構成された光学システムであって、上記照明ビームが、上記ターゲットに入射したときに第１の偏光を含むように構成されている、上記光学システムと、
上記１つ又は複数のフィーチャによって散乱された上記照明ビームの少なくとも一部分であって、上記第１の偏光に直交する第２の偏光を含む上記照明ビームの上記部分を表す強度データを得て、
上記強度データに基づいて上記１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成し、且つ
上記第２の偏光を有する上記照明ビームの上記部分の量に基づいて上記１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定する
ように構成された上記結像システムと
を備える、検査装置。

２．上記照明ビームが第１のフィルタコンポーネントを通過して上記ターゲットに誘導されるように構成され配置された上記第１のフィルタコンポーネントであって、上記ターゲットに入射するのに先立って上記第１の偏光を有するように上記照明ビームを偏光させる上記第１のフィルタコンポーネントと、
第２のフィルタコンポーネントが上記照明ビームの上記部分を受け取るように構成され上記第１のフィルタコンポーネントに直交して配置された上記第２のフィルタコンポーネントであって、上記第２の偏光を有するように上記照明ビームの上記部分を偏光させる上記第２のフィルタコンポーネントと
をさらに備える、条項１に記載の検査装置。

３．上記第１のフィルタコンポーネントが、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第１のセグメントと、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第２のセグメント、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第３のセグメントと、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第４のセグメントとを備え、
上記第２のフィルタコンポーネントが、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第５のセグメントと、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第６のセグメント、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第７のセグメントと、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第８のセグメントとを備え、
上記第１のフィルタコンポーネント及び上記第２のフィルタコンポーネントが、上記第１のセグメントを通過する上記照明ビームに関連する放射が上記第８のセグメントを通過し、上記第２のセグメントを通過する上記照明ビームに関連する放射が上記第７のセグメントを通過し、上記第３のセグメントを通過する上記照明ビームに関連する放射が上記第６のセグメントを通過し、且つ上記第４のセグメントを通過する上記照明ビームに関連する放射が上記第５のセグメントを通過するような向きに配置される、
条項２に記載の検査装置。

４．上記第１のフィルタコンポーネント及び上記第２のフィルタコンポーネントが、ｓ偏光及びｐ偏光フィルタ、Ｈ偏光及びＶ偏光フィルタ、左円偏光及び右円偏光フィルタ、並びに左楕円偏光及び右楕円偏光フィルタのうちの１つを含む、条項３に記載の検査装置。

５．上記第２のフィルタコンポーネントが、少なくとも第１のセグメント及び第２のセグメントを備え、上記検査装置が、
上記第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素であって、
上記第２のフィルタコンポーネントの上記第１のセグメントを通過する上記照明ビームの上記部分の第１の粒子を上記楔要素への上記第１の粒子の入射角に対して第１の角度でオフセットし、且つ
上記第２のフィルタコンポーネントの上記第２のセグメントを通過する上記照明ビームの上記部分の第２の粒子を上記楔要素への上記第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットするようにさらに構成され、上記像データによって表される上記像が、上記第１の角度だけオフセットされた上記第１の粒子を表す第１のスポットと、上記第２の角度だけオフセットされた上記第２の粒子を表す第２のスポットとを含む、
上記楔要素をさらに備える、条項２に記載の検査装置。

６．上記像データによって表される上記像が、４つのスポットであって、各々が互いにオフセットされ、且つ
上記第１のセグメント、上記第２のセグメント、上記第３のセグメント、及び上記第４のセグメントの各々を通過して上記１つ又は複数のフィーチャから散乱する上記照明ビームと、
上記第５のセグメント、上記第６のセグメント、上記第７のセグメント、及び上記第８のセグメントのうちの対応する１つを通過する上記照明ビームの部分と
を表す、上記４つのスポットを上記像内に含む、条項５に記載の検査装置。

７．第１の偏光構成を有する第１のフィルタコンポーネントと、
第２の偏光構成を有する第２のフィルタコンポーネントであって、上記第２の偏光構成が上記第１の偏光構成に直交する、上記第２のフィルタコンポーネントと
をさらに備える、条項１に記載の検査装置。

