JP7159490B2 - プラズマシステムに適用される方法と関連のプラズマシステム - Google Patents
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Description
2 方法
10 室
11 下方電極
12 高周波電力源
13 整合回路
14 センサ
15 制御回路
Claims (7)
- プラズマシステムに適用される方法であって、前記プラズマシステムが、室と、前記室に配設される下方電極と、前記下方電極に結合され、工作物上の高周波電圧をリアルタイムで検出するように構成されたセンサと、前記下方電極が整合回路を介して結合される高周波源と、を有し、前記プラズマシステムが、前記下方電極に載置される工作物を加工するように構成され、
前記高周波源を始動させることと、
前記高周波源の高周波電力を上昇させて、デフォルト位置にある前記整合回路の整合器を通して前記下方電極で出力電力を発生させることと、
第1条件が満たされた時に前記高周波電力を第1傾向で調節し、前記出力電力と前記高周波電力との比の上昇を伴う第2傾向で前記整合回路を調節して第2条件を満たすことと、を包含し、
前記第1条件が、前記高周波電圧に従って前記センサにより変換される直流(DC)電圧がデフォルト電圧に達すること、または、前記高周波電力が最大高周波電力に達することを包含し、
前記第2条件が、前記出力電力と前記高周波電力との比が最大であって、前記DC電圧が前記デフォルト電圧に達することを包含する、方法。 - 前記第1傾向が、前記高周波電力を低下方式で調節することを包含する、請求項1に記載の方法。
- プラズマシステムに適用される方法であって、前記プラズマシステムが、室と、前記室に配設される下方電極と、前記下方電極に結合され、工作物上の高周波電圧をリアルタイムで検出するように構成されたセンサと、整合回路を介して前記下方電極に結合される高周波源とを有して、前記プラズマシステムが、前記下方電極に載置された前記工作物を加工するように構成され、
前記高周波源を始動させることと、
前記高周波源の高周波電力を上昇させて、前記高周波電力が、デフォルト位置にある前記整合回路の整合器を通して前記下方電極で出力電力を発生させることと、
前記センサにより変換されるDC電圧がデフォルト電圧に達するか、前記高周波電力が最大高周波電力に達した時に、前記整合回路の前記整合器を調節して、前記出力電力と前記高周波電力との比を上昇させることと、を包含する方法。 - さらに、
前記DC電圧が前記デフォルト電圧に達するか前記高周波電力が前記最大高周波電力に達した時に、前記高周波源の前記高周波電力を低下させること、
を包含する、請求項3に記載の方法。 - さらに、
前記DC電圧が前記デフォルト電圧より高くなるまで前記高周波電力を維持してから、前記高周波源の前記高周波電力を低下させることと、
を包含する、請求項3に記載の方法。 - さらに、
前記出力電力と前記高周波電力との比が最大であって前記DC電圧が前記デフォルト電圧に達した時に、前記整合回路の前記整合器の調節を停止すること、
を包含する、請求項4または5に記載の方法。 - 室を有して、前記室に載置される工作物を加工するように構成されるプラズマシステムであって、
前記室に配設される下方電極と、
前記下方電極に結合され、工作物上の高周波電圧をリアルタイムで検出するように構成されたセンサと、
前記下方電極に結合される高周波源と、
前記高周波源と前記下方電極との間に結合される整合回路であって、前記高周波源が始動して高周波電力を発生させた時に、デフォルト位置にある前記整合回路の整合器を通して前記下方電極で出力電力が発生される、整合回路と、
前記高周波源と前記整合回路とに結合される制御回路であって、前記高周波源を制御して、第1条件が満たされるまで前記高周波電力を上昇させてから前記高周波電力を第1傾向で調節し、前記出力電力と前記高周波電力との比の上昇を伴う第2傾向で前記整合回路を調節して第2条件を満たすように構成される制御回路と、を具備し、
前記第1条件が、前記高周波電圧に従って前記センサにより変換される直流(DC)電圧がデフォルト電圧に達すること、または、前記高周波電力が最大高周波電力に達することを包含し、
前記第2条件が、前記出力電力と前記高周波電力との比が最大であって、前記DC電圧が前記デフォルト電圧に達することを包含するプラズマシステム。
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