JP7116520B2 - Manufacturing method for multilayer ceramic electronic component - Google Patents

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Description

本発明は、サイドマージン部が後付けされる積層セラミック電子部品の製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a laminated ceramic electronic component to which a side margin portion is retrofitted.

近年、電子機器の小型化及び高性能化に伴い、電子機器に用いられる積層セラミック電子部品に対する小型化及び大容量化の要望がますます強くなってきている。この要望に応えるためには、積層セラミック電子部品のセラミック層間に積層される内部電極の交差面積を十分確保することが有効である。 2. Description of the Related Art In recent years, along with the miniaturization and high performance of electronic devices, there has been an increasing demand for miniaturization and large capacity of laminated ceramic electronic components used in electronic devices. In order to meet this demand, it is effective to secure a sufficient crossing area of the internal electrodes laminated between the ceramic layers of the multilayer ceramic electronic component.

この一方で、一般的な積層セラミック電子部品の製造方法では、各工程(例えば、内部電極のパターニング、積層シートの切断など)の精度により、内部電極の積層ズレ等が生じ、内部電極の交差面積が減少することがある。 On the other hand, in the general method of manufacturing multilayer ceramic electronic components, due to the accuracy of each process (for example, patterning of internal electrodes, cutting of laminated sheets, etc.), lamination misalignment of internal electrodes occurs, and the intersecting area of internal electrodes may decrease.

そこで、特許文献1には、積層シート(マザーブロック)を切断することにより、側面に内部電極が露出した積層チップ(グリーンチップ)が作製され、この積層チップの側面にサイドマージン部(生のセラミック保護層)が設けられた生の部品本体を作製する、積層セラミック電子部品の製造方法が記載されている。 Therefore, in Patent Document 1, by cutting a laminated sheet (mother block), laminated chips (green chips) with internal electrodes exposed on the side surfaces are produced, and side margins (raw ceramics) are formed on the side surfaces of the laminated chips. A method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component is described in which a green component body provided with a protective layer) is produced.

特開2012-209539号公報JP 2012-209539 A

しかしながら、特許文献1に記載の技術では、積層シートを切断する工程において、切断面で切断刃による引き摺りが生じ、当該切断面に露出する内部電極間で短絡不良が発生しやすかった。 However, in the technique described in Patent Document 1, in the process of cutting the laminated sheet, the cut surface is dragged by the cutting blade, and short-circuiting defects tend to occur between the internal electrodes exposed on the cut surface.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、積層シートの切断面において内部電極間の短絡不良を防止することが可能な積層セラミック電子部品の製造方法を提供することにある。 In view of the circumstances as described above, it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component capable of preventing short-circuit defects between internal electrodes on a cut surface of a multilayer sheet.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る積層セラミック電子部品の製造方法は、
内部電極が形成された複数のセラミックシートを第1方向に沿って順に積層し、かつ各セラミックシートを積層する度に上記各セラミックシートを上記第1方向と平行でかつ逆向きの第2方向に加圧することで、上記第1方向に向いた第1主面と、上記第2方向に向いた第2主面と、を有する積層シートが作製される。
上記第1主面から切断刃を挿入して上記積層シートを切断することで、上記内部電極が露出した切断面を有する積層チップが作製される。
上記積層チップの上記切断面にサイドマージン部が形成される。
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to one aspect of the present invention comprises:
A plurality of ceramic sheets having internal electrodes formed thereon are sequentially laminated along a first direction, and each ceramic sheet is laminated in a second direction parallel to and opposite to the first direction each time the ceramic sheets are laminated. By applying pressure, a laminated sheet having a first main surface facing in the first direction and a second main surface facing in the second direction is produced.
By inserting a cutting blade from the first main surface and cutting the laminated sheet, a laminated chip having a cut surface in which the internal electrodes are exposed is produced.
A side margin portion is formed on the cut surface of the laminated chip.

上記構成によれば、積層時の加圧回数の累積によって積層シートの第2主面側が圧密化される。このため、第1主面側では第2主面側よりも密度及び硬度が低くなる。硬度の高い第2主面ではなく、硬度の低い第1主面から切断刃を挿入することで、切断刃の受けるダメージを低減させ、刃こぼれを防止することができる。したがって、切断面に傷が形成されることを防止し、内部電極間の短絡不良を防止することができる。 According to the above configuration, the second main surface side of the laminated sheet is densified by the accumulation of the number of pressurizations during lamination. Therefore, the density and hardness are lower on the first main surface side than on the second main surface side. By inserting the cutting blade from the first main surface with low hardness, not from the second main surface with high hardness, damage to the cutting blade can be reduced and chipping of the blade can be prevented. Therefore, it is possible to prevent scratches from being formed on the cut surface and to prevent short-circuit defects between the internal electrodes.

例えば、上記切断刃は、押し切り刃であってもよい。
押し切り刃の場合、刃こぼれすると刃の断片を引き摺りながら切断することになり、切断面に傷が付きやすい。上記構成を適用することで、引き摺り傷をより効果的に防止することができる。
For example, the cutting blade may be a push cutting blade.
In the case of a press-cutting blade, if the blade is broken, the blade fragment is dragged while cutting, and the cut surface is likely to be damaged. By applying the above configuration, it is possible to more effectively prevent scratches caused by dragging.

上記積層セラミック電子部品の製造方法は、さらに、
作製された上記積層シートの上記第1主面を第1保持部材に保持させ、
上記第1保持部材に保持された上記積層シートの上記第2主面を第2保持部材に保持させ、
上記第2保持部材に保持された上記積層シートから上記第1保持部材を除去し、
上記第1保持部材が除去され上記第2保持部材に保持された上記積層シートを切断する
工程を含んでいてもよい。
The method for manufacturing the multilayer ceramic electronic component further comprises:
holding the first main surface of the laminated sheet produced by a first holding member;
causing a second holding member to hold the second main surface of the laminated sheet held by the first holding member;
removing the first holding member from the laminated sheet held by the second holding member;
A step of cutting the laminated sheet from which the first holding member is removed and held by the second holding member may be included.

これにより、第2保持部材に保持された状態で積層シートを切断することができ、切断後の積層チップの取り扱いが容易になる。また、保持部材を用いつつも第1主面を開放面とすることができるため、第1主面から容易に切断刃を挿入することができる。 Thereby, the laminated sheet can be cut while being held by the second holding member, and the laminated chip after cutting can be easily handled. Moreover, since the first main surface can be an open surface while using the holding member, the cutting blade can be easily inserted from the first main surface.

以上のように、本発明によれば、積層シートの切断面において内部電極間の短絡不良を防止することが可能な積層セラミック電子部品の製造方法を提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component that can prevent short-circuit defects between internal electrodes on a cut surface of a multilayer sheet.

本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの斜視図である。1 is a perspective view of a laminated ceramic capacitor according to one embodiment of the present invention; FIG. 上記積層セラミックコンデンサのA-A'線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the laminated ceramic capacitor taken along line AA'; 上記積層セラミックコンデンサのB-B'線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the multilayer ceramic capacitor taken along line BB'; 上記積層セラミックコンデンサの製造方法を示すフローチャートである。4 is a flow chart showing a method of manufacturing the laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す平面図である。It is a top view which shows the manufacturing process of the said laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacturing process of the said laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す断面図である。It is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す断面図である。It is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す断面図である。It is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す断面図である。It is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す平面図である。It is a top view which shows the manufacturing process of the said laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す断面図である。It is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacturing process of the said laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the manufacturing process of the said laminated ceramic capacitor. 上記積層セラミックコンデンサの製造過程において、積層チップの側面を撮像した画像を模式的に示す図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing an image of a side surface of a laminated chip taken in the manufacturing process of the laminated ceramic capacitor;

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
図面には、適宜相互に直交するX軸、Y軸、及びZ軸が示されている。X軸、Y軸、及びZ軸は全図において共通である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The drawings show mutually orthogonal X, Y and Z axes where appropriate. The X-axis, Y-axis, and Z-axis are common in all drawings.