８．上記第１のフィルタコンポーネントが、第１の半部と、上記第１の半部と比較して上記第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称である、第２の半部とを備え、且つ
上記第２のフィルタコンポーネントが、第３の半部と、上記第３の半部と比較して上記第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称である、第４の半部とを備える、
条項７に記載の検査装置。

９．上記第１のフィルタコンポーネントが、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントを備え、
上記第２のフィルタコンポーネントが、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントを備え、
上記第１の偏光構成は、上記同じサイズの４つのセグメントの各々を備え、且つ上記同じサイズの４つのセグメントの偏光の各々が上記第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であるような、上記第１の偏光及び上記第２の偏光の一方であって、上記同じサイズの４つのセグメントの１つを通過する光を上記第１の偏光及び上記第２の偏光の上記一方に偏光させるように動作可能であり、並びに
上記第２の偏光構成は、上記同じサイズの４つのセグメントの偏光の各々が上記第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であり且つ上記第１のフィルタコンポーネントの対応するセグメントに直交するような、上記第１の偏光及び上記第２の偏光の一方であって、上記同じサイズの４つのセグメントの１つを通過する光を上記第１の偏光及び上記第２の偏光の上記一方に偏光させるように動作可能な上記同じサイズの４つのセグメントの各々を備える、
条項７に記載の検査装置。

１０．方法であって、
１つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットに入射するように光学システムから照明ビームを出力することと、
第１のフィルタコンポーネントを使用して上記照明ビームに第１の偏光を持たせることと、
第２のフィルタコンポーネントが上記第１のフィルタコンポーネントに直交して位置する、上記第２のフィルタコンポーネントを使用して、上記１つ又は複数のフィーチャから散乱する上記照明ビームの少なくとも一部分に第２の偏光を持たせることと、
結像システムによって、上記照明ビームの少なくとも上記部分を表す強度データを得ることと、
上記強度データに基づいて上記１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成することと、
上記第２の偏光を有する上記照明ビームの上記部分の量に基づいて上記１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定することと
を含む、方法。

１１．上記第１の偏光を持たせることが、上記ターゲットに入射するのに先立って上記第１の偏光を有するように上記照明ビームを偏光させることを含み、
上記第２の偏光を持たせることが、上記結像システムに受け取られるのに先立って上記第２の偏光を有するように上記照明ビームの上記部分を偏光させることを含む、
条項１０に記載の方法。

１２．上記第２の偏光を持たせることが、
上記第１のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過した上記照明ビームに関連する放射が上記第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過するのを容易にすることと、
上記第１のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過した上記照明ビームに関連する放射が上記第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過するのを容易にすることと、
上記第１のフィルタコンポーネントの第３のセグメントを通過した上記照明ビームに関連する放射が上記第２のフィルタコンポーネントの第３のセグメントを通過するのを容易にすることと、
上記第１のフィルタコンポーネントの第４のセグメントを通過した上記照明ビームに関連する放射が上記第２のフィルタコンポーネントの第４のセグメントを通過するのを容易にすることと
を含み、
上記第１のフィルタコンポーネントの上記第１のセグメント、上記第１のフィルタコンポーネントの上記第４のセグメント、上記第２のフィルタコンポーネントの上記第３のセグメント、及び上記第２のフィルタコンポーネントの上記第２のセグメントが、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成され、並びに
上記第１のフィルタコンポーネントの上記第２のセグメント、上記第１のフィルタコンポーネントの上記第３のセグメント、上記第２のフィルタコンポーネントの上記第１のセグメント、及び上記第２のフィルタコンポーネントの上記第４のセグメントが、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成され、上記第２の偏光が上記第１の偏光に直交する、
条項１０に記載の方法。

１３．上記強度データが得られるのに先立って且つ上記第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素を介して、上記第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過する上記照明ビームの上記部分の第１の粒子を上記楔要素への上記第１の粒子の入射角に対して第１の角度でオフセットすることと、
上記第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過する上記照明ビームの上記部分の第２の粒子を上記楔要素への上記第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットすることとをさらに含み、上記像データによって表される上記像が、上記第１の角度だけオフセットされた上記第１の粒子を表す第１のスポットと、上記第２の角度だけオフセットされた上記第２の粒子を表す第２のスポットと
を含む、条項１０に記載の方法。

