JP7121149B2 - コーティング剤、薄膜、薄膜付き基材、および薄膜の製造方法 - Google Patents
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Description
〔1〕酸化タングステン、シリカ、酸化錫、モリブデン、セレン、およびプラチナの平均粒子径5nm以下の粉末と、グラフェンの平均厚さが5nm以下の粉末と、溶媒を含むことを特徴とする、コーティング剤。
〔2〕さらに、リン化合物を含む、上記〔1〕記載のコーティング剤。
〔3〕さらに、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化銅、銀、金、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ガリウム、および硫黄からなる群から選択される少なくとも1種の平均粒子径5nm以下の粉末を含む、上記〔1〕または〔2〕記載のコーティング剤。
〔4〕上記〔1〕~〔3〕のいずれか記載のコーティング剤に含まれる粉末およびグラフェンを有する、薄膜。
〔5〕厚さが、5~200nmである、上記〔4〕記載の薄膜
〔5〕上記〔4〕または〔5〕記載の薄膜を含む、薄膜付き基材。
〔6〕上記〔1〕~〔3〕のいずれか記載のコーティング剤を塗布した後、乾燥する工程を含む、薄膜の製造方法。
本発明のコーティング剤(以下、コーティング剤ともいう)は、酸化タングステン、シリカ、酸化錫、モリブデン、セレン、およびプラチナの平均粒子径5nm以下の粉末と、グラフェンの平均厚さが5nm以下の粉末と、溶媒を含むことを特徴とする。コーティング剤に、上記ナノ粒子を含有させることにより、下地である基材の風合いを変化させず、かつ基材を傷めずに、基材に難燃性を付与するコーティング剤を提供することができる。コーティング剤に含まれる粒子が、5nmより大きくなると、コーティング剤から形成される薄膜中の孔が大きくなり、難燃性が低下してしまう。なお、平均粒子径5nm以下の粉末は、粒子径が小さい方が好ましく、平均粒子径5nm未満が好ましい。
本発明の薄膜は、上述のコーティング剤に含まれる粉末およびグラフェンを有する薄膜であり、上述のコーティング剤から溶媒が除去されたものである。本発明の薄膜は、厚さが、5~200nmであると、好ましい。薄膜の厚さが、200nmより厚くなると、薄膜が割れやすくなるため、難燃性が低下しやすくなる、色味が悪くなりやすい、風合いが変わりやすい、等になる。5nmより薄いと、難燃性が低下しやすくなるが、他の可視光などの効果は維持されうる。なお、薄膜の厚さが、100nm以上になると、導電性が良好になる。
本発明の薄膜の製造方法は、上述のコーティング剤を塗布した後、乾燥する工程を含む。より具体的には、上述のコーティング剤を基材の上に塗布した後、乾燥する工程により、薄膜付き基材を製造することができる。
シリカナノ粉末分散液には、ジャパンナノコート製シリカバインダー(平均粒径1.3nmシリカ粒子3%、水97%)を用いた。
酸化錫ナノ粉末分散液には、平均粒径2nmの酸化錫ナノ粉末1質量部と、水99質量部を混合したものを用いた。
モリブデンナノ粉末分散液には、平均粒径2nmのモリブデンナノ粉末0.3質量部と、水99.7質量部を混合したものを用いた。
セレンナノ粉末分散液には、平均粒径2nmのセレンナノ粉末0.9質量部と、水99.1質量部を混合したものを用いた。
プラチナナノ粉末分散液には、平均粒径2nmのプラチナナノ粉末0.05質量部と、水99.95質量部を混合したものを用いた。
グラフェン分散液ナノ粉末には、平均厚さ2nmで、平均長さ5μmのグラフェン0.1質量部と、水99.9質量部を混合したものを用いた。
ルテニウムナノ粉末分散液には、平均粒径2nmのルテニウムナノ粉末0.05質量部と、水99.95質量部を混合したものを用いた。
パラジウムナノ粉末分散液には、平均粒径2nmのパラジウムナノ粉末0.05質量部と、水99.95質量部を混合したものを用いた。
酸化鉄(Fe2O3)ナノ粉末分散液には、平均粒径3nmの酸化鉄ナノ粉末3質量部と、水97質量部を混合したものを用いた。
酸化銅(CuO)ナノ粉末分散液には、平均粒径3nmの酸化銅ナノ粉末3質量部と、水97質量部を混合したものを用いた。
銀ナノ粉末分散液には、平均粒径2nmの銀ナノ粉末0.5質量部と、水99.5質量部を混合したものを用いた。
酸化ニオブ(Nb2O5)ナノ粉末分散液には、平均粒径4nmの酸化ニオブナノ粉末3質量部と、水97質量部を混合したものを用いた。
リン酸カルシウム(Ca3(PO4)2)粉末分散液には、平均粒径3nmのリン酸カルシウム粉末0.3質量部と、水99.7質量部を混合したものを用いた。
