JP7112007B2 - light emitting device - Google Patents

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JP7112007B2 JP2021038412A JP2021038412A JP7112007B2 JP 7112007 B2 JP7112007 B2 JP 7112007B2 JP 2021038412 A JP2021038412 A JP 2021038412A JP 2021038412 A JP2021038412 A JP 2021038412A JP 7112007 B2 JP7112007 B2 JP 7112007B2
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Description

本開示は、発光装置に関する。 The present disclosure relates to light emitting devices.

従来、凹部を有するパッケージの底面に発光素子を載置した発光装置が知られている。例えば、特許文献1には、カップを持つパッケージのカップの底面に発光素子を載置し、カップの底面および側面を、反射材を含有する第1樹脂の層で覆い、反射材の層をカップの底面側および側面側に配置した発光装置およびその製造方法が開示されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, a light-emitting device is known in which a light-emitting element is mounted on the bottom surface of a package having a recess. For example, in Patent Document 1, a light emitting element is placed on the bottom surface of the cup of a package having a cup, the bottom surface and side surfaces of the cup are covered with a layer of a first resin containing a reflective material, and the layer of the reflective material is covered with the cup. A light-emitting device arranged on the bottom side and the side side of the , and a method of manufacturing the same are disclosed.

特開2016-72412号公報JP 2016-72412 A

上記特許文献の技術では、カップ内に反射材入りの第1樹脂を注入した後、第1樹脂に遠心力をかけることにより、反射材の層をカップの底面側および側面側に配置する。この際、反射材の層の配置は、例えば、カップの底面が外側になるような回転軸で遠心力をかけ、同時に、カップの側面が外側になるような回転軸で遠心力をかけることにより行う。
しかしながら上記技術では、反射材の沈降について高精度な調整が必要であり、反射材の層がカップの底面から側面の上端まで連続して配置されない場合も想定される。そのため、上記特許文献の発光装置の発光効率は高いものの、さらなる改善の余地がある。
In the technique of the above patent document, after injecting a first resin containing a reflective material into the cup, a centrifugal force is applied to the first resin, thereby arranging layers of the reflective material on the bottom and side surfaces of the cup. At this time, the arrangement of the layers of the reflective material is, for example, by applying centrifugal force on the axis of rotation so that the bottom surface of the cup is on the outside, and at the same time applying centrifugal force on the axis of rotation so that the side surface of the cup is on the outside. conduct.
However, the above technique requires highly accurate adjustment of the sedimentation of the reflective material, and it is assumed that the reflective material layer may not be arranged continuously from the bottom surface to the upper end of the side surface of the cup. Therefore, although the luminous efficiency of the light-emitting device of the above patent document is high, there is room for further improvement.

本開示に係る実施形態は、発光効率が高い発光装置を提供することを課題とする。 An object of the embodiments of the present disclosure is to provide a light-emitting device with high luminous efficiency.

本開示の実施形態に係る発光装置の製造方法は、凹部を有するパッケージの前記凹部の底面に発光素子を載置する工程と、前記凹部の側面を第1反射材を含有する第1樹脂で被覆して第1反射層を形成する工程と、前記第1反射層に当接して、前記凹部の底面を第2反射材を含有する第2樹脂で被覆して第2反射層を形成する工程と、前記第2反射層および前記発光素子上に、蛍光体を含有する第3樹脂による光透過層を配置する工程と、を有し、前記第2反射層を形成する工程は、遠心力によって前記第2樹脂に含有される前記第2反射材を沈降させて前記第2反射材を含有する含有層と透光層とをこの順に前記凹部の底面に形成するとともに、前記発光素子の側面の少なくとも一部に前記含有層が対向しないように前記第2反射層を形成する。 A method for manufacturing a light-emitting device according to an embodiment of the present disclosure includes the steps of placing a light-emitting element on the bottom surface of a recess of a package having a recess, and coating the side surface of the recess with a first resin containing a first reflective material. and forming a second reflective layer by contacting the first reflective layer and coating the bottom surface of the recess with a second resin containing a second reflective material. and disposing a light-transmitting layer made of a third resin containing a phosphor on the second reflective layer and the light-emitting element, wherein the step of forming the second reflective layer is performed by centrifugal force. A containing layer containing the second reflecting material and a light-transmitting layer are formed in this order on the bottom surface of the recess by allowing the second reflecting material contained in the second resin to settle, and at least a side surface of the light emitting element A part of the second reflective layer is formed so that the containing layer does not face the second reflective layer.

本開示の実施形態に係る発光装置の製造方法は、凹部を有するパッケージの前記凹部の底面に発光素子を載置する工程と、前記凹部の側面を第1反射材を含有する第1樹脂で被覆して第1反射層を形成する工程と、前記第1反射層に当接して、前記凹部の底面を第2反射材を含有する第2樹脂で被覆して第2反射層を形成する工程と、前記第2反射層および前記発光素子上に、蛍光体を含有する第3樹脂による光透過層を配置する工程と、を有し、前記第2反射層を形成する工程は、前記第2樹脂を前記凹部の底面における前記凹部の側面と前記発光素子との間にポッティングにより配置し、前記凹部の底面が外側になるような回転軸で前記パッケージに遠心力をかけることにより、前記第1反射層から露出する前記凹部の底面全てを被覆するように前記第2樹脂の形状を変化させるとともに、遠心力がかかった状態で前記第2樹脂を硬化させる。 A method for manufacturing a light-emitting device according to an embodiment of the present disclosure includes the steps of placing a light-emitting element on the bottom surface of a recess of a package having a recess, and coating the side surface of the recess with a first resin containing a first reflective material. and forming a second reflective layer by contacting the first reflective layer and coating the bottom surface of the recess with a second resin containing a second reflective material. and disposing a light-transmitting layer made of a third resin containing a phosphor on the second reflective layer and the light-emitting element, wherein the step of forming the second reflective layer includes: is placed on the bottom surface of the recess between the side surface of the recess and the light emitting element by potting, and centrifugal force is applied to the package with a rotating shaft so that the bottom surface of the recess is on the outside, whereby the first reflection The shape of the second resin is changed so as to cover all the bottom surfaces of the recesses exposed from the layer, and the second resin is cured under centrifugal force.

本開示の実施形態に係る発光装置は、凹部を有するパッケージと、前記凹部の底面に載置された発光素子と、第1反射材を含有する第1樹脂により前記凹部の側面を被覆して形成される第1反射層と、前記第1反射層に当接して、第2反射材を含有する第2樹脂により前記凹部の底面を被覆して形成される第2反射層と、前記第2反射層および前記発光素子上に配置された、蛍光体を含有する第3樹脂による光透過層と、を備え、前記第1反射層は、前記第1反射材が前記第1樹脂中に分散しており、前記第2反射層は、前記第2反射材を含有する含有層と透光層とがこの順に前記凹部の底面に設けられており、前記発光素子の側面の少なくとも一部が前記含有層に対向しない。 A light-emitting device according to an embodiment of the present disclosure includes a package having a recess, a light-emitting element placed on the bottom surface of the recess, and a first resin containing a first reflective material covering the side surface of the recess. a second reflective layer formed by coating the bottom surface of the recess with a second resin containing a second reflective material in contact with the first reflective layer; and the second reflective layer and a light-transmitting layer made of a third resin containing a phosphor and disposed on the light-emitting element, wherein the first reflective layer has the first reflective material dispersed in the first resin. The second reflective layer includes a containing layer containing the second reflecting material and a transparent layer provided in this order on the bottom surface of the recess, and at least part of the side surface of the light emitting element is the containing layer. do not face

本開示に係る実施形態の発光装置の製造方法は、発光効率が高い発光装置を製造することができる。
本開示に係る実施形態の発光装置は、発光効率が高い。
A method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment of the present disclosure can manufacture a light emitting device with high luminous efficiency.
The light emitting device of the embodiment according to the present disclosure has high luminous efficiency.

実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing the configuration of a light emitting device according to an embodiment; FIG. 図1AのIB-IB線における断面図である。FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line IB-IB of FIG. 1A; 実施形態に係る発光装置の構成の一部を模式的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing part of the configuration of a light emitting device according to an embodiment; FIG. 実施形態に係る発光装置の製造方法のフローチャートである。4 is a flow chart of a method for manufacturing a light emitting device according to an embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法において、発光素子を載置する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of mounting a light emitting element in the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法において、第1反射層を形成する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of forming a first reflective layer in the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法において、第1反射層を形成する工程を示す平面図である。FIG. 4A is a plan view showing a step of forming a first reflective layer in the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment; 実施形態に係る発光装置の製造方法において、第2反射層を形成する工程を示す模式図であり、パッケージの凹部の底面を第2樹脂で被覆し、遠心力によって第2反射材を沈降させる工程を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a step of forming a second reflective layer in the method of manufacturing a light emitting device according to the embodiment, the step of coating the bottom surface of the recess of the package with the second resin and causing the second reflective material to settle by centrifugal force; It is a schematic diagram showing. 実施形態に係る発光装置の製造方法において、第2反射層を形成する工程を示す断面図であり、遠心力によって第2反射材を沈降させた後の状態を示す断面図である。FIG. 4B is a cross-sectional view showing a step of forming a second reflective layer in the method for manufacturing a light-emitting device according to the embodiment, and a cross-sectional view showing a state after the second reflective material is sedimented by centrifugal force. 実施形態に係る発光装置の製造方法において、光透過層を配置する工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a step of disposing a light-transmitting layer in the method of manufacturing the light-emitting device according to the embodiment; 他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment; 他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment; 他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment; 他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment; 図7AのVIIB-VIIB線における断面図である。FIG. 7B is a cross-sectional view along line VIIB-VIIB of FIG. 7A; 他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment; 図8AのVIIIB-VIIIB線における断面図である。FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line VIIIB-VIIIB of FIG. 8A; 図8AのVIIIC-VIIIC線における断面図である。FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line VIIIC-VIIIC of FIG. 8A; 他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す平面図である。FIG. 10 is a plan view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment; 図9AのIXB-IXB線における断面図である。FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line IXB-IXB of FIG. 9A;

実施形態を、以下に図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す形態は、本実施形態の技術思想を具現化するための発光装置の製造方法および発光装置を例示するものであって、以下に限定するものではない。また、実施の形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、特定的な記載がない限り、本発明の範囲をそれのみに限定する趣旨ではなく、単なる例示に過ぎない。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするために誇張していることがある。 Embodiments are described below with reference to the drawings. However, the embodiments shown below are intended to exemplify the method of manufacturing a light-emitting device and the light-emitting device for embodying the technical idea of the present embodiment, and are not limited to the following. In addition, unless there is a specific description, the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, etc. of the components described in the embodiments are not intended to limit the scope of the present invention, but are merely examples. It's nothing more than Note that the sizes and positional relationships of members shown in each drawing may be exaggerated for clarity of explanation.

《実施形態》
図1Aは、実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す斜視図である。図1Bは、図1AのIB-IB線における断面図である。図1Cは、実施形態に係る発光装置の構成の一部を模式的に示す断面図である。
<<Embodiment>>
FIG. 1A is a perspective view schematically showing the configuration of a light emitting device according to an embodiment. FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line IB--IB of FIG. 1A. FIG. 1C is a cross-sectional view schematically showing part of the configuration of the light-emitting device according to the embodiment.

[発光装置]
発光装置100は、凹部15を有するパッケージ10と、凹部15の底面に載置された発光素子20と、凹部15の側面を被覆して形成される第1反射層30と、第1反射層30に当接して凹部15の底面を被覆して形成される第2反射層40と、第2反射層40および発光素子20上に配置された、蛍光体51を含有する光透過層50と、備えている。
[Light emitting device]
The light emitting device 100 includes a package 10 having a recess 15, a light emitting element 20 mounted on the bottom surface of the recess 15, a first reflective layer 30 formed covering the side surface of the recess 15, and a first reflective layer 30. a second reflective layer 40 formed by covering the bottom surface of the recessed portion 15 in contact with the second reflective layer 40; ing.

パッケージ10は、絶縁性基板2と、絶縁性基板2における基板部2aの上面に設けられる第1配線部3と、基板部2aの下面に設けられる第2配線部5と、基板部2aの側面に設けられる第3配線部6と、第1配線部3と第2配線部5とを電気的に接続するビア4と、を備えている。パッケージ10は、平面視において略矩形に形成されており、凹部15を有する。凹部15の開口は、平面視において略矩形に形成されている。 The package 10 includes an insulating substrate 2, a first wiring portion 3 provided on the upper surface of the substrate portion 2a of the insulating substrate 2, a second wiring portion 5 provided on the lower surface of the substrate portion 2a, and a side surface of the substrate portion 2a. and a via 4 electrically connecting the first wiring portion 3 and the second wiring portion 5 . The package 10 is substantially rectangular in plan view and has a recess 15 . The opening of the concave portion 15 is formed in a substantially rectangular shape in plan view.

