JP7129983B2 - 撮像装置 - Google Patents
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Description
本開示は、撮像装置に関する。
高品質な画像の取得を図る撮像素子に係る技術が開発されている。光電変換により得られた電荷を電圧信号に変換するときの変換効率を適応的に変更させることにより、高品質な画像の取得を図る技術としては、例えば下記の特許文献1に記載の技術が挙げられる。
例えば特許文献1に記載の撮像素子では、光電変換により得られた電圧信号が差動増幅回路に入力されて当該電圧信号が増幅され、画素ごとに設けられたAD変換器(Analog-to-Digital converter)により、増幅された当該電圧信号がデジタル信号に変換される。上記電圧信号は、光電変換された電荷を蓄積し電圧信号に変換する浮遊拡散層(Floating Diffusion)により得られる。
ここで、画素ごとまたは複数の画素ごとにAD変換器が設けられ、光電変換により得られた電圧信号が差動増幅回路に入力され増幅される、既存の構成の場合、差動増幅回路のAuto-zero動作時に浮遊拡散層がリセットされる。また、上記既存の構成の場合には、浮遊拡散層のリセット電位は、差動増幅回路の出力段を構成するトランジスタにおいて生じる電圧降下によって、ソースフォロワ読出し構成の場合と比較して不可避的に低くなる。差動増幅回路の出力段を構成するトランジスタにおいて生じる電圧降下としては、例えば0.30[V]~0.45[V]程度の電圧降下が挙げられる。よって、上記構成の場合には、浮遊拡散層のダイナミックレンジが低下する恐れがある。
本開示では、浮遊拡散層のダイナミックレンジの低下を防止することが可能な、新規かつ改良された撮像装置を提案する。
本開示によれば、複数の画素を有する撮像部を備え、上記画素は、入射光を光電子に変換する変換素子と、上記変換素子と電気的に接続され、上記光電子を電圧信号に変換する浮遊拡散層と、上記浮遊拡散層と電気的に接続され、上記浮遊拡散層の電位が入力される増幅トランジスタを含み、上記浮遊拡散層の電位を増幅する差動増幅回路と、上記増幅トランジスタと電気的に接続され、上記差動増幅回路を初期化する帰還トランジスタと、上記浮遊拡散層と上記増幅トランジスタとの間に直列に接続されるクランプ容量と、上記浮遊拡散層と上記クランプ容量との間に並列に接続され、上記浮遊拡散層の電位を初期化するリセットトランジスタと、を有する、撮像装置が、提供される。
本開示によれば、浮遊拡散層のダイナミックレンジの低下を防止することができる。
なお、上記の効果は必ずしも限定的なものではなく、上記の効果とともに、または上記の効果に代えて、本明細書に示されたいずれかの効果、または本明細書から把握されうる他の効果が奏されてもよい。
以下に添付図面を参照しながら、本開示の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
また、以下において、“一の構成要素と、他の構成要素とを、接続する”とは、“当該一の構成要素と当該他の構成要素とが、さらなる他の構成要素を介さずに、電気的に接続されていること”、または、“当該一の構成要素と当該他の構成要素とが、さらなる他の構成要素を介して、電気的に接続されていること”をいう。
また、以下では、下記に示す順序で説明を行う。
1.本実施形態に係る撮像装置
[1]本実施形態に係る撮像装置の概要
[2]第1の実施形態に係る撮像装置
[3]第2の実施形態に係る撮像装置
[4]第3の実施形態に係る撮像装置
[5]他の実施形態に係る撮像装置
[6]本実施形態に係る撮像装置において奏される効果
2.本実施形態に係る撮像装置の適用例
1.本実施形態に係る撮像装置
[1]本実施形態に係る撮像装置の概要
[2]第1の実施形態に係る撮像装置
[3]第2の実施形態に係る撮像装置
[4]第3の実施形態に係る撮像装置
[5]他の実施形態に係る撮像装置
[6]本実施形態に係る撮像装置において奏される効果
2.本実施形態に係る撮像装置の適用例
(本実施形態に係る撮像装置)
[1]本実施形態に係る撮像装置の概要
上述したように、画素ごとまたは複数の画素ごとにAD変換器が設けられ、光電変換により得られた電圧信号が差動増幅回路に入力され増幅される、既存の構成の場合、差動増幅回路において生じる電圧降下分、浮遊拡散層のリセット電位が低下するため、浮遊拡散層のダイナミックレンジが低下する恐れがある。
[1]本実施形態に係る撮像装置の概要
上述したように、画素ごとまたは複数の画素ごとにAD変換器が設けられ、光電変換により得られた電圧信号が差動増幅回路に入力され増幅される、既存の構成の場合、差動増幅回路において生じる電圧降下分、浮遊拡散層のリセット電位が低下するため、浮遊拡散層のダイナミックレンジが低下する恐れがある。
そこで、本実施形態に係る撮像装置では、差動増幅回路において生じる電圧降下が、浮遊拡散層のリセット電位に影響を与えることを防止する構成をとることによって、浮遊拡散層のダイナミックレンジの低下を防止する。
より具体的には、本実施形態に係る撮像装置が有する画素は、“差動増幅回路の入力端子と浮遊拡散層との間に直列に、クランプ容量が接続され、浮遊拡散層とクランプ容量との間に並列に、浮遊拡散層の電位を初期化するリセットトランジスタが接続される構成”をとる。上記構成をとることによって、差動増幅回路において生じる電圧降下が浮遊拡散層のリセット電位に影響を与えることを防止しつつ、浮遊拡散層の電位を初期化することが可能となる。また、上記構成をとることによって、差動増幅回路において生じる電圧降下が浮遊拡散層のリセット電位に影響を与えることを防止されるので、浮遊拡散層のダイナミックレンジの低下は、防止される。
以下、本実施形態に係る撮像装置の構成について、説明する。
[2]第1の実施形態に係る撮像装置
まず、第1の実施形態に係る撮像装置について説明する。図1は、第1の実施形態に係る撮像装置100の構成の一例を示す説明図である。
まず、第1の実施形態に係る撮像装置について説明する。図1は、第1の実施形態に係る撮像装置100の構成の一例を示す説明図である。
撮像装置100は、例えば、光電変換をそれぞれ行う複数の画素Pを有する撮像部102と、画素回路Pを駆動させるドライバ104とを備える。撮像装置100は、バッテリなどの内部電源から供給される電力、または、外部電源から供給される電力によって、駆動する。
撮像部102は、複数の画素Pが行列状に配置された画素アレイで構成される。画素Pそれぞれは、信号線を介してドライバ104と電気的に接続される。なお、図1では、便宜上、各画素が1本の信号線を介してドライバ104と接続される例を示しているが、ドライバ104と画素Pそれぞれとは、複数の信号線で接続されていてもよい。画素Pでは、ドライバ104から信号線を介して伝達される制御信号によって、入射される入射光に応じた信号電荷の蓄電や、画素Pの初期化などが行われる。