酸化タングステンナノ粒子水溶液:2質量部、シリカナノ粒子水溶液:1質量部、酸化錫ナノ粒子水溶液:0.8質量部、モリブデンナノ粒子水溶液:0.075質量部、セレンナノ粒子水溶液:0.025質量部、プラチナナノ粒子水溶液:0.0025質量部、グラフェン水溶液:0.0025質量部、残部:水を混合し、標準組成のコーティング剤(以下、標準コーティング剤という)を作製した。
図2に、形成した薄膜の断面の透過型電子顕微鏡写真を示す。図2からわかるように、約9nmの均一な厚さの膜であった。
綿100%のカナキン3号(JIS L 0803準拠)を、標準コーティング剤10質量部純水90質量部の液を作製し、ディッピングした。作製したコーティング剤の質量が、カナキン3号の質量の2倍になるまで、脱水し、テスト用試料を作製した。
<アンモニア、ホルムアルデヒドの分解テスト>
幅:10cm×長さ:10cm×厚さ:3mmのガラス板に標準コーティング剤10質量部純水90質量部の液を塗布し、乾燥し、厚さ:約0.1μmの評価用膜を作製した。
幅:26mm×長さ:76mm×厚さ:3mmのスライドガラス状に、標準コーティング剤:3gを塗布し、乾燥し、評価用膜を作製した。
JIS1703-2に基づき10μmol/dm3のメチレンブルー水溶液35cm3を、標準コーティングの液を100mm×100mm×厚み3mmのガラスに0.2g塗布し、乾燥した後、上記メチレンブルー水溶液を内径40mm×高さ3cmの試験セルに入れた後(紫外線放射照度1.00mW/cm2、波長351nm)を照射した。このときのメチレンブルー濃度を、島津製作所製分光光度計UV-3100PCで測定した。メチレンブルー濃度(単位:μmol/dm3)を縦軸に、紫外線照射時間(単位:分)を横軸に、プロットしたときの傾きである分解活性指数が3検体平均により0.3以下〔(nmol/dm3)/分〕であり、紫外線では、光触媒性能を示さないことがわかった。
綿100%のカナキン3号(JIS L 0803準拠)を、標準コーティング剤10質量部純水90質量部の液を作製し、ディッピングした。作製したコーティング剤の質量が、カナキン3号の質量の2倍になるまで、繰り返し脱水し、テスト用試料を作製した。
1)培地の作製
株式会社エム・アイ・シーで、パシフィックビーム・モールド法(PacificBeam MOLD test method)によるカビ抵抗性試験を行った。培地には、無機塩寒天培地を用いた。培地組成成分名および内容量を以下に示す。
KH2PO4:0.7g
K2HPO4:0.7g
MgSO4・7H2O:0.7g
NH4NO3:1.0g
NaCl:0.005g
FeSO4・7H2O:0.002g
ZnSO4・7H2O:0.002g
MnSO4・7H2O:0.001g
寒天:15g
純水:1000cm3
上記の培養成分を混合して作製した培地を、121℃で20分加熱処理し、殺菌した。0.01%のNaOHを添加して、溶液のpHを6.0~6.5に調整した。
(1)混合胞子液の作製
培地から寒天をろ過した水溶液と、106±200,000個/cm3の胞子量に調整した液と、等量混和させる。試験菌については、後述する。
(2)湿潤液の作製
ラウリル硫酸ナトリウム0.05g/dm3の水溶液を作製した。
(3)試験菌液の調合
湿潤液に、混合胞子液に加え、十分に分散させた。
(1)培容器と培養条件
温度・湿度サーモスタット付きサーキュレーターを使用して、温度:28~30℃、湿度:85%R・H以上の条件で培養した。
(2)培養期間は、28日間で行った。
試験菌(真菌 71菌)は、6±4℃で30日以内保存したストックカルチャー純培養菌使用を、使用した。使用した試験菌(真菌 71菌)は、以下である。
1.アルタルナリア アルタナータ(Alternaria alternata)、2.アスペルギルス ニガー(Aspergillus niger)、3.アスペルギルス オリザエ (Aspergillus oryzae)、4.アスペルギルス フラバス(Aspergillus flavus)、5.アスペルギルス バーシカラ(Aspergillus versicolor)、6.アスペルギルス フミガータス(Aspergillus humigatus)、7.アスペルギルス テレーズ(Aspergillus terreus)、8.アスペルギルス レストリクタス(Aspergillus restrictus)、9.アスペルギルス オクロシアス(Aspergillus ochraceus)、10.アスペルギルス カンジダス(Aspergillus candidus)、11.アルタルナリア テヌイス(Alternaria tenuis)、12.アルカリゲネス フェカリス(Alcaligenes faecalis)、13.アルタルナリア ブラシコラ(Alternaria brassicicola)、14.オーレオバシディウム プルランス(Aureobasidium pullulans)、15.カンジダ アルビカンス(Candide albicans)、16.ケトミウム グラボサム(Chaetomium globosum)、17.