１４．上記像データを生成することが、４つのスポットであって、各々が互いにオフセットされ且つ
上記第１のフィルタコンポーネントの第１のセグメント、上記第１のフィルタコンポーネントの第２のセグメント、上記第１のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、及び上記第１のフィルタコンポーネントの第４のセグメントの各々を通過して上記１つ又は複数のフィーチャから散乱する上記照明ビームと、
上記第２のフィルタコンポーネントの上記第１のセグメント、上記第２のフィルタコンポーネントの上記第２のセグメント、上記第２のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、及び上記第２のフィルタコンポーネントの第４のセグメントのうちの１つを通過する上記照明ビームの部分と
を表す、上記４つのスポットを上記像内に生成することを含む、条項１３に記載の方法。

１５．システムであって、
照明ビームを出力するように構成された光学システムと、
上記照明ビームが、第１のフィルタコンポーネントを通過した後に、第１の偏光を有するように偏光されるように、上記照明ビームを受け取って上記照明ビームに上記第１の偏光を持たせるように構成された上記第１のフィルタコンポーネントと、
１つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットであって、上記第１の偏光を有する上記照明ビームが上記ターゲットに入射し、上記１つ又は複数のフィーチャによって散乱された上記照明ビームの少なくとも一部分が、上記第１の偏光に直交する第２の偏光を含む、上記ターゲットと、
上記第２の偏光を含む上記照明ビームの上記部分を受け取るように構成された第２のフィルタコンポーネントであって、上記第２のフィルタコンポーネントを通過した後に、上記照明ビームの残り部分が、上記第２の偏光を有する上記照明ビームの上記残り部分の量に関連付けられ且つ上記１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータを表すように、上記第２のフィルタコンポーネントが、上記照明ビームの上記部分に第２の偏光を持たせるように構成される、上記第２のフィルタコンポーネントと
を備える、システム。

１６．上記第１のフィルタコンポーネントが、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された少なくとも第１のセグメントと、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第２のセグメントとを備え、且つ上記第２のフィルタコンポーネントが、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された少なくとも第３のセグメントと、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第４のセグメントとを備え、上記第１の偏光が上記第２の偏光に直交する、条項１５に記載の光学システム。

１７．上記第１のフィルタコンポーネントが、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第１のセグメント及び第２のセグメントと、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第３のセグメント及び第４のセグメントとを備え、且つ上記第２のフィルタコンポーネントが、上記第１の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第５のセグメント及び第６のセグメントと、上記第２の偏光を有するように光を偏光させるように各々構成された第７のセグメント及び第８のセグメントとを備え、上記第１の偏光が上記第２の偏光に直交する、条項１５に記載の光学システム。

１８．上記第１のフィルタコンポーネントの各点が、上記第１のフィルタコンポーネントの中心に対する上記第１のフィルタコンポーネントの対称点に直交する偏光を有するように、上記第１のフィルタコンポーネントが半分に分割され、且つ
上記第２のフィルタコンポーネントの各点が、上記第２のフィルタコンポーネントの中心に対する上記第２のフィルタコンポーネントの対称点に直交する偏光と、上記第１のフィルタコンポーネント上の対応点の直交偏光とを有するように、上記第２のフィルタコンポーネントが半分に分割される、
条項１５に記載の光学システム。

１９．上記第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素であって、
上記第２のフィルタリングコンポーネントの第１のセグメントを通過する上記照明ビームの上記部分の第１の粒子を上記楔要素への上記第１の粒子の入射角に対して第１の角度でオフセットし、且つ
上記第２のフィルタリングコンポーネントの第２のセグメントを通過する上記照明ビームの上記部分の第２の粒子を上記楔要素への上記第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットするようにさらに構成され、上記像データによって表される上記像が、上記第１の角度だけオフセットされた上記第１の粒子を表す第１のスポットと、上記第２の角度だけオフセットされた上記第２の粒子を表す第２のスポットとを含む、
上記楔要素をさらに備える、条項１５の光学システム。