絶縁性基板2は、発光素子20を載置する基板部2aと、この基板部2aの上面側の周縁に形成される第1壁面部2bと、この第1壁面部2bに積層される第2壁面部2cと、を備えている。絶縁性基板2は、第1壁面部2bおよび第2壁面部2cの内側となる中央に開口を有する凹形状に形成されている。
基板部2a、第1壁面部2b、第2壁面部2cは、段差が内側に形成されるように設けられている。第1壁面部2bおよび第2壁面部2cは、外周側面を同一な側面とし、内周側面が第2壁面部2cよりも第1壁面部2bが内側に位置するように形成されている。第1壁面部2bが第2壁面部2cよりも内側に位置することで、後述する第1反射層30が傾斜し易くなる。なお、凹部15の側面は段差ではなく底面から開口に向かって幅が大きくなる傾斜面であってもよい。
The insulating substrate 2 includes a substrate portion 2a on which the light emitting element 20 is mounted, a first wall surface portion 2b formed on the peripheral edge of the upper surface side of the substrate portion 2a, and a second wall surface portion 2b laminated on the first wall surface portion 2b. and a wall surface portion 2c. The insulating substrate 2 is formed in a concave shape having an opening in the center inside the first wall surface portion 2b and the second wall surface portion 2c.
The substrate portion 2a, the first wall surface portion 2b, and the second wall surface portion 2c are provided so that a step is formed inside. The first wall surface portion 2b and the second wall surface portion 2c are formed so that the outer peripheral side surface is the same side surface, and the inner peripheral side surface is formed such that the first wall surface portion 2b is located inside the second wall surface portion 2c. Positioning the first wall surface portion 2b more inward than the second wall surface portion 2c makes it easier for the first reflective layer 30, which will be described later, to incline. The side surface of the concave portion 15 may be an inclined surface that increases in width from the bottom toward the opening instead of the step.

絶縁性基板2としては、例えば、PPA(ポリフタルアミド)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)、または、液晶ポリマー等の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、または、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。また、絶縁性基板2は、ガラスエポキシ樹脂、セラミックス、ガラス等を用いることがより好ましい。なお、絶縁性基板2にセラミックスを用いる場合には、特に、アルミナ、窒化アルミニウム、ムライト、炭化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることが好ましい。 As the insulating substrate 2, for example, PPA (polyphthalamide), PPS (polyphenylene sulfide), thermoplastic resin such as liquid crystal polymer, epoxy resin, silicone resin, modified epoxy resin, urethane resin, or phenol resin. A thermosetting resin such as can be used. Further, it is more preferable to use glass epoxy resin, ceramics, glass, or the like for the insulating substrate 2 . When using ceramics for the insulating substrate 2, it is particularly preferable to use alumina, aluminum nitride, mullite, silicon carbide, silicon nitride, or the like.

第1配線部3は、基板部2aの上面に設けられ、発光素子20と電気的に接続される。この第1配線部3は、正負一対の電極として第1リード3aおよび第2リード3bを備えており、第1リード3aおよび第2リード3b上に発光素子20がフリップチップ実装されている。
第2配線部5は、基板部2aの下面に設けられ、発光装置100の外部電極として、外部電源と電気的に接続される。
ビア4は基板部2aを貫通する貫通孔内に、第3配線部6は基板部2aの側面に、それぞれ設けられ、第1配線部3と第2配線部5とを電気的に接続している。第1配線部3と第2配線部5とが電気的に接続されれば、ビア4と第3配線部6とのどちらかは省略することができる。
The first wiring portion 3 is provided on the upper surface of the substrate portion 2 a and electrically connected to the light emitting element 20 . The first wiring section 3 has a first lead 3a and a second lead 3b as a pair of positive and negative electrodes, and a light emitting element 20 is flip-chip mounted on the first lead 3a and the second lead 3b.
The second wiring portion 5 is provided on the lower surface of the substrate portion 2a and is electrically connected to an external power source as an external electrode of the light emitting device 100 .
The via 4 is provided in a through hole that penetrates the substrate portion 2a, and the third wiring portion 6 is provided on the side surface of the substrate portion 2a, respectively, to electrically connect the first wiring portion 3 and the second wiring portion 5. there is If the first wiring portion 3 and the second wiring portion 5 are electrically connected, either the via 4 or the third wiring portion 6 can be omitted.

第1配線部3、第2配線部5および第3配線部6としては、例えば、Fe、Cu、Ni、Al、Ag、Au、または、これらの一種を含む合金を用いることができる。
また、第1配線部3、第2配線部5および第3配線部6は、表面にめっき層7が形成されていてもよい。めっき層7は、例えば、Au、Ag、Cu、Pt、または、これらの一種を含む合金を用いることができる。めっき層7がこれらの材料であれば、発光素子20からの光の反射率をより高めることができる。
As the first wiring portion 3, the second wiring portion 5, and the third wiring portion 6, for example, Fe, Cu, Ni, Al, Ag, Au, or an alloy containing one of these can be used.
Moreover, the plating layer 7 may be formed on the surfaces of the first wiring portion 3 , the second wiring portion 5 and the third wiring portion 6 . The plating layer 7 may be made of, for example, Au, Ag, Cu, Pt, or an alloy containing one of these. If the plated layer 7 is made of these materials, the reflectance of light from the light emitting element 20 can be further increased.

発光素子20は、透光性の基板21と基板21上に形成された半導体層22を含む。基板21は絶縁性のものを使用できる他、導電性のものも使用することができる。発光素子20の形状や大きさ等は任意のものを選択できる。発光素子20の発光色としては、用途に応じて任意の波長のものを選択することができる。例えば、青色(波長430~490nmの光)の発光素子20としては、GaN系やInGaN系を用いることができる。InGaN系としては、InXAlYGa1-X-YN(0≦X≦1、0≦Y≦1、X+Y≦1)等を用いることができる。
発光素子20の厚み(例えば半導体層22の下面から基板21の上面までの高さ)は、例えば、100μm以上300μm以下である。
The light emitting device 20 includes a translucent substrate 21 and a semiconductor layer 22 formed on the substrate 21 . As for the substrate 21, an insulating material can be used, and a conductive material can also be used. The shape, size, etc. of the light emitting element 20 can be selected arbitrarily. As the emission color of the light-emitting element 20, one having an arbitrary wavelength can be selected according to the application. For example, a GaN-based or InGaN-based light emitting element 20 can be used for the blue (light with a wavelength of 430 to 490 nm) light emitting element 20 . As an InGaN-based material, InxAlYGa1 -XYN ( 0≤X≤1 , 0≤Y≤1, X +Y≤1) or the like can be used.
The thickness of the light emitting element 20 (for example, the height from the lower surface of the semiconductor layer 22 to the upper surface of the substrate 21) is, for example, 100 μm or more and 300 μm or less.

第1反射層30および第2反射層40は、発光素子20から出射された光を反射させる部材である。
発光素子20から出射される光が凹部15の底面や側面で透過、吸収されないように、凹部15内の表面は第1反射層30および第2反射層40で被覆されることが好ましく、凹部15内の表面全てが第1反射層30および第2反射層40で被覆されることがより好ましい。また、発光素子20から出射される光の取り出しを妨げないように、発光素子20の上面および側面は第1反射層30および第2反射層40で被覆されないように、発光素子20の表面は第2反射層40から露出することが好ましい。
The first reflective layer 30 and the second reflective layer 40 are members that reflect the light emitted from the light emitting element 20 .
The surface inside the recess 15 is preferably covered with a first reflective layer 30 and a second reflective layer 40 so that the light emitted from the light emitting element 20 is not transmitted through or absorbed by the bottom or side surfaces of the recess 15 . More preferably, all inner surfaces are coated with the first reflective layer 30 and the second reflective layer 40 . In addition, the surface of the light emitting element 20 is not covered with the first reflective layer 30 and the second reflective layer 40 so as not to interfere with the extraction of light emitted from the light emitting element 20 . 2 is preferably exposed from the reflective layer 40 .

第1反射層30は、第1反射材31を含有する第1樹脂によりパッケージ10の凹部15の側面を被覆して形成されている。第1反射層30は、発光素子20の側面から離隔して、凹部15の底面の外縁を被覆している。また、第1反射層30は、凹部15の底面の外縁から凹部15の側面まで連続して被覆している。第1反射層30は凹部15の側面の略全てを被覆することがより好ましいが、少なくとも、発光装置100の断面視において発光素子20の上面よりも第1反射材31の上端が高くなるように凹部15の側面を被覆することが好ましい。 The first reflective layer 30 is formed by covering the side surface of the concave portion 15 of the package 10 with a first resin containing a first reflective material 31 . The first reflective layer 30 is separated from the side surface of the light emitting element 20 and covers the outer edge of the bottom surface of the recess 15 . Also, the first reflective layer 30 covers continuously from the outer edge of the bottom surface of the recess 15 to the side surface of the recess 15 . It is more preferable that the first reflective layer 30 covers substantially the entire side surface of the recess 15, but at least the upper end of the first reflective material 31 is higher than the upper surface of the light emitting element 20 in a cross-sectional view of the light emitting device 100. It is preferable to cover the side surfaces of the recess 15 .

第1反射層30は、第1反射材31が第1樹脂中に分散している。ここで、第1反射材31が第1樹脂中に分散しているとは、反射層としての機能を有する程度に反射材が分散していればよいことを意味し、例えば、従来公知の方法で反射材を含有する樹脂を塗布した場合の分散状態であればよい。なお、第1反射層30は、反射層としての機能を有していれば、第1反射材31が部分的に偏って配置されていても構わない。
第1反射層30に対する第1反射材31の含有濃度は、例えば10質量%以上50質量%以下である。
第1反射層30が凹部15の側面を被覆することで、凹部15の側面による光の透過および吸収を防止することができる。
In the first reflective layer 30, the first reflective material 31 is dispersed in the first resin. Here, that the first reflecting material 31 is dispersed in the first resin means that the reflecting material should be dispersed to the extent that it functions as a reflecting layer. It is sufficient if it is in a dispersed state when the resin containing the reflective material is applied in . In addition, as long as the first reflective layer 30 has a function as a reflective layer, the first reflective material 31 may be partially biased.
The content concentration of the first reflecting material 31 in the first reflecting layer 30 is, for example, 10% by mass or more and 50% by mass or less.
By covering the side surface of the recess 15 with the first reflective layer 30 , the transmission and absorption of light by the side surface of the recess 15 can be prevented.

第2反射層40は、第1反射層30に当接して、第2反射材41を含有する第2樹脂によりパッケージ10の凹部15の底面を被覆して形成されている。第2反射層40は、凹部15の底面において絶縁性基板2における基板部2aの上面および第1配線部3を被覆するとともに、第1反射層30の一部を被覆している。第2反射層40は、凹部15の底面を略均一な厚みで被覆している。
第2反射層40が凹部15の底面を被覆することで、めっき層7や基板部2aによる光の透過および吸収を防止することができる。
The second reflective layer 40 is in contact with the first reflective layer 30 and is formed by coating the bottom surface of the recess 15 of the package 10 with a second resin containing a second reflective material 41 . The second reflective layer 40 covers the upper surface of the substrate portion 2 a of the insulating substrate 2 and the first wiring portion 3 on the bottom surface of the recess 15 , and partially covers the first reflective layer 30 . The second reflective layer 40 covers the bottom surface of the concave portion 15 with a substantially uniform thickness.
By covering the bottom surface of the concave portion 15 with the second reflective layer 40, it is possible to prevent transmission and absorption of light by the plating layer 7 and the substrate portion 2a.

