JP7119089B2 - 動的に変化する媒体内での超音波集束 - Google Patents
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Description
本願は、その全開示が、参照することによって本明細書に組み込まれる、2017年12月11日に出願された、米国特許出願第15/837,365号の利益および優先権を主張する。
本発明は、概して、超音波集束のためのシステムおよび方法に関し、より具体的には、音響性質が動的に変化し得る媒体を通した集束に関する。
集束超音波(すなわち、約20キロヘルツを上回る周波数を有する音響波)が、患者の内部身体組織を撮像する、または療法的に治療するために使用されることができる。例えば、超音波は、腫瘍のアブレーション、それによって、侵襲性外科手術の必要性の排除、標的化薬物送達、血液脳関門の制御、凝血塊の溶解、および他の外科手術手技を伴う用途において使用され得る。腫瘍アブレーションの間、圧電セラミックトランスデューサが、患者の外部であるが、アブレーションされるべき組織(すなわち、標的)に近接近して設置される。トランスデューサは、電子駆動信号を機械的振動に変換し、音響波の放出をもたらす。トランスデューサは、それらが放出する超音波エネルギーが、標的組織領域に対応する(またはその中の)「集束帯」において集束ビームを集合的に形成するように、幾何学的に成形され、他のそのようなトランスデューサとともに位置付けられ得る。代替として、または加えて、単一のトランスデューサが、その位相がそれぞれ独立して制御され得る、複数の個々に駆動されるトランスデューサ要素から形成され得る。そのような「位相アレイ」トランスデューサは、トランスデューサの間の相対的位相を調節することによって、集束帯を異なる場所に操向することを促進する。本明細書に使用されるように、用語「要素」は、アレイにおける個々のトランスデューサまたは単一のトランスデューサの独立して駆動可能な部分のいずれかを意味する。磁気共鳴撮像(MRI)が、患者および標的を可視化し、それによって、超音波ビームを誘導するために使用され得る。
本発明は、不規則な構造、形状、密度、および/または厚さを有する組織(人間の頭蓋骨等)を横断する超音波ビームを超音波手技に先立って、および/またはその間に標的領域上に自動的に集束させるためのシステムおよび方法を提供する。容易な参照のために、以下の説明は、超音波治療手技のみを指すが、しかしながら、同一のアプローチが、概して、超音波撮像手技にも同様に適用されることを理解されたい。加えて、本明細書における説明は、人間の頭蓋骨を横断する超音波ビームのみを指すが、種々の実施形態と関連して説明される自動焦点アプローチは、肋骨等の人体の任意の部分からもたらされるビーム収差を判定するために適用され、それによって、トランスデューサパラメータ値(例えば、位相偏移および/または振幅)が収差を補償するために調節されることを可能にし得る。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
(項目1)
標的領域において超音波焦点を発生させるためのシステムであって、前記システムは、
複数のトランスデューサ要素を備える超音波トランスデューサと、
コントローラであって、
(a)前記トランスデューサに、一連の治療超音波パルスを前記標的領域に伝送させることと、
(b)前記トランスデューサに、集束超音波パルスを前記標的領域に伝送させ、その中に音響反射物を発生させることと、
(c)前記音響反射物からの前記集束超音波パルスの反射を測定することと、
(d)少なくとも部分的に、前記測定された反射に基づいて、前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つと関連付けられるパラメータ値を調節することと、
(e)前記調節されたパラメータ値を利用して、前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つに、超音波ビームを発生させることと
を行うように構成されている、コントローラと
を備える、システム。
(項目2)
前記音響反射物からの前記反射を測定するための検出器デバイスをさらに備える、項目1に記載のシステム。
(項目3)
前記音響反射物の発生を検出するためのイメージャまたは検出器デバイスのうちの少なくとも1つをさらに備える、項目1に記載のシステム。
(項目4)
前記コントローラはさらに、前記トランスデューサ要素に、前記音響反射物からの前記反射を測定させるように構成されている、項目1に記載のシステム。
(項目5)