２０．上記第１のフィルタコンポーネントが、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントを備え、
上記第２のフィルタコンポーネントが、略円形であり、且つ同じサイズの４つのセグメントを備え、
上記第１のフィルタコンポーネントの上記同じサイズの４つのセグメントの各々は、上記第１のフィルタコンポーネントの上記同じサイズの４つのセグメントの各々の偏光が上記第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であるような上記第１の偏光及び上記第２の偏光の一方であって、上記第１のフィルタコンポーネントの上記同じサイズの４つのセグメントの対応する１つを通過する光を上記第１の偏光及び上記第２の偏光の上記一方を有するように偏光させるように構成され、並びに
上記第２のフィルタコンポーネントの上記同じサイズの４つのセグメントの各々は、上記第２のフィルタコンポーネントの上記同じサイズの４つのセグメントの各々が上記第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であり且つ上記第１のフィルタコンポーネントの対応するセグメントとは正反対であるような上記第１の偏光及び上記第２の偏光の一方であって、上記第２のフィルタコンポーネントの上記同じサイズの４つのセグメントの対応する１つを通過する光を上記第１の偏光及び上記第２の偏光の上記一方を有するように偏光させるように構成される、
条項１５に記載の光学システム。

[00125] 光リソグラフィの文脈での本発明の実施形態の使用についての具体的な言及が上記でなされたが、本発明が他の用途、例えばインプリントリソグラフィに使用され得ることと、文脈が許す限り、本発明が光リソグラフィに限定されないことが認識されるであろう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスにおけるトポグラフィが基板上に生成されるパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは、基板に供給されたレジスト層に押し込まれてもよく、その後、電磁放射、熱、圧力又はこれらの組み合わせを加えることによってレジストを硬化させる。パターニングデバイスは、レジストが硬化された後に、レジストから外されて、レジストにパターンを残す。

[00126] 本明細書で使用される「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、３５５、２４８、１９３、１５７若しくは１２６ｎｍの波長、又は約３６５、３５５、２４８、１９３、１５７若しくは１２６ｎｍの波長を有する）及び極端紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５～２０ｎｍの範囲内の波長を有する）、並びにイオンビーム又は電子ビームなどの、粒子ビームを含む、全てのタイプの電磁放射を包含する。

[00127] 「レンズ」という用語は、文脈が許す限り、屈折型、反射型、磁気型、電磁型及び静電型光学コンポーネントを含む、種々のタイプの光学コンポーネントの任意の１つ又は組み合わせを指すことがある。

[00128] 本発明の広さ及び範囲は、上で説明した代表的な実施形態の何れにも制限されるべきではなく、以下の特許請求の範囲及びそれらの均等物によってのみ定義されるべきである。

Claims (14)

