JP7140750B2 - 波長ベースの光フィルタリング - Google Patents
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Description
この出願は、2016年9月20日に出願された米国特許出願第15/270,072号の利益を主張し、同特許は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
Claims (21)
- 極端紫外線(EUV)フォトリソグラフィツール用の光源であって、
光生成モジュールを含む光生成システムと、
利得帯域と関連付けられた利得媒体を含む光増幅器であって、前記利得媒体が、前記利得帯域の波長を有する光を増幅するように構成された、光増幅器と、
前記光生成モジュールと前記光増幅器との間のビーム経路上の波長ベースの光フィルタシステムであって、第1の波長セットの波長を有する光を前記ビーム経路上でターゲット領域へと伝播させることができ、第2の波長セットの波長を有する光を前記ビーム経路から除去する少なくとも1つの光学素子を含み、前記第1の波長セット及び前記第2の波長セットが、前記光増幅器の前記利得帯域の異なる波長を含む、波長ベースの光フィルタシステムと
を含む、
前記波長ベース光学フィルタシステムが、少なくとも部分的に空間的に異なる第1のビーム経路及び第2のビーム経路を備え、
動作時の使用において、前記第1の波長セット内の第1の波長を有する第1の光ビームが、前記第1のビーム経路上を伝搬し、前記第1の波長セットに含まれるが、前記第1の波長とは異なる、第2の波長を有する第2の光ビームが、前記第2のビーム経路上を伝搬する、光源。 - 前記少なくとも1つの光学素子が、分散光学素子、光フィルタリング素子及び干渉計のうちの1つ又は複数を含む、請求項1に記載の光源。
- 前記分散光学素子が、プリズム及び格子のうちの1つ又は複数を含む、請求項2に記載の光源。
- 前記少なくとも1つの光フィルタリング素子が、多層コーティングを含む光学素子、及び前記第2の波長セットの1つ又は複数の波長を有する光を吸収する光学素子のうちの1つ又は複数を含む、請求項2に記載の光源。
- 前記干渉計が、エタロンを含む、請求項2に記載の光源。
- 前記分散光学素子が、格子を含み、前記格子が、前記第1の波長セットの波長を有する光を前記ビーム経路に向けて反射させ、前記第2の波長セットの波長を有する光を前記ビーム経路から離れるように反射させるように位置付けられる、請求項3に記載の光源。
- 前記波長ベースの光フィルタシステムが、少なくとも1つの二色性光学素子をさらに含む、請求項6に記載の光源。
- 少なくとも1つの二色性光学素子が、前記光生成モジュールと前記格子との間に位置する、請求項7に記載の光源。
- 第1の偏光を有する光を透過させ、第2の偏光を有する光を遮断する偏光ベースの光分離システムをさらに含み、
前記第2の偏光が、前記第1の偏光とは異なり、
前記波長ベースの光フィルタシステムが、前記光生成モジュールと前記偏光ベースの光分離システムとの間に位置する、請求項1に記載の光源。 - 前記光生成モジュールが、2つ以上の光生成モジュールを含み、前記光生成モジュールのうちの1つが、第1の波長を有する第1の光ビームを生成し、前記光生成モジュールのうちの別の1つが、第2の波長の波長を有する第2の光ビームを生成し、前記第1及び第2の波長が、前記第1の波長セットのものである、請求項1に記載の光源。
- 前記光生成システムが、前記光生成モジュールから放出された光を受信するように位置付けられた1つ又は複数の光増幅器をさらに含む、請求項1に記載の光源。
- 前記光増幅器が、複数の光増幅器を含み、前記光増幅器の各々が、前記利得帯域と関連付けられた利得媒体を含み、前記波長ベースの光フィルタシステムが、2つの前記光増幅器の間に位置する、請求項1に記載の光源。
- 極端紫外線(EUV)光源用の光フィルタシステムであって、前記光フィルタシステムが、前記EUV光源の光増幅器と光生成モジュールとの間に配置され、前記光増幅器が、利得帯域内で光を増幅する利得媒体を含み、