また、撮像部102は、例えば、一層の基板、または、積層された複数層の基板で構成される。撮像部102が積層された複数層の基板で構成される場合、画素Pを構成する構成要素のうち、少なくとも、変換素子(後述する)、浮遊拡散層(後述する)、およびリセットトランジスタ(後述する)は、同一層の基板上に設けられる。以下では、撮像部102が積層された2層の基板で構成される場合を例に挙げる。
第1の実施形態に係る画素Pの構成の一例については、後述する。
なお、第1の実施形態に係る撮像装置の構成は、図1に示す例に限られない。
例えば、第1の実施形態に係る撮像装置は、ドライバ104を備えず、外部のドライバから信号線を介して伝達される制御信号によって各画素Pが駆動してもよい。
また、第1の実施形態に係る撮像装置は、撮像部102を構成する画素Pから出力されるアナログ信号を、デジタル信号に変換する変換部(図示せず)を、さらに備えていてもよい。変換部(図示せず)は、アナログ信号をデジタル信号に変換する変換回路を、画素Pごとまたは複数の画素Pごとに有し、変換回路によって、画素Pから出力されるアナログ信号をデジタル信号に変換する。
本実施形態に係る変換回路としては、例えば、デジタル信号に変換するアナログ信号のゲインが固定されているAD変換器が挙げられる。AD変換器としては、例えば逐次比較型のAD変換器などの任意の型のAD変換器が、挙げられる。また、本実施形態に係る変換回路は、デジタル信号に変換するアナログ信号のゲインを調整することが可能な構成(アナログ信号のゲインを切り替えることが可能な構成)であってもよい。
以下、図1に示す撮像装置100を例に挙げて、撮像装置100が有する画素Pの構成の一例を説明する。
また、以下では、画素Pを構成するトランジスタが、Nチャネル型またはPチャネル型のMOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor)である場合を例に挙げる。なお、画素Pを構成するトランジスタは、MOSFETに限られない。例えば、画素Pを構成するトランジスタは、バイポーラトランジスタや、TFT(Thin Film Transistor)などの任意のFET(Field-Effect Transistor)であってもよい。また、画素Pを構成するトランジスタの極性は、以下に示す例に限られず、各トランジスタの制御端子に印加される信号に応じて、変わりうる。
[2-1]第1の実施形態に係る画素Pの構成の一例
図2は、第1の実施形態に係る画素Pの構成の一例を示す説明図である。図2では、画素Pが、第1基板B1および第2基板B2という2層の基板で構成されている例を示している。
図2は、第1の実施形態に係る画素Pの構成の一例を示す説明図である。図2では、画素Pが、第1基板B1および第2基板B2という2層の基板で構成されている例を示している。
第1の実施形態に係る画素Pは、例えば、変換素子Dと、浮遊拡散層Cfdと、差動増幅回路DAと、帰還トランジスタTrFBと、クランプ容量Cclと、リセットトランジスタTrRSTとを含む。
変換素子Dと浮遊拡散層Cfdとの間には、変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷を浮遊拡散層Cfdに転送する転送トランジスタTrTGが接続される。転送トランジスタTrTGが、印加される制御信号TGによりオン状態(導通状態)となることによって、変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷が、浮遊拡散層Cfdに転送される。以下では、転送トランジスタTrTGを「TG」と示す場合がある。
また、変換素子Dと、電荷を排出するオーバーフロードレインOFDとの間には、電荷をオーバーフロードレインOFDに転送するオーバーフロートランジスタTrOFGが接続される。オーバーフロートランジスタTrOFGが、印加される制御信号OFGによりオン状態となることによって、変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷が、オーバーフロードレインOFDに転送される。以下では、オーバーフロートランジスタTrOFGを「OFG」と示す場合がある。なお、変換素子Dからの余剰電荷は、転送トランジスタTrTGおよびリセットトランジスタTrRSTを介して電源端子(VDD)に排出することも可能である。上記のように変換素子Dからの余剰電荷が電源端子に排出される場合、図2に示すOFGおよびOFDは省略することができる。
変換素子Dは、入射光を光電子に変換する。変換素子Dとしては、フォトダイオードなどの入射光を光電子に変換することが可能な任意の受光素子が、挙げられる。
浮遊拡散層Cfdは、変換素子Dと接続され、変換素子Dにおいて変換された光電子を電圧信号に変換する。浮遊拡散層Cfdは、変換素子Dから転送された電荷を蓄積するとともに、蓄積している電荷を電圧信号に変換して出力する役目を果たす。
差動増幅回路DAは、トランジスタを用いた一般的な構成の差動増幅回路である。差動増幅回路DAは、“浮遊拡散層Cfdと接続され、浮遊拡散層Cfdにおいて変換された電圧信号(浮遊拡散層Cfdの電位。以下、同様とする。)が入力される増幅トランジスタTrAMP”と、“参照信号(制御信号の一例)が入力される参照トランジスタTrREF”とを、入力段のトランジスタとして含み、当該電圧信号を増幅する。増幅トランジスタTrAMPの制御端子は、クランプ容量Cclを介して浮遊拡散層Cfdと接続される。差動増幅回路DAを構成するトランジスタTrOUT1、TrOUT2が、差動増幅回路の出力段を構成するトランジスタである。以下では、増幅トランジスタTrAMPを「AMP」と示し、参照トランジスタTrREFを「REF」と示す場合がある。
帰還トランジスタTrFBは、増幅トランジスタTrAMPと接続され、差動増幅回路DAを初期化する。帰還トランジスタTrFBがオン状態となることにより増幅トランジスタTrAMPの制御端子と他の端子とが接続され、増幅トランジスタTrAMPの制御端子の電位は、差動増幅回路DAの初期化電位となり、差動増幅回路DAは初期化される。以下では、帰還トランジスタTrFBがオン状態となるときの差動増幅回路DAの動作を「Auto-zero動作」と示す場合がある。
クランプ容量Cclは、浮遊拡散層Cfdと増幅トランジスタTrAMPとの間に直列に接続される。クランプ容量Cclとしては、例えば、配線間容量や、キャパシタなどの容量素子などが挙げられる。クランプ容量Cclは、増幅トランジスタTrAMPの制御端子容量、およびその他増幅トランジスタTrAMPの制御端子に付加される配線間容量などと比較して、十分に大きい容量となるように、設けられる。
リセットトランジスタTrRSTは、浮遊拡散層Cfdとクランプ容量Cclとの間に並列に接続され、浮遊拡散層Cfdの電位を初期化する。リセットトランジスタTrRSTは、オン状態となることにより浮遊拡散層Cfdの電位を初期化する。
図3は、第1の実施形態に係る画素Pにおける動作の一例を示す説明図である。図3に示す各種制御信号は、例えばドライバ104(または外部のドライバ)から供給される。