第2反射層40は、発光素子20の側面の少なくとも一部が第2反射層40から露出するように設けられている。ここでは、発光素子20の側面の半導体層22側(つまり凹部15の底面側)に位置する一部のみが第2反射層40に被覆されており、側面のその他の部位は、第2反射層40から露出し、光透過層50で被覆されている。
なお、発光素子20の側面とは、ここでは、基板21の側面と半導体層22の側面とを合わせた部分である。
第2反射層40は断面視において、第2反射材41が底面側に偏って配置されている。
第2反射層40は、第2反射材41を含有する含有層40aと透光層40bとを凹部15の底面側から順に備えることが好ましい。含有層40aは第2反射材41が沈降してできた層であり、第2反射層40の深さ方向において、第2反射材41が高濃度に配置される領域である。透光層40bは第2反射材41が沈降することにより上方にできる樹脂を主体とする層である。つまり、含有層40aと透光層40bとの間には明確な界面は形成されていない。
The second reflective layer 40 is provided so that at least part of the side surface of the light emitting element 20 is exposed from the second reflective layer 40 . Here, only a portion of the side surface of the light emitting element 20 located on the semiconductor layer 22 side (that is, the bottom surface side of the recess 15) is covered with the second reflective layer 40, and the other portion of the side surface is covered with the second reflective layer. 40 and covered with a light transmissive layer 50 .
Here, the side surface of the light emitting element 20 is a portion where the side surface of the substrate 21 and the side surface of the semiconductor layer 22 are combined.
In the cross-sectional view of the second reflective layer 40, the second reflective material 41 is arranged biased toward the bottom surface.
The second reflective layer 40 preferably includes a containing layer 40 a containing the second reflective material 41 and a light-transmitting layer 40 b in order from the bottom surface side of the recess 15 . The containing layer 40a is a layer formed by sedimentation of the second reflecting material 41, and is a region in which the second reflecting material 41 is arranged at a high concentration in the depth direction of the second reflecting layer 40. As shown in FIG. The translucent layer 40b is a layer mainly composed of resin, which is formed upward as the second reflector 41 settles. In other words, no clear interface is formed between the containing layer 40a and the translucent layer 40b.

また、第2反射層40は、発光素子20の側面の少なくとも一部が含有層40aに対向しないように設けられるが、発光素子20の側面の略全てが含有層40aに対向しないように設けられることが好ましい。つまり、発光素子20の側面の略全てが含有層40aで被覆されないことが好ましい。ここでは、発光素子20の側面の実装面側の一部の領域のみが含有層40aに被覆されており、側面の他の領域は、含有層40aから露出し、透光層40bおよび光透過層50で被覆されている。ここでは、発光素子20の側面に対して、含有層40aで半導体層22の側面全体を被覆しないように第2反射層40を配置している。
発光素子20の半導体層22の側面の少なくとも一部が含有層40aに対向しないように設けられていることで、発光素子20の側面からの光取り出し効率が向上し、発光素子20の側方の領域における配光色度を改善することができる。
The second reflective layer 40 is provided so that at least part of the side surface of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40a, but is provided so that substantially all of the side surface of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40a. is preferred. That is, it is preferable that substantially all of the side surface of the light emitting element 20 is not covered with the containing layer 40a. Here, only a partial area of the mounting surface side of the side surface of the light emitting element 20 is covered with the containing layer 40a, and the other area of the side surface is exposed from the containing layer 40a. 50 coated. Here, the second reflective layer 40 is arranged on the side surface of the light emitting element 20 so that the entire side surface of the semiconductor layer 22 is not covered with the containing layer 40a.
Since at least part of the side surface of the semiconductor layer 22 of the light emitting element 20 is provided so as not to face the containing layer 40a, the light extraction efficiency from the side surface of the light emitting element 20 is improved. Light distribution chromaticity in the area can be improved.

第2反射層40は、発光素子20の側面の少なくとも一部が含有層40aに対向しないように設けられていればよい。しかし、前記効果をより向上させるため、含有層40aに対向する発光素子20の側面の面積は少ないほうが好ましく、発光素子20の側面の全てが含有層40aに対向しないように設けられていることがより好ましい(図4、5参照)。
なお、発光素子20の側面の少なくとも一部が含有層40aに対向しないように第2反射層40が設けられているとは、発光素子20の全ての側面において、各側面のそれぞれの少なくとも一部が含有層40aに対向しないように第2反射層40が設けられているという意味である。
The second reflective layer 40 may be provided so that at least part of the side surface of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40a. However, in order to further improve the above effect, it is preferable that the area of the side surface of the light emitting element 20 facing the containing layer 40a is small, and the side surface of the light emitting element 20 is not entirely opposed to the containing layer 40a. More preferred (see FIGS. 4 and 5).
Note that the fact that the second reflective layer 40 is provided so that at least part of the side surface of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40a means that all the side surfaces of the light emitting element 20 have at least part of each side surface. This means that the second reflective layer 40 is provided so as not to face the containing layer 40a.

第2反射層40の厚みは、例えば10μm以上200μm以下であることが好ましい。第2反射層40の厚みが10μm以上であれば、第2反射層40を形成し易くなる。また、第2反射層40の厚みが200μm以下であれば、前記した発光素子20の側面の少なくとも一部が対向しないように含有層40aを設けることによる効果をより向上させることができる。 The thickness of the second reflective layer 40 is preferably, for example, 10 μm or more and 200 μm or less. If the thickness of the second reflective layer 40 is 10 μm or more, it becomes easier to form the second reflective layer 40 . Moreover, if the thickness of the second reflective layer 40 is 200 μm or less, the effect of providing the containing layer 40a so that at least part of the side surface of the light emitting element 20 does not face can be further improved.

また、第2反射層40の厚みを、例えば10μm以上200μm以下の範囲とすることで、第2反射材41を遠心沈降させる工程において、表面張力による第2反射層40の発光素子20の側面への這い上がりを抑制し、第2反射層40を配置することができる。また、第2反射層40の厚みが、発光素子20と、発光素子20と絶縁性基板2との接合部材(例えばバンプ)の厚み以下であれば、前記した発光素子20の側面と対向しないように含有層40aを設けることによる効果をより向上させることができる。 In addition, by setting the thickness of the second reflective layer 40 to a range of, for example, 10 μm or more and 200 μm or less, in the step of centrifugally sedimenting the second reflective material 41, the surface tension of the second reflective layer 40 toward the side surface of the light emitting element 20 Crawling up can be suppressed, and the second reflective layer 40 can be arranged. Further, if the thickness of the second reflective layer 40 is equal to or less than the thickness of the light emitting element 20 and the bonding member (for example, bump) between the light emitting element 20 and the insulating substrate 2, it should not face the side surface of the light emitting element 20 described above. The effect of providing the containing layer 40a in the region can be further improved.

第2反射層40における含有層40aの厚みは、第2反射層40の厚みの10%以上100%以下であることが好ましく、25%以上50%以下であることがより好ましい。
第2反射層40における含有層40aの厚み割合が小さくなるほど、含有層40a中における第2反射材41の濃度を高くすることができる。含有層40aに対する第2反射材41の含有濃度は、第1反射層30に対する第1反射材31の含有濃度よりも大きいことが好ましい。第2反射層40は発光素子20の側面を露出させるため、より薄い層で配置されることが好ましい。このため、含有層40aにおける第2反射材41の含有濃度を高くすることで、発光素子20の側面を露出させることによる光取り出し効率の向上と、凹部15の底面における光の透過および吸収の抑制を両立させることができる。含有層40aに対する第2反射材41の含有濃度は、例えば50質量%以上70質量%とすることができる。
また、発光素子20の側面の一部が含有層40aに対向する場合、含有層40aの厚みは、発光素子20の側面の厚みの1/4以下が好ましく、1/6以下がより好ましく、1/8以下がさらに好ましい。
The thickness of the containing layer 40a in the second reflective layer 40 is preferably 10% or more and 100% or less of the thickness of the second reflective layer 40, and more preferably 25% or more and 50% or less.
The smaller the thickness ratio of the containing layer 40a in the second reflective layer 40, the higher the concentration of the second reflecting material 41 in the containing layer 40a. The content concentration of the second reflector 41 in the content layer 40 a is preferably higher than the content concentration of the first reflector 31 in the first reflection layer 30 . Since the second reflective layer 40 exposes the side surface of the light emitting element 20, it is preferably arranged as a thinner layer. Therefore, by increasing the content concentration of the second reflector 41 in the containing layer 40a, the light extraction efficiency is improved by exposing the side surface of the light emitting element 20, and the transmission and absorption of light at the bottom surface of the concave portion 15 are suppressed. can be compatible. The content concentration of the second reflector 41 in the content layer 40a can be, for example, 50% by mass or more and 70% by mass.
When a part of the side surface of the light emitting element 20 faces the containing layer 40a, the thickness of the containing layer 40a is preferably 1/4 or less, more preferably 1/6 or less, of the thickness of the side surface of the light emitting element 20. /8 or less is more preferable.

第1樹脂および第2樹脂に用いる樹脂材料としては、例えば、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。
第1樹脂と第2樹脂とは、同じ樹脂材料を用いてもよいし、異なる樹脂材料を用いてもよい。
Examples of resin materials used for the first resin and the second resin include thermosetting resins such as epoxy resins, modified epoxy resins, silicone resins, and modified silicone resins.
The same resin material may be used for the first resin and the second resin, or different resin materials may be used.

第2樹脂の粘度は、室温(20±5℃)で、0.3Pa・s以上15Pa・s以下であることが好ましい。第2樹脂の粘度が0.3Pa・s以上であれば、ポッティングにより凹部15の底面に第2樹脂を容易に配置しやすい。また、第2樹脂の粘度が15Pa・s以下であれば、遠心力による第2反射層40の形状変化が容易となる。さらに遠心力により第2反射材41を沈降させ易くなる。なお、上述した効果を得るためのより好ましい第2樹脂の粘度は、0.5Pa・s以上6Pa・s以下である。
なお、ここでの第2樹脂の粘度は、第2反射材41を含有した状態の粘度であり、後述するように、遠心力によって第2樹脂に含有される第2反射材41を沈降させる前の粘度である。
The viscosity of the second resin is preferably 0.3 Pa·s or more and 15 Pa·s or less at room temperature (20±5° C.). If the viscosity of the second resin is 0.3 Pa·s or more, the second resin can be easily placed on the bottom surface of the concave portion 15 by potting. Also, if the viscosity of the second resin is 15 Pa·s or less, the shape of the second reflective layer 40 can be easily changed by centrifugal force. Furthermore, the centrifugal force makes it easier to settle the second reflector 41 . In addition, the viscosity of the second resin is more preferably 0.5 Pa·s or more and 6 Pa·s or less for obtaining the effect described above.
The viscosity of the second resin here is the viscosity in a state containing the second reflecting material 41, and as described later, the viscosity before the second reflecting material 41 contained in the second resin is sedimented by centrifugal force. is the viscosity of

第1反射材31および第2反射材41に用いられる光反射材としては、例えば、酸化チタン、シリカ、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、チタン酸カリウム、酸化亜鉛、窒化硼素等が挙げられる。なかでも、光反射の観点から、屈折率が比較的高い酸化チタンを用いることが好ましい。
第1反射材31と第2反射材41とは、同じ種類であってもよいし、異なる種類であってもよい。
Examples of the light reflecting material used for the first reflecting material 31 and the second reflecting material 41 include titanium oxide, silica, silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, potassium titanate, zinc oxide, and boron nitride. mentioned. Among them, it is preferable to use titanium oxide, which has a relatively high refractive index, from the viewpoint of light reflection.
The first reflector 31 and the second reflector 41 may be of the same type or of different types.

第2反射材41としては、第2樹脂に用いる樹脂材料よりも比重の大きいものを用いることが好ましい。第2反射材41と樹脂材料との比重差により、遠心力で第2反射材41を底面側に沈降させやすくなる。さらに、第2反射材41に粒径の大きいものを使用することにより、より早く第2反射材41を底面側に沈降させることができる。
また、遠心力を用いることで第2反射材41が高密度に配置されるため、粒子間の間隔が小さくなり、光の漏れや光透過が抑制され、第2反射層40における光反射率を向上させることができる。
第2反射材41の粒径は、0.1μm以上1.0μm以下であることが好ましい。第2反射材41の粒径が0.1μm以上であれば、遠心力により第2反射材41を沈降させ易くなる。また、第2反射材41の粒径が1.0μm以下であれば、可視光を光反射させやすい。第2反射材41の粒径は、上記観点から、より好ましくは0.4μm以上0.6μm以下である。
As the second reflector 41, it is preferable to use a material having a higher specific gravity than the resin material used for the second resin. Due to the difference in specific gravity between the second reflecting material 41 and the resin material, the second reflecting material 41 tends to settle toward the bottom surface due to centrifugal force. Furthermore, by using a material having a large particle size for the second reflecting material 41, the second reflecting material 41 can settle to the bottom surface side more quickly.
In addition, since the second reflective material 41 is arranged at high density by using centrifugal force, the distance between particles is reduced, light leakage and light transmission are suppressed, and the light reflectance in the second reflective layer 40 is reduced. can be improved.
The particle size of the second reflector 41 is preferably 0.1 μm or more and 1.0 μm or less. If the particle size of the second reflecting material 41 is 0.1 μm or more, the second reflecting material 41 is easily sedimented by centrifugal force. Also, if the particle size of the second reflector 41 is 1.0 μm or less, it is easy to reflect visible light. From the above viewpoint, the particle size of the second reflector 41 is more preferably 0.4 μm or more and 0.6 μm or less.