[積層セラミックコンデンサ10の構成]
図1~3は、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10を示す図である。図1は、積層セラミックコンデンサ10の斜視図である。図2は、積層セラミックコンデンサ10の図1のA-A'線に沿った断面図である。図3は、積層セラミックコンデンサ10のB-B'線に沿った断面図である。
[Structure of Multilayer Ceramic Capacitor 10]
1 to 3 are diagrams showing a multilayer ceramic capacitor 10 according to one embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view of a laminated ceramic capacitor 10. FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view of the multilayer ceramic capacitor 10 taken along line AA' in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the multilayer ceramic capacitor 10 taken along line BB'.

積層セラミックコンデンサ10は、セラミック素体11と、第1外部電極14と、第2外部電極15と、を具備する。セラミック素体11は、典型的には、X軸方向を向いた2つの端面11a,11bと、Y軸方向を向いた2つの側面11c,11dと、Z軸方向を向いた2つの主面11e,11fと、を有する。セラミック素体11の各面を接続する稜部は面取りされている。 A laminated ceramic capacitor 10 includes a ceramic element body 11 , a first external electrode 14 and a second external electrode 15 . The ceramic body 11 typically has two end surfaces 11a and 11b facing the X-axis direction, two side surfaces 11c and 11d facing the Y-axis direction, and two main surfaces 11e facing the Z-axis direction. , 11f and . Ridges connecting the surfaces of the ceramic body 11 are chamfered.

なお、セラミック素体11の形状は、上記のものに限定されない。つまり、セラミック素体11は、図1~3に示すような直方体形状でなくてもよい。例えば、セラミック素体11の各面は曲面であってもよく、セラミック素体11は全体として丸みを帯びた形状であってもよい。 Note that the shape of the ceramic body 11 is not limited to the above. That is, the ceramic body 11 does not have to have a rectangular parallelepiped shape as shown in FIGS. For example, each surface of the ceramic body 11 may be curved, and the ceramic body 11 may have a rounded shape as a whole.

セラミック素体11のサイズは特に限定されないが、例えばZ軸方向に沿った高さ寸法が0.3mm以上、より好ましくは0.5mm以上のものが好適である。なお、各寸法は、各方向に沿った最も大きい寸法とする。 Although the size of the ceramic body 11 is not particularly limited, for example, the height dimension along the Z-axis direction is preferably 0.3 mm or more, more preferably 0.5 mm or more. In addition, let each dimension be the largest dimension along each direction.

外部電極14,15は、セラミック素体11の端面11a,11bを覆い、端面11a,11bに接続する4つの面(主面11e,11f及び側面11c,11d)に延出している。これにより、外部電極14,15のいずれにおいても、X-Z平面に平行な断面及びX-Y平面に平行な断面の形状がU字状となっている。 The external electrodes 14, 15 cover the end faces 11a, 11b of the ceramic body 11 and extend to four faces (main faces 11e, 11f and side faces 11c, 11d) connected to the end faces 11a, 11b. As a result, both the external electrodes 14 and 15 have a U-shaped cross section parallel to the XZ plane and a cross section parallel to the XY plane.

セラミック素体11は、積層チップ16と、サイドマージン部17と、を有する。サイドマージン部17は、積層チップ16のY軸方向を向いた両側面の全領域をそれぞれ覆っている。 The ceramic body 11 has a laminated chip 16 and side margin portions 17 . The side margin portions 17 respectively cover the entire regions of both side surfaces of the laminated chip 16 facing the Y-axis direction.

積層チップ16は、容量形成部19と、第1カバー部20aと、第2カバー部20bと、を有する。第1カバー部20aは、容量形成部19のZ軸方向上面を覆っており、第2カバー部20bは、容量形成部19のZ軸方向下面を覆っている。容量形成部19は、複数のセラミック層18と、複数の第1内部電極12と、複数の第2内部電極13と、を有する。カバー部20a,20bには、内部電極12,13が設けられていない。 The laminated chip 16 has a capacitance forming portion 19, a first cover portion 20a, and a second cover portion 20b. The first cover portion 20a covers the upper surface of the capacitance forming portion 19 in the Z-axis direction, and the second cover portion 20b covers the lower surface of the capacitance forming portion 19 in the Z-axis direction. The capacitance forming portion 19 has a plurality of ceramic layers 18 , a plurality of first internal electrodes 12 and a plurality of second internal electrodes 13 . The internal electrodes 12 and 13 are not provided on the cover portions 20a and 20b.

セラミック素体11では、容量形成部19における外部電極14,15が設けられた端面11a,11b以外の面がサイドマージン部17及びカバー部20a,20bによって覆われている。サイドマージン部17及びカバー部20a,20bは、主に、容量形成部19の周囲を保護し、内部電極12,13の絶縁性を確保する機能を有する。 In the ceramic body 11, surfaces other than the end surfaces 11a and 11b on which the external electrodes 14 and 15 are provided in the capacitance forming portion 19 are covered with the side margin portions 17 and the cover portions 20a and 20b. The side margin portion 17 and the cover portions 20a and 20b mainly have the function of protecting the periphery of the capacitance forming portion 19 and ensuring the insulation of the internal electrodes 12 and 13. As shown in FIG.

内部電極12,13は、Z軸方向に積層された複数のセラミック層18の間に、Z軸方向に沿って交互に配置されている。第1内部電極12は、第1外部電極14に接続され、第2外部電極15から離間している。第2内部電極13は、第2外部電極15に接続され、第1外部電極14から離間している。内部電極12,13は、ニッケル(Ni)、銅(Cu)等の良導性の金属を主成分として構成される。 The internal electrodes 12 and 13 are alternately arranged along the Z-axis direction between a plurality of ceramic layers 18 laminated in the Z-axis direction. The first internal electrode 12 is connected to the first external electrode 14 and separated from the second external electrode 15 . The second internal electrode 13 is connected to the second external electrode 15 and separated from the first external electrode 14 . The internal electrodes 12 and 13 are mainly composed of a highly conductive metal such as nickel (Ni) or copper (Cu).

容量形成部19における内部電極12,13間のセラミック層18は、誘電体セラミックスによって形成されている。積層セラミックコンデンサ10では、容量形成部19における容量を大きくするために、セラミック層18を構成する誘電体セラミックスとして高誘電率のものが用いられる。 A ceramic layer 18 between the internal electrodes 12 and 13 in the capacitance forming portion 19 is made of dielectric ceramics. In the multilayer ceramic capacitor 10 , dielectric ceramics with a high dielectric constant are used as the dielectric ceramics forming the ceramic layers 18 in order to increase the capacitance of the capacitance forming portion 19 .

より具体的に、積層セラミックコンデンサ10では、セラミック層18を構成する高誘電率の誘電体セラミックスとして、チタン酸バリウム(BaTiO)系材料の多結晶体、つまりバリウム(Ba)及びチタン(Ti)を含むペロブスカイト構造の多結晶体を用いる。これにより、積層セラミックコンデンサ10では大容量が得られる。 More specifically, in the multilayer ceramic capacitor 10, polycrystalline barium titanate (BaTiO 3 )-based materials, that is, barium (Ba) and titanium (Ti) are used as dielectric ceramics with a high dielectric constant forming the ceramic layers 18 . A polycrystal with a perovskite structure containing is used. Thereby, a large capacitance can be obtained in the multilayer ceramic capacitor 10 .

なお、セラミック層18は、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)系、チタン酸カルシウム(CaTiO)系、チタン酸マグネシウム(MgTiO)系、ジルコン酸カルシウム(CaZrO)系、チタン酸ジルコン酸カルシウム(Ca(Zr,Ti)O)系、ジルコン酸バリウム(BaZrO)系、酸化チタン(TiO)系などで構成してもよい。 The ceramic layer 18 is made of strontium titanate (SrTiO 3 ), calcium titanate (CaTiO 3 ), magnesium titanate (MgTiO 3 ), calcium zirconate (CaZrO 3 ), calcium zirconate titanate (Ca (Zr, Ti)O 3 ) system, barium zirconate (BaZrO 3 ) system, titanium oxide (TiO 2 ) system, or the like may be used.

サイドマージン部17及びカバー部20a,20bも、誘電体セラミックスによって形成されている。サイドマージン部17及びカバー部20a,20bを形成する材料は、絶縁性セラミックスであればよいが、セラミック層18と同様の誘電体セラミックスを用いることによりセラミック素体11における内部応力が抑制される。 The side margin portion 17 and the cover portions 20a and 20b are also made of dielectric ceramics. The side margin portion 17 and the cover portions 20a and 20b may be made of insulating ceramics, but internal stress in the ceramic body 11 can be suppressed by using the same dielectric ceramics as the ceramic layer 18. FIG.

