JP7161808B1 - 水位センサ、貯水タンク、手洗い装置、循環型水処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水の水位を、正確に計測する。【解決手段】水位センサは、第１電極、第２電極、及び制御部を具備する。第１電極は、バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンク内の第１高さに設置される。第２電極は、タンク内の、第１高さよりも高い第２高さに設置される。制御部は、第１電極と第２電極とに水が接触すると第２高さまで水が到達したことを検出する。【選択図】図６
Description
本開示は、水位センサ、貯水タンク、手洗い装置、循環型水処理装置に関する。
自立循環型の手洗い装置が提案されている（特許文献１参照）。特許文献１で記載される手洗い装置では、例えば、手洗い後の水を一次浄化フィルタを通過させ、通過後の水を貯水タンクで保持する。
貯水タンクでは、例えば、水が溢れ出すのを防ぐため、タンク内の水位を管理する必要がある。循環型の水処理装置においては、一次浄化フィルタを通過させた水であっても、細菌等の微生物を含む不純物を含有している。そのため、係る循環している処理水を貯水するタンクにおいて、正確にタンク内の水位を測定するには、工夫が必要である。また、不純物を含有している水を貯留するタンク内に形成されるバイオフィルムにも注意を払う必要がある。
本開示の目的は、不純物を含有する水であっても、貯水タンク内においてバイオフィルム形成の影響を受けることなく水位を、正確に計測することである。
水位センサは、第１電極、第２電極、及び制御部を具備する。第１電極は、バイオフィルムを形成し得る微生物や有機物等を含む不純物を含有する水を貯留するタンク内の第１高さに設置される。第２電極は、タンク内の、第１高さよりも高い第２高さに設置される。制御部は、第１電極と第２電極とに水が接触すると第２高さまで水が到達したことを検出する。
本開示によれば、バイオフィルムを形成し得る微生物等を含む不純物を含有する水であっても、貯水タンク内の水位を、正確に計測できる。
以下、本発明の一実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施形態を説明するための図面において、同一の構成要素には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
＜概要＞
本実施形態に係る手洗い装置１は、バイオフィルムを形成し得る微生物や有機物等を含む不純物を含有した水を保持する貯水タンクの内部において、所定の第１高さの第１位置と、第１高さよりも高い第２高さの第２位置とに電極を有する。底近傍の電極と、その他の電極とに水が接触すると電流が流れ、その他の電極が設置された位置まで水が貯留されていることが検出される。バイオフィルムを形成し得る微生物や有機物等を含む不純物を含有した水は、汚水と称してもよい。
本実施形態に係る手洗い装置１は、バイオフィルムを形成し得る微生物や有機物等を含む不純物を含有した水を保持する貯水タンクの内部において、所定の第１高さの第１位置と、第１高さよりも高い第２高さの第２位置とに電極を有する。底近傍の電極と、その他の電極とに水が接触すると電流が流れ、その他の電極が設置された位置まで水が貯留されていることが検出される。バイオフィルムを形成し得る微生物や有機物等を含む不純物を含有した水は、汚水と称してもよい。
＜装置構成＞
本実施形態に係る貯水タンク４４について、当該貯水タンク４４を用いた手洗い装置１を例に説明する。
手洗い装置１は、例えば、自立循環型の手洗い装置である。
本実施形態に係る貯水タンク４４について、当該貯水タンク４４を用いた手洗い装置１を例に説明する。
手洗い装置１は、例えば、自立循環型の手洗い装置である。
図１、図２は、本実施形態の手洗い装置１の外観斜視図である。なお、以下の説明において、手洗い装置１を使用するユーザが立つ側を手洗い装置１の前面といい、その反対側を手洗い装置の背面という。
図１に示すように、手洗い装置１は、筐体２と、外付けモジュール７と、を備えている。
図１に示すように、手洗い装置１は、筐体２と、外付けモジュール７と、を備えている。
筐体２には、手洗い槽（シンク）１１と、水栓１２と、ディスペンサ１４と、が設けられている。
筐体２は、円筒形状をなしている。筐体２は、例えばドラム缶を加工して構成される。筐体２の上部には、天板１０が設けられている。天板１０の中央部には、天板１０を貫く設置穴が形成されている。
筐体２は、円筒形状をなしている。筐体２は、例えばドラム缶を加工して構成される。筐体２の上部には、天板１０が設けられている。天板１０の中央部には、天板１０を貫く設置穴が形成されている。
筐体２の外周面には、筐体２の内部に設けられている循環ユニット６にアクセスするための扉３が設けられている。手洗い装置１の管理者は、扉３を開いた状態で、循環ユニット６のメンテナンスを行うことができる。
循環ユニット６は、構成のすべてが筐体２の内部に設けられているわけではなく、少なくとも一部が、外付けモジュール７の一部として、筐体２の外部に配置されている。
循環ユニット６は、構成のすべてが筐体２の内部に設けられているわけではなく、少なくとも一部が、外付けモジュール７の一部として、筐体２の外部に配置されている。
図２に示すように、筐体２の背面には、横方向に延びるハンドル４が設けられている。筐体２の下面には、車輪１９が複数設けられている。ユーザは、ハンドル４を把持した状態で車輪１９を動かすことで筐体２を移動させることができる。
水栓１２の先端部には、洗浄水を吐水するための吐水口１３が形成されている。吐水口１３からは、洗浄水が所定のタイミングで吐水される。
水栓１２には、赤外線センサ２３（図４参照）が設けられている。赤外線センサ２３により物体が検知されると、水栓１２の吐水口１３から洗浄水が吐水される。
なお、水栓１２に設けられる赤外線センサ２３の位置は、先端部に限られず、任意に変更することができる。
水栓１２には、赤外線センサ２３（図４参照）が設けられている。赤外線センサ２３により物体が検知されると、水栓１２の吐水口１３から洗浄水が吐水される。
なお、水栓１２に設けられる赤外線センサ２３の位置は、先端部に限られず、任意に変更することができる。
ディスペンサ１４は、手洗い槽１１の内側に向けてノズル５３から、皮膚の衛生を保つための薬剤を吐出する。皮膚の衛生を保つための薬剤としては、皮膚を洗浄するための洗浄料（例えば石鹸水等の洗剤）、および殺菌作用のある液体又はハンドローション等（例えばアルコール等の成分を含む消毒薬等）が含まれる。
ディスペンサ１４には赤外線センサ５２（図４参照）が設けられている。赤外線センサ５２は、例えば、ディスペンサ１４のノズル５３の根本近傍に、手洗い槽１１内に接近する手指を検知可能に設けられている。赤外線センサ５２により、物体が検知されると、ディスペンサ１４のノズル５３の先端から薬剤が吐出される。
＜薬剤ユニット５、循環ユニット６の構成＞
図３は、手洗い装置１の薬剤ユニット５、循環ユニット６、制御部６０を示すブロック図である。図３に示すように、筐体２の内部には、薬剤を供給する薬剤ユニット５、洗浄水を浄化して循環させる循環ユニット６、循環ユニット６を制御する制御部６０が設けられている。
図３は、手洗い装置１の薬剤ユニット５、循環ユニット６、制御部６０を示すブロック図である。図３に示すように、筐体２の内部には、薬剤を供給する薬剤ユニット５、洗浄水を浄化して循環させる循環ユニット６、循環ユニット６を制御する制御部６０が設けられている。
制御部６０は、プロセッサがストレージに記憶されるプログラムを読み出してメモリ上に展開し、展開したプログラムに含まれる命令を実行することにより実現される。プロセッサは、プログラムに記述された命令セットを実行するためのハードウェアであり、演算装置、レジスタ、周辺回路などにより構成される。ストレージは、データを保存するための記憶装置であり、例えば、不揮発性メモリ等のフラッシュメモリ、ＨＤＤ（Hard Disc Drive）である。メモリは、プログラム、および、プログラム等で処理されるデータ等を一時的に記憶するためのものであり、例えばＤＲＡＭ（Dynamic Random Access Memory）等の揮発性のメモリである。
図４に示すように、循環ユニット６は、吐水ユニット２０、排水ユニット３０、浄化ユニット４０を少なくとも含んでいる。
吐水ユニット２０は、循環ユニット６において、浄化ユニット４０で浄化された水を、水栓１２の吐水口１３から吐水する機能を有する。
