JP7122456B2 - Measuring equipment and surface mounters - Google Patents
Measuring equipment and surface mounters Download PDFInfo
- Publication number
- JP7122456B2 JP7122456B2 JP2021506811A JP2021506811A JP7122456B2 JP 7122456 B2 JP7122456 B2 JP 7122456B2 JP 2021506811 A JP2021506811 A JP 2021506811A JP 2021506811 A JP2021506811 A JP 2021506811A JP 7122456 B2 JP7122456 B2 JP 7122456B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- reflected light
- measurement
- height dimension
- reflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 116
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 4
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/08—Monitoring manufacture of assemblages
- H05K13/081—Integration of optical monitoring devices in assembly lines; Processes using optical monitoring devices specially adapted for controlling devices or machines in assembly lines
- H05K13/0813—Controlling of single components prior to mounting, e.g. orientation, component geometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0608—Height gauges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2513—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object with several lines being projected in more than one direction, e.g. grids, patterns
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2518—Projection by scanning of the object
- G01B11/2522—Projection by scanning of the object the position of the object changing and being recorded
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2531—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object using several gratings, projected with variable angle of incidence on the object, and one detection device
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/306—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Operations Research (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
Description
本明細書によって開示される技術は、計測装置および表面実装機に関する。 The technology disclosed by this specification relates to a measuring device and a surface mounter.
例えば、計測対象の高さを計測する高さ計測装置として、特開2001-217599号公報が知られている。この高さ計測装置は、光線照射手段によって計測対象へ投影した線状の光をCCDカメラなどの撮像手段によって撮像し、撮像した光の基準位置からのずれや光の輝度から計測対象の高さを計測する、いわゆる光切断法によって高さ計測を行うものである。 For example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2001-217599 is known as a height measuring device for measuring the height of an object to be measured. This height measuring device captures an image of the linear light projected onto the object to be measured by the beam irradiating means, using imaging means such as a CCD camera, and measures the height of the object to be measured based on the deviation of the imaged light from a reference position and the brightness of the light. The height is measured by the so-called light section method.
ところで、上記の計測装置では、計測対象の間の距離が近い場合や他の部材との距離が近い場合には、計測対象に投影した光が、計測対象とは異なる部材に向かって反射し、撮像した画像に計測対象とは異なる部材から反射した光が映り込んでしまう。すると、計測対象の光を正確に認識することができなくなったり、光の輝度を正確に認識することができなくなったりすることにより、計測対象の計測精度が低下してしまう。 By the way, in the above measuring device, when the distance between the objects to be measured is short or the distance to another member is short, the light projected onto the object to be measured is reflected toward a member different from the object to be measured, Light reflected from a member other than the object to be measured is reflected in the captured image. As a result, it becomes impossible to accurately recognize the light of the measurement target, or it becomes impossible to accurately recognize the brightness of the light, thereby deteriorating the measurement accuracy of the measurement target.
本明細書では、計測対象の計測精度が低下することを抑制する技術を開示する。 This specification discloses a technique for suppressing a decrease in measurement accuracy of a measurement target.
本明細書によって開示される技術は、光切断法に基づいて計測対象の高さ寸法を計測する計測装置であって、前記計測対象を相対的に移動させながら前記計測対象を撮像する撮像部と、前記撮像部が前記計測対象を撮像する撮像領域を基準に両側の位置に少なくとも1ずつ配置され、前記計測対象に向けて線状の光を投影する複数の光源部と、制御部と、を備え、前記計測対象から反射する反射光は、前記計測対象から前記撮像部に向かって反射する第1反射光と、前記第1反射光とは異なる第2反射光とを含み、前記制御部は、前記撮像部によって撮像されたそれぞれの前記光源部における前記反射光の受光量に基づいて前記第1反射光に応じたデータを算出し、前記計測対象の高さ寸法を計測する。 The technology disclosed in this specification is a measuring device that measures the height dimension of a measurement target based on the light section method, and includes an imaging unit that captures an image of the measurement target while relatively moving the measurement target. a plurality of light source units arranged at least one at each of positions on both sides of an imaging area for imaging the measurement object, and projecting linear light toward the measurement object; and a control unit. The reflected light reflected from the measurement object includes first reflected light reflected from the measurement object toward the imaging unit and second reflected light different from the first reflected light, and the control unit and calculating data corresponding to the first reflected light based on the amount of the reflected light received by each of the light sources captured by the imaging section, and measuring the height dimension of the measurement object.
また、本明細書によって開示される技術は、表面実装機であって、前記計測装置と、前記計測対象を保持して基板に実装する部品実装装置と、を備える。 Further, the technology disclosed by the present specification is a surface mounter including the measurement device and a component mounting device that holds the measurement target and mounts it on a board.
このような構成の計測装置によると、例えば、計測対象の反射光が隣接する他の部材によって更に反射する第2反射光(多重の反射光)を除いた反射光、すなわち、第1反射光に応じたデータを算出し、計測対象の高さ寸法を求めることができる。つまり、他の部材などによって反射した第2反射光が撮像部に入射される場合でも、計測対象の正確な高さ寸法を計測できる。これにより、計測対象の高さ計測の精度が低下することを抑制できる。 According to the measuring apparatus having such a configuration, for example, the reflected light to be measured is reflected light other than the second reflected light (multiple reflected light) that is further reflected by another adjacent member, that is, the first reflected light. It is possible to calculate the corresponding data and obtain the height dimension of the object to be measured. That is, even when the second reflected light reflected by another member or the like enters the imaging unit, the height dimension of the measurement target can be accurately measured. As a result, it is possible to prevent the accuracy of the height measurement of the object to be measured from deteriorating.
ところで、複数の光源部から計測対象に光を投影する方法として、例えば、撮像位置の一側からのみ計測対象に光を投影する方法が考えられる。しかしながら、撮像位置の一側からのみ計測対象に光を投影する場合には、計測対象の一側のみを計測することになるため、計測精度が低下してしまうことが懸念される。 By the way, as a method of projecting light from a plurality of light source units onto the measurement object, for example, a method of projecting light onto the measurement object only from one side of the imaging position is conceivable. However, when light is projected onto the measurement object from only one side of the imaging position, only one side of the measurement object is measured, so there is a concern that the measurement accuracy may be degraded.
ところが、このような構成によると、計測対象に対して撮像位置の両側から光を投影して反射光を撮像し、計測対象全体の高さを計測するから、計測精度が低下することを抑制できる。 However, according to such a configuration, light is projected onto the measurement object from both sides of the imaging position, the reflected light is imaged, and the height of the entire measurement object is measured. .
本明細書によって開示される計測装置は、以下の構成としてもよい。
前記制御部は、前記複数の光源部によって前記計測対象の同一の測定箇所に光を投影して撮像し、同一の測定箇所におけるそれぞれの前記反射光の受光量のうち最も低い受光量に基づいて前記第1反射光に応じたデータを算出する構成としてもよい。The measuring device disclosed by this specification may be configured as follows.