まず、浮遊拡散層Cfdの電位を初期化する動作、および変換素子Dから浮遊拡散層Cfdへの電荷の転送について説明する。
図3に示すように、画素Pでは、差動増幅回路DAがAuto-zero動作をしているとき(帰還トランジスタTrFBがオン状態のとき)に、リセットトランジスタTrRSTがオン状態となり、浮遊拡散層Cfdの電位が初期化される。このとき、増幅トランジスタTrAMPの制御端子(増幅トランジスタTrAMPにおける浮遊拡散層Cfdと接続される端子)は、差動増幅回路DAの初期化電位に固定される。
浮遊拡散層Cfdの電位が初期化された後(リセットトランジスタTrRSTがオン状態からオフ状態(非導通状態)となった後)、画素Pでは、差動増幅回路DAのAuto-zero動作が、終了する。
差動増幅回路DAのAuto-zero動作が終了した後、転送トランジスタTrTGがオン状態となることによって、変換素子Dと浮遊拡散層Cfdとが接続され、変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷が、浮遊拡散層Cfdに転送される。
次に、浮遊拡散層Cfdで得られた電圧信号を検出する場合の動作について説明する。
図3に示すように、変換素子Dから浮遊拡散層Cfdへの電荷の転送が行われた後(転送トランジスタTrTGがオン状態からオフ状態となった後)、帰還トランジスタTrFBはオフ状態であり、増幅トランジスタTrAMPの制御端子(増幅トランジスタTrAMPにおける浮遊拡散層Cfdと接続される端子)は、電気的に浮遊する。このとき、増幅トランジスタTrAMPの制御端子には浮遊拡散層Cfdで得られた電圧信号が印加され、画素Pでは、浮遊拡散層Cfdで得られた電圧信号が検出される。
なお、第1の実施形態に係る画素Pに供給される各種制御信号の例が、図3に示す例に限られないことは、言うまでもない。
第1の実施形態に係る画素Pは、例えば図2に示す構成を有する。
図2に示すように、第1の実施形態に係る画素Pでは、変換素子D、浮遊拡散層Cfd、増幅トランジスタTrAMPを含む差動増幅回路DAの一部、帰還トランジスタTrFB、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTは、同一層の基板である第1基板B1上に設けられる。また、図2に示すように、第1の実施形態に係る画素Pでは、差動増幅回路DAの出力段(差動増幅回路DAの他の部分)が、第2基板B2上に設けられる。よって、第1の実施形態に係る画素Pは、第1基板B1と第2基板B2との間に、2つの基板間接合部分Jを有することとなる。
なお、第1の実施形態に係る画素Pの構成は、図2に示す例に限られない。
例えば、浮遊拡散層Cfd、差動増幅回路DA、帰還トランジスタTrFB、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTは、複数の画素Pで共有されていてもよい。
図4は、第1の実施形態に係る画素Pの構成の他の例を示す説明図であり、“浮遊拡散層Cfd、差動増幅回路DA、帰還トランジスタTrFB、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTが、2つの画素Pで共有されている場合”の構成の一例を示している。
撮像部102が図4に示す構成の画素Pを有する場合、浮遊拡散層Cfdなどを共有する各画素Pの転送トランジスタTrTGの導通状態が、制御信号TGにより制御されることによって、各画素Pの変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷が、浮遊拡散層Cfdにそれぞれ転送される。
なお、図4では、浮遊拡散層Cfdなどが2つの画素Pで共有されている例を示したが、撮像部102では、遊拡散層Cfdなどが3つ以上の画素Pで共有されていてもよい。一例を挙げると、第1の実施形態に係る撮像装置100は、遊拡散層Cfdなどが4つの画素Pで共有される構成や、遊拡散層Cfdなどが8つの画素Pで共有される構成をとることが可能である。浮遊拡散層Cfdなどが3つ以上の画素Pで共有される場合であっても、各画素Pの転送トランジスタTrTGの導通状態が制御されることによって、各画素Pの変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷を、浮遊拡散層Cfdにそれぞれ転送することが可能である。
[2-2]第1の実施形態に係る画素Pのレイアウト
次に、第1の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例を示す。
次に、第1の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例を示す。
図5、図6それぞれは、第1の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例の概略を示す説明図である。図5は、画素Pが図4に示す構成を有する場合におけるレイアウトの概略を示している。図6は、図5に示すレイアウトを有する画素Pが行列状に配置された画素アレイの一例を示している。
図7A~図7Jそれぞれは、第1の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例を示す説明図であり、画素Pが図4に示す構成を有する場合におけるレイアウトの一例を示している。図7Aに示すB~図7Jに示すBそれぞれは、図7Aに示すA~図7Jに示すAそれぞれに示すI-I線の断面の概略図である。
図7A~図7Jに示すように、第1の実施形態に係る画素Pは、様々な層数の配線パターンで実現することが可能である。なお、第1の実施形態に係る画素Pのレイアウトが、図7A~図7Jに示す例に限られないことは、言うまでもない。
[3]第2の実施形態に係る撮像装置
次に、第2の実施形態に係る撮像装置について説明する。第2の実施形態に係る撮像装置は、上述した第1の実施形態に係る撮像装置と基本的に同様の構成(変形例も含む)を有し、画素Pの構成が、上述した第1の実施形態に係る撮像装置が有する画素Pと異なる。よって、以下では、第2の実施形態に係る撮像装置における、上述した第1の実施形態に係る撮像装置と同様の点については説明を省略するとともに、第2の実施形態に係る画素Pの構成の一例を説明する。
次に、第2の実施形態に係る撮像装置について説明する。第2の実施形態に係る撮像装置は、上述した第1の実施形態に係る撮像装置と基本的に同様の構成(変形例も含む)を有し、画素Pの構成が、上述した第1の実施形態に係る撮像装置が有する画素Pと異なる。よって、以下では、第2の実施形態に係る撮像装置における、上述した第1の実施形態に係る撮像装置と同様の点については説明を省略するとともに、第2の実施形態に係る画素Pの構成の一例を説明する。
[3-1]第2の実施形態に係る画素Pの構成の一例
図8は、第2の実施形態に係る画素Pの構成の一例を示す説明図である。図8では、画素Pが、第1基板B1および第2基板B2という2層の基板で構成されている例を示している。