吐水ユニット２０は、吐水ポンプ２１と、ＵＶ殺菌部２２と、赤外線センサ２３と、を主に備えている。
吐水ポンプ２１は、浄化ユニット４０に設けられる貯水タンク４６の後段に配置されている。吐水ポンプ２１は、制御部６０の制御により稼働され、貯水タンク４６で貯留されている水を、ＵＶ殺菌部２２へ送出する。
ＵＶ殺菌部２２は、吐水ポンプ２１と水栓１２との間に配置されている。ＵＶ殺菌部２２は、吐水ポンプ２１から送出される水に対して、紫外線を照射することで、当該水に対する殺菌処理を行う。ＵＶ殺菌部２２を通過した水は、洗浄水として水栓１２の吐水口１３から吐水される。
排水ユニット３０は、循環ユニット６において、水栓１２から手洗い槽１１へ向けて吐水された洗浄水を排水する機能を有する。
排水ユニット３０は、トラップ３５と、静電容量センサ３１と、排水ポンプ３２とを主に備えている。
トラップ３５は、手洗い槽１１から洗浄水を排水する配管に設けられている。トラップ３５は、例えば、悪臭、又はガス等が逆流するのを防ぎ、かつ、排水口１７から入り込んだ異物が浄化ユニット４０へ到達するのを防ぐ。
トラップ３５は、手洗い槽１１から洗浄水を排水する配管に設けられている。トラップ３５は、例えば、悪臭、又はガス等が逆流するのを防ぎ、かつ、排水口１７から入り込んだ異物が浄化ユニット４０へ到達するのを防ぐ。
排水ポンプ３２は、トラップ３５の後段に配置されている。排水ポンプ３２は、制御部６０の制御により稼働され、トラップ３５を通過した水を、浄化ユニット４０に設けられる前処理フィルタ４１へ送出する。前処理フィルタ４１は、本実施形態に係る一次浄化フィルタの一例である。
具体的には、制御部６０は、静電容量センサ３１による水の検知に応じ、排水ポンプ３２を稼働させる。例えば、制御部６０は、静電容量センサ３１により水が検知されている間、排水ポンプ３２を稼働させる。制御部６０は、静電容量センサ３１により水が検知されなくなると、排水ポンプ３２を停止させる。
具体的には、制御部６０は、静電容量センサ３１による水の検知に応じ、排水ポンプ３２を稼働させる。例えば、制御部６０は、静電容量センサ３１により水が検知されている間、排水ポンプ３２を稼働させる。制御部６０は、静電容量センサ３１により水が検知されなくなると、排水ポンプ３２を停止させる。
静電容量センサ３１は、トラップ３５と排水ポンプ３２との間に配置されている。静電容量センサ３１は、排水管内の静電容量を検知する。これにより、手洗い槽１１から排水され、トラップ３５を介して供給された水が検知される。なお、水の供給を検知するためのセンサは、静電容量センサ３１に限定されない。その他のセンシング結果を参照して水の供給を検知してもよい。例えば、静電容量センサ３１は、圧力を検知する圧力センサであってもよい。
浄化ユニット４０は、循環ユニット６において、排水ユニット３０から供給される水を浄化する機能を有する。浄化ユニット４０は、前処理フィルタ４１と、逆浸透膜４２と、後処理フィルタ４３と、貯水タンク４４と、排水タンク４５と、貯水タンク４６と、膜ろ過ポンプ４７と、を主に備えている。
前処理フィルタ４１は、排水ポンプ３２の後段に配置されている。前処理フィルタ４１は、排水ポンプ３２から送出される水に対し、固形分、水質汚濁成分、低分子化合物界面活性剤、又は炭酸成分（洗剤成分）等を除去する前処理を施す。
本実施形態では、前処理フィルタ４１として、活性炭フィルタが採用されているがこれに限らない。例えば、糸巻きフィルタ、セディメントフィルタ、ＭＦ(精密ろ過膜）、ＵＦ（限外ろ過膜）、ＮＦ（ナノろ過膜）、セラミックフィルタ、イオン交換フィルタ、金属膜を選択しても良い。本実施形態では、前処理フィルタ４１は、外付けモジュール７の一部として筐体２の外部に配置されている。
前処理フィルタ４１の前段には圧力センサ３３が配置されている。圧力センサ３３は、前処理フィルタ４１に供給される水の圧力を検知する。
前処理フィルタ４１の後段には流量センサ３４が配置されている。流量センサ３４は、前処理フィルタ４１で前処理が施された水の流量を検知する。
貯水タンク４４は、前処理フィルタ４１の後段に配置されている。貯水タンク４４は、供給される水を貯留するためのタンクである。貯水タンク４４には、前処理フィルタ４１で前処理が施された水と、逆浸透膜４２で分離されて二方電磁弁７４を通過した濃縮水とが流入する。貯水タンク４４は、２つの系統から流入する水を貯留する。
貯水タンク４４には、水位センサが配置されている。水位センサは、貯水タンク４４内に貯留されている水の水位を検知する。
貯水タンク４４には、水位センサが配置されている。水位センサは、貯水タンク４４内に貯留されている水の水位を検知する。
膜ろ過ポンプ４７は、貯水タンク４４と、逆浸透膜４２との間に配置されている。
膜ろ過ポンプ４７は、制御部６０の制御により稼働され、貯水タンク４４で貯留される水を、予め設定された圧力へ昇圧し、逆浸透膜４２へ供給する。なお、予め設定した圧力とは、例えば、少なくとも浸透圧よりも高い圧力である。
膜ろ過ポンプ４７は、制御部６０の制御により稼働され、貯水タンク４４で貯留される水を、予め設定された圧力へ昇圧し、逆浸透膜４２へ供給する。なお、予め設定した圧力とは、例えば、少なくとも浸透圧よりも高い圧力である。
逆浸透膜４２は、膜ろ過ポンプ４７により、高圧に昇圧されて供給された水を、溶存成分が除去された透過水と、溶存成分が濃縮された濃縮水とに分離する。逆浸透膜４２は、例えば、スパイラル型の逆浸透膜により実現される。逆浸透膜４２は、例えば、クロスフロー型のろ過膜の一例である。クロスフロー型のろ過膜とは、膜面に対し平行な流れを作ることで、膜に供給される被排水中の懸濁物質やコロイドが膜面に堆積するのを抑制しながらろ過を行うろ過膜を指す。言い換えれば、クロスフロー型のろ過膜とは、膜の浸透圧よりも高い圧力で排水を圧送することにより、ろ過を行う膜を指す。このようなクロスフロー型のろ過膜として、逆浸透膜に代えて、ナノろ過膜（ＮＦ膜）、限外ろ過膜（ＵＦ膜）、又は精密ろ過膜（ＭＦ膜）等を採用してもよい。
逆浸透膜４２により分離された濃縮水は、二方電磁弁７４が開いている場合は、二方電磁弁７４および圧力調整弁７３を介して貯水タンク４４へ排出される。また、逆浸透膜４２により分離した濃縮水は、二方電磁弁７５が開いている場合は、二方電磁弁７５を介して排水タンク４５へ排出される。また、逆浸透膜４２により分離された透過水は、後処理フィルタ４３へ排出される。
二方電磁弁７４は、電磁コイルの電磁力により弁を開閉するデバイスである。二方電磁弁７４は、通常の状態において弁が開いており、制御部６０からの信号に応じて弁を閉じる構造をしている。
圧力調整弁７３は、貯水タンク４４へ供給される濃縮水の流量又は圧力を調整する。
二方電磁弁７５は、電磁コイルの電磁力により弁を開閉するデバイスである。二方電磁弁７５は、通常の状態において弁が閉じており、制御部６０からの信号に応じて弁を開く構造をしている。
逆浸透膜４２の前段には、センサ部６１が配置されている。図示の例では、センサ部６１は、圧力センサ、流量センサ、およびＥＣ／温度センサを有している。
圧力センサは、逆浸透膜４２に供給される水の圧力を検知する。
流量センサは、逆浸透膜４２に供給される水の流量を検知する。
ＥＣ／温度センサは、逆浸透膜４２に供給される水の電気伝導度、および温度を検知する。
なお、センサ部６１は、上記のセンサの他に、以下に列挙する少なくともいずれかをセンシングするセンサを有してもよい。
（１）ｐＨ、酸化還元電位、アルカリ度、イオン濃度、硬度
（２）濁度、色度、粘度、溶存酸素
（３）臭気、アンモニア態窒素・硝酸態窒素・亜硝酸態窒素・全窒素・残留塩素・全リン・全有機炭素・全無機炭素・全トリハロメタン
（４）微生物センサの検知結果、化学的酸素要求量、生物学的酸素要求量、
（５）シアン、水銀、油分、界面活性剤
（６）光学センサの検知結果、ＴＤＳ（Total Dissolved Solids）センサの検知結果
（７）質量分析結果、微粒子、ゼータ電位、表面電位
なお、センサ部６１は、上記のセンサの他に、以下に列挙する少なくともいずれかをセンシングするセンサを有してもよい。
（１）ｐＨ、酸化還元電位、アルカリ度、イオン濃度、硬度
（２）濁度、色度、粘度、溶存酸素
（３）臭気、アンモニア態窒素・硝酸態窒素・亜硝酸態窒素・全窒素・残留塩素・全リン・全有機炭素・全無機炭素・全トリハロメタン
（４）微生物センサの検知結果、化学的酸素要求量、生物学的酸素要求量、
（５）シアン、水銀、油分、界面活性剤
（６）光学センサの検知結果、ＴＤＳ（Total Dissolved Solids）センサの検知結果