The control unit captures an image by projecting light onto the same measurement location of the measurement object using the plurality of light source units, and based on the lowest amount of received light among the received amounts of the reflected light at the same measurement location The data may be calculated according to the first reflected light.
このような構成によると、複数の光源部によって撮像されたそれぞれの反射光の受光量のうち最も低い受光量を求める簡便な方法によって、第1反射光に応じたデータを算出する。そして、光切断法によって、第1反射光に応じたデータを作成し、計測対象全体の高さ寸法を求めることができる。
前記制御部は、前記反射光の受光量に基づいて計測対象の高さ寸法のデータを算出し、同一の測定箇所においてそれぞれの算出した高さ寸法のデータのうち最も低い高さ寸法のデータを前記測定箇所における高さ寸法とする構成としてもよい。
このような構成によると、まず、反射光の受光量から計測対象の高さ寸法のデータを算出する。そして、同一の測定箇所においてそれぞれの算出した高さ寸法のデータのうち最も低い高さ寸法のデータを測定箇所における高さ寸法とすることによって、第1反射光に対応する高さ寸法データを得ることができる。これにより、計測対象の高さ計測を行うことができる。According to such a configuration, the data corresponding to the first reflected light is calculated by a simple method of obtaining the lowest received light amount among the received light amounts of the respective reflected lights captured by the plurality of light source units. Then, by the light section method, data corresponding to the first reflected light can be created, and the height dimension of the entire measurement object can be obtained.
The control unit calculates height dimension data of the object to be measured based on the received amount of the reflected light, and calculates the lowest height dimension data among the calculated height dimension data at the same measurement point. It is good also as a structure which makes it the height dimension in the said measurement location.
According to such a configuration, first, data on the height dimension of the object to be measured is calculated from the amount of received reflected light. Then, the height dimension data corresponding to the first reflected light is obtained by taking the data of the lowest height dimension among the height dimension data calculated at the same measurement location as the height dimension at the measurement location. be able to. Thereby, the height measurement of the measurement target can be performed.
前記制御部は、前記複数の光源部によって前記計測対象の同一の測定箇所に光を投影して撮像し、同一の測定箇所におけるそれぞれの前記反射光の受光量のうち、重複する受光量に基づいて前記第1反射光に応じたデータを算出する構成にしてもよい。 The control unit captures an image by projecting light onto the same measurement location of the measurement target by the plurality of light source units, and based on the overlapping received light amount among the received light amounts of the respective reflected light at the same measurement location may be configured to calculate data corresponding to the first reflected light.
このような構成によると、複数の光源部によって撮像されたそれぞれの反射光の受光量の重複データを求める簡便な方法によって、第1反射光に応じたデータを算出し、光切断法によって、第1反射光に応じたデータを作成する。これにより、計測対象全体の高さ寸法を求めることができる。
前記制御部は、前記反射光の受光量に基づいて計測対象の高さ寸法のデータを算出し、同一の測定箇所においてそれぞれ算出した高さ寸法のデータの論理積によって得られた高さ寸法のデータを前記測定箇所における高さ寸法とする構成としてもよい。
このような構成によると、まず、反射光の受光量から計測対象の高さ寸法のデータを算出する。そして、同一の測定箇所においてそれぞれ算出した高さ寸法のデータの論理積によって得られた高さ寸法のデータを測定箇所における高さ寸法とすることによって第1反射光に対応する高さ寸法データを得ることができる。これにより、計測対象の高さ計測を行うことができる。According to such a configuration, the data corresponding to the first reflected light is calculated by a simple method of obtaining redundant data of the amount of light received by each of the reflected lights captured by the plurality of light source units, and the light section method is used to obtain the second reflected light. 1 Create data corresponding to the reflected light. Thereby, the height dimension of the entire measurement object can be obtained.
The control unit calculates data of the height dimension of the object to be measured based on the received amount of the reflected light, and calculates the height dimension data obtained by ANDing the data of the height dimension respectively calculated at the same measurement point. The data may be a height dimension at the measurement location.
According to such a configuration, first, data on the height dimension of the object to be measured is calculated from the amount of received reflected light. Then, the height dimension data corresponding to the first reflected light is obtained by using the height dimension data obtained by logical product of the height dimension data calculated at the same measurement location as the height dimension at the measurement location. Obtainable. Thereby, the height measurement of the measurement object can be performed.
本明細書によって開示される技術によれば、計測対象の計測精度が低下することを抑制できる。 According to the technique disclosed by this specification, it is possible to suppress the deterioration of the measurement accuracy of the measurement target.
<実施形態>
本明細書に開示された技術における実施形態1について図1から図7を参照して説明する。<Embodiment>
Embodiment 1 of the technique disclosed in this specification will be described with reference to FIGS. 1 to 7. FIG.