図8は、第2の実施形態に係る画素Pの構成の一例を示す説明図である。図8では、画素Pが、第1基板B1および第2基板B2という2層の基板で構成されている例を示している。
第2の実施形態に係る画素Pは、例えば、変換素子Dと、浮遊拡散層Cfdと、差動増幅回路DAと、帰還トランジスタTrFBと、クランプ容量Cclと、リセットトランジスタTrRSTとを含む。
第2の実施形態に係る画素Pと第1の実施形態に係る画素Pとの相違点は、第1基板B1および第2基板B2それぞれに設けられる構成要素にある。
より具体的には、図8に示すように、第2の実施形態に係る画素Pでは、変換素子D、浮遊拡散層Cfd、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTは、同一層の基板である第1基板B1上に設けられる。また、図8に示すように、第2の実施形態に係る画素Pでは、差動増幅回路DA、および帰還トランジスタTrFBが、第2基板B2上に設けられる。よって、第2の実施形態に係る画素Pは、第1基板B1と第2基板B2との間に1つの基板間接合部分Jを有することとなり、第1の実施形態よりも基板間接合部分Jの数を減らすことができる。
例えば図8に示すように、変換素子Dなどが設けられる第1基板B1と異なる基板に、差動増幅回路DAを設けることによって、差動増幅回路DAを設けるSi面積を大きくとることが可能となる。よって、画素Pのサイズに制約されずに、差動増幅回路DAを構成する各トランジスタの寸法を十分に大きく確保することができるので、P(Pre-charge)相バラつきなどの特性低下が防止されるなど、差動増幅回路DAのアナログ回路特性を向上させることができる。
なお、第2の実施形態に係る画素Pの構成は、図8に示す例に限られない。
例えば第1の実施形態と同様に、浮遊拡散層Cfd、差動増幅回路DA、帰還トランジスタTrFB、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTは、複数の画素Pで共有されていてもよい。
図9は、第2の実施形態に係る画素Pの構成の他の例を示す説明図であり、“浮遊拡散層Cfd、差動増幅回路DA、帰還トランジスタTrFB、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTが、2つの画素Pで共有されている場合”の構成の一例を示している。
第2の実施形態に係る撮像部が図9に示す構成の画素Pを有する場合、撮像部が図4に示す構成の画素Pを有する場合と同様に、浮遊拡散層Cfdなどを共有する各画素Pの転送トランジスタTrTGの導通状態が制御されることによって、各画素Pの変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷が、浮遊拡散層Cfdにそれぞれ転送される。
なお、図9では、浮遊拡散層Cfdなどが2つの画素Pで共有されている例を示したが、第1の実施形態に係る撮像部102と同様に、第2の実施形態に係る撮像部では、遊拡散層Cfdなどが3つ以上の画素Pで共有されていてもよい。
[3-2]第2の実施形態に係る画素Pのレイアウト
次に、第2の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例を示す。
次に、第2の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例を示す。
図10は、第2の実施形態に係る画素Pのレイアウトを示す説明図であり、画素Pが図9に示す構成を有する場合におけるレイアウトの一例を示している。図10に示すBは、図10に示すAそれぞれに示すI-I線の断面の概略図である。
なお、第2の実施形態に係る画素Pのレイアウトが、図10に示す例に限られないことは、言うまでもない。
第2の実施形態に係る撮像装置における画素アレイは、例えば図6と同様に、図10に示すレイアウトを有する画素Pが行列状に配置された構成を有する。
[4]第3の実施形態に係る撮像装置
次に、第3の実施形態に係る撮像装置について説明する。第3の実施形態に係る撮像装置は、上述した第1の実施形態に係る撮像装置と基本的に同様の構成(変形例も含む)を有し、画素Pの構成が、上述した第1の実施形態に係る撮像装置が有する画素Pおよび上述した第2の実施形態に係る撮像装置が有する画素Pと異なる。よって、以下では、第3の実施形態に係る撮像装置における、上述した第1の実施形態に係る撮像装置および上述した第2の実施形態に係る撮像装置と同様の点については説明を省略するとともに、第3の実施形態に係る画素Pの構成の一例を説明する。
次に、第3の実施形態に係る撮像装置について説明する。第3の実施形態に係る撮像装置は、上述した第1の実施形態に係る撮像装置と基本的に同様の構成(変形例も含む)を有し、画素Pの構成が、上述した第1の実施形態に係る撮像装置が有する画素Pおよび上述した第2の実施形態に係る撮像装置が有する画素Pと異なる。よって、以下では、第3の実施形態に係る撮像装置における、上述した第1の実施形態に係る撮像装置および上述した第2の実施形態に係る撮像装置と同様の点については説明を省略するとともに、第3の実施形態に係る画素Pの構成の一例を説明する。
[4-1]第3の実施形態に係る画素Pの構成の一例
図11は、第3の実施形態に係る画素Pの構成の一例を示す説明図である。図11では、画素Pが、第1基板B1および第2基板B2という2層の基板で構成されている例を示している。
図11は、第3の実施形態に係る画素Pの構成の一例を示す説明図である。図11では、画素Pが、第1基板B1および第2基板B2という2層の基板で構成されている例を示している。
第3の実施形態に係る画素Pは、例えば、変換素子Dと、浮遊拡散層Cfdと、差動増幅回路DAと、帰還トランジスタTrFBと、クランプ容量Cclと、リセットトランジスタTrRSTとを含む。
第3の実施形態に係る画素Pと、第1の実施形態に係る画素Pおよび第2の実施形態に係る画素Pとの相違点は、第1基板B1および第2基板B2それぞれに設けられる構成要素にある。
より具体的には、図11に示すように、第3の実施形態に係る画素Pでは、変換素子D、浮遊拡散層Cfd、およびリセットトランジスタTrRSTは、同一層の基板である第1基板B1上に設けられる。また、図11に示すように、第3の実施形態に係る画素Pでは、第2の実施形態に係る画素Pと同様に、差動増幅回路DA、および帰還トランジスタTrFBが、第2基板B2上に設けられる。そして、図11に示すように、第3の実施形態に係る画素Pでは、クランプ容量Cclは、基板B1と基板B2との間を接合する接合金属配線で形成された配線間容量(異なる層の基板間を接合する配線の配線間容量の一例)である。上記接合金属配線としては、接続pad用金属が挙げられる。
よって、第3の実施形態に係る画素Pは、第2の実施形態に係る画素Pと同様に、第1基板B1と第2基板B2との間に1つの基板間接合部分Jを有することとなり、第1の実施形態よりも基板間接合部分Jの数を減らすことができる。