光透過層50は、蛍光体51を含有する第3樹脂により形成される。光透過層50は、第1反射層30に当接して、第2反射層40および前記発光素子20上に配置されて形成されている。
第3樹脂に用いる樹脂材料としては、例えば、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂等の熱硬化性樹脂等が挙げられる。第3樹脂に用いる樹脂材料は、第1樹脂および第2樹脂と同じ樹脂材料であってもよいし、異なる樹脂材料であってもよい。また、第1樹脂および第2樹脂に耐熱性の高い樹脂を用い、第3樹脂に硬質の樹脂を用いることもできる。
シリコーン樹脂は、エポキシ樹脂よりも一般に450nm以上500nm以下付近での耐光性が高く、また、エポキシ樹脂はシリコーン樹脂よりも硬質である。そのため、第1樹脂および第2樹脂にシリコーン樹脂を用い、第3樹脂にエポキシ樹脂を用いてもよい。
The light transmission layer 50 is made of a third resin containing phosphor 51 . The light transmission layer 50 is formed in contact with the first reflective layer 30 and arranged on the second reflective layer 40 and the light emitting element 20 .
Examples of resin materials used for the third resin include thermosetting resins such as epoxy resins, modified epoxy resins, silicone resins, and modified silicone resins. The resin material used for the third resin may be the same resin material as the first resin and the second resin, or may be a different resin material. Also, a resin having high heat resistance can be used for the first resin and the second resin, and a hard resin can be used for the third resin.
Silicone resins generally have higher light resistance in the vicinity of 450 nm or more and 500 nm or less than epoxy resins, and epoxy resins are harder than silicone resins. Therefore, a silicone resin may be used for the first resin and the second resin, and an epoxy resin may be used for the third resin.

蛍光体51は、発光素子20の上面、第1反射層30の内側面、および第2反射層40の上面に配置されている。蛍光体51を発光素子20の上面に配置することで、発光素子20からの光を効率良く波長変換し、外部に放出することができる。また、蛍光体51を第1反射層30の内側面に配置することで、第1反射層30で反射された光を効率良く波長変換し、外部に放出することができる。また、蛍光体51を第2反射層40の上面に配置することで、第2反射層40で反射された光を効率良く波長変換し、外部に放出することができる。 The phosphor 51 is arranged on the upper surface of the light emitting element 20 , the inner surface of the first reflective layer 30 , and the upper surface of the second reflective layer 40 . By arranging the phosphor 51 on the upper surface of the light emitting element 20, the wavelength of the light from the light emitting element 20 can be efficiently converted and emitted to the outside. Further, by arranging the phosphor 51 on the inner surface of the first reflective layer 30, the light reflected by the first reflective layer 30 can be efficiently wavelength-converted and emitted to the outside. Further, by arranging the phosphor 51 on the upper surface of the second reflective layer 40, the light reflected by the second reflective layer 40 can be efficiently wavelength-converted and emitted to the outside.

蛍光体51としては、第3樹脂に用いる樹脂材料よりも比重が大きいものを用いることが好ましい。これにより、第3樹脂中において蛍光体51を凹部15の底面側に自然沈降させることができる。また、蛍光体51は第3樹脂中において遠心力により強制沈降されていてもよい。
蛍光体51の粒径は、例えば、3μm以上50μm以下が挙げられる。
蛍光体51は、第3樹脂中に分散されていてもよい。第3樹脂中に蛍光体51を分散することで、発光装置100から放出される光の配向のバラツキを低減することができる。
As the phosphor 51, it is preferable to use a material having a higher specific gravity than the resin material used for the third resin. As a result, the phosphor 51 can naturally settle on the bottom surface side of the recess 15 in the third resin. Further, the phosphor 51 may be forcibly sedimented in the third resin by centrifugal force.
The particle size of the phosphor 51 is, for example, 3 μm or more and 50 μm or less.
The phosphor 51 may be dispersed in the third resin. By dispersing the phosphor 51 in the third resin, it is possible to reduce variations in the orientation of the light emitted from the light emitting device 100 .

蛍光体51としては、当該分野で公知のものを使用することができる。例えば、YAG(Y3Al512:Ce)やシリケート等の黄色蛍光体、CASN(CaAlSiN3:Eu)やKSF(K2SiF6:Mn)等の赤色蛍光体、あるいは、クロロシリケートやBaSiO4:Eu2+等の緑色蛍光体を用いることができる。 As the phosphor 51, one known in the art can be used. For example, yellow phosphors such as YAG (Y 3 Al 5 O 12 :Ce) and silicate; red phosphors such as CASN (CaAlSiN 3 :Eu) and KSF (K 2 SiF 6 :Mn); 4 : A green phosphor such as Eu 2+ can be used.

[発光装置の動作]
発光装置100を駆動すると、第1配線部3、ビア4、第2配線部5および第3配線部6を介して外部電源から発光素子20に電流が供給され、発光素子20が発光する。発光素子20が発光した光は、上方へ進む光Lは、発光装置100の上方の外部に取り出される。また、下方へ進む光Lは、含有層40aで反射され、凹部15の開口方向に放出されて発光装置100の外部に取り出される。また、横方向へ進む光Lは、第1反射層30で反射され、凹部15の開口方向に放出されて発光装置100の外部に取り出される。これにより発光素子20から出射された光が凹部15の底面および側面から漏れるのを極力抑えることができ、光取り出し効率を向上させることができる。また、色ムラを低減させることができる。
[Operation of Light Emitting Device]
When the light emitting device 100 is driven, current is supplied from the external power supply to the light emitting element 20 through the first wiring section 3, the via 4, the second wiring section 5 and the third wiring section 6, and the light emitting element 20 emits light. Of the light emitted by the light emitting element 20 , light L 1 traveling upward is extracted to the outside above the light emitting device 100 . Further, the light L2 traveling downward is reflected by the containing layer 40a, emitted in the opening direction of the concave portion 15, and extracted to the outside of the light emitting device 100. FIG . Also, the light L3 traveling in the lateral direction is reflected by the first reflective layer 30 and emitted in the opening direction of the recess 15 to be extracted to the outside of the light emitting device 100 . As a result, leakage of light emitted from the light emitting element 20 from the bottom and side surfaces of the recess 15 can be suppressed as much as possible, and light extraction efficiency can be improved. Moreover, color unevenness can be reduced.

[発光装置100の製造方法]
次に、実施形態に係る発光装置の製造方法の一例について説明する。
図2は、実施形態に係る発光装置の製造方法のフローチャートである。図3Aは、実施形態に係る発光装置の製造方法において、発光素子を載置する工程を示す断面図である。図3Bは、実施形態に係る発光装置の製造方法において、第1反射層を形成する工程を示す断面図である。図3Cは、実施形態に係る発光装置の製造方法において、第1反射層を形成する工程を示す平面図である。図3Dは、実施形態に係る発光装置の製造方法において、第2反射層を形成する工程を示す模式図であり、パッケージの凹部の底面を第2樹脂で被覆し、遠心力によって第2反射材を沈降させる工程を示す模式図である。図3Eは、実施形態に係る発光装置の製造方法において、第2反射層を形成する工程を示す断面図であり、遠心力によって第2反射材を沈降させた後の状態を示す断面図である。図3Fは、実施形態に係る発光装置の製造方法において、光透過層を配置する工程を示す断面図である。
[Manufacturing Method of Light Emitting Device 100]
Next, an example of a method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment will be described.
FIG. 2 is a flow chart of a method for manufacturing a light emitting device according to the embodiment. FIG. 3A is a cross-sectional view showing a step of mounting a light emitting element in the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment. 3B is a cross-sectional view showing a step of forming a first reflective layer in the method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment; FIG. 3C is a plan view showing a step of forming a first reflective layer in the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment; FIG. FIG. 3D is a schematic diagram showing a step of forming the second reflective layer in the method for manufacturing the light emitting device according to the embodiment, in which the bottom surface of the concave portion of the package is covered with the second resin, and centrifugal force is applied to the second reflective material. It is a schematic diagram showing the step of settling the. FIG. 3E is a cross-sectional view showing a step of forming a second reflective layer in the method for manufacturing a light-emitting device according to the embodiment, and a cross-sectional view showing a state after the second reflective material is sedimented by centrifugal force. . FIG. 3F is a cross-sectional view showing a step of disposing a light transmissive layer in the method of manufacturing the light emitting device according to the embodiment;

発光装置100の製造方法は、発光素子を載置する工程S101と、第1反射層を形成する工程S102と、第2樹脂を準備する工程S103と、第2反射層を形成する工程S104と、光透過層を配置する工程S105と、を有する。なお、各部材の材質や配置等については、前記した発光装置100の説明で述べた通りであるので、ここでは適宜、説明を省略する。 The method for manufacturing the light emitting device 100 comprises a step S101 of placing a light emitting element, a step S102 of forming a first reflective layer, a step S103 of preparing a second resin, a step S104 of forming a second reflective layer, and a step S105 of arranging a light transmission layer. Note that the material, arrangement, etc. of each member are the same as those described in the description of the light emitting device 100 described above, so description thereof will be omitted as appropriate.

(発光素子を載置する工程)
発光素子を載置する工程S101は、凹部15を有するパッケージ10の凹部15の底面に発光素子20を載置する工程である。
この工程S101では、発光素子20を凹部15の底面に載置する。発光素子20は、電極形成面を実装面として、導電性接着材により凹部の底面の略中央にフリップチップ実装されている。導電性接着材としては、例えば共晶はんだ、導電ペースト、バンプ等を用いればよい。また、発光素子20はフェイスアップ実装されていてもよく、この場合、非導電性の接着材を用いてもよい。
(Step of placing light emitting element)
The step S<b>101 of mounting the light emitting element is a step of mounting the light emitting element 20 on the bottom surface of the recess 15 of the package 10 having the recess 15 .
In this step S<b>101 , the light emitting element 20 is placed on the bottom surface of the recess 15 . The light-emitting element 20 is flip-chip mounted substantially at the center of the bottom surface of the recess using a conductive adhesive, using the electrode-formed surface as a mounting surface. As the conductive adhesive, for example, eutectic solder, conductive paste, bumps, or the like may be used. Moreover, the light emitting element 20 may be mounted face-up, and in this case, a non-conductive adhesive may be used.

(第1反射層を形成する工程)
第1反射層を形成する工程S102は、凹部15の側面を第1反射材31を含有する第1樹脂で被覆して第1反射層30を形成する工程である。
この工程S102では、例えば、ポッティングにより、凹部15の側面を被覆する第1樹脂を配置する。第1樹脂の凹部15への配置は、第1樹脂が充填された樹脂吐出装置の先端のノズルから未硬化の樹脂材料を凹部15の底面の外縁近傍(好ましくは側面との境界)に吐出することで行うことができる。未硬化の第1樹脂は凹部15の側面に濡れ広がり、凹部15の側面を被覆する。この際、凹部15の底面にも第1樹脂が流動するため、第1樹脂は凹部15の底面の外縁の一部を被覆している。ここでは、第1樹脂が発光素子20の側面から離隔して、かつ、凹部15の側面の上方に這い上がるように、第1樹脂の粘度および形成位置を調整しておくことが好ましい。第1反射層30をポッティングにより形成する場合、第1樹脂の粘度は、例えば室温(20±5℃)で、1Pa・s~50Pa・sに調整される。
(Step of forming first reflective layer)
The step S102 of forming the first reflective layer is a step of forming the first reflective layer 30 by coating the side surface of the concave portion 15 with the first resin containing the first reflective material 31 .
In this step S102, for example, a first resin that covers the side surface of the recess 15 is arranged by potting. The placement of the first resin in the concave portion 15 is performed by discharging the uncured resin material from the nozzle at the tip of the resin discharging device filled with the first resin to the vicinity of the outer edge of the bottom surface of the concave portion 15 (preferably the boundary with the side surface). can be done by The uncured first resin wets and spreads on the side surface of the recess 15 to cover the side surface of the recess 15 . At this time, since the first resin also flows to the bottom surface of the recess 15 , the first resin partially covers the outer edge of the bottom surface of the recess 15 . Here, it is preferable to adjust the viscosity and formation position of the first resin so that the first resin is separated from the side surface of the light emitting element 20 and rises above the side surface of the recess 15 . When the first reflective layer 30 is formed by potting, the viscosity of the first resin is adjusted to 1 Pa·s to 50 Pa·s at room temperature (20±5° C.), for example.