本実施形態は、電子部品(「計測対象」の一例)Eをプリント基板B上に実装する表面実装機10を例示している。表面実装機10は、図1に示すように、平面視略矩形状の基台11と、基台11上にプリント基板Bを搬送する搬送コンベア12と、プリント基板B上に電子部品Eを実装する部品実装装置13と、部品実装装置13に電子部品Eを供給する部品供給装置14と、電子部品Eを計測する部品計測部20と、を備えて構成されている。なお、以下の説明において、図1におけるR方向を右方、L方向を左方、F方向を前方、B方向を後方とし、図2におけるU方向を上方、D方向を下方として説明する。
This embodiment exemplifies a
基台11は、図1に示すように、搬送コンベア12、部品実装装置13、部品計測部20などが配置可能とされている。
As shown in FIG. 1, the
搬送コンベア12は、図1に示すように、基台11の前後方向の略中央部に配されており、プリント基板Bを上流である右方から下流である左方に向かって搬送する。搬送コンベア12には、プリント基板Bが架設するようにセットされる。プリント基板Bは、搬送コンベア12によって上流(右方)から基台11の左右方向略中央部の部品実装位置に搬入され、電子部品Eが実装された後、下流(左方)に搬出される。
As shown in FIG. 1, the
部品供給装置14は、図1に示すように、フィーダ型であって、搬送コンベア12の上下方向両側に左右方向に2つずつ、合計4箇所に配置されている。各部品供給装置14は、搬送コンベア12側の端部から電子部品Eを供給する。
As shown in FIG. 1, the
部品実装装置13は、図1および図2に示すように、基台11上に配置された複数のフレーム16に支持されたヘッドユニット17と、ヘッドユニット17を移動させる複数の駆動装置18とを備えて構成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
複数の駆動装置18は、前後方向に延びるフレーム16や左右方向に延びるフレーム16などに取り付けられており、複数の駆動装置18が通電制御されることにより、ヘッドユニット17が基台11上を前後左右方向に移動するようになっている。
A plurality of
ヘッドユニット17には、図1および図2に示すように、電子部品Eの保持および実装を行う実装ヘッド19が左右方向に複数並んで搭載されている。各実装ヘッド19は、部品供給装置14から供給される電子部品Eを吸着して保持し、プリント基板B上に実装する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
部品計測部20は、図1に示すように、基台11の前後方向の両側にそれぞれ配置されている。それぞれの部品計測部20は、図3に示すように、実装ヘッド19の先端に吸着保持された電子部品Eを撮像する部品認識カメラ(「撮像部」の一例)22と、電子部品Eに線状の光を投影する複数の光源部24とを備えている。
As shown in FIG. 1, the
また、それぞれの部品計測部20は、後述する制御部110によって制御される。部品認識カメラ22は、実装ヘッド19に吸着保持されている電子部品Eを下方から撮像し、制御部110は、部品認識カメラ22が撮像して得た画像に基づいて、電子部品Eの形状、実装ヘッド19に対する電子部品Eの位置などを計測する。また、本実施形態では、制御部110は、電子部品Eに設けられた複数の電極E2の高さ寸法を計測し、複数の電極E2の高さ寸法に基づいて電子部品Eにおける電極E2の平坦度を計測する。部品計測部20と、制御部110とが計測装置に相当する。
なお、部品認識カメラ22に、電子部品Eに設けられた複数の電極E2の高さ寸法を計測する機能を持たせてもよい。Further, each
Note that the
部品認識カメラ22は、CCD(Charge-Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)などの複数の受光素子を有するカメラである。部品認識カメラ22は、撮像面を上に向けた姿勢で配されている。部品認識カメラ22の光軸A1は、図3に示すように、部品認識カメラ22から電子部品Eに対して上下方向に延びる配置とされている。
The
部品認識カメラ22は、図3に示すように光軸A1に沿って予め定められた撮像領域Pを持っている。実装ヘッド19に吸着保持された電子部品Eが撮像領域Pに存在することにより、部品認識カメラ22によって電子部品Eが撮像される。
The
複数の光源部24は、図3に示すように、部品認識カメラ22が電子部品Eを撮像する撮像領域Pを基準に左右方向両側の位置に少なくとも1ずつ配置されている。本実施形態は、撮像領域Pを基準に左右方向両側に1つずつ配置されており、2つの光源部24は、部品認識カメラ22の光軸A1を基準に左右対称な位置関係となっている。
As shown in FIG. 3, at least one of the plurality of
それぞれの光源部24は、部品認識カメラ22の光軸A1に対して傾斜した線状の光を撮像領域Pに投影する。本実施形態の光源部24は、部品認識カメラ22の光軸A1に対する傾斜角度θが30度から60度に設定されており、部品認識カメラ22の光軸A1に対するそれぞれの光源部24の傾斜角度は同一とされている。
つまり、本実施形態では、撮像領域Pに電子部品Eが存在すると、光源部24によって電子部品Eに光が投影され、電子部品Eから反射した反射光Rが部品認識カメラ22に入射するようになっている。Each
That is, in the present embodiment, when the electronic component E is present in the imaging area P, light is projected onto the electronic component E by the
次に、表面実装機10の電気的構成について、図4を参照して説明する。
表面実装機10は、制御部110によってその全体が制御統括されている。制御部110は、CPUなどによって構成される演算処理部111、記憶部112、駆動制御部113、画像処理部114、部品供給制御部115などを有している。Next, the electrical configuration of the
The
記憶部112は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等から構成される。記憶部112には、演算処理部111が実行する各種プログラムや各種データなどが記憶されている。具体的には、実装プログラムとしては、部品実装装置13、搬送コンベア12、部品供給装置14を制御して電子部品Eをプリント基板Bに配置する実装プログラムや、実装ヘッド19に吸着保持された電子部品Eにおける電極E2の平坦度を計測するコプラナリティ計測プログラムなどが記憶されている。
The
駆動制御部113は、演算処理部111の指令により、搬送コンベア12や駆動装置18などを駆動させる。
画像処理部114は、演算処理部111の指令により、部品計測部20における部品認識カメラ22から出力された電気信号を変換することによって画像データを生成する。
部品供給制御部115は、演算処理部111の指令により、部品供給装置14を制御する。The
The
The component
演算処理部111は、記憶部112の各種制御プログラムを実行することによって表面実装機10の各部を制御する。演算処理部111は、例えば、記憶部112の実装プログラムに基づいて、駆動制御部113を介して搬送コンベア12および部品実装装置13を駆動させる。また、部品供給制御部115を介して部品供給装置14を制御する。これにより、プリント基板Bに電子部品Eを実装する。
The
また、演算処理部111は、記憶部112に記憶されたコプラナリティ計測プログラムに従って、画像処理部114を介して部品認識カメラ22を駆動させる。演算処理部111は、部品認識カメラ22により撮像した撮像データを画像処理部114介して取り込み、撮像データに基づいて、電子部品Eにおける複数の電極E2の下端の位置から構成される面のコプラナリティ(平坦度)を判定する。
Further, the
ところで、表面実装機10においてプリント基板Bに実装される電子部品Eには、例えば、DIP(Dual inline Package)のような、パッケージ部分の下面から多数の電極が下方に突出している電子部品や、BGA(Ball Grid Allay)のような、パッケージ部分の底面から球状あるいは半球状の電極が下方に突出している電子部品がある。
By the way, the electronic component E mounted on the printed circuit board B by the
本実施形態では、図3および図6に示すように、直方体の形状を有する部品本体E1と、部品本体E1の底面から半球状に下方に突出する電極E2とを備える電子部品Eを例示している。ここで、各電極E2の最下端の高さにバラツキがあると電子部品Eをプリント基板Bに搭載したときに一部の電極E2がプリント基板Bに接触しないことによって実装不良となることが懸念される。 In this embodiment, as shown in FIGS. 3 and 6, an electronic component E including a component body E1 having a rectangular parallelepiped shape and an electrode E2 protruding downward in a hemispherical shape from the bottom surface of the component body E1 is exemplified. there is Here, if there is variation in the height of the lowest end of each electrode E2, there is concern that when the electronic component E is mounted on the printed circuit board B, some of the electrodes E2 do not come into contact with the printed circuit board B, resulting in mounting defects. be done.
そこで、制御部110は、図3に示すように、電子部品Eに光源部24の光を投影しながら電子部品Eを部品認識カメラ22に対してX方向に移動させ、この移動の間に、電子部品Eを複数回連続的に撮像する光切断法によって各電極E2の最下端の高さの平坦度、いわゆるコプラナリティを計測する。制御部110は、コプラナリティが基準値よりも悪い場合(すなわち電極E2の高さのバラツキが大きい場合)は不良部品として電子部品Eを廃棄する。
Therefore, as shown in FIG. 3, the
以下に、光切断法による電子部品Eにおける電極E2の高さ寸法の計測方法について簡単に説明する。
まず、光切断法を用いた従来の計測方法について、図8から図10を参照して説明する。A method for measuring the height dimension of the electrode E2 in the electronic component E by the light section method will be briefly described below.