また、第3の実施形態に係る画素Pは、第2の実施形態に係る画素Pと同様に、差動増幅回路DAを設けるSi面積を大きくとることが可能であり、差動増幅回路DAのアナログ回路特性を向上させることができる。
また、第3の実施形態に係る画素Pは、例えば、接続pad用金属を使って容量を形成することができ、かつ、基板間接合を絶縁膜のみで行うことが可能であるので、接続歩留りを向上させることができる。
なお、第3の実施形態に係る画素Pの構成は、図11に示す例に限られない。
例えば第1の実施形態と同様に、浮遊拡散層Cfd、差動増幅回路DA、帰還トランジスタTrFB、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTは、複数の画素Pで共有されていてもよい。
図12は、第3の実施形態に係る画素Pの構成の他の例を示す説明図であり、“浮遊拡散層Cfd、差動増幅回路DA、帰還トランジスタTrFB、クランプ容量Ccl、およびリセットトランジスタTrRSTが、2つの画素Pで共有されている場合”の構成の一例を示している。
第3の実施形態に係る撮像部が図12に示す構成の画素Pを有する場合、撮像部が図4に示す構成の画素Pを有する場合と同様に、浮遊拡散層Cfdなどを共有する各画素Pの転送トランジスタTrTGの導通状態が制御されることによって、各画素Pの変換素子Dにおける入射光の変換に応じた電荷が、浮遊拡散層Cfdにそれぞれ転送される。
なお、図12では、浮遊拡散層Cfdなどが2つの画素Pで共有されている例を示したが、第1の実施形態に係る撮像部102と同様に、第3の実施形態に係る撮像部では、浮遊拡散層Cfdなどが3つ以上の画素Pで共有されていてもよい。
[4-2]第3の実施形態に係る画素Pのレイアウト
次に、第3の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例を示す。
次に、第3の実施形態に係る画素Pのレイアウトの一例を示す。
図13は、第3の実施形態に係る画素Pのレイアウトを示す説明図であり、画素Pが図12に示す構成を有する場合におけるレイアウトの一例を示している。図13に示すBは、図13に示すAそれぞれに示すI-I線の断面の概略図である。
なお、第3の実施形態に係る画素Pのレイアウトが、図13に示す例に限られないことは、言うまでもない。
第3の実施形態に係る撮像装置における画素アレイは、例えば図6と同様に、図13に示すレイアウトを有する画素Pが行列状に配置された構成を有する。
[5]他の実施形態に係る撮像装置
なお、本実施形態に係る撮像装置は、上述した第1の実施形態に係る撮像装置~第3の実施形態に係る撮像装置に限られない。
なお、本実施形態に係る撮像装置は、上述した第1の実施形態に係る撮像装置~第3の実施形態に係る撮像装置に限られない。
例えば、本実施形態に係る撮像装置は、さらに、画素アレイにおける浮遊拡散層Cfd間の信号干渉を低減するために、“一の浮遊拡散層Cfdを共有する画素Pと、一の浮遊拡散層Cfdに隣接する他の浮遊拡散層Cfdを共有する画素Pとの境界部分”に、電気的シールドを設けてもよい。電気的シールドは、例えば配線層で設けられる。
図14は、他の実施形態に係る撮像装置が有する画素アレイのレイアウトの一例を示す説明図であり、基板内の配線を用いてクランプ容量Cclが形成される例を示している。
図14のAに示すように、“一の浮遊拡散層Cfdを共有する画素Pと、一の浮遊拡散層Cfdに隣接する他の浮遊拡散層Cfdを共有する画素Pとの境界部分”に、配線層で電気的シールドが設けられる。
電気的シールドを構成する配線(以下、「シールド配線」と示す。)は、例えば、画素の境界部分の全てを囲うか
または、当該境界部分の一部を囲うように、配置される。図14のBは、本実施形態に係るシールド配線のレイアウトの一例を示している。なお、シールド配線のレイアウトが、図14のBに示す例に限られないことは、言うまでもない。
または、当該境界部分の一部を囲うように、配置される。図14のBは、本実施形態に係るシールド配線のレイアウトの一例を示している。なお、シールド配線のレイアウトが、図14のBに示す例に限られないことは、言うまでもない。
電気的シールドを構成する配線層(以下、「シールド配線層」と示す。)は、例えば、浮遊拡散層Cfdを含む基板の配線を構成する各金属配線層と同じ金属配線層で構成する。シールド配線層は、基準電位VSSを供給する端子に接続される。
なお、図14では、図14における下から3層目の配線および4層目の配線を用いてクランプ容量Ccl(図14に示す配線間容量)を形成する例を示しているが、他の配線を用いてクランプ容量Cclを形成する場合においても、図14と同様にシールド配線を設けることが可能である。
図15は、他の実施形態に係る撮像装置が有する画素アレイのレイアウトの他の例を示す説明図であり、各基板それぞれの最上層配線を用いてクランプ容量Cclが形成される例を示している。
図15に示す例は、クランプ容量Cclを、図15における下からみた最上層のPad層で形成した例である。図15に示す例と図14に示す例との相違点は、クランプ容量Cclが形成される位置であり、当該相違点以外は、図15に示す例と図14に示す例とは同様である。
例えば図14、図15に示すように、シールド配線による電気的シールドが設けられることによって、他の実施形態に係る撮像装置では、画素アレイにおける浮遊拡散層Cfd間の信号干渉が低減される。
[6]本実施形態に係る撮像装置において奏される効果
本実施形態に係る撮像装置では、例えば下記に示す効果が奏される。なお、本実施形態に係る撮像装置により奏される効果が、下記に示す例に限られないことは、言うまでもない。
・浮遊拡散層Cfdの電位を初期化する場合、浮遊拡散層Cfdのリセット電位をVDD電位とすることが可能であるので、差動増幅回路DAの出力段を構成するトランジスタTrout2において生じる電圧降下による浮遊拡散層Cfdのダイナミックレンジが低下は、ない。
・P相の信号、D(Data)相の信号などの各種信号を検出する場合(浮遊拡散層Cfdで得られた電圧信号を検出する場合)には、帰還トランジスタTrFBはオフ状態であり、また、浮遊拡散層Cfdの容量は、例えば既存の技術に係る浮遊拡散層の容量と同程度であれば十分であるので、浮遊拡散層Cfdにおける変換効率の低下は抑えられる。
・第2の実施形態に係る撮像装置または第3の実施形態に係る撮像装置のように、変換素子Dなどが設けられる基板と異なる基板に、差動増幅回路DAを設けることによって、差動増幅回路DAの回路特性が向上する。また、変換素子Dなどが設けられる基板と異なる基板に、差動増幅回路DAを設けることによって、基板間接合部分Jの数をより減らすことができる。
本実施形態に係る撮像装置では、例えば下記に示す効果が奏される。なお、本実施形態に係る撮像装置により奏される効果が、下記に示す例に限られないことは、言うまでもない。
・浮遊拡散層Cfdの電位を初期化する場合、浮遊拡散層Cfdのリセット電位をVDD電位とすることが可能であるので、差動増幅回路DAの出力段を構成するトランジスタTrout2において生じる電圧降下による浮遊拡散層Cfdのダイナミックレンジが低下は、ない。
・P相の信号、D(Data)相の信号などの各種信号を検出する場合(浮遊拡散層Cfdで得られた電圧信号を検出する場合)には、帰還トランジスタTrFBはオフ状態であり、また、浮遊拡散層Cfdの容量は、例えば既存の技術に係る浮遊拡散層の容量と同程度であれば十分であるので、浮遊拡散層Cfdにおける変換効率の低下は抑えられる。
・第2の実施形態に係る撮像装置または第3の実施形態に係る撮像装置のように、変換素子Dなどが設けられる基板と異なる基板に、差動増幅回路DAを設けることによって、差動増幅回路DAの回路特性が向上する。また、変換素子Dなどが設けられる基板と異なる基板に、差動増幅回路DAを設けることによって、基板間接合部分Jの数をより減らすことができる。
(本実施形態に係る撮像装置の適用例)
以上、本実施形態として、撮像装置を挙げて説明したが、本実施形態は、かかる形態に限られない。本実施形態は、例えば、“自動車や、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボット、人工衛星、探査機などの、任意の移動体において利用される画像センサ”、“工場や物流システムなどで利用される産業用画像センサ”、“ITS(Intelligent Transport Systems)において利用される画像センサ”、“防犯用画像センサ”など、様々な画像センサに適用することができる。また、本実施形態は、例えば、画像センサを備える上記移動体など、画像センサを備える任意の装置に適用することが可能である。
以上、本実施形態として、撮像装置を挙げて説明したが、本実施形態は、かかる形態に限られない。本実施形態は、例えば、“自動車や、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボット、人工衛星、探査機などの、任意の移動体において利用される画像センサ”、“工場や物流システムなどで利用される産業用画像センサ”、“ITS(Intelligent Transport Systems)において利用される画像センサ”、“防犯用画像センサ”など、様々な画像センサに適用することができる。また、本実施形態は、例えば、画像センサを備える上記移動体など、画像センサを備える任意の装置に適用することが可能である。
以下、本実施形態に係る技術が移動体に適用される場合の一例を説明する。
図16は、本開示に係る技術が適用され得る移動体制御システムの一例である車両制御システムの概略的な構成例を示すブロック図である。
車両制御システム12000は、通信ネットワーク12001を介して接続された複数の電子制御ユニットを備える。図16に示した例では、車両制御システム12000は、駆動系制御ユニット12010、ボディ系制御ユニット12020、車外情報検出ユニット12030、車内情報検出ユニット12040、及び統合制御ユニット12050を備える。また、統合制御ユニット12050の機能構成として、マイクロコンピュータ12051、音声画像出力部12052、及び車載ネットワークI/F(interface)12053が図示されている。
駆動系制御ユニット12010は、各種プログラムにしたがって車両の駆動系に関連する装置の動作を制御する。例えば、駆動系制御ユニット12010は、内燃機関又は駆動用モータ等の車両の駆動力を発生させるための駆動力発生装置、駆動力を車輪に伝達するための駆動力伝達機構、車両の舵角を調節するステアリング機構、及び、車両の制動力を発生させる制動装置等の制御装置として機能する。
ボディ系制御ユニット12020は、各種プログラムにしたがって車体に装備された各種装置の動作を制御する。例えば、ボディ系制御ユニット12020は、キーレスエントリシステム、スマートキーシステム、パワーウィンドウ装置、あるいは、ヘッドランプ、バックランプ、ブレーキランプ、ウィンカー又はフォグランプ等の各種ランプの制御装置として機能する。この場合、ボディ系制御ユニット12020には、鍵を代替する携帯機から発信される電波又は各種スイッチの信号が入力され得る。ボディ系制御ユニット12020は、これらの電波又は信号の入力を受け付け、車両のドアロック装置、パワーウィンドウ装置、ランプ等を制御する。
車外情報検出ユニット12030は、車両制御システム12000を搭載した車両の外部の情報を検出する。例えば、車外情報検出ユニット12030には、撮像部12031が接続される。車外情報検出ユニット12030は、撮像部12031に車外の画像を撮像させるとともに、撮像された画像を受信する。車外情報検出ユニット12030は、受信した画像に基づいて、人、車、障害物、標識又は路面上の文字等の物体検出処理又は距離検出処理を行ってもよい。
撮像部12031は、光を受光し、その光の受光量に応じた電気信号を出力する光センサである。撮像部12031は、電気信号を画像として出力することもできるし、測距の情報として出力することもできる。また、撮像部12031が受光する光は、可視光であっても良いし、赤外線等の非可視光であっても良い。
車内情報検出ユニット12040は、車内の情報を検出する。車内情報検出ユニット12040には、例えば、運転者の状態を検出する運転者状態検出部12041が接続される。運転者状態検出部12041は、例えば運転者を撮像するカメラを含み、車内情報検出ユニット12040は、運転者状態検出部12041から入力される検出情報に基づいて、運転者の疲労度合い又は集中度合いを算出してもよいし、運転者が居眠りをしていないかを判別してもよい。
マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車内外の情報に基づいて、駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置の制御目標値を演算し、駆動系制御ユニット12010に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両の衝突回避あるいは衝撃緩和、車間距離に基づく追従走行、車速維持走行、車両の衝突警告、又は車両のレーン逸脱警告等を含むADAS(Advanced Driver Assistance System)の機能実現を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車両の周囲の情報に基づいて駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置等を制御することにより、運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で取得される車外の情報に基づいて、ボディ系制御ユニット12020に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で検知した先行車又は対向車の位置に応じてヘッドランプを制御し、ハイビームをロービームに切り替える等の防眩を図ることを目的とした協調制御を行うことができる。
音声画像出力部12052は、車両の搭乗者又は車外に対して、視覚的又は聴覚的に情報を通知することが可能な出力装置へ音声及び画像のうちの少なくとも一方の出力信号を送信する。図16の例では、出力装置として、オーディオスピーカ12061、表示部12062及びインストルメントパネル12063が例示されている。表示部12062は、例えば、オンボードディスプレイ及びヘッドアップディスプレイの少なくとも一つを含んでいてもよい。
図17は、撮像部12031の設置位置の例を示す図である。
図17では、車両12100は、撮像部12031として、撮像部12101,12102,12103,12104,12105を有する。
撮像部12101,12102,12103,12104,12105は、例えば、車両12100のフロントノーズ、サイドミラー、リアバンパ、バックドア及び車室内のフロントガラスの上部等の位置に設けられる。フロントノーズに備えられる撮像部12101及び車室内のフロントガラスの上部に備えられる撮像部12105は、主として車両12100の前方の画像を取得する。サイドミラーに備えられる撮像部12102,12103は、主として車両12100の側方の画像を取得する。リアバンパ又はバックドアに備えられる撮像部12104は、主として車両12100の後方の画像を取得する。撮像部12101及び12105で取得される前方の画像は、主として先行車両又は、歩行者、障害物、信号機、交通標識又は車線等の検出に用いられる。
なお、図17には、撮像部12101ないし12104の撮影範囲の一例が示されている。撮像範囲12111は、フロントノーズに設けられた撮像部12101の撮像範囲を示し、撮像範囲12112,12113は、それぞれサイドミラーに設けられた撮像部12102,12103の撮像範囲を示し、撮像範囲12114は、リアバンパ又はバックドアに設けられた撮像部12104の撮像範囲を示す。例えば、撮像部12101ないし12104で撮像された画像データが重ね合わせられることにより、車両12100を上方から見た俯瞰画像が得られる。
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、距離情報を取得する機能を有していてもよい。例えば、撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、複数の撮像素子からなるステレオカメラであってもよいし、位相差検出用の画素を有する撮像素子であってもよい。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を基に、撮像範囲12111ないし12114内における各立体物までの距離と、この距離の時間的変化(車両12100に対する相対速度)を求めることにより、特に車両12100の進行路上にある最も近い立体物で、車両12100と略同じ方向に所定の速度(例えば、0km/h以上)で走行する立体物を先行車として抽出することができる。さらに、マイクロコンピュータ12051は、先行車の手前に予め確保すべき車間距離を設定し、自動ブレーキ制御(追従停止制御も含む)や自動加速制御(追従発進制御も含む)等を行うことができる。このように運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を元に、立体物に関する立体物データを、2輪車、普通車両、大型車両、歩行者、電柱等その他の立体物に分類して抽出し、障害物の自動回避に用いることができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両12100の周辺の障害物を、車両12100のドライバが視認可能な障害物と視認困難な障害物とに識別する。そして、マイクロコンピュータ12051は、各障害物との衝突の危険度を示す衝突リスクを判断し、衝突リスクが設定値以上で衝突可能性がある状況であるときには、オーディオスピーカ12061や表示部12062を介してドライバに警報を出力することや、駆動系制御ユニット12010を介して強制減速や回避操舵を行うことで、衝突回避のための運転支援を行うことができる。
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、赤外線を検出する赤外線カメラであってもよい。例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在するか否かを判定することで歩行者を認識することができる。かかる歩行者の認識は、例えば赤外線カメラとしての撮像部12101ないし12104の撮像画像における特徴点を抽出する手順と、物体の輪郭を示す一連の特徴点にパターンマッチング処理を行って歩行者か否かを判別する手順によって行われる。マイクロコンピュータ12051が、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在すると判定し、歩行者を認識すると、音声画像出力部12052は、当該認識された歩行者に強調のための方形輪郭線を重畳表示するように、表示部12062を制御する。また、音声画像出力部12052は、歩行者を示すアイコン等を所望の位置に表示するように表示部12062を制御してもよい。
以上、本実施形態に係る技術が移動体に適用される場合における車両制御システムの一例について説明した。本実施形態に係る技術は、例えば、上記車両制御システムにおける撮像部12031に適用されうる。なお、上記車両制御システムにおいて本実施形態に係る技術が適用される構成要素が、撮像部12031に限られないことは、言うまでもない。
以上、添付図面を参照しながら本開示の好適な実施形態について詳細に説明したが、本開示の技術的範囲はかかる例に限定されない。本開示の技術分野における通常の知識を有する者であれば、請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本開示の技術的範囲に属するものと了解される。
また、本明細書に記載された効果は、あくまで説明的または例示的なものであって限定的ではない。つまり、本開示に係る技術は、上記の効果とともに、または上記の効果に代えて、本明細書の記載から当業者には明らかな他の効果を奏しうる。
なお、以下のような構成も本開示の技術的範囲に属する。
(1)
複数の画素を有する撮像部を備え、
前記画素は、
入射光を光電子に変換する変換素子と、
前記変換素子と電気的に接続され、前記光電子を電圧信号に変換する浮遊拡散層と、
前記浮遊拡散層と電気的に接続され、前記浮遊拡散層の電位が入力される増幅トランジスタを含み、前記浮遊拡散層の電位を増幅する差動増幅回路と、
前記増幅トランジスタと電気的に接続され、前記差動増幅回路を初期化する帰還トランジスタと、
前記浮遊拡散層と前記増幅トランジスタとの間に直列に接続されるクランプ容量と、
前記浮遊拡散層と前記クランプ容量との間に並列に接続され、前記浮遊拡散層の電位を初期化するリセットトランジスタと、
を有する、撮像装置。
(2)
前記浮遊拡散層、前記差動増幅回路、前記帰還トランジスタ、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、複数の前記画素で共有される、(1)に記載の撮像装置。