（７）質量分析結果、微粒子、ゼータ電位、表面電位
後処理フィルタ４３は、逆浸透膜４２の後段に配置されている。後処理フィルタ４３は、逆浸透膜４２から排出される透過水に対し、逆浸透膜４２で濾過しきれなかった不純物を除去する後処理を施す。
本実施形態では、後処理フィルタ４３として、活性炭フィルタが採用されているがこれに限らない。例えば、糸巻きフィルタ、セディメントフィルタ、ＭＦ(精密ろ過膜）、ＵＦ（限外ろ過膜）、ＮＦ（ナノろ過膜）、セラミックフィルタ、イオン交換フィルタ、金属膜を選択しても良い。本実施形態では、後処理フィルタ４３は、外付けモジュール７の一部として筐体２の外部に配置されている。
後処理フィルタ４３の前段には、センサ部６２が配置されている。図示の例では、センサ部６２は、圧力センサ、流量センサ、およびＥＣ／温度センサを有している。
圧力センサは、後処理フィルタ４３に供給される透過水の圧力を検知する。
流量センサは、後処理フィルタ４３に供給される透過水の流量を検知する。
ＥＣ／温度センサは、後処理フィルタ４３に供給される透過水の電気伝導度、および温度を検知する。
なお、センサ部６２は、上記のセンサの他に、センサ部６１で示した（１）～（７）の少なくともいずれかをセンシングするセンサを有してもよい。
なお、センサ部６２は、上記のセンサの他に、センサ部６１で示した（１）～（７）の少なくともいずれかをセンシングするセンサを有してもよい。
排水タンク４５は、二方電磁弁７５の後段に配置されている。排水タンク４５は、供給される排水を貯留するためのタンクである。排水タンク４５は、浄化ユニット４０から取り外し、扉３から取り出し可能となっている。排水タンク４５には、逆浸透膜４２で分離されて二方電磁弁７５を通過した濃縮水が流入する。排水タンク４５は、流入する濃縮水を貯留する。
排水タンク４５には、水位センサが配置されている。水位センサは、排水タンク４５内に貯留されている排水の水位を検知する。
排水タンク４５には、水位センサが配置されている。水位センサは、排水タンク４５内に貯留されている排水の水位を検知する。
貯水タンク４６は、後処理フィルタ４３の後段に配置されている。貯水タンク４６は、供給される水を貯留するためのタンクである。貯水タンク４６には、後処理フィルタ４３で後処理が施された水が流入する。貯水タンク４６に流入する水には、次亜塩素酸水が添加されている。貯水タンク４６は、流入する、次亜塩素酸水が添加された水を貯留する。
貯水タンク４６には、水位センサが配置されている。水位センサは、貯水タンク４６内に貯留されている水の水位を検知する。
貯水タンク４６には、水位センサが配置されている。水位センサは、貯水タンク４６内に貯留されている水の水位を検知する。
浄化ユニット４０は、塩素タンク６７と塩素ポンプ６８とを備えている。
塩素タンク６７は、次亜塩素酸水を貯留するためのタンクである。次亜塩素酸水は、例えば、塩素タンク６７に給水された水に、次亜塩素酸タブレットが溶かされることで生成される。また、次亜塩素酸水は、塩素タンク６７に給水された水に食塩が溶かされ、食塩水が電気分解されることで生成されてもよい。
なお、食塩水に対して電気分解を行って、次亜塩素酸水を生成する電気分解ユニットを、塩素タンク６７の下流側に別途設けてもよい。
塩素タンク６７は、次亜塩素酸水を貯留するためのタンクである。次亜塩素酸水は、例えば、塩素タンク６７に給水された水に、次亜塩素酸タブレットが溶かされることで生成される。また、次亜塩素酸水は、塩素タンク６７に給水された水に食塩が溶かされ、食塩水が電気分解されることで生成されてもよい。
なお、食塩水に対して電気分解を行って、次亜塩素酸水を生成する電気分解ユニットを、塩素タンク６７の下流側に別途設けてもよい。
塩素タンク６７には、水位センサが配置されている。水位センサは、塩素タンク６７内に貯留されている次亜塩素酸水の水位を検知する。
塩素ポンプ６８は、塩素タンク６７の後段に配置されている。塩素ポンプ６８は、制御部６０の制御により稼働され、塩素タンク６７で貯留される次亜塩素酸水を、後処理フィルタ４３で後処理が施された水に添加する。
塩素ポンプ６８は、塩素タンク６７の後段に配置されている。塩素ポンプ６８は、制御部６０の制御により稼働され、塩素タンク６７で貯留される次亜塩素酸水を、後処理フィルタ４３で後処理が施された水に添加する。
筐体２の内部には、薬剤ユニット５として、薬剤タンク５０と、ディスペンサ１４とが設けられている。ディスペンサ１４は、薬剤ポンプ５１、赤外線センサ５２、及びノズル５３を備えている。ノズル５３の内部には、例えば、データを送受信するためのアンテナが搭載されている。
薬剤ポンプ５１は、薬剤タンク５０の後段に配置されている。薬剤ポンプ５１は、制御部６０の制御により稼働され、薬剤タンク５０内で貯留されている薬剤（例えば石鹸水等）を、ディスペンサ１４のノズル５３へ送出する。
具体的には、制御部６０は、ディスペンサ１４の赤外線センサ５２による物体の検知に応じ、薬剤ポンプ５１を稼働させる。例えば、制御部６０は、赤外線センサ５２により物体が検知されてから一定時間、薬剤ポンプ５１を稼働させる。
薬剤タンク５０は、薬剤を貯留するためのタンクである。薬剤タンク５０には、水位センサが配置されている。水位センサは、薬剤タンク５０内に貯留されている薬剤の水位を検知する。薬剤の水位が所定値を下回ると、薬剤が補給される。
＜貯水タンク４４の構成＞
図４は、図３に示す貯水タンク４４の正面図である。図４に示すように、貯水タンク４４は、蓋部４４１、タンク部４４２を有している。
図４は、図３に示す貯水タンク４４の正面図である。図４に示すように、貯水タンク４４は、蓋部４４１、タンク部４４２を有している。
図５は、図４に示す貯水タンク４４において、タンク部４４２から蓋部４４１を取り外した場合の正面図である。図５に示すように、蓋部４４１には、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７が取り付けられている。第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７は、蓋部４４１のタンク部４４２側の面から、タンク部４４２の内側へ向けて吊り下げられるように取り付けれている。換言すると、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７は、不純物を含む水に接しない位置で支持されてタンク部４４２の内部に位置するようになっている。本実施形態において、不純物は、例えば、バイオフィルムを形成し得る微生物や微生物の栄養源となる有機物等を含む。本実施形態において、微生物は、例えば、細菌、ウィルス、原生生物、藻類等を含む。
図６は、図４に示す貯水タンク４４において、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７がタンク部４４２内に収容される際の正面図である。
第１電極４４１１は、タンク部４４２内の所定の第１高さに位置するように配置される。所定の第１高さは、例えば、タンク部４４２内において、所定容量（例えば、１リットル程度）の水が貯められると水と接触する程度の高さである。第１電極４４１１は、蓋部４４１から例えばチューブでコーティングされた導線が引かれ、蓋部４４１から吊り下がる態様で、第１高さに位置するようになっている。
第１電極４４１１は、第１電極４４１１と、第２電極４４１６とが水に接触すると水を介して電流が流れるようになっている。本実施形態に係る水位センサは、第１電極４４１１、第２電極４４１６、及び制御部６０を有すると換言可能である。第１電極４４１１は、第１電極４４１１と、第３電極４４１７とが水に接触すると水を介して電流が流れるようになっている。本実施形態に係る水位センサは、第１電極４４１１、第３電極４４１７、及び制御部６０を有すると換言可能である。第１電極４４１１は、例えば、電気伝導度センサにより実現され、第１電極４４１１が水に接触すると電流が流れるようになっている。
水位センサ４４１２は、貯水タンク４４内の水の水位を測定するセンサである。水位センサ４４１２は、本実施形態に係る水位計測器の一例である。水位センサ４４１２は、例えば、液位による液圧の変化を計測し、水位に換算するセンサである。水位センサ４４１２は、水位を例えば、リニアに測定することが可能である。水位センサ４４１２が圧力を計測するタイプのセンサである場合、水位センサ４４１２は、蓋部４４１からタンク部４４２の底近傍まで略垂直に取り付けられる。水位センサ４４１２の端部は、タンク部４４２の底近傍に位置するように配置されている。