First, a conventional measurement method using the light section method will be described with reference to FIGS. 8 to 10. FIG.
一般に、光切断法を用いた従来の計測方法では、図8に示すように、電子部品Eの高さ寸法を計測する場合、電子部品Eの移動方向Xと部品認識カメラ22の光軸A1に沿って予め定められた撮像領域Pに、1つの光源部24から光軸A1に対して傾斜する線状の光を投影する。
Generally, in the conventional measurement method using the light section method, as shown in FIG. Linear light inclined with respect to the optical axis A1 is projected from one
次に、撮像領域Pに光を投影した状態において、図8に示すように、電子部品EをX方向に移動させ、撮像領域Pを通過する電子部品Eを複数回連続的に撮像する。そして、各撮像画像60における光のずれ位置hに基づいて電極E2の全体の高さ寸法を計測する。
Next, in a state in which light is projected onto the imaging region P, the electronic component E is moved in the X direction as shown in FIG. Then, the overall height dimension of the electrode E2 is measured based on the light shift position h in each captured
詳細には、制御部110は、部品計測部20において、まず、電子部品Eを移動経路Cに沿って移動させつつ、撮像領域Pにおいて電子部品Eを複数回に亘って連続的に撮像し、各撮像画像60において光のずれ位置hを求める。
Specifically, the
ここで、電子部品Eが撮像領域P内に進入する前の状態では、光は撮像領域Pに投影される。撮像領域Pに投影される光Re1の位置は基準位置Sとされる。電子部品Eが撮像領域P内に進入すると、図9に示すように、光が電子部品Eに投影され、電子部品Eの高さ寸法に応じて電子部品Eに投影される光Re2が基準位置Sからずれて投影される。 Here, light is projected onto the imaging region P before the electronic component E enters the imaging region P. As shown in FIG. The position of the light Re1 projected onto the imaging area P is defined as a reference position S. As shown in FIG. When the electronic component E enters the imaging region P, as shown in FIG. 9, light is projected onto the electronic component E, and the light Re2 projected onto the electronic component E according to the height dimension of the electronic component E is positioned at the reference position. It is projected out of S.
電子部品Eに投影される光の基準位置Sからのずれ位置h(図9参照)は、電子部品Eに投影される光Re2の位置と光の輝度Lをもとに重心検出法に基づいて決定する。 The deviation position h (see FIG. 9) of the light projected onto the electronic component E from the reference position S is determined based on the position of the light Re2 projected onto the electronic component E and the brightness L of the light, based on the centroid detection method. decide.
図10は、図9に示す撮像画像60において四角で囲んだY座標における電子部品Eに投影された光のX座標における輝度Lを表している。図10において、横軸は電極E2に投影された光の基準位置Sからの距離をX座標で示しており、縦軸は、各X座標における輝度Lを示している。
FIG. 10 shows the luminance L of the light projected on the electronic component E at the Y coordinate surrounded by a square in the captured
撮像画像60におけるY座標の重心位置CPは、電子部品Eに投影される光Re2の座標と光Re2の輝度Lをもとに以下の式(1)によって求められる。式(1)においてxiは基準位置Sからの距離(X座標)であり、Lは各X座標の輝度である。
次に、制御部110は、撮像画像60における各Y座標の光の基準位置Sからのずれ位置hを決定し、各Y座標における光のずれ位置hをY方向に繋ぐことにより、光を投影した位置における電子部品Eの断面形状(断面における高さ寸法)を求める。
Next, the
そして、制御部110は、それぞれの撮像画像60において電子部品Eの断面形状を求め、それぞれの撮像画像60における電子部品Eの断面形状をX方向に繋ぐことによって、電子部品Eの3次元形状を作成する。
Then, the
以上のように、従来の計測方法では、1つの光源部24から投影された光の反射光Rを部品認識カメラ22によって撮像し、反射光Rの受光量に基づいて電子部品Eの電極E2の高さ寸法を計測する。そして、各電極E2の最下端の高さのコプラナリティを判定する。
As described above, in the conventional measurement method, the reflected light R of light projected from one
ところで、例えば、電子部品Eにおける電極E2の間の距離が近い場合には、図11に示すように、計測対象の電極E2に投影した光Liが、計測対象とは異なる隣の電極E2に向かって反射し、撮像画像60に計測対象の電極E2とは異なる電極E2から反射した光RAが部品認識カメラ22に入射してしまう。すると、図12に示すように、撮像画像60において、計測対象の電極E2において反射した光R0と、隣の電極E2において反射した光RAが撮像されてしまう。
By the way, for example, when the distance between the electrodes E2 in the electronic component E is short, as shown in FIG. The light RA reflected on the captured
したがって、従来の計測方法では、光切断法による重心位置CPの決定の際に、図13示すように、重心位置CPが本来の重心位置CP0よりも大きくなる方向にずれた位置に決定されてしまい、電極E2の高さ寸法が本来よりも高く計測されてしまう。 Therefore, in the conventional measurement method, when the center of gravity position CP is determined by the light section method, the center of gravity position CP is determined at a position shifted in the direction of being larger than the original center of gravity position CP0, as shown in FIG. , the height dimension of the electrode E2 is measured higher than it should be.
そこで、本実施形態は、部品計測部20における2つの光源部24を用いて平坦度計測処理を実行する。
以下に、本実施形態における平坦度計測処理について、図5に示すフローチャートを参照しつつ説明する。Therefore, in the present embodiment, the two
The flatness measurement process according to this embodiment will be described below with reference to the flowchart shown in FIG.