また、この工程S102では、予め凹部15の内面を有機溶剤で浸しておくこともできる。予め凹部15の内面を有機溶剤で浸しておくことで、第1樹脂の凹部15の側面への這い上がりを促進することができる。また、凹部15の側面に濡れ性の高い材料を用いたり、側面の表面を粗面加工したりすること等でも、凹部15の側面への這い上がりを促進することができる。
なお、硬化前の第1樹脂には第1反射材31が混合されており、第1樹脂中に含有される第1反射材31の含有濃度は、10質量%以上50質量%以下とすることが好ましい。
第1樹脂は、第1樹脂をポッティングにより凹部15の底面の外縁近傍に配置することで、第1樹脂が凹部15の側面に濡れ広がる。なおこの際、第1反射層30は、第1反射材31が第1樹脂中に分散した状態である。
その後、例えば、120℃以上200℃以下の温度で第1樹脂を硬化させ、第1反射層30を形成する。第1樹脂の硬化は、第1樹脂が凹部15の側面に濡れ広がった後で、パッケージが静置した状態で行うことが好ましい。
この工程S102では、第1反射層30は、平面視で、内縁部分が円形になるように形成される。
Further, in this step S102, the inner surface of the concave portion 15 can be soaked in advance with an organic solvent. By soaking the inner surface of the concave portion 15 in advance with an organic solvent, it is possible to promote the first resin to creep up to the side surface of the concave portion 15 . In addition, by using a material with high wettability for the side surface of the recess 15 or roughening the surface of the side surface, it is possible to promote the creeping up of the side surface of the recess 15 .
The first reflective material 31 is mixed in the first resin before curing, and the content concentration of the first reflective material 31 contained in the first resin should be 10% by mass or more and 50% by mass or less. is preferred.
The first resin wets and spreads over the side surfaces of the recess 15 by placing the first resin in the vicinity of the outer edge of the bottom surface of the recess 15 by potting. At this time, the first reflective layer 30 is in a state in which the first reflective material 31 is dispersed in the first resin.
After that, for example, the first resin is cured at a temperature of 120° C. or more and 200° C. or less to form the first reflective layer 30 . The curing of the first resin is preferably performed after the first resin has wetted and spread on the side surfaces of the recess 15 and the package is left standing.
In this step S102, the first reflective layer 30 is formed so that the inner edge portion is circular in plan view.

(第2樹脂を準備する工程)
第2樹脂を準備する工程S103は、2液硬化性の樹脂材料の主剤と第2反射材41とを混合し、一定時間以上経過後に硬化剤を混合する工程である。
このようにして作製した第2樹脂を用いることで、第2反射材41と樹脂材料とのなじみを良くし、遠心力により第2反射材41を沈降させ易くすることができる。硬化剤混合前の温度は室温程度とする。
2液硬化性の樹脂材料としては、例えば、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
2液硬化性の樹脂材料の主剤と第2反射材41とを混合して経過させる時間は、第2反射材41をより沈降させ易くする観点から、好ましくは2時間以上である。また、経過させる時間は、製造時間を短縮させる観点から、好ましくは8時間以下である。なお、硬化剤を混合した後は、第2樹脂が硬化する前に次工程に移る。
(Step of preparing second resin)
The step S103 of preparing the second resin is a step of mixing the main agent of the two-liquid curing resin material and the second reflecting material 41, and mixing the curing agent after a predetermined time or longer.
By using the second resin produced in this way, the second reflector 41 and the resin material can be made to fit well, and the second reflector 41 can be easily sedimented by centrifugal force. The temperature before mixing with the curing agent is about room temperature.
Examples of two-liquid curing resin materials include silicone resins, modified silicone resins, epoxy resins, and modified epoxy resins.
From the viewpoint of allowing the second reflecting material 41 to settle more easily, the time taken to mix the main component of the two-liquid curing resin material and the second reflecting material 41 is preferably two hours or longer. Moreover, the elapsed time is preferably 8 hours or less from the viewpoint of shortening the manufacturing time. After mixing the curing agent, the next step is performed before the second resin is cured.

(第2反射層を形成する工程)
第2反射層を形成する工程S104は、第1反射層30に当接して、凹部15の底面を第2反射材41を含有する第2樹脂で被覆して第2反射層40を形成する工程である。
この工程S104では、例えば、第1樹脂と同様に、ポッティングにより、凹部15の底面に未硬化の第2樹脂を配置する。この際、第2樹脂は、凹部15の底面における凹部15の側面と発光素子20との間に配置する。なお、好ましくは、第1反射層30に接するように第2樹脂を配置する。これにより、第2樹脂の発光素子20側への流動を抑制することができるため、遠心回転させる前に第2樹脂が発光素子20の側面へ這い上がってしまうことを抑制することができる。発光素子20の側面への第2樹脂の這い上がりは、遠心回転で第2樹脂の形状が変化することにより解消されるが、第2樹脂の粘度や遠心回転速度によっては、第2樹脂が発光素子20の側面に残ってしまう虞がある。このため、遠心回転させる前の第2樹脂は、発光素子20の側面を被覆していないことが好ましい。
(Step of forming second reflective layer)
The step S104 of forming the second reflective layer is a step of forming the second reflective layer 40 by contacting the first reflective layer 30 and covering the bottom surface of the concave portion 15 with a second resin containing the second reflective material 41 . is.
In this step S104, for example, an uncured second resin is placed on the bottom surface of the concave portion 15 by potting in the same manner as the first resin. At this time, the second resin is arranged on the bottom surface of the recess 15 between the side surface of the recess 15 and the light emitting element 20 . In addition, preferably, the second resin is arranged so as to be in contact with the first reflective layer 30 . As a result, it is possible to suppress the flow of the second resin toward the light emitting element 20 side, so it is possible to suppress the second resin from creeping up to the side surface of the light emitting element 20 before the centrifugal rotation. Crawling up of the second resin to the side surface of the light emitting element 20 is eliminated by changing the shape of the second resin due to centrifugal rotation. There is a possibility that it may remain on the side surface of the element 20 . Therefore, it is preferable that the second resin does not cover the side surface of the light emitting element 20 before centrifugal rotation.

次に、凹部15の底面に遠心力がかかる方向にパッケージ10を遠心回転させる。これにより、第2樹脂は凹部15の底面側に移動し凹部15の底面を被覆する。なお、この際、第2樹脂が発光素子20の側面の一部を被覆するとしても、遠心力により発光素子20の側面の高さ方向への濡れ広がりが抑制される。さらに、この遠心力を利用して、第2樹脂の第2反射材41を凹部15の底面側に強制的に沈降させることにより、透光層40bと第2反射材41を含有する含有層40aが形成される。 Next, the package 10 is centrifugally rotated in the direction in which the centrifugal force is applied to the bottom surface of the recess 15 . As a result, the second resin moves toward the bottom surface of the recess 15 and covers the bottom surface of the recess 15 . At this time, even if the second resin covers part of the side surface of the light emitting element 20, centrifugal force prevents the side surface of the light emitting element 20 from wetting and spreading in the height direction. Furthermore, by utilizing this centrifugal force, the second resin second reflector 41 is forcibly deposited on the bottom surface side of the recess 15, thereby forming the translucent layer 40b and the containing layer 40a containing the second reflector 41. is formed.

パッケージ10の回転は、凹部15の底面が外側になるような回転軸80でパッケージ10に遠心力をかけることにより行うことが好ましい。具体的には、パッケージ10の上面側に回転軸80を有するように、回転軸80を軸として公転するA方向にパッケージ10を移動させる。なお、図3DにおけるB方向は、凹部15の底面に平行な方向である。回転軸80は、凹部15の底面の略中心を通る垂直線上に位置する凹部15の底面に平行な軸であり、かつ、パッケージ10に対して凹部15の開口部側に位置する。これにより、凹部15の底面方向に遠心力が働き、第2樹脂のパッケージ10の高さ方向への広がりが抑制されるとともに、第2樹脂に含有されている第2反射材41が凹部15の底面側(図3Dにおける矢印C方向)に強制的に沈降される。この状態で第2樹脂を硬化させることにより、第2反射材41を含有する含有層40aと透光層40bとがこの順に凹部15の底面に形成される。 Rotation of the package 10 is preferably performed by applying a centrifugal force to the package 10 with a rotating shaft 80 such that the bottom surface of the recess 15 faces outward. Specifically, the package 10 is moved in the A direction in which the package 10 revolves around the rotation shaft 80 so that the package 10 has the rotation shaft 80 on the upper surface side. Note that the B direction in FIG. 3D is a direction parallel to the bottom surface of the recess 15 . The rotating shaft 80 is parallel to the bottom surface of the recess 15 and positioned on a vertical line that passes through the approximate center of the bottom surface of the recess 15 , and is located on the side of the opening of the recess 15 with respect to the package 10 . As a result, centrifugal force acts in the direction of the bottom surface of the recess 15 , suppressing the spread of the second resin in the height direction of the package 10 , and the second reflecting material 41 contained in the second resin prevents the recess 15 from spreading. It is forcibly lowered to the bottom side (direction of arrow C in FIG. 3D). By curing the second resin in this state, the containing layer 40a containing the second reflecting material 41 and the translucent layer 40b are formed on the bottom surface of the recess 15 in this order.

また、第2反射層40は、塗布する量や第2樹脂に含有される第2反射材41の含有量を適宜調整する。そして、発光素子20の側面の少なくとも一部に含有層40aが対向しないように第2反射層40を形成する。
パッケージ10を遠心回転させる際の回転速度や回転数は、第2反射材41の含有量や粒径等にもよるが、例えば200xg以上の遠心力がかかるように、回転数や回転半径を調整すればよい。
In addition, the amount of the second reflective layer 40 to be applied and the content of the second reflective material 41 contained in the second resin are appropriately adjusted. Then, the second reflective layer 40 is formed so that the containing layer 40a does not face at least a portion of the side surface of the light emitting element 20 .
The rotation speed and number of revolutions when centrifugally rotating the package 10 depend on the content and particle diameter of the second reflecting material 41, but the number of revolutions and the radius of rotation are adjusted so that a centrifugal force of 200 x g or more is applied, for example. do it.

なお、製造工程において、個片化前の集合基板の状態でパッケージ10を遠心回転させる際には、集合基板が平板状であると、集合基板の平面積が大きくなるほど(より詳細には回転方向Aにおける基板長さが長くなるほど)、集合基板の中心から離れた位置のパッケージ10は回転軸80からのずれが生じる。例えば、集合基板において、公転する円周上からB方向へのずれが大きくなると、第2樹脂の表面が凹部15の底面に対して傾斜してしまい、集合基板の中で第2樹脂の表面状態にばらつきが生じる虞がある。このずれを抑制するために、回転半径を大きくすることで抑制することができる。具体的には、回転方向に配置される集合基板の長さの70倍以上の回転半径とすることで、ずれを抑制することができる。
なお、遠心力により、集合基板が回転半径の円周に沿って撓むような可撓性を有する樹脂パッケージ10を用いる場合は、上記ずれが生じにくくなるため、非可撓性のパッケージ10の集合基板よりも大きい集合基板で遠心回転することができる。これにより、一回の処理数を多くすることができる。
In the manufacturing process, when centrifugally rotating the package 10 in the state of the aggregated substrate before singulation, if the aggregated substrate is flat, the larger the flat area of the aggregated substrate (more specifically, the rotation direction As the board length at A increases, the package 10 at a position farther from the center of the collective board is displaced from the rotation axis 80 . For example, in the aggregate board, if the deviation in the B direction from the circumference of the revolving circle becomes large, the surface of the second resin is inclined with respect to the bottom surface of the recess 15, and the surface state of the second resin in the aggregate board. There is a risk that there will be variations in This shift can be suppressed by increasing the radius of rotation. Specifically, the deviation can be suppressed by setting the rotation radius to be 70 times or more the length of the collective substrates arranged in the rotation direction.
In the case of using a flexible resin package 10 such that the aggregate substrate bends along the circumference of the radius of rotation due to centrifugal force, the deviation is less likely to occur. Centrifugal rotation can be performed with a collective substrate that is larger than the substrate. This makes it possible to increase the number of processes performed at one time.