水位センサ４４１２は、例えば、金属のような固い材質により形成され、蓋部４４１からタンク部４４２の底近傍までの略垂直な状態を維持する。水位センサ４４１２が、金属以外の材質、例えば、ポリエチレン等の高分子化合物を用いて形成される場合、例えば、金属のような固い材質により形成される支持部材を利用し、蓋部４４１からタンク部４４２の底近傍までの略垂直な状態を維持してもよい。図５に示す例によれば、水位センサ４４１２は、貯水タンク４４の略中央に位置するように蓋部４４１に取り付けられている。
水位センサ４４１２は、第１電極４４１１、第２電極４４１６、第３電極４４１７で検出された水位に基づいて補正される。本実施形態に係る水位センサは、水位センサ４４１２も含むと換言可能である。
なお、貯水タンク４４で貯留される水は不純物を含むため、フローティングセンサを水位センサ４４１２として使用することは推奨できない。
供給チューブ４４１３、４４１４は、貯水タンク４４へ水を供給するチューブである。供給チューブ４４１３、４４１４は、例えば、ポリエチレン等の高分子化合物により形成されている。供給チューブ４４１３は、例えば、前処理フィルタ４１で前処理が施された水を貯水タンク４４へ供給する。供給チューブ４４１４は、例えば、逆浸透膜４２で分離されて二方電磁弁７４を通過した濃縮水を貯水タンク４４へ供給する。
供給チューブ４４１３、４４１４の端部は、タンク部４４２の底近傍に位置するように配置されている。供給チューブ４４１３、４４１４の端部は、供給チューブ４４１３、４４１４により供給される水が水位センサ４４１２による水位の測定に影響を与えないように、水位センサ４４１２の端部から離れた方向を向くように配置されている。具体例には、例えば、供給チューブ４４１３、４４１４の端部は、水位センサ４４１２の先端になるべく泡が入らないように、水位センサ４４１２の端部から遠ざけられて配置されている。
排出チューブ４４１５は、貯水タンク４４から水を排出するチューブである。排出チューブ４４１５は、例えば、ポリエチレン等の高分子化合物により形成されている。排出チューブ４４１５は、例えば、膜ろ過ポンプ４７が発生する圧力により、貯水タンク４４に貯留される水を貯水タンク４４の外部へ排出する。
排出チューブ４４１５の端部は、タンク部４４２の底近傍に位置するように配置されている。排出チューブ４４１５の端部は、排出チューブ４４１５により吸引される水が水位センサ４４１２による水位の測定に影響を与えないように、水位センサ４４１２の端部から離れた方向を向くように配置されている。例えば、水位センサ４４１２の先端になるべく泡が入らないように、排出チューブ４４１５の端部は、水位センサ４４１２の端部から遠ざけられて配置されている。
第１電極４４１１、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５は、蓋部４４１に取り付けられ、タンク部４４２の底近傍まではある程度の長さがある。そのため、所定の拘束がないと各々がバラバラに広がり、貯水タンク４４の水位を安定して調整するのが難しい。具体的には、例えば、第１電極４４１１の位置が変動すると、正確な水位を検出できない。また、供給チューブ４４１３、４４１４の位置が変動すると、水を排出する際に端部が動き、貯水タンク４４内で不要な水流が発生する。また、排出チューブ４４１５の位置が変動すると、貯水タンク４４内の水を排出する動作に影響が出る。
そこで、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５を、クリップ４４１８で束ねることで、第１電極４４１１、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５が、タンク部４４２の底近傍に安定して位置するようにしている。水位センサ４４１２は略垂直となるように配置されているため、第１電極４４１１、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５を水位センサ４４１２（又は、水位センサ４４１２の支持部材）に対して固定させることで、第１電極４４１１、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５がばらけるのを抑えることが可能となる。第１電極４４１１、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５を水位センサ４４１２に対して固定させる場合、水位センサ４４１２を第１電極４４１１、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５についての支持部材と称してもよい。
第２電極４４１６は、タンク部４４２内の所定の第２高さに位置するように配置される。所定の第２高さは、例えば、タンク部４４２内において、所定容量（例えば、２．５リットル程度）の水が貯められると水と接触する程度の高さである。第２高さは、第１高さよりも高い。第２電極４４１６は、蓋部４４１から例えばチューブでコーティングされた導線が引かれ、蓋部４４１から吊り下がる態様で、第２高さに位置するようになっている。
第２電極４４１６は、他の構成、例えば、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５との接触を避けるように配置されている。具体的には、第２電極４４１６は、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５と束ねられていない。換言すると、第２電極４４１６は、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５を束ねたものから、貯水タンク４４の外周方向に所定の距離だけ隔てられるように配置されている。また、換言すると、第２電極４４１６は、第１電極４４１１に対して所定の距離だけ隔てられるように配置されている。所定の距離は、例えば、第２電極４４１６にバイオフィルムが形成しない程度の距離を表す。
蓋部４４１から第２電極４４１６までの長さは、蓋部４４１から第１電極４４１１までの長さよりも短い。また、第２電極４４１６は、供給チューブ４４１３、４４１４の端部、及び排出チューブ４４１５の端部から離れているため、水の供給、又は水の排出により発生する水流の影響を受けにくい。そのため、第２電極４４１６の変動は、第１電極４４１１の変動よりも小さく、水位の検出に与える影響は小さい。
第２電極４４１６を、他の構成、例えば、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５との接触を避けるように配置することで、水に含まれる不純物が第２電極４４１６につくのを抑えることが可能となる。これにより、水位の検出機能が劣化することを防ぐことが可能となる。
第３電極４４１７は、タンク部４４２内の所定の第３高さに位置するように配置される。所定の第３高さは、例えば、タンク部４４２内で水が満杯直前に貯められると接触する程度の高さである。具体的には、第３高さは、タンク部４４２の上部において、開口部へ向けて径の収縮が開始する位置近傍の高さである。第３高さは、第２高さよりも高い。第３電極４４１７は、蓋部４４１から例えばチューブでコーティングされた導線が引かれ、蓋部４４１から吊り下がる態様で、第３高さに位置するようになっている。
第３電極４４１７は、他の構成、例えば、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５との接触を避けるように配置されている。具体的には、第３電極４４１７は、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５と束ねられていない。換言すると、第３電極４４１７は、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５を束ねたものから、貯水タンク４４の外周方向に所定の距離だけ隔てられるように配置されている。また、換言すると、第３電極４４１７は、第１電極４４１１に対して所定の距離だけ隔てられるように配置されている。所定の距離は、例えば、第３電極４４１７にバイオフィルムが形成しない程度の距離を表す。
なお、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７を制御する機能を有する制御基板が、制御部６０から分離されて、蓋部４４１に取り付けられていてもよい。
＜手洗い装置１の制御処理＞
次に、手洗い装置１の制御処理について説明する。図７～図９は、手洗い装置１の制御処理を示す説明図である。