本実施形態の制御部110は、部品計測部20において撮像領域Pに存在する電子部品Eの電極E2の高さ寸法を計測する場合、まず、2つの光源部24のうちの一方の光源部(図3の図示左側の光源部24)24Lによって、図6に示すように、計測対象の電極E2に対して左側から傾斜した線状の光Li1(図6は説明のために3つの光Li1を記載しているが、光は連続して電極E2に投影される。)を投影する(S11)。そして、従来と同様の光切断法によって計測対象である電極E2の3次元形状M1を作成する(S12)。
When the
ここで、電極E2に対して左斜めから光が投影されると、投影された光Li1は電極E2において反射し、反射光Rは部品認識カメラ22に入射する。しかしながら、電極E2の左側部に投影される一部の光は、左側に向かって反射する。
Here, when light is projected obliquely to the left of the electrode E2, the projected light Li1 is reflected by the electrode E2, and the reflected light R enters the
左側に向かって反射した光は、計測対象の電極E2の左側に配置された電極E2Lによって更に反射し、計測対象の電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射した光とは異なる多重に反射した光が部品認識カメラ22に入射する。
The light reflected toward the left side is further reflected by the electrode E2L arranged on the left side of the electrode E2 to be measured, and is reflected in multiple ways different from the light reflected from the electrode E2 to be measured toward the
つまり、部品認識カメラ22に撮像される電極E2の反射光Rは、電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射する第1反射光R1と、電極E2から反射して更に他の部材から部品認識カメラ22に向かって反射する第2反射光R2を含んでいる。
That is, the reflected light R of the electrode E2 imaged by the
したがって、光切断法における重心位置CPの決定の際には、電極E2の左側端部の高さ寸法が高く計測されることになり、図7の上段に示すように、左側端部の高さ寸法が高い3次元形状M1が作成される。そして、3次元形状M1は、撮像領域PにおけるXY座標ともに記憶部112に記憶される。
Therefore, when determining the center-of-gravity position CP in the light-section method, the height dimension of the left end of the electrode E2 is measured to be high, and as shown in the upper part of FIG. A three-dimensional shape M1 with high dimensions is created. The three-dimensional shape M1 is stored in the
次に、制御部110は、2つの光源部24のうちの他方の光源部(図3の図示右側の光源部24)24Rによって、一方の光源部24Lの光Li1によって投影した電極E2の同一の測定箇所に対して右側から傾斜した線状の光Li2を投影する(S13)。したがって、本実施形態は、一方の光源部24Rと他方の光源部24Lとが電極E2に光を投影する時期はずれているもの、一方の光源部24Rと他方の光源部24Lとが、撮像領域Pの同一の場所において電極E2の同一の測定箇所に光を投影している。
なお、一方の光源部24Rと他方の光源部24Lとは、撮像領域Pにおける水平方向に離れた場所において、投影時期をずらして電極E2の同一の測定箇所に光を投影してもよい。また、一方の光源部24Rと他方の光源部24Lとが電極E2に光を投影する時期は、同時であってもよく、光を同時に投影する場合には、撮像時間を短縮できる。
そして、従来と同様の光切断法によって計測対象である電極E2の3次元形状M2を作成する(S14)。Next, the
One
Then, a three-dimensional shape M2 of the electrode E2 to be measured is created by a light section method similar to the conventional one (S14).
ここで、電極E2に対して右斜めから光が投影されると、投影された光は電極E2において反射し、反射光Rは部品認識カメラ22に入射する。しかしながら、電極E2の右側部に投影される一部の光は、右側に向かって反射する。
Here, when light is projected obliquely to the right of the electrode E2, the projected light is reflected by the electrode E2, and the reflected light R is incident on the
右側に向かって反射した光は、計測対象の電極E2の右側に配置された電極E2Rによって更に反射し、計測対象の電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射した光とは異なる多重に反射した光が部品認識カメラ22に入射する。
The light reflected toward the right side is further reflected by the electrode E2R arranged on the right side of the electrode E2 to be measured, and is reflected in multiple ways different from the light reflected from the electrode E2 to be measured toward the
つまり、他方の光源部24Rに基づく計測においても、部品認識カメラ22に撮像される電極E2の反射光Rは、電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射する第1反射光R1と、電極E2から反射して更に他の部材から部品認識カメラ22に向かって反射する第2反射光R2を含んでいる。
That is, even in the measurement based on the other
したがって、光切断法における重心位置CPの決定の際には、電極E2の右側端部の高さ寸法が高く計測されることになり、図7の中段に示すように、右側端部の高さ寸法が高い3次元形状M2が作成される。そして、3次元形状M2は、撮像領域PにおけるXY座標ともに記憶部112に記憶される。
Therefore, when determining the center-of-gravity position CP in the light-section method, the height dimension of the right end of the electrode E2 is measured to be high, and as shown in the middle of FIG. A three-dimensional shape M2 with high dimensions is created. The three-dimensional shape M2 is stored in the
次に、制御部110は、一方の光源部24Lの投影によって得られた3次元形状M1と他方の光源部24Rによって得られた3次元形状M2との同一の測定箇所(XY座標)における高さ寸法データを比較する(S15)。
3次元形状M1と3次元形状M2との同一の測定箇所(XY座標)における高さ寸法データの比較の結果、高さが低い高さ寸法データを各測定箇所(XY座標)の高さとして、図7の下段に示すような新たな3次元形状M3を作成する(S16)。
具体的には、図7のX1よりも左側、X3よりも右の座標では、3次元形状M2の高さ寸法データ(3次元形状M1よりも低い高さ寸法データ)M2Aが新たな3次元形状の高さ寸法データとして選択される。図7のX2よりも右側、X4よりも左の座標では、3次元形状M1の高さ寸法データ(3次元形状M2よりも低い高さ寸法データ)M1Aが新たな3次元形状の高さ寸法データとして選択される。Next, the
As a result of comparing the height dimension data at the same measurement points (XY coordinates) of the three-dimensional shape M1 and the three-dimensional shape M2, the height dimension data with the lowest height is used as the height of each measurement point (XY coordinates), A new three-dimensional shape M3 as shown in the lower part of FIG. 7 is created (S16).
Specifically, at the coordinates on the left side of X1 and the right side of X3 in FIG. is selected as the height dimension data of At coordinates on the right side of X2 and the left side of X4 in FIG. is selected as
言い換えると、同一の測定箇所(XY座標)におけるそれぞれの反射光Rのうち最も低い受光量に基づいて電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射する第1反射光R1を算出し、新たな3次元形状M3を作成する。
In other words, the first reflected light R1 reflected from the electrode E2 toward the
つまり、新たに作成された3次元形状M3は、計測対象の電極E2とは異なる箇所から部品認識カメラ22に入射される光が除かれた状態となり、計測対象の電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射した第1反射光R1のみをもとに作成されることになる。これにより、電子部品Eにおける各電極E2の正確な高さ寸法を求めることができる。
In other words, the newly created three-dimensional shape M3 is in a state where the light incident on the
すなわち、隣接する電極E2や他の部材などによって反射した第2反射光R2が部品認識カメラ22に入射される場合でも、計測対象の電極E2の正確な高さ寸法を計測できる。これにより、計測対象である電極E2の高さ計測の精度が低下することを抑制できる。
そして、電子部品Eにおける各電極E2の高さ寸法を計測し(S17)、電子部品Eにおけるコプラナリティを判定する(S18)。That is, even when the second reflected light R2 reflected by the adjacent electrode E2 or another member enters the
Then, the height dimension of each electrode E2 in the electronic component E is measured (S17), and the coplanarity in the electronic component E is determined (S18).