1. １つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットに入射する照明ビームを出力するように構成された光学システムであって、前記照明ビームが、前記ターゲットに入射したときに第１の偏光を含むように構成されている、前記光学システムと、
   前記１つ又は複数のフィーチャによって散乱された前記照明ビームの少なくとも一部分であって、前記第１の偏光に直交する第２の偏光を含む前記照明ビームの前記部分を表す強度データを得て、
   前記強度データに基づいて前記１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成し、および
   前記第２の偏光を有する前記照明ビームの前記部分の量に基づいて前記１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定する
   ように構成された結像システムと
   を備える、検査装置。
2. 前記照明ビームが第１のフィルタコンポーネントを通過して前記ターゲットに誘導されるように構成され配置された前記第１のフィルタコンポーネントであって、前記ターゲットに入射するのに先立って前記第１の偏光を有するように前記照明ビームを偏光させる前記第１のフィルタコンポーネントと、
   第２のフィルタコンポーネントが前記照明ビームの前記部分を受け取るように構成され前記第１のフィルタコンポーネントに直交して配置された前記第２のフィルタコンポーネントであって、前記第２の偏光を有するように前記照明ビームの前記部分を偏光させる前記第２のフィルタコンポーネントと
   をさらに備える、請求項１に記載の検査装置。
3. 前記第１のフィルタコンポーネントが、前記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第１のセグメントと、前記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第２のセグメント、前記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第３のセグメントと、前記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第４のセグメントとを備え、
   前記第２のフィルタコンポーネントが、前記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第５のセグメントと、前記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第６のセグメント、前記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第７のセグメントと、前記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成された第８のセグメントとを備え、
   前記第１のフィルタコンポーネント及び前記第２のフィルタコンポーネントが、前記第１のセグメントを通過する前記照明ビームに関連する放射が前記第８のセグメントを通過し、前記第２のセグメントを通過する前記照明ビームに関連する放射が前記第７のセグメントを通過し、前記第３のセグメントを通過する前記照明ビームに関連する放射が前記第６のセグメントを通過し、および前記第４のセグメントを通過する前記照明ビームに関連する放射が前記第５のセグメントを通過するような向きに配置される、
   請求項２に記載の検査装置。
4. 前記第１のフィルタコンポーネント及び前記第２のフィルタコンポーネントが、ｓ偏光及びｐ偏光フィルタ、Ｈ偏光及びＶ偏光フィルタ、左円偏光及び右円偏光フィルタ、並びに左楕円偏光及び右楕円偏光フィルタのうちの１つを含む、請求項３に記載の検査装置。
5. 前記第２のフィルタコンポーネントが、少なくとも第１のセグメント及び第２のセグメントを備え、前記検査装置が、
   前記第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素であって、
   前記第２のフィルタコンポーネントの前記第１のセグメントを通過する前記照明ビームの前記部分の第１の粒子を前記楔要素への前記第１の粒子の入射角に対して第１の角度でオフセットし、および
   前記第２のフィルタコンポーネントの前記第２のセグメントを通過する前記照明ビームの前記部分の第２の粒子を前記楔要素への前記第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットするようにさらに構成され、前記像データによって表される前記像が、前記第１の角度だけオフセットされた前記第１の粒子を表す第１のスポットと、前記第２の角度だけオフセットされた前記第２の粒子を表す第２のスポットとを含む、
   前記楔要素をさらに備える、請求項２に記載の検査装置。
6. 前記像データによって表される前記像が、４つのスポットであって、各々が互いにオフセットされ、および
   前記第１のセグメント、前記第２のセグメント、前記第３のセグメント、及び前記第４のセグメントの各々を通過して前記１つ又は複数のフィーチャから散乱する前記照明ビームと、
   前記第５のセグメント、前記第６のセグメント、前記第７のセグメント、及び前記第８のセグメントのうちの対応する１つを通過する前記照明ビームの部分と
   を表す、前記４つのスポットを前記像内に含む、請求項３に記載の検査装置。
7. 第１の偏光構成を有する第１のフィルタコンポーネントと、
   第２の偏光構成を有する第２のフィルタコンポーネントであって、前記第２の偏光構成が前記第１の偏光構成に直交する、前記第２のフィルタコンポーネントと
   をさらに備える、請求項１に記載の検査装置。
8. 前記第１のフィルタコンポーネントが、第１の半部と、前記第１の半部と比較して前記第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称である、第２の半部とを備え、および
   前記第２のフィルタコンポーネントが、第３の半部と、前記第３の半部と比較して前記第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称である、第４の半部とを備える、
   請求項７に記載の検査装置。