次に、手洗い装置１の制御処理について説明する。図７～図９は、手洗い装置１の制御処理を示す説明図である。
（吐水ユニット２０の吐水処理）
まず、吐水ユニット２０における水栓１２からの吐水処理について説明する。
図７に示すように、制御部６０は、吐水ポンプ２１をＯＦＦとする（ステップＳ１１）。
まず、吐水ユニット２０における水栓１２からの吐水処理について説明する。
図７に示すように、制御部６０は、吐水ポンプ２１をＯＦＦとする（ステップＳ１１）。
制御部６０は、所定のタイミングになったか否かを判断する（ステップＳ１２）。具体的には、制御部６０は、予め設定した時間になったか、予め設定した周期が経過したか、又は、最後に吐水ポンプ２１が駆動されてから予め設定した時間が経過したか等を判断する。所定のタイミングになった場合（ステップＳ１２のＹｅｓ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を稼働させる（ステップＳ１３）。これにより、ユーザが手を洗うタイミング以外で手洗い装置１において水が循環することになる。
吐水ポンプ２１は、貯水タンク４６に貯留されている水を送出し、ＵＶ殺菌部２２を通過させる。ＵＶ殺菌部２２は、吐水ポンプ２１から送出される水に対して、紫外線を照射することで、当該水に対する殺菌処理を行う。ＵＶ殺菌部２２を通過した水は、洗浄水として水栓１２の吐水口１３から吐水される。
制御部６０は、赤外線センサ２３により、物体が検知されたか否かを判断する（ステップＳ１４）。ユーザは、手洗い装置１を利用する場合、手洗い槽１１に手を差し出し、水栓１２の先端部に配置されている赤外線センサ２３に手指を検知させる。
制御部６０は、赤外線センサ２３による手指の検知に応じ（ステップＳ１４のＹＥＳ）、吐水ポンプ２１を停止させる（ステップＳ１５）。ユーザによる手洗いが実施される際には、一旦吐水ポンプ２１を停止させることで、強制的な吐水と、手洗いによると吐水とを識別可能なようにしている。制御部６０は、吐水ポンプ２１を停止させたのち、手洗いによる稼働として、吐水ポンプ２１を再度稼働させる（ステップＳ１６）。
制御部６０は、赤外線センサ２３により、物体が検知されたか否かを判断する（ステップＳ１７）。ユーザは、手洗いを終了させる場合、又は、薬剤をディスペンサ１４に吐出させる場合、水栓１２の先端部に配置されている赤外線センサ２３から手指を離間させる。
制御部６０は、赤外線センサ２３による手指の非検知に応じ（ステップＳ１７のＮＯ）、吐水ポンプ２１を停止させる（ステップＳ１１）。
制御部６０は、赤外線センサ２３による手指の非検知に応じ（ステップＳ１７のＮＯ）、吐水ポンプ２１を停止させる（ステップＳ１１）。
ステップＳ１７において、赤外線センサ２３により手指が非検知とならない場合（ステップＳ１７のＹＥＳ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を継続して稼働させる（ステップＳ１６）。
ステップＳ１２において、所定のタイミングとなっていない場合（ステップＳ１２のＮｏ）、制御部６０は、赤外線センサ２３により、物体が検知されたか否かを判断する（ステップＳ１８）。ユーザは、手洗い装置１を利用する場合、手洗い槽１１に手を差し出し、水栓１２の先端部に配置されている赤外線センサ２３に手指を検知させる。
制御部６０は、赤外線センサ２３による手指の検知に応じ（ステップＳ１８のＹＥＳ）、吐水ポンプ２１を稼働させる（ステップＳ１９）。
一方、ステップＳ１８において、赤外線センサ２３により手指が検知されない場合（ステップＳ１８のＮＯ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を稼働させない（ステップＳ１１）。
一方、ステップＳ１８において、赤外線センサ２３により手指が検知されない場合（ステップＳ１８のＮＯ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を稼働させない（ステップＳ１１）。
制御部６０は、赤外線センサ２３により、物体が検知されたか否かを判断する（ステップＳ１１０）。ユーザは、手洗いを終了させる場合、又は、薬剤をディスペンサ１４に吐出させる場合、水栓１２の先端部に配置されている赤外線センサ２３から手指を離間させる。
制御部６０は、赤外線センサ２３による手指の非検知に応じ（ステップＳ１１０のＮＯ）、吐水ポンプ２１を停止させる（ステップＳ１１）。
制御部６０は、赤外線センサ２３による手指の非検知に応じ（ステップＳ１１０のＮＯ）、吐水ポンプ２１を停止させる（ステップＳ１１）。
ステップＳ１１０において、赤外線センサ２３により手指が非検知とならない場合（ステップＳ１１０のＹＥＳ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を継続して稼働させる（ステップＳ１９）。
ステップＳ１４において、赤外線センサ２３により手指が検知されない場合（ステップＳ１４のＮＯ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を稼働させてから所定の時間が経過したか否かを判断する（ステップＳ１１１）。所定の時間が経過すると（ステップＳ１１１のＹｅｓ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を停止させる（ステップＳ１１）。所定の時間が経過していない場合（ステップＳ１１１のＮｏ）、制御部６０は、吐水ポンプ２１を継続して稼働させる（ステップＳ１３）。
吐水ユニット２０は、これらの処理を繰り返し、水栓１２から洗浄水を吐水する。
制御部６０は、赤外線センサ２３により手指を検知している時間を計測することにより、一定時間にわたって手指を検知している場合に、水の吐出を停止させることとしてもよい。
図７に示す例では、ステップＳ１４で、赤外線センサ２３によりユーザの手指を検知したか否かを判断する場合を説明したが、ステップＳ１４でなされる判断は、赤外線センサ２３による検知に限定されない。例えば、制御部６０は、ユーザが手洗い装置１を使用した手洗いを実施しそうか否かを判断すればよい。例えば、制御部６０は、監視装置により、ユーザが手洗い装置１に接近しているか否かを判断することで、ユーザが手洗い装置１を使用した手洗いを実施しそうか否かを判断してもよい。また、制御部６０は、ＵＶ殺菌装置８０に携行品が設置されたか否かを判断することで、ユーザが手洗い装置１を使用した手洗いを実施しそうか否かを判断してもよい。
吐水ユニット２０は、これらの処理を繰り返し、水栓１２から洗浄水を吐水する。
制御部６０は、赤外線センサ２３により手指を検知している時間を計測することにより、一定時間にわたって手指を検知している場合に、水の吐出を停止させることとしてもよい。
図７に示す例では、ステップＳ１４で、赤外線センサ２３によりユーザの手指を検知したか否かを判断する場合を説明したが、ステップＳ１４でなされる判断は、赤外線センサ２３による検知に限定されない。例えば、制御部６０は、ユーザが手洗い装置１を使用した手洗いを実施しそうか否かを判断すればよい。例えば、制御部６０は、監視装置により、ユーザが手洗い装置１に接近しているか否かを判断することで、ユーザが手洗い装置１を使用した手洗いを実施しそうか否かを判断してもよい。また、制御部６０は、ＵＶ殺菌装置８０に携行品が設置されたか否かを判断することで、ユーザが手洗い装置１を使用した手洗いを実施しそうか否かを判断してもよい。
（排水ユニット３０の排水処理）
次に、排水ユニット３０における排水処理について説明する。
図８に示すように、手洗い槽１１からの排水がない状態では、排水ポンプ３２は停止している（ステップＳ２１）。
そして、手洗い槽１１に向けて水栓１２から吐水された洗浄水が、手洗い槽１１の排水口１７から排水されると、静電容量センサ３１が排水を検知する（ステップＳ２２）。
次に、排水ユニット３０における排水処理について説明する。
図８に示すように、手洗い槽１１からの排水がない状態では、排水ポンプ３２は停止している（ステップＳ２１）。
そして、手洗い槽１１に向けて水栓１２から吐水された洗浄水が、手洗い槽１１の排水口１７から排水されると、静電容量センサ３１が排水を検知する（ステップＳ２２）。
制御部６０は、静電容量センサ３１が排水を検知する（ステップＳ２２のＹＥＳ）と、排水ポンプ３２を稼働させる（ステップＳ２３）。
一方、静電容量センサ３１が、排水を検知しない場合（ステップＳ２２のＮＯ）には、制御部６０は、排水ポンプ３２を稼働させない（ステップＳ２１）。