前記集束超音波パルスは、前記治療パルスのものと異なる構成パラメータの値を有する、項目1に記載のシステム。
(項目6)
前記構成パラメータは、出力、周波数、またはパルス形状のうちの少なくとも1つを含む、項目5に記載のシステム。
(項目7)
前記集束超音波パルスの周波数は、前記治療パルスのものよりも低い、項目6に記載のシステム。
(項目8)
前記コントローラはさらに、前記集束超音波パルスの周波数における前記測定された反射と関連付けられる情報を前記治療パルスの周波数における対応する情報に変換するように構成されている、項目6に記載のシステム。
(項目9)
前記コントローラはさらに、少なくとも部分的に、記憶された物理モデルに基づいて、前記情報をコンピュータ的に変換するように構成されている、項目8に記載のシステム。
(項目10)
前記コントローラはさらに、少なくとも部分的に、経験的に確立され、記憶されたルックアップテーブルに基づいて、前記情報をコンピュータ的に変換するように構成されている、項目8に記載のシステム。
(項目11)
前記集束超音波パルスの第1の部分は、ランプ上昇出力を有する、項目6に記載のシステム。
(項目12)
前記コントローラはさらに、
(i)少なくとも部分的に、前記集束超音波パルスの第1の部分の前記測定された反射に基づいて、キャビテーション閾値出力レジメンを判定することと、
(ii)前記トランスデューサに、前記集束超音波パルスの第2の部分を伝送させることと
を行うように構成され、
前記集束超音波パルスの第2の部分の出力は、前記キャビテーション閾値出力レジメン以内である、項目11に記載のシステム。
(項目13)
前記コントローラはさらに、前記音響反射物が放散した、または前記標的領域の外側に掃出された後、前記トランスデューサに、前記治療パルスの伝送を再開させるように構成されている、項目1に記載のシステム。
(項目14)
前記コントローラはさらに、
(i)前記トランスデューサに、音響放射力を有する第2の焦点を発生させることと、
(ii)前記音響放射力を使用し、前記標的領域の外側に前記音響反射物を掃出することと
を行うように構成されている、項目13に記載のシステム。
(項目15)
前記パラメータ値は、前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つを駆動する信号の周波数、位相、または振幅のうちの少なくとも1つを含む、項目1に記載のシステム。
(項目16)
前記コントローラはさらに、
(i)前記トランスデューサに、低出力超音波パルスを前記トランスデューサと前記標的領域との間に位置する介在組織に伝送させることと、
(ii)前記介在組織からの前記低出力超音波パルスの反射を測定することと、
(iii)少なくとも部分的に、前記介在組織からの前記測定された反射に基づいて、前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つと関連付けられる前記パラメータ値を調節することと
を行うように構成されている、項目1に記載のシステム。
(項目17)
前記標的領域における温度を検出するための温度検出デバイスをさらに備える、項目1に記載のシステム。
(項目18)
前記コントローラはさらに、少なくとも部分的に、前記検出された温度に基づいて、前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つと関連付けられる前記パラメータ値を調節するように構成されている、項目17に記載のシステム。
(項目19)
前記温度検出デバイスは、磁気共鳴撮像デバイスを備える、項目17に記載のシステム。
(項目20)
前記コントローラはさらに、前記トランスデューサに、前記調節されたパラメータ値を使用して前記治療パルスの伝送を再開させることに先立って、
(f)前記調節されたパラメータ値に基づいて、更新された集束超音波パルスを前記音響反射物に伝送することと、
(g)停止条件が満たされるまで、(i)前記音響反射物からの前記反射の測定、(ii)前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つと関連付けられる前記パラメータ値の調節、および(iii)前記音響反射物への前記更新された集束超音波パルスの伝送を繰り返すことと
を含む、アクションを実施するように構成されている、項目1に記載のシステム。
(項目21)
前記停止条件は、
現在測定された反射と以前に測定された反射との間の位相差がある閾値を下回ること、または、
反復の回数が所定の限界を超えること
のうちの1つ以上から成る、項目20に記載のシステム。
(項目22)