クラドスポリウム クラドスポリオイダス(Cladosporium cladosporioides)、18.クラドスポリウム サファエロスペルマム(Cladosporium sphaerospermum)、19.クラドスポリウム ハーボラム(Cladosporium herbarum)、20.クラドスポリューム レジナエ(Cladosporium resinae)、21.カルバラリア ルナータ(Curvularia lunata)、22.ドレッシラ オストラライン(Drechslera australiensis)、23.エピコッカム パーパラセン(Epicoccum purpurascens)、24.ユーロチウム タネフィラム(Eurotium tonophilum)、25.ユーロチウム ルブラム(Eurotium rubrum)、26.ユーロチウム シバリエリ(Eurotium chevalieri)、27.ユーロチウム アムステロダミ(Eurotium amstelodami)、28.フザリウム セミテクタム(Fusarium semitectum)、29.フザリウム オキシスポラム(Fusarium oxysporum)、30.フザリウム ソラニ(Fusarium solani)、31. フザリウム ロゼアム(Fusarium roseum)、31.フザリウム モニリフォルメ(Fusarium moniliforme)、33.フザリウム プラリフェラタム(Fusarium proliferatum)、34.ゲオトリカム カンディダム(Geotricham candidum)、35.ゲオトリカム ラクタス(Geotricham lactus)、36.グリオクラディウム ビレン(Gliocladium virens)、37.モニリア フルクティガネ(Monilia fructigena)、38.モニリア ニグラ(Monilia nigral)、39.ムコール ラセマウセス(Mucor racemosus)、40.ミロテシウム バルカリア(Myrothecium verrucaria)、41.ムコール スピネッセンス(Mucor spinescens)、42.ニグロスポラ オリザエ(Nigrospora oryzae)、43.ニグロスポラ スフェリカ(Nigrospora sphaerica)、44.ニューロスポラ ストフィラ(Neurospora sitophila)、45.ペニシリウム フリークェンタス(Penicillium frequentance)、46.ペニシリウム イスランディカム(Penicillium islandicum)、47.ペニシリウム シトリナム(Penicillium citrinum)、48.プルラリア プルランス(Pullularia pullulans)、49.ペニシリウム イクパンザム(Penicillium expansum)、50.ペニシリウム シクロピアム(Penicillium cyclopium)、51.ペニシリウム シトレオビリデ(Penicillium citreo-viride)、52.ペニシリウム ファニキュロザム(Penicillium funiculosum)、53.ペニシリウム ニグリカンス(Penicillium nigricans)、54.ペニシリウム リラシナム(Penicillium lilacinum)、55.ペスタロティア アダスタ(Pestalotia adusta)、56.ペスタロティア ネグレクタ(Pestalotia neglecta)、57.フォーマ シトリカルパ(Phoma citricarpa)、58.フォーマ テレスチアス(Phoma terrestius)、59.フォーマ グロミタラ(Phoma glomerata)、60.リゾプス ニグリカンス(Rhizopus nigricans)、61.リゾプス オリザエ(Rhizopus oryzae)、62.リゾプス ストロニファー(Rhizopus storonifer)、63.リゾプス ソラニ(Rhizopus solani)、64.セドスポリウム アビオスペルマム(Scedosporium apiospermum)、65.トリコフィートン ミンタグルフィテス(Trichophyton mentagrophytes)、66.トリコデルマ ビリデ(Trichoderma viride)、67.トリコデルマ コニンギー(Trichoderma koningii)、68.トリコデルマT-1(T-1 Trichoderma)、69.トリコデルマ ハルジアナム(Trichoderma harzianum)、70.ウロクラディウム アトラム(Ulocladium atrum)、71.ワレミア セビ(Wallemia sebi)
菌の発育状態を、以下の基準で評価した。
0:全く菌が発育しない
1:10%以下の発育
2:10~30%以下の発育
3:30~60%以下の発育
4:60%以上の完全発育