(3)
前記撮像部は、積層された複数層の基板で構成され、
少なくとも、前記変換素子、前記浮遊拡散層、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、(1)または(2)に記載の撮像装置。
(4)
前記変換素子、前記浮遊拡散層、前記増幅トランジスタを含む前記差動増幅回路の一部、前記帰還トランジスタ、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、(3)に記載の撮像装置。
(5)
前記変換素子、前記浮遊拡散層、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、(3)に記載の撮像装置。
(6)
前記変換素子、前記浮遊拡散層、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられ、
前記クランプ容量は、異なる層の基板間を接合する配線の配線間容量である、(3)に記載の撮像装置。
(7)
前記浮遊拡散層の電位が初期化される場合、前記帰還トランジスタは、オン状態であり、前記増幅トランジスタにおける前記浮遊拡散層と電気的に接続される端子は、前記差動増幅回路の初期化電位に固定され、前記浮遊拡散層で得られた前記電圧信号を検出する場合、前記帰還トランジスタは、オフ状態であり、前記増幅トランジスタにおける前記端子は、電気的に浮遊される、(1)~(6)のいずれか1つに記載の撮像装置。
(1)
複数の画素を有する撮像部を備え、
前記画素は、
入射光を光電子に変換する変換素子と、
前記変換素子と電気的に接続され、前記光電子を電圧信号に変換する浮遊拡散層と、
前記浮遊拡散層と電気的に接続され、前記浮遊拡散層の電位が入力される増幅トランジスタを含み、前記浮遊拡散層の電位を増幅する差動増幅回路と、
前記増幅トランジスタと電気的に接続され、前記差動増幅回路を初期化する帰還トランジスタと、
前記浮遊拡散層と前記増幅トランジスタとの間に直列に接続されるクランプ容量と、
前記浮遊拡散層と前記クランプ容量との間に並列に接続され、前記浮遊拡散層の電位を初期化するリセットトランジスタと、
を有する、撮像装置。
(2)
前記浮遊拡散層、前記差動増幅回路、前記帰還トランジスタ、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、複数の前記画素で共有される、(1)に記載の撮像装置。
(3)
前記撮像部は、積層された複数層の基板で構成され、
少なくとも、前記変換素子、前記浮遊拡散層、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、(1)または(2)に記載の撮像装置。
(4)
前記変換素子、前記浮遊拡散層、前記増幅トランジスタを含む前記差動増幅回路の一部、前記帰還トランジスタ、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、(3)に記載の撮像装置。
(5)
前記変換素子、前記浮遊拡散層、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、(3)に記載の撮像装置。
(6)
前記変換素子、前記浮遊拡散層、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられ、
前記クランプ容量は、異なる層の基板間を接合する配線の配線間容量である、(3)に記載の撮像装置。
(7)
前記浮遊拡散層の電位が初期化される場合、前記帰還トランジスタは、オン状態であり、前記増幅トランジスタにおける前記浮遊拡散層と電気的に接続される端子は、前記差動増幅回路の初期化電位に固定され、前記浮遊拡散層で得られた前記電圧信号を検出する場合、前記帰還トランジスタは、オフ状態であり、前記増幅トランジスタにおける前記端子は、電気的に浮遊される、(1)~(6)のいずれか1つに記載の撮像装置。
100 撮像装置
102 撮像部
104 ドライバ
Cfd 浮遊拡散層
Ccl クランプ容量
D 変換素子
DA 差動増幅回路
P 画素
TrAMP 増幅トランジスタ
TrFB 帰還トランジスタ
TrRST リセットトランジスタ
102 撮像部
104 ドライバ
Cfd 浮遊拡散層
Ccl クランプ容量
D 変換素子
DA 差動増幅回路
P 画素
TrAMP 増幅トランジスタ
TrFB 帰還トランジスタ
TrRST リセットトランジスタ
Claims (7)
- 複数の画素を有する撮像部を備え、
前記画素は、
入射光を光電子に変換する変換素子と、
前記変換素子と電気的に接続され、前記光電子を電圧信号に変換する浮遊拡散層と、
前記浮遊拡散層と電気的に接続され、前記浮遊拡散層の電位が入力される増幅トランジスタを含み、前記浮遊拡散層の電位を増幅する差動増幅回路と、
前記増幅トランジスタと電気的に接続され、前記差動増幅回路を初期化する帰還トランジスタと、
前記浮遊拡散層と前記増幅トランジスタとの間に直列に接続されるクランプ容量と、
前記浮遊拡散層と前記クランプ容量との間に並列に接続され、前記浮遊拡散層の電位を初期化するリセットトランジスタと、
を有する、撮像装置。 - 前記浮遊拡散層、前記差動増幅回路、前記帰還トランジスタ、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、複数の前記画素で共有される、請求項1に記載の撮像装置。
- 前記撮像部は、積層された複数層の基板で構成され、
少なくとも、前記変換素子、前記浮遊拡散層、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、請求項1に記載の撮像装置。 - 前記変換素子、前記浮遊拡散層、前記増幅トランジスタを含む前記差動増幅回路の一部、前記帰還トランジスタ、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、請求項3に記載の撮像装置。
- 前記変換素子、前記浮遊拡散層、前記クランプ容量、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられる、請求項3に記載の撮像装置。
- 前記変換素子、前記浮遊拡散層、および前記リセットトランジスタは、同一層の基板上に設けられ、
前記クランプ容量は、異なる層の基板間を接合する配線の配線間容量である、請求項3に記載の撮像装置。 - 前記浮遊拡散層の電位が初期化される場合、前記帰還トランジスタは、オン状態であり、前記増幅トランジスタにおける前記浮遊拡散層と電気的に接続される端子は、前記差動増幅回路の初期化電位に固定され、
前記浮遊拡散層で得られた前記電圧信号を検出する場合、前記帰還トランジスタは、オフ状態であり、前記増幅トランジスタにおける前記端子は、電気的に浮遊される、請求項1に記載の撮像装置。
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