また、この工程S104では、第2反射材41を沈降させながら第2樹脂を硬化させることが好ましい。第2反射材41は、光反射の観点から粒径の小さいものを使用することが好ましいが、粒径が小さくなるほど沈降しにくくなるため、この工程では遠心力により凹部15の底面側に第2反射材41を強制的に沈降させている。このため、第2反射材41を沈降させた状態で硬化させるために、本工程では、回転を維持したまま、つまり回転させながら第2樹脂の硬化工程を行うことが好ましい。
なお、回転を止めてから硬化させることも可能であるが、回転が止まると、濡れ性により樹脂が発光素子20の側面に広がりやすくなってしまう。このため、パッケージ10を回転させながら第2樹脂を硬化させることで、第2樹脂が発光素子20の側面に這い上がることを防止することができる。発光素子20の側面が第2樹脂から露出することにより、光取り出し効率をより向上させることができるとともに、発光装置100の配光色度をより良好にすることができる。
Moreover, in step S104, it is preferable to harden the second resin while causing the second reflecting material 41 to settle. From the viewpoint of light reflection, it is preferable to use the second reflecting material 41 with a small particle size. The reflecting material 41 is forced to sink. For this reason, in order to cure the second reflecting material 41 in a sedimented state, it is preferable to carry out the curing process of the second resin while maintaining the rotation, that is, while rotating.
It is also possible to cure the resin after stopping the rotation, but when the rotation stops, the resin tends to spread over the side surfaces of the light emitting element 20 due to its wettability. Therefore, by curing the second resin while rotating the package 10 , it is possible to prevent the second resin from crawling up the side surface of the light emitting element 20 . By exposing the side surface of the light emitting element 20 from the second resin, the light extraction efficiency can be further improved, and the light distribution chromaticity of the light emitting device 100 can be further improved.

この際、第2樹脂を硬化させる温度は、40℃以上200℃以下が挙げられる。硬化させる温度を高くすることで、第2樹脂を硬化させる時間を短縮でき、効率的である。また、遠心沈降させる装置の金属が熱により膨張することで回転軸80がぶれることを考慮すると、硬化させる温度はなるべく低いことが好ましい。つまり、第2樹脂を硬化させる温度は、効率性の観点から、好ましくは50℃以上である。また、第2樹脂を硬化させる温度は、回転軸80がぶれることを考慮し、好ましくは60℃以下である。80℃以上で硬化させる際には、少なくとも遠心回転装置の金属部分が80℃以上とならないように、装置を調整することが好ましい。
なお、第2樹脂を構成する樹脂材料としては、回転するパッケージ10を40℃以上の温度に保つことで少なくとも仮硬化状態が得られる樹脂材料を選択することが好ましい。
第2反射材41を沈降させながら第2樹脂を硬化させる方法としては、例えば、熱風をかけたり、パネルヒータ等を用いたりすることが挙げられる。
At this time, the temperature for curing the second resin is 40° C. or higher and 200° C. or lower. By increasing the curing temperature, the time for curing the second resin can be shortened, which is efficient. Moreover, considering that the metal of the centrifugal sedimentation device expands due to heat and the rotating shaft 80 shakes, it is preferable that the hardening temperature is as low as possible. That is, the temperature for curing the second resin is preferably 50° C. or higher from the viewpoint of efficiency. Also, the temperature for hardening the second resin is preferably 60° C. or less, considering that the rotating shaft 80 may move. When curing at 80° C. or higher, it is preferable to adjust the device so that at least the metal portion of the centrifugal rotating device does not reach 80° C. or higher.
As the resin material forming the second resin, it is preferable to select a resin material that can obtain at least a provisionally cured state by keeping the rotating package 10 at a temperature of 40° C. or higher.
As a method of curing the second resin while causing the second reflecting material 41 to settle, for example, applying hot air or using a panel heater or the like can be mentioned.

(光透過層を配置する工程)
光透過層を配置する工程S105は、第2反射層40および発光素子20上に、蛍光体51を含有する第3樹脂による光透過層50を配置する工程である。
この工程S105では、ポッティングやスプレー等により、凹部15内に第3樹脂を配置する。また、蛍光体51は、第3樹脂中で自然沈降し、発光素子20の上面、第1反射層30の内側面、および第2反射層40の上面に配置される。その後、例えば、120℃以上200℃以下の温度で、第3樹脂を硬化させ、光透過層50を形成する。
(Step of arranging light-transmitting layer)
The step S<b>105 of arranging the light transmission layer is a step of arranging the light transmission layer 50 made of the third resin containing the phosphor 51 on the second reflective layer 40 and the light emitting element 20 .
In this step S105, the third resin is arranged in the concave portion 15 by potting, spraying, or the like. Also, the phosphor 51 naturally settles in the third resin and is arranged on the upper surface of the light emitting element 20 , the inner surface of the first reflective layer 30 , and the upper surface of the second reflective layer 40 . After that, the third resin is cured at a temperature of, for example, 120° C. or more and 200° C. or less to form the light transmission layer 50 .

以上、本実施形態に係る発光装置の製造方法および発光装置について、発明を実施するための形態により具体的に説明したが、本発明の趣旨はこれらの記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて広く解釈されなければならない。また、これらの記載に基づいて種々変更、改変等したものも本発明の趣旨に含まれる。 As described above, the method for manufacturing a light-emitting device and the light-emitting device according to the present embodiment have been specifically described with the modes for carrying out the invention, but the gist of the present invention is not limited to these descriptions, and the claims should be interpreted broadly based on the scope statement. In addition, various changes and modifications based on these descriptions are also included in the gist of the present invention.

《他の実施形態》
図4は、他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す断面図である。図5は、他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す断面図である。図6は、他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す断面図である。図7Aは、他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す斜視図である。図7Bは、図7AのVIIB-VIIB線における断面図である。図8Aは、他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す平面図である。図8Bは、図8AのVIIIB-VIIIB線における断面図である。図8Cは、図8AのVIIIC-VIIIC線における断面図である。図9Aは、他の実施形態に係る発光装置の構成を模式的に示す平面図である。図9Bは、図9AのIXB-IXB線における断面図である。
<<Other embodiments>>
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment. FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment. FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment. FIG. 7A is a perspective view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment. FIG. 7B is a cross-sectional view along line VIIB-VIIB of FIG. 7A. FIG. 8A is a plan view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment. FIG. 8B is a cross-sectional view along line VIIIB-VIIIB of FIG. 8A. FIG. 8C is a cross-sectional view along line VIIIC-VIIIC of FIG. 8A. 9A is a plan view schematically showing the configuration of a light emitting device according to another embodiment. FIG. FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line IXB-IXB of FIG. 9A.

図4に示す発光装置100Aは、発光素子20と凹部15の底面との間にバンプ60を設けている。そして、発光装置100Aは、バンプ60を介して、発光素子20を凹部15の底面に載置している。これにより、発光素子20を、発光素子20の高さ方向へかさ上げしている。そして、発光素子20の側面が第2反射材41を含有する含有層40aに対向しないように、第2反射層40が設けられている。また、発光素子20の半導体層22が含有層40aに対向しないように、第2反射層40が設けられている。
このような構成とすることで、発光素子20側面での反射による一次光のロスを低減することができる。また、発光素子20の側面から取り出せる一次光が増えることで、蛍光体51の多重励起が抑制され、発光装置100Aの配光色度をより改善することができる。
バンプ60としては、例えばAuバンプを用いることができる。
A light-emitting device 100A shown in FIG. In the light-emitting device 100A, the light-emitting element 20 is placed on the bottom surface of the recess 15 via the bumps 60 . Thereby, the light emitting element 20 is raised in the height direction of the light emitting element 20 . The second reflective layer 40 is provided so that the side surface of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40 a containing the second reflective material 41 . A second reflective layer 40 is provided so that the semiconductor layer 22 of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40a.
With such a configuration, loss of primary light due to reflection on the side surface of the light emitting element 20 can be reduced. In addition, since the amount of primary light that can be extracted from the side surface of the light emitting element 20 is increased, multiple excitation of the phosphor 51 is suppressed, and the light distribution chromaticity of the light emitting device 100A can be further improved.
Au bumps, for example, can be used as the bumps 60 .

図5に示す発光装置100Bは、発光素子20と凹部15の底面との間にポスト70を設けている。そして、発光装置100Bは、ポスト70を介して、発光素子20を凹部15の底面に載置している。これにより、発光素子20を、発光素子20の高さ方向へかさ上げしている。そして、発光素子20の側面が第2反射材41を含有する含有層40aに対向しないように、第2反射層40が設けられている。また、発光素子20の半導体層22が含有層40aに対向しないように、第2反射層40が設けられている。
このような構成とすることで、発光素子20側面での反射による一次光のロスを低減することができる。また、発光素子20の側面から取り出せる一次光が増えることで、蛍光体51の多重励起が抑制され、発光装置100Bの配光色度をより改善することができる。
ポスト70としては、例えばCuポストを用いることができる。
A light-emitting device 100B shown in FIG. 5 has a post 70 between the light-emitting element 20 and the bottom surface of the recess 15 . In the light emitting device 100B, the light emitting element 20 is placed on the bottom surface of the recess 15 via the post 70. As shown in FIG. Thereby, the light emitting element 20 is raised in the height direction of the light emitting element 20 . The second reflective layer 40 is provided so that the side surface of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40 a containing the second reflective material 41 . A second reflective layer 40 is provided so that the semiconductor layer 22 of the light emitting element 20 does not face the containing layer 40a.
With such a configuration, loss of primary light due to reflection on the side surface of the light emitting element 20 can be reduced. In addition, by increasing the amount of primary light that can be extracted from the side surface of the light emitting element 20, multiple excitation of the phosphor 51 is suppressed, and the light distribution chromaticity of the light emitting device 100B can be further improved.
A Cu post, for example, can be used as the post 70 .

図6に示す発光装置100Cは、第2反射層40の表面が開口部側に凹の表面となっている。パッケージ10の回転速度を抑えることにより、このような表面状態とすることができる。なお、第2反射層40は実質的に透光層40bが形成されない状態であってもよい。この場合でも、回転をかけながら、すなわち遠心力がかかった状態で第2樹脂を硬化させることで、第2反射層40による発光素子20の側面への這い上がりを抑制しながら、第1反射層30から露出する凹部15の底面全てを被覆するように第2樹脂の形状を変化させることができる。
このような構成とすることで、発光素子20側面での反射による一次光のロスを低減することができる。また、発光素子20の側面から取り出せる一次光が増えることで、蛍光体51の多重励起が抑制され、発光装置100Cの配光色度をより改善することができる。
In the light-emitting device 100C shown in FIG. 6, the surface of the second reflective layer 40 is concave on the opening side. Such a surface state can be obtained by suppressing the rotational speed of the package 10 . In addition, the second reflective layer 40 may be in a state where the transparent layer 40b is not substantially formed. Even in this case, by curing the second resin while rotating, that is, in a state where centrifugal force is applied, the second reflective layer 40 is prevented from creeping up to the side surface of the light emitting element 20, and the first reflective layer The shape of the second resin can be changed so as to cover the entire bottom surface of the recess 15 exposed from 30 .
With such a configuration, loss of primary light due to reflection on the side surface of the light emitting element 20 can be reduced. In addition, since the amount of primary light that can be extracted from the side surface of the light emitting element 20 increases, multiple excitation of the phosphor 51 is suppressed, and the light distribution chromaticity of the light emitting device 100C can be further improved.

図7A、7Bに示す発光装置100Dは、パッケージ10Aの凹部15の底面に、発光素子20をフェイスアップ実装したものである。発光素子20は、第2リード3b上に載置されている。そして、ここでは、発光素子20のN側電極がワイヤ23を介して第1リード3aに接合され、P側電極がワイヤ24を介して第2リード3bに接合されている。
発光素子20をフェイスアップ実装することで、発光素子20の半導体層22を光取り出し面側に配置することができ、半導体層22が含有層40aに対向しないようにすることができる。
このような構成とすることで、発光素子20側面での反射による一次光のロスを低減することができる。また、発光素子20の側面から取り出せる一次光が増えることで、蛍光体51の多重励起が抑制され、発光装置100Dの配光色度をより改善することができる。
A light-emitting device 100D shown in FIGS. 7A and 7B has a light-emitting element 20 face-up mounted on the bottom surface of the recess 15 of the package 10A. The light emitting element 20 is mounted on the second lead 3b. Here, the N-side electrode of the light emitting element 20 is joined to the first lead 3a through the wire 23, and the P-side electrode is joined to the second lead 3b through the wire 24. As shown in FIG.
By face-up mounting the light emitting element 20, the semiconductor layer 22 of the light emitting element 20 can be arranged on the light extraction surface side, and the semiconductor layer 22 can be prevented from facing the containing layer 40a.
With such a configuration, loss of primary light due to reflection on the side surface of the light emitting element 20 can be reduced. In addition, since the amount of primary light that can be extracted from the side surface of the light emitting element 20 is increased, multiple excitation of the phosphor 51 is suppressed, and the light distribution chromaticity of the light emitting device 100D can be further improved.