上記の構成により、積層セラミックコンデンサ10では、第1外部電極14と第2外部電極15との間に電圧が印加されると、第1内部電極12と第2内部電極13との間の複数のセラミック層18に電圧が加わる。これにより、積層セラミックコンデンサ10では、第1外部電極14と第2外部電極15との間の電圧に応じた電荷が蓄えられる。 With the above configuration, in the multilayer ceramic capacitor 10, when a voltage is applied between the first external electrode 14 and the second external electrode 15, the plurality of voltages between the first internal electrode 12 and the second internal electrode 13 A voltage is applied to the ceramic layer 18 . As a result, in the multilayer ceramic capacitor 10 , electric charges corresponding to the voltage between the first external electrode 14 and the second external electrode 15 are stored.

なお、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ10の基本構成は、図1~3に示す構成に限定されず、適宜変更可能である。例えば、内部電極12,13の枚数やセラミック層18の厚さは、積層セラミックコンデンサ10に求められるサイズや性能に応じて、適宜決定可能である。 The basic configuration of the laminated ceramic capacitor 10 according to this embodiment is not limited to the configurations shown in FIGS. 1 to 3, and can be changed as appropriate. For example, the number of internal electrodes 12 and 13 and the thickness of ceramic layer 18 can be appropriately determined according to the size and performance required of multilayer ceramic capacitor 10 .

[積層セラミックコンデンサ10の製造方法]
図4は、積層セラミックコンデンサ10の製造方法を示すフローチャートである。図5~14は、積層セラミックコンデンサ10の製造過程を示す図である。以下、積層セラミックコンデンサ10の製造方法について、図4に沿って、図5~14を適宜参照しながら説明する。
[Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor 10]
FIG. 4 is a flow chart showing the manufacturing method of the multilayer ceramic capacitor 10. As shown in FIG. 5 to 14 are diagrams showing the manufacturing process of the multilayer ceramic capacitor 10. FIG. Hereinafter, a method for manufacturing the laminated ceramic capacitor 10 will be described along FIG. 4 with reference to FIGS. 5 to 14 as appropriate.

(ステップS01:セラミックシート準備)
ステップS01では、容量形成部19を形成するための第1セラミックシート101及び第2セラミックシート102と、カバー部20a,20bを形成するための第3セラミックシート103と、を準備する。セラミックシート101,102,103は、誘電体セラミックスを主成分とする未焼成の誘電体グリーンシートとして構成される。
(Step S01: Ceramic sheet preparation)
In step S01, a first ceramic sheet 101 and a second ceramic sheet 102 for forming the capacitance forming portion 19, and a third ceramic sheet 103 for forming the cover portions 20a and 20b are prepared. The ceramic sheets 101, 102, 103 are configured as unfired dielectric green sheets containing dielectric ceramics as a main component.

セラミックシート101,102,103は、例えば、ロールコーターやドクターブレードなどを用いてシート状に成形される。セラミックシート101,102,103の厚さは適宜調整可能である。 The ceramic sheets 101, 102, 103 are formed into sheets using, for example, a roll coater or a doctor blade. The thickness of the ceramic sheets 101, 102, 103 can be adjusted appropriately.

図5は、セラミックシート101,102,103の平面図である。この段階では、セラミックシート101,102,103が、個片化されていない大判のシートとして構成される。図5には、各積層セラミックコンデンサ10ごとに個片化する際の切断線Lx,Lyが示されている。切断線LxはX軸に平行であり、切断線LyはY軸に平行である。 FIG. 5 is a plan view of the ceramic sheets 101, 102, 103. FIG. At this stage, the ceramic sheets 101, 102, 103 are constructed as large sheets that are not singulated. FIG. 5 shows cutting lines Lx and Ly used when individualizing each laminated ceramic capacitor 10 . The cutting line Lx is parallel to the X-axis, and the cutting line Ly is parallel to the Y-axis.

図5に示すように、第1セラミックシート101には第1内部電極12に対応する未焼成の第1内部電極112が形成され、第2セラミックシート102には第2内部電極13に対応する未焼成の第2内部電極113が形成されている。なお、カバー部20a,20bに対応する第3セラミックシート103には内部電極が形成されていない。 As shown in FIG. 5, unfired first internal electrodes 112 corresponding to the first internal electrodes 12 are formed on the first ceramic sheet 101 , and unfired first internal electrodes 112 corresponding to the second internal electrodes 13 are formed on the second ceramic sheet 102 . A sintered second internal electrode 113 is formed. No internal electrodes are formed on the third ceramic sheet 103 corresponding to the cover portions 20a and 20b.

内部電極112,113は、任意の導電性ペーストをセラミックシート101,102に塗布することによって形成することができる。導電性ペーストの塗布方法は、公知の技術から任意に選択可能である。例えば、導電性ペーストの塗布には、スクリーン印刷法やグラビア印刷法を用いることができる。 The internal electrodes 112, 113 can be formed by applying any conductive paste to the ceramic sheets 101, 102. FIG. A method for applying the conductive paste can be arbitrarily selected from known techniques. For example, a screen printing method or a gravure printing method can be used to apply the conductive paste.

内部電極112,113は、Y軸方向に沿って延びる複数の帯状にパターニングされている。各帯状のパターンは、各切断線Lxを横切りつつ1本の切断線Lyに沿って延びている。隣り合う帯状のパターンは、1本の切断線Lyを挟んでX軸方向に離間して配置されている。 The internal electrodes 112 and 113 are patterned into a plurality of strips extending along the Y-axis direction. Each belt-like pattern extends along one cutting line Ly while crossing each cutting line Lx. Adjacent belt-like patterns are spaced apart in the X-axis direction with one cutting line Ly interposed therebetween.

(ステップS02:積層シート作製)
ステップS02では、ステップS01で準備したセラミックシート101,102,103を、Z軸方向に平行な第1方向Z1に沿って図6に示す順に積層することにより、積層シート104を作製する。
(Step S02: Laminated sheet production)
In step S02, ceramic sheets 101, 102, and 103 prepared in step S01 are laminated along the first direction Z1 parallel to the Z-axis direction in the order shown in FIG.

ステップS02では、まず第3セラミックシート103を第1方向Z1に沿って複数枚積層し、第1積層体105を形成する。第1積層体105における第3セラミックシート103の積層枚数は、図示の例に限定されない。第1積層体105は、第2カバー部20bに対応する。第1積層体105のうち、Z軸方向に平行でかつ第1方向Z1とは逆の第2方向Z2に向く面は、積層シート104の第2主面S2を構成する。 In step S02, first, a plurality of third ceramic sheets 103 are laminated along the first direction Z1 to form the first laminate 105. As shown in FIG. The number of laminated third ceramic sheets 103 in the first laminate 105 is not limited to the illustrated example. The first laminate 105 corresponds to the second cover portion 20b. A surface of the first laminate 105 that is parallel to the Z-axis direction and faces in a second direction Z2 opposite to the first direction Z1 constitutes a second main surface S2 of the laminate sheet 104 .

続いて、第1積層体105上に、第1セラミックシート101及び第2セラミックシート102を第1方向Z1に交互に積層し、第2積層体106を形成する。第2積層体106は、容量形成部19に対応する。 Subsequently, the first ceramic sheets 101 and the second ceramic sheets 102 are alternately laminated on the first laminate 105 in the first direction Z1 to form the second laminate 106 . The second stacked body 106 corresponds to the capacitance forming portion 19 .

そして、第2積層体106上に、第1方向Z1に沿って第3セラミックシート103を複数枚積層し、第3積層体107を形成する。第3積層体107における第3セラミックシート103の積層枚数は、図示の例に限定されない。第3積層体107は、第1カバー部20aに対応する。第3積層体107の第1方向Z1に向く面は、積層シート104の第1主面S1を構成する。 A plurality of third ceramic sheets 103 are laminated on the second laminate 106 along the first direction Z1 to form a third laminate 107 . The number of laminated third ceramic sheets 103 in the third laminated body 107 is not limited to the illustrated example. The third laminate 107 corresponds to the first cover portion 20a. The surface of the third laminate 107 facing the first direction Z1 constitutes the first main surface S1 of the laminate sheet 104 .