つまり、電子部品Eにおける各電極E2の高さ寸法の計測精度の低下が抑制されたことにより、電子部品Eにおけるコプラナリティの計測精度が低下することを抑制できるようになっている。 That is, since the deterioration of the measurement accuracy of the height dimension of each electrode E2 in the electronic component E is suppressed, the deterioration of the coplanarity measurement accuracy in the electronic component E can be suppressed.
以上のように、本実施形態の部品計測部(計測装置)20は、光切断法に基づいて計測対象の高さ寸法を計測するものであって、電子部品Eの電極E2(計測対象)を相対的に移動させながら計測対象の電極E2を撮像する部品認識カメラ(撮像部)22と、部品認識カメラ22が電極E2を撮像する撮像領域Pを基準に両側の位置に少なくとも1ずつ配置され、計測対象の電極E2に向けて線状の光を投影する複数の光源部24と、制御部110と、を備えている。
As described above, the component measuring unit (measuring device) 20 of the present embodiment measures the height dimension of the object to be measured based on the light section method. At least one component recognition camera (imaging unit) 22 that captures an image of the electrode E2 to be measured while being relatively moved, and at least one
そして、電極E2から反射する反射光Rは、電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射する第1反射光R1と、第1反射光R1とは異なる第2反射光R2とを含んでいる。制御部110は、部品認識カメラ22によって撮像されたそれぞれの光源部24における反射光Rの受光量に基づいて、図7の下段に示すように、第1反射光R1に応じた3次元形状(データ)M3を算出し、計測対象である電極E2の高さ寸法を計測する。
The reflected light R reflected from the electrode E2 includes a first reflected light R1 reflected from the electrode E2 toward the
したがって、本実施形態によると、計測対象の電極E2から反射して更に他の部材によって反射する第2反射光R2を除いた反射光、すなわち、電極E2から部品認識カメラ22に向かって反射する第1反射光R1に応じたデータを算出して計測対象の高さ寸法を求めることができる。つまり、他の部材などによって第2反射光R2が部品認識カメラ22に入射される場合でも、計測対象である電極E2の正確な高さ寸法を計測できる。これにより、計測対象である電極E2の高さ計測の精度、ひいては電子部品Eにおけるコプラナリティの計測精度が低下することを抑制できる。
Therefore, according to the present embodiment, reflected light excluding the second reflected light R2 reflected from the electrode E2 to be measured and further reflected by another member, that is, the second reflected light reflected from the electrode E2 toward the
ところで、複数の光源部から計測対象に光を投影する方法として、例えば、撮像位置の一側からのみ計測対象に光を投影する方法が考えられる。
しかしながら、撮像領域Pの一側からのみ計測対象に光を投影する場合、計測対象の一側のみを計測することになるため、計測精度が低下してしまうことが懸念される。By the way, as a method of projecting light from a plurality of light source units onto the measurement object, for example, a method of projecting light onto the measurement object only from one side of the imaging position is conceivable.
However, when light is projected onto the measurement target from only one side of the imaging region P, only one side of the measurement target is measured, and there is a concern that the measurement accuracy may deteriorate.
ところが、本実施形態によると、電極E2に対して撮像領域Pの両側から光を投影して反射光Rを撮像し、電極E2の高さを計測するから、計測精度が低下することを抑制できる。 However, according to the present embodiment, light is projected onto the electrode E2 from both sides of the imaging region P, the reflected light R is imaged, and the height of the electrode E2 is measured. .
また、本実施形態によると、制御部110が、図6に示すように、複数の光源部24によって電極E2の同一箇所に光を投影して撮像し、同一座標におけるそれぞれの反射光Rのうち最も低い受光量に基づいて、図7の下段に示す第1反射光R1に応じた3次元形状(データ)を算出する。
具体的には、反射光Rの受光量に基づいて計測対象の高さ寸法のデータ(3次元形状M1,M2)を算出し、同一の測定箇所においてそれぞれの算出した高さ寸法のデータのうち最も低い高さ寸法のデータを測定箇所における高さ寸法とする。
つまり、本実施形態によると、計測対象の電極E2とは異なる箇所から部品認識カメラ22に入射されて受光量が高くなった反射光Rを除いて、第1反射光R1のみを算出するといった簡便な方法により、3次元形状M3を作成して電極E2の高さ寸法を計測することができる。Further, according to the present embodiment, as shown in FIG. 6, the
Specifically, height data (three-dimensional shapes M1 and M2) of the object to be measured is calculated based on the amount of light received by the reflected light R, and at the same measurement point, among the calculated height data, Let the data of the lowest height dimension be the height dimension at the measurement point.
That is, according to the present embodiment, it is simple to calculate only the first reflected light R1, excluding the reflected light R that is incident on the
<実施形態2>
次に、実施形態2について、図14のフローチャートを参照して説明する。
実施形態2の平坦度計測処理は、実施形態1のS16を変更したものであって、実施形態1と共通する構成、作用、および効果については重複するため、その説明を省略する。また、実施形態1と同じ構成については同一の符号を用いるものとする。<Embodiment 2>
Next, Embodiment 2 will be described with reference to the flowchart of FIG.
The flatness measurement process of the second embodiment is a modification of S16 of the first embodiment, and since the configurations, actions, and effects common to those of the first embodiment overlap, the description thereof will be omitted. Moreover, the same code|symbol shall be used about the same structure as Embodiment 1. FIG.
実施形態2の平坦度計測処理は、制御部110が、図14のフローチャートに示すように、S12およびS14においてそれぞれの3次元形状が作成できたところで、S15において同一の測定箇所(同一のXY座標)における3次元形状の高さ寸法を比較する。そして、2つの3次元形状において重複する高さ寸法データ(重複する受光量に基づくデータ)を各測定箇所の高さ寸法として決定し、新たな3次元形状(データ)を作成する。
In the flatness measurement process of the second embodiment, as shown in the flow chart of FIG. 14, the
言い換えると、同一の測定箇所(同一のXY座標)におけるそれぞれの反射光Rの高さ寸法のうち、重複する受光量に基づいて算出された高さ寸法データ、すなわち、同一の測定箇所におけるそれぞれの反射光Rの高さ寸法の論理積を、第1反射光R1の高さ寸法として算出し、電極E2の高さ寸法として決定(S26)する。これにより、第1反射光R1における3次元形状(データ)を作成し、電極E2の高さ寸法を計測することができる。
具体的には、図7を参考に説明すると、X1よりも左側、X3よりも右の座標では、3次元形状M2の高さ寸法データM2Aが3次元形状M1の高さ寸法データ(図7の3次元形状M1の一部)と重複し、重複しているデータである高さ寸法データM2Aが新たな3次元形状の高さ寸法データとして選択される。X2よりも右側、X4よりも左の座標では、3次元形状M1の高さ寸法データM1Aが3次元形状M2の高さ寸法データ(図7の3次元形状M2の一部)と重複し、重複しているデータである高さ寸法データM1Aが新たな3次元形状の高さ寸法データとして選択される。In other words, among the height dimensions of the reflected light beams R at the same measurement point (same XY coordinates), the height dimension data calculated based on the overlapping amount of received light, that is, the height dimension data at the same measurement point The logical product of the height dimension of the reflected light R is calculated as the height dimension of the first reflected light R1, and determined as the height dimension of the electrode E2 (S26). Thereby, the three-dimensional shape (data) of the first reflected light R1 can be created, and the height dimension of the electrode E2 can be measured.