一方、静電容量センサ３１が、排水を検知しない場合（ステップＳ２２のＮＯ）には、制御部６０は、排水ポンプ３２を稼働させない（ステップＳ２１）。
ステップＳ２３において、排水ポンプ３２は、排水を前処理フィルタ４１へ送出する。前処理フィルタ４１で前処理が施された水は、貯水タンク４４へ流入し、貯水タンク４４で貯留される。圧力センサ３３は、前処理フィルタ４１へ送出された水の圧力を検知する。流量センサ３４は、前処理フィルタ４１で前処理が施された水の流量を検知する。
そして、ステップＳ２３の後に、排水口１７から流れ込む排水がなくなったことを静電容量センサ３１が検知すると（ステップＳ２４のＮＯ）、制御部６０は、排水ポンプ３２を停止する（ステップＳ２１）。
一方、ステップＳ２４において、排水口１７から継続して排水が流れ込んでいることを静電容量センサ３１が検知する（ステップＳ２４のＹＥＳ）と、制御部６０は、継続して排水ポンプ３２を稼働させる（ステップＳ２３）。
排水ユニット３０は、これらの処理を繰り返し、手洗い槽１１の排水口１７から排出される水を、前処理フィルタ４１へ供給する。
（浄化ユニット４０の制御処理）
次に、浄化ユニット４０における洗浄処理について説明する。
図９に示すように、最初、膜ろ過ポンプ４７は停止している（ステップＳ３１）。
次に、浄化ユニット４０における洗浄処理について説明する。
図９に示すように、最初、膜ろ過ポンプ４７は停止している（ステップＳ３１）。
制御部６０は、排水ポンプ３２が稼働されているか否かを判断する（ステップＳ３２）。
排水ポンプ３２が稼働している場合（ステップＳ３２のＹＥＳ）、制御部６０は、膜ろ過ポンプ４７を稼働させる（ステップＳ３３）。これにより、貯水タンク４４で貯留されている水が、膜ろ過ポンプ４７により、高圧で逆浸透膜４２に供給される。
排水ポンプ３２が稼働している場合（ステップＳ３２のＹＥＳ）、制御部６０は、膜ろ過ポンプ４７を稼働させる（ステップＳ３３）。これにより、貯水タンク４４で貯留されている水が、膜ろ過ポンプ４７により、高圧で逆浸透膜４２に供給される。
一方、排水ポンプ３２が稼働していない場合には（ステップＳ３２のＮＯ）、制御部６０は、膜ろ過ポンプ４７を稼働させないままとする（ステップＳ３１）。
ステップＳ３３において、逆浸透膜４２に供給された水は、逆浸透膜４２において、濃縮水と透過水とに分離される。透過水は、後処理フィルタ４３に供給される。
濃縮水は、二方電磁弁７４を経て貯水タンク４４に流入する。なお、二方電磁弁７５は、閉じた状態となっているため、濃縮水が排水タンク４５に流入することはない。
濃縮水は、二方電磁弁７４を経て貯水タンク４４に流入する。なお、二方電磁弁７５は、閉じた状態となっているため、濃縮水が排水タンク４５に流入することはない。
後処理フィルタ４３では、透過水に対して後処理が施される。そして、後処理フィルタ４３で後処理が施された透過水は、次亜塩素酸水が添加されて貯水タンク４６に流入する。
ステップＳ３３の後に、制御部６０は、逆浸透膜４２の前段に配置されるセンサ部６１のＥＣ／温度センサにより検知された電気伝導度が所定の値未満であるか否かを判断する（ステップＳ３４）。
ＥＣ／温度センサで検知される電気伝導度が所定値未満である場合（Ｓ３４のＹＥＳ）、制御部６０は、排水ポンプ３２が稼働しているか否かを判断する（ステップＳ３５）。排水ポンプ３２が稼働している場合（ステップＳ３５のＹＥＳ）、制御部６０は、継続して膜ろ過ポンプ４７を稼働させる（ステップＳ３３）。
ＥＣ／温度センサで検知される電気伝導度が所定値未満である場合（Ｓ３４のＹＥＳ）、制御部６０は、排水ポンプ３２が稼働しているか否かを判断する（ステップＳ３５）。排水ポンプ３２が稼働している場合（ステップＳ３５のＹＥＳ）、制御部６０は、継続して膜ろ過ポンプ４７を稼働させる（ステップＳ３３）。
一方、ステップＳ３４において、ＥＣ／温度センサで検知される電気伝導度が所定値以上になった場合には（ステップＳ３４のＮＯ）、制御部６０は、二方電磁弁７４および二方電磁弁７５をＯＮにする（ステップＳ３６）。これにより、二方電磁弁７４が閉じられ、かつ、二方電磁弁７５が開かれる。
二方電磁弁７４が閉じられ、かつ、二方電磁弁７５が開かれることにより、逆浸透膜４２で分離された濃縮水は、二方電磁弁７５を経て排水タンク４５に流入する。すなわち、制御部６０は、ＥＣ／温度センサで検知される電気伝導度の変化に基づき、濃縮水における不純物の量を判断している。不純物が多いと判断された濃縮水は、排水タンク４５へ排出されるようになっている。
排水タンク４５で貯留されている濃縮水の水位が所定値に達すると、例えば、手洗い装置１の管理者へアラートが出される。管理者は、アラートを確認すると、排水タンク４５に貯留されている水を廃棄する。
制御部６０は、ステップＳ３６の処理を所定の時間継続し（ステップＳ３７）、所定時間の経過後に、二方電磁弁７４、７５をＯＦＦとする。これにより、二方電磁弁７４は開かれ、二方電磁弁７５は閉じられる。
このように、二方電磁弁７４は開かれ、二方電磁弁７５は閉じられることにより、逆浸透膜４２で分離された濃縮水は、二方電磁弁７４を経て貯水タンク４４に流入する。そして、制御部６０は、膜ろ過ポンプ４７を停止させる（ステップＳ３１）
このように、二方電磁弁７４は開かれ、二方電磁弁７５は閉じられることにより、逆浸透膜４２で分離された濃縮水は、二方電磁弁７４を経て貯水タンク４４に流入する。そして、制御部６０は、膜ろ過ポンプ４７を停止させる（ステップＳ３１）
ステップＳ３５において、排水ポンプ３２が停止している場合（ステップＳ３５のＮＯ）、制御部６０は、所定時間の経過後（ステップＳ３８）に、膜ろ過ポンプ４７を停止させる（ステップＳ３１）。
浄化ユニット４０は、これらの処理を繰り返し、排水ユニット３０により排水された水を浄化して貯水タンク４６に貯留する。
（貯水タンク４４の水位測定処理）
次に、貯水タンク４４における水位測定処理について説明する。図１０、図１１は、貯水タンク４４における水位測定処理を示す説明図である。
次に、貯水タンク４４における水位測定処理について説明する。図１０、図１１は、貯水タンク４４における水位測定処理を示す説明図である。
図１０に示すように、制御部６０は、第２電極４４１６で電流が検出されたか否かを判断する（ステップＳ５１）。貯水タンク４４に水が貯留され、水が第２高さまで到達すると、第２電極４４１６と水が接触し、第２電極４４１６に電流が流れる。
第２電極４４１６で電流が検出されると（ステップＳ５１のＹｅｓ）、制御部６０は、貯水タンク４４において第２高さまで水が貯留されたことを表す信号を生成する（ステップＳ５２）。第２電極４４１６で電流が検出されない場合（ステップＳ５１のＮｏ）、制御部６０は、第２電極４４１６で電流が検出されるまでステップＳ５１の処理を繰り返す。
制御部６０は、水位センサ４４１２により取得された水位と、第２高さとの差が所定値未満か否かを判断する（ステップＳ５３）。具体的には、第２電極４４１６で電流が検出されると、制御部６０は、水位センサ４４１２により測定された水位を取得する。制御部６０は、取得した水位と、第２高さとを比較し、差異が所定値未満か否かを判断する。取得した水位と、第２高さとの差が所定値未満である場合（ステップＳ５３のＹｅｓ）、制御部６０は、処理をステップＳ５１に移行させる。取得した水位と、第２高さとの差が所定値以上である場合（ステップＳ５３のＮｏ）、制御部６０は、取得した水位が第２高さとなるように水位センサ４４１２を補正する（ステップＳ５４）。
図１１に示すように、制御部６０は、第３電極４４１７で電流が検出されたか否かを判断する（ステップＳ６１）。貯水タンク４４に水が貯留され、水が第３高さまで到達すると、第３電極４４１７と水が接触し、第３電極４４１７に電流が流れる。
第３電極４４１７で電流が検出されると（ステップＳ６１のＹｅｓ）、制御部６０は、貯水タンク４４において第３高さまで水が貯留されたことを表す信号を生成する（ステップＳ６２）。第３電極４４１７で電流が検出されない場合（ステップＳ６１のＮｏ）、制御部６０は、第３電極４４１７で電流が検出されるまでステップＳ６１の処理を繰り返す。
制御部６０は、水位センサ４４１２により取得された水位と、第３高さとの差が所定値未満か否かを判断する（ステップＳ６３）。具体的には、第３電極４４１７で電流が検出されると、制御部６０は、水位センサ４４１２により測定された水位を取得する。制御部６０は、取得した水位と、第３高さとを比較し、差異が所定値未満か否かを判断する。取得した水位と、第３高さとの差が所定値未満である場合（ステップＳ６３のＹｅｓ）、制御部６０は、処理をステップＳ６１に移行させる。取得した水位と、第３高さとの差が所定値以上である場合（ステップＳ６３のＮｏ）、制御部６０は、取得した水位が第３高さとなるように水位センサ４４１２を補正する（ステップＳ６４）。