本ステップでは、新たなセラミックシートを積層する度に、第2方向Z2に向かって当該セラミックシートを積層途中の積層体に仮圧着する。これにより、新たなセラミックシートが既に積層されたセラミックシートと密着し、積層過程における各セラミックシートの剥離を防止することができる。 In this step, each time a new ceramic sheet is laminated, the ceramic sheet is temporarily pressure-bonded to the laminated body in the middle of lamination in the second direction Z2. As a result, the new ceramic sheet is brought into close contact with the already laminated ceramic sheets, and separation of the ceramic sheets during the lamination process can be prevented.

図7は、本ステップの詳細について説明する模式的な断面図である。なお、図7~10において内部電極112,113の図示は省略している。 FIG. 7 is a schematic cross-sectional view explaining the details of this step. 7 to 10, illustration of the internal electrodes 112 and 113 is omitted.

まず、図7Aに示すように、積層途中の積層体P1が、Z軸方向に相互に対向する載置板B1と加圧板B2とに挟まれて配置されている。積層体P1は、1又は複数のセラミックシートが第1方向Z1に積層されたものとする。積層体P1の第2主面S2は、載置板B1に対向している。 First, as shown in FIG. 7A, a layered body P1 in the process of being layered is sandwiched between a mounting plate B1 and a pressure plate B2 facing each other in the Z-axis direction. It is assumed that the laminate P1 is formed by laminating one or more ceramic sheets in the first direction Z1. A second main surface S2 of the laminate P1 faces the mounting plate B1.

続いて、図7Bに示すように、積層体P1の第1方向Z1に向いた面Paに、新たなセラミックシートCが積層される。 Subsequently, as shown in FIG. 7B, a new ceramic sheet C is laminated on the surface Pa of the laminate P1 facing the first direction Z1.

そして、加圧板B2が第2方向Z2に移動し、新たなセラミックシートCと積層体P1とを第2方向Z2に加圧する。これにより、図7Cに示すように、セラミックシートCが積層体P1に仮圧着され、積層体P2が形成される。仮圧着には、例えば、一軸加圧などを用いることができる。 Then, the pressure plate B2 moves in the second direction Z2 to press the new ceramic sheet C and the laminate P1 in the second direction Z2. Thereby, as shown in FIG. 7C, the ceramic sheet C is temporarily press-bonded to the laminate P1 to form the laminate P2. Uniaxial pressurization or the like can be used for temporary pressure bonding, for example.

図7に示す一連の工程を、所定の積層枚数に対応する回数繰り返し、積層シート104が形成される。 A series of steps shown in FIG. 7 are repeated a number of times corresponding to a predetermined number of laminated sheets to form the laminated sheet 104 .

載置板B1及び加圧板B2は、付加される圧力に十分耐えうる強度を有すればよく、例えば金属板で構成される。載置板B1と第2主面S2との間には、必要に応じて、シリコン樹脂等で形成された弱粘着性のシート材B3を配置してもよい。これにより、積層時における積層体P1のズレを防止することができる。 The mounting plate B1 and the pressure plate B2 need only have sufficient strength to withstand the applied pressure, and are made of metal plates, for example. A weakly adhesive sheet material B3 made of silicon resin or the like may be arranged between the mounting plate B1 and the second main surface S2, if necessary. This can prevent the stacked body P1 from shifting during stacking.

さらに、全てのセラミックシート101,102,103が積層された後にも、積層シート104に対して同様に圧着を行う。この場合は、仮圧着と同一の加圧機構を用いてもよいし、静水圧加圧など他の加圧機構を用いてもよい。 Furthermore, after all the ceramic sheets 101, 102, 103 are laminated, the laminated sheet 104 is similarly crimped. In this case, the same pressurizing mechanism as that used for temporary pressure bonding may be used, or another pressurizing mechanism such as hydrostatic pressurization may be used.

本ステップでは、セラミックシートの積層体に対して、積層シート104におけるセラミックシートの積層枚数とほぼ同一の回数、加圧処理が行われることとなる。つまり、第2主面S2側と第1主面S1側では加圧された回数が大きく異なるため、これらの間に密度及び硬度の差が生じる。 In this step, the laminate of ceramic sheets is subjected to the pressure treatment approximately the same number of times as the number of ceramic sheets laminated in the laminate sheet 104 . That is, since the number of pressurization times differs greatly between the second main surface S2 side and the first main surface S1 side, a difference in density and hardness occurs between them.

(ステップS03:第1テープ貼付)
本ステップでは、図8に示すように、積層シート104の第1主面S1を第1テープ(第1保持部材)T1に貼り付け、第1主面S1を第1テープT1に保持させる。第1テープT1は、例えば粘着力の管理ができるテープであり、熱や紫外線照射によって粘着力が変化する材料を用いることができる。これにより、ステップS05において第1テープT1を容易に除去することができる。なお、図8では、積層シート104が載置板B1及びシート材B3上に配置されている態様を示しているが、積層シート104を他のシート材、板材等に移載してから行ってもよい。
(Step S03: Attaching the first tape)
In this step, as shown in FIG. 8, the first main surface S1 of the laminated sheet 104 is attached to the first tape (first holding member) T1, and the first main surface S1 is held by the first tape T1. The first tape T1 is, for example, a tape whose adhesive strength can be managed, and a material whose adhesive strength changes with heat or ultraviolet irradiation can be used. This makes it possible to easily remove the first tape T1 in step S05. Although FIG. 8 shows a mode in which the laminated sheet 104 is arranged on the mounting plate B1 and the sheet material B3, the laminated sheet 104 is transferred to another sheet material, plate material, or the like, and then placed thereon. good too.

(ステップS04:第2テープ貼付)
本ステップでは、図9に示すように、第1テープT1に保持された積層シート104の第2主面S2を第2テープ(第2保持部材)T2に貼り付け、第2主面S2を第2テープT2に保持させる。第2テープの貼り付けは、載置板B1及びシート材B3から積層シート104を離間させ、第1テープT1で積層シート104を支持しながら行われる。これにより、ステップS06の切断工程におけるハンドリング性を高めることができる。第2テープT2も、第1テープT1と同様に粘着力の管理ができるテープを用いることができる。
(Step S04: Attaching the second tape)
In this step, as shown in FIG. 9, the second main surface S2 of the laminated sheet 104 held by the first tape T1 is attached to the second tape (second holding member) T2, and the second main surface S2 is attached to the second main surface S2. 2 Tape T2 is held. The attachment of the second tape is performed while separating the laminated sheet 104 from the mounting plate B1 and the sheet material B3 and supporting the laminated sheet 104 with the first tape T1. This makes it possible to improve the handleability in the cutting process of step S06. As the second tape T2, a tape whose adhesive strength can be managed similarly to the first tape T1 can be used.

第2テープの貼り付けは、図9のように第2主面S2(第2方向Z2)をZ軸方向下方に向けた状態で行われてもよいし、第2主面S2(第2方向Z2)をZ軸方向上方に向けた状態に反転して行われてもよい。 The second tape may be attached with the second main surface S2 (second direction Z2) directed downward in the Z-axis direction as shown in FIG. Z2) may be reversed to face upward in the Z-axis direction.

(ステップS05:第1テープ除去)
本ステップでは、図10に示すように、第1テープT1を第1主面S1から剥がし、積層シート104から第1テープT1を除去する。第1テープT1の除去方法としては、第1テープT1の材料に応じた粘着力を低下させる方法であればよく、第1テープT1の加熱や紫外線照射等が挙げられる。本ステップにより、第1主面S1が開放される。一方、第2主面S2は、第2テープT2に貼り付けられた状態を維持している。
(Step S05: Remove first tape)
In this step, as shown in FIG. 10, the first tape T1 is peeled off from the first main surface S1 to remove the first tape T1 from the laminated sheet 104. As shown in FIG. As a method for removing the first tape T1, any method may be used as long as it reduces the adhesive force according to the material of the first tape T1, and examples thereof include heating the first tape T1 and irradiating it with ultraviolet rays. This step opens the first main surface S1. On the other hand, the second main surface S2 maintains the state of being attached to the second tape T2.