Specifically, referring to FIG. 7, at coordinates on the left side of X1 and on the right side of X3, the height dimension data M2A of the three-dimensional shape M2 is the height dimension data of the three-dimensional shape M1 (see FIG. 7). A part of the three-dimensional shape M1), and the height dimension data M2A, which is the overlapping data, is selected as the height dimension data of the new three-dimensional shape. At the coordinates to the right of X2 and to the left of X4, the height dimension data M1A of the three-dimensional shape M1 overlaps the height dimension data of the three-dimensional shape M2 (part of the three-dimensional shape M2 in FIG. 7), and overlaps. The height dimension data M1A, which is the data having the height dimension data, is selected as the height dimension data of the new three-dimensional shape.
したがって、本実施形態において新たに作成された3次元形状は、実施形態1と同様に、計測対象の電極E2とは異なる箇所から部品認識カメラ22に入射される光が除かれ、計測対象の電極E2から直接反射した光のみをもとに作成されることになる。これにより、電子部品Eにおける各電極E2の高さ寸法を求めることができ、計測対象の高さ計測の精度が低下することを抑制できる。
Therefore, in the three-dimensional shape newly created in this embodiment, as in the first embodiment, the light incident on the
そして、実施形態1と同様に、電子部品Eにおける各電極E2の高さ寸法を計測し(S17)、電子部品Eにおけるコプラナリティを判定する(S18)。
つまり、電子部品Eにおける各電極E2の高さ寸法の計測精度の低下が抑制されたことにより、電子部品Eにおけるコプラナリティの計測精度が低下することを抑制できるようになっている。Then, similarly to the first embodiment, the height dimension of each electrode E2 in the electronic component E is measured (S17), and the coplanarity in the electronic component E is determined (S18).
That is, since the deterioration of the measurement accuracy of the height dimension of each electrode E2 in the electronic component E is suppressed, the deterioration of the coplanarity measurement accuracy in the electronic component E can be suppressed.
<他の実施形態>
本明細書で開示される技術は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような種々の態様も含まれる。
(1)上記実施形態では、部品計測部20において半球形状の電極E2の計測を一例として示した。しかしながら、これに限らず、DIP(Dual inline Package)のような、パッケージ部分から多数の電極が下方に突出している電子部品や、QFP(Quad Flat Package)のような、パッケージ部分から多数の電極がパッケージ部分の側方に延びた後下方に曲げられた電子部品の計測に適用してもよい。<Other embodiments>
The technology disclosed in this specification is not limited to the embodiments described by the above description and drawings, and includes various aspects such as the following, for example.
(1) In the above embodiment, measurement of the hemispherical electrode E2 in the
(2)上記実施形態では、部品計測部20を備えた表面実装機10を一例として示した。しかしながら、これに限らず、検査装置などに本明細書で開示した部品計測部を適用してもよい。
(3)上記実施形態では、光源部24によって電極E2に投影した光のずれ位置を重心検出法によって決定するに構成した。しかしながら、これに限らず、曲線近似法を用いて光のずれ位置を決定するに構成してもよい。(2) In the above embodiment, the
(3) In the above embodiment, the shift position of the light projected onto the electrode E2 by the
(4)上記実施形態では、部品認識カメラ22の撮像領域Pの両側に光源部24をそれぞれ1つずつ配置する構成とした。しかしながら、これに限らず、部品認識カメラの撮像領域の両側に光源部をそれぞれ複数ずつ配置してもよい。
(5)上記実施形態では、2つの光源部24における光が部品認識カメラ22の光軸A1に対して同一角度で投影される構成とした。しかしながら、これに限らず、光源部における光を異なる角度によって投影し、角度の差を補正する構成にしてもよい。(4) In the above embodiment, one
(5) In the above embodiment, the light from the two
10:表面実装機
13:部品実装装置
20:部品計測部(「計測装置」の一例)
22:部品認識カメラ(「撮像部」の一例)
24:光源部
110:制御部
B:プリント基板(「基板」の一例)
E:電子部品(「計測対象」の一例)
E2:電極(「計測対象」の一例)
M3:3次元形状(「データ」の一例)
P:撮像領域
R:反射光
R1:第1反射光
R2:第2反射光10: Surface mounter 13: Component mounting device 20: Component measuring unit (an example of "measuring device")
22: Component recognition camera (an example of an “imaging unit”)
24: Light source unit 110: Control unit B: Printed circuit board (an example of a “board”)
E: Electronic parts (an example of "measurement target")
E2: Electrode (an example of "measurement target")
M3: 3D shape (an example of "data")
P: imaging region R: reflected light R1: first reflected light R2: second reflected light
Claims (5)
前記計測対象を相対的に移動させながら前記計測対象を撮像する撮像部と、
前記撮像部が前記計測対象を撮像する撮像領域を基準に両側の位置に少なくとも1ずつ配置され、前記計測対象に向けて線状の光を投影する複数の光源部と、
制御部と、を備え、
前記計測対象から反射する反射光は、前記計測対象から前記撮像部に向かって反射する第1反射光と、前記第1反射光とは異なる第2反射光とを含み、
前記制御部は、前記撮像部によって撮像されたそれぞれの前記光源部における前記反射光の受光量に基づいて前記第1反射光に応じたデータを算出し、前記計測対象の高さ寸法を計測し、
前記制御部は、前記複数の光源部によって前記計測対象の同一の測定箇所に光を投影して撮像し、同一の測定箇所におけるそれぞれの前記反射光の受光量のうち最も低い受光量に基づいて前記第1反射光に応じたデータを算出する、計測装置。 A measuring device for measuring the height dimension of an object to be measured based on the light section method,
an imaging unit that captures an image of the measurement target while relatively moving the measurement target;
a plurality of light source units, each of which has at least one imaging unit arranged at each of positions on both sides of an imaging region for imaging the measurement object, and projects linear light toward the measurement object;
a control unit;
The reflected light reflected from the measurement target includes first reflected light reflected from the measurement target toward the imaging unit and second reflected light different from the first reflected light,
The control unit calculates data corresponding to the first reflected light based on the amount of the reflected light received by each of the light sources captured by the imaging unit, and measures the height dimension of the measurement object. ,
The control unit captures an image by projecting light onto the same measurement location of the measurement object using the plurality of light source units, and based on the lowest amount of received light among the received amounts of the reflected light at the same measurement location A measuring device that calculates data according to the first reflected light .