図8A、8B、8Cに示す発光装置100Eは、パッケージ10Bが、平面視で矩形に形成されており、平面視で長方形となる矩形の凹部15を有する。つまり、パッケージ10Bは、凹部15の側面が一方向で対向するX方向における距離と、X方向と直交するY方向における距離とが異なる。なお、ここでの矩形とは、パッケージ10Bのように、角部の一部を切り欠いた形状や、凹部15のように、角部が湾曲した形状等、概ね矩形である形状を含むものである。また、パッケージ10Bの構造や部材等は、パッケージ10Aに準じたものであり、詳細な図示および説明は省略している。また、図8Aにおいて、第1反射層30の湾曲部32は破線で示し、第2反射層40の湾曲部は実線で示している。 A light-emitting device 100E shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C has a package 10B that is rectangular in plan view and has a rectangular concave portion 15 that is rectangular in plan view. That is, in the package 10B, the distance in the X direction where the side surfaces of the recess 15 face each other in one direction is different from the distance in the Y direction orthogonal to the X direction. Note that the term “rectangular” here includes shapes that are generally rectangular, such as a shape in which a part of the corner is notched like the package 10B and a shape in which the corner is curved like the recess 15 . Also, the structure, members, etc. of the package 10B are similar to those of the package 10A, and detailed illustration and description are omitted. Also, in FIG. 8A, the curved portion 32 of the first reflective layer 30 is indicated by a broken line, and the curved portion of the second reflective layer 40 is indicated by a solid line.

発光素子20は、平面視で、凹部15の底面の中央に載置されている。これにより、発光装置100Eは、平面視で、発光素子20からX方向の凹部15の側面までの距離と、発光素子20からY方向の凹部15の側面までの距離とが異なっている。すなわち、発光装置100Eは、パッケージ10Bの長手方向における、発光素子20の側面と凹部15の側面との距離が、パッケージ10Bの短手方向における、発光素子20の側面と凹部15の側面との距離よりも長い。なお、ここでは、凹部15の形状を長方形とすることで、長手方向および短手方向における発光素子20の側面と凹部15の側面との距離を変えるようにしているが、平面視で、凹部15の形状を正方形とし、発光素子20の形状を長方形とすることでもよい。このように、パッケージ10Bおよび発光素子20は、X方向およびY方向における発光素子20から凹部15の側面までの距離が異なるように形成すればよい。 The light emitting element 20 is placed in the center of the bottom surface of the recess 15 in plan view. Thus, in the light emitting device 100E, the distance from the light emitting element 20 to the side surface of the recess 15 in the X direction differs from the distance from the light emitting element 20 to the side surface of the recess 15 in the Y direction in plan view. That is, in the light emitting device 100E, the distance between the side surface of the light emitting element 20 and the side surface of the recess 15 in the longitudinal direction of the package 10B is equal to the distance between the side surface of the light emitting element 20 and the side surface of the recess 15 in the short direction of the package 10B. longer than Here, by making the shape of the recess 15 rectangular, the distance between the side surface of the light emitting element 20 and the side surface of the recess 15 in the longitudinal direction and the lateral direction is changed. may be square and the light emitting element 20 may be rectangular. Thus, the package 10B and the light emitting element 20 may be formed so that the distances from the light emitting element 20 to the side surface of the recess 15 in the X direction and the Y direction are different.

第1反射層30は、平面視で、X方向において、発光素子20に向けて凹状に湾曲して形成される湾曲部32と、Y方向における凹部15の側面の少なくとも一部が発光素子20と対向するように間隙を有して形成される間隙部33と、を有する。
第1反射層30の湾曲部32は、平面視で、X方向の一方側(図面上、左側)および他方側(図面上、右側)に形成され、パッケージ10Bの長手方向の両側に設けられている。これにより、第1反射層30は、凹部15の短辺側の側面を被覆するように設けられている。湾曲部32は、その凹湾曲部分が発光素子20の側面の略中央に対向するように形成されている。また、湾曲部32は、湾曲した部位の最深部が発光素子20の側面の略中央に対向する位置になるように形成されている。
また、第1反射層30の間隙部33は、Y方向の一方側(図面上、上側)および他方側(図面上、下側)において、発光素子20に対向する部位に第1反射層30がない隙間を形成するように設けられている。すなわち、平面視で、湾曲部32の端部32aがY方向に並行な発光素子20の側面の延長線上の位置、あるいは延長線上の位置よりも外側にある。これにより、Y方向の凹部15の側面のうち、発光素子20に対向する部位は、第1反射層30に対向することなく凹部15の側面に光透過層50を介して対向している。
The first reflective layer 30 includes, in plan view, a curved portion 32 curved concavely toward the light emitting element 20 in the X direction, and at least a portion of the side surface of the recess 15 in the Y direction forming the light emitting element 20. and a gap portion 33 formed with a gap so as to face each other.
The curved portions 32 of the first reflective layer 30 are formed on one side (the left side in the drawing) and the other side (the right side in the drawing) in the X direction in plan view, and are provided on both sides in the longitudinal direction of the package 10B. there is Thus, the first reflective layer 30 is provided so as to cover the short-side side surfaces of the recess 15 . The curved portion 32 is formed such that its concave curved portion faces substantially the center of the side surface of the light emitting element 20 . Further, the curved portion 32 is formed such that the deepest portion of the curved portion faces substantially the center of the side surface of the light emitting element 20 .
In addition, the gap 33 of the first reflective layer 30 has the first reflective layer 30 facing the light emitting element 20 on one side (upper side in the drawing) and the other side (lower side in the drawing) in the Y direction. It is provided to form a gap that does not That is, in a plan view, the end portion 32a of the curved portion 32 is located on the extension line of the side surface of the light emitting element 20 parallel to the Y direction, or outside the extension line. As a result, of the side surfaces of the concave portion 15 in the Y direction, the portion facing the light emitting element 20 faces the side surface of the concave portion 15 via the light transmission layer 50 without facing the first reflective layer 30 .

このような構成とすることで、凹部15の側面のうち、発光素子20側面からの距離が短いY方向においては、発光素子20に対向する部位には第1反射層30が配置されないため、第2反射層40が第1反射層30に重なって配置されることがない。そのため、Y方向における第2反射層40の表面の平坦性が良好となる。これにより、例えば、第3樹脂中において蛍光体51が沈降して配置される際に、蛍光体51の沈降層の平坦性が良好となり好ましい。発光素子20と第1反射層30との距離が近い場合、第2反射層40が第1反射層30に重なって配置されると、発光素子20の側面近傍で、蛍光体51が発光素子20より上方に配置される。これにより、この領域では、蛍光体51で波長変換された二次光の割合が多くなり発光むらが生じる虞がある。 By adopting such a configuration, the first reflective layer 30 is not arranged in the portion facing the light emitting element 20 in the Y direction where the distance from the side surface of the light emitting element 20 is short among the side surfaces of the concave portion 15. The second reflective layer 40 does not overlap the first reflective layer 30 . Therefore, the flatness of the surface of the second reflective layer 40 in the Y direction is improved. Thereby, for example, when the phosphor 51 is deposited in the third resin, the flatness of the sedimented layer of the phosphor 51 is improved, which is preferable. When the distance between the light-emitting element 20 and the first reflective layer 30 is short, and the second reflective layer 40 is arranged to overlap the first reflective layer 30 , the phosphor 51 nears the side surface of the light-emitting element 20 . placed higher. As a result, in this region, the ratio of the secondary light wavelength-converted by the phosphor 51 increases, and there is a possibility that uneven light emission may occur.

つまり、平面視において、発光素子20の外縁と第1反射層30(第1反射層30が配置されない側面においては対向する凹部15の側面)との距離を一定以上確保することで、発光素子20の外周近傍の領域には平坦な第2反射層40が形成され、第2反射層40上の光透過層50を低い位置に配置することができる。これにより、発光装置100Eから出射する光の配光色度が向上する。このような観点から、平面視における発光素子20と第1反射層30との距離は100μm以上とすることが好ましく、300μm以上がより好ましい。また遠心力による第2反射層40の形成のしやすさから、発光素子20と第1反射層30との距離は1500μm以下とすることが好ましい。 That is, in plan view, by ensuring a certain distance or more between the outer edge of the light emitting element 20 and the first reflective layer 30 (the side surface of the recess 15 facing the side surface where the first reflective layer 30 is not arranged), the light emitting element 20 A flat second reflective layer 40 is formed in the region near the outer periphery of the , and the light transmission layer 50 on the second reflective layer 40 can be arranged at a low position. This improves the luminous intensity distribution chromaticity of the light emitted from the light emitting device 100E. From this point of view, the distance between the light emitting element 20 and the first reflective layer 30 in plan view is preferably 100 μm or more, more preferably 300 μm or more. In addition, the distance between the light emitting element 20 and the first reflective layer 30 is preferably 1500 μm or less in order to facilitate the formation of the second reflective layer 40 by centrifugal force.

また、このような第1反射層30の形態は、第1反射材を含有する第1樹脂の塗布量を調整したり、塗布位置を調整したり、第1樹脂中の第1反射材の含有量を調整したりすることで制御することができる。第1樹脂中の第1反射材の含有量を調整する場合は、例えば、第1樹脂100質量部に対して、第1反射材としてアエロジル(登録商標)を2.0質量部以上6.5質量部以下含有させることが挙げられる。 In addition, such a form of the first reflective layer 30 can be adjusted by adjusting the coating amount of the first resin containing the first reflective material, adjusting the coating position, or controlling the content of the first reflective material in the first resin. It can be controlled by adjusting the amount. When adjusting the content of the first reflecting material in the first resin, for example, 2.0 parts by mass or more of Aerosil (registered trademark) as the first reflecting material is 6.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the first resin. For example, it may be contained in parts by mass or less.

また、ここでは、第1反射層30は、Y方向における凹部15の側面において間隙部33が形成され、発光素子20に対向する部位には設けられていないものとした。しかしながら、第1反射層30は、Y方向における凹部15の側面において、発光素子20に対向する一部の部位のみに設けられていないものとしてもよい。また、第1反射層30は、Y方向における凹部15の側面において、発光素子20に対向する部位以外に、発光素子20に対向しない部位の一部にも設けられていないものとしてもよい。つまり、湾曲部32の端部32aの位置をY方向の凹部15の側面に沿って変えることで間隙部33を設定することができる。
なお、発光装置100Eは、保護素子90を備えている。保護素子90は、例えば、ツェナーダイオードである。
Also, here, the first reflective layer 30 is formed with the gap portion 33 on the side surface of the concave portion 15 in the Y direction and is not provided on the portion facing the light emitting element 20 . However, the first reflective layer 30 may not be provided only on a portion of the side surface of the concave portion 15 in the Y direction that faces the light emitting element 20 . Also, the first reflective layer 30 may not be provided on a portion of the side surface of the concave portion 15 in the Y direction, other than the portion facing the light emitting element 20 , which does not face the light emitting element 20 . That is, the gap portion 33 can be set by changing the position of the end portion 32a of the curved portion 32 along the side surface of the concave portion 15 in the Y direction.
Note that the light emitting device 100E includes a protective element 90. As shown in FIG. Protective element 90 is, for example, a Zener diode.

図9A、9Bに示す発光装置100Fは、パッケージ10Cが、平面視で矩形に形成されており、平面視で長方形となる矩形の凹部15を有する。パッケージ10Cは、支持部材2dと、一対の電極である第1リード3cおよび第2リード3dと、を備えている。支持部材2dは、第1リード3cおよび第2リード3dを所定の配置で支持する部材である。支持部材2dの材料としては、例えば、発光装置100の絶縁性基板2の材料と同じものを用いることができる。第1リード3cおよび第2リード3dとしては、例えば、発光装置100の第1配線部3と同様のものを用いることができる。なお、図9Aにおいて、第2反射層40は透過させており、第1反射層30の湾曲部32は実線で示している。 A light-emitting device 100F shown in FIGS. 9A and 9B has a package 10C that is rectangular in plan view and has a rectangular concave portion 15 that is rectangular in plan view. The package 10C includes a support member 2d and a first lead 3c and a second lead 3d, which are a pair of electrodes. The support member 2d is a member that supports the first lead 3c and the second lead 3d in a predetermined arrangement. As the material of the support member 2d, for example, the same material as that of the insulating substrate 2 of the light emitting device 100 can be used. As the first lead 3c and the second lead 3d, for example, the same lead as the first wiring portion 3 of the light emitting device 100 can be used. In FIG. 9A, the second reflective layer 40 is transparent, and the curved portion 32 of the first reflective layer 30 is indicated by solid lines.