(ステップS06:切断)
本ステップでは、図11に示すように、積層シート104を切断線Lx,Lyに沿って切断することにより、未焼成の積層チップ116を作製する。積層チップ116は、焼成後の積層チップ16に対応する。
(Step S06: Disconnect)
In this step, as shown in FIG. 11, by cutting the laminated sheet 104 along the cutting lines Lx and Ly, unfired laminated chips 116 are produced. The laminated chip 116 corresponds to the laminated chip 16 after firing.

図12は、本ステップの詳細について説明する模式的な断面図である。 FIG. 12 is a schematic cross-sectional view explaining the details of this step.

まず、図12(A)に示すように、第2方向Z2に向けられた切断刃Kを、積層シート104の第1主面S1のZ軸方向上方に配置する。切断刃Kは、押し切り刃として構成される。積層シート104は、第2テープT2によって保持されている。 First, as shown in FIG. 12A, the cutting blade K directed in the second direction Z2 is arranged above the first main surface S1 of the laminated sheet 104 in the Z-axis direction. The cutting blade K is configured as a push cutting blade. The laminated sheet 104 is held by the second tape T2.

次に、図12(B)に示すように、切断刃Kを第2方向Z2に移動させ、積層シート104の第1主面S1に挿入し、第1主面S1から第2主面S2に向かって積層シート104を切断する。切断刃Kは、第2テープT2に到達し、かつ第2テープT2を完全に切断しないように調整される。第2テープT2を用いることにより、個片化後も複数の積層チップ116を一括して扱うことが可能となる。 Next, as shown in FIG. 12B, the cutting blade K is moved in the second direction Z2, inserted into the first main surface S1 of the laminated sheet 104, and cut from the first main surface S1 to the second main surface S2. The laminated sheet 104 is cut in the direction of FIG. The cutting blade K is adjusted so as to reach the second tape T2 and not completely cut the second tape T2. By using the second tape T2, it is possible to collectively handle a plurality of layered chips 116 even after singulation.

最後に、図12(C)に示すように、切断刃Kを第1方向Z1に移動させて、積層シート104から切断刃Kを引き抜く。これにより、積層シート104が複数の積層チップ116に個片化される。第2テープT2は、切断後、所定のタイミングで積層チップ116から除去される。 Finally, as shown in FIG. 12C, the cutting blade K is moved in the first direction Z1 to pull out the cutting blade K from the laminated sheet 104. Then, as shown in FIG. Thereby, the laminated sheet 104 is singulated into a plurality of laminated chips 116 . After being cut, the second tape T2 is removed from the layered chip 116 at a predetermined timing.

図13は、ステップS03で得られる積層チップ116の斜視図である。積層チップ116には、容量形成部119及びカバー部120が形成されている。積層チップ116の切断面である両側面S3,S4からは、内部電極112,113の端部が露出している。内部電極112,113の間にはセラミック層118が形成されている。 FIG. 13 is a perspective view of the layered chip 116 obtained in step S03. A capacitance forming portion 119 and a cover portion 120 are formed in the laminated chip 116 . Ends of the internal electrodes 112 and 113 are exposed from both side surfaces S3 and S4 which are cut surfaces of the laminated chip 116 . A ceramic layer 118 is formed between the internal electrodes 112 and 113 .

(ステップS07:サイドマージン部形成)
本ステップでは、積層チップ116の側面S3,S4に未焼成のサイドマージン部117を設ける。これにより、図14に示す未焼成のセラミック素体111が作製される。なお、本ステップは、予め積層チップ116から第2テープT2を除去し、積層チップ116の向きを90度回転させて行われる。
(Step S07: Side Margin Formation)
In this step, unsintered side margin portions 117 are provided on the side surfaces S3 and S4 of the laminated chip 116 . As a result, an unfired ceramic body 111 shown in FIG. 14 is produced. This step is performed by removing the second tape T2 from the layered chip 116 in advance and rotating the layered chip 116 by 90 degrees.

サイドマージン部117は、例えば、積層チップ116の側面S3,S4にセラミックシートを貼り付けることにより形成することができる。あるいは、サイドマージン部117は、例えば塗布やディップなどによって積層チップ116の側面S3,S4をセラミックスラリーでコーティングすることにより形成することもできる。 The side margin portion 117 can be formed by attaching a ceramic sheet to the side surfaces S3 and S4 of the laminated chip 116, for example. Alternatively, the side margin portions 117 can also be formed by coating the side surfaces S3 and S4 of the laminated chip 116 with ceramic slurry by, for example, coating or dipping.

(ステップS08:焼成)
本ステップでは、ステップS07で得られた未焼成のセラミック素体111を焼結させることにより、図1~3に示す積層セラミックコンデンサ10のセラミック素体11を作製する。つまり、ステップS08により、積層チップ116が積層チップ16になり、サイドマージン部117がサイドマージン部17になる。
(Step S08: Firing)
In this step, the unfired ceramic body 111 obtained in step S07 is sintered to fabricate the ceramic body 11 of the multilayer ceramic capacitor 10 shown in FIGS. That is, the laminated chip 116 becomes the laminated chip 16 and the side margin portion 117 becomes the side margin portion 17 by step S08.

本ステップおける焼成温度は、セラミック素体111の焼結温度に基づいて決定可能である。例えば、誘電体セラミックスとしてチタン酸バリウム系材料を用いる場合には、焼成温度を1000~1300℃程度とすることができる。焼成は、例えば、還元雰囲気下、又は低酸素分圧雰囲気下において行うことができる。 The sintering temperature in this step can be determined based on the sintering temperature of the ceramic body 111 . For example, when a barium titanate-based material is used as the dielectric ceramics, the firing temperature can be about 1000 to 1300.degree. Firing can be performed, for example, in a reducing atmosphere or in a low oxygen partial pressure atmosphere.

(ステップS09:外部電極形成)
本ステップでは、ステップS08で得られたセラミック素体11に外部電極14,15を形成することにより、図1~3に示す積層セラミックコンデンサ10を作製する。外部電極14,15は、例えば、端面11a,11bに塗布された未焼成の電極材料を焼き付け、当該焼き付けられた導電膜を下地膜として電解メッキなどのメッキ処理を行うことにより、形成される。
(Step S09: External electrode formation)
In this step, the multilayer ceramic capacitor 10 shown in FIGS. 1 to 3 is produced by forming the external electrodes 14 and 15 on the ceramic body 11 obtained in step S08. The external electrodes 14 and 15 are formed, for example, by baking an unbaked electrode material applied to the end faces 11a and 11b and performing plating such as electroplating using the baked conductive film as a base film.

なお、上記のステップS09における処理の一部を、ステップS08の前に行ってもよい。例えば、ステップS08の前に未焼成のセラミック素体111の端面11a,11bに未焼成の電極材料を塗布してもよい。これにより、ステップS08において、未焼成のセラミック素体111の焼成と電極材料の焼き付けとを同時に行うことができる。 Part of the processing in step S09 may be performed before step S08. For example, an unfired electrode material may be applied to the end faces 11a and 11b of the unfired ceramic body 111 before step S08. Accordingly, in step S08, firing of the unfired ceramic body 111 and baking of the electrode material can be performed simultaneously.

[本実施形態の作用効果]
本実施形態では、第1主面S1から第2主面S2に向かって積層シート104を切断する。これにより、硬度の低い第1主面S1に切断刃を挿入することができる。したがって、切断時の切断刃のダメージを低減し、刃こぼれを防止することができる。以下、本実施形態の実施例を用いて作用効果について詳細に説明する。
[Action and effect of the present embodiment]
In this embodiment, the laminated sheet 104 is cut from the first main surface S1 toward the second main surface S2. Thereby, a cutting blade can be inserted in 1st main surface S1 with low hardness. Therefore, it is possible to reduce the damage to the cutting blade during cutting and prevent blade breakage. Hereinafter, the effects will be described in detail using examples of the present embodiment.

第1主面S1側と第2主面S2側の実際の硬度について確認するため、積層シート104のサンプル1,2を作製した。サンプル1,2は、いずれも、X軸方向の寸法が1.0mm、Y軸方向及びZ軸方向の寸法が0.5mmとなる積層セラミックコンデンサを想定して設計された積層シート104である。各セラミックシートを構成するグリーンシートの厚みは0.8μm、セラミックシートの層数は600層とした。 Samples 1 and 2 of the laminated sheet 104 were produced in order to confirm the actual hardness of the first main surface S1 side and the second main surface S2 side. Samples 1 and 2 are laminated sheets 104 designed assuming a laminated ceramic capacitor having a dimension of 1.0 mm in the X-axis direction and 0.5 mm in the Y-axis and Z-axis directions. The thickness of the green sheets constituting each ceramic sheet was 0.8 μm, and the number of layers of the ceramic sheets was 600 layers.