前記コントローラはさらに、前記集束パルスを前記標的領域に伝送させることに先立って、前記治療パルスの伝送を一時的に中断するように構成されている、項目1に記載のシステム。
(項目23)
前記コントローラはさらに、前記調節されたパラメータ値を使用して、前記トランスデューサに、前記治療パルスの伝送を再開させるように構成されている、項目22に記載のシステム。
(項目24)
前記コントローラはさらに、少なくとも部分的に、前記調節されたパラメータ値に基づいて、前記治療超音波パルスの伝送を終了するように構成されている、項目22に記載のシステム。
(項目25)
前記集束パルスは、前記治療パルスの伝送の間に前記標的に伝送される、項目1に記載のシステム。
(項目26)
前記トランスデューサ要素のうちの少なくともいくつかは、前記治療パルスおよび前記集束パルスを同時に伝送するように構成されている、項目1に記載のシステム。
(項目27)
前記超音波トランスデューサは、複数の部分領域を備え、各部分領域は、複数の前記トランスデューサ要素を備え、前記コントローラはさらに、前記トランスデューサの異なる部分領域に、前記治療パルスおよび前記集束パルスを伝送させるように構成されている、項目1に記載のシステム。
図1は、頭蓋骨を通して標的領域101上に超音波を集束させるための例示的超音波システム100を図示する。しかしながら、当業者は、本明細書に説明される超音波システム100が、人体の任意の部分に印加され得ることを理解するであろう。種々の実施形態では、システム100は、トランスデューサ要素104の位相アレイ102と、位相アレイ102を駆動するビーム形成器106と、ビーム形成器106と通信するコントローラ108と、入力電子信号をビーム形成器106に提供する周波数発生器110とを含む。
Claims (26)
- 超音波パルスによって治療されるべき患者上の領域において超音波焦点を発生させるためのシステムであって、前記システムは、
複数のトランスデューサ要素を備える超音波トランスデューサと、
コントローラであって、
(a)前記トランスデューサに、一連の治療超音波パルスを前記領域に伝送させることと、
(b)前記トランスデューサに、集束超音波パルスを前記領域に伝送させ、その中に音響反射物を発生させることと、
(c)前記音響反射物からの前記集束超音波パルスの反射を測定することと、
(d)前記測定された反射に少なくとも部分的に基づいて、前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つと関連付けられるパラメータ値を調節することと、
(e)前記調節されたパラメータ値を利用して、前記トランスデューサ要素のうちの前記少なくとも1つに、超音波ビームを発生させることと
を行うように構成されている、コントローラと
を備え、前記コントローラはさらに、前記トランスデューサ要素に、前記音響反射物からの前記反射を測定させるように構成されている、システム。 - 前記音響反射物からの前記反射を測定するための検出器デバイスをさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記音響反射物の発生を検出するためのイメージャまたは検出器デバイスのうちの少なくとも1つをさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記集束超音波パルスは、前記治療パルスのものと異なる構成パラメータの値を有する、請求項1に記載のシステム。
- 前記構成パラメータは、出力、周波数、またはパルス形状のうちの少なくとも1つを含む、請求項4に記載のシステム。
- 前記集束超音波パルスの周波数は、前記治療パルスのものよりも低い、請求項5に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、前記集束超音波パルスの周波数における前記測定された反射と関連付けられる情報を前記治療パルスの周波数における対応する情報に変換するように構成されている、請求項5に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、記憶された物理モデルに基づいて、前記情報をコンピュータ的に変換するように構成されている、請求項7に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、経験的に確立され、記憶されたルックアップテーブルに少なくとも部分的に基づいて、前記情報をコンピュータ的に変換するように構成されている、請求項7に記載のシステム。
- 前記集束超音波パルスの第1の部分は、ランプ上昇出力を有する、請求項5に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、