発光素子20は、平面視で、凹部15の底面の中央から凹部15の一方側にずれた位置に載置されている。ここでは、発光素子20は、平面視で、凹部15の底面の中央から、凹部15のX方向の一方側(図面上、左側)にずれるとともにX方向と直交するY方向の他方側(図面上、下側)にずれた位置に載置されている。具体的には、発光素子20は、第1リード3c上に載置されているとともに、図面上、凹部15の中央に対して左斜下側に載置されている。 The light emitting element 20 is mounted at a position shifted from the center of the bottom surface of the recess 15 to one side of the recess 15 in plan view. Here, in plan view, the light emitting element 20 is shifted from the center of the bottom surface of the recess 15 to one side of the recess 15 in the X direction (the left side in the drawing) and the other side in the Y direction (the left side in the drawing) perpendicular to the X direction. , bottom). Specifically, the light-emitting element 20 is placed on the first lead 3c and placed obliquely downward to the left with respect to the center of the recess 15 in the drawing.

第1反射層30は、平面視で、対向する凹部15の一方向の側面において、一方の側面から他方の側面に向かって湾曲する湾曲部32を有する。具体的には、第1反射層30の湾曲部32は、平面視で、X方向の一方側における凹部15の側面から、X方向の他方側(図面上、右側)における凹部15の側面に向かって湾曲している。すなわち、湾曲部32は、平面視で、Y方向の一方から他方に向かって、X方向の一方側に向けて凹状に湾曲するように設けられている。これにより、第1反射層30は、X方向の他方側における凹部15の短辺側の側面を被覆するように設けられている。また、湾曲部32の一方の端部32aは、Y方向の一方において発光素子20に対向する位置まで形成されている。さらに、湾曲部32の他方の端部32aは、Y方向の他方において発光素子20に対向する位置には設けられていない。そのため、第1反射層30は、発光素子20の一方の隣り合う2つの側面の大部分に対向して設けられ、他方の隣り合う2つの側面に対向する位置には設けられていない状態となっている。湾曲部32は、湾曲した部位の最深部が発光素子20に対向する位置にある。 The first reflective layer 30 has curved portions 32 that curve from one side surface to the other side surface on one side surface of the opposing recessed portion 15 in plan view. Specifically, the curved portion 32 of the first reflective layer 30 extends from the side surface of the concave portion 15 on one side in the X direction toward the side surface of the concave portion 15 on the other side in the X direction (right side in the drawing) in plan view. curved. That is, the curved portion 32 is provided so as to curve concavely from one side in the Y direction to the other side in the X direction in plan view. Thereby, the first reflective layer 30 is provided so as to cover the side surface of the short side of the concave portion 15 on the other side in the X direction. One end 32a of the curved portion 32 is formed up to a position facing the light emitting element 20 on one side in the Y direction. Furthermore, the other end 32a of the curved portion 32 is not provided at a position facing the light emitting element 20 in the other Y direction. Therefore, the first reflective layer 30 is provided so as to face most of two adjacent side surfaces of the light emitting element 20, and is not provided at a position facing the other two adjacent side surfaces. ing. The curved portion 32 is positioned such that the deepest portion of the curved portion faces the light emitting element 20 .

湾曲部32の端部32aは、Y方向の凹部15の側面まで伸びている。具体的には、Y方向の一方側(図面上、上側)における凹部15の側面に位置する端部32aが、Y方向の他方側(図面上、下側)における凹部15の側面に位置する端部32aよりも、X方向の一方側に位置するように設けられている。このようにすることで、湾曲した部位の最深部が発光素子20に対向する位置になるように湾曲部32を形成することができる。
このような構成とすることで、X方向の他方側の発光素子20の側面から、X方向の他方側の第1反射層30までの距離が長くなり、発光装置100Fの配光色度が向上する。
An end portion 32a of the curved portion 32 extends to the side surface of the recessed portion 15 in the Y direction. Specifically, the end portion 32a located on the side surface of the recess 15 on one side in the Y direction (upper side in the drawing) is the end located on the side surface of the recessed portion 15 on the other side in the Y direction (lower side in the drawing). It is provided so as to be positioned on one side in the X direction from the portion 32a. By doing so, the curved portion 32 can be formed so that the deepest portion of the curved portion faces the light emitting element 20 .
With such a configuration, the distance from the side surface of the light emitting element 20 on the other side in the X direction to the first reflective layer 30 on the other side in the X direction is increased, and the light distribution chromaticity of the light emitting device 100F is improved. do.

また、このような第1反射層30の形態は、第1反射材を含有する第1樹脂の塗布量を調整したり、塗布位置を調整したり、第1樹脂中の第1反射材の含有量を調整したりすることで制御することができる。塗布位置を調整する場合、例えば、塗布位置16から塗布することが挙げられる。 In addition, such a form of the first reflective layer 30 can be adjusted by adjusting the coating amount of the first resin containing the first reflective material, adjusting the coating position, or controlling the content of the first reflective material in the first resin. It can be controlled by adjusting the amount. When adjusting the coating position, for example, coating from the coating position 16 can be mentioned.

なお、図8および図9の発光装置100E、100Fでは、湾曲部32の湾曲状態は、曲率半径が大きくなってもよく、小さくなってもよい。また、湾曲部32は、円弧の一部であってもよい。また、湾曲部32の最深部の位置は、X方向およびY方向において、適宜、ずらしたものであってもよい。 In addition, in the light emitting devices 100E and 100F of FIGS. 8 and 9, the curvature radius of the curved portion 32 may be increased or decreased. Also, the curved portion 32 may be a part of an arc. Also, the position of the deepest portion of the curved portion 32 may be appropriately shifted in the X direction and the Y direction.

また、発光装置の製造方法は、前記各工程に悪影響を与えない範囲において、前記各工程の間、あるいは前後に、他の工程を含めてもよい。例えば、製造途中に混入した異物を除去する異物除去工程等を含めてもよい。 Further, the method for manufacturing a light-emitting device may include other steps between, or before and after each of the steps, as long as they do not adversely affect each of the steps. For example, a foreign matter removing step or the like for removing foreign matter mixed in during manufacturing may be included.

また、発光装置の製造方法において、一部の工程は、順序が限定されるものではなく、順序が前後してもよい。例えば、第1反射層を形成する工程を実施した後に、発光素子を載置する工程を実施してもよい。
また、例えば、前記した発光装置の製造方法は、第1反射層を形成する工程の後に、第2樹脂を準備する工程を設けるものとしたが、第2樹脂を準備する工程は、発光素子を載置する工程と第1反射層を形成する工程との間に行ってもよく、発光素子を載置する工程の前に行ってもよい。また、第2樹脂を準備する工程は設けないものであってもよい。
In addition, in the method for manufacturing a light-emitting device, the order of some steps is not limited, and the order may be changed. For example, the step of mounting the light emitting element may be performed after performing the step of forming the first reflective layer.
Further, for example, in the method for manufacturing a light-emitting device described above, the step of preparing the second resin is provided after the step of forming the first reflective layer. It may be performed between the step of placing and the step of forming the first reflective layer, or may be performed before the step of placing the light emitting element. Alternatively, the step of preparing the second resin may not be provided.

2 絶縁性基板
2a 基板部
2b 第1壁面部
2c 第2壁面部
2d 支持部材
3 第1配線部
3a 第1リード
3b 第2リード
3c 第1リード
3d 第2リード
4 ビア
5 第2配線部
6 第3配線部
7 めっき層
10,10A,10B,10C パッケージ
15 凹部
16 塗布位置
20 発光素子
21 基板
22 半導体層
23 ワイヤ
24 ワイヤ
30 第1反射層
31 第1反射材
32 湾曲部
32a 湾曲部の端部
33 間隙部
40 第2反射層
40a 含有層
40b 透光層
41 第2反射材
50 光透過層
51 蛍光体
60 バンプ
70 ポスト
80 回転軸
90 保護素子
100,100A,100B,100C,100D,100E,100F 発光装置
A パッケージの回転方向
B 凹部の底面に平行な方向
C 第2反射材が沈降する方向
,L,L
2 Insulating substrate 2a Substrate portion 2b First wall surface portion 2c Second wall surface portion 2d Support member 3 First wiring portion 3a First lead 3b Second lead 3c First lead 3d Second lead 4 Via 5 Second wiring portion 6 Second 3 wiring portion 7 plated layers 10, 10A, 10B, 10C package 15 concave portion 16 application position 20 light emitting element 21 substrate 22 semiconductor layer 23 wire 24 wire 30 first reflective layer 31 first reflective material 32 curved portion 32a edge of curved portion 33 Gap 40 Second reflective layer 40a Containing layer 40b Translucent layer 41 Second reflective material 50 Light transmissive layer 51 Phosphor 60 Bump 70 Post 80 Rotating shaft 90 Protective element 100, 100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F Light emitting device A Package rotation direction B Direction parallel to the bottom surface of the recess C Directions L 1 , L 2 , L 3 in which the second reflector sinks

Claims (7)

平面視で矩形または正方形に形成された凹部を有するパッケージと、
前記凹部の底面に載置された発光素子と、
前記発光素子と離隔し、前記凹部の底面から前記凹部の側面まで連続して被覆する第1反射層と、
前記発光素子の側面および前記第1反射層に当接し、前記発光素子および前記第1反射層から露出する前記凹部の底面全てを被覆する第2反射層と、
前記第2反射層および前記発光素子上に配置された光透過層と、を備え、
前記発光素子の側面の一部は前記第2反射層から露出し、露出した前記側面が前記光透過層で被覆されており、
前記第1反射層は、平面視で、前記発光素子に向けて凹状に湾曲する湾曲部を有する発光装置。
a package having a recess that is rectangular or square in plan view ;
a light emitting element placed on the bottom surface of the recess;
a first reflective layer that is separated from the light emitting element and continuously covers from the bottom surface of the recess to the side surface of the recess;
a second reflective layer that abuts on the side surface of the light emitting element and the first reflective layer and covers the entire bottom surface of the recess exposed from the light emitting element and the first reflective layer;
a light transmission layer disposed on the second reflective layer and the light emitting element;
A part of the side surface of the light emitting element is exposed from the second reflective layer, and the exposed side surface is covered with the light transmission layer ,
The light-emitting device, wherein the first reflective layer has a curved portion concavely curved toward the light-emitting element in plan view .
前記湾曲部は、湾曲した部位の最深部が前記発光素子に対向する位置にある請求項に記載の発光装置。 2. The light emitting device according to claim 1 , wherein the curved portion is positioned such that the deepest portion of the curved portion faces the light emitting element. 前記発光素子は、平面視で、前記パッケージの凹部の底面の中央に載置され、
平面視で、前記発光素子から、前パッケージの凹部の側面が一方向で対向する方向であるX方向の前記凹部の側面までの距離と、前記発光素子から、前記X方向と直交する方向であるY方向の前記凹部の側面までの距離とが異なる請求項1または請求項2に記載の発光装置。
The light emitting element is placed in the center of the bottom surface of the recess of the package in plan view,
In plan view, the distance from the light emitting element to the side surface of the recess in the X direction, which is the direction in which the side surfaces of the recess of the package face each other in one direction, and the distance from the light emitting element in the direction orthogonal to the X direction 3. The light-emitting device according to claim 1 , wherein the distance to the side surface of the recess in the Y direction is different.
前記凹部の側面のうち、前記最深部が前記発光素子に対向する方向と直交する方向において前記発光素子に対向する部位には前記第1反射層が配置されない請求項に記載の発光装置。 3. The light emitting device according to claim 2 , wherein the first reflective layer is not arranged at a portion of the side surface of the recess that faces the light emitting element in a direction perpendicular to the direction in which the deepest portion faces the light emitting element. 前記第2反射層は第2反射材と第2樹脂とを含み、
前記第2反射層は、前記第2反射材が前記凹部の底面側に偏って配置されている請求項1から請求項のいずれか一項に記載の発光装置。
The second reflective layer includes a second reflective material and a second resin,
The light-emitting device according to any one of claims 1 to 4 , wherein the second reflective layer is arranged so that the second reflective material is biased toward the bottom surface of the recess.
前記第1反射層の上端は、前記発光素子の上面よりも高く配置されている請求項1から請求項のいずれか一項に記載の発光装置。 The light emitting device according to any one of claims 1 to 5 , wherein the upper end of the first reflective layer is arranged higher than the upper surface of the light emitting element. 前記光透過層は蛍光体を含有する請求項1から請求項のいずれか一項に記載の発光装置。 The light-emitting device according to any one of claims 1 to 6 , wherein the light-transmitting layer contains a phosphor.
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