硬度は、ナノインデンテーション法により、室温下でダイヤモンド圧子(三角錐形状、先端設置辺100nm、対稜角80°)を21nm/secにて押し込み、変位と荷重を計測することで求めた。また、具体的に第1主面S1側として、第1主面S1の表面からZ軸方向に30μmの位置を、第2主面S2側として、第2主面S2の表面からZ軸方向に30μmの位置を測定した。なお、測定値は、100個のサンプルの平均値として算出した。 The hardness was obtained by indenting a diamond indenter (triangular pyramid shape, tip installation side 100 nm, opposite edge angle 80°) at 21 nm/sec at room temperature by the nanoindentation method, and measuring displacement and load. Further, specifically, as the first main surface S1 side, a position 30 μm in the Z-axis direction from the surface of the first main surface S1 is defined as the second main surface S2 side, and in the Z-axis direction from the surface of the second main surface S2. A position of 30 μm was measured. In addition, the measured value was calculated as an average value of 100 samples.

表1に、第1主面S1側と第2主面S2側の硬度の測定結果を示す。表1の結果は、サンプル1の第1主面S1側の硬度を1.0として、当該硬度に対する各位置で測定された硬度の相対値を示す。 Table 1 shows the hardness measurement results on the first main surface S1 side and the second main surface S2 side. The results in Table 1 show the relative values of the hardness measured at each position with respect to the hardness on the first main surface S1 side of Sample 1, which is 1.0.

Figure 0007116520000001
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表1に示すように、サンプル1では、第1主面S1側の硬度(1.0)に対して、第2主面S2側の硬度は1.9であった。
サンプル2では、サンプル1の第1主面S1側の硬度(1.0)に対して、第1主面S1側の硬度は1.2、第2主面S2側の硬度は1.6であった。
つまり、サンプル1,2のいずれも、第1主面S1側と第2主面S2側とで1.5~2.0倍程度の差異が認められた。
As shown in Table 1, in sample 1, the hardness on the side of the second main surface S2 was 1.9 with respect to the hardness on the side of the first main surface S1 (1.0).
Sample 2 has a hardness of 1.2 on the side of the first main surface S1 and a hardness of 1.6 on the side of the second main surface S2 with respect to the hardness (1.0) on the side of the first main surface S1 of Sample 1. there were.
That is, in both samples 1 and 2, a difference of about 1.5 to 2.0 times was observed between the first main surface S1 side and the second main surface S2 side.

これらの結果から、第1主面S1側では第2主面S2側よりも硬度が大幅に低いことが確認された。これは、第2主面S2側と第1主面S1側とで加圧される回数が大きく異なるためである。すなわち、第2主面S2を構成する第3セラミックシート103では、ほぼ積層枚数と同じ回数、加圧される。一方で、第1主面S1を構成する第3セラミックシート103では、最後の圧着時のみ加圧される。これにより、第1主面S1側では第2主面S2側よりも圧密化されず、硬度が低くなる。 From these results, it was confirmed that the hardness on the side of the first main surface S1 is significantly lower than that on the side of the second main surface S2. This is because the number of pressurizations on the second main surface S2 side and the first main surface S1 side differ greatly. In other words, the third ceramic sheet 103 constituting the second main surface S2 is pressed approximately the same number of times as the number of laminated sheets. On the other hand, the third ceramic sheet 103 forming the first main surface S1 is pressed only during the final pressure bonding. As a result, the first main surface S1 side is less compacted than the second main surface S2 side, and the hardness is lower.

このような硬度の差により、第1主面S1から第2主面S2に向かって切断刃を挿入する場合と、第2主面S2から第1主面S1に向かって切断刃を挿入する場合とで、切断工程における切断刃の受けるダメージは大きく変わると考えられる。 Due to such a difference in hardness, when the cutting blade is inserted from the first main surface S1 toward the second main surface S2 and when the cutting blade is inserted from the second main surface S2 toward the first main surface S1 It is thought that the damage received by the cutting blade in the cutting process varies greatly.

そこで、上記サンプル1について、さらに第1主面S1から第2主面S2に向かって切断したサンプル1-1と、第2主面S2から第1主面S1に向かって切断したサンプル1-2と、を作製し、切断面である側面S3,S4の状態を観察した。観察は、側面S3,S4を撮像した画像により行った。 Therefore, with respect to the sample 1, a sample 1-1 cut from the first main surface S1 toward the second main surface S2 and a sample 1-2 cut from the second main surface S2 toward the first main surface S1 were obtained. , and the states of the side surfaces S3 and S4, which are cut surfaces, were observed. Observation was performed using images of the side surfaces S3 and S4.

図15は、撮像された側面S3,S4の画像を模式的に示す図であり、図15Aはサンプル1-1、図15Bはサンプル1-2の結果をそれぞれ示す。 15A and 15B are diagrams schematically showing the images of the side surfaces S3 and S4 that have been captured. FIG. 15A shows the result of sample 1-1, and FIG. 15B shows the result of sample 1-2.

図15Bに示すサンプル1-2では、第2主面S2から第1主面S1に延びる多くの引き摺り傷H2が形成されていた。具体的に、撮像された側面S3,S4では、X軸方向に沿った幅が20μm以上ある引き摺り傷H2が20本以上形成されていた。このような幅を有する引き摺り傷H2は、Y軸方向にもある程度の深さがあるものと推測された。 Sample 1-2 shown in FIG. 15B had many scratch marks H2 extending from the second main surface S2 to the first main surface S1. Specifically, 20 or more drag scratches H2 having a width of 20 μm or more along the X-axis direction were formed on the imaged side surfaces S3 and S4. It was presumed that the scratch H2 having such a width also has a certain depth in the Y-axis direction.

一方で、図15Aに示すサンプル1-1では、数本の引き摺り傷H1は見受けられるものの、各引き摺り傷H1のX軸方向に沿った幅は10μm以下であり、Y軸方向の深さはサンプル1-2の引き摺り傷H2よりも浅いものと推測された。 On the other hand, in sample 1-1 shown in FIG. 15A, although several scratches H1 are observed, the width of each drag scratch H1 along the X-axis direction is 10 μm or less, and the depth along the Y-axis direction is 10 μm or less. It was presumed to be shallower than the scratch H2 of 1-2.

側面S3,S4に多く引き摺り傷H2が形成された後の切断刃Kを観察すると、一部が欠損していた。このことから、切断時に積層シート104から切断刃Kがダメージを受けて、いわゆる刃こぼれが発生し、切断刃Kが欠けた刃の断片を引き摺ることで、多数の深い引き摺り傷H2が形成されるものと考えられる。 Observation of the cutting blade K after many drag scratches H2 were formed on the side surfaces S3 and S4 revealed that a portion of the cutting blade K was chipped. For this reason, the cutting blade K receives damage from the laminated sheet 104 during cutting, so-called blade spillage occurs, and the cutting blade K drags the chipped blade fragments, forming many deep scratches H2. It is considered to be a thing.

さらに、側面S3,S4にこのような引き摺り傷H2が形成されることで、内部電極112,113がZ軸方向に展延する。これにより、内部電極112,113間が短絡し、ショートする可能性がある。 Furthermore, the internal electrodes 112 and 113 are extended in the Z-axis direction by forming such a scratch H2 on the side surfaces S3 and S4. As a result, there is a possibility that the internal electrodes 112 and 113 will be short-circuited.

そこで、上記サンプル1,2を第1主面S1から第2主面S2に向かって切断したサンプル1-1,2-1と、第2主面S2から第1主面S1に向かって切断したサンプル1-2,2-2と、のIR不良率(初期絶縁抵抗不良率)について調べた。IR不良率は、サンプル1-1~2-2の各種サンプルにおいて、全てのチップ数(100個)に対してIR不良と判定されたチップ数の割合として算出した。IR不良の判定は、125℃-95%RHの環境下で、10Vの電圧を印加した状態で72時間保持した後、室温における絶縁抵抗を測定し、1MΩ以下となったものとした。 Therefore, the samples 1 and 2 were cut from the first main surface S1 toward the second main surface S2, and the samples 1-1 and 2-1 were cut from the second main surface S2 toward the first main surface S1. The IR defect rate (initial insulation resistance defect rate) of Samples 1-2 and 2-2 was examined. The IR defect rate was calculated as the ratio of the number of chips determined to be IR defective to the total number of chips (100) in each of Samples 1-1 to 2-2. Defective IR was determined by measuring the insulation resistance at room temperature after holding for 72 hours in an environment of 125° C.-95% RH with a voltage of 10 V applied, and determining that it was 1 MΩ or less.

表2に、IR不良率の結果を示す。表2の結果は、サンプル1-1のIR不良率を1.0として、当該IR不良率に対する各サンプルのIR不良率の相対値を示す。 Table 2 shows the IR defect rate results. The results in Table 2 show the relative value of the IR defect rate of each sample with respect to the IR defect rate of sample 1-1 assuming 1.0.

Figure 0007116520000002
Figure 0007116520000002

表2に示すように、サンプル1では、第1主面S1から第2主面S2に向かって切断したサンプル1-1に対して、第2主面S2から第1主面S1に向かって切断したサンプル1-2では、IR不良率が3.2倍大きな値となった。
サンプル2でも、同様の結果が得られた。すなわち、第1主面S1から第2主面S2に向かって切断したサンプル2-1に対して、第2主面S2から第1主面S1に向かって切断したサンプル2-2では、IR不良率が2.7倍(サンプル1-1に対しては3.0倍)大きな値となった。
As shown in Table 2, Sample 1 is cut from the second main surface S2 toward the first main surface S1, as opposed to Sample 1-1, which is cut from the first main surface S1 toward the second main surface S2. In sample 1-2, which has been tested, the IR defect rate is 3.2 times larger.
Sample 2 also gave similar results. That is, in contrast to the sample 2-1 cut from the first main surface S1 toward the second main surface S2, the sample 2-2 cut from the second main surface S2 toward the first main surface S1 has an IR defect. The ratio was 2.7 times greater (3.0 times for sample 1-1).

さらに、光ビーム加熱抵抗変動法(OBIRCH:Optical Beam Induced Resistance Change)によって側面S3,S4におけるショート等の異常リーク電流が発生している位置を検出し、撮像された側面S3,S4の画像と併せて解析した。この結果、大きな引き摺り傷と異常発生箇所との位置がほぼ合致した。したがって、側面S3,S4に引き摺り傷ができることで、内部電極112,113がショートすることが確認された。 Furthermore, the position where an abnormal leakage current such as a short circuit occurs on the side surfaces S3 and S4 is detected by an optical beam heating resistance change method (OBIRCH), and combined with the imaged images of the side surfaces S3 and S4. and analyzed. As a result, the positions of the large scratch and the location of the abnormal occurrence almost coincided. Therefore, it was confirmed that the internal electrodes 112 and 113 were short-circuited due to the scratch on the side surfaces S3 and S4.

以上より、第2主面S2よりも硬度が低い第1主面S1から切断刃Kを挿入することで、IR不良率を低下させることができる。つまり、本実施形態では、切断刃Kの受けるダメージを低減して切断刃Kの欠損を抑制し、側面S3,S4における引き摺り傷の発生を抑制することができ、内部電極112,113(12,13)間の短絡不良を防止することができる。 As described above, the IR defect rate can be reduced by inserting the cutting blade K from the first main surface S1 having a hardness lower than that of the second main surface S2. That is, in the present embodiment, damage to the cutting blade K can be reduced, chipping of the cutting blade K can be suppressed, and the occurrence of drag scratches on the side surfaces S3 and S4 can be suppressed. 13) It is possible to prevent short-circuit failures between.

側面S3,S4において短絡不良が発生した場合は、側面S3,S4の研磨工程を追加して引き摺り傷のない面を露出する、あるいは、短絡不良が発生したチップを廃棄する、等の処置が必要となる。つまり、側面S3,S4におけるIR不良率を低減させることで、このような処置の必要性を低下させ、積層セラミックコンデンサ10の製造効率を向上させることができる。 If a short-circuit failure occurs on the side surfaces S3 and S4, it is necessary to add a polishing process for the side surfaces S3 and S4 to expose the surface without scratches, or to discard the chip with the short-circuit failure. becomes. That is, by reducing the IR defect rate on the side surfaces S3 and S4, the need for such measures can be reduced, and the manufacturing efficiency of the multilayer ceramic capacitor 10 can be improved.

一方、従来から、切断後の積層チップのハンドリングを容易にするために、テープ等の保持部材で積層シートのZ軸方向下面を保持しながら当該積層シートを切断することが行われていた。この場合、1種類のテープで対応可能である。すなわち、積層時にZ軸方向最上面となる第1主面にテープを貼り付け、Z軸方向に反転する。これにより、テープが貼り付けられていない第2主面が第1方向に向くことになり、第2主面から切断刃を挿入することができる。 On the other hand, conventionally, in order to facilitate handling of the laminated chip after cutting, the laminated sheet has been cut while holding the lower surface of the laminated sheet in the Z-axis direction with a holding member such as tape. In this case, one type of tape can be used. That is, the tape is attached to the first main surface, which will be the uppermost surface in the Z-axis direction during lamination, and the stack is reversed in the Z-axis direction. Thereby, the second main surface to which the tape is not attached faces the first direction, and the cutting blade can be inserted from the second main surface.

つまり、上記方法では、テープに関する工程数は最小限に抑えられるものの、硬度の高い第2主面から切断刃を挿入することになる。したがって、切断刃の刃こぼれが発生しやすく、上述のように切断面に多数の引き摺り傷が形成され、IR不良率が高まることとなる。 In other words, in the above method, although the number of tape-related steps is minimized, the cutting blade is inserted from the second main surface, which has a high hardness. Therefore, the cutting blade tends to be chipped, and as described above, a large number of scratches are formed on the cut surface, resulting in an increase in the IR defect rate.

本実施形態では、あえて第1テープT1及び第2テープT2を用い、第2主面S2にテープT2を貼り付け、第1主面S1に貼り付けた第1テープT1を剥がし、第1主面S1を第1方向Z1に向けて切断工程を行う。これにより、テープに関する工程数は増えるものの、IR不良率を大幅に低減させることができ、結果として製造効率を高めることができる。 In this embodiment, the first tape T1 and the second tape T2 are purposely used, the tape T2 is attached to the second main surface S2, the first tape T1 attached to the first main surface S1 is peeled off, and the first main surface is The cutting step is performed with S1 facing the first direction Z1. As a result, although the number of tape-related steps increases, the IR defect rate can be significantly reduced, resulting in an increase in manufacturing efficiency.

また、同一の切断刃を用いて切断工程を続けると、徐々に刃こぼれが発生しやすくなり、引き摺り傷が形成されやすくなる。そこで、本実施形態の積層セラミックコンデンサ10の製造方法は、切断工程の後さらに、切断刃の刃こぼれのリスクが高いと判断される場合に新しい切断刃に交換する工程を含んでいてもよい。 Further, if the same cutting blade is used to continue the cutting process, the blade is likely to be easily chipped, and a scratch is likely to be formed. Therefore, the method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 10 of the present embodiment may include, after the cutting step, a step of replacing the cutting blade with a new one if it is determined that there is a high risk of chipping of the cutting blade.

切断刃の刃こぼれのリスクは、例えば切断刃のカット回数、切断刃によりカットされた積層シートの枚数等に鑑みて決定することができる。 The risk of chipping of the cutting blade can be determined, for example, in consideration of the number of cuts of the cutting blade, the number of laminated sheets cut by the cutting blade, and the like.

あるいは、切断刃の刃こぼれのリスクとして、側面S3,S4における引き摺り傷の状態に鑑みて決定することもできる。例えば、切断後、切断面である側面S3,S4を撮像する工程と、撮像された画像に基づいて側面S3,S4の引き摺り傷を解析する工程と、引き摺り傷の解析結果が所定の条件を満たした場合に新しい切断刃に交換する工程と、を含んでいてもよい。 Alternatively, the risk of chipping of the cutting blade can be determined in consideration of the state of the scratch on the side surfaces S3 and S4. For example, after cutting, a step of capturing images of the side surfaces S3 and S4, which are cut surfaces, a step of analyzing the side surfaces S3 and S4 for drag damage based on the captured images, and a process where the analysis result of the drag damage satisfies a predetermined condition. and replacing the cutting blade with a new cutting blade when it is worn.