(i)前記集束超音波パルスの前記第1の部分の前記測定された反射に少なくとも部分的に基づいて、キャビテーション閾値出力レジメンを判定することと、
(ii)前記トランスデューサに、前記集束超音波パルスの第2の部分を伝送させることと
を行うように構成され、
前記集束超音波パルスの前記第2の部分の出力は、前記キャビテーション閾値出力レジメン以内である、請求項10に記載のシステム。 - 前記コントローラはさらに、前記音響反射物が放散した、または前記領域の外側に掃出された後、前記トランスデューサに、前記治療パルスの伝送を再開させるように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、
(i)前記トランスデューサに、音響放射力を有する第2の焦点を発生させることと、
(ii)前記音響放射力を使用し、前記領域の外側に前記音響反射物を掃出することと
を行うように構成されている、請求項12に記載のシステム。 - 前記パラメータ値は、前記トランスデューサ要素のうちの前記少なくとも1つを駆動する信号の周波数、位相、または振幅のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、
(i)前記トランスデューサに、低出力超音波パルスを前記トランスデューサと前記領域との間に位置する介在組織に伝送させることと、
(ii)前記介在組織からの前記低出力超音波パルスの反射を測定することと、
(iii)前記介在組織からの前記測定された反射に少なくとも部分的に基づいて、前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つと関連付けられる前記パラメータ値を調節することと
を行うように構成されている、請求項1に記載のシステム。 - 前記領域における温度を検出するための温度検出デバイスをさらに備える、請求項1に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、前記検出された温度に少なくとも部分的に基づいて、前記トランスデューサ要素のうちの前記少なくとも1つと関連付けられる前記パラメータ値を調節するように構成されている、請求項16に記載のシステム。
- 前記温度検出デバイスは、磁気共鳴撮像デバイスを備える、請求項16に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、前記トランスデューサに、前記調節されたパラメータ値を使用して前記治療パルスの伝送を再開させることに先立って、
(f)前記調節されたパラメータ値に基づいて、更新された集束超音波パルスを前記音響反射物に伝送することと、
(g)停止条件が満たされるまで、(i)前記音響反射物からの前記反射の測定、(ii)前記トランスデューサ要素のうちの少なくとも1つと関連付けられる前記パラメータ値の調節、および(iii)前記音響反射物への前記更新された集束超音波パルスの伝送を繰り返すことと
を含むアクションを実施するように構成されている、請求項1に記載のシステム。 - 前記停止条件は、
現在測定された反射と以前に測定された反射との間の位相差がある閾値を下回ること、または、
反復の回数が所定の限界を超えること
のうちの1つ以上から成る、請求項19に記載のシステム。 - 前記コントローラはさらに、前記集束パルスを前記領域に伝送させることに先立って、前記治療パルスの伝送を一時的に中断するように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、前記調節されたパラメータ値を使用して、前記トランスデューサに、前記治療パルスの伝送を再開させるように構成されている、請求項21に記載のシステム。
- 前記コントローラはさらに、前記調節されたパラメータ値に少なくとも部分的に基づいて、前記治療超音波パルスの伝送を終了するように構成されている、請求項21に記載のシステム。
- 前記集束パルスは、前記治療パルスの伝送の間に前記標的に伝送される、請求項1に記載のシステム。
- 前記トランスデューサ要素のうちの少なくともいくつかは、前記治療パルスおよび前記集束パルスを同時に伝送するように構成されている、請求項1に記載のシステム。
- 前記超音波トランスデューサは、複数の部分領域を備え、各部分領域は、複数の前記トランスデューサ要素を備え、前記コントローラはさらに、前記トランスデューサの異なる部分領域に、前記治療パルスおよび前記集束パルスを伝送させるように構成されている、請求項1に記載のシステム。
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