前記計測対象を相対的に移動させながら前記計測対象を撮像する撮像部と、
前記撮像部が前記計測対象を撮像する撮像領域を基準に両側の位置に少なくとも1ずつ配置され、前記計測対象に向けて線状の光を投影する複数の光源部と、
制御部と、を備え、
前記計測対象から反射する反射光は、前記計測対象から前記撮像部に向かって反射する第1反射光と、前記第1反射光とは異なる第2反射光とを含み、
前記制御部は、前記撮像部によって撮像されたそれぞれの前記光源部における前記反射光の受光量に基づいて前記第1反射光に応じたデータを算出し、前記計測対象の高さ寸法を計測し、
前記制御部は、前記複数の光源部によって前記計測対象の同一の測定箇所に光を投影して撮像し、同一の測定箇所におけるそれぞれの前記反射光の受光量のうち、重複する受光量に基づいて前記第1反射光に応じたデータを算出する、計測装置。 A measuring device for measuring the height dimension of an object to be measured based on the light section method,
an imaging unit that captures an image of the measurement target while relatively moving the measurement target;
a plurality of light source units, each of which has at least one imaging unit arranged at each of positions on both sides of an imaging region for imaging the measurement object, and projects linear light toward the measurement object;
a control unit;
The reflected light reflected from the measurement target includes first reflected light reflected from the measurement target toward the imaging unit and second reflected light different from the first reflected light,
The control unit calculates data corresponding to the first reflected light based on the amount of the reflected light received by each of the light sources captured by the imaging unit, and measures the height dimension of the measurement object. ,
The control unit captures an image by projecting light onto the same measurement location of the measurement target by the plurality of light source units, and based on the overlapping received light amount among the received light amounts of the respective reflected light at the same measurement location to calculate data corresponding to the first reflected light .
前記計測対象を保持して基板に実装する部品実装装置と、を備えた表面実装機。 A measuring device according to any one of claims 1 to 4 ;
and a component mounting device that holds the object to be measured and mounts it on a substrate.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2019/010919 WO2020188647A1 (en) | 2019-03-15 | 2019-03-15 | Measurement device and surface mounting machine |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020188647A1 JPWO2020188647A1 (en) | 2021-10-28 |
JP7122456B2 true JP7122456B2 (en) | 2022-08-19 |
Family
ID=72519705
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021506811A Active JP7122456B2 (en) | 2019-03-15 | 2019-03-15 | Measuring equipment and surface mounters |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7122456B2 (en) |
DE (1) | DE112019007030T5 (en) |
WO (1) | WO2020188647A1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2024189795A1 (en) * | 2023-03-14 | 2024-09-19 | 株式会社Fuji | Component mounting machine |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010024254A1 (en) | 2008-08-26 | 2010-03-04 | 株式会社ブリヂストン | Specimen roughness detecting method, and apparatus for the method |
JP2011227006A (en) | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Nidec Tosok Corp | Engraved mark inspection apparatus |
JP2015122420A (en) | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 株式会社レクザム | Inclination inspection device for component |
US20150233708A1 (en) | 2014-02-14 | 2015-08-20 | SmartRay GmbH | Method and apparatus for optical non-contact scanning of surfaces |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6263842A (en) * | 1985-08-17 | 1987-03-20 | Fujitsu Ltd | Unevenness inspection instrument |
JPS6363842A (en) * | 1986-09-03 | 1988-03-22 | 佐藤工業株式会社 | Shrinking joint material using polymer absorbing body |
JPH069069B2 (en) | 1988-07-06 | 1994-02-02 | 三洋電機株式会社 | Vending machine product unloading device |
JPH021A (en) | 1989-05-09 | 1990-01-05 | Seiko Epson Corp | Color filter |
JPH03163305A (en) * | 1989-11-22 | 1991-07-15 | Matsushita Electric Works Ltd | Method for detecting soldered shape |
JP4189111B2 (en) | 2000-02-04 | 2008-12-03 | ヤマハ発動機株式会社 | Surface mount component mounting machine and electronic component detection method in surface mount component mounter |
-
2019
- 2019-03-15 WO PCT/JP2019/010919 patent/WO2020188647A1/en active Application Filing
- 2019-03-15 DE DE112019007030.4T patent/DE112019007030T5/en active Pending
- 2019-03-15 JP JP2021506811A patent/JP7122456B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010024254A1 (en) | 2008-08-26 | 2010-03-04 | 株式会社ブリヂストン | Specimen roughness detecting method, and apparatus for the method |
JP2011227006A (en) | 2010-04-23 | 2011-11-10 | Nidec Tosok Corp | Engraved mark inspection apparatus |
JP2015122420A (en) | 2013-12-24 | 2015-07-02 | 株式会社レクザム | Inclination inspection device for component |
US20150233708A1 (en) | 2014-02-14 | 2015-08-20 | SmartRay GmbH | Method and apparatus for optical non-contact scanning of surfaces |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2020188647A1 (en) | 2021-10-28 |
WO2020188647A1 (en) | 2020-09-24 |
DE112019007030T5 (en) | 2021-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI622754B (en) | Three-dimensional measuring device | |
JP5421763B2 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
JP5445509B2 (en) | Image forming apparatus, image forming method, and component mounting apparatus | |
US20140368835A1 (en) | Three-dimensional shape measuring apparatus | |
US11982522B2 (en) | Three-dimensional measuring device | |
JP5109633B2 (en) | Measuring method and inspection method, measuring device and inspection device | |
US20120133920A1 (en) | High speed, high resolution, three dimensional printed circuit board inspection system | |
JP4733001B2 (en) | Component mounting apparatus, component mounting method, and program | |
US20160320314A1 (en) | Visual inspection apparatus and visual inspection method | |
JP7122456B2 (en) | Measuring equipment and surface mounters | |
JP3926347B2 (en) | Electronic component mounting equipment | |
JP2013191775A (en) | Component mounting device and component shape measuring method | |
JP6177714B2 (en) | Component recognition device, component transfer device, and component mounting device | |
JP7271250B2 (en) | Measuring equipment and surface mounters | |
JP3923168B2 (en) | Component recognition method and component mounting method | |
JP2002098513A (en) | Lens frame form measuring device | |
JP2002267415A (en) | Semiconductor measuring instrument | |
JP7303069B2 (en) | inspection equipment | |
WO2024189795A1 (en) | Component mounting machine | |
KR101005077B1 (en) | Apparatus for detecting bump | |
US20240200934A1 (en) | Measurement device and board inspection device | |
JP2001217599A (en) | Surface mounting component attaching device and electronic component detecting method thereof | |
JP6457295B2 (en) | Parts judgment device | |
JP2022080510A (en) | Component mounting system and component mounting state determination method | |
JP2023148455A (en) | Mounting machine and method for measuring substrate height |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220720 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220804 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220808 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7122456 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |