JP7140854B2 - 荷電粒子のビームを検査するための方法および装置 - Google Patents
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- シクロペンタジエニル-(Cp)またはメチルシクロペンタジエニル-(MeCp)トリメチルプラチナ(それぞれ、CpPtMe3およびMeCpPtMe3)、テトラメチルスズSnMe4、トリメチルガリウムGaMe3、フェロセンCp2Fe、ビスアリルクロムAr2Cr、およびさらなるそのような化合物などの(金属、遷移元素、主族)アルキル、
- クロムヘキサカルボニルCr(CO)6、モリブデンヘキサカルボニルMo(CO)6、タングステンヘキサカルボニルW(CO)6、ジコバルトオクタカルボニルCo2(CO)8、トリルテニウムドデカカルボニルRu3(CO)12、鉄ペンタカルボニルFe(CO)5、およびさらなるそのような化合物などの(金属、遷移元素、主族)カルボニル、
- テトラエトキシシランSi(OC2H5)、テトライソプロポキシチタンTi(OC3H7)4およびさらなるそのような化合物などの(金属、遷移元素、主族)アルコキシド、
- WF6、WCl6、TiCl6、BCl3、SiCl4、およびさらなるそのような化合物などの(金属、遷移元素、主族)ハライド、
- 銅ビス(ヘキサフルオロアセチルアセトナート)Cu(C5F6HO2)2、ジメチルゴールドトリフルオロアセチルアセトナートMe2Au(C5F3H4O2)、およびさらなるそのような化合物などの(金属、遷移元素、主族)錯体、
- CO、CO2、脂肪族または芳香族炭化水素、真空ポンプ油の構成成分、揮発性有機化合物、およびさらなるそのような化合物などの有機化合物。
- O2、O3、H2O、H2O2、N2O、NO、NO2、HNO3、およびさらなる酸素含有ガスなどのオキシダント、
- Cl2、HCl、XeF2、HF、I2、HI、Br2、HBr、NOCl、PCl3、PCl5、PF3、およびさらになるハロゲン含有ガスなどのハライド、
- H2、NH3、CH4、およびさらなる水素含有ガスなどの還元効果をもつガス。
a.少なくとも1つの前駆体材料の濃度を低減するステップ、
b.荷電粒子のビームの強度を増加させるステップ、
c.ビームの少なくとも1つのより高い強度部分(1000)において前駆体材料を使い果たすステップ、
d.ビームとサンプル(130)との相互作用継続時間を変更するステップ
のうちの少なくとも1つをさらに含むことができる。
a.ビーム光学ユニットの1つまたは複数の構成要素の上に荷電粒子のビームの焦点を合わせるステップ、
b.コンデンサユニットを調節するステップ、
c.ビーム偏向ユニットを調節するステップ
のうちの少なくとも1つをさらに含むことができる。
Claims (24)
- 荷電粒子のビーム(120)を検査するための方法であって、
a.前記ビームに対するサンプル(130)の複数の位置で前記ビームと前記サンプルとの持続的相互作用(210)を生成するステップと、
b.前記複数の位置での前記持続的相互作用の空間分布を分析することによって前記ビームの少なくとも1つの性質を導き出すステップと
を含み、
ビーム光学系パラメータを一定に保ちつつ前記サンプルの位置を調節することにより、前記サンプルの前記複数の位置の少なくともいくつかが、前記ビームの伝播の方向における異なる点に配置される、方法。 - 前記少なくとも1つの性質が、以下の性質、すなわち、
a.開口数、
b.拡大率、
c.ビームプロファイル、
d.結像攪乱、
e.波面攪乱、
f.非点収差、
g.球面収差、
h.色収差、
i.ビーム光学ユニットのテレセントリックエラー、および
j.ビーム形状歪み、ならびに
k.高次ビーム収差
のうちの1つまたは複数を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記複数の位置の少なくともいくつかが、前記ビームの前記伝播の方向に垂直な異なる点に配置される、請求項1に記載の方法。
- 前記ビームが焦点の合ったビームである、請求項1~3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記複数の位置のいくつかが、前記ビームの焦点位置の変更によって少なくとも部分的に調節される、請求項1~4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記複数の前記位置の少なくともいくつかが、前記ビームの焦点の遠視野に位置する、請求項4または5に記載の方法。
- 前記持続的相互作用の前記空間分布の前記分析が、ビームプロファイルの少なくとも一部の決定を含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記持続的相互作用の前記空間分布の前記分析が、以下のステップ、すなわち、
a.ビームプロファイルの軌道長半径および/または軌道短半径の長さを推定するステップ、
b.基準方向に対する前記ビームプロファイルの前記軌道長半径および/または前記軌道短半径の間の角度を推定するステップ、
c.基準点の位置に対する前記ビームプロファイルの重心の位置を推定するステップ、
d.前記ビームプロファイルの前記重心での強度値を推定するステップ、ならびに/または
e.前記ビームプロファイルの平均強度を推定するステップ