標準コーティング剤10質量部純水90質量部の液を作製し、スプレーガンにて10cm3/m2で塗布した検体をパシフィックビーム・モールド法による71菌を使用した28日間のカビ抵抗性試験を行った。その結果、28日後において、PBMを添加した検体においてカビの発育が認めらなかったことから、カビ抵抗性がある、と考えられる。ここで、試験検体には、ポリエチレン袋に、上記液剤を塗布したものを使用した。ブランクには、ポリエチレン袋そのままを使用した。
試験検体は、28日経過後も評価が「0」と、良好であった。これに対して、ブランクは、14日経過後で、評価が「1」になり、24日経過後で、評価が「2」と菌の繁殖が認められた。
標準コーティング剤95質量部に、ルテニウムナノ粉末分散液5質量部を添加した。可視光光触媒機能が、向上した。*500ルクス(lx)下で、標準コーティング液よりも色素分解速度が向上した。
標準コーティング剤95質量部に、パラジウムナノ粉末分散液5質量部を添加した。可視光光触媒機能が、向上した。*500ルクス(lx)下で、標準コーティング液よりも色素分解速度が向上した。
標準コーティング剤98質量部に、酸化鉄ナノ粉末分散液2質量部を添加した。可視光光触媒機能が、向上した。*500ルクス(lx)下で、標準コーティング液よりも色素分解速度が向上した。
標準コーティング剤98質量部に、酸化銅ナノ粉末分散液2質量部を添加した。可視光光触媒機能が、向上した。*500ルクス(lx)下で標準コーティング液よりも色素分解速度が向上した。
標準コーティング剤99質量部に、銀ナノ粉末分散液1質量部を添加した。可視光光触媒機能が、向上した。*500ルクス(lx)下で標準コーティング液よりも色素分解速度が向上した。
標準コーティング剤99質量部に、酸化ニオブナノ粉末分散液1質量部を添加した。可視光光触媒機能が、向上した。*500ルクス(lx)下で標準コーティング液よりも色素分解速度が向上した。
標準コーティング剤20質量部純水76質量部の液を作製し、オルトリン酸(85体積%)をリン酸として3.8質量部、および追加でリン酸3カルシウムを、リン酸3カルシウムとして0.2質量部を加えた液を用意した。金巾3号に、標準コーティング剤と同様に形成された膜の表面抵抗値を計測した結果、標準コーティング液の場合が10の8乗台であるのに対し、10の6乗台(単位:Ω/sq)に向上しつつ、難燃性能としては、標準コーティング液の場合が酸素指数26.6であるのに対し、酸素指数29.8とさらに向上し、かつ風合いもよくなった。ここで、表面抵抗値は、太洋電機産業製表面抵抗計(型番:WA-400、2点間抵抗法)で測定した。
標準コーティング剤に、酸化タングステンナノ粉末分散液を含まないコーティング液を作製した。可視光光触媒機能が発揮されなかった。
標準コーティング剤に、シリカナノ粉末分散液を含まないコーティング液を作製した。密着性、難燃性が、低下した。
標準コーティング剤に、酸化錫粉末分散液を含まないコーティング液を作製した。帯電防止性能が、低下した。
標準コーティング剤に、モリブデンナノ粉末分散液を含まないコーティング液を作製した。可視光光触媒性能が、低下した。
標準コーティング剤に、セレンナノ粉末分散液を含まないコーティング液を作製した。抗菌性が、低下した。
標準コーティング剤に、プラチナナノ粉末分散液を含まないコーティング液を作製した。可視光光触媒性、難燃性が、低下した。
標準コーティング剤に、グラフェンナノ粉末分散液を含まないコーティング液を作製した。可視光光触媒性、導電性が、低下した。
Claims (7)
- 酸化タングステン、シリカ、酸化錫、モリブデン、セレン、およびプラチナの平均粒子径5nm以下の粉末と、グラフェンの平均厚さが5nm以下の粉末と、溶媒を含み、
酸化タングステンの平均粒子径が、1~3nmであり、
グラフェン粉末を、コーティング剤100質量部に対して、0,005~0.01質量部含むことを特徴とする、コーティング剤。 - さらに、リン化合物を含む、請求項1記載のコーティング剤。
- さらに、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化銅、銀、金、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化ガリウム、および硫黄からなる群から選択される少なくとも1種の平均粒子径5nm以下の粉末を含む、請求項1または2記載のコーティング剤。
- 請求項1~3のいずれか1項記載のコーティング剤に含まれる粉末およびグラフェンを有する、薄膜。
- 厚さが、5~200nmである、請求項4記載の薄膜。
- 請求項4または5記載の薄膜を含む、薄膜付き基材。
- 請求項1~3のいずれか1項記載のコーティング剤を塗布した後、乾燥する工程を含む、薄膜の製造方法。
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