JP7124413B2 - レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、レジスト組成物及びレジスト組成物を用いるレジストパターンの製造方法等に関する。

特許文献１には、下記構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び下記構造のアンモニウム塩を含有するレジスト組成物が記載されている。

特許文献１には、下記構造単位を有する樹脂と下記式で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物も記載されている。

特許文献２には、下記構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び下記構造のアンモニウム塩を含有するレジスト組成物が記載されている。

特許文献３には、下記構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び下記構造のアンモニウム塩を含有するレジスト組成物が記載されている。

特許文献４には、下記構造単位を有する樹脂、酸発生剤及び下記構造のアンモニウム塩を含有するレジスト組成物が記載されている。

特開２０１３－１２２０４１号公報 特開２０１３－１１６８８６号公報 特開２０１３－１２１９４２号公報 特開２０１３－１２７０５１号公報

本発明は、上記のレジスト組成物から形成されたレジストパターンより、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が良好なレジストパターンを得るためのレジスト組成物を提供することを課題とする。

本発明は、以下の発明を含む。
［１］ 式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂、酸発生剤及び酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有するレジスト組成物。

［式（Ｉ）中、
Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^２は、炭素数１～６の飽和炭化水素基を表す。
Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１～６の飽和炭化水素基を表す。
Ａｒは、置換基を有していてもよい炭素数６～３６の２価の芳香族炭化水素基を表す。
Ｘ^１は、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－を有する２価の基を表す。
Ｒ^４は、置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）、又は
置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基を有する炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基（該脂環式炭化水素基及び該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）を表す。］
［２］ Ｒ^２が炭素数１～６のアルキル基であり、Ｒ^３が水素原子である［１］記載のレジスト組成物。
［３］ Ｘ^１が、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ａ^１１－ＣＯ－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表し、Ａ^１１は炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。）である［１］又は［２］記載のレジスト組成物。
［４］ Ｒ^４が、炭素数１～６のアルキル基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子を有してもよい炭素数３～１２の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）である［１］～［３］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［５］ 酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸が、式（Ｃ１）で表される塩又は式（Ｄ）で表される塩である［１］～［４］のいずれかに記載のレジスト組成物。

［式（Ｃ１）中、
Ｒ^Ａは、置換基を有していてもよい炭素数１～３６の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－に置き換わっていてもよい。
Ｚ^６＋は、有機カチオンを表す。］

［式（Ｄ）中、
Ｒ^Ｄ１及びＲ^Ｄ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１２の炭化水素基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～７のアルキルカルボニル基、炭素数２～７のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数２～７のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
ｍ’及びｎ’は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表し、ｍ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ１は同一又は相異なり、ｎ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ２は同一又は相異なる。］
［６］ 樹脂が、さらに、酸不安定基を有する構造単位を含む［１］～［５］のいずれかに記載のレジスト組成物。
［７］ 酸発生剤が、式（Ｂ１）で表される塩を含む［１］～［６］のいずれかに記載のレジスト組成物。

［式（Ｂ１）中、
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｌ^ｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）_２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］
［８］（１）［１］～［７］のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、
を含むレジストパターンの製造方法。

本発明のレジスト組成物を用いることにより、良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造することができる。

本明細書において、特筆しない限り、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート及びメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも一種」を意味する。「（メタ）アクリル酸」や「（メタ）アクリロイル」等の表記も、同様の意味を有する。「ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）－ＣＯ－」又は「ＣＨ₂＝ＣＨ－ＣＯ－」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に例示されているものとする。また、立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を包含する。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。

〔レジスト組成物〕
本発明のレジスト組成物は、式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂（Ａ）、酸発生剤（以下「酸発生剤（Ｂ）」という場合がある。）及び酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有する。
また、レジスト組成物は、溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することが好ましい。

＜樹脂（Ａ）＞
樹脂（Ａ）は、式（Ｉ）で表される化合物（以下「化合物（Ｉ）」という場合がある）に由来する構造単位を含む。

Ｒ^２及びＲ^３の炭素数１～６の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；及びこれらを組合せることにより形成される基が挙げられる。
Ｒ^２は、メチル基又はエチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
Ｒ^３は、水素原子、メチル基又はエチル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることがさらに好ましい。

Ａｒの２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基等の炭素数６～３６のアリーレン基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、好ましくは炭素数６～２４であり、より好ましくは炭素数６～１８である。
芳香族炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素が挙げられる。
炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基及び炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
炭素数３～１２の脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよく、例えば、下記に示す基が挙げられる。＊＊は芳香族炭化水素基との結合手である。

炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、シクロヘキシルフェニル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基の置換基における組み合わせた基としては、ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基、炭素数１～１２のアルコキシ基と炭素数１～１２のアルコキシ基とを組み合わせた基、炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられる。
ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等の炭素数１～１２のヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基と炭素数１～１２のアルコキシ基とを組み合わせた基としては、エトキシエトキシ基等の炭素数２～２４のアルコキシアルコキシ基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、ベンジル基等の炭素数７～２２のアラルキル基等が挙げられる。

Ｘ^１の－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－を有する２価の基としては、＊－Ｘ^１１－Ａ^１１－Ｘ^１２－、＊－Ｘ^１３－Ａ^１２－Ｘ^１４－Ａ^１３－、＊－Ｘ^１５－Ａ^１４－Ｘ^１６－Ａ^１５－Ｘ^１７－又は＊－Ｘ^１８－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）等が挙げられる。
Ａ^１１～Ａ^１５は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘ^１１～Ｘ^１８は、それぞれ独立に、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－を表す。
＊－Ｘ^１１－Ａ^１１－Ｘ^１２－としては、例えば、＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ_２－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＯ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－等が挙げられる。
＊－Ｘ^１３－Ａ^１２－Ｘ^１４－Ａ^１３－としては、例えば、＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－、＊－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ_２－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ_２－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－等が挙げられる。
＊－Ｘ^１５－Ａ^１４－Ｘ^１６－Ａ^１５－Ｘ^１７－としては、例えば、＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＯＣＯ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－等が挙げられる。
＊－Ｘ^１８－としては、例えば、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－等が挙げられる。
Ｘ^１としては、＊－Ｘ^１１－Ａ^１１－Ｘ^１２－又は＊－Ｘ^１８－が好ましく、＊－Ｘ^１１－Ａ^１１－Ｘ^１２－又は＊－ＣＯ－Ｏ－であることがより好ましく、＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ_２－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－であることがさらに好ましく、＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ_２－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－又は、＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－であることがさらにより好ましく、＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－であることが一層好ましい（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）。

Ｒ^４で表される置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基を有する炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基（該脂環式炭化水素基及び該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）としては、アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～１８であり、より好ましくは３～１２である。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは１～９であり、より好ましくは１～４である。
脂環式炭化水素基及び脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とする。

Ｒ^４で表される置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）における脂環式炭化水素基としては、置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基を有する炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基（該脂環式炭化水素基及び該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）における脂環式炭化水素基と同じ基を表す。

Ｒ^４で表される基は、１又は複数の置換基を有していてもよい。
置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基を有する炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基（該脂環式炭化水素基及び該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）は、脂環式炭化水素基部分に置換基を有していてもよく、脂肪族炭化水素基部分に置換基を有していてもよく、それらの両方に有していてもよい。
該置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基及び炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
炭素数３～１２の脂環式炭化水素基としては、下記に示す基が挙げられる。＊＊は炭化水素基との結合手である。

炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、シクロヘキシルフェニル基等が挙げられる。
Ｒ^４の置換基における組み合わせた基としては、ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基、炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられる。
ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等の炭素数１～１２のヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、ベンジル基等の炭素数７～２２のアラルキル基等が挙げられる。

脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）～（Ｙ４０）で表される基であることが好ましく、式（Ｙ１）～式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）のいずれかで表される基であることがより好ましく、式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ１８）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基であることがさらに好ましい。

Ｒ^４が有する置換基は、炭素数１～６のアルキル基、ヒドロキシ基を有する基又はハロゲン原子であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基、ヒドロキシ基又はフッ素原子であることがより好ましく、ヒドロキシ基又はフッ素原子がさらに好ましい。

Ｒ^４で表される炭素数３～２４の脂環式炭化水素基としては、好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数７～１２の多環式炭化水素基（該多環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）であり、さらにより好ましくは置換基を有していてもよい炭素数７～１２の２環式炭化水素基又は３環式炭化水素基（該多２環式炭化水素基又は３環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）である。

化合物（Ｉ）としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。

式（Ｉ－１）～式（Ｉ－１５）で表されるモノマーにおいて、式（Ｉ）のＲ^１に相当するメチル基が水素原子に置き換わったモノマーも、モノマー（Ｉ）の具体例として挙げることができる。なかでも、式（Ｉ－１）～式（Ｉ－５）、及び、式（Ｉ－７）～式（Ｉ－１１）で表されるモノマーが好ましく、式（Ｉ－１）、式（Ｉ－５）、式（Ｉ－７）、式（Ｉ－８）、式（Ｉ－１０）、式（Ｉ－１１）で表されるモノマーがより好ましく、式（Ｉ－１）、式（Ｉ－５）、式（Ｉ－７）で表されるモノマーがさらに好ましい。

＜化合物（Ｉ）の製造方法＞
化合物（Ｉ）は、式（Ｉ－ａ）で表される化合物と式（Ｉ－ｂ）で表される化合物とを、塩基触媒下、溶媒中で反応させることにより得ることができる。

（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）

塩基触媒としては、ピリジンなどが挙げられる。
溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常０℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。
式（Ｉ－ａ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｒ^３が水素原子であり、Ｘ^１が＊－ＣＯ－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ１－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ１－ｃ）で表される化合物を溶媒中で還元することにより得ることができる。

（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
還元剤としては、リチウムアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
反応温度は通常０℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ１－ｃ）で表される化合物は、式（Ｉ１－ｄ）で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ１－ｅ）で表される化合物と反応させることにより得ることができる。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常１５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ１－ｄ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

式（Ｉ１－ｅ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｒ^３が水素原子であり、Ｘ^１が＊－Ｏ－ＣＯ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ２－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ２－ｃ）で表される化合物を溶媒中で還元することにより得ることができる。

（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
還元剤としては、リチウムアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
反応温度は通常０℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ２－ｃ）で表される化合物は、式（Ｉ２－ｅ）で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ２－ｄ）で表される化合物と反応させることにより得ることができる。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常１５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ２－ｄ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

式（Ｉ２－ｅ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｒ^３が水素原子であり、Ｘ^１が＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ３－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ３－ｃ）で表される化合物を溶媒中で還元することにより得ることができる。

（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
還元剤としては、リチウムアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
反応温度は通常０℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ３－ｃ）で表される化合物は、式（Ｉ１－ｅ）で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ２－ｄ）で表される化合物と反応させることにより得ることができる。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常１５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｒ^３が水素原子であり、Ｘ^１が＊－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ４－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ４－ｃ）で表される化合物を溶媒中で還元することにより得ることができる。

（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
還元剤としては、リチウムアルミニウムハイドライド、水素化ホウ素ナトリウム等が挙げられる。
反応温度は通常０℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ４－ｃ）で表される化合物は、式（Ｉ１－ｅ）で表される化合物と式（Ｉ２－ｄ）で表される化合物とを塩基触媒下、溶媒中で反応させることにより得ることができる。

この反応における塩基としては、水酸化カリウム等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｘ^１が＊－ＣＯ－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ５－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ５－ｄ）で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ１－ｅ）で表される化合物と反応させることにより得ることができる。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常１５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ５－ｄ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｘ^１が＊－Ｏ－ＣＯ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ６－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ２－ｅ）で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ６－ｄ）で表される化合物と反応させることにより得ることができる。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常１５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ６－ｄ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｘ^１が＊－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ７－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ１－ｅ）で表される化合物とカルボニルジイミダゾールとを溶媒中で反応させた後、さらに、式（Ｉ６－ｄ）で表される化合物と反応させることにより得ることができる。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム及びアセトニトリルなどが挙げられる。
反応温度は通常１５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

式（Ｉ－ｂ）で表される化合物において、Ｘ^１が＊－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表す。）である化合物（式（Ｉ８－ｂ）で表される化合物）は、式（Ｉ１－ｅ）で表される化合物と式（Ｉ６－ｄ）で表される化合物とを塩基触媒下、溶媒中で反応させることにより得ることができる。

この反応における塩基としては、水酸化カリウム等が挙げられる。
この反応における溶媒としては、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。

〔樹脂〕
本発明の樹脂は、化合物（Ｉ）に由来する構造単位（以下「構造単位（Ｉ）」という場合がある。）を含む樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある。）である。樹脂（Ａ）は、モノマー（Ｉ）のホモポリマーであってもよいし、モノマー（Ｉ）のみからなるコポリマーであってもよいし、構造単位（Ｉ）以外の構造単位を１以上含むポリマーであってもよい。構造単位（Ｉ）以外の構造単位としては、構造単位（Ｉ）以外の酸不安定基を有する構造単位（以下「構造単位(ａ１）」という場合がある）、酸不安定基を有する構造単位以外の構造単位であってハロゲン原子を有する構造単位（以下「構造単位（ａ４）」という場合がある）、酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ｓ）」という場合がある）、非脱離炭化水素基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ５）」という場合がある）等が挙げられる。ここで、酸不安定基とは、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を形成する基を意味する。なかでも、樹脂（Ａ）は、構造単位（Ｉ）以外に、さらに酸不安定基を含有することが好ましく、構造単位（ａ１）を有することがより好ましい。
構造単位（Ｉ）の含有率は、樹脂（Ａ）における全モノマーに対して、通常５～９０モル％であり、好ましくは１０～８０モル％であり、より好ましくは１５～７０モル％である。

〈構造単位（ａ１）〉
構造単位（ａ１）は、酸不安定基を有するモノマー（以下「モノマー（ａ１）」という場合がある）から導かれる。
樹脂（Ａ）に含まれる酸不安定基は、式（１）で表される基（以下、基（１）とも記す）及び／又は式（２）で表される基（以下、基（２）とも記す）が好ましい。

［式（１）中、Ｒ^a1、Ｒ^a２及びＲ^a3は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ｒ^a1及びＲ^a2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数３～２０の脂環式炭化水素基を形成する。
ｍａ及びｎａは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｍａ及びｎａの少なくとも一方は１を表す。
＊は結合手を表す。］

［式（２）中、Ｒ^ａ１’及びＲ^ａ２’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒ^ａ３’は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒ^ａ２’及びＲ^ａ３’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに炭素数３～２０の複素環基を形成し、該炭化水素基及び該複素環基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎａ’は、０又は１を表す。
＊は結合手を表す。］

Ｒ^ａ１～Ｒ^ａ３におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
Ｒ^ａ１～Ｒ^ａ３における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等が挙げられる。Ｒ^a1～Ｒ^a3の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～１６である。

アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、ｍａは０であり、ｎａは１である。
Ｒ^a1及びＲ^a2が互いに結合して脂環式炭化水素基を形成する場合の－Ｃ（Ｒ^a1）（Ｒ^a2）（Ｒ^a3）としては、下記の基が挙げられる。脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３～１２である。＊は－Ｏ－との結合手を表す。

Ｒ^ａ１’’～Ｒ^ａ３’における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ｒ^ａ１～Ｒ^ａ３で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基（例えばシクロアルキルアルキル基）、ベンジル基等のアラルキル基、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒ^ａ２’及びＲ^ａ３’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに形成する複素環基としては、下記の基が挙げられる。＊は、結合手を表す。

Ｒ^ａ１’及びＲ^ａ２’のうち、少なくとも１つは水素原子であることが好ましい。
ｎａ’は、好ましくは０である。

基（１）としては、以下の基が挙げられる。
式（１）においてＲ^a1～Ｒ^a3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。当該基としては、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基が好ましい。
式（１）において、Ｒ^a1、Ｒ^a2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ｒ^a3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
式（１）において、Ｒ^a1及びＲ^a2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ｒ^a3がアダマンチル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
基（１）としては、具体的には以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。

基（２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。＊は結合手を表す。

モノマー（ａ１）は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーである。

酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数５～２０の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する樹脂（Ａ）をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。

基（１）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式（ａ１－０）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－０）という場合がある。）、式（ａ１－１）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－１）という場合がある。）又は式（ａ１－２）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－２）という場合がある。）が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

［式（ａ１－０）、式（ａ１－１）及び式（ａ１－２）中、
Ｌ^a01、Ｌ^ａ１及びＬ^ａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は^＊－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｋ１－ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７のいずれかの整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒ^a01、Ｒ^ａ４及びＲ^ａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^a02、Ｒ^a03及びＲ^a04は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０～３のいずれかの整数を表す。］

Ｒ^a01、Ｒ^a4及びＲ^a5は、好ましくはメチル基である。
Ｌ^a01、Ｌ^ａ１及びＬ^ａ２は、好ましくは酸素原子又は＊－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｋ０１－ＣＯ－Ｏ－であり（但し、ｋ０１は、好ましくは１～４のいずれかの整数、より好ましくは１である。）、より好ましくは酸素原子である。
Ｒ^a02、Ｒ^a03、Ｒ^a04、Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式（１）のＲ^ａ１～Ｒ^ａ３で挙げた基と同様の基が挙げられる。
Ｒ^a02、Ｒ^a03、及びＲ^a04におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
Ｒ^a02、Ｒ^a03及びＲ^a04の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは５～１２であり、より好ましくは５～１０である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、１８以下であることが好ましい。
Ｒ^a02及びＲ^a03は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒ^a04は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基又は炭素数５～１２の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
ｍ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１’は好ましくは０又は１である。

構造単位（ａ１－０）としては、例えば、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－０－１２）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－０）におけるＲ^ａ０１に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－０－１０）のいずれかで表される構造単位が好ましい。

構造単位（ａ１－１）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－１－１）～式（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－１）におけるＲ^ａ４に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式（ａ１－１－１）～式（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましい。

構造単位（ａ１－２）としては、式（ａ１－２－１）～式（ａ１－２－６）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－２）におけるＲ^ａ５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－２－２）、式（ａ１－２－５）及び式（ａ１－２－６）で表される構造単位が好ましい。

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ１－０）及び／又は構造単位（ａ１－１）及び／又は構造単位（ａ１－２）を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、
通常１０～９５モル％であり、好ましくは１５～７０モル％であり、より好ましくは１５～６５モル％であり、さらに好ましくは２０～６０モル％であり、さらにより好ましくは２０～５５モル％である。

構造単位（ａ１）において基（２）を有する構造単位としては、式（ａ１－４）で表される構造単位（以下、「構造単位（ａ１－４）」という場合がある。）が挙げられる。

［式（ａ１－４）中、
Ｒ^a32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ^a33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
ｌａは０～４のいずれかの整数を表す。ｌａが２以上である場合、複数のＲ^a33は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｒ^a34及びＲ^a35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒ^a36は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒ^a35及びＲ^a36は互いに結合してそれらが結合する－Ｃ－Ｏ－とともに炭素数２～２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。］

Ｒ^a32及びＲ^a33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Ｒ^a32及びＲ^a33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ｒ^a34、Ｒ^a35及びＲ^a36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせた基が挙げられ、アルキル基及び脂環式炭化水素基としては、Ｒ^a02、Ｒ^a03、Ｒ^a04、Ｒ^ａ６及びＲ^ａ７におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基と同様の基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基（例えばシクロアルキルアルキル基）、ベンジル基等のアラルキル基、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロヘキシル基等が挙げられる。特に、Ｒ^a36としては、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。

式（ａ１－４）において、Ｒ^a32としては、水素原子が好ましい。
Ｒ^a33としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
ｌａとしては、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒ^a34は、好ましくは、水素原子である。
Ｒ^a35は、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒ^a36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は炭素数７～１８のアラルキル基である。Ｒ^a36におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ｒ^a36における芳香族炭化水素基は、炭素数６～１０のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。

構造単位（ａ１－４）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４－８）でそれぞれ表される構造単位及び構造単位（ａ１－４）におけるＲ^ａ３２に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４－５）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位の合計に対して、５～６０モル％であることが好ましく、５～５０モル％であることがより好ましく、１０～４０モル％であることがさらに好ましい。

基（２）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式（ａ１－５）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ１－５）」という場合がある）も挙げられる。

式（ａ１－５）中、
Ｒ^a8は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｚ^a1は、単結合又は＊－（ＣＨ₂）_h3－ＣＯ－Ｌ⁵⁴－を表し、ｈ３は１～４のいずれかの整数を表し、＊は、Ｌ⁵¹との結合手を表す。
Ｌ⁵¹、Ｌ⁵²、Ｌ⁵³及びＬ⁵⁴は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
ｓ１は、１～３のいずれかの整数を表す。
ｓ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式（ａ１－５）においては、Ｒ^a8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
Ｌ⁵¹は、酸素原子が好ましい。
Ｌ⁵²及びＬ⁵³のうち、一方が－Ｏ－であり、他方が－Ｓ－であることが好ましい。
ｓ１は、１が好ましい。
ｓ１’は、０～２のいずれかの整数が好ましい。
Ｚ^a1は、単結合又は＊－ＣＨ₂－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。

構造単位（ａ１－５）としては、例えば、特開２０１０－６１１１７号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－５－１）～式（ａ１－５－４）でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式（ａ１－５－１）又は式（ａ１－５－２）で表される構造単位がより好ましい。

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～５０モル％が好ましく、３～４５モル％がより好ましく、５～４０モル％がさらに好ましく、５～３０モル％がさらにより好ましい。

構造単位（ａ１）としては、例えば、式（ａ１－０Ｘ）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－０Ｘ）という場合がある。）も挙げられる。

［式（ａ１－０Ｘ）中、
Ｒ^ｘ１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^ｘ２及びＲ^ｘ３は、互いに独立に、炭素数１～６の飽和炭化水素基を表す。
Ａｒ^ｘ１は、炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表す。］

Ｒ^ｘ２及びＲ^ｘ３の飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらの組合せることにより形成される基が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ａｒ^ｘ１の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基等の炭素数６～３６のアリール基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、好ましくは炭素数６～２４であり、より好ましくは炭素数６～１８であり、さらに好ましくは、フェニル基である。

Ａｒ^ｘ１は、好ましくは炭素数６～１８の芳香族炭化水素基であり、より好ましくはフェニル基又はナフチル基であり、さらに好ましくは、フェニル基である。
Ｒ^ｘ１、Ｒ^ｘ２及びＲ^ｘ３は、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。

構造単位（ａ１－０Ｘ）としては、以下に記載の構造単位及び構造単位（ａ１－０Ｘ）におけるＲ^ｘ１に相当するメチル基が水素原子に置き換わった化合物が挙げられる。構造単位（ａ１－０Ｘ）は、構造単位（ａ１－０Ｘ－１）～構造単位（ａ１－０Ｘ－３）であることが好ましい。

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－０Ｘ）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）における全モノマーに対して、５～６０モル％であることが好ましく、５～５０モル％であることがより好ましく、１０～４０モル％であることがさらに好ましい。
樹脂（Ａ）は、構造単位（ａ１－０Ｘ）を２種以上含有していてもよい。

また、構造単位（ａ１）としては、以下の構造単位も挙げられる。

樹脂（Ａ）が上記構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、５～６０モル％が好ましく、５～５０モル％がより好ましく、１０～４０モル％がさらに好ましい。

〈構造単位（ｓ）〉
構造単位（ｓ）を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位（ｓ）としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ２）」という場合がある）及び／又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ３）」という場合がある）を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。

〈構造単位（ａ２）〉
構造単位（ａ２）が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、電子線又はＥＵＶ（超紫外光）等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）を用いることが好ましい。また、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）が好ましく、後述する構造単位（ａ２－１）を用いることがより好ましい。構造単位（ａ２）としては、１種を単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。

構造単位（ａ２）においてフェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式（ａ２－Ａ）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－Ａ）」という場合がある）が挙げられる。

［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒ^a50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒ^a51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａ^a50は、単結合又は^＊－Ｘ^a51－（Ａ^a52－Ｘ^a52）_nｂ－を表し、＊は－Ｒ^a50が結合する炭素原子との結合手を表す。
Ａ^a52は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘ^a51及びＸ^a52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複数のＲ^a51は互いに同一であっても異なってもよい。］

Ｒ^a50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
Ｒ^a50におけるハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ｒ^a50は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ｒ^a51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
Ｒ^a51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ｒ^a51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒ^a51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ｒ^a51は、メチル基が好ましい。

^＊－Ｘ^a51－（Ａ^a52－Ｘ^a52）_nb－としては、^＊－Ｏ－、^＊－ＣＯ－Ｏ－、^＊－Ｏ－ＣＯ－、^＊－ＣＯ－Ｏ－Ａ^a52－ＣＯ－Ｏ－、^＊－Ｏ－ＣＯ－Ａ^a52－Ｏ－、^＊－Ｏ－Ａ^a52－ＣＯ－Ｏ－、^＊－ＣＯ－Ｏ－Ａ^a52－Ｏ－ＣＯ－、^＊－Ｏ－ＣＯ－Ａ^a52－Ｏ－ＣＯ－、が挙げられる。なかでも、^＊－ＣＯ－Ｏ－、^＊－ＣＯ－Ｏ－Ａ^a52－ＣＯ－Ｏ－又は^＊－Ｏ－Ａ^a52－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
Ａ^a52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。

Ａ^a50は、単結合、^＊－ＣＯ－Ｏ－又は^＊－ＣＯ－Ｏ－Ａ^a52－ＣＯ－Ｏ－であることが好ましく、単結合、^＊－ＣＯ－Ｏ－又は^＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ₂－ＣＯ－Ｏ－であることがより好ましく、単結合又は^＊－ＣＯ－Ｏ－であることがさらに好ましい。

ｍｂは０、１又は２が好ましく、０又は１がより好ましく、０が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のｏ－位又はｐ－位に結合することが好ましく、ｐ－位に結合することがより好ましい。

構造単位（ａ２－Ａ）としては、特開２０１０－２０４６３４号公報、特開２０１２－１２５７７号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。

構造単位（ａ２－Ａ）としては、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－４）で表される構造単位及び、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－４）で表される構造単位において構造単位（ａ２－Ａ）におけるＲ^ａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位（ａ２－Ａ）は、式（ａ２－２－１）で表される構造単位、式（ａ２－２－３）で表される構造単位及び式（ａ２－２－１）で表される構造単位又は式（ａ２－２－３）で表される構造単位において、構造単位（ａ２－Ａ）におけるＲ^ａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。

樹脂（Ａ）中に構造単位（ａ２－Ａ）が含まれる場合の構造単位（ａ２－Ａ）の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは５～８０モル％であり、より好ましくは１０～７０モル％であり、さらに好ましくは１５～６５モル％であり、さらにより好ましくは２０～６５モル％である。

構造単位（ａ２）においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式（ａ２－１）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－１）」という場合がある。）が挙げられる。

式（ａ２－１）中、
Ｌ^a3は、－Ｏ－又は^＊－Ｏ－（ＣＨ₂）_k2－ＣＯ－Ｏ－を表し、
ｋ２は１～７のいずれかの整数を表す。＊は－ＣＯ－との結合手を表す。
Ｒ^a14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^a15及びＲ^a16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
ｏ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。

式（ａ２－１）では、Ｌ^a3は、好ましくは、－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ₂）_f1－ＣＯ－Ｏ－であり（前記ｆ１は、１～４のいずれかの整数を表す）、より好ましくは－Ｏ－である。
Ｒ^a14は、好ましくはメチル基である。
Ｒ^a15は、好ましくは水素原子である。
Ｒ^a16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
ｏ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０又は１である。

構造単位（ａ２－１）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－６）のいずれかで表される構造単位が好ましく、式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式（ａ２－１－１）又は式（ａ２－１－３）で表される構造単位がさらに好ましい。

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ２－１）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常１～４５モル％であり、好ましくは１～４０モル％であり、より好ましくは１～３５モル％であり、さらに好ましくは２～２０モル％であり、さらにより好ましくは２～１０モル％である。

〈構造単位（ａ３）〉
構造単位（ａ３）が有するラクトン環は、β－プロピオラクトン環、γ－ブチロラクトン環、δ－バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ－ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ－ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環（例えば下式（ａ３－２）で表される構造単位）が挙げられる。

構造単位（ａ３）は、好ましくは、式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）又は式（ａ３－４）で表される構造単位である。これらの１種を単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。

［式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）及び式（ａ３－４）中、
Ｌ^ａ４、Ｌ^ａ５及びＬ^ａ６は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は^＊－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｋ３－ＣＯ－Ｏ－（ｋ３は１～７のいずれかの整数を表す。）で表される基を表す。
Ｌ^ａ７は、－Ｏ－、^＊－Ｏ－Ｌ^ａ８－Ｏ－、^＊－Ｏ－Ｌ^ａ８－ＣＯ－Ｏ－、^＊－Ｏ－Ｌ^ａ８－ＣＯ－Ｏ－Ｌ^ａ９－ＣＯ－Ｏ－又は^＊－Ｏ－Ｌ^ａ８－Ｏ－ＣＯ－Ｌ^ａ９－Ｏ－を表す。
Ｌ^ａ８及びＬ^ａ９は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊はカルボニル基との結合手を表す。
Ｒ^ａ１８、Ｒ^ａ１９及びＲ^ａ２０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^ａ２４は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^ａ２１は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒ^ａ２２、Ｒ^ａ２３及びＲ^ａ２５は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
ｐ１は０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｒ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｗ１は、０～８のいずれかの整数を表す。
ｐ１、ｑ１、ｒ１及び／又はｗ１が２以上のとき、複数のＲ^ａ２１、Ｒ^ａ２２、Ｒ^ａ２３及び／又はＲ^ａ２５は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。］

Ｒ^a21、Ｒ^a22、Ｒ^a23及びＲ^a25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基及びｔｅｒｔ－ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
Ｒ^ａ２４におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ^ａ２４におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
Ｒ^ａ２４におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。

Ｌ^ａ８及びＬ^ａ９におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。

式（ａ３－１）～式（ａ３－３）において、Ｌ^ａ４～Ｌ^ａ６は、それぞれ独立に、好ましくは－Ｏ－又は、＊－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｋ３－ＣＯ－Ｏ－において、ｋ３が１～４のいずれかの整数である基、より好ましくは－Ｏ－及び、＊－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－、さらに好ましくは酸素原子である。
Ｒ^ａ１８～Ｒ^ａ２１は、好ましくはメチル基である。
Ｒ^ａ２２及びＲ^ａ２３は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
ｐ１、ｑ１及びｒ１は、それぞれ独立に、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。

式（ａ３－４）において、Ｒ^ａ２４は、好ましくは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒ^ａ２５は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
Ｌ^ａ７は、好ましくは－Ｏ－又は^＊－Ｏ－Ｌ^ａ８－ＣＯ－Ｏ－であり、より好ましくは－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ_２Ｈ_４－ＣＯ－Ｏ－である。
ｗ１は、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
特に、式（ａ３－４）は、式（ａ３－４）’が好ましい。

（式中、Ｒ^ａ２４、Ｌ^ａ７は、上記と同じ意味を表す。）

構造単位（ａ３）としては、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマー、特開２０００－１２２２９４号公報に記載されたモノマー、特開２０１２－４１２７４号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位（ａ３）としては、式（ａ３－１－１）、式（ａ３－１－２）、式（ａ３－２－１）、式（ａ３－２－２）、式（ａ３－３－１）、式（ａ３－３－２）及び式（ａ３－４－１）～式（ａ３－４－１２）のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式（ａ３－１）～式（ａ３－４）におけるＲ^ａ１８、Ｒ^ａ１９、Ｒ^ａ２０及びＲ^a24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ３）を含む場合、その合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常５～７０モル％であり、好ましくは１０～６５モル％であり、より好ましくは１０～６０モル％である。
また、構造単位（ａ３－１）、構造単位（ａ３－２）、構造単位（ａ３－３）又は構造単位（ａ３－４）の含有率は、それぞれ、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、５～６０モル％が好ましく、５～５０モル％がより好ましく、１０～５０モル％がさらに好ましい。

〈構造単位（ａ４）〉
構造単位（ａ４）としては、以下の構造単位が挙げられる。

［式（ａ４）中、
Ｒ⁴¹は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ⁴²は、炭素数１～２４のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－又は－ＣＯに置き換わっていてもよい。］
Ｒ⁴²で表される飽和炭化水素基は、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。

鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。
単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。

組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジイル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基、－脂環式炭化水素基－アルキル基、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。

構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－０）、式（ａ４－１）、式（ａ４－２）、式（ａ４－３）及び式（ａ４－４）からなる群から選択される少なくとも１つで表される構造単位が挙げられる。

［式（ａ４－０）中、
Ｒ^5ａは、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ^4ａは、単結合又は炭素数１～４のアルカンジイル基を表す。
Ｌ^3ａは、炭素数１～８のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数３～１２のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
Ｒ^6ａは、水素原子又はフッ素原子を表す。］

Ｌ^4ａにおけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基及び２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。

Ｌ^3ａにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパン－１，１－ジイル基、ペルフルオロプロパン－１，３－ジイル基、ペルフルオロプロパン－１，２－ジイル基、ペルフルオロプロパン－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，４－ジイル基、ペルフルオロブタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－１，５－ジイル基、ペルフルオロペンタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－１，６－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－１，７－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－３，４－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－４，４－ジイル基、ペルフルオロオクタン－１，８－ジイル基、ペルフルオロオクタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロオクタン－３，３－ジイル基、ペルフルオロオクタン－４，４－ジイル基等が挙げられる。
Ｌ^3ａにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。

Ｌ^4ａは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
Ｌ^3ａは、好ましくは炭素数１～６のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルカンジイル基である。

構造単位（ａ４－０）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（ａ４－０）におけるＲ^５ａに相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

［式（ａ４－１）中、
Ｒ^a41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^a42は、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ａ^a41は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルカンジイル基又は式（ａ－ｇ１）で表される基を表す。ただし、Ａ^ａ４１及びＲ^ａ４２のうち少なくとも１つは、置換基としてハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）を有する。

〔式（ａ－ｇ１）中、
ｓは０又は１を表す。
Ａ^a42及びＡ^a44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～５の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ａ^a43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１～５の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘ^a41及びＸ^a42は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ただし、Ａ^a42、Ａ^a43、Ａ^a44、Ｘ^a41及びＸ^a42の炭素数の合計は７以下である。〕
＊は結合手であり、右側の＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒ^a42との結合手である。］

Ｒ^a42における飽和炭化水素基としては、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。

鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。

組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジイル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基、－脂環式炭化水素基－アルキル基、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。

Ｒ^a42が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子及び式（ａ－ｇ３）で表される基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。

［式（ａ－ｇ３）中、
Ｘ^a43は、酸素原子、カルボニル基、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＲ^a42との結合手を表す。）を表す。
Ａ^a45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
＊は結合手を表す。］
ただし、Ｒ^a42－Ｘ^a43－Ａ^a45において、Ｒ^a42がハロゲン原子を有しない場合は、Ａ^a45は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。

Ａ^a45における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基；
シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基；並びに
デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合手を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。

Ｒ^a42は、ハロゲン原子を有していてもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び／又は式（ａ－ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
Ｒ^a42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が１～６のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒ^a42が、式（ａ－ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式（ａ－ｇ３）で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ｒ^a42の総炭素数は、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましい。式（ａ－ｇ３）で表される基を置換基として有する場合、その数は１個が好ましい。

Ｒ^a42が式（ａ－ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、Ｒ^a42は、さらに好ましくは式（ａ－ｇ２）で表される基である。

［式（ａ－ｇ２）中、
Ａ^a46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^a44は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＡ^a46との結合手を表す。）を表す。
Ａ^a47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の脂肪族炭化水素基を表す。
ただし、Ａ^a46、Ａ^a47及びＸ^a44の炭素数の合計は１８以下であり、Ａ^a46及びＡ^a47のうち、少なくとも一方は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する。
＊はカルボニル基との結合手を表す。］

Ａ^a46の飽和炭化水素基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
Ａ^a47の脂肪族炭化水素基の炭素数は４～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、Ａ^a47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。

式（ａ－ｇ２）で表される基の好ましい構造は、以下の構造である（＊はカルボニル基との結合手である）。

Ａ^a41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
Ａ^a41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
Ａ^a41は、好ましくは炭素数１～４のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数２～４のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。

式（ａ－ｇ１）で表される基におけるＡ^ａ４２、Ａ^ａ４３及びＡ^ａ４４の表す２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環又は多環の２価の脂環式炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び２価の脂環式炭化水素基を組合せることにより形成される基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、１－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等が挙げられる。
Ａ^ａ４２、Ａ^ａ４３及びＡ^ａ４４の表す２価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
ｓは、０であることが好ましい。

式（ａ－ｇ１）で表される基において、Ｘ^a42が－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、＊及び＊＊はそれぞれ結合手を表わし、＊＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒ^a42との結合手である。

式（ａ４－１）で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式（ａ４－１）で表される構造単位におけるＲ^a41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

式（ａ４－１）で表される構造単位としては、式（ａ４－２）で表される構造単位が好ましい。

［式（ａ４－２）中、
Ｒ^f5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ⁴⁴は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｒ^f6は、炭素数１～２０のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ⁴⁴及びＲ^f6の合計炭素数の上限は２１である。］

Ｌ⁴⁴のアルカンジイル基は、Ｌ^4ａで例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｒ^f6の飽和炭化水素基は、Ｒ^a42で例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｌ^４4におけるアルカンジイル基としては、炭素数２～４のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。

式（ａ４－２）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４－１－１）～式（ａ４－１－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－２）におけるＲ^f５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－２）で表される構造単位として挙げられる。

［式（ａ４－３）中、
Ｒ^f7は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ⁵は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ａ^f13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^f12は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＡ^f13との結合手を表す。）を表す。
Ａ^f14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。
但し、Ａ^f13及びＡ^f14の少なくとも１つは、フッ素原子を有し、Ｌ⁵、Ａ^f13及びＡ^f14の合計炭素数の上限は２０である。］

Ｌ⁵におけるアルカンジイル基としては、Ｌ^4ａのアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。

Ａ^f13におけるフッ素原子を有していてもよい２価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい２価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい２価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい２価の鎖式炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基；ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい２価の脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。

Ａ^f14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ｒ^a42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。

式（ａ４－３）において、Ｌ⁵は、エチレン基が好ましい。
Ａ^f13の２価の飽和炭化水素基は、炭素数１～６の２価の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１２の２価の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数２～３の２価の鎖式炭化水素基がさらに好ましい。
Ａ^f14の飽和炭化水素基は、炭素数３～１２の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１２の脂環式炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数３～１０の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１０の脂環式炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Ａ^f14は、好ましくは炭素数３～１２の脂環式炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。

式（ａ４－３）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４－１´－１）～式（ａ４－１´－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－３）におけるＲ^f７に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－３）で表される構造単位として挙げられる。

構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－４）で表される構造単位も挙げられる。

［式（ａ４－４）中、
Ｒ^f21は、水素原子又はメチル基を表す。
Ａ^f21は、－（ＣＨ₂）_j1－、－（ＣＨ₂）_j2－Ｏ－（ＣＨ₂）_j3－又は－（ＣＨ₂）_j4－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ₂）_j5－を表す。
ｊ１～ｊ５は、それぞれ独立に、１～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ^f22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表す。］

Ｒ^f22の飽和炭化水素基は、Ｒ^a42で表される飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。Ｒ^f22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数１～１０の脂環式炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましい。

式（ａ４－４）においては、Ａ^f21としては、－（ＣＨ₂）_ｊ1－が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。

式（ａ４－４）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位（ａ４－４）におけるＲ^f21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～２０モル％が好ましく、２～１５モル％がより好ましく、３～１０モル％がさらに好ましい。

〈構造単位（ａ５）〉
構造単位（ａ５）が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位（ａ５）は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位（ａ５）としては、例えば、式（ａ５－１）で表される構造単位が挙げられる。

［式（ａ５－１）中、
Ｒ⁵¹は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ⁵²は、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
Ｌ⁵⁵は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］

Ｒ⁵²における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数１～８の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、３－メチルアダマンチル基などが挙げられる。
Ｒ⁵²は、好ましくは、無置換の炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。

Ｌ⁵⁵における２価の飽和炭化水素基としては、２価の鎖式飽和炭化水素基及び２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは２価の鎖式飽和炭化水素基である。
２価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。

Ｌ⁵⁵の表す２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が、－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、例えば、式（Ｌ１－１）～式（Ｌ１－４）で表される基が挙げられる。下記式中、＊は酸素原子との結合手を表す。

式（Ｌ１－１）中、
Ｘ^x1は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＬ^x１との結合手を表す。）。
Ｌ^x1は、炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^x2は、単結合又は炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x1及びＬ^x2の合計炭素数は、１６以下である。

式（Ｌ１－２）中、
Ｌ^x3は、炭素数１～１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^x4は、単結合又は炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x3及びＬ^x4の合計炭素数は、１７以下である。

式（Ｌ１－３）中、
Ｌ^x5は、炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^x6及びＬ^x7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１４の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x5、Ｌ^x6及びＬ^x7の合計炭素数は、１５以下である。

式（Ｌ１－４）中、
Ｌ^x8及びＬ^x9は、単結合又は炭素数１～１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｗ^x1は、炭素数３～１５の２価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ^x8、Ｌ^x9及びＷ^x1の合計炭素数は、１５以下である。

Ｌ^x1は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌ^x2は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
Ｌ^x3は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌ^x4は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌ^x5は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌ^x6は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌ^x7は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌ^x8は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｌ^x9は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｗ^x1は、好ましくは、炭素数３～１０の２価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。

式（Ｌ１－１）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。

式（Ｌ１－２）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。

式（Ｌ１－３）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。

式（Ｌ１－４）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。

Ｌ⁵⁵は、好ましくは、単結合又は式（Ｌ１－１）で表される基である。

構造単位（ａ５－１）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（ａ５－１）におけるＲ⁵¹に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～３０モル％が好ましく、２～２０モル％がより好ましく、３～１５モル％がさらに好ましい。

＜構造単位（ＩＩ）＞
樹脂（Ａ）は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位（以下、「構造単位（ＩＩ）という場合がある）を含有してもよい。構造単位（ＩＩ）としては、具体的には特開２０１６－７９２３５号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。

側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位であることが好ましい。

［式（ＩＩ－２－Ａ’）中、
Ｘ^ＩＩＩ３は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ａ^ｘ１は、炭素数１～８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
ＲＡ^－は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
Ｒ^ＩＩＩ３は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＺＡ^＋は、有機カチオンを表す。］

Ｒ^ＩＩＩ３で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
Ｒ^ＩＩＩ３で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒ^ａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ａ^ｘ１で表される炭素数１～８のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。

Ｘ^ＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の２価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。

飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わったものとしては、例えば式（Ｘ１）～式（Ｘ５３）で表される２価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わる前の炭素数はそれぞれ１７以下である。下記式において、＊はＡ^ｘ１との結合手を表す。

Ｘ³は、２価の炭素数１～１６の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁴は、２価の炭素数１～１５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁵は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁶は、２価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁷は、３価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ⁸は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。

ＺＡ⁺で表される有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、例えば有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、有機ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオンなどが挙げられ、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。
式（ＩＩ－２－Ａ’）中のＺＡ^＋は、後述の酸発生剤（Ｂ１）における有機カチオンＺ^＋と同様のものが挙げられる。

式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ）で表される構造単位であることが好ましい。

［式（ＩＩ－２－Ａ）中、Ｒ^ＩＩＩ３、Ｘ^ＩＩＩ３及びＺＡ^＋は、上記と同じ意味を表す。
Ｚは、０～６のいずれかの整数を表す。
Ｒ^ＩＩＩ２及びＲ^ＩＩＩ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ^ＩＩＩ２及びＲ^ＩＩＩ４は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Ｑ^ａ及びＱ^ｂは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。］

Ｒ^ＩＩＩ２、Ｒ^ＩＩＩ４、Ｑ^ａ及びＱ^ｂで表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基としては、後述のＱ^ｂ１で表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。

式（ＩＩ－２－Ａ）で表される構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ－１）で表される構造単位であることが好ましい。

［式（ＩＩ－２－Ａ－１）中、
Ｒ^ＩＩＩ２、Ｒ^ＩＩＩ３、Ｒ^ＩＩＩ４、Ｑ^a、Ｑ^b、ｚ及びＺＡ^＋は、上記と同じ意味を表す。
Ｒ^ＩＩＩ５は、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ^Ｉ2は、炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。］

Ｒ^ＩＩＩ５で表される炭素数１～１２の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
Ｘ^Ｉ２で表される２価の飽和炭化水素基としては、Ｘ^ＩＩＩ３で表される２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。

式（ＩＩ－２－１）で表される構造単位としては、式（ＩＩ－２－Ａ－２）で表される構造単位が好ましい。

［式（ＩＩ－２－Ａ－２）中、Ｒ^ＩＩＩ３、Ｒ^ＩＩＩ５及びＺＡ^＋は、上記と同じ意味を表す。
ｍ及びｎは、互いに独立に、１又は２を表す。］

式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び国際公開第２０１２／０５００１５号記載の構造単位が挙げられる。ＺＡ^＋は、有機カチオンを表す。

側鎖にスルホニオ基を有するカチオンと有機アニオンとを有する構造単位は、式（ＩＩ－１－１）で表される構造単位であることが好ましい。

［式（ＩＩ－１－１）中、
Ａ^ＩＩ１は、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｒ^ＩＩ１は、炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^ＩＩ２及びＲ^ＩＩ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、Ｒ^ＩＩ２及びＲ^ＩＩ３は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
Ｒ^II4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ａ^－は、有機アニオンを表す。］
Ｒ^ＩＩ１で表される炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
Ｒ^ＩＩ２及びＲ^ＩＩ３で表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
Ｒ^ＩＩ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
Ｒ^ＩＩ４で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒ^ａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ａ^ＩＩ１で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基が挙げられ、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。具体的には、Ｘ^ＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。

式（ＩＩ－１－１）中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。

Ａ^－で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Ａ^－で表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、後述する式（Ｂ１）で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。

Ａ^－で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。

スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。

カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。

式（ＩＩ－１－１）で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。

樹脂（Ａ）中に、構造単位（ＩＩ）を含有する場合の構造単位（ＩＩ）の含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、好ましくは１～２０モル％であり、より好ましくは２～１５モル％であり、さらに好ましくは３～１０モル％である。

樹脂（Ａ）は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。

樹脂（Ａ）は、好ましくは構造単位（Ｉ）と酸不安定基とからなる樹脂、さらに構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）と構造単位（ａ４）及び／又は構造単位（ａ５）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）のみからなる樹脂、あるいは、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ４）のみからなる樹脂であり、より好ましくは、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、あるいは、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ４）と構造単位（ａ５）とのみからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ４）とのみからなる樹脂、構造単位（Ｉ）と構造単位（ａ４）と構造単位（ａ１）とのみからなる樹脂である。

構造単位（ａ１）は、好ましくは構造単位（ａ１－０）、構造単位（ａ１－０Ｘ）、構造単位（ａ１－１）及び構造単位（ａ１－２）（好ましくはシクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を有する該構造単位）からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは構造単位（ａ１－０）、構造単位（ａ１－０Ｘ）、構造単位（ａ１－１）及び構造単位（ａ１－２）（好ましくはシクロヘキシル基、又はシクロペンチル基を有する該構造単位）からなる群から選ばれる少なくとも二種である。
構造単位（ｓ）は、好ましくは構造単位（ａ２）及び構造単位（ａ３）からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位（ａ２）は、好ましくは式（ａ２－１）で表される構造単位である。構造単位（ａ３）は、好ましくは式（ａ３－１）で表される構造単位、式（ａ３－２）で表される構造単位及び式（ａ３－４）で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。

樹脂（Ａ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）によって製造することができる。樹脂（Ａ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは２，０００以上（より好ましくは２，５００以上、さらに好ましくは３，０００以上）、５０，０００以下（より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは１５，０００以下）である。
本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーは、実施例に記載の分析条件により測定することができる。

＜樹脂（Ａ）以外の樹脂＞
本発明のレジスト組成物は、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含んでもよい。樹脂（Ａ）以外の樹脂とは、構造単位（Ｉ）を含まない樹脂であり、このような樹脂としては、例えば、酸不安定基を有する構造単位を有し、かつ構造単位（Ｉ）を含まない樹脂（以下「樹脂（Ａ２）」という場合がある）、構造単位（ａ４）のみからなる樹脂、及び構造単位（ａ４）と構造単位（ａ５）とからなる樹脂（以下、構造単位（ａ４）のみからなる樹脂、及び構造単位（ａ４）と構造単位（ａ５）とからなる樹脂を合わせて樹脂（Ｘ）という場合がある）等が挙げられる。

樹脂（Ｘ）において、構造単位（ａ４）の含有率は、樹脂（Ｘ）の全構造単位の合計に対して、３０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましく、４５モル％以上であることがさらに好ましい。

樹脂（Ｘ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）によって製造することができる。樹脂（Ｘ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ２）及び樹脂（Ｘ）の重量平均分子量は、それぞれ独立して、好ましくは６，０００以上（より好ましくは７，０００以上）、８０，０００以下（より好ましくは６０，０００以下）である。樹脂（Ａ２）及び樹脂（Ｘ）の重量平均分子量の測定手段は、樹脂（Ａ）の場合と同様である。
本発明のレジスト組成物が、樹脂（Ａ２）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、通常、１～２５００質量部（より好ましくは１０～１０００質量部）である。
また、レジスト組成物が樹脂（Ｘ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１～６０質量部であり、より好ましくは１～５０質量部であり、さらに好ましくは１～４０質量部であり、特に好ましくは１～３０質量部であり、特に好ましくは１～８質量部である。

レジスト組成物における樹脂（Ａ）の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、９０～９９質量％がより好ましい。また、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含む場合は、樹脂（Ａ）と樹脂（Ａ）以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、９０～９９質量％がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。

＜酸発生剤（Ｂ）＞
酸発生剤（Ｂ）は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類（例えば２－ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、Ｎ－スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン ４－スルホネート）、スルホン類（例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン）等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩（例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩）が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。

酸発生剤（Ｂ）としては、特開昭６３－２６６５３号、特開昭５５－１６４８２４号、特開昭６２－６９２６３号、特開昭６３－１４６０３８号、特開昭６３－１６３４５２号、特開昭６２－１５３８５３号、特開昭６３－１４６０２９号、米国特許第３，７７９，７７８号、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３９１４４０７号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤（Ｂ）は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

酸発生剤（Ｂ）は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式（Ｂ１）で表される塩（以下「酸発生剤（Ｂ１）」という場合がある。）である。

［式（Ｂ１）中、
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｌ^ｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）_２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］

Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２の表すペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。

Ｌ^ｂ１における２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、トリデカン－１，１３－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ペンタデカン－１，１５－ジイル基、ヘキサデカン－１，１６－ジイル基及びヘプタデカン－１，１７－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。

Ｌ^ｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、例えば、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）で表される基及びそれらの具体例である式（ｂ１－４）～式（ｂ１－１１）で表される基において、＊は－Ｙとの結合手を表す。

［式（ｂ１－１）中、
Ｌ^ｂ２は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ３は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ２とＬ^ｂ３との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－２）中、
Ｌ^ｂ４は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ５は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ４とＬ^ｂ５との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－３）中、
Ｌ^ｂ６は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ７は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ６とＬ^ｂ７との炭素数合計は、２３以下である。］

式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
２価の飽和炭化水素基としては、Ｌ^ｂ１の２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。

Ｌ^ｂ２は、好ましくは単結合である。
Ｌ^ｂ３は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ４は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基であり、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ５は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ６は、好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^ｂ７は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。

Ｌ^ｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、式（ｂ１－１）又は式（ｂ１－３）で表される基が好ましい。

式（ｂ１－１）で表される基としては、式（ｂ１－４）～式（ｂ１－８）でそれぞれ表される基が挙げられる。

［式（ｂ１－４）中、
Ｌ^ｂ８は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式（ｂ１－５）中、
Ｌ^ｂ９は、炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１０は、単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ９及びＬ^ｂ１０の合計炭素数は２０以下である。
式（ｂ１－６）中、
Ｌ^ｂ１１は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１２は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ１１及びＬ^ｂ１２の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－７）中、
Ｌ^ｂ１３は、炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１４は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１５は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ１３～Ｌ^ｂ１５の合計炭素数は１９以下である。
式（ｂ１－８）中、
Ｌ^ｂ１６は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１７は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^ｂ１８は、単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^ｂ１６～Ｌ^ｂ１８の合計炭素数は１９以下である。］

Ｌ^ｂ８は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ９は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１０は、好ましくは単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１１は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１２は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１３は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１４は、好ましくは単結合又は炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１５は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１６は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１７は、好ましくは炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌ^ｂ１８は、好ましくは単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。

式（ｂ１－３）で表される基としては、式（ｂ１－９）～式（ｂ１－１１）でそれぞれ表される基が挙げられる。

式（ｂ１－９）中、
Ｌ^b19は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^b20は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^b19及びＬ^b20の合計炭素数は２３以下である。
式（ｂ１－１０）中、
Ｌ^b21は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^b22は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^b23は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^b21、Ｌ^b22及びＬ^b23の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－１１）中、
Ｌ^b24は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^b25は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌ^b26は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌ^b24、Ｌ^b25及びＬ^b26の合計炭素数は２１以下である。

なお、式（ｂ１－９）で表される基から式（ｂ１－１１）で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。

アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

式（ｂ１－４）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－５）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－６）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－７）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－８）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－２）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－９）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－１０）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

式（ｂ１－１１）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Ｙで表される脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）～式（Ｙ１１）、式（Ｙ３６）～式（Ｙ３８）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）_２－又は－ＣＯ－で置き換わる場合、その数は１つでもよいし、２以上でもよい。そのような基としては、式（Ｙ１２）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）、式（Ｙ４０）で表される基が挙げられる。

Ｙとしては、好ましくは式（Ｙ１）～式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）のいずれかで表される基であり、より好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ１６）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基であり、さらに好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基である。
Ｙが式（Ｙ２８）～式（Ｙ３５）等のスピロ環である場合には、２つの酸素原子間のアルカンジイル基は、１以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。

Ｙで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基又は－（ＣＨ_２）_ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒ^ｂ１基（式中、Ｒ^ｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。ｊａは、０～４のいずれかの整数を表す）等が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、炭素数７～２１のアラルキル基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基又は－（ＣＨ_２）_ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒ^ｂ１基（式中、Ｒ^ｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。ｊａは、０～４のいずれかの整数を表す）等が挙げられる。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基；トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。

Ｙとしては、以下のものが挙げられる。

Ｙは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成する－ＣＨ_２－は－ＣＯ－、－Ｓ（Ｏ）_２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。Ｙは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。

式（Ｂ１）で表される塩におけるアニオンとしては、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－５５）で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン（Ｂ１－Ａ－１）」等という場合がある。〕が好ましく、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－４）、式（Ｂ１－Ａ－９）、式（Ｂ１－Ａ－１０）、式（Ｂ１－Ａ－２４）～式（Ｂ１－Ａ－３３）、式（Ｂ１－Ａ－３６）～式（Ｂ１－Ａ－４０）、式（Ｂ１－Ａ－４７）～式（Ｂ１－Ａ－５５）のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。

ここでＲ^ｉ２～Ｒ^ｉ７は、互いに独立に、例えば、炭素数１～４のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ｒ^ｉ８は、例えば、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。Ｌ^Ａ４は、単結合又は炭素数１～４のアルカンジイル基である。
Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、上記と同じ意味を表す。
式（Ｂ１）で表される塩におけるアニオンとしては、具体的には、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたアニオンが挙げられる。

好ましい式（Ｂ１）で表される塩におけるアニオンとしては、式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３４）でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。

なかでも、式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３）及び式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－３４）のいずれかで表されるアニオンが好ましい。

Ｚ^＋の有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）のいずれかで表されるカチオン（以下、式番号に応じて「カチオン（ｂ２－１）」等という場合がある。）が挙げられる。

式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）において、
Ｒ^b4～Ｒ^b6は、それぞれ独立に、炭素数１～３０の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１～１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ^b4とＲ^b5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒ^b7及びＲ^b8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に０～５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲ^b7は同一でも異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複数のＲ^b8は同一でも異なってもよい。
Ｒ^b9及びＲ^b10は、それぞれ独立に、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基又は炭素数３～３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒ^b9とＲ^b10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒ^b11は、水素原子、炭素数１～３６の鎖式炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒ^b12は、炭素数１～１２の鎖式炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表し、該鎖式炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数１～１２のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
Ｒ^b11とＲ^b12とは、互いに結合してそれらが結合する－ＣＨ－ＣＯ－を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒ^b13～Ｒ^b18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
Ｌ^b31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲ^b13は同一又は相異なり、ｐ２が２以上のとき、複数のＲ^b14は同一又は相異なり、ｑ２が２以上のとき、複数のＲ^b15は同一又は相異なり、ｒ２が２以上のとき、複数のＲ^b16は同一又は相異なり、ｓ２が２以上のとき、複数のＲ^b17は同一又は相異なり、ｔ２が２以上のとき、複数のＲ^b18は同一又は相異なる。

脂肪族炭化水素基とは、鎖式炭化水素基及び脂環式炭化水素基を表す。
鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。
特に、Ｒ^b9～Ｒ^b12の鎖式炭化水素基は、好ましくは炭素数１～１２である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。