上記満たすべき条件としては、1つの側面S3又はS4を撮像した画像中における引き摺り傷のX軸方向に沿った幅寸法、引き摺り傷の深さ、及び引き摺り傷の本数の少なくとも一つを含んでいればよい。これらの条件における数値範囲は、積層セラミックコンデンサ10のサイズや切断刃の種類等に応じて適宜設定することができる。一例として、1枚の画像(1つの側面S3又はS4)中に、10μm以上のX軸方向に沿った幅寸法を有する引き摺り傷が一定の本数を越えた場合に、新しい切断刃に交換するように規定することができる。 The conditions to be satisfied include at least one of the width dimension of the scratch along the X-axis direction, the depth of the scratch, and the number of scratches in the image of one side surface S3 or S4. Just do it. The numerical ranges for these conditions can be appropriately set according to the size of the laminated ceramic capacitor 10, the type of cutting blade, and the like. As an example, when a certain number of scratches having a width dimension of 10 μm or more along the X-axis direction in one image (one side surface S3 or S4) exceeds a certain number, the cutting blade is replaced with a new one. can be stipulated in

上記工程を追加することで、刃こぼれの少ない良好な状態で切断刃を管理することができる。したがって、ショートの発生をより効果的に抑制することができる。 By adding the above steps, it is possible to manage the cutting blade in a good state with less blade spillage. Therefore, it is possible to more effectively suppress the occurrence of a short circuit.

[その他の実施形態]
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
[Other embodiments]
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

上述の実施形態では、第1テープT1と第2テープT2を用いて第1主面S1を第1方向Z1に向けると説明したが、この方法に限定されない。例えば、積層工程における載置板B1上に、テープ等の保持部材を配置し、当該保持部材の第1方向Z1を向く面上にセラミックシート103を積層していく。全てのセラミックシート101,102,103が積層され積層シート104が形成された後、第2主面S2が上記保持部材に保持された状態で切断工程を行うことができる。これにより、テープの貼り替えに関する工程を削減し、より製造効率を高めることができる。 In the embodiment described above, the first main surface S1 is oriented in the first direction Z1 using the first tape T1 and the second tape T2, but the method is not limited to this. For example, a holding member such as a tape is arranged on the mounting plate B1 in the lamination step, and the ceramic sheets 103 are laminated on the surface of the holding member facing the first direction Z1. After all the ceramic sheets 101, 102, 103 are laminated to form the laminated sheet 104, the cutting process can be performed while the second main surface S2 is held by the holding member. As a result, it is possible to reduce the number of processes for re-sticking the tape, and to further improve the manufacturing efficiency.

また、上記実施形態では、切断刃が押し切り刃であると説明したが、切断刃は回転刃でもよい。この場合も、第1主面S1から回転刃を挿入することで、当該回転刃の受けるダメージを抑制し、側面S3,S4において刃こぼれによる引き摺り傷の形成を抑制することができる。 Also, in the above embodiment, the cutting blade is a push cutting blade, but the cutting blade may be a rotating blade. Also in this case, by inserting the rotary blade from the first main surface S1, it is possible to suppress the damage to the rotary blade and to suppress the formation of the scratch due to the blade spillage on the side surfaces S3 and S4.

加えて、上記実施形態では、積層セラミック電子部品の一例として積層セラミックコンデンサについて説明したが、本発明は、積層セラミック電子部品全般に適用可能である。このような積層セラミック電子部品としては、例えば、インダクタ、バリスタ、圧電素子などが挙げられる。 In addition, in the above embodiments, the laminated ceramic capacitor was explained as an example of the laminated ceramic electronic component, but the present invention is applicable to laminated ceramic electronic components in general. Examples of such laminated ceramic electronic components include inductors, varistors, and piezoelectric elements.

10…積層セラミックコンデンサ
11…セラミック素体
12,13…内部電極
14,15…外部電極
16…積層チップ
17…サイドマージン部
19…容量形成部
20a,20b…カバー部
104…積層シート
111…未焼成のセラミック素体
112,113…未焼成の内部電極
116…未焼成の積層チップ
117…未焼成のサイドマージン部
K…切断刃
S1…第1主面
S2…第2主面
S3,S4…側面
T1,T2…テープ(保持部材)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Laminated ceramic capacitor 11... Ceramic element body 12, 13... Internal electrodes 14, 15... External electrode 16... Laminated chip 17... Side margin part 19... Capacitance formation part 20a, 20b... Cover part 104... Laminated sheet 111... Unfired Ceramic body 112, 113 Unfired internal electrode 116 Unfired laminated chip 117 Unfired side margin portion K Cutting edge S1 First main surface S2 Second main surface S3, S4 Side surface T1 , T2... tape (holding member)

Claims (3)

内部電極が形成された複数のセラミックシートを第1方向に沿って順に積層し、かつ各セラミックシートを積層する度に前記各セラミックシートを前記第1方向と平行でかつ逆向きの第2方向に加圧することで、前記第1方向に向いた第1主面と、前記第2方向に向いた第2主面と、を有する積層シートを作製し、
作製された前記積層シートの前記第1主面を第1保持部材に保持させ、
前記第1保持部材に保持された前記積層シートの前記第2主面を第2保持部材に保持させ、
前記第2保持部材に保持された前記積層シートから前記第1保持部材を除去し、
前記第1主面から切断刃を挿入して、前記第1保持部材が除去され前記第2保持部材に保持された前記積層シートを切断することで、前記内部電極が露出した切断面を有する積層チップを作製し、
前記積層チップの前記切断面にサイドマージン部を形成する
積層セラミック電子部品の製造方法。
A plurality of ceramic sheets having internal electrodes formed thereon are sequentially stacked along a first direction, and each ceramic sheet is stacked in a second direction parallel to and opposite to the first direction each time the ceramic sheets are stacked. Pressing to produce a laminated sheet having a first main surface facing in the first direction and a second main surface facing in the second direction,
holding the first main surface of the laminated sheet produced by a first holding member;
causing a second holding member to hold the second main surface of the laminated sheet held by the first holding member;
removing the first holding member from the laminated sheet held by the second holding member;
By inserting a cutting blade from the first main surface and cutting the laminated sheet from which the first holding member is removed and held by the second holding member, a laminate having a cut surface in which the internal electrode is exposed make a chip
A method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component, comprising: forming a side margin portion on the cut surface of the multilayer chip.
請求項1に記載の積層セラミック電子部品の製造方法であって、
前記切断刃は、押し切り刃である
積層セラミック電子部品の製造方法。
A method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to claim 1,
The method for manufacturing a laminated ceramic electronic component, wherein the cutting blade is a press cutting blade.
保持部材の第1方向を向く面上に、内部電極が形成された複数のセラミックシートを前記第1方向に沿って順に積層し、かつ各セラミックシートを積層する度に前記各セラミックシートを前記第1方向と平行でかつ逆向きの第2方向に加圧することで、前記第1方向に向いた第1主面と、前記保持部材によって保持され前記第2方向に向いた第2主面と、を有する積層シートを作製し、
前記第1主面から切断刃を挿入して前記保持部材に保持された前記積層シートを切断することで、前記内部電極が露出した切断面を有する積層チップを作製し、
前記積層チップの前記切断面にサイドマージン部を形成する
積層セラミック電子部品の製造方法。
A plurality of ceramic sheets having internal electrodes formed thereon are sequentially laminated along the first direction on the surface of the holding member facing the first direction, and each ceramic sheet is laminated each time the ceramic sheets are laminated. By applying pressure in a second direction parallel to and opposite to the first direction, a first main surface facing the first direction and a second main surface held by the holding member and facing the second direction; Produce a laminated sheet having
inserting a cutting blade from the first main surface to cut the laminated sheet held by the holding member to fabricate a laminated chip having a cut surface in which the internal electrodes are exposed;
A method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component, wherein a side margin portion is formed on the cut surface of the multilayer chip .
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