のうちの少なくとも1つを含む、請求項1~7のいずれか1項に記載の方法。 - 前記持続的相互作用が、前記サンプルの表面の一部の持続的な変化を含む、請求項1~8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記持続的相互作用が、前記サンプルの表面の前記一部の上への気相からの材料のビーム誘起堆積を含む、請求項1~9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記堆積材料が、少なくとも1つの前駆体材料から得られる、請求項10に記載の方法。
- 前記持続的相互作用を生成する前記ステップが、
a.前記少なくとも1つの前駆体材料の濃度を低減するステップ、
b.前記荷電粒子のビームの強度を増加させるステップ、
c.前記ビームの少なくとも1つの中心部分(1000)において前記前駆体材料を使い果たすステップ、
d.前記ビームと前記サンプル(130)との相互作用継続時間を変更するステップ
のうちの少なくとも1つをさらに含む、請求項11に記載の方法。 - 前記持続的相互作用が、前記サンプルの表面の前記一部のエッチングを含む、請求項1~12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記持続的相互作用の前記空間分布が、前記荷電粒子の焦点の合ったビームによって、および/または原子間力用プローブによって、および/またはそれらの組合せによって決定される、請求項1~13のいずれか1項に記載の方法。
- 荷電粒子のビームを補正するための方法であって、
a.請求項1~14のいずれか1項に記載の方法を実行するステップと、
b.前記ビームの少なくとも1つの決定された性質に基づいて、前記ビームの少なくとも1つのビーム光学ユニットを少なくとも部分的に適応させるステップと
を含む、方法。 - 前記少なくとも1つのビーム光学ユニットが、以下の構成要素、すなわち、
a.電磁レンズ、
b.コンデンサダイアフラムまたはアパーチャ、
c.電磁多極
のうちの1つまたは複数を含む、請求項15に記載の方法。 - 以下のビーム性質、すなわち、
a.非点収差、
b.球面収差、
c.色収差、
d.前記ビーム光学ユニットのテレセントリックエラー、
e.結像攪乱、
f.波面攪乱、
g.ビーム形状歪み、および
h.高次ビーム収差
のうちの1つまたは複数を補正するステップをさらに含む、請求項15または16に記載の方法。 - 前記ビーム性質のうちの1つまたは複数を補正する前記ステップが、ビーム光学ユニットの1つまたは複数の構成要素を横切って、特に、ビーム光学ユニットまたはコンデンサのダイアフラムまたはアパーチャを横切って、前記荷電粒子のビームを走査するステップを含む、請求項17に記載の方法。
- a.前記ビーム光学ユニットの前記1つまたは複数の構成要素の上に前記荷電粒子のビームの焦点を合わせるステップ、
b.コンデンサユニットを調節するステップ、
c.ビーム偏向ユニットを調節するステップ
のうちの少なくとも1つをさらに含む、請求項18に記載の方法。 - 命令が電子データ処理装置のプロセッサによって実行されるとき、請求項1~19のいずれか1項に記載の方法を実行するための前記命令を含むコンピュータプログラム。
- 荷電粒子のビーム(120)を検査するための装置(100)であって、
a.前記ビームに対するサンプル(130)の複数の位置で前記ビームと前記サンプルとの持続的相互作用(210)を生成するための手段(150)と、
b.前記複数の位置での前記持続的相互作用の空間分布を分析することによって前記ビームの少なくとも1つの性質を導き出すための手段(110)と
を含み、
ビーム光学系パラメータを一定に保ちつつ前記サンプルの位置を調節することにより、前記サンプルの前記複数の位置の少なくともいくつかが、前記ビームの伝播の方向における異なる点に配置される、装置(100)。 - 前記装置が、請求項1~19のいずれか1項に記載の方法を実行するように具現化される、請求項21に記載の装置。
- 荷電粒子のビーム(120)を検査するための装置(100)であって、
a.複数の位置でサンプル(130)の上に前記ビームを導くように具現化された少なくとも1つのビーム光学ユニット(110)と、
b.前記ビームと前記サンプルとの持続的相互作用(210)を生成するように具現化された少なくとも1つの材料(160)と、
c.前記複数の位置での前記持続的相互作用の空間分布を分析することによって前記ビームの少なくとも1つの性質を導き出すように具現化された少なくとも1つの分析器(170、180)と
を含み、
ビーム光学系パラメータを一定に保ちつつ前記サンプルの位置を調節することにより、前記サンプルの前記複数の位置の少なくともいくつかが、前記ビームの伝播の方向における異なる点に配置される、装置(100)。 - 前記装置が、請求項1~19のいずれか1項に記載の方法を実行するように具現化される、請求項23に記載の装置。
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WO2023036911A1 (en) | Method and apparatus for determining a beam tail of a focused particle beam |
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