前記光フィルタシステムが、少なくとも1つの光学素子を含み、前記少なくとも1つの光学素子が、第1の波長帯域の波長を有する光を反射又は透過させ、第2の波長帯域の波長を有する光を拒絶し、前記第1の波長帯域及び前記第2の波長帯域が、前記増幅器の前記利得帯域のものであり、前記第1の波長帯域及び前記第2の波長帯域が、完全に異なる波長を含む、
前記光フィルタシステムが、少なくとも部分的に空間的に異なる第1のビーム経路及び第2のビーム経路を備え、
動作時の使用において、前記第1の波長帯域内の第1の波長を有する第1の光ビームが、前記第1のビーム経路上を伝搬し、前記第1の波長帯域に含まれるが、前記第1の波長とは異なる、第2の波長を有する第2の光ビームが、前記第2のビーム経路上を伝搬する、
光フィルタシステム。 - 前記第1の波長帯域が、プレパルスビームと関連付けられた第1の波長と、メインビームと関連付けられた第2の波長とを含む、請求項13に記載の光フィルタシステム。
- 少なくとも1つの二色性光学素子をさらに含む、請求項14に記載の光フィルタシステム。
- 前記少なくとも1つの光学素子が、光フィルタリング素子、分散光学素子及び干渉計のうちの1つ又は複数を含む、請求項13に記載の光フィルタシステム。
- 前記分散光学素子が、プリズム及び格子のうちの1つ又は複数である、請求項16に記載の光フィルタシステム。
- 前記光フィルタリング素子が、多層コーティングを含む光学素子、及び特定の波長を有する光を吸収する光学素子のうちの1つ又は複数を含む、請求項16に記載の光フィルタシステム。
- 方法であって、
ビーム経路に光ビームを誘導することであって、前記ビーム経路が、光生成モジュールとプラズマサイトとの間に位置し、前記光ビームが、第1の波長帯域内の第1の波長を有する、誘導することと、
前記光ビームを光フィルタシステムに通すことと、
増幅光ビームを生成するために前記光フィルタシステムを出た光を光増幅器の方に誘導することであって、前記光増幅器が、利得帯域のものである光を増幅する利得媒体を含む、誘導することと、
前記増幅光ビームを前記プラズマサイトに提供することであって、前記プラズマサイトが、プラズマ状態の時にEUV光を放出するターゲット材料を受け取る、提供することと、
を含み、
前記第1の波長が、前記光増幅器の前記利得帯域のものであり、
前記光フィルタシステムが、前記第1の波長を有する光を前記ビーム経路上で伝播させることができ、
前記光フィルタシステムが、前記光増幅器の前記利得帯域のものである前記第1の波長以外の波長を有する光を前記ビーム経路から除去し、
前記光フィルタシステムが、少なくとも部分的に空間的に異なる第1のビーム経路及び第2のビーム経路を備え、
前記方法は、
動作時の使用において、前記第1の波長帯域内の第1の波長を有する第1の光ビームを、前記第1のビーム経路上を伝搬させることと、
前記第1の波長帯域に含まれるが、前記第1の波長とは異なる、第2の波長を有する第2の光ビームを、前記第2のビーム経路上を伝搬させることとをさらに含む、
方法。 - ターゲットを前記プラズマサイトに提供することをさらに含み、前記ターゲットが、前記ターゲット材料を含み、前記増幅光ビームが、前記ターゲット材料の少なくとも一部をEUV光を放出する前記プラズマ状態に変換させるのに十分なエネルギーを有する、請求項19に記載の方法。
- フォトリソグラフィツール用の光源であって、
光ビームを放出する光生成モジュールと、
ビーム経路上の利得媒体を含む光増幅器であって、前記利得媒体が、利得帯域と関連付けられ、前記光増幅器が、前記利得帯域の波長を有する光を増幅する光増幅器と、
前記光生成モジュールと前記光増幅器との間の前記ビーム経路上の波長ベースの光学損失システムであって、前記利得帯域の1つ又は複数の波長の光を前記ビーム経路から除去する波長ベースの光学損失システムと
を含む、
前記光学損失システムが、少なくとも部分的に空間的に異なる第1のビーム経路及び第2のビーム経路を備え、
動作時の使用において、前記ビーム経路から除去された光の波長とは異なる、第1の波長帯域内の第1の波長を有する第1の光ビームが、前記第1のビーム経路上を伝搬し、前記第1の波長帯域に含まれるが、前記第1の波長とは異なる、第2の波長を有する第2の光ビームが、前記第2のビーム経路上を伝搬する、光源。
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