以上のように、上記実施形態では、第１電極４４１１は、バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンク４４内の第１高さに設置される。第２電極４４１６は、タンク４４内の、第１高さよりも高い第２高さに設置される。制御部６０は、第１電極４４１１と第２電極４４１６とに水が接触すると第２高さまで水が到達したことを検出する。これにより、不純物を含有する水がタンク４４内の所定の位置に到達したことを正確に検出することが可能となる。
したがって、本実施形態に係る水位センサによれば、バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水の水位を、正確に計測できる。
また、上記実施形態では、第３電極４４１７は、タンク４４内の、第２高さよりも高い第３高さに設置される。制御部６０は、第１電極４４１１と第３電極４４１７とに水が接触すると第３高さまで水が到達したことを検出する。これにより、到達を把握したい水位が複数ある場合であっても、正確にこれらの水位への到達を検出することが可能となる。
また、上記実施形態では、第１電極４４１１は、第１高さにおけるタンク４４中の所定の位置で維持されるように固定される。第２電極４４１６は、第１電極４４１１を含む部材と接触しないように配置される。これにより、第２電極４４１６の周囲では水が滞留せずに流れることになるため、第２電極４４１６に汚れが付着することを抑えることが可能となる。このため、水位の検出精度が低下することを抑えることが可能となる。
また、上記実施形態では、第１電極４４１１は、タンク４４内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、支持部材に固定される。第２電極４４１６は、タンク４４内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、支持部材に固定されない。これにより、第２電極４４１６は、支持部材に固定される部材群から離間することになり、汚れが付着しなくなる。換言すると、第２電極４４１６には、バイオフィルムが形成されなくなる。このため、水位の検出精度が低下することを抑えることが可能となる。
また、上記実施形態では、第２電極４４１６は、第１電極４４１１に対して所定の距離だけ隔てられるように配置される。これにより、第２電極４４１６は、複数の部材が存在する第１電極４４１１から離間することになり、汚れが付着しなくなる。換言すると、第２電極４４１６には、バイオフィルムが形成されなくなる。このため、水位の検出精度が低下することを抑えることが可能となる。
また、上記実施形態では、水位計測器４４１２は、タンク４４の水位を計測する。制御部６０は、第１電極４４１１と第２電極４４１６とに水が接触した際に認識される水位に基づき、水位計測器４４１２を補正する。これにより、本実施形態に係る水位センサは、タンク４４内の水位をリニアに高精度に計測することが可能となる。
また、上記実施形態では、水位計測器４４１２は、タンク４４の水位を計測する。制御部６０は、第１電極４４１１と第３電極４４１７とに水が接触した際に認識される水位に基づき、水位計測器４４１２を補正する。これにより、本実施形態に係る水位センサは、タンク４４内の水位をリニアに高精度に計測することが可能となる。
＜変形例＞
上記実施形態では、第２電極４４１６と、第３電極４４１７とが貯水タンク４４に設置される例に説明した。しかしながら、貯水タンク４４に設置される第１電極４４１１以外の電極は、これらに限定されない。水位をより細かく検出する必要がある場合には、３つ以上の電極が設置されてもよい。
上記実施形態では、第２電極４４１６と、第３電極４４１７とが貯水タンク４４に設置される例に説明した。しかしながら、貯水タンク４４に設置される第１電極４４１１以外の電極は、これらに限定されない。水位をより細かく検出する必要がある場合には、３つ以上の電極が設置されてもよい。
また、上記実施形態では、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７が、蓋部４４１のタンク部４４２側の面から、タンク部４４２の内側へ向けて吊り下げられるように取り付けれる場合を例に説明した。しかしながら、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７が取り付けられるのは、蓋部４４１に限定されない。タンクの形状によっては、水面より上面に位置する部分は、蓋部でないこともあり得る。第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５、第２電極４４１６、及び第３電極４４１７が取り付けられるのは、タンク内の水面より上位の壁面であれば蓋部に以外であってもよい。
また、上記実施形態では、チューブで覆われた導線が電極に接続される場合を説明した。しかしながら、導線がチューブにより覆われることに限定されない。電極に接続される導線は、金属のような固い材質により覆われていてもよい。こうすることで、第１電極４４１１を指示部材に束ねる必要はなくなる。第２電極４４１６を、他の構成、例えば、第１電極４４１１、水位センサ４４１２、供給チューブ４４１３、４４１４、排出チューブ４４１５との接触を避けるように配置する。
また、上記実施形態では、貯水タンク４４内の供給チューブ、排出チューブについて説明したが、貯水タンク４４内の供給チューブ、排出チューブは、上記に限定されない。例えば、供給チューブは２本に限られず、排出チューブは１本に限られない。
また、上記実施形態では、手洗い装置１が貯水タンク４４を備える場合を説明した。しかしながら、貯水タンク４４を備える装置は、手洗い装置１に限定されない。屋内又は屋外用のシャワーブース等の他、キッチンや洗濯の排水、雨水や地下水、表流水等を浄化して再利用する循環型水処理装置が、貯水タンクを備えてもよい。
また、上記実施形態では、一次浄化フィルタを通過した水を貯留する貯水タンク４４を例に説明した。しかしながら、本実施形態に係るタンクは、一次浄化フィルタを通過した水を貯留することに限定されない。本実施形態に係るタンクは、バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンクであれば、前段に一次浄化フィルタが必ずしも設けられていなくてもよい。例えば、本実施形態に係るタンクは、水が循環されて利用される循環型水処理装置で用いられてもよい。また、本実施形態に係るタンクは、循環型水処理装置を構成する所定のモジュールで用いられてもよい。
以上、本開示の好ましい実施形態について説明したが、本開示は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、本開示には、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲が含まれる。また、上記実施形態および変形例で説明した装置の構成は、技術的な矛盾が生じない限り、その一部を省略、または組み合わせ可能である。
以上の各実施形態で説明した事項を、以下に付記する。
（付記１）
バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンク内の第１高さに設置される第１電極と、タンク内の、第１高さよりも高い第２高さに設置される第２電極と、第１電極と第２電極とに水が接触すると第２高さまで水が到達したことを検出する制御部とを具備する水位センサ。
（付記２）
タンク内の、第２高さよりも高い第３高さに設置される第３電極を具備し、制御部は、第１電極と第３電極とに水が接触すると第３高さまで水が到達したことを検出する（付記１）に記載の水位センサ。
（付記３）
第１電極は、第１高さにおけるタンク中の所定の位置で維持されるように固定され、第２電極は、第１電極を含む部材と接触しないように配置される（付記１）又は（付記２）に記載の水位センサ。
（付記４）
第１電極は、タンク内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、支持部材に固定され、第２電極は、タンク内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、支持部材に固定されない（付記３）に記載の水位センサ。
（付記５）