9. 前記第１のフィルタコンポーネントが、略円形であり、同じサイズの４つのセグメントを備え、
   前記第２のフィルタコンポーネントが、略円形であり、同じサイズの４つのセグメントを備え、
   前記第１の偏光構成は、前記同じサイズの４つのセグメントの各々を備え、前記同じサイズの４つのセグメントの偏光の各々が前記第１のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であるような、前記第１の偏光及び前記第２の偏光の一方であって、前記同じサイズの４つのセグメントの１つを通過する光を前記第１の偏光及び前記第２の偏光の前記一方に偏光させるように動作可能であり、並びに
   前記第２の偏光構成は、前記同じサイズの４つのセグメントの偏光の各々が前記第２のフィルタコンポーネントの中心に対して点対称であり、前記第１のフィルタコンポーネントの対応するセグメントに直交するような、前記第１の偏光及び前記第２の偏光の一方であって、前記同じサイズの４つのセグメントの１つを通過する光を前記第１の偏光及び前記第２の偏光の前記一方に偏光させるように動作可能な前記同じサイズの４つのセグメントの各々を備える、
   請求項７に記載の検査装置。
10. １つ又は複数のフィーチャを備えるターゲットに入射するように光学システムから照明ビームを出力することと、
    第１のフィルタコンポーネントを使用して前記照明ビームに第１の偏光を持たせることと、
    第２のフィルタコンポーネントが前記第１のフィルタコンポーネントに直交して位置する、前記第２のフィルタコンポーネントを使用して、前記１つ又は複数のフィーチャから散乱する前記照明ビームの少なくとも一部分に第２の偏光を持たせることと、
    結像システムによって、前記照明ビームの少なくとも前記部分を表す強度データを得ることと、
    前記強度データに基づいて前記１つ又は複数のフィーチャ各々の像を表す像データを生成することと、
    前記第２の偏光を有する前記照明ビームの前記部分の量に基づいて前記１つ又は複数のフィーチャに関連する対象のパラメータの測定値を決定することと
    を含む、方法。
11. 前記第１の偏光を持たせることが、前記ターゲットに入射するのに先立って前記第１の偏光を有するように前記照明ビームを偏光させることを含み、
    前記第２の偏光を持たせることが、前記結像システムに受け取られるのに先立って前記第２の偏光を有するように前記照明ビームの前記部分を偏光させることを含む、
    請求項１０に記載の方法。
12. 前記第２の偏光を持たせることが、
    前記第１のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過した前記照明ビームに関連する放射が前記第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過するのを容易にすることと、
    前記第１のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過した前記照明ビームに関連する放射が前記第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過するのを容易にすることと、
    前記第１のフィルタコンポーネントの第３のセグメントを通過した前記照明ビームに関連する放射が前記第２のフィルタコンポーネントの第３のセグメントを通過するのを容易にすることと、
    前記第１のフィルタコンポーネントの第４のセグメントを通過した前記照明ビームに関連する放射が前記第２のフィルタコンポーネントの第４のセグメントを通過するのを容易にすることと
    を含み、
    前記第１のフィルタコンポーネントの前記第１のセグメント、前記第１のフィルタコンポーネントの前記第４のセグメント、前記第２のフィルタコンポーネントの前記第３のセグメント、及び前記第２のフィルタコンポーネントの前記第２のセグメントが、前記第１の偏光を有するように光を偏光させるように構成され、並びに
    前記第１のフィルタコンポーネントの前記第２のセグメント、前記第１のフィルタコンポーネントの前記第３のセグメント、前記第２のフィルタコンポーネントの前記第１のセグメント、及び前記第２のフィルタコンポーネントの前記第４のセグメントが、前記第２の偏光を有するように光を偏光させるように構成され、前記第２の偏光が前記第１の偏光に直交する、
    請求項１０に記載の方法。
13. 前記強度データが得られるのに先立って、前記第２のフィルタコンポーネントと整列するように構成され配置された楔要素を介して、前記第２のフィルタコンポーネントの第１のセグメントを通過する前記照明ビームの前記部分の第１の粒子を前記楔要素への前記第１の粒子の入射角に対して第１の角度でオフセットすることと、
    前記第２のフィルタコンポーネントの第２のセグメントを通過する前記照明ビームの前記部分の第２の粒子を前記楔要素への前記第２の粒子の入射角に対して第２の角度でオフセットすることとをさらに含み、前記像データによって表される前記像が、前記第１の角度だけオフセットされた前記第１の粒子を表す第１のスポットと、前記第２の角度だけオフセットされた前記第２の粒子を表す第２のスポットと
    を含む、請求項１０に記載の方法。
14. 前記像データを生成することが、４つのスポットであって、各々が互いにオフセットされ、および
    前記第１のフィルタコンポーネントの第１のセグメント、前記第１のフィルタコンポーネントの第２のセグメント、前記第１のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、及び前記第１のフィルタコンポーネントの第４のセグメントの各々を通過して前記１つ又は複数のフィーチャから散乱する前記照明ビームと、
    前記第２のフィルタコンポーネントの前記第１のセグメント、前記第２のフィルタコンポーネントの前記第２のセグメント、前記第２のフィルタコンポーネントの第３のセグメント、及び前記第２のフィルタコンポーネントの第４のセグメントのうちの１つを通過する前記照明ビームの部分と
    を表す、前記４つのスポットを前記像内に生成することを含む、請求項１３に記載の方法。

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