特に、Ｒ^b9～Ｒ^b12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３～１８、より好ましくは炭素数４～１２である。

水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、２－メチルアダマンタン－２－イル基、２－エチルアダマンタン－２－イル基、２－イソプロピルアダマンタン－２－イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは２０以下である。

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－シクロへキシルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基に、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基が含まれる場合は、炭素数１～１８の鎖式炭化水素基及び炭素数３～１８の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、ｐ－メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された鎖式炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び２－エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ^b4とＲ^b5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数３～１８の環が挙げられ、好ましくは炭素数４～１８の環である。また、硫黄原子を含む環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環であり、例えば下記の環が挙げられる。

Ｒ^b9とＲ^b10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環である。例えば、チオラン－１－イウム環（テトラヒドロチオフェニウム環）、チアン－１－イウム環、１，４－オキサチアン－４－イウム環等が挙げられる。
Ｒ^b11とＲ^b12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。

カチオン（ｂ２－１）～カチオン（ｂ２－４）の中でも、好ましくは、カチオン（ｂ２－１）である。

カチオン（ｂ２－１）としては、以下のカチオンが挙げられる。

カチオン（ｂ２－２）としては、以下のカチオンが挙げられる。

カチオン（ｂ２－３）としては、以下のカチオンが挙げられる。

カチオン（ｂ２－４）としては、以下のカチオンが挙げられる。

酸発生剤（Ｂ）は、上述のスルホン酸アニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３）、式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－３４）のいずれかで表されるアニオンと、カチオン（ｂ２－１）又はカチオン（ｂ２－３）との組合せが挙げられる。

酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－４８）でそれぞれ表されるものが挙げられる。中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－３）、式（Ｂ１－５）～式（Ｂ１－７）、式（Ｂ１－１１）～式（Ｂ１－１４）、式（Ｂ１－２０）～式（Ｂ１－２６）、式（Ｂ１－２９）、式（Ｂ１－３１）～式（Ｂ１－４８）で表されるものがとりわけ好ましい。

本発明のレジスト組成物においては、酸発生剤の含有率は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上４０質量部以下、より好ましくは３質量部以上３５質量部以下である。本発明のレジスト組成物は、酸発生剤（Ｂ）の１種を単独で含有してもよく、複数種を含有してもよい。

＜クエンチャー（Ｃ）＞
クエンチャー（Ｃ）としては、酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩及び塩基性の含窒素有機化合物が挙げられる。

＜酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩＞
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数（ｐＫａ）で示される。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常－３＜ｐＫａの塩であり、好ましくは－１＜ｐＫａ＜７の塩であり、より好ましくは０＜ｐＫａ＜５の塩である。
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、特開２０１１－３９５０２号公報記載の式（Ｃ１）で表される化合物（以下、「カルボン酸塩（Ｃ１）」という場合がある。）、特開２０１５－１４７９２６号公報記載の式（Ｄ）で表される塩（以下、「弱酸分子内塩（Ｄ）」という場合がある。）、下記式で表される塩、並びに特開２０１２－２２９２０６号公報、特開２０１２－６９０８号公報、特開２０１２－７２１０９号公報、特開２０１１－３９５０２号公報及び特開２０１１－１９１７４５号公報記載の塩が挙げられる。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩として好ましくは、カルボン酸塩（Ｃ１）、弱酸分子内塩（Ｄ）である。

〈カルボン酸塩（Ｃ１）〉
カルボン酸塩（Ｃ１）は、式（Ｃ１）で表される塩である。

［式（Ｃ１）中、
Ｒ^Ａは、置換基を有していてもよい炭素数１～３６の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－に置き換わっていてもよい。
Ｚ^６＋は、有機カチオンを表す。］

Ｒ^Ａで表される炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組合せた基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは１～９であり、より好ましくは１～４である。
脂環式炭化水素基は、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～１８であり、より好ましくは３～１２である。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、ビナフチル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは６～１４であり、より好ましくは６～１０である。
Ｒ^Ａで表される炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とする。

Ｒ^Ａで表される炭化水素基は、総炭素数が１～３６であり、さらに１又は複数の置換基を有していてもよい。該置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基、炭素数６～１０の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。
炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基及び炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
炭素数３～１２の脂環式炭化水素基としては、下記に示す基が挙げられる。＊＊は炭化水素基との結合手である。

炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、シクロヘキシルフェニル基等が挙げられる。
Ｒ^３の置換基における組み合わせた基としては、ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基、炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられる。
ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等の炭素数１～１２のヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、ベンジル基等の炭素数７～２２のアラルキル基等が挙げられる。

脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）～（Ｙ４０）で表される基であることが好ましく、式（Ｙ１）～式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）のいずれかで表される基であることがより好ましく、式（Ｙ４）、式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基であることがさらに好ましい。

Ｒ^Ａにおける置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数７～１２のアラルキル基、グリシジルオキシ基又は炭素数２～４のアルキルカルボニル基等が挙げられる。なかでも、ハロゲン原子、特に、フッ素原子が好ましい。

Ｒ^Ａとしては、置換基を有していてもよい炭素数３～３６の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－に置き換わっていてもよい。）が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数７～１８の多環式の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－に置き換わっていてもよい。）がより好ましく、式（Ｒ^Ａ－１）で表される基であることがさらに好ましい。

［式（Ｒ^Ａ－１）中、
環に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１２のアリール基、炭素数７～１２のアラルキル基、グリシジルオキシ基又は炭素数２～４のアルキルカルボニル基で置換されていてもよく、環に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－で置換されていてもよい。
＊は、炭素原子との結合手を表す。］

例えば、アニオンとしては、式（Ｃ１－１）～式（Ｃ１－１８）で表されるアニオン等が挙げられる。

カルボン酸塩（Ｃ１）における有機カチオンＺ^６＋としては、酸発生剤（Ｂ）におけるＺ^＋と同様の有機カチオンが挙げられる。

カルボン酸塩（Ｃ１）としては、下記で表される塩及び特開２０１１－３９５０２号公報記載の塩が挙げられる。

〈弱酸分子内塩（Ｄ）〉
弱酸分子内塩（Ｄ）は、式（Ｄ）で表される塩である。

［式（Ｄ）中、
Ｒ^Ｄ１及びＲ^Ｄ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１２の炭化水素基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～７のアルキルカルボニル基、炭素数２～７のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数２～７のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
ｍ’及びｎ’は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表し、ｍ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ１は同一又は相異なり、ｎ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ２は同一又は相異なる。］

弱酸分子内塩（Ｄ）においては、Ｒ^Ｄ１及びＲ^Ｄ２の炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらの組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロノニル基、シクロドデシル基等のシクロアルキル基、ノルボニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、２－メチルフェニル基、３－メチルフェニル基、４－メチルフェニル基、４－エチルフェニル基、４－プロピルフェニル基、４－イソプロピルフェニル基、４－ブチルフェニル基、４－ｔ－ブチルフェニル基、４－ヘキシルフェニル基、４－シクロヘキシルフェニル基、アントリル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ビフェニル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル等のアリール基等が挙げられる。
これらを組み合わせることにより形成される基としては、アルキル－シクロアルキル基、シクロアルキル－アルキル基、アラルキル基（例えば、フェニルメチル基、１－フェニルエチル基、２－フェニルエチル基、１－フェニル－１－プロピル基、１－フェニル－２－プロピル基、２－フェニル－２－プロピル基、３－フェニル－１－プロピル基、４－フェニル－１－ブチル基、５－フェニル－１－ペンチル基、６－フェニル－１－ヘキシル基等）等が挙げられる。

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、シクロヘキサンカルボニル基等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、上記アルキルカルボニル基にオキシ基（－Ｏ－）が結合した基等が挙げられる。
アルコキシカルボニル基としては、上記アルコキシ基にカルボニル基（－ＣＯ－）が結合した基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

弱酸分子内塩（Ｄ）においては、Ｒ^Ｄ１及びＲ^Ｄ２は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数２～４のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子が好ましい。
ｍ’及びｎ’は、それぞれ独立に、０～２の整数が好ましく、０がより好ましい。ｍ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ１は同一又は相異なり、ｎ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ２は同一又は相異なる。

弱酸分子内塩（Ｄ）としては、以下の塩が挙げられる。

レジスト組成物に含有する酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩の含有率は、レジスト組成物の固形分中、通常、０．０１～５質量％であり、好ましく０．０１～３質量％である。

塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。

アミンとしては、１－ナフチルアミン、２－ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、２－，３－又は４－メチルアニリン、４－ニトロアニリン、Ｎ－メチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔２－（２－メトキシエトキシ）エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’－ジアミノ－１，２－ジフェニルエタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジエチルジフェニルメタン、２，２’－メチレンビスアニリン、イミダゾール、４－メチルイミダゾール、ピリジン、４－メチルピリジン、１，２－ジ（２－ピリジル）エタン、１，２－ジ（４－ピリジル）エタン、１，２－ジ（２－ピリジル）エテン、１，２－ジ（４－ピリジル）エテン、１，３－ジ（４－ピリジル）プロパン、１，２－ジ（４－ピリジルオキシ）エタン、ジ（２－ピリジル）ケトン、４，４’－ジピリジルスルフィド、４，４’－ジピリジルジスルフィド、２，２’－ジピリジルアミン、２，２’－ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリン等の芳香族アミンが挙げられ、より好ましくは２，６－ジイソプロピルアニリンが挙げられる。

アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、３－（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。
クエンチャー（Ｃ）の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、０．０１～５質量％程度であることが好ましい。

＜溶剤（Ｅ）＞
溶剤（Ｅ）の含有率は、レジスト組成物中、通常９０質量％以上９９．９質量％以下であり、好ましくは９２質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは９４質量％以上９９質量％以下である。溶剤（Ｅ）の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。

溶剤（Ｅ）としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類；γ－ブチロラクトン等の環状エステル類；等を挙げることができる。溶剤（Ｅ）の１種を単独で使用してもよく、２種以上を使用してもよい。

〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分（以下「その他の成分（Ｆ）」という場合がある。）を含有していてもよい。その他の成分（Ｆ）に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。

〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、本発明の樹脂（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩、並びに、必要に応じて、樹脂（Ａ２）、樹脂（Ｘ）、クエンチャー（Ｃ）、溶剤（Ｅ）及びその他の成分（Ｆ）を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、１０～４０℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤（Ｅ）に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、０．５～２４時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径０．００３～０．２μｍ程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
（１）本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含む。

レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。

塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること（いわゆるプリベーク）により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、５０～２００℃であることが好ましく、加熱時間は、１０～１８０秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、１～１．０×１０⁵Ｐａ程度であることが好ましい。

得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ₂エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源（ＹＡＧ又は半導体レーザ等）からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光（ＥＵＶ）を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。

露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理（いわゆるポストエキスポジャーベーク）を行う。加熱温度は、通常５０～２００℃程度、好ましくは７０～１５０℃程度である。

加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、５～６０℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、５～３００秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。

本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや（２－ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウムヒドロキシド（通称コリン）の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。

本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液（以下「有機系現像液」という場合がある）を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、２－ヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤；酢酸ブチル等のエステル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤；アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、９０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９５質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び２－ヘプタノンの合計含有率は、５０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。

現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ＡｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物として好適であり、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物としてより好適であり、半導体の微細加工に有用である。

実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「％」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで下記条件により求めた値である。
装置：ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ型（東ソー社製）
カラム：TSKgel Multipore H_XL-M x 3 + guardcolumn（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＲＩ検出器
カラム温度：４０℃
注入量：１００μｌ
分子量標準：標準ポリスチレン（東ソー社製）

また、化合物の構造は、質量分析（ＬＣはＡｇｉｌｅｎｔ製１１００型、ＭＡＳＳはＡｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「ＭＡＳＳ」で示す。

合成例１：式（Ｉ－１）で表される化合物の合成

式（Ｉ－１－ａ）で表される化合物９．１１部及びアセトニトリル５０部を混合し、４０℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物１０．７９部を加え、６０℃で１時間攪拌することにより、式（Ｉ－１－ｃ）で表される化合物を含む溶液を得た。

得られた式（Ｉ－１－ｃ）で表される化合物を含む溶液に、式（Ｉ－１－ｄ）で表される化合物８．６３部を混合し、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、７０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル２００部及びイオン交換水１００部を加えた後、攪拌し、分液を行った。この水洗を５回行った。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－１－ｅ）で表される化合物１１．８９部を得た。

テトラヒドロフラン６０部を５℃にした後、リチウムアルミニウムハイドライド１．５９部を加え、その後、式（Ｉ－１－ｅ）で表される化合物１１．４３部及びテトラヒドロフラン４０部の混合溶液を、５℃で１時間かけて滴下した後、２３℃で１２時間攪拌した。さらに、５０℃で２時間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合物に、１０％硫酸２４．５４部を滴下した後、クロロホルム２００部及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液１００部を加えて攪拌し、分液した。得られた有機層にイオン交換水１００部を加え、２３℃で３０分間攪拌した後、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－１－ｆ）で表される化合物９．１２部を得た。

式（Ｉ－１－ｆ）で表される化合物１．８６部、Ｎ－メチルピロリジン１．８３部、及びメチルイソブチルケトン２０部を混合し、攪拌しながら、式（Ｉ－１－ｇ）で表される化合物０．７７部を添加し、６０℃で５時間攪拌した。その後、反応混合物にイオン交換水１０部を添加し、攪拌後、分液した。この水洗操作を５回行った。得られた有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー（メルク シリカゲル６０－２００メッシュ、展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－１）で表される化合物１．１４部を得た。

ＭＡＳＳ：３７１．１［Ｍ＋Ｈ］^＋

合成例２：式（Ｉ－３）で表される化合物の合成

式（Ｉ－３－ａ）で表される化合物９．１１部及びアセトニトリル５０部を混合し、４０℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－３－ｂ）で表される化合物１０．７９部を加え、６０℃で１時間攪拌することにより、式（Ｉ－３－ｃ）で表される化合物を含む溶液を得た。

得られた式（Ｉ－３－ｃ）で表される化合物を含む溶液に、式（Ｉ－３－ｄ）で表される化合物９．３１部を加え、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、７０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル２００部及びイオン交換水１００部を加えた後、攪拌し、分液を行った。この水洗を５回行った。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－３－ｅ）で表される化合物１２．２２部を得た。

テトラヒドロフラン６０部を５℃にした後、リチウムアルミニウムハイドライド１．５９部を混合し、その後、式（Ｉ－３－ｅ）で表される化合物１１．８９部及びテトラヒドロフラン４０部の混合溶液を、５℃で１時間かけて滴下した後、２３℃で１２時間攪拌した。さらに、５０℃で２時間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合物に、１０％硫酸２４．５４部を滴下した後、クロロホルム２００部及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液１００部を加えて攪拌し、分液した。得られた有機層にイオン交換水１００部を加え、２３℃で３０分間攪拌した後、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－３－ｆ）で表される化合物１０．４９部を得た。

式（Ｉ－３－ｆ）で表される化合物１．９３部、Ｎ－メチルピロリジン１．８３部、及びメチルイソブチルケトン２０部を混合し、攪拌しながら、式（Ｉ－３－ｇ）で表される化合物０．７７部を添加し、６０℃で５時間攪拌した。その後、反応混合物にイオン交換水１０部を添加し、攪拌後、分液を行った。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー（メルク シリカゲル６０－２００メッシュ、展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－３）で表される化合物１．０１部を得た。

ＭＡＳＳ：３８３．２［Ｍ＋Ｈ］^＋

合成例３：式（Ｉ－４）で表される化合物の合成

式（Ｉ－４－ａ）で表される化合物９．１１部及びアセトニトリル５０部を混合し、４０℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－４－ｂ）で表される化合物１０．７９部を加え、６０℃で１時間攪拌することにより、式（Ｉ－４－ｃ）で表される化合物を含む溶液を得た。

得られた式（Ｉ－４－ｃ）で表される化合物を含む溶液に、式（Ｉ－４－ｄ）で表される化合物９．４２部を混合し、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、７０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル２００部及びイオン交換水１００部を加えた後、攪拌し、分液を行った。この水洗を５回行った。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－４－ｅ）で表される化合物９．１８部を得た。

テトラヒドロフラン３０部を５℃にした後、リチウムアルミニウムハイドライド０．８０部を加え、その後、式（Ｉ－４－ｅ）で表される化合物５．９８部及びテトラヒドロフラン２０部の混合溶液を、５℃で１時間かけて滴下した後、２３℃で１２時間攪拌した。さらに、５０℃で２時間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合物に、１０％硫酸１２．２７部を滴下した後、クロロホルム１００部及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液５０部を加えて攪拌し、分液した。得られた有機層にイオン交換水５０部を加え、２３℃で３０分間攪拌した後、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－４－ｆ）で表される化合物４．６６部を得た。

式（Ｉ－４－ｆ）で表される化合物１．９４部、Ｎ－メチルピロリジン１．８３部、及びメチルイソブチルケトン２０部を混合し、攪拌しながら、式（Ｉ－４－ｇ）で表される化合物０．７７部を添加し、６０℃で５時間攪拌した。その後、反応混合物にイオン交換水１０部を添加、攪拌後、分液を行った。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー（メルク シリカゲル６０－２００メッシュ、展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－４）で表される化合物０．９４部を得た。

ＭＡＳＳ：３８５．２［Ｍ＋Ｈ］^＋

合成例４：式（Ｉ－５）で表される化合物の合成

式（Ｉ－５－ａ）で表される化合物９．１１部及びアセトニトリル５０部を混合し、４０℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－５－ｂ）で表される化合物１０．７９部を加え、６０℃で１時間攪拌することにより、式（Ｉ－５－ｃ）で表される化合物を含む溶液を得た。

得られた式（Ｉ－５－ｃ）で表される化合物を含む溶液に、式（Ｉ－５－ｄ）で表される化合物１０．６５部を加え、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、７０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル２００部及びイオン交換水１００部を加えた後、攪拌し、分液を行った。水洗を５回行った。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－５－ｅ）で表される化合物１３．６７部を得た。

テトラヒドロフラン６０部を５℃にした後、リチウムアルミニウムハイドライド１．５９部を加え、その後、式（Ｉ－５－ｅ）で表される化合物１２．８０部及びテトラヒドロフラン４０部の混合溶液を、５℃で１時間かけて滴下した後、２３℃で１２時間攪拌した。さらに、５０℃で２時間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合物に、１０％硫酸２４．５４部を滴下した後、クロロホルム２００部及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液１００部を加えて攪拌し、分液した。得られた有機層にイオン交換水１００部を加え、２３℃で３０分間攪拌した後、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－５－ｆ）で表される化合物１０．８２部を得た。

式（Ｉ－５－ｆ）で表される化合物２．０８部、Ｎ－メチルピロリジン１．８３部、及びメチルイソブチルケトン２０部を混合し、攪拌しながら、式（Ｉ－５－ｇ）で表される化合物０．７７部を添加し、６０℃で５時間攪拌した。その後、反応混合物にイオン交換水１０部を添加、攪拌後、分液を行った。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー（メルク シリカゲル６０－２００メッシュ、展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－５）で表される化合物１．１９部を得た。

ＭＡＳＳ：４０７．１［Ｍ＋Ｈ］^＋

合成例５：式（Ｉ－２）で表される化合物の合成

式（Ｉ－２－ａ）で表される化合物９．１１部及びアセトニトリル５０部を混合し、４０℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－２－ｂ）で表される化合物１０．７９部を加え、６０℃で１時間攪拌することにより、式（Ｉ－２－ｃ）で表される化合物を含む溶液を得た。

得られた式（Ｉ－２－ｃ）で表される化合物を含む溶液に、式（Ｉ－２－ｄ）で表される化合物９．３１部を加え、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、７０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル２００部及びイオン交換水１００部を加えた後、攪拌し、分液を行った。この水洗を５回行った。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－２－ｅ）で表される化合物１２．１１部を得た。

テトラヒドロフラン６０部を５℃にした後、リチウムアルミニウムハイドライド１．５９部を混合し、その後、式（Ｉ－２－ｅ）で表される化合物１１．８９部及びテトラヒドロフラン４０部の混合溶液を、５℃で１時間かけて滴下した後、５℃で３時間攪拌した。得られた混合物に、１０％硫酸２４．５４部を滴下した後、クロロホルム２００部及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液１００部を加えて攪拌し、分液した。得られた有機層にイオン交換水１００部を加え、２３℃で３０分間攪拌した後、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－２－ｆ）で表される化合物４．２８部を得た。

式（Ｉ－２－ｆ）で表される化合物１．９３部、Ｎ－メチルピロリジン１．８３部、及びメチルイソブチルケトン２０部を混合し、攪拌しながら、式（Ｉ－２－ｇ）で表される化合物０．７７部を添加し、６０℃で５時間攪拌した。その後、反応混合物にイオン交換水１０部を添加し、攪拌後、分液を行った。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー（メルク シリカゲル６０－２００メッシュ、展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－２）で表される化合物１．２１部を得た。

ＭＡＳＳ：３８３．２［Ｍ＋Ｈ］^＋

合成例６：式（Ｉ－１１）で表される化合物の合成

式（Ｉ－１１－ａ）で表される化合物９．１１部及びアセトニトリル５０部を混合し、４０℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１１－ｂ）で表される化合物１０．７９部を加え、６０℃で１時間攪拌することにより、式（Ｉ－１１－ｃ）で表される化合物を含む溶液を得た。

得られた式（Ｉ－１１－ｃ）で表される化合物を含む溶液に、式（Ｉ－１１－ｄ）で表される化合物９．３１部を加え、２３℃で１時間攪拌した後、さらに、７０℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物に、酢酸エチル２００部及びイオン交換水１００部を加えた後、攪拌し、分液を行った。この水洗を５回行った。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－１１－ｅ）で表される化合物１２．１１部を得た。

テトラヒドロフラン６０部を５℃にした後、リチウムアルミニウムハイドライド３．１８部を混合し、その後、式（Ｉ－１１－ｅ）で表される化合物１１．８９部及びテトラヒドロフラン４０部の混合溶液を、５℃で１時間かけて滴下した後、２３℃で１２時間攪拌した。さらに、５０℃で２時間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合物に、１０％硫酸４９．０８部を滴下した後、クロロホルム２００部及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液２００部を加えて攪拌し、分液した。得られた有機層にイオン交換水１００部を加え、２３℃で３０分間攪拌した後、静置、分液することにより有機層を水洗した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０－２００メッシュ；メルク社製 展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－１１－ｆ）で表される化合物６．５１部を得た。

式（Ｉ－１１－ｆ）で表される化合物１．９４部、Ｎ－メチルピロリジン１．８３部、及びメチルイソブチルケトン２０部を混合し、攪拌しながら、式（Ｉ－１１－ｇ）で表される化合物０．７７部を添加し、６０℃で５時間攪拌した。その後、反応混合物にイオン交換水１０部を添加し、攪拌後、分液を行った。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮後、カラムクロマトグラフィー（メルク シリカゲル６０－２００メッシュ、展開溶媒：酢酸エチル）により分取することで、式（Ｉ－１１）で表される化合物０．５６部を得た。

ＭＡＳＳ：３８５．２［Ｍ＋Ｈ］^＋

樹脂の合成
樹脂の合成において使用した化合物（モノマー）を下記に示す。

以下、これらのモノマーを式番号に応じて「モノマー（ａ１－１－３）」等という。

合成例７〔樹脂Ａ１の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－１）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－１）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．２×１０^３である樹脂Ａ１を収率６１％で得た。この樹脂Ａ１は、以下の構造単位を有するものである。

合成例８〔樹脂Ａ２の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－３）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－３）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．１×１０^３である樹脂Ａ２を収率６６％で得た。この樹脂Ａ２は、以下の構造単位を有するものである。

合成例９〔樹脂Ａ３の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－４）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－４）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．４×１０^３である樹脂Ａ３を収率６８％で得た。この樹脂Ａ３は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１０〔樹脂Ａ４の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－５）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－５）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．０×１０^３である樹脂Ａ４を収率６０％で得た。この樹脂Ａ４は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１１〔樹脂Ａ５の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－７）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－７）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．４×１０^３である樹脂Ａ５を収率６６％で得た。この樹脂Ａ５は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１２〔樹脂Ａ６の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－８）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－８）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．６×１０^３である樹脂Ａ６を収率６３％で得た。この樹脂Ａ６は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１３〔樹脂Ａ７の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－９）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－９）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．３×１０^３である樹脂Ａ７を収率６５％で得た。この樹脂Ａ７は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１４〔樹脂Ａ８の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－１０）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－１０）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．５×１０^３である樹脂Ａ８を収率６８％で得た。この樹脂Ａ８は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１５〔樹脂Ａ９の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－２）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－２）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．８×１０^３である樹脂Ａ９を収率６５％で得た。この樹脂Ａ９は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１６〔樹脂Ａ１０の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（Ｉ－１１）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（Ｉ－１１）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．６×１０^３である樹脂Ａ１０を収率６０％で得た。この樹脂Ａ１０は、以下の構造単位を有するものである。

合成例１７〔樹脂ＡＸ１の合成〕
モノマーとして、モノマー（ａ２－２－１）、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）及びモノマー（ＩＸ－３）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ２－２－１）：モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（ＩＸ－３）〕が、３７：２５：２０：１８の割合となるように混合し、さらに、このモノマー混合物に、全モノマーの合計質量に対して、１．５質量倍のメチルイソブチルケトンを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１．２ｍｏｌ％及び３．６ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のｎ－ヘプタンに注ぎ樹脂を析出させ、ろ過・回収することにより、重量平均分子量が約６．５×１０^３である樹脂ＡＸ１を収率６０％で得た。この樹脂ＡＸ１は、以下の構造単位を有するものである。

＜レジスト組成物の調製＞
表１に示す各成分を混合して溶解することにより得られた混合物を孔径０．２μｍのフッ素樹脂製フィルターで濾過し、レジスト組成物を調製した。

＜樹脂＞
Ａ１～Ａ１０、ＡＸ１：樹脂Ａ１～樹脂Ａ１０、樹脂ＡＸ１
＜酸発生剤（Ｂ）＞
Ｂ１－４３：式（Ｂ１－４３）で表される塩（特開２０１６－４７８１５号公報の実施例に従って合成）

＜酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩＞
Ｄ１：特開２０１１－３９５０２号公報記載の方法で合成

Ｄ２：（東京化成工業（株）製）

＜塩基性化合物：クエンチャー（Ｃ）＞
Ｃ１：（東京化成工業（株）製）

＜溶剤＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ４００部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １５０部
γ－ブチロラクトン ５部

（レジスト組成物の電子線露光評価：アルカリ現像）
６インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて９０℃で６０秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が０．０４μｍとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表１の「PB」欄に示す温度で６０秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔（株）日立製作所製の「ＨＬ－８００Ｄ ５０ｋｅＶ」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表１の「PEB」欄に示す温度で６０秒間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で６０秒間のパドル現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
得られたレジストパターン（ラインアンドスペースパターン）を走査型電子顕微鏡で観察し、６０ｎｍのラインアンドスペースパターンのライン幅とスペース幅とが１：１となる露光量を実効感度とした。

ラインエッジラフネス評価（ＬＥＲ）：実効感度で製造されたレジストパターンの側壁面の凹凸の振れ幅を走査型電子顕微鏡で測定し、ラインエッジラフネスを求めた。その結果を表２に示す。

（レジスト組成物の電子線露光評価：酢酸ブチル現像）
６インチのシリコンウェハを、ダイレクトホットプレート上で、ヘキサメチルジシラザンを用いて９０℃で６０秒処理した。このシリコンウェハに、レジスト組成物を、組成物層の膜厚が０．０４μｍとなるようにスピンコートした。その後、ダイレクトホットプレート上で、表１の「PB」欄に示す温度で６０秒間プリベークして組成物層を形成した。ウェハ上に形成された組成物層に、電子線描画機〔（株）日立製作所製の「ＨＬ－８００Ｄ ５０ｋｅＶ」〕を用い、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを直接描画した。
露光後、ホットプレート上にて表１の「PEB」欄に示す温度で６０秒間ポストエキスポジャーベークを行った。次いで、このシリコンウェハ上の組成物層を、現像液として酢酸ブチル（東京化成工業（株）製）を用いて、２３℃で２０秒間ダイナミックディスペンス法によって現像を行うことにより、レジストパターンを得た。
得られたレジストパターン（ラインアンドスペースパターン）を走査型電子顕微鏡で観察し、６０ｎｍのラインアンドスペースパターンのライン幅とスペース幅とが１：１となる露光量を実効感度とした。

ラインエッジラフネス評価（ＬＥＲ）：実効感度で製造されたレジストパターンの側壁面の凹凸の振れ幅を走査型電子顕微鏡で測定し、ラインエッジラフネスを求めた。その結果を表３に示す。

本発明のレジスト組成物は、得られるレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）に優れるため、半導体の微細加工に好適であり、産業上極めて有用である。

Claims (10)

1. 式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂、酸発生剤及び酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有するレジスト組成物。
   

   

   ［式（Ｉ）中、
   Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
   Ｒ^２は、炭素数１～６の飽和炭化水素基を表す。
   Ｒ^３は、水素原子又は炭素数１～６の飽和炭化水素基を表す。
   Ａｒは、置換基を有していてもよい炭素数６～３６の２価の芳香族炭化水素基を表す。
   Ｘ^１は、＊－Ｘ^１１－Ａ^１１－Ｘ^１２－、＊－Ｘ^１３－Ａ^１２－Ｘ^１４－Ａ^１３－、＊－Ｘ^１５－Ａ^１４－Ｘ^１６－Ａ^１５－Ｘ^１７－又は＊－Ｘ^１８－を表す。
   Ａ^１１～Ａ^１５は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
   Ｘ^１１、Ｘ^１３、Ｘ^１５及びＸ^１６は、それぞれ独立に、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－を表す。
   Ｘ^１２、Ｘ^１４、Ｘ^１７及びＸ^１８は、それぞれ独立に、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を表す。
   ＊は、Ａｒとの結合手を表す。
   Ｒ^４は、置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）、又は
   置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基を有する炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基（該脂環式炭化水素基及び該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ）_２－に置き換わっていてもよい。）を表し、前記置換基は、カルボキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基及び炭素数６～１０の芳香族炭化水素基からなる群から選択される。］
2. 式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を含む樹脂、酸発生剤及び酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩を含有するレジスト組成物。
   

   

   ［式（Ｉ）中、
   Ｒ ^１ は、水素原子又はメチル基を表す。
   Ｒ ^２ は、炭素数１～６の飽和炭化水素基を表す。
   Ｒ ^３ は、水素原子又は炭素数１～６の飽和炭化水素基を表す。
   Ａｒは、置換基を有していてもよい炭素数６～３６の２価の芳香族炭化水素基を表す。
   Ｘ ^１ は、＊－Ｘ ^１１ －Ａ ^１１ －Ｘ ^１２ －、＊－Ｘ ^１３ －Ａ ^１２ －Ｘ ^１４ －Ａ ^１３ －、＊－Ｘ ^１５ －Ａ ^１４ －Ｘ ^１６ －Ａ ^１５ －Ｘ ^１７ －又は＊－Ｘ ^１８ －を表す。
   Ａ ^１１ ～Ａ ^１５ は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
   Ｘ ^１１ 、Ｘ ^１３ 、Ｘ ^１５ 及びＸ ^１６ は、それぞれ独立に、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－を表す。
   Ｘ ^１２ 、Ｘ ^１４ 、Ｘ ^１７ 及びＸ ^１８ は、それぞれ独立に、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｏ－ＣＯ－又は－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－を表す。
   ＊は、Ａｒとの結合手を表す。
   Ｒ ^４ は、置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ ₂ －のうち少なくとも１つは、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ） _２ －に置き換わっている。）、又は
   置換基を有していてもよい炭素数３～２４の脂環式炭化水素基を有する炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ ₂ －のうち少なくとも１つは、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ） _２ －に置き換わっており、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ ₂ －は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ） _２ －に置き換わっていてもよい。）を表す。］
3. Ｒ ^４ が、炭素数１～６のアルキル基又はハロゲン原子を有してもよい炭素数３～１２の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ ₂ －は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ） _２ －に置き換わっていてもよい。）である請求項１記載のレジスト組成物。
4. Ｒ ^４ が、炭素数１～６のアルキル基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子を有してもよい炭素数３～１２の脂環式炭化水素基（該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ ₂ －のうち少なくとも１つは、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－Ｓ（Ｏ） _２ －に置き換わっている。）である請求項２記載のレジスト組成物。
5. Ｒ^２が炭素数１～６のアルキル基であり、Ｒ^３が水素原子である請求項１～４のいずれかに記載のレジスト組成物。
6. Ｘ^１が、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ａ^１１－ＣＯ－Ｏ－（＊は、Ａｒとの結合手を表し、Ａ^１１は炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。）である請求項１～５のいずれかに記載のレジスト組成物。
7. 酸発生剤から発生する酸よりも酸性度の弱い酸が、式（Ｃ１）で表される塩又は式（Ｄ）で表される塩である請求項１～６のいずれかに記載のレジスト組成物。
   

   

   ［式（Ｃ１）中、
   Ｒ^Ａは、置換基を有していてもよい炭素数１～３６の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ_２－に置き換わっていてもよい。
   Ｚ^６＋は、有機カチオンを表す。］
   

   

   ［式（Ｄ）中、
   Ｒ^Ｄ１及びＲ^Ｄ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１２の炭化水素基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～７のアルキルカルボニル基、炭素数２～７のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数２～７のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
   ｍ’及びｎ’は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表し、ｍ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ１は同一又は相異なり、ｎ’が２以上の場合、複数のＲ^Ｄ２は同一又は相異なる。］
8. 樹脂が、さらに、酸不安定基を有する構造単位を含む請求項１～７のいずれかに記載のレジスト組成物。
9. 酸発生剤が、式（Ｂ１）で表される塩を含む請求項１～８のいずれかに記載のレジスト組成物。
   

   

   ［式（Ｂ１）中、
   Ｑ^ｂ１及びＱ^ｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
   Ｌ^ｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
   Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）_２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
   Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］
10. （１）請求項１～９のいずれかに記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
    （２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
    （３）組成物層に露光する工程、
    （４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
    （５）加熱後の組成物層を現像する工程、
    を含むレジストパターンの製造方法。