第２電極は、第１電極に対して所定の距離だけ隔てられるように配置される（付記４）に記載の水位センサ。
（付記６）
タンクの水位を計測する水位計測器を具備し、
制御部は、第１電極と第２電極とに水が接触した際に認識される水位に基づき、水位計測器を補正する（付記１）乃至（付記５）のいずれかに記載の水位センサ。
（付記７）
タンクの水位を計測する水位計測器を具備し、
制御部は、第１電極と第３電極とに水が接触した際に認識される水位に基づき、水位計測器を補正する（付記１）乃至（付記５）のいずれかに記載の水位センサ。
（付記８）
バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留する貯水タンクであって、（付記１）乃至（付記７）のいずれかに記載する水位センサを備える貯水タンク。
（付記９）
洗浄水が吐出されるシンクと、シンクからの排水を浄化する一次浄化フィルタと、一次浄化フィルタを通過した、不純物を含有する水を貯留するタンクとを具備する手洗い装置であって、タンクは、（付記１）乃至（付記７）のいずれかに記載する水位センサを備える手洗い装置。
（付記１０）
バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンクを具備する循環型水処理装置であって、タンクは、（付記１）乃至（付記７）のいずれかに記載する水位センサを備える循環型水処理装置。
バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンク内の第１高さに設置される第１電極と、タンク内の、第１高さよりも高い第２高さに設置される第２電極と、第１電極と第２電極とに水が接触すると第２高さまで水が到達したことを検出する制御部とを具備する水位センサ。
（付記２）
タンク内の、第２高さよりも高い第３高さに設置される第３電極を具備し、制御部は、第１電極と第３電極とに水が接触すると第３高さまで水が到達したことを検出する（付記１）に記載の水位センサ。
（付記３）
第１電極は、第１高さにおけるタンク中の所定の位置で維持されるように固定され、第２電極は、第１電極を含む部材と接触しないように配置される（付記１）又は（付記２）に記載の水位センサ。
（付記４）
第１電極は、タンク内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、支持部材に固定され、第２電極は、タンク内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、支持部材に固定されない（付記３）に記載の水位センサ。
（付記５）
第２電極は、第１電極に対して所定の距離だけ隔てられるように配置される（付記４）に記載の水位センサ。
（付記６）
タンクの水位を計測する水位計測器を具備し、
制御部は、第１電極と第２電極とに水が接触した際に認識される水位に基づき、水位計測器を補正する（付記１）乃至（付記５）のいずれかに記載の水位センサ。
（付記７）
タンクの水位を計測する水位計測器を具備し、
制御部は、第１電極と第３電極とに水が接触した際に認識される水位に基づき、水位計測器を補正する（付記１）乃至（付記５）のいずれかに記載の水位センサ。
（付記８）
バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留する貯水タンクであって、（付記１）乃至（付記７）のいずれかに記載する水位センサを備える貯水タンク。
（付記９）
洗浄水が吐出されるシンクと、シンクからの排水を浄化する一次浄化フィルタと、一次浄化フィルタを通過した、不純物を含有する水を貯留するタンクとを具備する手洗い装置であって、タンクは、（付記１）乃至（付記７）のいずれかに記載する水位センサを備える手洗い装置。
（付記１０）
バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンクを具備する循環型水処理装置であって、タンクは、（付記１）乃至（付記７）のいずれかに記載する水位センサを備える循環型水処理装置。
１…手洗い装置
１０…天板
１１…手洗い槽
１２…水栓
１３…吐水口
１４…ディスペンサ
１９…車輪
２…筐体
３…扉
４…ハンドル
８…取付部
９…取付部
２０…吐水ユニット
２１…吐水ポンプ
２２…ＵＶ殺菌部
２３…赤外線センサ
３０…排水ユニット
３１…静電容量センサ
３２…排水ポンプ
３３…圧力センサ
３４…流量センサ
３５…トラップ
４０…浄化ユニット
４１…処理フィルタ
４２…浸透膜
４３…後処理フィルタ
４４…貯水タンク
４５…排水タンク
４６…貯水タンク
４７…膜ろ過ポンプ
５…薬剤ユニット
５０…薬剤タンク
５１…薬剤ポンプ
５２…赤外線センサ
５３…ノズル
６…循環ユニット
６０…制御部
６１…センサ部
６２…センサ部
６７…塩素タンク
６８…塩素ポンプ
７…外付けモジュール
７３…圧力調整弁
７４…二方電磁弁
７５…二方電磁弁
８０…ＵＶ殺菌装置
８１…挿入口
１０…天板
１１…手洗い槽
１２…水栓
１３…吐水口
１４…ディスペンサ
１９…車輪
２…筐体
３…扉
４…ハンドル
８…取付部
９…取付部
２０…吐水ユニット
２１…吐水ポンプ
２２…ＵＶ殺菌部
２３…赤外線センサ
３０…排水ユニット
３１…静電容量センサ
３２…排水ポンプ
３３…圧力センサ
３４…流量センサ
３５…トラップ
４０…浄化ユニット
４１…処理フィルタ
４２…浸透膜
４３…後処理フィルタ
４４…貯水タンク
４５…排水タンク
４６…貯水タンク
４７…膜ろ過ポンプ
５…薬剤ユニット
５０…薬剤タンク
５１…薬剤ポンプ
５２…赤外線センサ
５３…ノズル
６…循環ユニット
６０…制御部
６１…センサ部
６２…センサ部
６７…塩素タンク
６８…塩素ポンプ
７…外付けモジュール
７３…圧力調整弁
７４…二方電磁弁
７５…二方電磁弁
８０…ＵＶ殺菌装置
８１…挿入口
Claims (8)
- バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンク内の第１高さに設置される第１電極と、
前記タンク内の、前記第１高さよりも高い第２高さに設置される第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極とに水が接触すると前記第２高さまで水が到達したことを検出する制御部と
を具備し、
前記第１電極は、前記タンク内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、支持部材に固定され、
前記第２電極は、前記タンク内の水面より上位の壁面から吊り下げられるように取り付けられ、前記支持部材に固定されない、水位センサ。 - 前記タンク内の、前記第２高さよりも高い第３高さに設置される第３電極を具備し、
前記制御部は、前記第１電極と前記第３電極とに水が接触すると第３高さまで水が到達したことを検出する請求項１記載の水位センサ。 - 前記第２電極は、前記第１電極に対して所定の距離だけ隔てられるように配置される請求項１記載の水位センサ。
- 前記タンクの水位を計測する水位計測器を具備し、
前記制御部は、前記第１電極と前記第２電極とに水が接触した際に認識される水位に基づき、前記水位計測器を補正する請求項１記載の水位センサ。 - 前記タンクの水位を計測する水位計測器を具備し、
前記制御部は、前記第１電極と前記第３電極とに水が接触した際に認識される水位に基づき、前記水位計測器を補正する請求項２記載の水位センサ。 - バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留する貯水タンクであって、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載する水位センサを備える貯水タンク。
- 洗浄水が吐出されるシンクと、
前記シンクからの排水を浄化する一次浄化フィルタと、
前記一次浄化フィルタを通過した、不純物を含有する水を貯留するタンクと
を具備する手洗い装置であって、
前記タンクは、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載する水位センサを備える手洗い装置。 - バイオフィルムを形成し得る微生物を含む不純物を含有する水を貯留するタンクを具備する循環型水処理装置であって、
前記タンクは、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載する水位センサを備える循環型水処理装置。
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